CN101417861A - 信息记录媒体基板用玻璃、磁盘用玻璃基板及磁盘 - Google Patents

信息记录媒体基板用玻璃、磁盘用玻璃基板及磁盘 Download PDF

Info

Publication number
CN101417861A
CN101417861A CNA2008101750599A CN200810175059A CN101417861A CN 101417861 A CN101417861 A CN 101417861A CN A2008101750599 A CNA2008101750599 A CN A2008101750599A CN 200810175059 A CN200810175059 A CN 200810175059A CN 101417861 A CN101417861 A CN 101417861A
Authority
CN
China
Prior art keywords
glass
carrier substrate
substrate
described carrier
substrate glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2008101750599A
Other languages
English (en)
Inventor
中岛哲也
前田敬
下平宪昭
竹中敦义
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Publication of CN101417861A publication Critical patent/CN101417861A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

本发明提供耐候性高的信息记录媒体基板用玻璃。所述信息记录媒体基板用玻璃以基于下述氧化物的摩尔％表示，含有61～66％的SiO2、11.5～17％的Al2O3、8～16％的Li2O、2～8％的Na2O、2.5～8％的K2O、0～6％的MgO、0～4％的TiO2和0～3％的ZrO2，Al2O3+MgO+TiO2为12％以上，Li2O+Na2O+K2O为16～23％，含有B2O3时其含量不足1％。所述信息记录媒体基板用玻璃在120℃、0.2MPa的水蒸气气氛中保持了20小时后，从该玻璃表面析出的Li量、Na量、K量分别被记为CLi、CNa、CK时，CNa小于等于0.7nmol/cm2，CLi+CNa+CK小于等于3.5nmol/cm2。

Description

信息记录媒体基板用玻璃、磁盘用玻璃基板及磁盘
技术领域
本发明涉及被用于磁盘(硬盘)等信息记录媒体的基板的玻璃、磁盘用玻璃基板及磁盘。
背景技术
作为信息记录媒体用基板，特别是作为磁盘用基板，玻璃基板被广泛使用，已知以摩尔％表示的组成含有65.4％的SiO2、8.6％的Al2O3、12.5％的Li2O、10.5％的Na2O、3.0％的ZrO2的市售玻璃。该市售玻璃经化学强化处理后使用。
另一方面，在专利文献1中揭示了未进行化学强化处理的磁盘用基板玻璃。
[专利文献1]日本专利特开2002-358626公报(表1～14)
发明内容
作为磁盘用玻璃基板，要求其在库存中表面性状不发生显著变化，在所述基板上形成的底膜、磁性膜、保护膜等膜不易剥离，即，要求其具备耐候性。Li、Na、K等碱金属成分作为玻璃的熔融促进剂被广泛使用，但这些成分被空气中的水分选择性地从玻璃提取，最终与空气中的二氧化碳或二氧化硫等成分反应，作为碱金属碳酸盐或碱金属硫酸盐附着在玻璃表面(白色痕迹)，因此必须防止该反应的发生。
此外，如果碱金属成分扩散至磁性膜，则易引起记录的信息消失等现象，因此存在作为记录媒体的可靠性明显下降的问题，其中Na被认为最容易扩散至磁性膜。这是因为Na与Li相比，其电场强度(相对于离子半径的电荷强度)小，与K相比，其离子半径小，因此它是相对容易移动的离子。
本发明者认为在耐候性试验中Na的析出多的玻璃引发所述问题，因此以解决该问题为目的完成了本发明。
本发明提供信息记录媒体基板用玻璃，该玻璃以基于下述氧化物的摩尔％表示，含有61～66％的SiO2、11.5～17％的Al2O3、8～16％的Li2O、2～8％的Na2O、2.5～8％的K2O、0～6％的MgO、0～4％的TiO2和0～3％的ZrO2，Al2O3+MgO+TiO2为12％以上，Li2O+Na2O+K2O为16～23％，含有B2O3时其含量不足1％。
例如含有0～6％的MgO是指MgO并不是必须成分，但可在不超过6％的范围内含有该成分。
此外，还提供如下的所述信息记录媒体基板用玻璃：含有1种以上选自CaO、SrO及BaO的碱土类金属氧化物时，这些碱土类金属氧化物的合计含量为1％以下。
此外，还提供不含B2O3的所述信息记录媒体基板用玻璃。
另外，还提供由所述信息记录媒体基板用玻璃形成的磁盘用玻璃基板。
另外，还提供在所述磁盘用玻璃基板上形成有磁记录层的磁盘。
本发明者对所述市售的化学强化玻璃进行了后述的耐候性试验后发现，Na析出量CNa为0.84nmol/cm2，Li、Na、K的析出量合计CLi+CNa+CK为3.5nmol/cm2(后述的例32)，未实施化学强化的玻璃的CNa为3.2nmol/cm2，CLi+CNa+CK为18.3nmol/cm2(后述的例33)，明确未实施化学强化的玻璃的耐候性并不高，通过化学强化处理改善了耐候性。即，该玻璃被认为通过化学强化处理才可作为磁盘用玻璃基板使用，其理由是随着化学强化处理的进行在玻璃表面离子半径大的碱金属成分增加，移动度下降。但是，化学强化处理存在因工序增加而导致成本提高、因化学强化处理而污垢易附着于基板表面等问题。此外，该化学强化玻璃的Na析出量并不少，因此向磁性膜的扩散增加，可能会导致可靠性的下降。
另一方面，专利文献1例示的组成中除了碱金属成分以外，大部分含1摩尔％以上的B2O3。B2O3是以降低玻璃的脆性和比重、促进玻璃的熔融性等为目的而添加的，但如果与碱金属成分共存，则形成蒸气压非常低的碱金属硼酸盐化合物，因此该成分会从玻璃熔液中急剧地挥散。这样就会出现玻璃表面的波筋等不均匀，导致玻璃品质下降，同时存在挥散物凝缩于在玻璃熔融窑中使用的砖物质而使砖的强度显著下降、挥散物的回收处理需要巨大的成本等问题。
另外，专利文献1中揭示了4种不含B2O3的组成，但任一种玻璃的Na含量都较高，因此CNa达到0.7nmol/cm2以上。实际上后述的例34就是专利文献1的例63的玻璃，其CNa为0.74nmol/cm2。因此，Na向磁性膜的扩散增加，可能会导致可靠性下降。
本发明可获得未经化学强化处理但耐候性试验后的Na析出量、碱金属析出总量低的信息记录媒体基板用玻璃。藉此可使形成于所述基板上的底膜、磁性膜、保护膜等膜不易剥离。
此外，可获得能够抑制Na向磁性膜的扩散、可靠性高的信息记录媒体。
由于能够不进行化学强化处理而获得信息记录媒体用玻璃基板，因此可减少工序，且可解决化学强化处理后的基板表面的污垢附着问题。
另外，由于可获得耐酸性高的玻璃，因此在低pH下的研磨工序和洗涤工序中不会发生表面粗化，可获得高品质的信息记录媒体基板用玻璃。
另外，可获得杨氏模量、比弹性率高的信息记录媒体基板用玻璃。藉此在磁盘驱动装置(drive)旋转中不易发生翘曲或挠曲，可获得高记录密度的信息记录媒体。
另外，可获得密度小的信息记录媒体基板用玻璃。藉此，在磁盘驱动装置旋转中电动机负荷可降低，能够实现低耗电。
另外，可获得平均线膨胀系数大的信息记录媒体基板用玻璃。藉此，与金属制的磁盘驱动装置等其它部件的热膨胀匹配提高，温度变化时所产生的应力变小，不易发生基板破裂等情况。
另外，可获得强度高的信息记录媒体基板用玻璃。藉此，媒体、磁盘驱动装置制造时的破裂发生概率或磁盘驱动装置受到冲击时的基板破裂发生概率降低。
另外，可获得失透温度比高温粘性低的信息记录媒体基板用玻璃。藉此，可实现浮法、熔融法、下拉法等的连续成形，可实现大规模生产。
另外，可获得玻璃化温度高的信息记录媒体基板用玻璃。藉此，可提高在基板上形成磁性膜后所实施的热处理温度，可获得记录密度高的信息记录媒体。
具体实施方式
本发明的信息记录媒体基板用玻璃(以下称为本发明的玻璃)的密度(d)较好为2.50g/cm3以下。如果超过2.50g/cm3，则可能磁盘驱动装置旋转时电动机负荷大而耗电量增加，或者磁盘驱动装置旋转变得不稳定。优选2.49g/cm3以下。
较好的是本发明的玻璃的杨氏模量(E)为80GPa以上且比弹性率(E/d)为32MNm/kg以上。如果E不足80GPa或者比弹性率不足32MNm/kg，则磁盘驱动装置旋转中易发生翘曲或挠曲，可能很难获得高记录密度的信息记录媒体。更好的是E为81GPa以上且E/d为32.5MNn/kg以上。
较好的是本发明的玻璃的玻璃化温度(Tg)为520℃以上。如果不足520℃，则无法充分提高磁性层形成热处理温度，可能很难实现磁性层的顽磁力的增加。更好的是525℃以上。
较好的是将本发明的玻璃在其液相温度记为TL、粘度达到104dPa·s时的温度记为T4时，(TL—T4)<50℃。如果(TL—T4)在50℃以上，则很难浮法成形，更好的是小于40℃，特好的是小于30℃。
较好的是本发明的玻璃的50～350℃时的平均线膨胀系数(α)为85×10-7/℃以上。如果不足85×10-7/℃，则与金属制的磁盘驱动装置等其它部件的热膨胀系数的差值变大，温度变化时所产生的应力可能容易引起基板的破裂等。更好的是88×10-7/℃以上。α典型的是100×10-7/℃以下。
本发明的玻璃的通过后述方法测定的破裂发生率(p)较好为50％以下。如果超过50％，则玻璃强度不够，制造媒体或磁盘驱动装置时的破裂发生概率或磁盘驱动装置受到冲击时的基板破裂发生概率可能提高。更好的是40％以下，特好的是30％以下。
p值小的玻璃由于其表面不易损伤，因此不易发生应力集中，较弱的应力下脆性破坏不会引发或减少。
较好的是本发明的玻璃在120℃、0.2MPa的水蒸气气氛中保持20小时后从该玻璃表面析出的Li量、Na量、K量分别被记为CLi、CNa、CK时，CNa为0.7nmol/cm2以下，CR＝CLi+CNa+CK为3.5nmol/cm2以下。
CNa如果超过0.7nmol/cm2，则Na向形成于基板上的磁性膜的扩散增加，可能会造成信息记录媒体的可靠性下降。更好的是0.5nmol/cm2以下，特好的是0.4nmol/cm2以下。
CR如果超过3.5nmol/cm2，则形成于基板上的底膜、磁性膜、保护膜等膜易剥离。更好的是3.2nmol/cm2以下，特好的是3.0nmol/cm2以下。
本发明的玻璃较好是在25℃、0.1N硝酸中浸渍24小时后的玻璃表面不会发生玻璃破裂的耐酸性良好的玻璃，或者较好是下述硝酸浸蚀量为6nm以下的耐酸性良好的玻璃。如果耐酸性不佳，则制造信息记录媒体，特别是磁盘用基板玻璃时的表面研磨或最终洗涤工序中使用pH＝1～2的强酸性溶液时，可能会引起玻璃表面的粗化或剥离破裂，更好的是1.5nm以下，特好的是1.2nm以下。
硝酸浸蚀量的计算如下所述。将用氧化铈对厚1～2mm、大小尺寸4cm×4cm的玻璃板的两面进行镜面研磨后的玻璃板作为测定试样，将其在25℃、0.01N硝酸中浸渍3小时，用ICP发光法分析测定在硝酸中溶出的Si量。由所得的Si量、玻璃中的SiO2含量及玻璃密度算出玻璃被浸蚀的量。
以下用摩尔％表示对本发明的玻璃的组成进行说明。
SiO2是形成玻璃骨架的成分，是必须成分。如果不足61％，则耐酸性或耐候性下降，d值变大，玻璃易损伤或TL提高，玻璃变得不稳定。此外，对于像本发明的玻璃这样的碱金属氧化物成分多的玻璃，如果SiO2少，则因为酸的作用，碱金属成分会选择性地从表面溶出，易生成低膨胀化的层，其结果是，酸浸渍后易出现玻璃表面破裂、剥离的现象，即，所述耐酸性可能会下降。此外，用酸性胶体二氧化硅浆料研磨玻璃板时，如果SiO2不足61％，则可能很难降低玻璃板表面粗糙度Ra。较好的是61.5％以上。希望耐酸性更高时，SiO2较好是62％以上，更好是62.5％以上，特好是63.5％以上。如果超过66％，则后述的T2及T4提高，很难实现玻璃的熔解、成形，E或E/d下降，或者α变小。更好的是65％以下。
Al2O3具有提高耐候性的效果，是必须成分。如果为11.5％以下，则所述效果不明显，E或E/d下降，或者Tg降低。较好是12％以上。如果超过17％，则后述的T2及T4提高，很难实现玻璃的熔解、成形，α变小或TL变得过高。较好的是16％以下。希望耐酸性更高时，Al2O3较好为15％以下，更好为14％以下。
特别希望提高耐酸性时，优选SiO2为63.5％以上，Al2O3为14％以下。
Li2O具有提高E、E/d或α，或者使玻璃的熔解性提高的效果，是必须成分。如果不足8％，则所述效果不明显。较好的是9％以上，更好的是10％以上。如果超过16％，则耐酸性或耐候性下降，或者Tg下降。较好的是15％以下，更好的是14％以下，典型的是13％以下。
Na2O具有提高α或者使玻璃的熔解性上升的效果，因此是必须成分。如果不足2％，则所述效果不明显。较好的是3％以上。如果超过8％，则耐酸性或耐候性下降或者Tg下降。较好的是7.5％以下，更好的是7％以下。
K2O具有提高α或者使玻璃的熔解性上升的效果，因此是必须成分。如果不足2.5％，则所述效果不明显。如果K2O不足2.5％，欲增加Na2O来维持α，则耐候性下降。较好的是3％以上。如果超过8％，则耐酸性或耐候性下降或者E或E/d下降。较好的是6％以下，更好的是5％以下。
Li2O、Na2O及K2O的含量合计(R2O)如果不足16％，则α变小或者玻璃的熔解性下降。较好的是17％以上，更好的是18％以上，特好的是19％以上。R2O如果超过23％，则耐酸性或耐候性下降。较好的是22％以下，更好的是21％以下。
MgO不是必须成分，但具有维持耐候性并提高E、E/d或α、使玻璃不易损伤或使玻璃的熔解性提高的效果，因此可在不超过6％的范围内含有该成分。如果超过6％，则TL变得过高。较好是5％以下，更好是4％以下。含有MgO时，其含量典型的为1％以下。
TiO2不是必须成分，但具有提高E、E/d或Tg或者提高耐候性的效果，可在不超过4％的范围内含有该成分。如果超过4％，则TL可能会变得过高，或者可能容易引起分相现象。较好是3％以下，更好是2％以下。含有TiO2时，其含量较好为0.3％以上。更好为0.6％以上，典型的是0.8％以上。
Al2O3、MgO及TiO2的含量合计不足12％时，可能很难维持耐候性并提高E或E/d。
ZrO2不是必须成分，但具有维持耐候性并提高E或E/d、提高Tg或使玻璃的熔解性提高的效果，因此可在不超过3％的范围内含有该成分。如果超过3％，则玻璃易损伤或者TL变得过高。较好是2％以下，典型的是1％以下。
本发明的玻璃实质上由上述成分形成，但在不影响本发明的目的的范围内还可含有其它成分。这种情况下，该其它成分的含量合计较好为5％以下，典型的是2％以下。
例如，CaO、SrO或BaO可在维持耐候性的同时提高α或使玻璃的熔解性提高，因此可在合计不超过1％的范围内含有这些成分。如果超过1％，则d变大或玻璃易损伤。较好的是合计0.75％以下，典型的是0.5％以下。
此外，可在合计不超过2％的范围内含有SO3、Cl、As2O3、Sb2O3、SnO2等澄清剂。
可在合计不超过2％的范围内含有Fe2O3、Co3O4、NiO等着色剂。
B2O3如果与碱金属氧化物成分共存，则非常容易挥散，因此最好不含该成分，即使含有该成分时其含量最好也不足1％，更好的是不足0.5％。
由本发明的玻璃形成的信息记录媒体用玻璃基板通常是圆形玻璃板。
信息记录媒体为磁盘时，该信息记录媒体用玻璃基板为本发明的磁盘用玻璃基板。
磁盘用玻璃基板被广泛应用于笔记本电脑等中使用的2.5英寸基板(玻璃基板外径：65mm)或便携式MP3播放器等中使用的1.8英寸基板(玻璃基板外径：48mm)等，其市场逐年扩大，另一方面要求能够以低廉的价格供给。被用于该玻璃基板的玻璃最好适合大量生产。
平板玻璃的大量生产广泛采用浮法、熔融法、下拉法等连续成形法进行，本发明的玻璃如前所述是例如可通过浮法成形的玻璃，因此适合大量生产。
对本发明的玻璃及玻璃基板的制造方法无特别限定，可采用各种方法。例如，按照目标组成调和常用的各成分的原料，用玻璃熔融窑将其加热熔融。然后，通过鼓泡、搅拌、澄清剂的添加等将玻璃均质化，再利用公知的浮法、加压法、熔融法或下拉法等浮法成形为规定厚度的平板玻璃，退火后根据需要进行研削、研磨等加工，形成为规定尺寸和形状的玻璃基板。作为成形法，特别优选适合于大量生产的浮法。此外，可采用浮法以外的其它连续成形法，例如熔融法、下拉法。
实施例
按照表的SiO2至ZrO2的栏中以摩尔％表示的组成调和各成分的原料，用铂坩锅在1550～1600℃的温度下熔解3～5小时。熔解时，在熔融玻璃中插入铂搅拌器搅拌2小时，将玻璃均质化。然后，将熔融玻璃流出成形为平板状，以每分钟1℃的冷却速度退火至室温。表的Al+Mg+Ti表示Al2O3、MgO及TiO2的各含量(单位：摩尔％)的合计，R2O表示Li2O、Na2O及K2O的各含量(单位：摩尔％)的合计。
例1～31的玻璃是实施例，例32～41的玻璃是比较例。例32的玻璃是与所述市售的化学强化玻璃相同的玻璃，例33的玻璃是经过化学强化的玻璃。
按照以下方法测定所得的玻璃板的密度d(单位：g/cm3)、所述平均线膨胀系数α(单位：×10-7/℃)、杨氏模量E(单位：GPa)、比弹性率E/d(单位：MNm/kg)、玻璃化温度Tg(单位：℃)、液相温度TL(单位：℃)、粘度达到102dPa·s时的温度T2(单位：℃)、粘度达到104dPa·s时的温度T4(单位：℃)、所述CNa(单位：nmol/cm2)、所述CR(单位：nmol/cm2)、破裂发生率p(单位：％)、所述耐酸性及所述硝酸浸蚀量。结果示于表，表中的“—”表示未测定。
d：使用20～50g无气泡的玻璃，按照阿基米德法进行测定。
α：采用差示热膨胀计，以石英玻璃作为参照试样，测定从室温以5℃/分钟的比例升温时的伸长率，直至玻璃即使软化也不再观测到快速伸长时的温度、即屈服点，由所得的热膨胀曲线算出50～350℃下的平均热膨胀系数。
E：通过超声波脉冲法对厚5～10mm、尺寸为3cm见方的玻璃板进行测定。
Tg：采用差示热膨胀计，以石英玻璃作为参照试样，测定从室温以5℃/分钟的比例升温至屈服点时的玻璃的伸长率，将相当于所得热膨胀曲线中的弯曲点的温度作为玻璃化温度。
TL：用研钵将玻璃粉碎成2mm左右的玻璃粒子，将该玻璃粒子排列放置于铂皿中，在温度倾斜炉中热处理24小时。将析出结晶的玻璃粒子的温度的最高值作为液相温度。例如“≤1080”是指“1080℃以下”。
T2、T4：用旋转粘度计测定。
CNa、CR：用氧化铈对厚1～2mm、尺寸4cm×4cm的玻璃板的两面进行镜面研磨，用碳酸钙及中性洗剂洗涤后，装入高度加速寿命试验装置(艾斯派克(エスペツク)公司制不饱和型压力蒸煮器EHS-411M)，在120℃、0.2MPa的水蒸气气氛中静置20小时。在经洗涤的带拉锁的塑料袋中装入试验后试样和超纯水20ml，用超声波洗涤机以10分钟溶解表面析出物，用ICP-MS对各碱金属成分的溶出物进行定量。溶出量以摩尔换算，以试样表面积标准化。
p：在控制为温度23℃、相对湿度70％的室内，以负重500g将维氏压头敲入厚1～2mm、尺寸4cm×4cm的经镜面研磨的玻璃板的表面，测定自其4个顶点产生的裂纹条数。将该测定重复进行10次，将100×(产生的裂纹总条数)/40的值作为破裂发生率。
耐酸性：用微分干涉显微镜观察在25℃、0.1N硝酸中浸渍24小时后的玻璃表面，将可见剥离破裂的玻璃记为×，未见该现象的玻璃记为○。结果示于耐酸性1的栏中。
硝酸浸蚀量：按照前述方法测定(单位：nm)。结果示于耐酸性2的栏中。
此外，用酸性胶体二氧化硅浆料研磨由作为实施例的例8、27、30、31及作为比较例的例34、35的玻璃形成的玻璃板，测定其表面粗糙度Ra(单位：nm)。即，准备尺寸为4cm×4cm的玻璃板，用氧化铈对其两面进行镜面研磨后，用pH调整为2的平均粒径30nm的胶体二氧化硅浆料，用贴附有绒面型聚氨酯垫片的小型研磨机以10kPa的压力研磨10分钟。研磨后马上取出玻璃板，用碱性洗剂和纯水洗涤后用原子力显微镜(AFM)测定表面粗糙度Ra。结果示于表的Ra栏，作为磁盘用玻璃基板的Ra优选为0.15nm以下。
由该测定结果可知，SiO2为61％以上的例8、27、30、31的Ra为0.11～0.13nm，SiO2为60.7％、60.0％的例35、34的Ra为0.19nm、0.29nm，小于61％时随着SiO2的下降，Ra开始增大。
量产磁盘用玻璃基板的情况下，有时研磨后不马上取出玻璃板就将其置于胶体二氧化硅浆料中。因此，为了模拟该情况，将研磨后马上取出的所述玻璃板浸渍于pH调整为2的胶体二氧化硅浆料中10分钟，实施与前述同样的洗涤后，测定其表面粗糙度。结果示于表的Ra’栏(单位：nm)。
由该测定结果可知，SiO2为61％以上的例8、27、30、31的Ra’为0.12～0.15nm，明确这些例子未发生因在胶体二氧化硅浆料中的浸渍所造成的表面粗糙度的增加或增加程度很小。对应于此，SiO2为60.7％、60.0％的例35、34的Ra’为1.0nm以上，表面粗糙度增加的程度较大。即，本发明的玻璃适合于磁盘用玻璃基板的量产。
[表1]
 
例 1 2 3 4 5 6 7 8
SiO2 63.7 63.7 63.7 64.7 61.7 61.0 62.7 61.9
Al2O3 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0
Li2O 10.2 11.2 12.2 11.2 11.2 13.2 11.1 10.7
Na2O 6.5 6.5 6.5 6.5 6.5 5.2 5.9 6.8
K2O 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 2.7 3.0
MgO 0 0 0 0 3.0 3.0 3.0 3.0
TiO2 2.0 1.0 0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
ZrO2 1.6 1.6 1.6 0.6 0.6 0.6 0.6 0.6
Al+Mg+Ti 15.0 14.0 13.0 14.0 17.0 17.0 17.0 17.0
R2O 19.7 20.7 21.7 20.7 20.7 21.4 19.7 20.5
d 2.49 2.48 2.47 2.45 2.47 2.47 2.46 2.47
α 90 — — — 94 — 93 95
E 82.8 83.5 83.6 82.1 83.5 84.4 83.2 83.0
E/d 33.3 33.7 33.8 33.5 33.8 34.2 33.8 33.6
Tg 564 — — — 532 — 542 530
TL — — — ≤1080 ≤1000 1020 — ≤960
T2 — — — — — — — 1565
T4 — — — — — — — 1087
CNa — — — — — — — 0.32
CR — — — — — — — 2.9
p — — — — — — — 10
耐酸性1 — — — — — — — ○
耐酸性2 — — — 0.80 — — — 4.9
Ra — — — — — — — 0.11
Ra’ — — — — — — — 0.14
[表2]
 
例 9 10 11 12 13 14 15 16
SiO2 61.9 63.1 63.1 62.0 62.0 61.9 61.9 62.0
Al2O3 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0
Li2O 10.7 9.7 9.7 11.1 11.1 9.0 9.0 11.0
Na2O 6.8 7.1 7.1 5.5 5.5 5.3 5.3 3.0
K2O 3.0 2.5 2.5 3.8 3.8 4.4 4.4 5.7
MgO 3.6 3.0 3.6 3.0 3.6 4.8 5.4 3.7
TiO2 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
ZrO2 0 0.6 0 0.6 0 0.6 0 0.6
Al+Mg+Ti 17.6 17.0 17.6 17.0 17.6 18.8 19.4 17.7
R2O 20.5 19.3 19.3 20.4 20.4 18.7 18.7 19.7
d 2.46 2.47 2.45 2.47 2.45 2.47 2.46 2.46
α 93 91 91 93 — 90 — 90
E 82.5 82.9 82.2 82.8 82.3 82.2 81.8 82.0
E/d 33.6 33.6 33.5 33.6 33.5 33.3 33.3 33.3
Tg 522 543 534 531 — 553 — 545
TL ≤1080 980 ≤1080 ≤1080 ≤1080 ≤1080 — —
T2 — — — — — — — —
T4 — — — — — — — —
CNa — 0.24 — 0.22 — 0.25 — 0.09
CR — 2.8 — 2.7 — 2.3 — 2.6
p — 15 — 10 — 15 — 10
耐酸性1 — ○ — ○ — ○ — ○
耐酸性2 — — — — — — — —
Ra — — — — — — — —
Ra’ — — — — — — — —
[表3]
 
例 17 18 19 20 21 22 23 24
SiO2 62.0 62.0 62.0 61.9 61.9 62.9 64.5 64.5
Al2O3 13.0 15.0 15.0 13.0 13.0 13.0 12.0 12.0
Li2O 13.0 11.0 11.0 10.7 13.7 10.7 11.6 10.2
Na2O 3.0 6.0 4.0 3.8 3.8 6.8 6.7 7.7
K2O 5.0 3.6 5.1 6.0 3.0 3.0 2.7 2.7
MgO 2.4 1.0 1.4 3.0 3.0 3.0 0 0
TiO2 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 0 1.0 0.9
ZrO2 0.6 0.5 0.5 0.6 0.6 0.6 1.5 2.0
Al+Mg+Ti 16.4 17.0 17.4 17.0 17.0 16.0 13.0 12.9
R2O 21.0 20.6 20.1 20.5 20.5 20.5 21.0 20.6
d 2.46 2.46 2.45 2.45 2.46 2.46 2.49 2.50
α 93 93 91 — — — 94 93
E 82.8 82.6 81.8 81.6 84.6 82.4 82.8 82.6
E/d 33.7 33.6 33.3 33.1 34.4 33.5 33.3 33.0
Tg 530 549 558 — — — 533 544
TL 1000 1060 — — — — ≤1050 —
T2 1560 1633 — — — — — —
T4 1083 1146 — — — — — —
CNa 0.07 0.16 0.08 0.24 0.05 0.34 0.33 0.45
CR 2.7 2.6 2.4 2.9 3.3 3.2 3.4 3.3
p 10 10 5 — — — — —
耐酸性1 ○ ○ ○ — — — ○ ○
耐酸性2 — — — — — — 0.76 0.94
Ra — — — — — — — —
Ra’ — — — — — — — —
[表4]
 
例 25 26 27 28 29 30 31 32
SiO2 64.7 64.7 64.5 64.5 64.5 64.5 62.4 65.4
Al2O3 13.0 12.0 13.0 12.5 12.0 12.0 13.0 8.6
Li2O 11.2 11.2 12.5 12.7 12.7 12.8 10.7 12.5
Na2O 6.5 6.5 5.5 5.8 5.8 5.5 6.8 10.5
K2O 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.4 3.0 0
MgO 0 0 0 0 0 0 2.75 0
TiO2 0 0 0 0 0 0 0.75 0
ZrO2 1.6 2.6 1.5 1.5 2.0 1.8 0.6 3.0
Al+Mg+Ti 13.0 12.0 13.0 12.5 12.0 12.0 16.5 8.6
R2O 20.7 20.7 21.0 21.5 21.5 21.7 20.5 23.0
d 2.47 2.49 2.46 2.46 2.48 2.47 2.47 —
α 92 90 91 91 94 91 94 —
E 82.2 83.2 82.7 82.6 83.1 82.7 82.8 —
E/d 33.3 33.4 33.6 33.5 33.6 33.5 33.6 —
Tg 542 548 536 527 532 523 529 —
TL — — — ≤1000 1100 1050 — —
T2 — — — — — 1594 — —
T4 — — — — — 1093 — —
CNa 0.25 0.26 0.15 0.16 0.15 0.12 0.33 0.84
CR 3.3 3.3 3.4 3.3 3.3 3.2 2.7 3.5
p — — — — — — 10 —
耐酸性1 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○
耐酸性2 1.0 0.81 1.0 0.90 0.89 0.74 1.4 —
Ra — — 0.12 — — 0.12 0.13 —
Ra’ — — 0.12 — — 0.12 0.15 —
[表5]
 
例 33 34 35 36 37 38 39 40 41
SiO2 65.4 60.0 60.7 61.9 61.9 61.9 61.9 63.9 65.9
Al2O3 8.6 15.0 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 11.0 9.0
Li2O 12.5 9.0 12.2 7.7 7.7 10.7 13.7 10.7 10.7
Na2O 10.5 9.0 6.5 6.8 9.8 9.8 6.8 6.8 6.8
K2O 0 2.0 3.0 6.0 3.0 0 0 3.0 3.0
MgO 0 5.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0
TiO2 0 0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
ZrO2 3.0 0 0.6 0.6 0.6 0.6 0.6 0.6 0.6
Al+Mg+Ti 8.6 20.0 17.0 17.0 17.0 17.0 17.0 15.0 13.0
R2O 23.0 20.0 21.7 20.5 20.5 20.5 20.5 20.5 20.5
d — — — — — — — — —
α — — — — — — — — —
E — — — — — — — — —
E/d — — — — — — — — —
Tg — — — — — — — — —
TL — — — — — — — — —
T2 — — — — — — — — —
T4 — — — — — — — — —
CNa 3.20 0.74 0.30 0.81 0.96 0.41 0.08 0.63 1.46
CR 18.3 3.6 3.1 2.8 3.0 3.6 3.7 4.4 6.7
p — — — — — — — — —
耐酸性1 ○ × × — — — — — —
耐酸性2 — 544 89 — — — — — —
Ra — 0.29 0.19 — — — — — —
Ra’ — ≥1.0 ≥1.0 — — — — — —
可用于磁盘基板等信息记录媒体基板、磁盘等信息记录媒体的制造。

Claims (12)

1.信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，以基于下述氧化物的摩尔％表示，含有61～66％的SiO2、11.5～17％的Al2O3、8～16％的Li2O、2～8％的Na2O、2.5～8％的K2O、0～6％的MgO、0～4％的TiO2和0～3％的ZrO2，Al2O3+MgO+TiO2为12％以上，Li2O+Na2O+K2O为16～23％，含有B2O3时其含量不足1％。
2.如权利要求1所述的信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，SiO2为63.5％以上，Al2O3为14％以下。
3.如权利要求1或2所述的信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，含有1种以上选自CaO、SrO及BaO的碱土类金属氧化物时，所述碱土类金属氧化物的合计含量为1％以下。
4.如权利要求1～3中任一项所述的信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，不含B2O3。
5.如权利要求1～4中任一项所述的信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，在120℃、0.2MPa的水蒸气气氛中保持了20小时后，从该玻璃表面析出的Li量、Na量、K量分别被记为CLi、CNa、CK时，CNa小于等于0.7nmol/cm2，CLi+CNa+CK小于等于3.5nmol/cm2。
6.如权利要求1～5中任一项所述的信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，密度为2.50g/cm3以下。
7.如权利要求1～6中任一项所述的信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，杨氏模量为80GPa以上且比弹性率为32MNm/kg以上。
8.如权利要求1～7中任一项所述的信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，50～350℃时的平均线膨胀系数为85×10-7/℃以上。
9.如权利要求1～8中任一项所述的信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，将液相温度记为TL、粘度达到104dPa·s时的温度记为T4时，(TL—T4)<50℃。
10.如权利要求1～9中任一项所述的信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，玻璃化温度为520℃以上。
11.磁盘用玻璃基板，其特征在于，由权利要求1～10中任一项所述的信息记录媒体基板用玻璃形成。
12.磁盘，其特征在于，在权利要求11所述的磁盘用玻璃基板上形成了磁记录层。
CNA2008101750599A 2007-10-26 2008-10-24 信息记录媒体基板用玻璃、磁盘用玻璃基板及磁盘 Pending CN101417861A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007279257 2007-10-26
JP2007279257 2007-10-26
JP2008112710 2008-04-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101417861A true CN101417861A (zh) 2009-04-29

Family

ID=40628887

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2008101750599A Pending CN101417861A (zh) 2007-10-26 2008-10-24 信息记录媒体基板用玻璃、磁盘用玻璃基板及磁盘

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101417861A (zh)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101857359A (zh) * 2009-04-02 2010-10-13 旭硝子株式会社 信息记录介质基板用玻璃、信息记录介质用玻璃基板和磁盘
CN102001815A (zh) * 2009-08-18 2011-04-06 Hoya株式会社 玻璃制造方法、玻璃熔化炉以及玻璃制造装置
CN103172276A (zh) * 2011-12-22 2013-06-26 旭硝子株式会社 磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质
CN104230164A (zh) * 2013-06-21 2014-12-24 旭硝子株式会社 磁记录介质的制造方法及磁记录介质
CN107032603A (zh) * 2012-06-05 2017-08-11 旭硝子株式会社 磁盘的制造方法及信息记录介质用玻璃基板
CN107615380A (zh) * 2015-05-20 2018-01-19 Hoya株式会社 玻璃基板的研磨方法、研磨液、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法
CN116553821A (zh) * 2023-05-15 2023-08-08 北京工业大学 一种抗摔耐划碱铝硅玻璃及制备方法

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101857359A (zh) * 2009-04-02 2010-10-13 旭硝子株式会社 信息记录介质基板用玻璃、信息记录介质用玻璃基板和磁盘
CN102001815B (zh) * 2009-08-18 2015-06-03 Hoya株式会社 玻璃制造方法、玻璃熔化炉以及玻璃制造装置
CN102001815A (zh) * 2009-08-18 2011-04-06 Hoya株式会社 玻璃制造方法、玻璃熔化炉以及玻璃制造装置
CN103626406B (zh) * 2011-12-22 2016-04-27 旭硝子株式会社 磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质的制造方法
CN103626406A (zh) * 2011-12-22 2014-03-12 旭硝子株式会社 磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质的制造方法
CN103172276A (zh) * 2011-12-22 2013-06-26 旭硝子株式会社 磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质
CN103172276B (zh) * 2011-12-22 2016-08-03 旭硝子株式会社 磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质
CN107032603A (zh) * 2012-06-05 2017-08-11 旭硝子株式会社 磁盘的制造方法及信息记录介质用玻璃基板
CN104230164A (zh) * 2013-06-21 2014-12-24 旭硝子株式会社 磁记录介质的制造方法及磁记录介质
CN107615380A (zh) * 2015-05-20 2018-01-19 Hoya株式会社 玻璃基板的研磨方法、研磨液、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法
CN107615380B (zh) * 2015-05-20 2020-09-11 Hoya株式会社 玻璃基板的研磨方法、研磨液、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法
CN116553821A (zh) * 2023-05-15 2023-08-08 北京工业大学 一种抗摔耐划碱铝硅玻璃及制备方法
CN116553821B (zh) * 2023-05-15 2024-01-30 北京工业大学 一种抗摔耐划碱铝硅玻璃及制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101857359A (zh) 信息记录介质基板用玻璃、信息记录介质用玻璃基板和磁盘
JP5206261B2 (ja) 情報記録媒体基板用ガラス、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク
JP5375608B2 (ja) データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク
US8349476B2 (en) Glass substrate for information recording medium and magnetic disk
CN101417861A (zh) 信息记录媒体基板用玻璃、磁盘用玻璃基板及磁盘
JP5737043B2 (ja) 基板用ガラスおよびガラス基板
CN101541696A (zh) 信息记录介质基板用玻璃
CN102531383A (zh) 基板用玻璃及玻璃基板
CN102320742A (zh) 数据存储介质用基板玻璃及玻璃基板
JP2011132061A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
TW201533000A (zh) 磁記錄媒體基板用玻璃、磁記錄媒體基板及其製造方法與磁記錄媒體
JP5900560B2 (ja) 基板用ガラスおよびガラス基板
JP2001348246A (ja) 基板用ガラスおよびガラス基板
JP2001058843A (ja) 基板用ガラスおよびガラス基板
JP2000357318A (ja) 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板
JP2000351649A (ja) 基板用ガラスおよびガラス基板
US8402790B2 (en) Process for producing glass substrate for information recording medium
US20230162759A1 (en) Glass disk for magnetic recording medium and magnetic recording device using the same
JP4572453B2 (ja) 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板
JP2016117648A (ja) 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
CN118284935A (zh) 磁记录介质用玻璃基板、磁记录介质用玻璃盘、磁记录介质和玻璃盘的制造方法
JPH1179782A (ja) 情報記録用ガラス基板

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20090429