JPH0912333A - 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクInfo
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- JPH0912333A JPH0912333A JP8101611A JP10161196A JPH0912333A JP H0912333 A JPH0912333 A JP H0912333A JP 8101611 A JP8101611 A JP 8101611A JP 10161196 A JP10161196 A JP 10161196A JP H0912333 A JPH0912333 A JP H0912333A
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- glass
- glass substrate
- peripheral end
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】耐食性、耐アルカリ性、加工性の観点で優れた
磁気ディスク基板を得る。 【解決手段】組成が重量％表示で、ＳｉＯ2 ：５２〜６
５、Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１８、Ｂ2 Ｏ3 ：０〜８、Ｍｇ
Ｏ：０〜１０、ＣａＯ：２〜１５、ＳｒＯ：０〜１５、
ＢａＯ：０〜１６、ＺｎＯ：０〜１２からなり、実質的
にアルカリ金属酸化物を含まないガラスを用いることを
特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
磁気ディスク基板を得る。 【解決手段】組成が重量％表示で、ＳｉＯ2 ：５２〜６
５、Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１８、Ｂ2 Ｏ3 ：０〜８、Ｍｇ
Ｏ：０〜１０、ＣａＯ：２〜１５、ＳｒＯ：０〜１５、
ＢａＯ：０〜１６、ＺｎＯ：０〜１２からなり、実質的
にアルカリ金属酸化物を含まないガラスを用いることを
特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク用ガラ
ス基板および磁気ディスクに関する。
ス基板および磁気ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスクは、基板の上にスパッタ、
メッキ、蒸着等のプロセスにより磁性膜および保護膜が
形成されている。一般にガラスは表面の平滑性に優れ、
硬く、変形抵抗が大きく、かつ表面欠陥が少ない等の理
由から高密度化に適した磁気ディスク用基板として注目
されている。
メッキ、蒸着等のプロセスにより磁性膜および保護膜が
形成されている。一般にガラスは表面の平滑性に優れ、
硬く、変形抵抗が大きく、かつ表面欠陥が少ない等の理
由から高密度化に適した磁気ディスク用基板として注目
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ガラス基板として比較
的安価なソーダライムシリカガラスを用いた場合、この
ガラスはアルカリを含むので、多湿環境下において磁性
膜のピンホール部または磁性膜の周辺部など磁性膜が薄
い部分またはガラスが露出した部分からアルカリイオン
が析出しこれが引き金となって磁性膜が腐食あるいは変
色することが見出されている。
的安価なソーダライムシリカガラスを用いた場合、この
ガラスはアルカリを含むので、多湿環境下において磁性
膜のピンホール部または磁性膜の周辺部など磁性膜が薄
い部分またはガラスが露出した部分からアルカリイオン
が析出しこれが引き金となって磁性膜が腐食あるいは変
色することが見出されている。
【０００４】磁気ディスク用ガラス基板には高温・多湿
環境下やエイジング中に磁性膜の劣化を生起させないこ
とが要求される。前記したようにガラス基板としてアル
カリを含むガラスを用いた場合には、アルカリイオンの
ガラス表面における存在と多湿（特に高温化での）環境
または長期使用によるガラス内部からのアルカリイオン
の表面への移動、析出が磁性膜劣化を誘起するものと思
われる。
環境下やエイジング中に磁性膜の劣化を生起させないこ
とが要求される。前記したようにガラス基板としてアル
カリを含むガラスを用いた場合には、アルカリイオンの
ガラス表面における存在と多湿（特に高温化での）環境
または長期使用によるガラス内部からのアルカリイオン
の表面への移動、析出が磁性膜劣化を誘起するものと思
われる。
【０００５】また、磁気ディスク用ガラス基板として
は、さらに、加工性が高いこと、耐薬品性、特に、耐ア
ルカリ性が高いことが要求される。
は、さらに、加工性が高いこと、耐薬品性、特に、耐ア
ルカリ性が高いことが要求される。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明では前述の問題を
解決するためになされたものであり、組成が重量％表示
で、ＳｉＯ2 ：５２〜６５、Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１８、
Ｂ2 Ｏ3 ：０〜８、ＭｇＯ：０〜１０、ＣａＯ：２〜１
５、ＳｒＯ：０〜１５、ＢａＯ：０〜１６、ＺｎＯ：０
〜１２であるガラスを用いることを特徴とする磁気ディ
スク用ガラス基板を提供するものである。
解決するためになされたものであり、組成が重量％表示
で、ＳｉＯ2 ：５２〜６５、Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１８、
Ｂ2 Ｏ3 ：０〜８、ＭｇＯ：０〜１０、ＣａＯ：２〜１
５、ＳｒＯ：０〜１５、ＢａＯ：０〜１６、ＺｎＯ：０
〜１２であるガラスを用いることを特徴とする磁気ディ
スク用ガラス基板を提供するものである。
【０００７】このガラスは、アルカリの含有量が実質上
ゼロであり、基板上の磁性膜の腐食は完全に解決され
る。一方で、本発明の基板はアルカリ金属の酸化物を含
まないため、化学強化ができない。したがって、磁気デ
ィスク用の基板として充分な強度を得るためには、ある
程度深いエッチング処理を施すことが望ましい。後の実
施例で述べるように、ガラス板を５μｍ以上、好ましく
は１０μｍ以上エッチングする工程を含むことにより、
磁気ディスクとして使用可能と思われる強度が得られる
ことがわかった。
ゼロであり、基板上の磁性膜の腐食は完全に解決され
る。一方で、本発明の基板はアルカリ金属の酸化物を含
まないため、化学強化ができない。したがって、磁気デ
ィスク用の基板として充分な強度を得るためには、ある
程度深いエッチング処理を施すことが望ましい。後の実
施例で述べるように、ガラス板を５μｍ以上、好ましく
は１０μｍ以上エッチングする工程を含むことにより、
磁気ディスクとして使用可能と思われる強度が得られる
ことがわかった。
【０００８】このような状況下で、本発明の基板は、高
いエッチングレートを有するために、加工性が高い利点
がある。一方で、耐アルカリ性については、従来のソー
ダライムシリカガラスなみに高い。以上のように、本発
明の基板は、総合的に磁気ディスク用基板として適した
ものである。
いエッチングレートを有するために、加工性が高い利点
がある。一方で、耐アルカリ性については、従来のソー
ダライムシリカガラスなみに高い。以上のように、本発
明の基板は、総合的に磁気ディスク用基板として適した
ものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明におけるガラス基板の各化
学成分について説明する。
学成分について説明する。
【００１０】ＳｉＯ2 はガラスのネットワークフォーマ
ーであり、５２重量％（以下、単に％という）未満では
化学的耐久性が低下し、６５％を超えると溶解が困難と
なる。好ましくは、５２〜６０％、特に好ましくは、５
５〜６０％である。
ーであり、５２重量％（以下、単に％という）未満では
化学的耐久性が低下し、６５％を超えると溶解が困難と
なる。好ましくは、５２〜６０％、特に好ましくは、５
５〜６０％である。
【００１１】Ａｌ2 Ｏ3 はガラスの分相性を抑制し、化
学的耐久性を向上させる作用があり、１０％以上は必要
である。一方、１８％を超えると溶解が困難となる。好
ましくは１０〜１５％である。
学的耐久性を向上させる作用があり、１０％以上は必要
である。一方、１８％を超えると溶解が困難となる。好
ましくは１０〜１５％である。
【００１２】Ｂ2 Ｏ3 は、必須ではないが、ガラスの粘
性を下げ、溶解性、成形性を向上させるために含有でき
る。８％を超えるとガラスが分層しやすくなり、また、
化学的耐久性が低下する。好ましくは、２〜８％であ
る。
性を下げ、溶解性、成形性を向上させるために含有でき
る。８％を超えるとガラスが分層しやすくなり、また、
化学的耐久性が低下する。好ましくは、２〜８％であ
る。
【００１３】ＭｇＯは、必須ではないが、ガラスの熱膨
張係数を低下させる効果があるため含有できる。１０％
を超えると分相が起きやすくなる。好ましくは、１〜５
％である。
張係数を低下させる効果があるため含有できる。１０％
を超えると分相が起きやすくなる。好ましくは、１〜５
％である。
【００１４】ＣａＯは、溶融性を向上させ失透温度を抑
制する効果があるが、２％未満では効果が不充分であ
り、１５％を超えるとＣａＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ＳｉＯ2 の
結晶が析出するおそれがある。好ましくは、２〜１０％
である。
制する効果があるが、２％未満では効果が不充分であ
り、１５％を超えるとＣａＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ＳｉＯ2 の
結晶が析出するおそれがある。好ましくは、２〜１０％
である。
【００１５】ＳｒＯは、必須ではないが、添加すること
により、ＣａＯとほぼ同様の効果が得られるため含有で
きる。１５％を超えると膨張率が大きくなりすぎるおそ
れがある。好ましくは、１〜１０％である。
により、ＣａＯとほぼ同様の効果が得られるため含有で
きる。１５％を超えると膨張率が大きくなりすぎるおそ
れがある。好ましくは、１〜１０％である。
【００１６】ＢａＯは、必須ではないが、ガラス溶解時
にフラックスとして作用し、また、化学的耐久性を向上
させるため含有できる。１６％を超えると失透しやすく
なる。好ましくは、５〜１５％である。
にフラックスとして作用し、また、化学的耐久性を向上
させるため含有できる。１６％を超えると失透しやすく
なる。好ましくは、５〜１５％である。
【００１７】ＺｎＯは、必須ではないが、ガラスの熱膨
張係数を低下させる効果があるが、１２％を超えると大
量生産に適したフロート法による成形が難しくなる。フ
ロートバス中でＺｎＯが還元され蒸発し、表層に異質層
を形成するためである。
張係数を低下させる効果があるが、１２％を超えると大
量生産に適したフロート法による成形が難しくなる。フ
ロートバス中でＺｎＯが還元され蒸発し、表層に異質層
を形成するためである。
【００１８】本発明によるガラスは上記成分で９５％以
上を占めるものであり、残り５％未満については、ガラ
スの溶解性、清澄性、成形性を改善するためＺｒＯ2 、
Ｐ2O5 、ＴｉＯ2 、ＳＯ3 、Ａｓ2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｏ3 、
Ｆ、Ｃｌなどを含有することができる。
上を占めるものであり、残り５％未満については、ガラ
スの溶解性、清澄性、成形性を改善するためＺｒＯ2 、
Ｐ2O5 、ＴｉＯ2 、ＳＯ3 、Ａｓ2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｏ3 、
Ｆ、Ｃｌなどを含有することができる。
【００１９】本発明の基板に用いるガラスはたとえば、
次のような方法で製造できる。すなわち、通常使用され
る各成分の原料を目標成分になるように調合し、これを
溶解炉に連続的に投入し、１５００〜１６００℃に加熱
して溶融する。この溶融ガラスをフロート法により所定
の板厚に成形し、徐冷後切断する。
次のような方法で製造できる。すなわち、通常使用され
る各成分の原料を目標成分になるように調合し、これを
溶解炉に連続的に投入し、１５００〜１６００℃に加熱
して溶融する。この溶融ガラスをフロート法により所定
の板厚に成形し、徐冷後切断する。
【００２０】また、本発明の１実施態様では、磁気ディ
スク用ガラス基板の少なくとも内周端面がエッチング処
理されており、エッチング処理された内周端面の表面粗
さが、３次元測長ＳＥＭにより測定したとき、基準長さ
２４０μｍ、算術平均粗さ（Ｒa ）のカットオフ波長８
０μｍにおいて、任意に選んだ少なくとも４箇所におけ
る算術平均粗さ（Ｒa ）の平均値が１．０〜６．０μｍ
であり、山の数の平均値が８〜３０個の範囲にあること
を特徴とする。
スク用ガラス基板の少なくとも内周端面がエッチング処
理されており、エッチング処理された内周端面の表面粗
さが、３次元測長ＳＥＭにより測定したとき、基準長さ
２４０μｍ、算術平均粗さ（Ｒa ）のカットオフ波長８
０μｍにおいて、任意に選んだ少なくとも４箇所におけ
る算術平均粗さ（Ｒa ）の平均値が１．０〜６．０μｍ
であり、山の数の平均値が８〜３０個の範囲にあること
を特徴とする。
【００２１】この場合、ディスク用ガラス基板とは、円
板状、特にドーナツ状のガラス基板をいう。ドーナツ状
のガラス基板の場合には、特に内周端面の粗さを上記範
囲にする必要がある。外周端面の粗さも上記範囲とする
のが好ましい。中央部に孔のない円板状の場合には、外
周端面の粗さを上記範囲とする必要がある。図１は、ド
ーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板の斜視図を示した
ものであり、１は、こうしたドーナツ状の磁気ディスク
用ガラス基板、２は内周端面、３は外周端面を示す。
板状、特にドーナツ状のガラス基板をいう。ドーナツ状
のガラス基板の場合には、特に内周端面の粗さを上記範
囲にする必要がある。外周端面の粗さも上記範囲とする
のが好ましい。中央部に孔のない円板状の場合には、外
周端面の粗さを上記範囲とする必要がある。図１は、ド
ーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板の斜視図を示した
ものであり、１は、こうしたドーナツ状の磁気ディスク
用ガラス基板、２は内周端面、３は外周端面を示す。
【００２２】本発明の１実施態様は、磁気ディスク用ガ
ラス基板は、ガラス基板をフッ酸、フツ硫酸等のエッチ
ング液によりエッチングすることにより、ガラス基板の
曲げ強度を支配する内外円周端面の面粗さ、特により機
械的強度を大きく支配する磁気ディスク基板の内円周端
面の面粗さを改善し、ディスク用ガラス基板の曲げ強度
を向上させるものである。
ラス基板は、ガラス基板をフッ酸、フツ硫酸等のエッチ
ング液によりエッチングすることにより、ガラス基板の
曲げ強度を支配する内外円周端面の面粗さ、特により機
械的強度を大きく支配する磁気ディスク基板の内円周端
面の面粗さを改善し、ディスク用ガラス基板の曲げ強度
を向上させるものである。
【００２３】ガラス等の脆性材料からなる磁気ディスク
用ガラス基板の機械的強度を支配する因子の大きなもの
は、最大引張り応力の発生する内周部に存在する傷であ
る。この傷の深さを低減させれば破壊強度は向上する。
傷の深さは、フッ酸、フツ硫酸等のエッチング液による
エッチング処理で低減させることができ、エッチング深
さを増大させることにより、傷の深さを低減させること
ができる。傷の深さを正確に測定することは困難である
が、エッチング深さの増大に伴う表面性状の変化はＳＥ
Ｍ等の表面性状測定装置により把握できる。さらに、こ
のＳＥＭを用いれば、これらの表面性状の変化を、表面
粗さおよび断面図に現れる山の数として定量的に表すこ
とができる。
用ガラス基板の機械的強度を支配する因子の大きなもの
は、最大引張り応力の発生する内周部に存在する傷であ
る。この傷の深さを低減させれば破壊強度は向上する。
傷の深さは、フッ酸、フツ硫酸等のエッチング液による
エッチング処理で低減させることができ、エッチング深
さを増大させることにより、傷の深さを低減させること
ができる。傷の深さを正確に測定することは困難である
が、エッチング深さの増大に伴う表面性状の変化はＳＥ
Ｍ等の表面性状測定装置により把握できる。さらに、こ
のＳＥＭを用いれば、これらの表面性状の変化を、表面
粗さおよび断面図に現れる山の数として定量的に表すこ
とができる。
【００２４】すなわち、本実施態様は、３次元測長ＳＥ
Ｍにより測定された磁気ディスク用ガラス基板の内外周
端面の凹凸プロファイルを測定し、実用上充分な機械的
強度を持つ磁気ディスク用ガラス基板が得られる凹凸プ
ロファイルとはどのようなものであるかを求め、その最
適な内周端面の面粗さの範囲を求めたものである。
Ｍにより測定された磁気ディスク用ガラス基板の内外周
端面の凹凸プロファイルを測定し、実用上充分な機械的
強度を持つ磁気ディスク用ガラス基板が得られる凹凸プ
ロファイルとはどのようなものであるかを求め、その最
適な内周端面の面粗さの範囲を求めたものである。
【００２５】この表面粗さは、３次元測長ＳＥＭによる
凹凸プロファイル曲線からＪＩＳＢ０６０１（１９８
２）（ＩＳＯ Ｒ ４６８参照）に決められた方法にし
たがって求めることができる。この表面粗さを求めるに
当たっては、以下の通り行った。
凹凸プロファイル曲線からＪＩＳＢ０６０１（１９８
２）（ＩＳＯ Ｒ ４６８参照）に決められた方法にし
たがって求めることができる。この表面粗さを求めるに
当たっては、以下の通り行った。
【００２６】・基準長さは、２４０μｍとした。 ・Ｒa は、表面粗さをＳＥＭにより測定し、得られた測
定データとしての数値を用いた。 ・Ｒa カットオフ波長８０μｍとは、８０μｍ以上の波
長成分を取り除くもので、基板のうねりを表面粗さとし
て数えられないようにするための処理である。 ・任意に選んだ少なくとも４箇所におけるＲa とは、ド
ーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板ガラスの内周端面
の任意に選んだ異なる４箇所以上の点においてＳＥＭ測
定を行い、それぞれの点でＲa を求め、各点のＲa 値を
平均したものである。 ・山の数とは、ドーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板
の内周端面の任意に選んだ異なる４箇所以上の点におい
てＳＥＭ測定を行い、得られた２次元凹凸プロファイル
のデータから、各点の山の数を数え、各点の山の数を平
均したものである。
定データとしての数値を用いた。 ・Ｒa カットオフ波長８０μｍとは、８０μｍ以上の波
長成分を取り除くもので、基板のうねりを表面粗さとし
て数えられないようにするための処理である。 ・任意に選んだ少なくとも４箇所におけるＲa とは、ド
ーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板ガラスの内周端面
の任意に選んだ異なる４箇所以上の点においてＳＥＭ測
定を行い、それぞれの点でＲa を求め、各点のＲa 値を
平均したものである。 ・山の数とは、ドーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板
の内周端面の任意に選んだ異なる４箇所以上の点におい
てＳＥＭ測定を行い、得られた２次元凹凸プロファイル
のデータから、各点の山の数を数え、各点の山の数を平
均したものである。
【００２７】例えば、磁気ディスク用ガラス基板の内外
周端面のＲa が１．０μｍより低く、かつ山の数の平均
値が３０個より多い場合は、エッチング深さがきわめて
少ないか、あるいは全くない場合の状態に対応し、内外
周端面の傷の除去がされていないか、不充分であること
を示し、この場合には目標とする機械的強度が得られな
いので好ましくない。
周端面のＲa が１．０μｍより低く、かつ山の数の平均
値が３０個より多い場合は、エッチング深さがきわめて
少ないか、あるいは全くない場合の状態に対応し、内外
周端面の傷の除去がされていないか、不充分であること
を示し、この場合には目標とする機械的強度が得られな
いので好ましくない。
【００２８】また、機械的強度については、エッチング
深さの増大とともに上昇傾向を示すが、エッチング深さ
が増大し、前記したＲa の平均値が６．０μｍより大と
なると、内外周の同心度および真円度が悪化する傾向が
あり、過度のエッチングは磁気ディスクとしての寸法規
格をはずれる結果となるため好ましくない。また、この
ような突起の存在は、磁気ヘッドクラッシュを引き起こ
し、磁気ディスクの記録面全体の破壊をもたらすことが
あるので好ましくない。
深さの増大とともに上昇傾向を示すが、エッチング深さ
が増大し、前記したＲa の平均値が６．０μｍより大と
なると、内外周の同心度および真円度が悪化する傾向が
あり、過度のエッチングは磁気ディスクとしての寸法規
格をはずれる結果となるため好ましくない。また、この
ような突起の存在は、磁気ヘッドクラッシュを引き起こ
し、磁気ディスクの記録面全体の破壊をもたらすことが
あるので好ましくない。
【００２９】なお、ディスク用ガラス基板のエッチング
処理に先立って、ドーナツ状ディスク用ガラス基板の内
外周端面、特に内周端面を＃２００〜＃１０００メッシ
ュ程度の砥粒により内周端面の仕上げ加工を行っておく
ことが好ましい。
処理に先立って、ドーナツ状ディスク用ガラス基板の内
外周端面、特に内周端面を＃２００〜＃１０００メッシ
ュ程度の砥粒により内周端面の仕上げ加工を行っておく
ことが好ましい。
【００３０】本発明において、エッチング方法として一
般的なガラスのエッチング方法であるエッチング液を用
いたウェットエッチング方法、エッチングガスを用いた
ドライエッチング方法が使用できる。特に、フッ酸液、
フツ硫酸液、ケイフッ化水素酸などのエッチング液が好
適に使用できる。
般的なガラスのエッチング方法であるエッチング液を用
いたウェットエッチング方法、エッチングガスを用いた
ドライエッチング方法が使用できる。特に、フッ酸液、
フツ硫酸液、ケイフッ化水素酸などのエッチング液が好
適に使用できる。
【００３１】一般には、砥粒の最大径よりも深い傷が発
生する可能性が考えられるので、エッチング量はさらに
深くすることがより好ましい。
生する可能性が考えられるので、エッチング量はさらに
深くすることがより好ましい。
【００３２】なお、本発明では、エッチングプロセスの
後に、金属定盤に砥粒を流してガラス基板の主表面、内
外周端面を研磨するラッププロセスを導入することによ
り、エッチング量が多い場合でも、ガラス基板の主表
面、内外周端面に生じた高い突起を解消できる。
後に、金属定盤に砥粒を流してガラス基板の主表面、内
外周端面を研磨するラッププロセスを導入することによ
り、エッチング量が多い場合でも、ガラス基板の主表
面、内外周端面に生じた高い突起を解消できる。
【００３３】上記したエッチング処理をエッチング処理
後、さらにラップ研磨を行って内外周端面の突起を研磨
（ポリッシュ）することにより、１０μｍ以上のエッチ
ング深さのエッチング処理が実現でき、より高強度の磁
気ディスク用ガラス基板が得られる。
後、さらにラップ研磨を行って内外周端面の突起を研磨
（ポリッシュ）することにより、１０μｍ以上のエッチ
ング深さのエッチング処理が実現でき、より高強度の磁
気ディスク用ガラス基板が得られる。
【００３４】本発明の所定のＲa の平均値と山の数の平
均値とを有する磁気ディスク用ガラス基板には、そのガ
ラス基板の主表面に下地膜を介して、あるいは下地膜を
介さずして磁気記録層を形成し、さらに必要に応じてそ
の上に保護層、潤滑層を形成し、高強度のガラス製の磁
気ディスクが得られる。
均値とを有する磁気ディスク用ガラス基板には、そのガ
ラス基板の主表面に下地膜を介して、あるいは下地膜を
介さずして磁気記録層を形成し、さらに必要に応じてそ
の上に保護層、潤滑層を形成し、高強度のガラス製の磁
気ディスクが得られる。
【００３５】また、磁気ディスク上に必要に応じて所定
のテクスチャを形成するテクスチャ加工は、基板をドー
ナツ状に加工し、エッチング、研磨、洗浄した後、行わ
れる。テクスチャ加工は、フッ酸の液または蒸気を使用
して行うことができる。
のテクスチャを形成するテクスチャ加工は、基板をドー
ナツ状に加工し、エッチング、研磨、洗浄した後、行わ
れる。テクスチャ加工は、フッ酸の液または蒸気を使用
して行うことができる。
【００３６】本発明で用いられる磁気記録層としての磁
性層としては、Ｃｏ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｐｔ系、Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系などのＣｏ系合金を
好ましく使用できる。耐久性や磁気特性を向上するため
に、磁性層の下に設けられる下地層としては、Ｎｉ層、
Ｎｉ−Ｐ層、Ｃｒ層、ＳｉＯ2 層などを使用できる。
性層としては、Ｃｏ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｐｔ系、Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系などのＣｏ系合金を
好ましく使用できる。耐久性や磁気特性を向上するため
に、磁性層の下に設けられる下地層としては、Ｎｉ層、
Ｎｉ−Ｐ層、Ｃｒ層、ＳｉＯ2 層などを使用できる。
【００３７】本発明では、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、他の材
料からなる金属もしくは合金層を磁性層の上または下に
設けることができる。
料からなる金属もしくは合金層を磁性層の上または下に
設けることができる。
【００３８】保護層としては、５０〜１０００Åの厚み
のカーボンもしくはシリカの層が使用でき、潤滑層を形
成するためには、３０Å程度の厚みのパーフルオロポリ
エーテル系の液体潤滑剤が使用できる。
のカーボンもしくはシリカの層が使用でき、潤滑層を形
成するためには、３０Å程度の厚みのパーフルオロポリ
エーテル系の液体潤滑剤が使用できる。
【００３９】
（板状ガラスの作成）表１に示したＮｏ．１〜９の９種
類の組成物（単位；重量％）を常法にしたがい調合・混
合し、ガラスバッチを調製した。次いで、容量５００ｍ
ｌのＰｔ−Ｒｈ：１０％坩堝にこのガラスバッチを入
れ、１５００℃で均質化のための約１時間の撹拌を含め
約４時間熔解し、カーボン板上に流し出して板状とし、
徐冷後常法に従い、切断・研磨して約１ｍｍ厚の板状ガ
ラスサンプルを得た。表１には比較例（Ｎｏ．１０）と
してソーダライムシリカガラスも記載した。
類の組成物（単位；重量％）を常法にしたがい調合・混
合し、ガラスバッチを調製した。次いで、容量５００ｍ
ｌのＰｔ−Ｒｈ：１０％坩堝にこのガラスバッチを入
れ、１５００℃で均質化のための約１時間の撹拌を含め
約４時間熔解し、カーボン板上に流し出して板状とし、
徐冷後常法に従い、切断・研磨して約１ｍｍ厚の板状ガ
ラスサンプルを得た。表１には比較例（Ｎｏ．１０）と
してソーダライムシリカガラスも記載した。
【００４０】（磁気記録媒体の耐湿テスト）Ｎｏ．１〜
９の板状ガラスサンプルおよび比較例としてのＮｏ．１
０の板状ガラスサンプルを切断・研磨して外形６５ｍ
ｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍのドーナツ状の
ガラスディスクを作成した。Ｎｏ．１０については、４
５０℃の溶融硝酸カリウム中に８時間浸漬して化学強化
を行い、表面に深さ２５μｍの圧縮応力層を形成させた
ものも準備し、化学強化を行わないものと比較した。Ｎ
ｏ．１〜１０については、ガラス組成中にＮａを含まな
いため、イオン交換が行えない。したがってすべて未強
化である。
９の板状ガラスサンプルおよび比較例としてのＮｏ．１
０の板状ガラスサンプルを切断・研磨して外形６５ｍ
ｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍのドーナツ状の
ガラスディスクを作成した。Ｎｏ．１０については、４
５０℃の溶融硝酸カリウム中に８時間浸漬して化学強化
を行い、表面に深さ２５μｍの圧縮応力層を形成させた
ものも準備し、化学強化を行わないものと比較した。Ｎ
ｏ．１〜１０については、ガラス組成中にＮａを含まな
いため、イオン交換が行えない。したがってすべて未強
化である。
【００４１】上記未強化品および強化品のそれぞれの主
表面上にスパッタ法によりＮｏ．１〜９では厚さ約３０
０Å、Ｎｏ．１０では厚さ約１０００ÅのＣｒからなる
下地層を形成した後、厚さ約６００ÅのＣｏ−３０原子
％Ｎｉ合金磁性層を形成し、その上に厚さ約３００Åの
カーボン保護層を形成し、さらにその上にパーフルオロ
ポリエーテル系の液体潤滑剤を塗布することにより磁気
記録媒体を得た。
表面上にスパッタ法によりＮｏ．１〜９では厚さ約３０
０Å、Ｎｏ．１０では厚さ約１０００ÅのＣｒからなる
下地層を形成した後、厚さ約６００ÅのＣｏ−３０原子
％Ｎｉ合金磁性層を形成し、その上に厚さ約３００Åの
カーボン保護層を形成し、さらにその上にパーフルオロ
ポリエーテル系の液体潤滑剤を塗布することにより磁気
記録媒体を得た。
【００４２】これらについて８０℃、８０％ＲＨの雰囲
気条件で１６８時間保持することにより、耐湿テストを
実施したところ、Ｎｏ．１０では、耐食性を高める作用
のあるＣｒ下地層が厚いにもかかわらず、未強化品磁気
記録媒体はディスクの内周および外周の端面部から２〜
３ｍｍの範囲にわたってＣｏ−Ｎｉ合金層とガラスとの
界面から面内にかけて変色が認められ、Ｎｏ．１０強化
品磁気記録媒体では同じく１〜２ｍｍの範囲にわたって
変色が認められた。これに対し、Ｎｏ．１〜９磁気記録
媒体については、磁性膜の腐食は起こらず、変色等は全
く認められなかった。
気条件で１６８時間保持することにより、耐湿テストを
実施したところ、Ｎｏ．１０では、耐食性を高める作用
のあるＣｒ下地層が厚いにもかかわらず、未強化品磁気
記録媒体はディスクの内周および外周の端面部から２〜
３ｍｍの範囲にわたってＣｏ−Ｎｉ合金層とガラスとの
界面から面内にかけて変色が認められ、Ｎｏ．１０強化
品磁気記録媒体では同じく１〜２ｍｍの範囲にわたって
変色が認められた。これに対し、Ｎｏ．１〜９磁気記録
媒体については、磁性膜の腐食は起こらず、変色等は全
く認められなかった。
【００４３】（エッチングレートと曲げ強度の測定）Ｎ
ｏ．９の組成からなるガラス板とＮｏ．１０の組成から
なるガラス板とで外形６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ
０．６３５ｍｍのドーナツ状ガラスディスクを作成した
後、フッ酸に硫酸を５重量％混合した液によるエッチン
グレートを測定した。Ｎｏ．９は６．７μｍ／ｍｉｎで
あり、Ｎｏ．１０は２．１μｍ／ｍｉｎであった。本発
明のガラス基板は、従来のソーダライムシリカガラスに
比べて、３倍以上のエッチングレートであり、加工性が
大変高いことがわかる。
ｏ．９の組成からなるガラス板とＮｏ．１０の組成から
なるガラス板とで外形６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ
０．６３５ｍｍのドーナツ状ガラスディスクを作成した
後、フッ酸に硫酸を５重量％混合した液によるエッチン
グレートを測定した。Ｎｏ．９は６．７μｍ／ｍｉｎで
あり、Ｎｏ．１０は２．１μｍ／ｍｉｎであった。本発
明のガラス基板は、従来のソーダライムシリカガラスに
比べて、３倍以上のエッチングレートであり、加工性が
大変高いことがわかる。
【００４４】また、前記ガラスディスクについてディス
クの外周全周を支持し、内周部に荷重をかける曲げ強度
テストを各１０枚のディスクについて行い、平均強度を
求めた。
クの外周全周を支持し、内周部に荷重をかける曲げ強度
テストを各１０枚のディスクについて行い、平均強度を
求めた。
【００４５】ＮＯ．１０の曲げ強度は未強化品が１２．
０ｋｇ／ｍｍ2 、深さ２０μｍの圧縮応力層をもつ強化
品が３４．１ｋｇ／ｍｍ2 であった。これに対し、Ｎ
Ｏ．９を、５μｍエッチング処理した後ポリッシュした
ものは２７．８ｋｇ／ｍｍ2 、１５μｍエッチング処理
した後ポリッシュしたものは２９．９ｋｇ／ｍｍ2 であ
った。Ｎｏ．９の例でも、従来のソーダライムシリカガ
ラスの未強化品に比べると充分に強度が高く、磁気ディ
スク基板として使用可能と考えられる。
０ｋｇ／ｍｍ2 、深さ２０μｍの圧縮応力層をもつ強化
品が３４．１ｋｇ／ｍｍ2 であった。これに対し、Ｎ
Ｏ．９を、５μｍエッチング処理した後ポリッシュした
ものは２７．８ｋｇ／ｍｍ2 、１５μｍエッチング処理
した後ポリッシュしたものは２９．９ｋｇ／ｍｍ2 であ
った。Ｎｏ．９の例でも、従来のソーダライムシリカガ
ラスの未強化品に比べると充分に強度が高く、磁気ディ
スク基板として使用可能と考えられる。
【００４６】（耐アルカリ性の測定）Ｎｏ．９の組成か
らなるガラス板、Ｎｏ．１０の組成からなるガラス板お
よび液晶表示装置の基板用として従来用いられることが
ある無アルカリガラスであるコーニング社のコード７０
５９（商品名）からなるガラス板（Ｎｏ．１１）につい
て、０．１規定ＮａＯＨ溶液に９０℃２０時間浸漬し
て、重量減少量（ｍｇ）を測定した。結果を表２に示
す。結果から、本発明の基板は、他の無アルカリガラス
（Ｎｏ．１１）に比べて、耐アルカリ性が高く、ソーダ
ライムガラスに比べても遜色ないことがわかる。すなわ
ち、本基板は、磁気ディスク用基板として、非常に優れ
たものである。
らなるガラス板、Ｎｏ．１０の組成からなるガラス板お
よび液晶表示装置の基板用として従来用いられることが
ある無アルカリガラスであるコーニング社のコード７０
５９（商品名）からなるガラス板（Ｎｏ．１１）につい
て、０．１規定ＮａＯＨ溶液に９０℃２０時間浸漬し
て、重量減少量（ｍｇ）を測定した。結果を表２に示
す。結果から、本発明の基板は、他の無アルカリガラス
（Ｎｏ．１１）に比べて、耐アルカリ性が高く、ソーダ
ライムガラスに比べても遜色ないことがわかる。すなわ
ち、本基板は、磁気ディスク用基板として、非常に優れ
たものである。
【００４７】
【表１】
【００４８】
【表２】
【００４９】
【発明の効果】本発明の磁気ディスク用ガラス基板は高
温、高湿下でも磁性膜の劣化が生じない。また、ある程
度の深さエッチング処理を施すことにより、充分磁気デ
ィスク基板として実用可能な程度の強度が得られる。そ
の際に、本発明の基板は、エッチングレートが高く、加
工コストが低いメリットがある。
温、高湿下でも磁性膜の劣化が生じない。また、ある程
度の深さエッチング処理を施すことにより、充分磁気デ
ィスク基板として実用可能な程度の強度が得られる。そ
の際に、本発明の基板は、エッチングレートが高く、加
工コストが低いメリットがある。
【００５０】さらに、本発明の基板は他の無アルカリガ
ラスに比べても、耐アルカリ性が高く、耐アルカリ性は
ソーダライムシリカガラスに比べても遜色ない。すなわ
ち、本基板は、磁気ディスク用基板として、非常に優れ
る。
ラスに比べても、耐アルカリ性が高く、耐アルカリ性は
ソーダライムシリカガラスに比べても遜色ない。すなわ
ち、本基板は、磁気ディスク用基板として、非常に優れ
る。
【図１】本発明の磁気ディスク用ガラス基板を示す斜視
図
図
１：磁気ディスク用ガラス基板 ２：内周端面 ３：外周端面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/82 Ｇ１１Ｂ 5/82 5/84 7303−5Ｄ 5/84 Ｚ
Claims (6)
- 【請求項１】組成が重量％表示で、ＳｉＯ2 ：５２〜６
５、Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１８、Ｂ2Ｏ3 ：０〜８、Ｍｇ
Ｏ：０〜１０、ＣａＯ：２〜１５、ＳｒＯ：０〜１５、
ＢａＯ：０〜１６、ＺｎＯ：０〜１２からなり、実質的
にアルカリ金属酸化物を含まないガラスを用いることを
特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。 - 【請求項２】組成が重量％表示で、ＳｉＯ2 ：５２〜６
０、Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１５、Ｂ2Ｏ3 ：２〜８、Ｍｇ
Ｏ：１〜５、ＣａＯ：２〜１０、ＳｒＯ：１〜１０、Ｂ
ａＯ：５〜１５、ＺｎＯ：０〜１２からなり、実質的に
アルカリ金属酸化物を含まないガラスを用いることを特
徴とする請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板。 - 【請求項３】内周端面と外周端面とを有し、少なくとも
内周端面の表面が５μｍ以上エッチングされていること
を特徴とする請求項１または２の磁気ディスク用ガラス
基板。 - 【請求項４】エッチングの後、少なくとも内周端面の表
面が、ポリッシュされていることを特徴とする請求項３
の磁気ディスク用ガラス基板。 - 【請求項５】少なくとも内周端面がエッチング処理され
ており、エッチング処理された内周端面の表面粗さが、
３次元測長ＳＥＭにより測定したとき、基準長さ２４０
μｍ、算術平均粗さ（Ｒa ）のカットオフ波長８０μｍ
において、任意に選んだ少なくとも４箇所における算術
平均粗さ（Ｒa ）の平均値が１．０〜６．０μｍであ
り、山の数の平均値が８〜３０個の範囲にあることを特
徴とする請求項３または４記載の磁気ディスク用ガラス
基板。 - 【請求項６】請求項１〜５いずれか１項記載の磁気ディ
スク用ガラス基板の上に、順次、下地層、磁性層、保護
層、潤滑層を設けてなる磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10161196A JP3804101B2 (ja) | 1995-04-27 | 1996-04-23 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-103947 | 1995-04-27 | ||
| JP10394795 | 1995-04-27 | ||
| JP10161196A JP3804101B2 (ja) | 1995-04-27 | 1996-04-23 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006067696A Division JP2006179180A (ja) | 1995-04-27 | 2006-03-13 | 磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0912333A true JPH0912333A (ja) | 1997-01-14 |
| JP3804101B2 JP3804101B2 (ja) | 2006-08-02 |
Family
ID=26442469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10161196A Expired - Lifetime JP3804101B2 (ja) | 1995-04-27 | 1996-04-23 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3804101B2 (ja) |
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