JP2000159540A - 情報記録媒体基板用ガラス - Google Patents
情報記録媒体基板用ガラスInfo
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- JP2000159540A JP2000159540A JP32988198A JP32988198A JP2000159540A JP 2000159540 A JP2000159540 A JP 2000159540A JP 32988198 A JP32988198 A JP 32988198A JP 32988198 A JP32988198 A JP 32988198A JP 2000159540 A JP2000159540 A JP 2000159540A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】破壊じん性が大きい情報記録媒体基板用ガラス
を得る。 【解決手段】外径が６５ｍｍ超のドーナツ盤状の情報記
録媒体基板に用いられるガラスであって、２０℃におけ
る酸素原子密度が７．９×１０-2モル／ｃｍ3以上であ
る情報記録媒体基板用ガラス。
を得る。 【解決手段】外径が６５ｍｍ超のドーナツ盤状の情報記
録媒体基板に用いられるガラスであって、２０℃におけ
る酸素原子密度が７．９×１０-2モル／ｃｍ3以上であ
る情報記録媒体基板用ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、破壊の進行に対す
る抵抗力が大きい情報記録媒体基板用ガラス、すなわち
破壊じん性の大きな情報記録媒体基板用ガラス、特に磁
気ディスク基板用ガラスに関する。
る抵抗力が大きい情報記録媒体基板用ガラス、すなわち
破壊じん性の大きな情報記録媒体基板用ガラス、特に磁
気ディスク基板用ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、情報記録媒体基板、たとえば磁気
ディスク（ハードディスク）基板材料としては、アルミ
ニウム、ガラス、セラミックス、カーボンなどが用いら
れてきた。現在では、サイズや用途に応じて主にアルミ
ニウムおよびガラスが実用化されている。なかでもガラ
ス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れているた
め、その使用範囲が拡大してきている。
ディスク（ハードディスク）基板材料としては、アルミ
ニウム、ガラス、セラミックス、カーボンなどが用いら
れてきた。現在では、サイズや用途に応じて主にアルミ
ニウムおよびガラスが実用化されている。なかでもガラ
ス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れているた
め、その使用範囲が拡大してきている。
【０００３】情報記録媒体基板として用いられるガラス
として、窓ガラス等に広く用いられているソーダライム
シリカガラス、ガラス表面をイオン交換で強化して用い
る化学強化用ガラス（特開平１０−１３２９、等）、結
晶化ガラス、等が知られている。
として、窓ガラス等に広く用いられているソーダライム
シリカガラス、ガラス表面をイオン交換で強化して用い
る化学強化用ガラス（特開平１０−１３２９、等）、結
晶化ガラス、等が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ハードディスクドライ
ブにおいては、近年、高記録密度化に加えて読み書き
（ｒｅａｄ／ｗｒｉｔｅ）速度の向上が求められてお
り、ディスク回転の高速化が提言されている。現在のデ
ィスク回転数は７２００ｒｐｍ程度であるが、将来的に
は１５０００ｒｐｍ、さらにはそれ以上にすることが予
想され、特に大量のデータ処理が必要なサーバー用のハ
ードディスクドライブにはこの要求が強くなると予想さ
れる。
ブにおいては、近年、高記録密度化に加えて読み書き
（ｒｅａｄ／ｗｒｉｔｅ）速度の向上が求められてお
り、ディスク回転の高速化が提言されている。現在のデ
ィスク回転数は７２００ｒｐｍ程度であるが、将来的に
は１５０００ｒｐｍ、さらにはそれ以上にすることが予
想され、特に大量のデータ処理が必要なサーバー用のハ
ードディスクドライブにはこの要求が強くなると予想さ
れる。
【０００５】ディスク基板材料として従来、アルミニウ
ムが主として使用されているが、耐衝撃性などの機械的
強度、または表面平滑性においてガラスなど他の材料に
劣り、機械的信頼性が不十分である。これに対しガラス
は耐衝撃性などの機械的強度、または表面平滑性におい
て優れているためアルミニウムに代替する材料として注
目され、ノートブックパソコン等、特に耐衝撃性が求め
られる場合に使用されている。そのディスクはいわゆる
２．５インチディスクであり、そのディスク基板の外径
は６５ｍｍである。
ムが主として使用されているが、耐衝撃性などの機械的
強度、または表面平滑性においてガラスなど他の材料に
劣り、機械的信頼性が不十分である。これに対しガラス
は耐衝撃性などの機械的強度、または表面平滑性におい
て優れているためアルミニウムに代替する材料として注
目され、ノートブックパソコン等、特に耐衝撃性が求め
られる場合に使用されている。そのディスクはいわゆる
２．５インチディスクであり、そのディスク基板の外径
は６５ｍｍである。
【０００６】一方、現在サーバー用のディスクとしては
いわゆる３インチディスクまたは３．５インチディスク
が用いられている。ディスク基板の外径は、前者におい
ては８４ｍｍ、後者においては９５ｍｍである。サーバ
ーにとってデータの破損は致命的なトラブルとなるた
め、基板材料には高い機械的信頼性が要求される。先に
挙げた化学強化用ガラスまたは結晶化ガラスをディスク
基板材料として用いた場合、特に高速回転時にディスク
の割れが発生しやすく、サーバー用ディスク基板材料と
して用いるには機械的信頼性が不十分である。また、結
晶化ガラスをディスク基板材料として用いた場合には化
学強化用ガラスに比べ表面平滑性が劣り、高記録密度化
に対応できない。
いわゆる３インチディスクまたは３．５インチディスク
が用いられている。ディスク基板の外径は、前者におい
ては８４ｍｍ、後者においては９５ｍｍである。サーバ
ーにとってデータの破損は致命的なトラブルとなるた
め、基板材料には高い機械的信頼性が要求される。先に
挙げた化学強化用ガラスまたは結晶化ガラスをディスク
基板材料として用いた場合、特に高速回転時にディスク
の割れが発生しやすく、サーバー用ディスク基板材料と
して用いるには機械的信頼性が不十分である。また、結
晶化ガラスをディスク基板材料として用いた場合には化
学強化用ガラスに比べ表面平滑性が劣り、高記録密度化
に対応できない。
【０００７】サーバー用のディスク基板は、従来よりガ
ラスが使われていた外径２．５インチ相当のディスク基
板に比べ大きく、したがって表面積も大きくなるため、
ガラスの破壊原因となるキズの存在確率も高い。
ラスが使われていた外径２．５インチ相当のディスク基
板に比べ大きく、したがって表面積も大きくなるため、
ガラスの破壊原因となるキズの存在確率も高い。
【０００８】また、磁気ディスク用基板としてガラスを
用いる場合、円形加工、芯抜き、内外周面面取り（チャ
ンファリング）、等多数のガラス加工処理が必要とな
る。これらのガラス加工処理中に、ガラスのエッジ部に
はガラスの破壊原因となるキズがつくのが通常である。
この問題を解決すべく、たとえば特開平９−３０１７３
３には、密度が小さく、かつキズがつきにくい基板用ガ
ラスが開示されている。しかしキズがつきにくいという
特性は、破壊起点となるキズがガラス加工処理後の製造
工程においてキズがつく場合には有効であるが、キズが
前記製造工程前の切断等のガラス加工処理中にキズがつ
く場合には必ずしも有効とはいえない。
用いる場合、円形加工、芯抜き、内外周面面取り（チャ
ンファリング）、等多数のガラス加工処理が必要とな
る。これらのガラス加工処理中に、ガラスのエッジ部に
はガラスの破壊原因となるキズがつくのが通常である。
この問題を解決すべく、たとえば特開平９−３０１７３
３には、密度が小さく、かつキズがつきにくい基板用ガ
ラスが開示されている。しかしキズがつきにくいという
特性は、破壊起点となるキズがガラス加工処理後の製造
工程においてキズがつく場合には有効であるが、キズが
前記製造工程前の切断等のガラス加工処理中にキズがつ
く場合には必ずしも有効とはいえない。
【０００９】キズが多く存在するガラスの破壊を防止す
るには、本質的に引張応力による破壊の進行に対する抵
抗力が高いガラス、すなわち破壊じん性が大きいガラス
を提供する必要がある。本発明は以上の課題を解決する
情報記録媒体基板用ガラスの提供を目的とする。
るには、本質的に引張応力による破壊の進行に対する抵
抗力が高いガラス、すなわち破壊じん性が大きいガラス
を提供する必要がある。本発明は以上の課題を解決する
情報記録媒体基板用ガラスの提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、外径が６５ｍ
ｍ超のドーナツ盤状の情報記録媒体基板に用いられるガ
ラスであって、２０℃における酸素原子密度が７．９×
１０-2モル／ｃｍ3以上である情報記録媒体基板用ガラ
ス（第１の態様）、および、ドーナツ盤状の情報記録媒
体基板に用いられるガラスであって、２０℃における酸
素原子密度が８．５７×１０-2モル／ｃｍ3以上である
情報記録媒体基板用ガラス（第２の態様）、を提供す
る。
ｍ超のドーナツ盤状の情報記録媒体基板に用いられるガ
ラスであって、２０℃における酸素原子密度が７．９×
１０-2モル／ｃｍ3以上である情報記録媒体基板用ガラ
ス（第１の態様）、および、ドーナツ盤状の情報記録媒
体基板に用いられるガラスであって、２０℃における酸
素原子密度が８．５７×１０-2モル／ｃｍ3以上である
情報記録媒体基板用ガラス（第２の態様）、を提供す
る。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明でいう情報記録媒体基板用
ガラスとは、磁気ディスク、光ディスク、等の情報記録
媒体の基板に用いられるガラスである。
ガラスとは、磁気ディスク、光ディスク、等の情報記録
媒体の基板に用いられるガラスである。
【００１２】本発明において、２０℃における酸素原子
密度（以下単に酸素原子密度という。）Ｄは、成分Ａi
とそのモル分率Ｃiにより表わされるガラス組成および
２０℃におけるガラスの密度（ｄ、単位はｇ／ｃｍ3）
から次のようにして算出される。単位はモル／ｃｍ3で
ある。各成分の分子量をｍi、各成分のモル分率の百分
率表示すなわちモル％表示をｃi、各成分の酸素数を
ｘi、ガラスの平均分子量をｍ、とする。ここで、ｍ＝
Σ（ｍi×ｃi／１００）、ｃi＝Ｃi×１００であり、Σ
はガラスのすべての成分について足し上げることを意味
する記号である。 Ｄ＝ｄ×Σ（ｘi×ｃi／１００）／ｍ 前記酸素原子密度とガラスの破壊じん性との間には強い
相関がある。すなわち、酸素原子密度増加とともに破壊
じん性も大きくなる。この理由は明らかではないが、酸
素原子が密に詰まった構造を持つガラスにおいては、破
壊の進行に対する抵抗力が高くなる、すなわち破壊じん
性が大きくなる、と解釈できる。
密度（以下単に酸素原子密度という。）Ｄは、成分Ａi
とそのモル分率Ｃiにより表わされるガラス組成および
２０℃におけるガラスの密度（ｄ、単位はｇ／ｃｍ3）
から次のようにして算出される。単位はモル／ｃｍ3で
ある。各成分の分子量をｍi、各成分のモル分率の百分
率表示すなわちモル％表示をｃi、各成分の酸素数を
ｘi、ガラスの平均分子量をｍ、とする。ここで、ｍ＝
Σ（ｍi×ｃi／１００）、ｃi＝Ｃi×１００であり、Σ
はガラスのすべての成分について足し上げることを意味
する記号である。 Ｄ＝ｄ×Σ（ｘi×ｃi／１００）／ｍ 前記酸素原子密度とガラスの破壊じん性との間には強い
相関がある。すなわち、酸素原子密度増加とともに破壊
じん性も大きくなる。この理由は明らかではないが、酸
素原子が密に詰まった構造を持つガラスにおいては、破
壊の進行に対する抵抗力が高くなる、すなわち破壊じん
性が大きくなる、と解釈できる。
【００１３】本発明の第１の態様は、外径が６５ｍｍ超
のドーナツ盤状の情報記録媒体基板に用いられるガラス
に関するものである。以下、ドーナツ盤状の情報記録媒
体基板を単に情報記録媒体基板という。また、外径が６
５ｍｍの情報記録媒体基板は通常２．５インチサイズと
呼ばれている基板である。酸素原子密度が７．９×１０
-2モル／ｃｍ3未満では、破壊じん性が小さくなりす
ぎ、外径が６５ｍｍ超の情報記録媒体基板として使用す
ることが困難になるおそれがある。好ましくは８．０×
１０-2モル／ｃｍ3以上、より好ましくは８．２×１０
-2モル／ｃｍ3以上である。
のドーナツ盤状の情報記録媒体基板に用いられるガラス
に関するものである。以下、ドーナツ盤状の情報記録媒
体基板を単に情報記録媒体基板という。また、外径が６
５ｍｍの情報記録媒体基板は通常２．５インチサイズと
呼ばれている基板である。酸素原子密度が７．９×１０
-2モル／ｃｍ3未満では、破壊じん性が小さくなりす
ぎ、外径が６５ｍｍ超の情報記録媒体基板として使用す
ることが困難になるおそれがある。好ましくは８．０×
１０-2モル／ｃｍ3以上、より好ましくは８．２×１０
-2モル／ｃｍ3以上である。
【００１４】本態様のガラスは、実質的にモル％表示
で、 ＳｉＯ2 ３０〜６０、 Ａｌ2Ｏ3 ４〜４０、 Ｂ2Ｏ3 ０．５〜２０、 ＭｇＯ ０〜４０、 ＣａＯ ０〜２０、 Ｌｉ2Ｏ ０〜１２、 ＺｒＯ2 ０〜１０、 ＴｉＯ2 ０〜２０、 Ｙ2Ｏ3 ０〜１５、 Ｔａ2Ｏ5 ０〜１０、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜１０、 Ｌａ2Ｏ5 ０〜１０、 からなることが好ましい。上記組成に限定した理由を以
下に述べる。
で、 ＳｉＯ2 ３０〜６０、 Ａｌ2Ｏ3 ４〜４０、 Ｂ2Ｏ3 ０．５〜２０、 ＭｇＯ ０〜４０、 ＣａＯ ０〜２０、 Ｌｉ2Ｏ ０〜１２、 ＺｒＯ2 ０〜１０、 ＴｉＯ2 ０〜２０、 Ｙ2Ｏ3 ０〜１５、 Ｔａ2Ｏ5 ０〜１０、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜１０、 Ｌａ2Ｏ5 ０〜１０、 からなることが好ましい。上記組成に限定した理由を以
下に述べる。
【００１５】ＳｉＯ2はネットワークフォーマーであり
必須である。３０モル％未満ではガラスの安定性が低下
する。好ましくは３２モル％以上である。６０モル％超
では酸素原子密度が小さくなりすぎる。好ましくは５８
モル％以下である。
必須である。３０モル％未満ではガラスの安定性が低下
する。好ましくは３２モル％以上である。６０モル％超
では酸素原子密度が小さくなりすぎる。好ましくは５８
モル％以下である。
【００１６】Ａｌ2Ｏ3は酸素原子密度増大に有効な成分
であり必須である。４モル％未満では酸素原子密度が小
さくなりすぎる。好ましくは６モル％以上である。４０
モル％超ではガラスの溶融状態での粘度が大きくなりす
ぎ、溶解が困難になる。好ましくは３８モル％以下であ
る。
であり必須である。４モル％未満では酸素原子密度が小
さくなりすぎる。好ましくは６モル％以上である。４０
モル％超ではガラスの溶融状態での粘度が大きくなりす
ぎ、溶解が困難になる。好ましくは３８モル％以下であ
る。
【００１７】Ｂ2Ｏ3は酸素原子密度増大に有効な成分で
あり必須である。０．５モル％未満では酸素原子密度が
小さくなりすぎる。好ましくは１モル％以上である。２
０モル％超ではガラスの分相化傾向が強くなり、ガラス
の安定性および均質性が低下する。好ましくは１８モル
％以下である。
あり必須である。０．５モル％未満では酸素原子密度が
小さくなりすぎる。好ましくは１モル％以上である。２
０モル％超ではガラスの分相化傾向が強くなり、ガラス
の安定性および均質性が低下する。好ましくは１８モル
％以下である。
【００１８】ＭｇＯは必須ではないが、酸素原子密度増
大のために４０モル％まで含有してもよい。４０モル％
超ではガラスの安定性が低下する。好ましくは３８モル
％以下である。
大のために４０モル％まで含有してもよい。４０モル％
超ではガラスの安定性が低下する。好ましくは３８モル
％以下である。
【００１９】ＣａＯは必須ではないが、ガラスの溶融状
態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために２
０モル％まで含有してもよい。２０モル％超では酸素原
子密度が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは１
８モル％以下である。
態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために２
０モル％まで含有してもよい。２０モル％超では酸素原
子密度が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは１
８モル％以下である。
【００２０】Ｌｉ2Ｏは必須ではないが、ガラスの溶融
状態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために
１２モル％まで含有してもよい。１２モル％超では酸素
原子密度が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは
１０モル％以下である。
状態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために
１２モル％まで含有してもよい。１２モル％超では酸素
原子密度が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは
１０モル％以下である。
【００２１】ＺｒＯ2は必須ではないが、酸素原子密度
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの溶融状態での粘度が大きくなりすぎ、
溶解が困難になるおそれがある。好ましくは８モル％以
下である。
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの溶融状態での粘度が大きくなりすぎ、
溶解が困難になるおそれがある。好ましくは８モル％以
下である。
【００２２】ＴｉＯ2は必須ではないが、酸素原子密度
増大のために２０モル％まで含有してもよい。２０モル
％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ま
しくは１９モル％以下である。
増大のために２０モル％まで含有してもよい。２０モル
％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ま
しくは１９モル％以下である。
【００２３】Ｙ2Ｏ3は必須ではないが、酸素原子密度増
大のために１５モル％まで含有してもよい。１５モル％
超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好まし
くは１４モル％以下である。
大のために１５モル％まで含有してもよい。１５モル％
超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好まし
くは１４モル％以下である。
【００２４】Ｔａ2Ｏ5は必須ではないが、酸素原子密度
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ま
しくは９モル％以下である。
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ま
しくは９モル％以下である。
【００２５】Ｎｂ2Ｏ5は必須ではないが、酸素原子密度
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ま
しくは９モル％以下である。
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ま
しくは９モル％以下である。
【００２６】Ｌａ2Ｏ5は必須ではないが、酸素原子密度
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ま
しくは９モル％以下である。
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ま
しくは９モル％以下である。
【００２７】本態様のガラスは実質的に上記成分からな
るが、以下の各種成分を合量で５モル％まで含有しても
よい。ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、等の清澄剤を合量
で１モル％まで含有してもよい。Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃ
ｏＯ、等の着色剤を合量で１モル％まで含有してもよ
い。
るが、以下の各種成分を合量で５モル％まで含有しても
よい。ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、等の清澄剤を合量
で１モル％まで含有してもよい。Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃ
ｏＯ、等の着色剤を合量で１モル％まで含有してもよ
い。
【００２８】ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯを、ＣａＯと同様
の効果を得るために、またＮａ2Ｏ、Ｋ2Ｏを、Ｌｉ2Ｏ
と同様の効果を得るために、それぞれ１モル％以下、そ
れらの合量が２モル％以下、の範囲で含有してもよい。
前記範囲を超えて含有すると酸素原子密度が小さくなり
すぎるおそれがある。Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5、等を、ガラスの
溶融状態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するた
めに、またはガラスの安定性を向上させるために、含有
してもよい。
の効果を得るために、またＮａ2Ｏ、Ｋ2Ｏを、Ｌｉ2Ｏ
と同様の効果を得るために、それぞれ１モル％以下、そ
れらの合量が２モル％以下、の範囲で含有してもよい。
前記範囲を超えて含有すると酸素原子密度が小さくなり
すぎるおそれがある。Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5、等を、ガラスの
溶融状態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するた
めに、またはガラスの安定性を向上させるために、含有
してもよい。
【００２９】本発明の第２の態様は情報記録媒体基板に
用いられるガラスに関するものである。酸素原子密度が
８．５７×１０-2モル／ｃｍ3未満では、破壊じん性が
小さくなりすぎ、情報記録媒体基板として使用すること
が困難になるおそれがある。
用いられるガラスに関するものである。酸素原子密度が
８．５７×１０-2モル／ｃｍ3未満では、破壊じん性が
小さくなりすぎ、情報記録媒体基板として使用すること
が困難になるおそれがある。
【００３０】本態様のガラスは、実質的にモル％表示
で、 ＳｉＯ2 ３０〜５０、 Ａｌ2Ｏ3 ４〜３０、 Ｂ2Ｏ3 ０．５〜１５、 ＭｇＯ ４〜４０、 ＣａＯ ０〜１５、 Ｌｉ2Ｏ ０〜６、 ＺｒＯ2 ０〜１０、 ＴｉＯ2 ２〜２０、 Ｙ2Ｏ3 ０〜１０、 Ｔａ2Ｏ5 ０〜６、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜６、 Ｌａ2Ｏ5 ０〜６、 からなることが好ましい。上記組成に限定した理由を以
下に述べる。
で、 ＳｉＯ2 ３０〜５０、 Ａｌ2Ｏ3 ４〜３０、 Ｂ2Ｏ3 ０．５〜１５、 ＭｇＯ ４〜４０、 ＣａＯ ０〜１５、 Ｌｉ2Ｏ ０〜６、 ＺｒＯ2 ０〜１０、 ＴｉＯ2 ２〜２０、 Ｙ2Ｏ3 ０〜１０、 Ｔａ2Ｏ5 ０〜６、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜６、 Ｌａ2Ｏ5 ０〜６、 からなることが好ましい。上記組成に限定した理由を以
下に述べる。
【００３１】ＳｉＯ2はネットワークフォーマーであり
必須である。３０モル％未満ではガラスの安定性が低下
する。好ましくは３２モル％以上である。５０モル％超
では酸素原子密度が小さくなりすぎる。好ましくは４８
モル％以下である。
必須である。３０モル％未満ではガラスの安定性が低下
する。好ましくは３２モル％以上である。５０モル％超
では酸素原子密度が小さくなりすぎる。好ましくは４８
モル％以下である。
【００３２】Ａｌ2Ｏ3は酸素原子密度増大に有効な成分
であり必須である。４モル％未満では酸素原子密度が小
さくなりすぎる。好ましくは６モル％以上である。３０
モル％超ではガラスの溶融状態での粘度が大きくなりす
ぎ、溶解が困難になる。好ましくは２８モル％以下であ
る。
であり必須である。４モル％未満では酸素原子密度が小
さくなりすぎる。好ましくは６モル％以上である。３０
モル％超ではガラスの溶融状態での粘度が大きくなりす
ぎ、溶解が困難になる。好ましくは２８モル％以下であ
る。
【００３３】Ｂ2Ｏ3は酸素原子密度増大に有効な成分で
あり必須である。０．５モル％未満では酸素原子密度が
小さくなりすぎる。好ましくは１モル％以上である。１
５モル％超ではガラスの分相化傾向が強くなり、ガラス
の安定性および均質性が低下する。好ましくは１３モル
％以下である。
あり必須である。０．５モル％未満では酸素原子密度が
小さくなりすぎる。好ましくは１モル％以上である。１
５モル％超ではガラスの分相化傾向が強くなり、ガラス
の安定性および均質性が低下する。好ましくは１３モル
％以下である。
【００３４】ＭｇＯは酸素原子密度増大に有効な成分で
あり必須である。４モル％未満では酸素原子密度が小さ
くなりすぎる。好ましくは６モル％以上である。４０モ
ル％超ではガラスの安定性が低下する。好ましくは３８
モル％以下である。
あり必須である。４モル％未満では酸素原子密度が小さ
くなりすぎる。好ましくは６モル％以上である。４０モ
ル％超ではガラスの安定性が低下する。好ましくは３８
モル％以下である。
【００３５】ＣａＯは必須ではないが、ガラスの溶融状
態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために１
５モル％まで含有してもよい。１５モル％超では酸素原
子密度が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは１
３モル％以下である。
態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために１
５モル％まで含有してもよい。１５モル％超では酸素原
子密度が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは１
３モル％以下である。
【００３６】Ｌｉ2Ｏは必須ではないが、ガラスの溶融
状態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために
６モル％まで含有してもよい。６モル％超では酸素原子
密度が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは４モ
ル％以下である。
状態での粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために
６モル％まで含有してもよい。６モル％超では酸素原子
密度が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは４モ
ル％以下である。
【００３７】ＺｒＯ2は必須ではないが、酸素原子密度
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの溶融状態での粘度が大きくなりすぎ、
溶解が困難になるおそれがある。好ましくは８モル％以
下である。
増大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル
％超ではガラスの溶融状態での粘度が大きくなりすぎ、
溶解が困難になるおそれがある。好ましくは８モル％以
下である。
【００３８】ＴｉＯ2は酸素原子密度増大に有効な成分
であり必須である。２モル％未満では酸素原子密度が小
さくなりすぎる。好ましくは４モル％以上である。２０
モル％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。
好ましくは１９モル％以下である。
であり必須である。２モル％未満では酸素原子密度が小
さくなりすぎる。好ましくは４モル％以上である。２０
モル％超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。
好ましくは１９モル％以下である。
【００３９】Ｙ2Ｏ3は必須ではないが、酸素原子密度増
大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル％
超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好まし
くは９モル％以下である。
大のために１０モル％まで含有してもよい。１０モル％
超ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好まし
くは９モル％以下である。
【００４０】Ｔａ2Ｏ5は必須ではないが、酸素原子密度
増大のために６モル％まで含有してもよい。６モル％超
ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ましく
は５モル％以下である。
増大のために６モル％まで含有してもよい。６モル％超
ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ましく
は５モル％以下である。
【００４１】Ｎｂ2Ｏ5は必須ではないが、酸素原子密度
増大のために６モル％まで含有してもよい。６モル％超
ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ましく
は５モル％以下である。
増大のために６モル％まで含有してもよい。６モル％超
ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ましく
は５モル％以下である。
【００４２】Ｌａ2Ｏ5は必須ではないが、酸素原子密度
増大のために６モル％まで含有してもよい。６モル％超
ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ましく
は５モル％以下である。
増大のために６モル％まで含有してもよい。６モル％超
ではガラスの安定性が低下するおそれがある。好ましく
は５モル％以下である。
【００４３】本態様のガラスは実質的に上記成分からな
るが、以下の各種成分を合量で５モル％まで含有しても
よい。ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、等の清澄剤を合量
で１モル％まで含有してもよい。Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃ
ｏＯ、等の着色剤を合量で１モル％まで含有してもよ
い。
るが、以下の各種成分を合量で５モル％まで含有しても
よい。ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、等の清澄剤を合量
で１モル％まで含有してもよい。Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃ
ｏＯ、等の着色剤を合量で１モル％まで含有してもよ
い。
【００４４】ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯをＣａＯと同様の
効果を得るために、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2ＯをＬｉ2Ｏと同様の
効果を得るために、それぞれ１モル％以下、それらの合
量が２モル％以下、の範囲で含有してもよい。前記範囲
を超えて含有すると酸素原子密度が小さくなりすぎるお
それがある。Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を、ガラスの溶融状態で
の粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために、また
はガラスの安定性を向上させるために、含有してもよ
い。
効果を得るために、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2ＯをＬｉ2Ｏと同様の
効果を得るために、それぞれ１モル％以下、それらの合
量が２モル％以下、の範囲で含有してもよい。前記範囲
を超えて含有すると酸素原子密度が小さくなりすぎるお
それがある。Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を、ガラスの溶融状態で
の粘度を小さくしガラスの溶解を促進するために、また
はガラスの安定性を向上させるために、含有してもよ
い。
【００４５】本発明の第１および第２の態様の情報記録
媒体基板用ガラスは、分相現象が起こっていないガラス
であることが好ましい。分相現象が起ると破壊じん性が
小さくなるおそれがあるためである。
媒体基板用ガラスは、分相現象が起こっていないガラス
であることが好ましい。分相現象が起ると破壊じん性が
小さくなるおそれがあるためである。
【００４６】本発明の情報記録媒体基板用ガラスの製造
方法は特に限定されず、各種のガラス製造方法を採用で
きる。たとえば、通常使用される各成分の原料を目標組
成となるように調合し、これを溶解炉中で加熱溶融す
る。バブリング、清澄剤添加、撹拌、等によってガラス
の均質化を行い、周知のプレス法、ダウンドロー法、フ
ロート法などの方法により所定の板厚に成形する。以上
のようにして得られたガラスを徐冷後研削、研磨などの
加工を行い、所定のサイズ・形状の情報記録媒体基板を
得る。
方法は特に限定されず、各種のガラス製造方法を採用で
きる。たとえば、通常使用される各成分の原料を目標組
成となるように調合し、これを溶解炉中で加熱溶融す
る。バブリング、清澄剤添加、撹拌、等によってガラス
の均質化を行い、周知のプレス法、ダウンドロー法、フ
ロート法などの方法により所定の板厚に成形する。以上
のようにして得られたガラスを徐冷後研削、研磨などの
加工を行い、所定のサイズ・形状の情報記録媒体基板を
得る。
【実施例】表１にモル％表示で示した目標組成となるよ
うに原料を調合し、白金ルツボを用いて１５５０〜１６
５０℃で３〜５時間溶解後、溶融ガラスを流し出して板
状に成形し、徐冷した。このようにして得られたガラス
の破壊じん性（単位：ＭＰａ・ｍ1/2）、密度（単位：
ｇ／ｃｍ3）および酸素原子密度（単位：１０-2モル／
ｃｍ3）を、同じく表１に示す。例１、２は実施例、例
３は比較例である。なお、破壊じん性および密度は以下
の方法により測定した。
うに原料を調合し、白金ルツボを用いて１５５０〜１６
５０℃で３〜５時間溶解後、溶融ガラスを流し出して板
状に成形し、徐冷した。このようにして得られたガラス
の破壊じん性（単位：ＭＰａ・ｍ1/2）、密度（単位：
ｇ／ｃｍ3）および酸素原子密度（単位：１０-2モル／
ｃｍ3）を、同じく表１に示す。例１、２は実施例、例
３は比較例である。なお、破壊じん性および密度は以下
の方法により測定した。
【００４７】破壊じん性：シェブロンノッチ法により測
定した。まず、厚み８ｍｍ、幅８ｍｍ、長さ８０ｍｍの
試験片の中央部にシェブロン型ノッチを形成した。次に
テンシロン型強度試験装置を用いて、スパン６４ｍｍに
支持した試験片のノッチ先端から安定破壊が起こるよう
にクロスヘッド速度０．００５ｍｍ／分で４点曲げ試験
を行い、破壊じん性を求めた。水分によるガラスの疲労
効果を避けるため、乾燥Ｎ2雰囲気中で測定を行った。
密度：約２０ｇの試料について、アルキメデス法により
測定した。
定した。まず、厚み８ｍｍ、幅８ｍｍ、長さ８０ｍｍの
試験片の中央部にシェブロン型ノッチを形成した。次に
テンシロン型強度試験装置を用いて、スパン６４ｍｍに
支持した試験片のノッチ先端から安定破壊が起こるよう
にクロスヘッド速度０．００５ｍｍ／分で４点曲げ試験
を行い、破壊じん性を求めた。水分によるガラスの疲労
効果を避けるため、乾燥Ｎ2雰囲気中で測定を行った。
密度：約２０ｇの試料について、アルキメデス法により
測定した。
【００４８】
【表１】
【００４９】
【発明の効果】本発明によれば、破壊じん性が大きい情
報記録媒体基板用ガラスを提供できる。このガラスを用
いた磁気ディスク基板は機械的信頼性においても優れ、
特にサーバー用に好適である。
報記録媒体基板用ガラスを提供できる。このガラスを用
いた磁気ディスク基板は機械的信頼性においても優れ、
特にサーバー用に好適である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０３Ｃ 3/097 Ｃ０３Ｃ 3/097 // Ｇ１１Ｂ 5/73 Ｇ１１Ｂ 5/704 Ｆターム(参考） 4G062 AA18 BB01 BB05 CC10 DA05 DA06 DB03 DB04 DB05 DC02 DC03 DC04 DD01 DE01 DF01 EA01 EA02 EA03 EA04 EA10 EB01 EC01 ED01 ED02 ED03 ED04 ED05 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EG01 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FB04 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FG02 FG03 FH01 FH02 FH03 FJ01 FJ02 FJ03 FJ04 FK01 FK02 FK03 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN33 5D006 CB04 CB07 DA03 FA00
Claims (4)
- 【請求項１】外径が６５ｍｍ超のドーナツ盤状の情報記
録媒体基板に用いられるガラスであって、２０℃におけ
る酸素原子密度が７．９×１０-2モル／ｃｍ3以上であ
る情報記録媒体基板用ガラス。 - 【請求項２】実質的にモル％表示で、 ＳｉＯ2 ３０〜６０、 Ａｌ2Ｏ3 ４〜４０、 Ｂ2Ｏ3 ０．５〜２０、 ＭｇＯ ０〜４０、 ＣａＯ ０〜２０、 Ｌｉ2Ｏ ０〜１２、 ＺｒＯ2 ０〜１０、 ＴｉＯ2 ０〜２０、 Ｙ2Ｏ3 ０〜１５、 Ｔａ2Ｏ5 ０〜１０、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜１０、 Ｌａ2Ｏ5 ０〜１０、 からなる請求項１に記載の情報記録媒体基板用ガラス。
- 【請求項３】ドーナツ盤状の情報記録媒体基板に用いら
れるガラスであって、２０℃における酸素原子密度が
８．５７×１０-2モル／ｃｍ3以上である情報記録媒体
基板用ガラス。 - 【請求項４】実質的にモル％表示で、 ＳｉＯ2 ３０〜５０、 Ａｌ2Ｏ3 ４〜３０、 Ｂ2Ｏ3 ０．５〜１５、 ＭｇＯ ４〜４０、 ＣａＯ ０〜１５、 Ｌｉ2Ｏ ０〜６、 ＺｒＯ2 ０〜１０、 ＴｉＯ2 ２〜２０、 Ｙ2Ｏ3 ０〜１０、 Ｔａ2Ｏ5 ０〜６、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜６、 Ｌａ2Ｏ5 ０〜６、 からなる請求項３に記載の情報記録媒体基板用ガラス。
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|---|---|---|---|
| JP32988198A JP4174883B2 (ja) | 1998-11-19 | 1998-11-19 | 情報記録媒体基板 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2002255585A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Hitachi Ltd | 情報記録ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板を用いた情報記録ディスク |
| DE102009008953A1 (de) | 2009-02-13 | 2010-10-07 | Schott Ag | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
| US8178595B2 (en) | 2009-02-13 | 2012-05-15 | Schott Ag | X-ray opaque barium-free glasses and uses thereof |
| US8222170B2 (en) | 2001-05-31 | 2012-07-17 | Hoya Corporation | Glass substrate for information recording medium and magnetic information recording medium to which the glass substrate is applied |
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| WO2019114499A1 (zh) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | 成都光明光电股份有限公司 | 玻璃组合物 |
| JP2019116417A (ja) * | 2017-12-26 | 2019-07-18 | 日本電気硝子株式会社 | カバーガラス |
| CN110831907A (zh) * | 2017-07-04 | 2020-02-21 | Ａｇｃ株式会社 | 玻璃球 |
| CN111164055A (zh) * | 2017-09-21 | 2020-05-15 | 康宁股份有限公司 | 具有高断裂韧度的透明的可离子交换硅酸盐玻璃 |
| EP1939147B2 (en) † | 2005-10-19 | 2020-06-24 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Radiation shielding glass and method for manufacture thereof |
| US11136258B2 (en) | 2017-10-31 | 2021-10-05 | Corning Incorporated | Peraluminous lithium aluminosilicates with high liquidus viscosity |
| CN113905992A (zh) * | 2019-06-03 | 2022-01-07 | Ａｇｃ株式会社 | 玻璃、化学强化玻璃及其制造方法 |
| US11292741B2 (en) | 2018-12-12 | 2022-04-05 | Corning Incorporated | Ion-exchangeable lithium-containing aluminosilicate glasses |
| US11897808B2 (en) | 2020-08-26 | 2024-02-13 | Corning Incorporated | Tunable glass compositions having improved mechanical durability |
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|---|---|---|---|---|
| CN108929035B (zh) * | 2018-07-02 | 2021-04-30 | 芜湖东旭光电装备技术有限公司 | 玻璃组合物以及高韧性玻璃及其制备方法和应用 |
-
1998
- 1998-11-19 JP JP32988198A patent/JP4174883B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| DE102009008953A1 (de) | 2009-02-13 | 2010-10-07 | Schott Ag | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
| DE102009008953B4 (de) * | 2009-02-13 | 2010-12-30 | Schott Ag | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
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| US8268739B2 (en) | 2009-02-13 | 2012-09-18 | Schott Ag | X-ray opaque barium-free glasses and uses thereof |
| CN110831907A (zh) * | 2017-07-04 | 2020-02-21 | Ａｇｃ株式会社 | 玻璃球 |
| CN111164055A (zh) * | 2017-09-21 | 2020-05-15 | 康宁股份有限公司 | 具有高断裂韧度的透明的可离子交换硅酸盐玻璃 |
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| CN113905992A (zh) * | 2019-06-03 | 2022-01-07 | Ａｇｃ株式会社 | 玻璃、化学强化玻璃及其制造方法 |
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