CN103626406B - 磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的目的在于提供一种在形成磁记录介质时错误的发生率较低的磁记录介质用玻璃基板的制造方法及使用了该磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质的制造方法。本发明中，在磁记录介质用玻璃基板上，设如下的值为滞弹性变形量A：从下表面侧支承上述磁记录介质用玻璃基板的直径方向的两端部并在对上述磁记录介质用玻璃基板的中央部上表面施加48小时的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度和施加载荷之前的平坦度的差的绝对值，这种情况下，上述滞弹性变形量A为4.2μm以下。

Description

磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质的制造方法

本申请为2012年12月21日提交的、申请号为201210560842.3的、发明名称为“磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质。

背景技术

作为磁记录装置等所使用的磁记录介质用基板，目前，一直使用铝合金基板，但随着高记录密度化的要求，比铝合金基板硬、且平坦性、平滑性优异的玻璃基板逐渐成为主流。

近年来，由于磁记录介质的高记录密度化、高速旋转化的进一步发展，因此比以往更多地发生磁头看丢记录有磁记录介质的半径/轨道位置信息的伺服信息而发生读取/写入错误的现象。

考虑这种错误的发生的原因为，伴随着高记录密度化的窄轨道宽度化、伴随高速旋转化的磁盘振动的发生引起的机械性振动。

因此，为了抑制这种错误，例如，使用比模量（比模量是用玻璃密度除以杨氏模量而得到的量，是成为表现出轻且强、轻且难以变形的特性的指针的量。下面，也称为比杨氏模量。）高的材料作为磁记录介质用玻璃基板的材料，进行抑制振动。

另外，专利文献1中记载有，通过选择厚度方向的对称性处于规定范围内的磁记录介质用玻璃基板，从而作为硬盘时减少磁记录介质所记录的伺服信息的错误的磁盘用玻璃基板的制造方法。

专利文献1：日本国特开2010－277679号公报

如上所述，以往，一直研究着抑制磁记录介质的错误发生的方法，但不能充分抑制错误发生，依然存在作为磁记录介质时发生错误的问题。

发明内容

因此，本发明是鉴于上述现有技术具有的问题而做出的，其目的在于提供一种在成为磁记录介质时错误的发生率较低的磁记录介质用玻璃基板。

为了解决上述课题，本发明提供一种磁记录介质用玻璃基板，其中，设如下的值为滞弹性变形量A：从下表面侧支承所述磁记录介质用玻璃基板的直径方向的两端部并在对所述磁记录介质用玻璃基板的中央部上表面施加48小时的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度和施加载荷前的平坦度之差的绝对值，这种情况下，所述滞弹性变形量A为4.2μm以下。

本发明提供一种即使在对磁记录介质施加载荷而变形的情况下也能够在规定时间内恢复成原来的形状的磁记录介质用玻璃基板。因此，即使在出库时在盒子内包装、固定而磁记录介质用玻璃基板发生变形的情况下，也能够在写入伺服信息之前的时间内复原成原来的形状，在磁记录介质的恰当的位置记录伺服信息，可以抑制之后的错误（读取/写入错误）的发生。

附图说明

图1是本发明的第一实施方式的滞弹性变形量的测定流程的说明图；

图2（a）及2（b）是本发明的第一实施方式的滞弹性变形量测定时的载荷附加方法的说明图。

标号说明

13磁记录介质用玻璃基板

14两端部

15载荷

具体实施方式

下面，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明，但本发明不限定于下述的实施方式，在不脱离本发明的范围内，可以对下述实施方式施加各种变形及置换。

［第一实施方式］

在本实施方式中，对本发明的磁记录介质用玻璃基板进行说明。

本发明的发明人等对即使在使用比模量（比模量是指玻璃的杨氏模量除以玻璃的密度得到的量，是成为表现出轻且强、轻且难以变形的特性的指针的量。下面，也称为比杨氏模量。）高的材料作为磁记录介质用玻璃基板的材料的情况下，在磁记录介质中也引起读出错误的原因进行了研究，结果发现原因之一是在输送工序中磁记录介质发生了变形的情况下在变形没有充分恢复时写入伺服信息，由此完成了本发明。

通常，磁记录介质用玻璃基板以在其表面形成磁性层等而形成为磁记录介质之后不与其它磁记录介质接触的方式收纳于盒子中，进而收纳于减压后的包装容器内，向硬盘驱动器的制造工厂进行出库、输送。在输送磁记录介质时，虽然磁记录介质收纳于盒子内，但由于进而收纳于减压后的包装容器（包装）内，因此，有时施加载荷而发生变形。

而且，在输送到硬盘驱动器的制造工厂之后，从盒子取出磁记录介质而组装至硬盘驱动器，写入伺服信息，并供于读写测试。

如上所述，在输送时对磁记录介质施加载荷而发生变形的情况下，由于从盒子取出而解除载荷，因此，在这些工序的期间，磁记录介质逐渐向原来的形状恢复。

通常，磁记录介质在从盒子取出后经过5～12小时左右后写入伺服信息。但是，在该阶段中磁记录介质的形状还未充分复原的情况下，即使写入伺服信息之后该位置也发生位移。因此，写入的伺服信息的写入位置偏移，成为产生错误的原因。

而且，对在磁记录介质中引起读出错误的原因进行了研究，其结果可知，由于磁记录介质是在磁记录介质用玻璃基板表面形成磁性层等的磁记录介质，因此，磁记录介质的形状的复原速度依赖于磁记录介质用玻璃基板的滞弹性变形量。

本发明通过将磁记录介质用玻璃基板的滞弹性变形量A设为4.2μm以下，要可靠地抑制在磁记录介质用玻璃基板表面上形成磁性层等的磁记录介质中发生读出错误的情况。

在此所说的滞弹性变形量A是指如下所述的值：从下表面侧支承磁记录介质用玻璃基板的相对的两端部，并对磁记录介质用玻璃基板的中央部（包含中心的中央区域）上表面施加48小时的载荷，之后解除载荷，解除载荷之后经过5小时的平坦度和施加载荷之前的平坦度之差的绝对值。

在此，在测定滞弹性变形量A时，对磁记录介质用玻璃基板施加48小时的载荷是基于从将磁记录介质包装、出库到为了硬盘驱动器组装而将包装开封为止通常所需要的时间。进而确认到在测定后述的滞弹性变形量A～C时，无论使用哪一玻璃基板，平坦度的变化都在施加载荷的时间为16小时左右饱和。因此，从平坦度的变化饱和并且即使进一步施加载荷也不会引起平坦度变化的时间的观点出发，也设为48小时。

另外，将解除载荷之后5小时后的平坦度设为比较对象是因为，通常，在将磁记录介质的包装开封后到写入伺服信息为止的时间为5～12小时左右。为了抑制错误，在该期间需要磁记录介质用玻璃基板向原来的形状恢复直到之后的位移不会成为问题的程度。

作为滞弹性变形量A的值只要为在记录了伺服信息之后即使磁记录介质用玻璃基板位移也允许的值即可，如上所述，滞弹性变形量A的值为4.2μm以下。作为滞弹性变形量A，优选为4.0μm以下，进一步优选为3.5μm以下，特别优选为3.0μm以下。滞弹性变形量A的下限值为0μm。可以说这对其它滞弹性变形量B、滞弹性变形量C也是一样的。

另外，将如下所述的值设为滞弹性变形量B：从下表面侧支承磁记录介质用玻璃基板直径方向的两端部，对上述磁记录用玻璃基板的中央部（包含中心的中央区域）上表面施加48小时的载荷，之后解除载荷，解除了载荷之后经过5小时的平坦度和解除了载荷之后经过48小时的平坦度之差的绝对值。在该情况下，优选上述滞弹性变形量B为3.0μm以下的磁记录介质用玻璃基板。

滞弹性变形量B是指从去除载荷后经过5小时的时候起到经过48小时的时候之间的变形量。因此，该值越小，意味着在去除载荷并经过5小时的时候写入伺服信息后的位移量越小。

因此，由于滞弹性变形量B满足上述规定，从而写入伺服信息后的位移量较小，在作为磁记录介质的情况下，可以进一步抑制错误的发生。

作为滞弹性变形量B的值，只要是写入伺服信息后进行数据的读取、写入时允许的变形量即可，但如上述，优选为3.0μm以下。作为滞弹性变形量B，更优选为2.5μm以下，特别优选为2.0μm以下。

此外，优选的是，从下表面侧支承磁记录介质用玻璃基板的两端部，对上述磁记录介质用玻璃基板的中央部（包含中心的中央区域）上表面施加48小时的载荷之后，解除载荷，在解除了载荷之后，经过5小时的时候的平坦度即滞弹性变形量C为5.5μm以下。

滞弹性变形量C的值越小，表示载荷去除后经过5小时的时候的平坦度越小。满足该参数的磁记录介质用玻璃基板表示，虽然施加48小时的载荷但变形量还是较少及/或去除载荷后在5小时内恢复平坦度的情况。因此，即使载荷去除后经过5小时的时候写入伺服信息，磁记录介质用玻璃基板的之后的变形量也是较小，可以抑制错误的发生。

使用图1、2对到目前为止说明的滞弹性变形量A～C的测定方法进行说明。

下面的说明，在图1中如F（xh）那样表示在各时间的平坦度。式中x表示将解除载荷的时刻设为基准（0h）的情况下解除载荷后的经过时间。另外，解除载荷之前的时间用负号表示。因此，例如，F（﹣48h）表示解除载荷前的48小时，即施加载荷前的磁记录介质用玻璃基板的平坦度。

首先，使用图1对滞弹性变形量测定流程进行说明。

就测定而言，如图1所示，首先，在施加载荷前，测定磁记录介质用玻璃基板的平坦度F（﹣48h）（图1中（1）的点）。然后，通过后述的方法对磁记录介质用玻璃基板施加48小时的载荷。这是因为，在通常的硬盘驱动器组装工序中，从将磁记录介质包装、出库起到开封为止为48小时左右。另外，如上所述，确认了在任意玻璃基板上施加载荷后平坦度的变化都在16小时左右饱和（玻璃基板变形）。因此，从平坦度的变化饱和并且即使进而长期作用载荷也不会引起平坦度变化的时间的观点出发，也设为48小时。

经过48小时后解除载荷（图1中（2）的点），在解除了载荷之后经过5小时的时候，再次测定平坦度（图1中（3）的点），并将其设为F（5h）。这是因为，通常在硬盘驱动器的组装工序中，在包装开封后经过5～12小时左右后进行伺服信息的写入。

另外，测定在解除载荷之后经过了48小时的时候的平坦度（图1中（4）的点），并将其设为F（48h）。这是因为，在通常的硬盘驱动器的组装工序中，在将包装开封后经过了48小时左右的时刻进行读写测试。

而且，如上所述，滞弹性变形量A作为施加载荷之前的平坦度F（﹣48h）和解除载荷之后经过了5小时的时候的平坦度之差的绝对值而算出，并利用下面的式子表示。

（滞弹性变形量A）＝│F（5h）－F（﹣48h）│

滞弹性变形量A的值越小，表示越是从通过施加载荷产生的变形向原来的磁记录介质用玻璃基板的形状（平坦度）恢复。

另外，如上所述，滞弹性变形量B作为解除载荷之后经过了5小时的时候的平坦度和经过了48小时的时候的平坦度之差的绝对值而被算出，并利用下面的式子表示。

（滞弹性变形量B）＝│F（5h）－F（48h）│

滞弹性变形量C表示去除载荷之后经过了5小时的时候的平坦度。因此，利用下面的式子表示。

（滞弹性变形量C）＝F（5h）

对测定磁记录介质用玻璃基板的平坦度的单元没有特别限定，可以通过例如相位测定干涉法（相移法）进行测定。

接着，下面对测定滞弹性变形量时的在磁记录介质用玻璃基板上施加载荷的方法进行说明。

对磁记录介质用玻璃基板施加载荷时，通过如下方式进行施加：从下表面侧支承磁记录介质用玻璃基板的相对的直径方向的两端部，对于磁记录介质用玻璃基板的包含中心的中央部，从磁记录介质用玻璃基板的上表面向垂直下方施加载荷。

使用图2（a）及2（b）对具体的例子进行说明。

图2（a）及2（b）表示为了测定滞弹性变形量而对磁记录介质用玻璃基板施加载荷的构成例，图2（a）表示横侧视图，图2（b）表示俯视图。

如图2（a）及2（b）所示，为了支承磁记录介质用玻璃基板的两端部，而使用V字块体11，并在该块体11上配置磁记录介质用玻璃基板13、载荷（重石）15，从而对玻璃基板施加载荷。

在V字块体11的中央部具有V字状的切入部12。而且，以覆盖V字状切入部12的方式配置磁记录介质用玻璃基板13，由此能够只将磁记录介质用玻璃基板13的两端部14从下表面侧支承。作为支承磁记录介质用玻璃基板的部件，不限定于V字块体，只要是可支承磁记录介质用玻璃基板的两端部14的部件即可。例如，也可以是以在两个四棱柱形状的块体上隔开规定间隔且可支承磁记录介质用玻璃基板的两端部14的方式配置的部件。

在该情况下，与V字块体接触且设于支承磁记录介质用玻璃基板的直径方向的两端的两个部位的两端部（支承部）14分别被弦141、142和圆弧包围。而且，弦141和弦142为V字块体的切入部的端部，且成为平行。而且，弦和圆弧之间的距离的最大值即图2（a）及2（b）中的W1分别优选为例如磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3％～7.7％的长度，更优选为直径的3.0％～4.6％。这是因为，当支承的部分的范围过窄时，在施加载荷的情况下，磁记录介质用玻璃基板可能偏离落下而损坏，当过宽时，与载荷部分之间的距离变短，平坦度的变化难以产生，测定的分解能力变低。

关于载荷，只要能够对磁记录介质用玻璃基板的包含中心的中央部施加载荷即可，对其配置、载荷的大小没有特别限定。

例如图2（a）及2（b）所示，可以通过在磁记录介质用玻璃基板的中央部配置长方体的载荷（重石）而进行。在该情况下，优选载荷以与构成支承上述磁记录介质用玻璃基板的两端部的弦141、142平行的方式配置。另外，如图2（b）所示，还优选载荷以全部覆盖距与弦141、142平行的中心线为一定距离的宽度（范围）的磁记录介质用玻璃基板的方式配置。例如，作为载荷（重石），可以优选使用其宽度即图2（a）及2（b）中W2的长度为磁记录介质用玻璃基板的直径的35％～80％的长方体，可以更优选使用55％～75％的长方体。

这是因为，在例如施加载荷的范围过窄的情况下，由于载荷集中在较窄的范围、载荷变得不稳定而倒下等，可能损坏磁记录介质用玻璃基板，在施加载荷的范围过宽的情况下，与支承的两端部之间的距离变窄，平坦度的变化难以产生，测定的分解能力变低。

作为载荷（重石）纵向方向的长度，如上所述，优选为与磁记录介质用的玻璃基板的直径相同的长度或其以上的长度。

作为载荷的重量，没有特别限定，只要是充分引起基于滞弹性的变形且不损坏磁记录介质用玻璃基板的范围即可，可以根据使用的磁记录介质用玻璃基板的面积、强度等选择。

例如，可以以磁记录介质用玻璃基板主平面的面积每1mm²成为0.233gf（2.28mN）的载荷的方式进行选择。即，可以施加利用（磁记录介质用玻璃基板主平面的面积）mm²×0.233gf/mm²（2.28mN/mm²）来计算出的载荷。例如，在外径为65mm、内径（中央部圆孔的直径）为20mm的磁记录介质用玻璃基板（2.5英寸的磁记录介质用玻璃基板）的情况下，将700gf（6.86N）的载荷施加在磁记录介质用玻璃基板的中央部上表面。

本发明的磁记录介质用玻璃基板可以通过包含下面工序1～4的制造方法进行制造。

（工序1）由玻璃原基板加工成中央部具有圆孔的圆盘形状的玻璃基板之后，倒角加工内周端面和外周端面的形状赋予工序。

（工序2）研磨玻璃基板的端面（内周端面及外周端面）的端面研磨工序。

（工序3）研磨上述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序。

（工序4）清洗上述玻璃基板并进行干燥的清洗工序。

而且，利用包含上述各工序的制造方法得到的磁记录介质用玻璃基板通过进一步进行在其上形成磁性层等薄膜的工序而可以制成磁记录介质。

在此，（工序1）的形状赋予工序将按照浮法、熔化法、冲压成形法、下拉法或再曳引法成形的玻璃原基板加工成中央部具有圆孔的圆盘形状的玻璃基板。使用的玻璃原基板没有特别限定，只要加工而得到的磁记录介质用玻璃基板满足上述滞弹性变形量即可。例如，也可以是非晶玻璃、结晶化玻璃、在玻璃基板的表层具有压缩应力层（加强层）的强化玻璃。优选玻璃基板的比模量（比杨氏模量）高，例如优选为29GPa·cm³/g以上，更优选为30GPa·cm³/g以上。

而且，（工序2）的端面研磨工序对玻璃基板的端面（侧面部和倒角部）进行端面研磨。

关于（工序3）的主平面研磨工序，使用双面研磨装置，向玻璃基板的主平面供给研磨液且对玻璃基板的上下主平面同时进行研磨。本发明的玻璃基板的研磨也可以只进行一次研磨，也可以进行一次研磨和两次研磨，也可以在两次研磨后进行三次研磨。

在上述（工序3）主平面研磨工序之前，也可以实施主平面的打磨（lap）（例如，游离磨粒打磨、固定磨粒打磨等）。另外，也可以在各工序之间实施玻璃基板的清洗（工序之间清洗）、玻璃基板表面的蚀刻（工序之间蚀刻）。主平面的打磨广义上是主平面的研磨。

此外，也可以在研磨工序前、或研磨工序后、或研磨工序之间实施在玻璃基板的表层形成压缩应力层（加强层）的加强工序（例如，化学加强工序）。

［第二实施方式］

在本实施方式中，对使用本发明的磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质进行说明。

磁记录介质可以通过在第一实施方式中说明的磁记录介质用玻璃基板上成膜磁性层等而形成磁记录介质（磁盘）。

磁记录介质中有水平磁记录方式、垂直磁记录方式，但在此，以垂直磁记录方式为例，如下说明顺序。

磁记录介质中，至少在其表面具备磁性层、保护层、润滑膜。而且，在垂直磁记录方式的情况下，通常配置软磁性基底层，该软磁性基底层由起到使来自磁头的记录磁场回流的作用的软磁性材料构成。因此，从玻璃基板表面依次以例如软磁性基底层、非磁性中间层、垂直记录用磁性层、保护层、润滑膜的方式层叠。

下面，对各层进行说明。

作为软磁性基底层，例如可使用CoNiFe、FeCoB、CoCuFe、NiFe、FeAlSi、FeTaN、FeN、FeTaC、CoFeB、CoZrN等。

而且，非磁性中间层由Ru、Ru合金等构成。该非磁性中间层具有用于容易地使垂直记录用磁性层的外延成长的功能及切断软磁性基底层和记录用磁性层之间的磁交换耦合的功能。

垂直记录用磁性层是易磁化轴朝向与基板面垂直的方向的磁性膜，至少包含Co、Pt。而且，为了降低成为较高的固有介质噪音的原因的粒间交换耦合，优选形成为良好隔离的微粒子构造（颗粒构造）。具体而言，也可以使用在CoPt系合金等中添加氧化物（SiO₂、SiO、Cr₂O₃、CoO、Ta₂O₃、TiO₂等）、Cr、B、Cu、Ta、Zr等的磁性层。

至此已说明的软磁性基底层、非磁性中间层、垂直记录用磁性层能够用在线溅射法、DC磁控管溅射法等连续性地制造。

接着，保护层是为了防止垂直记录用磁性层的腐食且即使在磁头与介质接触的情况下也防止介质表面损伤而设置的层，所述保护层设于垂直记录用磁性层的上方。作为保护层，能够使用包含C、ZrO₂、SiO₂等的材料。

作为保护层的形成方法，能够使用例如在线溅射法、CVD法、旋涂法等。

为了降低磁头和记录介质（磁盘）的摩擦，在保护层的表面形成润滑层。润滑层能够使用例如全氟聚醚、氟化醇、氟化羧酸等。对于润滑层，能够使用浸渍法、喷射法等形成。

如以上说明，在第一实施方式中说明的磁记录介质用玻璃基板上形成磁性层等而得到的磁记录介质在写入伺服信息之后位移也较少，因此可以抑制错误的发生。

【实施例】

下面，列举具体的实施例进行说明，但本发明不限定于这些实施例。

首先，对下面的实施例、比较例中的磁记录介质用玻璃基板的评价方法及在玻璃基板表面成膜磁性层等薄膜的磁记录介质的评价方法进行说明。

（1）滞弹性变形量

滞弹性变形量A～C如第一实施方式中已进行的说明，首先，分别测定对磁记录介质用玻璃基板施加载荷之前的平坦度F（﹣48h）和在施加48小时载荷之后解除载荷后经过5小时、48小时的时候的平坦度F（5h）、F（48h）。

各时间的平坦度的测定利用相位测定干涉法（相移法）进行。具体而言，使用干涉式平坦度测定仪（Zygo社制，型号：ZygoGIFlat（MESA）），以680nm的测定波长进行测定。

然后，根据测定到的各平坦度，通过下面的式子，算出滞弹性变形量A～C。

（滞弹性变形量A）＝│F（5h）－F（﹣48h）│

（滞弹性变形量B）＝│F（5h）－F（48h）│

（滞弹性变形量C）＝F（5h）

在此，对在磁记录介质用玻璃基板施加载荷时的条件进行说明。

首先，如图2（a）及2（b）所示，利用V字块体支承磁记录介质用玻璃基板的两端部分。

支承部14配置于直径方向的两端，两个两端部（支承部）被弦141、142和（被弦切割的较短的一方的弧）圆弧包围，两个两端部形成相同的形状。而且，弦141、142和圆弧之间的距离的最大值W1以成为磁记录介质用玻璃基板的直径的3.8％的方式配置。

接着，以与构成被V字块体支承的两端部分的弦141、142平行的方式，在磁记录介质用玻璃基板的主平面上配置载荷15。在本实施例中，作为载荷的尺寸，其横向宽度即图2（a）及2（b）中的W2使用了作为磁记录介质用玻璃基板的直径的67％的载荷。在该情况下，载荷的宽度方向的中心线以通过磁记录介质用玻璃基板的中心的方式配置。

另外，关于纵向方向，为了在载荷的横向宽度范围整体上完全覆盖磁记录介质用玻璃基板，使用了比磁记录介质用玻璃基板的直径更长的载荷。

（2）读写测试

对于得到的磁记录介质用玻璃基板，在形成磁性层等之后按照如下说明的顺序进行读写测试。

具体而言，将在磁记录介质用玻璃基板上形成有磁性层等的磁记录介质装入硬盘驱动器（HDD）中，以下述的顺序写入伺服信息。然后，按照下述实施例的顺序，以磁道密度约254TPI（Trackperinch：磁道/英寸）、线记录密度约1500BPI（Bitperinch：位数/英寸）的条件，记录磁信号，并确认读出该信号时有无错误产生。

在本实施例中，对于比杨氏模量较高的玻璃基板的数种类（表1所示的例1～例9的磁记录介质用玻璃基板）进行了研究。

【表1】

	例1	例2	例3	例4	例5	例6	例7	例8	例9
										密度d（g/cm3）	2.50	2.40	2.38	2.63	2.51	2.46	2.47	2.47	2.46
杨氏模量E（GPa）	77	72	73	82	84	83	83.6	84.4	72
										比杨氏模量E/d	30.8	30.0	30.7	31.2	33.5	33.7	33.8	34.2	29.3

（磁记录介质用玻璃基板的制造）

各磁记录介质用玻璃基板使用表1的例1～例9的玻璃原基板，按照下面的顺序，加工成直径65mm、板厚0.6mm、在中央部具有20mm的圆孔的环形状。

首先，由玻璃原基板加工成在中央部具有圆孔的圆盘形状玻璃基板。

为了得到倒角角度45°的磁记录介质用玻璃基板，对该圆盘形状玻璃基板的内周端面和外周端面进行了倒角加工（内周倒角工序、外周倒角工序）。

倒角加工后，使用氧化铝磨粒对玻璃基板上下主平面进行打磨加工，清洗去除磨粒。

接着，以如下方式对外周端面进行研磨加工（外周端面研磨工序）：使用含有研磨刷和氧化铈磨粒的研磨液对磁记录介质用玻璃基板的外周侧面部和外周倒角部进行研磨，去除外周侧面和外周倒角部的加工变质层（损伤等）而成为镜面。

在外周端面研磨后，以如下方式对内周端面进行研磨加工（内周端面研磨工序）：使用含有研磨刷和氧化铈磨粒的研磨液对磁记录介质用玻璃基板的内周侧面部和内周倒角部进行研磨，去除内周侧面部和内周倒角部的加工变质层（损伤等）而成为镜面。进行了内周端面研磨的玻璃基板将磨粒清洗去除。

对玻璃基板的端面进行了加工后，使用含有金钢石磨粒的固定磨粒工具和研削液对玻璃基板上下主平面进行打磨加工并进行清洗。

接着，作为研磨工具使用硬聚氨酯制的研磨垫，并使用含有氧化铈磨粒的研磨液，利用22B型双面研磨装置（SpeedFam社制，产品名称：DSM22B－6PV－4MH）对上下主平面进行一次研磨，清洗去除氧化铈。

作为研磨工具使用软质聚氨酯制的研磨垫，并且使用含有平均粒径比上述的氧化铈磨粒小的氧化铈磨粒的研磨液，利用22B型双面研磨装置对进行一次研磨后的玻璃基板的上下主平面进行两次研磨，清洗去除氧化铈。

对两次研磨后的玻璃基板进行了三次研磨（精研磨）。作为三次研磨的研磨工具使用软质聚氨酯制的研磨垫并使用含有胶态氧化硅的研磨液，利用双面研磨装置对上下主平面进行研磨加工。

进行了精研磨（三次研磨）的玻璃基板依次进行擦洗、浸渍在洗涤剂溶液中的状态下的超声波清洗、浸渍在纯水中的状态下的超声波清洗（精密清洗），并用异丙醇蒸气进行了干燥。

对得到的各磁记录介质用玻璃基板，进行滞弹性变形量A～C的测定，并将结果在表2中显示。

（磁记录介质的制造）

接着，在上述例1～例9的磁记录介质用玻璃基板各100个上依次设置基底层、磁性层、保护层、润滑层，而制造磁记录介质。

当说明具体的顺序时，使用在线型溅射装置，在例1～9各自的磁记录介质用玻璃基板的表面上，依次层叠NiFe层作为软磁性基底层、Ru层作为非磁性中间层、CoCrPtSiO₂的颗粒结构层作为垂直磁记录层。接着，作为保护层，按照CVD法形成类金刚石碳膜。然后，按照浸渍法形成具有全氟聚醚的润滑膜，而形成磁记录介质。

将它们分别收纳于装运盒（shippingcassette）（Entegris社制），以400mmHg的真空度真空包装于Al复合袋，并放置48小时。

48小时后，开封包装，取出磁记录介质，组成HDD装置，以与254kTPI对应的条件写入伺服信息。伺服信息写入在开封后经过5小时后进行。从伺服信息写入起经过43小时后（开封后48小时后），实施HDD的读写测试。

将读写测试的结果在表2中显示。

【表2】

由此，在滞弹性变形缓和量A满足本发明的规定的实施例的例1～例7中，确认到，即使读写测试的错误发生率最大，也为3％左右，与作为比较例的例8、例9比较，可抑制成一半程度。

解析错误发生率较高的例8、9的磁盘的缺点，确认到错误集中在外周部分。认为其原因如下。

保持于装运盒内的磁记录介质由于真空包装引起的来自大气的压力而变形，开包后，根据各自的滞弹性特性而逐渐恢复成原来的形状。但是，在滞弹性特性差的例8、9中，在伺服信息写入时，还未恢复成原来的形状，之后才恢复成原来的形状，因此，认为在以后的读写测试时，发生伺服信息的位置偏移。

形状的变化越向外周越明显，因此，推认错误集中在外周部。

即使与本发明中使用的其它玻璃基板比较，作为比较例的例8的比模量高，振动得到抑制，因此，在磁记录介质的安装评价中应抑制错误的发生，但如上所述，错误的发生率较高。认为引起这样的原因为，例8的磁记录介质用玻璃基板的滞弹性变形量较大。由这些结果可知，为了充分抑制磁记录介质的错误的发生，如以往考虑那样作为磁记录介质用玻璃基板仅使用比模量较高的玻璃基板是不充分的，需要使用磁记录介质用玻璃基板的滞弹性变形量较小的玻璃基板。

此外，对于滞弹性变形量B、C满足本发明规定的例1～6，特别是即使错误发生率较多的例子也为1％，确认到可特别地抑制错误的发生。

由以上本实施例的结果可知，通过选择滞弹性变形量为规定范围的磁记录介质用玻璃基板，能够形成抑制错误（读取/写入错误）发生的磁记录介质。

本申请基于2011年12月22日申请的日本专利申请2011－282327，其内容在此作为参照而引用。

Claims (6)

1.一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，具有对圆盘形状的玻璃基板的主平面进行研磨的主平面研磨工序，

在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量A:从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3％～7.7％的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35～80％的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用磁记录介质用玻璃基板主平面的面积×2.28mN/mm²来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度，和施加载荷前的平坦度之差的绝对值，其中，磁记录介质用玻璃基板主平面的面积的单位为mm²，

这种情况下，所述滞弹性变形量A为4.2μm以下。

2.如权利要求1所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，

在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量B：从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3％～7.7％的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35～80％的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用磁记录介质用玻璃基板主平面的面积×2.28mN/mm²来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度，和解除载荷之后经过48小时的时候的平坦度之差的绝对值，其中，磁记录介质用玻璃基板主平面的面积的单位为mm²，

这种情况下，所述滞弹性变形量B为3.0μm以下。

3.如权利要求1或2所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，

在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3％～7.7％的长度的直径方向的两端部，并在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35～80％的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时的利用磁记录介质用玻璃基板主平面的面积×2.28mN/mm²来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度即滞弹性变形量C为5.5μm以下，

其中，磁记录介质用玻璃基板主平面的面积的单位为mm²。

4.一种磁记录介质的制造方法，其特征在于，

在磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量A：从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3％～7.7％的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35～80％的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用磁记录介质用玻璃基板主平面的面积×2.28mN/mm²来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度，和施加载荷前的平坦度之差的绝对值，其中，磁记录介质用玻璃基板主平面的面积的单位为mm²，

这种情况下，所述滞弹性变形量A为4.2μm以下。

5.如权利要求4所述的磁记录介质的制造方法，其中，

在磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量B：从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3％～7.7％的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35～80％的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用磁记录介质用玻璃基板主平面的面积×2.28mN/mm²来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度，和解除载荷之后经过48小时的时候的平坦度之差的绝对值，其中，磁记录介质用玻璃基板主平面的面积的单位为mm²，

这种情况下，所述滞弹性变形量B为3.0μm以下。

6.如权利要求4或5所述的磁记录介质的制造方法，其中，

在磁记录介质用玻璃基板中，从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3％～7.7％的长度的直径方向的两端部，并在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35～80％的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时的利用磁记录介质用玻璃基板主平面的面积×2.28mN/mm²来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度即滞弹性变形量C为5.5μm以下，其中，磁记录介质用玻璃基板主平面的面积的单位为mm²。