JP5826000B2 - 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、磁気記録媒体用基板の製造方法及び表面検査方法 - Google Patents
磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、磁気記録媒体用基板の製造方法及び表面検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5826000B2 JP5826000B2 JP2011262611A JP2011262611A JP5826000B2 JP 5826000 B2 JP5826000 B2 JP 5826000B2 JP 2011262611 A JP2011262611 A JP 2011262611A JP 2011262611 A JP2011262611 A JP 2011262611A JP 5826000 B2 JP5826000 B2 JP 5826000B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- recording medium
- substrate
- polishing
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 176
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 25
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 125
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 34
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 11
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 claims description 8
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 102
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 94
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 90
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 79
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 25
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 description 22
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 17
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 229910019222 CoCrPt Inorganic materials 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910015372 FeAl Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002546 FeCo Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002555 FeNi Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000604 Ferrochrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- -1 copper Chemical class 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003321 CoFe Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005347 FeSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005435 FeTaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019832 Ru—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000002356 laser light scattering Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
- G01B7/28—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring contours or curvatures
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F15/00—Digital computers in general; Data processing equipment in general
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0014—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form
- G11B23/0021—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form discs
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0014—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form
- G11B23/0021—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form discs
- G11B23/0028—Details
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/2419—Fold at edge
- Y10T428/24215—Acute or reverse fold of exterior component
- Y10T428/24231—At opposed marginal edges
- Y10T428/2424—Annular cover
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
Description
(1) 中心孔を有する円盤状の磁気記録媒体用基板であって、
その主面における表面粗さは、円周方向のうねりの空間周期(L)が10〜1000μmの範囲における二乗平均平方根粗さ(Rq)で1Å以下であり、
且つ、前記表面粗さについてスペクトル解析を行い、その空間周期(L)を横軸[μm]とし、そのパワースペクトル密度(PSD)を縦軸[k・Å2・μm](kは定数)とした両対数グラフ上に表される曲線Sにおいて、空間周期(L)が10μmとなる点Aと、空間周期(L)が1000μmとなる点Bとを結ぶ線分Zの縦軸方向の成分をHとし、この線分Zに対して曲線Sの縦軸方向の成分が最大となる変位をΔHとしたときに、ΔH/H×100[%]で表される値(P)が10%以下であることを特徴とする磁気記録媒体用基板。
(2) 前項(1)に記載の磁気記録媒体用基板の面上に、少なくとも磁性層を有する磁気記録媒体。
(3) 中心孔を有する円盤状の磁気記録媒体用基板の製造方法であって、
前記磁気記録媒体用基板の主面における表面粗さを、円周方向のうねりの空間周期(L)が10〜1000μmの範囲における二乗平均平方根粗さ(Rq)で1Å以下とし、
且つ、前記表面粗さについてスペクトル解析を行い、その空間周期(L)を横軸[μm]とし、そのパワースペクトル密度(PSD)を縦軸[k・Å2・μm](kは定数)とした両対数グラフ上に表される曲線Sにおいて、空間周期(L)が10μmとなる点Aと、空間周期(L)が1000μmとなる点Bとを結ぶ線分Zの縦軸方向の成分をHとし、この線分Zに対して曲線Sの縦軸方向の成分が最大となる変位をΔHとしたときに、ΔH/H×100[%]で表される値(P)が10%以下となるように、
前記磁気記録媒体用基板の主面に対して研削加工及び研磨加工を施す工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
(4) 中心孔を有する円盤状の磁気記録媒体用基板の表面検査方法であって、
前記磁気記録媒体用基板の主面における表面粗さとして、円周方向のうねりの空間周期(L)が10〜1000μmの範囲における二乗平均平方根粗さ(Rq)を求めるステップと、
前記表面粗さについてスペクトル解析を行い、その空間周期(L)を横軸[μm]とし、そのパワースペクトル密度(PSD)を縦軸[k・Å2・μm](kは定数)とした両対数グラフ上に表される曲線Sにおいて、空間周期(L)が10μmとなる点Aと、空間周期(L)が1000μmとなる点Bとを結ぶ線分Zの縦軸方向の成分をHとし、この線分Zに対して曲線Sの縦軸方向の成分が最大となる変位をΔHとしたときに、ΔH/H×100[%]で表される値(P)を求めるステップと、
前記Rq値が1Å以下、且つ、前記P値が10%以下となる磁気記録媒体用基板を良品と判定するステップとを含むことを特徴とする磁気記録媒体用基板の表面検査方法。
(5) 前項(4)に記載の表面検査方法を用いた検査工程を含む磁気記録媒体用基板の製造方法。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに必ずしも限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
次に、本発明を適用した磁気記録媒体用基板の製造方法について詳細に説明する。
本発明を適用して製造される磁気記録媒体用基板は、中心孔を有する円盤状の基板であり、磁気記録媒体は、この基板の面上に、磁性層、保護層及び潤滑膜等を順次積層した磁気ディスクからなる。また、HDD(磁気記録再生装置)では、この磁気記録媒体の中心部をスピンドルモータの回転軸に取り付けて、スピンドルモータにより回転駆動される磁気記録媒体の面上を磁気ヘッドが浮上走行しながら、磁気記録媒体に対して情報の書き込み又は読み出しを行う。
このうち、1次主面研削工程では、図5に示すようなラッピングマシーン10を用いて、ガラス基板Wの両主面(最終的に磁気記録媒体の記録面となる面)に研削加工を施す。すなわち、このラッピングマシーン10は、上下一対の定盤11,12を備え、互いに逆向きに回転する定盤11,12の間で複数枚のガラス基板Wを挟み込みながら、これらガラス基板Wの両主面を定盤11,12に設けられた研削パッドにより平滑に研削する。
内外周端面研削工程では、図6に示すような研削加工装置30を用いて、ガラス基板Wの中心孔の内周端面及びガラス基板Wの外周端面に対して研削加工を施す。すなわち、この研削加工装置30は、内周砥石31及び外周砥石32を備え、互いの中心孔を一致させた状態でスペーサを挟んで複数枚のガラス基板Wを積層した積層体を軸回りに回転させながら、各ガラス基板Wの中心孔に挿入された内周砥石31と、各ガラス基板Wの外周に配置された外周砥石32とで各ガラス基板Wを径方向に挟み込み、これら内周砥石31及び外周砥石32を積層体とは逆向きに回転させる。これにより、ガラス基板Wの内径と外径の同心度を確保しながら、内周砥石31により各ガラス基板Wの内周端面を研削すると同時に、外周砥石32により各ガラス基板Wの外周端面を研削する。
内周端面研磨工程では、図7に示すようなポリッシングマシーン40を用いて、ガラス基板Wの中心孔の内周端面に対して研磨加工を施す。すなわち、このポリッシングマシーン40は、内周研磨ブラシ41を備え、上記積層体を軸回りに回転させると共に、各ガラス基板Wの中心孔に挿入された内周研磨ブラシ41をガラス基板Wとは逆向きに回転させながら上下方向に移動操作する。このとき、内周研磨ブラシ41に研磨液を滴下する。そして、この内周研磨ブラシ41により各ガラス基板Wの内周端面を研磨する。同時に、上記内外周端面研削工程において面取り加工が施された内周端面のエッヂ部分(チャンファー面)も研磨される。なお、研磨液については、例えば酸化ケイ素(コロイダルシリカ)砥粒や酸化セリウム砥粒を水に分散してスラリー化したものなどを用いることができる。
2次主面研削工程では、上記1次主面研削工程と同様に、上記図1に示すようなラッピングマシーン10及び研削パッドを用いて、ガラス基板Wの両主面に研削加工を施す。すなわち、互いに逆向きに回転する上下一対の定盤11,12の間で複数枚のガラス基板Wを挟み込みながら、これらガラス基板Wの両主面を定盤11,12に設けられた研削パッドにより平滑に研削する。
外周端面研磨工程では、上記図8に示すようなポリッシングマシーン50を用いて、ガラス基板Wの外周端面に対して研磨加工を施す。すなわち、このポリッシングマシーン50は、回転シャフト51及び外周研磨ブラシ52を備え、互いの中心孔を一致させた状態でスペーサを挟んで複数枚のガラス基板Wを積層した積層体を、各ガラス基板Wの中心孔に挿入された回転シャフト51によって軸回りに回転させると共に、各ガラス基板Wの外周端面に接触させた外周研磨ブラシ52を積層体とは逆向きに回転させながら上下方向に移動操作する。このとき、外周研磨ブラシ52に研磨液を滴下する。そして、この外周研磨ブラシ52により各ガラス基板Wの外周端面を研磨する。同時に、上記内外周研削工程において面取り加工が施された外周端面のエッヂ部分(チャンファー面)も研磨される。なお、研磨液については、例えば酸化セリウム砥粒を水に分散してスラリー化したものなどを用いることができる。
1次主面研磨工程では、図9に示すようなポリッシングマシーン60を用いて、ガラス基板Wの両主面に研磨加工を施す。すなわち、このポリッシングマシーン60は、上下一対の定盤61,62を備え、互いに逆向きに回転する定盤61,62の間で複数枚のガラス基板Wを挟み込みながら、これらガラス基板Wの両主面を定盤61,62に設けられた研磨パッドにより研磨し、更に平滑度を上げていく。
2次主面研磨工程では、上記1次主面研磨工程と同様に、上記図9に示すようなポリッシングマシーン60を用いて、ガラス基板Wの両主面に研磨加工を施す。すなわち、互いに逆向きに回転する定盤61,62の間で複数枚のガラス基板Wを挟み込みながら、これらガラス基板Wの両主面を定盤61,62に設けられた研磨パッドにより研磨し、表面の最終的な仕上げを行う。
以上のような研削加工及び研磨加工が施されたガラス基板Wは、最終洗浄工程及び検査工程に送られる。そして、最終洗浄工程では、例えば超音波を併用した洗剤(薬品)による化学的洗浄などの方法を用いて、ガラス基板Wを洗浄し、上記工程において使用した研磨剤等の除去を行う。
次に、本発明の実施形態として図11に示す磁気記録媒体について説明する。
なお、図11は、本発明を適用した磁気記録媒体の一例を示す断面図である。
この磁気記録媒体は、図11に示すように、上記本発明の数値範囲を満足する磁気記録媒体用基板(非磁性基板)1の上に、軟磁性下地層2と、第1の配向制御層3と、第2の配向制御層8と、垂直磁性層4と、保護層5とを順次積層し、その上に潤滑膜6を設けた構造を有している。
図12は、上記本発明の磁気記録媒体を用いたHDD(磁気記録再生装置)の一例を示すものである。
このHDDは、上記図11に示す本発明の磁気記録媒体80と、磁気記録媒体80を回転駆動させる媒体駆動部81と、磁気記録媒体80に情報を記録再生する磁気ヘッド82と、磁気ヘッド82を磁気記録媒体80に対して相対運動させるヘッド駆動部83と、記録再生信号処理系84とを備えている。
実施例1では、先ず、外径65mm、中央孔20mm、厚さ0.80mmの円盤状ガラス基板(オハラ社製、TS−10SX)を用いた。
実施例2では、上記第2主面研削工程において、定盤の回転数を27rpm、加工圧力を90g/cm2として30分間研磨を行い、円盤状ガラス基板の片面当たりの研磨量は約1.5μmとした。それ以外は、上記実施例1と同様の条件で実施例2の円盤状ガラス基板を製造した。
比較例1では、上記2次主面研削工程において、定盤の回転数を25rpm、加工圧力を120g/cm2として10分間研削を行い、円盤状ガラス基板の片面当たりの研削量を約10μmとした。また、上記第2主面研磨工程において、定盤の回転数を25rpm、加工圧力を110g/cm2とした。それ以外は、上記実施例1と同様の条件で比較例1の円盤状ガラス基板を製造した。
そして、これら実施例1,2及び比較例1で製造した円盤状ガラス基板の表面について、表面粗さRq及びうねりとPSDとの関係を測定した。また、測定には、Candela OSA6300(米国、KLA−Tencor社製)を用い、測定条件は以下のとおりとした。その測定結果を表2及び図13に示す。
基板回転数:10000回転/分
測定範囲:半径19〜25mm、回転角0〜360°
測定ステップ:4μm
サンプリング頻度:5.46°
レーザー走査方法:スパイラル
次に、実施例1,2比較例1の各円盤状ガラス基板を用いて磁気記録媒体を製造した。
具体的には、先ず、各円盤状ガラス基板を、DCマグネトロンスパッタ装置(アネルバ社製C−3040)の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度1×10−5Paとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板の上に、Crターゲットを用いて層厚10nmの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、Co−20Fe−5Zr−5Ta{Fe含有量20原子%、Zr含有量5原子%、Ta含有量5原子%、残部Co}のターゲットを用いて100℃以下の基板温度で、層厚25nmの軟磁性層を成膜し、この上に層厚0.7nmのRu層を成膜した後、更にこの上に層厚25nmのCo−20Fe−5Zr−5Taからなる軟磁性層を成膜して、これを軟磁性下地層とした。
そして、作製した実施例1,2及び比較例1の磁気記録媒体について、熱式浮上量可変素子がヘッドのスライダに形成された磁気ヘッドを用いて、シグナルのグランドレベル強度の評価を行った。評価条件は以下のとおりである。その評価結果を図14に示す。なお、実施例2については、同一条件で製造した2枚の磁気記録媒体について評価を行った。
基板回転数:7200回転/分
測定位置:半径22.4mm
評価ヘッド:熱式浮上量可変素子内蔵型MRヘッド
ヘッド浮上高さの可変量:1nm/10mW
10…ラッピングマシーン 11,12…定盤 20A,20B…ダイヤモンドパッド 20a…ラップ面 21…凸部 22…基材 30…研削加工装置 31…内周砥石 32…外周砥石 40…ポリッシングマシーン 41…内周研磨ブラシ 50…ポリッシングマシーン 51…回転シャフト 52…外周研磨ブラシ 60…ポリッシングマシーン 61,62…定盤 71…下定盤 72…上定盤 73…キャリア 74…開口部 75…凹部 76…遊星ギア部 77…太陽ギア部 78…固定ギア部 W…ガラス基板
80…磁気記録媒体 81…媒体駆動部 82…磁気ヘッド 83…ヘッド駆動部 84…記録再生信号処理系
Claims (5)
- 中心孔を有する円盤状の磁気記録媒体用基板であって、
その主面における表面粗さは、円周方向のうねりの空間周期(L)が10〜1000μmの範囲における二乗平均平方根粗さ(Rq)で1Å以下であり、
且つ、前記表面粗さについてスペクトル解析を行い、その空間周期(L)を横軸[μm]とし、そのパワースペクトル密度(PSD)を縦軸[k・Å2・μm](kは定数)とした両対数グラフ上に表される曲線Sにおいて、空間周期(L)が10μmとなる点Aと、空間周期(L)が1000μmとなる点Bとを結ぶ線分Zの縦軸方向の成分をHとし、この線分Zに対して曲線Sの縦軸方向の成分が最大となる変位をΔHとしたときに、ΔH/H×100[%]で表される値(P)が10%以下であることを特徴とする磁気記録媒体用基板。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体用基板の面上に、少なくとも磁性層を有する磁気記録媒体。
- 中心孔を有する円盤状の磁気記録媒体用基板の製造方法であって、
前記磁気記録媒体用基板の主面における表面粗さを、円周方向のうねりの空間周期(L)が10〜1000μmの範囲における二乗平均平方根粗さ(Rq)で1Å以下とし、
且つ、前記表面粗さについてスペクトル解析を行い、その空間周期(L)を横軸[μm]とし、そのパワースペクトル密度(PSD)を縦軸[k・Å2・μm](kは定数)とした両対数グラフ上に表される曲線Sにおいて、空間周期(L)が10μmとなる点Aと、空間周期(L)が1000μmとなる点Bとを結ぶ線分Zの縦軸方向の成分をHとし、この線分Zに対して曲線Sの縦軸方向の成分が最大となる変位をΔHとしたときに、ΔH/H×100[%]で表される値(P)が10%以下となるように、
前記磁気記録媒体用基板の主面に対して研削加工及び研磨加工を施す工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。 - 中心孔を有する円盤状の磁気記録媒体用基板の表面検査方法であって、
前記磁気記録媒体用基板の主面における表面粗さとして、円周方向のうねりの空間周期(L)が10〜1000μmの範囲における二乗平均平方根粗さ(Rq)を求めるステップと、
前記表面粗さについてスペクトル解析を行い、その空間周期(L)を横軸[μm]とし、そのパワースペクトル密度(PSD)を縦軸[k・Å2・μm](kは定数)とした両対数グラフ上に表される曲線Sにおいて、空間周期(L)が10μmとなる点Aと、空間周期(L)が1000μmとなる点Bとを結ぶ線分Zの縦軸方向の成分をHとし、この線分Zに対して曲線Sの縦軸方向の成分が最大となる変位をΔHとしたときに、ΔH/H×100[%]で表される値(P)を求めるステップと、
前記Rq値が1Å以下、且つ、前記P値が10%以下となる磁気記録媒体用基板を良品と判定するステップとを含むことを特徴とする磁気記録媒体用基板の表面検査方法。 - 請求項4に記載の表面検査方法を用いた検査工程を含む磁気記録媒体用基板の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011262611A JP5826000B2 (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、磁気記録媒体用基板の製造方法及び表面検査方法 |
CN201210490621.3A CN103137144B (zh) | 2011-11-30 | 2012-11-27 | 磁记录介质用基板、磁记录介质、磁记录介质用基板的制造方法及表面检查方法 |
US13/687,446 US8951652B2 (en) | 2011-11-30 | 2012-11-28 | Substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, method of manufacturing magnetic recording medium, and method of inspecting surface |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011262611A JP5826000B2 (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、磁気記録媒体用基板の製造方法及び表面検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013114730A JP2013114730A (ja) | 2013-06-10 |
JP5826000B2 true JP5826000B2 (ja) | 2015-12-02 |
Family
ID=48467146
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011262611A Active JP5826000B2 (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、磁気記録媒体用基板の製造方法及び表面検査方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8951652B2 (ja) |
JP (1) | JP5826000B2 (ja) |
CN (1) | CN103137144B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013099142A1 (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-04 | コニカミノルタ株式会社 | 基板用研磨剤及び基板の製造方法 |
JP2015035245A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-02-19 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板用キャリア、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法、及び、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
SG11201604583RA (en) * | 2013-12-26 | 2016-07-28 | Hoya Corp | Magnetic-disk substrate, magnetic disk, and magnetic-disk drive device |
WO2016047210A1 (ja) * | 2014-09-25 | 2016-03-31 | 日本電気硝子株式会社 | 支持ガラス基板及びこれを用いた積層体 |
JP2018160290A (ja) * | 2017-03-22 | 2018-10-11 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体の製造方法、多層膜の成膜システム、及び成膜調整方法 |
JP6895847B2 (ja) * | 2017-08-24 | 2021-06-30 | 東洋鋼鈑株式会社 | 磁気ディスク用基板およびその製造方法 |
JP2019079582A (ja) * | 2017-10-20 | 2019-05-23 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5599464A (en) | 1995-10-06 | 1997-02-04 | Vlsi Standards, Inc. | Formation of atomic scale vertical features for topographic instrument calibration |
JP2000031224A (ja) * | 1998-07-08 | 2000-01-28 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体ウエーハの評価方法 |
JP3358549B2 (ja) * | 1998-07-08 | 2002-12-24 | 信越半導体株式会社 | 半導体ウエーハの製造方法ならびにウエーハチャック |
JP2001067650A (ja) | 1999-06-21 | 2001-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
US20050074635A1 (en) * | 2002-03-19 | 2005-04-07 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Information recording medium and method of manufacturing glass substrate for the information recording medium, and glass substrate for the information recording medium, manufactured using the method |
JP2003346316A (ja) * | 2002-03-19 | 2003-12-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体並びに該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および該方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板 |
JP2004199846A (ja) * | 2002-10-23 | 2004-07-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
JP2004185783A (ja) | 2002-12-06 | 2004-07-02 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体の突起検査用ヘッドと突起検査方法 |
JP2006194764A (ja) | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡および露光装置 |
CN1828730B (zh) * | 2005-02-28 | 2010-10-13 | Tdk股份有限公司 | 磁记录媒体、硬盘驱动器以及压模 |
JP4385978B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2009-12-16 | 信越半導体株式会社 | 半導体ウエーハの評価方法及び製造方法 |
JP5501556B2 (ja) | 2007-06-27 | 2014-05-21 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法並びに研磨装置 |
SG187412A1 (en) * | 2007-12-28 | 2013-02-28 | Hoya Corp | Glass substrate for a magnetic disk, magnetic disk and method of manufacturing a magnetic disk |
JP2009217870A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁気記録用シリコン基板およびその製造方法 |
JP2009230812A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | ガラス基板および熱アシスト磁気記録ディスク |
MY153605A (en) * | 2008-06-30 | 2015-02-27 | Hoya Corp | Substrate for magnetic disk and magnetic disk |
JPWO2011033948A1 (ja) * | 2009-09-18 | 2013-02-14 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体及び情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
-
2011
- 2011-11-30 JP JP2011262611A patent/JP5826000B2/ja active Active
-
2012
- 2012-11-27 CN CN201210490621.3A patent/CN103137144B/zh active Active
- 2012-11-28 US US13/687,446 patent/US8951652B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130136952A1 (en) | 2013-05-30 |
CN103137144B (zh) | 2015-09-30 |
JP2013114730A (ja) | 2013-06-10 |
US8951652B2 (en) | 2015-02-10 |
CN103137144A (zh) | 2013-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5826000B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、磁気記録媒体用基板の製造方法及び表面検査方法 | |
JP6165227B2 (ja) | ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用基板、磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法 | |
US10607647B2 (en) | Magnetic disk substrate with specified changes in height or depth between adjacent raised or lowered portions and an offset portion on a main surface within a range of 92.0 to 97.0% in a radial direction from a center, a magnetic disk with substrate and magnetic disk device | |
JP6215770B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JPWO2005093720A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板 | |
JP5029777B1 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板、および該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体 | |
JP4545714B2 (ja) | 磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 | |
US9135939B2 (en) | Glass substrate for information recording medium, information recording medium and method of manufacturing glass substrate for information recording medium | |
JP5126401B1 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP4860580B2 (ja) | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク | |
CN103978422A (zh) | 磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质用玻璃基板 | |
JP5781845B2 (ja) | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 | |
JP6037672B2 (ja) | バーニッシュ加工方法およびバーニッシュ加工装置 | |
JP5080904B2 (ja) | 記憶媒体の製造方法 | |
JP5212530B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体 | |
JP5494747B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び、磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP5869241B2 (ja) | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 | |
JP4977795B1 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体 | |
JP2005317181A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク | |
JP3969717B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク | |
JP2005141824A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2010179395A (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2011086371A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2007095238A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2006095636A (ja) | 磁気記録媒体用のガラス基板キャリア、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140821 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150513 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150915 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151013 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5826000 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |