JP2001058843A - 基板用ガラスおよびガラス基板 - Google Patents
基板用ガラスおよびガラス基板Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
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Abstract
(57)【要約】
【課題】化学強化処理等の付加処理を行わなくとも耐候
性に優れる基板用ガラスおよびガラス基板の提供。 【解決手段】質量百分率表示で、ＳｉＯ2：４０〜５
９、Ａｌ2Ｏ3：５〜２０、Ｂ2Ｏ3：０〜８、ＭｇＯ：０
〜１０、ＣａＯ：０〜１２、ＳｒＯ：２〜２０、Ｂａ
Ｏ：０〜２、Ｎａ2Ｏ：０〜１０、Ｋ2Ｏ：０〜１２、Ｔ
ｉＯ2：０〜１０、ＺｒＯ2：０〜５、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋
ＳｒＯ＋ＢａＯ≧１５である基板用ガラス。
性に優れる基板用ガラスおよびガラス基板の提供。 【解決手段】質量百分率表示で、ＳｉＯ2：４０〜５
９、Ａｌ2Ｏ3：５〜２０、Ｂ2Ｏ3：０〜８、ＭｇＯ：０
〜１０、ＣａＯ：０〜１２、ＳｒＯ：２〜２０、Ｂａ
Ｏ：０〜２、Ｎａ2Ｏ：０〜１０、Ｋ2Ｏ：０〜１２、Ｔ
ｉＯ2：０〜１０、ＺｒＯ2：０〜５、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋
ＳｒＯ＋ＢａＯ≧１５である基板用ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク、光
ディスク等の情報記録媒体の基板、ＰＤＰ（プラズマデ
ィスプレイパネル）、ＦＥＤ（フィールドエミッション
ディスプレイ）等のフラットディスプレイの基板、等に
用いられる基板用ガラスおよびガラス基板に関する。
ディスク等の情報記録媒体の基板、ＰＤＰ（プラズマデ
ィスプレイパネル）、ＦＥＤ（フィールドエミッション
ディスプレイ）等のフラットディスプレイの基板、等に
用いられる基板用ガラスおよびガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録媒体基板、フラットディスプレ
イパネル基板、等に用いられる基板用ガラスとして、ソ
ーダライムシリカガラスが広く用いられている。
イパネル基板、等に用いられる基板用ガラスとして、ソ
ーダライムシリカガラスが広く用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ソーダライム
シリカガラスからなる基板は、いわゆる白ヤケ現象によ
りその在庫中に表面性状が著しく変化するおそれがあっ
た。特に磁気ディスク基板の場合には、前記基板上に形
成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすく
なる。
シリカガラスからなる基板は、いわゆる白ヤケ現象によ
りその在庫中に表面性状が著しく変化するおそれがあっ
た。特に磁気ディスク基板の場合には、前記基板上に形
成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすく
なる。
【０００４】ソーダライムシリカガラスは化学強化処理
によって白ヤケ現象が起りにくくなる。しかし化学強化
処理には、工程が増加する、化学強化処理後の基板表面
によごれが付着しやすい、等の問題がある。本発明は、
化学強化処理等の付加処理を行わなくとも耐候性に優
れ、白ヤケ現象が起りにくい基板用ガラスの提供を目的
とする。
によって白ヤケ現象が起りにくくなる。しかし化学強化
処理には、工程が増加する、化学強化処理後の基板表面
によごれが付着しやすい、等の問題がある。本発明は、
化学強化処理等の付加処理を行わなくとも耐候性に優
れ、白ヤケ現象が起りにくい基板用ガラスの提供を目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、質量百分率表
示で実質的に、 ＳｉＯ2 ４０〜５９％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜２０％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜８％、 ＭｇＯ ０〜１０％、 ＣａＯ ０〜１２％、 ＳｒＯ ２〜２０％、 ＢａＯ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜１２％、 ＴｉＯ2 ０〜１０％、 ＺｒＯ2 ０〜５％、 からなり、かつ、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ≧１
５％である基板用ガラスを提供する。また、前記基板用
ガラスからなるガラス基板であって、１２０℃、２気圧
の水蒸気雰囲気に２０時間保持した該ガラス基板表面に
存在する大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃ
ｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付
着物の数が１０5個／ｃｍ2以下であるガラス基板を提供
する。
示で実質的に、 ＳｉＯ2 ４０〜５９％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜２０％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜８％、 ＭｇＯ ０〜１０％、 ＣａＯ ０〜１２％、 ＳｒＯ ２〜２０％、 ＢａＯ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜１２％、 ＴｉＯ2 ０〜１０％、 ＺｒＯ2 ０〜５％、 からなり、かつ、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ≧１
５％である基板用ガラスを提供する。また、前記基板用
ガラスからなるガラス基板であって、１２０℃、２気圧
の水蒸気雰囲気に２０時間保持した該ガラス基板表面に
存在する大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃ
ｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付
着物の数が１０5個／ｃｍ2以下であるガラス基板を提供
する。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の基板用ガラスは、磁気デ
ィスク、光ディスク等の情報記録媒体の基板、ＰＤＰ、
ＦＥＤ等のフラットディスプレイの基板等に用いられ
る。本発明の基板用ガラスの５０〜３５０℃における平
均線膨張係数は、ソーダライムシリカガラスと同程度ま
たはそれ以上、すなわち７０×１０-7／℃以上であるこ
とが好ましい。より好ましくは７５×１０-7／℃以上で
ある。以下、５０〜３５０℃における平均線膨張係数を
熱膨張係数という。
ィスク、光ディスク等の情報記録媒体の基板、ＰＤＰ、
ＦＥＤ等のフラットディスプレイの基板等に用いられ
る。本発明の基板用ガラスの５０〜３５０℃における平
均線膨張係数は、ソーダライムシリカガラスと同程度ま
たはそれ以上、すなわち７０×１０-7／℃以上であるこ
とが好ましい。より好ましくは７５×１０-7／℃以上で
ある。以下、５０〜３５０℃における平均線膨張係数を
熱膨張係数という。
【０００７】上記の熱膨張係数が好ましい理由は、情報
記録媒体基板に対しては、基板に取り付けるハブの金属
の熱膨張係数（典型的には１００×１０-7／℃以上）に
より近い熱膨張係数、少なくとも従来使用されているソ
ーダライムシリカガラスの熱膨張係数以上、が求められ
ているからである。フラットディスプレイパネル基板に
対しては、シール等に従来使用されているガラスフリッ
ト等の従来の無機材料粉末の熱膨張係数がソーダライム
シリカガラス基板の熱膨張係数に整合しており、前記従
来の無機材料粉末の熱膨張係数と整合させやすくするた
めである。
記録媒体基板に対しては、基板に取り付けるハブの金属
の熱膨張係数（典型的には１００×１０-7／℃以上）に
より近い熱膨張係数、少なくとも従来使用されているソ
ーダライムシリカガラスの熱膨張係数以上、が求められ
ているからである。フラットディスプレイパネル基板に
対しては、シール等に従来使用されているガラスフリッ
ト等の従来の無機材料粉末の熱膨張係数がソーダライム
シリカガラス基板の熱膨張係数に整合しており、前記従
来の無機材料粉末の熱膨張係数と整合させやすくするた
めである。
【０００８】本発明の基板用ガラスのガラス転移点は６
００℃以上であることが好ましい。より好ましくは６１
０℃以上、最も好ましくは６２０℃以上である。上記の
ガラス転移点が好ましい理由は、情報記録媒体用基板に
対しては、記憶密度の増大が容易になるからである。す
なわち、記憶密度増大のためには、磁気記録層である磁
性層の保磁力を増加させることが有効であり、そのため
には磁性層形成に際して行われる熱処理をより高い温度
で行う必要がある。情報記録媒体用基板に用いられるガ
ラスのガラス転移点が６００℃未満では所望の温度で前
記熱処理を行えないおそれがある。
００℃以上であることが好ましい。より好ましくは６１
０℃以上、最も好ましくは６２０℃以上である。上記の
ガラス転移点が好ましい理由は、情報記録媒体用基板に
対しては、記憶密度の増大が容易になるからである。す
なわち、記憶密度増大のためには、磁気記録層である磁
性層の保磁力を増加させることが有効であり、そのため
には磁性層形成に際して行われる熱処理をより高い温度
で行う必要がある。情報記録媒体用基板に用いられるガ
ラスのガラス転移点が６００℃未満では所望の温度で前
記熱処理を行えないおそれがある。
【０００９】また、フラットパネルディスプレイ基板に
対しては、ディスプレイ製造時における熱処理によって
ガラス基板に生じる変形または収縮といった寸法変化を
抑制しやすいからである。すなわち、寸法が著しく変化
すると前面基板および背面基板の位置合わせが困難とな
るが、ディスプレイの高精細化により、近年では寸法変
化の許容値がますます厳しくなってきている。フラット
パネルディスプレイ基板に用いられるガラスのガラス転
移点が６００℃未満では、前記熱処理によってガラス基
板に生じる変形または収縮等により寸法変化が大きくな
り、前記許容値を満たせなくなるおそれがある。本発明
の基板用ガラスはフロート成形できることが好ましい。
対しては、ディスプレイ製造時における熱処理によって
ガラス基板に生じる変形または収縮といった寸法変化を
抑制しやすいからである。すなわち、寸法が著しく変化
すると前面基板および背面基板の位置合わせが困難とな
るが、ディスプレイの高精細化により、近年では寸法変
化の許容値がますます厳しくなってきている。フラット
パネルディスプレイ基板に用いられるガラスのガラス転
移点が６００℃未満では、前記熱処理によってガラス基
板に生じる変形または収縮等により寸法変化が大きくな
り、前記許容値を満たせなくなるおそれがある。本発明
の基板用ガラスはフロート成形できることが好ましい。
【００１０】本発明の基板用ガラスは、質量百分率表示
で実質的に、 ＳｉＯ2 ４０〜５９％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜２０％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜８％、 ＭｇＯ ０〜１０％、 ＣａＯ ０〜１２％、 ＳｒＯ ２〜１５％、 ＢａＯ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜１２％、 ＴｉＯ2 ０〜１０％、 ＺｒＯ2 ０〜５％、 からなり、かつ、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ≧１
５％であることが好ましい。
で実質的に、 ＳｉＯ2 ４０〜５９％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜２０％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜８％、 ＭｇＯ ０〜１０％、 ＣａＯ ０〜１２％、 ＳｒＯ ２〜１５％、 ＢａＯ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜１２％、 ＴｉＯ2 ０〜１０％、 ＺｒＯ2 ０〜５％、 からなり、かつ、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ≧１
５％であることが好ましい。
【００１１】次に、本発明の基板用ガラスの組成につい
て、質量百分率表示で以下に説明する。ＳｉＯ2はガラ
スの骨格を形成する必須成分である。４０％未満では、
ガラスが不安定になる。また、化学的耐久性、特に耐酸
性が低下するおそれがある。好ましくは４１％以上、よ
り好ましくは４５％以上、特に好ましくは４９％以上、
最も好ましくは５０％以上である。５９％超では、熱膨
張係数が小さくなりすぎる。好ましくは５８．５％以下
である。
て、質量百分率表示で以下に説明する。ＳｉＯ2はガラ
スの骨格を形成する必須成分である。４０％未満では、
ガラスが不安定になる。また、化学的耐久性、特に耐酸
性が低下するおそれがある。好ましくは４１％以上、よ
り好ましくは４５％以上、特に好ましくは４９％以上、
最も好ましくは５０％以上である。５９％超では、熱膨
張係数が小さくなりすぎる。好ましくは５８．５％以下
である。
【００１２】Ａｌ2Ｏ3はガラスの耐候性を高くする効果
を有し、必須成分である。また、ガラス転移点を高くす
る効果も有する。５％未満では前記効果が小さい。好ま
しくは６％以上である。２０％超では溶融ガラスの粘度
が高くなりすぎ成形、特にフロート成形が困難になる。
また、液相温度も高くなりすぎる。好ましくは１９％以
下、より好ましくは１７％以下、特に好ましくは１５％
以下である。
を有し、必須成分である。また、ガラス転移点を高くす
る効果も有する。５％未満では前記効果が小さい。好ま
しくは６％以上である。２０％超では溶融ガラスの粘度
が高くなりすぎ成形、特にフロート成形が困難になる。
また、液相温度も高くなりすぎる。好ましくは１９％以
下、より好ましくは１７％以下、特に好ましくは１５％
以下である。
【００１３】Ｂ2Ｏ3は必須成分ではないが、ガラスの耐
候性を高くする効果を有し、８％まで含有してもよい。
８％超では熱膨張係数が小さくなりすぎるおそれがあ
る。好ましくは７％以下である。Ｂ2Ｏ3を含有する場
合、１％以上含有することが好ましい。
候性を高くする効果を有し、８％まで含有してもよい。
８％超では熱膨張係数が小さくなりすぎるおそれがあ
る。好ましくは７％以下である。Ｂ2Ｏ3を含有する場
合、１％以上含有することが好ましい。
【００１４】ＭｇＯは、必須成分ではないが、溶融ガラ
スの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有
し、１０％まで含有してもよい。１０％超ではガラスが
不安定になるおそれがある。好ましくは９％以下であ
る。ＭｇＯを含有する場合、１％以上含有することが好
ましい。
スの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有
し、１０％まで含有してもよい。１０％超ではガラスが
不安定になるおそれがある。好ましくは９％以下であ
る。ＭｇＯを含有する場合、１％以上含有することが好
ましい。
【００１５】ＣａＯは、必須成分ではないが、溶融ガラ
スの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有
し、１２％まで含有してもよい。１２％超ではガラスが
不安定になるおそれがある。好ましくは１１％以下であ
る。ＣａＯを含有する場合、１％以上含有することが好
ましい。なお、耐候性をより向上させたい場合、または
液相温度をより低下させたい場合にはＣａＯを実質的に
含有しないことが好ましい。
スの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果を有
し、１２％まで含有してもよい。１２％超ではガラスが
不安定になるおそれがある。好ましくは１１％以下であ
る。ＣａＯを含有する場合、１％以上含有することが好
ましい。なお、耐候性をより向上させたい場合、または
液相温度をより低下させたい場合にはＣａＯを実質的に
含有しないことが好ましい。
【００１６】ＳｒＯは熱膨張係数を大きくし、また溶融
ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果
を有し、必須である。２％未満では前記効果が小さい。
好ましくは３％以上、より好ましくは６％以上、特に好
ましくは９％以上、最も好ましくは１０％以上である。
２０％超ではガラスが不安定になる。好ましくは１７％
以下、より好ましくは１５％以下、特に好ましくは１
４．５％以下、最も好ましくは１４％以下である。
ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする効果
を有し、必須である。２％未満では前記効果が小さい。
好ましくは３％以上、より好ましくは６％以上、特に好
ましくは９％以上、最も好ましくは１０％以上である。
２０％超ではガラスが不安定になる。好ましくは１７％
以下、より好ましくは１５％以下、特に好ましくは１
４．５％以下、最も好ましくは１４％以下である。
【００１７】ＢａＯは必須成分ではないが、熱膨張係数
を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを
溶融しやすくする効果を有し、２％まで含有してもよ
い。２％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれがあ
る。好ましくは１．８％以下である。ＢａＯを含有する
場合、０．２％以上含有することが好ましい。なお、耐
候性をより向上させたい場合にはＢａＯを実質的に含有
しないことが好ましい。
を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを
溶融しやすくする効果を有し、２％まで含有してもよ
い。２％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれがあ
る。好ましくは１．８％以下である。ＢａＯを含有する
場合、０．２％以上含有することが好ましい。なお、耐
候性をより向上させたい場合にはＢａＯを実質的に含有
しないことが好ましい。
【００１８】ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合
量は１５％以上である。１５％未満では、溶融ガラスの
粘度が大きくなりすぎガラスの溶融が困難になる、また
は熱膨張係数が小さくなりすぎる。好ましくは１５．２
％以上である。
量は１５％以上である。１５％未満では、溶融ガラスの
粘度が大きくなりすぎガラスの溶融が困難になる、また
は熱膨張係数が小さくなりすぎる。好ましくは１５．２
％以上である。
【００１９】Ｎａ2Ｏは必須成分ではないが、熱膨張係
数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラス
を溶融しやすくする効果を有し、１０％まで含有しても
よい。１０％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれ
がある。好ましくは８％以下である。Ｎａ2Ｏを含有す
る場合、２％以上含有することが好ましい。
数を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラス
を溶融しやすくする効果を有し、１０％まで含有しても
よい。１０％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれ
がある。好ましくは８％以下である。Ｎａ2Ｏを含有す
る場合、２％以上含有することが好ましい。
【００２０】Ｋ2Ｏは必須成分ではないが、熱膨張係数
を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを
溶融しやすくする効果を有し、１２％まで含有してもよ
い。１２％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれが
ある。好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以
下、特に好ましくは６％以下、最も好ましくは３．５％
未満である。Ｋ2Ｏを含有する場合、２％以上含有する
ことが好ましい。
を大きくし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを
溶融しやすくする効果を有し、１２％まで含有してもよ
い。１２％超ではガラスの耐候性を低下させるおそれが
ある。好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以
下、特に好ましくは６％以下、最も好ましくは３．５％
未満である。Ｋ2Ｏを含有する場合、２％以上含有する
ことが好ましい。
【００２１】ＢａＯ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合量は１４
％以下であることが好ましい。１４％超では耐候性が低
下するおそれがある。より好ましくは１３％以下、特に
好ましくは１２％以下である。
％以下であることが好ましい。１４％超では耐候性が低
下するおそれがある。より好ましくは１３％以下、特に
好ましくは１２％以下である。
【００２２】ＴｉＯ2は必須成分ではないが、熱膨張係
数を大きくし、ガラスの耐候性を高くし、またはガラス
転移点を高くする効果を有し、１０％まで含有してもよ
い。１０％超ではガラスが不安定になるおそれがある。
好ましくは９％以下である。ＴｉＯ2を含有する場合、
１％以上含有することが好ましく、２％以上含有するこ
とがより好ましい。なお、分相または着色をより抑制し
たい場合、または液相温度をより低下させたい場合には
ＴｉＯ2を実質的に含有しないことが好ましい。
数を大きくし、ガラスの耐候性を高くし、またはガラス
転移点を高くする効果を有し、１０％まで含有してもよ
い。１０％超ではガラスが不安定になるおそれがある。
好ましくは９％以下である。ＴｉＯ2を含有する場合、
１％以上含有することが好ましく、２％以上含有するこ
とがより好ましい。なお、分相または着色をより抑制し
たい場合、または液相温度をより低下させたい場合には
ＴｉＯ2を実質的に含有しないことが好ましい。
【００２３】Ａｌ2Ｏ3およびＴｉＯ2の合量は１１％以
上であることが好ましい。１１％未満では耐候性が低下
するおそれがある。より好ましくは１３％以上、特に好
ましくは１５％以上、最も好ましくは１６％以上であ
る。
上であることが好ましい。１１％未満では耐候性が低下
するおそれがある。より好ましくは１３％以上、特に好
ましくは１５％以上、最も好ましくは１６％以上であ
る。
【００２４】ＺｒＯ2は必須成分ではないが、ガラスの
耐候性を高くし、またガラス転移点を高くする効果を有
し、５％まで含有してもよい。５％超ではガラスが不安
定になるおそれがある、または液相温度が高くなりすぎ
るおそれがある。好ましくは４％以下である。ＺｒＯ2
を含有する場合、１％以上含有することが好ましい。
耐候性を高くし、またガラス転移点を高くする効果を有
し、５％まで含有してもよい。５％超ではガラスが不安
定になるおそれがある、または液相温度が高くなりすぎ
るおそれがある。好ましくは４％以下である。ＺｒＯ2
を含有する場合、１％以上含有することが好ましい。
【００２５】本発明のガラスは実質的に上記成分からな
るが、この他に以下に例示する成分を、本発明の目的を
損なわない範囲で含有してもよい。上記成分以外の成分
の含有量の合計は１０％以下であることが好ましく、５
％以下であることがより好ましい。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2
Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清澄剤、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｏＯ
等の着色剤、を合量で１％まで含有してもよい。
るが、この他に以下に例示する成分を、本発明の目的を
損なわない範囲で含有してもよい。上記成分以外の成分
の含有量の合計は１０％以下であることが好ましく、５
％以下であることがより好ましい。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2
Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清澄剤、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｏＯ
等の着色剤、を合量で１％まで含有してもよい。
【００２６】熱膨張係数を大きくし、また溶融ガラスの
粘度を低下させガラスを溶融しやすくするためにＺｎ
Ｏ、Ｌｉ2Ｏを合計で２％まで含有してもよい。Ｌｉ2Ｏ
を含有する場合、その含有量は０．１〜１．９％である
ことがより好ましい。Ｌｉ2Ｏの含有量が１．９％超で
は耐候性が低下するおそれがある。より好ましくは１．
５％以下、特に好ましくは１％以下である。ＺｎＯまた
はＬｉ2Ｏを合計で２％まで含有する場合、ＢａＯ、Ｌ
ｉ2Ｏ、Ｎａ 2ＯおよびＫ2Ｏの合量は１４％以下である
ことが好ましい。１４％超では耐候性が低下するおそれ
がある。より好ましくは１３％以下、特に好ましくは１
２％以下である。
粘度を低下させガラスを溶融しやすくするためにＺｎ
Ｏ、Ｌｉ2Ｏを合計で２％まで含有してもよい。Ｌｉ2Ｏ
を含有する場合、その含有量は０．１〜１．９％である
ことがより好ましい。Ｌｉ2Ｏの含有量が１．９％超で
は耐候性が低下するおそれがある。より好ましくは１．
５％以下、特に好ましくは１％以下である。ＺｎＯまた
はＬｉ2Ｏを合計で２％まで含有する場合、ＢａＯ、Ｌ
ｉ2Ｏ、Ｎａ 2ＯおよびＫ2Ｏの合量は１４％以下である
ことが好ましい。１４％超では耐候性が低下するおそれ
がある。より好ましくは１３％以下、特に好ましくは１
２％以下である。
【００２７】ガラスの溶解性や安定性を向上させるため
に、Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を、ヤング率を大きくするために
Ｌａ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3等の希土類金属酸化物を、それらの合
量で２％まで含有してもよい。
に、Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を、ヤング率を大きくするために
Ｌａ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3等の希土類金属酸化物を、それらの合
量で２％まで含有してもよい。
【００２８】本発明のガラス基板は、磁気ディスク、光
ディスク等の情報記録媒体、ＰＤＰ、ＦＥＤ等のフラッ
トディスプレイ、等の基板として用いられる。本発明の
ガラス基板は本発明の基板用ガラスからなり、表面を充
分洗浄して付着物が認められない状態にした後、１２０
℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したとき、該
ガラス基板表面に存在する大きさが１０μｍ以上の付着
物の数ＮLは１個／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以
上１０μｍ未満の付着物の数Ｎ Sは１０5個／ｃｍ2以下
である。
ディスク等の情報記録媒体、ＰＤＰ、ＦＥＤ等のフラッ
トディスプレイ、等の基板として用いられる。本発明の
ガラス基板は本発明の基板用ガラスからなり、表面を充
分洗浄して付着物が認められない状態にした後、１２０
℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したとき、該
ガラス基板表面に存在する大きさが１０μｍ以上の付着
物の数ＮLは１個／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以
上１０μｍ未満の付着物の数Ｎ Sは１０5個／ｃｍ2以下
である。
【００２９】ＮLが１個／ｃｍ2超またはＮSが１０5個／
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、磁気ディスクにおいてはガラ
ス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が
はがれやすくなる。また、フラットディスプレイパネル
においてはガラス基板が曇り、また、端子取り出し部に
発生した前記付着物により絶縁破壊が起こりフラットデ
ィスプレイパネルの信頼性を低下させる。この付着物
は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス基板に
生成付着した反応生成物であると考えられ、拭いても除
去できないものである。ＮLは好ましくは０．５個／ｃ
ｍ2以下、より好ましくは０．２個／ｃｍ2以下である。
ＮSは好ましくは０．８×１０5個／ｃｍ2以下、より好
ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下である。
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、磁気ディスクにおいてはガラ
ス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が
はがれやすくなる。また、フラットディスプレイパネル
においてはガラス基板が曇り、また、端子取り出し部に
発生した前記付着物により絶縁破壊が起こりフラットデ
ィスプレイパネルの信頼性を低下させる。この付着物
は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス基板に
生成付着した反応生成物であると考えられ、拭いても除
去できないものである。ＮLは好ましくは０．５個／ｃ
ｍ2以下、より好ましくは０．２個／ｃｍ2以下である。
ＮSは好ましくは０．８×１０5個／ｃｍ2以下、より好
ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下である。
【００３０】本発明の基板用ガラスおよびガラス基板の
製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。た
とえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となる
ように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バ
ブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化
し、周知のフロート法、プレス法、またダウンドロー法
などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷
後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定
の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、
特に、大量生産に適したフロート法が好適である。
製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。た
とえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となる
ように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バ
ブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化
し、周知のフロート法、プレス法、またダウンドロー法
などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷
後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定
の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、
特に、大量生産に適したフロート法が好適である。
【００３１】
【実施例】各成分の原料を表のＳｉＯ2からＺｒＯ2まで
の欄に質量百分率表示で示した組成となるように調合
し、白金るつぼを用いて１５５０〜１６５０℃の温度で
３〜５時間溶解した。次いで溶融ガラスを流し出して板
状に成形し、徐冷した。なお、表のＲＯ計は、ＭｇＯ、
ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの質量百分率表示の含有量
の合計である。
の欄に質量百分率表示で示した組成となるように調合
し、白金るつぼを用いて１５５０〜１６５０℃の温度で
３〜５時間溶解した。次いで溶融ガラスを流し出して板
状に成形し、徐冷した。なお、表のＲＯ計は、ＭｇＯ、
ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの質量百分率表示の含有量
の合計である。
【００３２】こうして得られたガラス板について、熱膨
張係数α（単位：×１０-7／℃）、前記ＮL（単位：個
／ｃｍ2）、前記ＮS（単位：１０4個／ｃｍ2）、密度ρ
（単位：ｇ／ｃｍ3）、ガラス転移点Ｔg（単位：℃）、
液相温度ＴL（単位：℃）、粘度が１０4Ｐとなる温度Ｔ
4（単位：℃）、および粘度が１０2Ｐとなる温度Ｔ
2（単位：℃）を、以下に示す方法により測定した。結
果を表に示す。なお、表中の「−」は測定しなかったこ
とを示す。
張係数α（単位：×１０-7／℃）、前記ＮL（単位：個
／ｃｍ2）、前記ＮS（単位：１０4個／ｃｍ2）、密度ρ
（単位：ｇ／ｃｍ3）、ガラス転移点Ｔg（単位：℃）、
液相温度ＴL（単位：℃）、粘度が１０4Ｐとなる温度Ｔ
4（単位：℃）、および粘度が１０2Ｐとなる温度Ｔ
2（単位：℃）を、以下に示す方法により測定した。結
果を表に示す。なお、表中の「−」は測定しなかったこ
とを示す。
【００３３】α：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを
参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際の
ガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測
されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、得られ
た熱膨張曲線から５０〜３５０℃における平均線膨張係
数を算出した。
参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際の
ガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測
されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、得られ
た熱膨張曲線から５０〜３５０℃における平均線膨張係
数を算出した。
【００３４】ＮL、ＮS：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４
ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カル
シウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命
試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１
０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気
圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラ
ス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察
し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１
μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントし、こ
れら個数と前記観察面積２００μｍ×２００μｍから算
出した。
ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カル
シウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命
試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１
０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気
圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラ
ス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察
し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１
μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントし、こ
れら個数と前記観察面積２００μｍ×２００μｍから算
出した。
【００３５】ρ：アルキメデス法により測定した。 Ｔg：前記αの測定と同様にして得られた熱膨張曲線に
おける屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。 ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、
このガラス粒を白金ボートに並べて置き、温度傾斜炉中
で２４時間熱処理した。結晶が析出しているガラス粒の
温度の最高値を液相温度とした。フロート成形を行うた
めには、ＴLはＴ4以下であることが好ましい。 Ｔ4、Ｔ2：回転粘度計により測定した。
おける屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。 ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、
このガラス粒を白金ボートに並べて置き、温度傾斜炉中
で２４時間熱処理した。結晶が析出しているガラス粒の
温度の最高値を液相温度とした。フロート成形を行うた
めには、ＴLはＴ4以下であることが好ましい。 Ｔ4、Ｔ2：回転粘度計により測定した。
【００３６】例１〜１５のガラスは実施例である。例１
６のガラスはソーダライムシリカガラス、例１７のガラ
スは磁気ディスクに従来使用されているアルミノシリケ
ートガラス、例１８のガラスはＰＤＰに従来使用されて
いるアルミノシリケートガラス、例１９〜２１のガラス
は米国特許第５７８０３７１号明細書に記載されている
磁気ディスク用の化学強化ガラスであり、アルミノシリ
ケートガラスである。例１６〜２１のガラスはいずれも
比較例である。
６のガラスはソーダライムシリカガラス、例１７のガラ
スは磁気ディスクに従来使用されているアルミノシリケ
ートガラス、例１８のガラスはＰＤＰに従来使用されて
いるアルミノシリケートガラス、例１９〜２１のガラス
は米国特許第５７８０３７１号明細書に記載されている
磁気ディスク用の化学強化ガラスであり、アルミノシリ
ケートガラスである。例１６〜２１のガラスはいずれも
比較例である。
【００３７】
【表１】
【００３８】
【表２】
【００３９】
【表３】
【００４０】
【発明の効果】本発明によれば、以下のような特長を有
する情報記録媒体用ガラス基板、フラットディスプレイ
用ガラス基板を提供できる。 （１）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に
付着物（白ヤケ）が発生しにくい。 （２）熱膨張係数が従来使用されているソーダライムシ
リカガラスと同程度またはそれ以上である。 （３）ガラス転移点が高く、情報記録媒体の記録密度を
増加させることができ、またフラットディスプレイ画像
をより精細にできる。
する情報記録媒体用ガラス基板、フラットディスプレイ
用ガラス基板を提供できる。 （１）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に
付着物（白ヤケ）が発生しにくい。 （２）熱膨張係数が従来使用されているソーダライムシ
リカガラスと同程度またはそれ以上である。 （３）ガラス転移点が高く、情報記録媒体の記録密度を
増加させることができ、またフラットディスプレイ画像
をより精細にできる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/73 Ｇ１１Ｂ 5/73 7/24 ５２６ 7/24 ５２６Ｖ
Claims (7)
- 【請求項１】質量百分率表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ４０〜５９％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜２０％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜８％、 ＭｇＯ ０〜１０％、 ＣａＯ ０〜１２％、 ＳｒＯ ２〜２０％、 ＢａＯ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜１２％、 ＴｉＯ2 ０〜１０％、 ＺｒＯ2 ０〜５％、 からなり、かつ、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ≧１
５％である基板用ガラス。 - 【請求項２】Ｌｉ2ＯまたはＺｎＯを含有し、Ｌｉ2Ｏ＋
ＺｎＯ≦２％である請求項１に記載の基板用ガラス。 - 【請求項３】ＢａＯ＋Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ≦１４
％である請求項２に記載の基板用ガラス。 - 【請求項４】Ａｌ2Ｏ3＋ＴｉＯ2≧１１％である請求項
１、２または３に記載の基板用ガラス。 - 【請求項５】５０〜３５０℃における平均線膨張係数が
７０×１０-7／℃以上である請求項１、２、３または４
に記載の基板用ガラス。 - 【請求項６】ガラス転移点が６００℃以上である請求項
１〜５のいずれかに記載の基板用ガラス。 - 【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の基板用ガ
ラスからなるガラス基板であって、１２０℃、２気圧の
水蒸気雰囲気に２０時間保持した該ガラス基板表面に存
在する大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ
2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着
物の数が１０5個／ｃｍ2以下であるガラス基板。
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|---|---|---|---|
| JP2000164557A JP4635297B2 (ja) | 1999-06-08 | 2000-06-01 | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-161638 | 1999-06-08 | ||
| JP16163899 | 1999-06-08 | ||
| JP2000164557A JP4635297B2 (ja) | 1999-06-08 | 2000-06-01 | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001058843A true JP2001058843A (ja) | 2001-03-06 |
| JP4635297B2 JP4635297B2 (ja) | 2011-02-23 |
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|---|---|---|---|
| JP2000164557A Expired - Fee Related JP4635297B2 (ja) | 1999-06-08 | 2000-06-01 | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
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|---|---|
| JP (1) | JP4635297B2 (ja) |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002255585A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Hitachi Ltd | 情報記録ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板を用いた情報記録ディスク |
| JP2003054984A (ja) * | 2001-08-13 | 2003-02-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
| WO2008117758A1 (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Asahi Glass Company, Limited | データ記憶媒体用基板ガラスおよびガラス基板 |
| US7462411B2 (en) | 2002-06-03 | 2008-12-09 | Hoya Corporation | Substrate for information recording medium, information recording medium and process for producing the same |
| JP2009051824A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-03-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス組成物およびそれを用いた歯科用組成物 |
| WO2009096611A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-08-06 | Asahi Glass Company, Limited | 基板用ガラス組成物 |
| US7687419B2 (en) | 2004-03-25 | 2010-03-30 | Konica Minolta Opto, Inc. | Glass composition, glass susbstrate employing it for an information recording medium, and information recording medium employing it |
| WO2010073799A1 (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-01 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板及びその製造方法 |
| US7767929B2 (en) | 2003-02-04 | 2010-08-03 | Asahi Glass Company, Limited | Method for removing foreign matter on glass substrate surface |
| JP2010275126A (ja) * | 2008-05-30 | 2010-12-09 | Asahi Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用ガラス板 |
| WO2011019010A1 (ja) | 2009-08-10 | 2011-02-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
| JP2012022200A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Asahi Glass Co Ltd | ディスプレイ装置 |
| WO2013125507A1 (ja) * | 2012-02-20 | 2013-08-29 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス |
| WO2013133273A1 (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-12 | 旭硝子株式会社 | Ｃｕ－Ｉｎ－Ｇａ－Ｓｅ太陽電池用ガラス基板およびそれを用いた太陽電池 |
| JP2014508703A (ja) * | 2010-03-18 | 2014-04-10 | 楊徳寧 | 板ガラス及び調合方法 |
| US8824248B2 (en) | 2012-05-16 | 2014-09-02 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate and usage thereof |
| US8885447B2 (en) | 2012-03-29 | 2014-11-11 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use |
| US9688573B2 (en) | 2013-06-20 | 2017-06-27 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass composition, chemically strengthened glass, and glass substrate for information recording medium |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04325435A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-13 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
| JPH0912333A (ja) * | 1995-04-27 | 1997-01-14 | A G Technol Kk | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク |
| JPH1025130A (ja) * | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 基板用ガラス |
| JPH1025128A (ja) * | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 基板用ガラス |
| JPH1072237A (ja) * | 1996-06-03 | 1998-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
| JPH11322358A (ja) * | 1998-05-20 | 1999-11-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 耐熱性ガラス組成物 |
| JP2000351649A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-19 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
| JP2001348246A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-18 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
-
2000
- 2000-06-01 JP JP2000164557A patent/JP4635297B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04325435A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-13 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
| JPH0912333A (ja) * | 1995-04-27 | 1997-01-14 | A G Technol Kk | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク |
| JPH1072237A (ja) * | 1996-06-03 | 1998-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
| JPH1025130A (ja) * | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 基板用ガラス |
| JPH1025128A (ja) * | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 基板用ガラス |
| JPH11322358A (ja) * | 1998-05-20 | 1999-11-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 耐熱性ガラス組成物 |
| JP2000351649A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-19 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
| JP2001348246A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-18 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002255585A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Hitachi Ltd | 情報記録ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板を用いた情報記録ディスク |
| JP2003054984A (ja) * | 2001-08-13 | 2003-02-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
| US7462411B2 (en) | 2002-06-03 | 2008-12-09 | Hoya Corporation | Substrate for information recording medium, information recording medium and process for producing the same |
| US7767929B2 (en) | 2003-02-04 | 2010-08-03 | Asahi Glass Company, Limited | Method for removing foreign matter on glass substrate surface |
| US7687419B2 (en) | 2004-03-25 | 2010-03-30 | Konica Minolta Opto, Inc. | Glass composition, glass susbstrate employing it for an information recording medium, and information recording medium employing it |
| US7803472B2 (en) | 2007-03-23 | 2010-09-28 | Asahi Glass Company, Limited | Substrate glass for data storage medium and glass substrate |
| WO2008117758A1 (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Asahi Glass Company, Limited | データ記憶媒体用基板ガラスおよびガラス基板 |
| CN102320742A (zh) * | 2007-03-23 | 2012-01-18 | 旭硝子株式会社 | 数据存储介质用基板玻璃及玻璃基板 |
| JP5263152B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2013-08-14 | 旭硝子株式会社 | データ記憶媒体用基板ガラスおよびガラス基板 |
| JP2009051824A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-03-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス組成物およびそれを用いた歯科用組成物 |
| CN101959819A (zh) * | 2008-02-27 | 2011-01-26 | 旭硝子株式会社 | 基板用玻璃组合物 |
| JP5392096B2 (ja) * | 2008-02-27 | 2014-01-22 | 旭硝子株式会社 | 基板用ガラス組成物 |
| WO2009096611A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-08-06 | Asahi Glass Company, Limited | 基板用ガラス組成物 |
| US8349751B2 (en) | 2008-02-27 | 2013-01-08 | Asahi Glass Company, Limited | Glass composition for substrates |
| KR101273782B1 (ko) | 2008-02-27 | 2013-06-12 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 기판용 유리 조성물 |
| JP2010275126A (ja) * | 2008-05-30 | 2010-12-09 | Asahi Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用ガラス板 |
| WO2010073799A1 (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-01 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板及びその製造方法 |
| CN102256908A (zh) * | 2008-12-25 | 2011-11-23 | 旭硝子株式会社 | 玻璃基板及其制造方法 |
| US8324124B2 (en) | 2008-12-25 | 2012-12-04 | Asahi Glass Company, Limited | Glass substrate and its production process |
| JP5668477B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板及びその製造方法 |
| US8603653B2 (en) | 2009-08-10 | 2013-12-10 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium substrate and method of manufacturing the same, and magnetic recording medium |
| WO2011019010A1 (ja) | 2009-08-10 | 2011-02-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
| JP2014508703A (ja) * | 2010-03-18 | 2014-04-10 | 楊徳寧 | 板ガラス及び調合方法 |
| JP2012022200A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Asahi Glass Co Ltd | ディスプレイ装置 |
| WO2013125507A1 (ja) * | 2012-02-20 | 2013-08-29 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス |
| WO2013133273A1 (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-12 | 旭硝子株式会社 | Ｃｕ－Ｉｎ－Ｇａ－Ｓｅ太陽電池用ガラス基板およびそれを用いた太陽電池 |
| JPWO2013133273A1 (ja) * | 2012-03-07 | 2015-07-30 | 旭硝子株式会社 | Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ太陽電池用ガラス基板およびそれを用いた太陽電池 |
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