WO2005043512A1 - 情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体 - Google Patents

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WO2005043512A1
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Hideki Kawai
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Konica Minolta Opto, Inc.
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Definitions

  • the present invention relates to a glass substrate for an information recording medium (hereinafter, may be simply referred to as a “glass substrate”), and more particularly, to an information recording medium such as a magnetic disk, a magneto-optical disk, a DVD, and an MD.
  • the present invention relates to a glass substrate used as a substrate.
  • an aluminum alloy is used for a stationary type such as a desktop computer or a server
  • a glass substrate is generally used for a portable type such as a notebook computer or a mopile type combi- ter.
  • the smoothness of the substrate surface after polishing was not sufficient because the aluminum alloy was deformed quickly and had insufficient hardness.
  • the head mechanically contacts the magnetic disk, there is a problem that the magnetic film is easily peeled off from the substrate. Therefore, glass substrates, which are less deformable, have good smoothness, and have high mechanical strength, will be widely used not only for portable devices but also for stationary devices and other household information devices in the future. It is predicted.
  • Patent Document 1 proposes a technique for improving the productivity by performing a polishing treatment after a glass substrate is chemically strengthened.
  • Patent document 1 Japanese published patent gazette "Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2000-76652 (published March 14, 2000)"
  • the reinforcing layer on the main surface is polished and removed by the polishing treatment after the chemical strengthening treatment, but the reinforcement layer having a predetermined thickness remains after the polishing treatment. For this reason, if the reinforcing layer after the polishing treatment is not uniform, the quality of the shape such as flatness is deteriorated. To prevent this, the upper and lower surfaces of the glass substrate must be polished uniformly, and high-precision polishing technology is required.
  • the present invention has been made in view of such a conventional problem, and has as its object to provide excellent shape accuracy such as flatness without requiring high-precision polishing technology, and to achieve high accuracy.
  • An object of the present invention is to provide a glass substrate for an information recording medium having strength.
  • Another object of the present invention is to provide an information recording medium which is excellent in mechanical strength and durability and is capable of high-density recording.
  • a chemically strengthened glass substrate for an information recording medium wherein a strengthening layer formed by chemical strengthening is present on an outer peripheral surface and an inner peripheral surface, and a surface on which the information recording layer is formed (hereinafter referred to as a “surface”).
  • a glass substrate for an information recording medium which is substantially absent on the “recording surface”.
  • chemical strengthening means replacing ions near the glass surface with ions having a larger ionic radius in a temperature region below the glass transition point of the glass substrate.
  • the information recording layer is formed from the viewpoint of stably forming a reinforced layer having an appropriate thickness by the chemical strengthening treatment and further improving the mechanical strength and the durable durability.
  • the glass component on the surface to be processed is SiO: 40-75%, Al O: 3-20%,
  • TiO + ZrO + Ln O 0-15% (including zero, Ln
  • O is a lanthanoid metal oxide and a small amount of y 2 3 2 5 2 5 selected from the group consisting of Y O, Nb O, Ta
  • the specific elastic modulus (EZ) is 30 or more, the Vickers hardness Hv is 450-650, the alkali elution amount is 350 ppb or less per 2.5 inch disk, and the Si elution amount S is 500 ppb per 2.5 inch disk.
  • the fracture toughness value Kc is preferably set to 0.80 (MPa / m 1/2 ) or more.
  • the fracture toughness value Kc was calculated using a Vickers hardness tester by applying an indentation with a Vickers indenter under the conditions of a load of 500 g and a load time of 15 sec (see Fig. 3).
  • the amount of Si eluted S and the amount of alkali eluted A were determined by polishing the recording surface of the strengthened glass substrate and polishing the 2.5-inch disc substrate in 50 ml of reverse osmosis membrane water at 80 ° C for 24 hours. After immersion, this is a value calculated by analyzing the eluate with an ICP emission spectrometer. Thus, the alkaline elution amount is the total amount of Li, Na, and K elution.
  • the specific elastic modulus (EZ / 0) is a value obtained by dividing the Young's modulus ⁇ by the specific gravity ⁇ , and is measured according to the dynamic elastic modulus test method of the Young's modulus ⁇ O IS R 1602 fine ceramics elasticity test method. The specific gravity p was measured in distilled water at 25 ° C by the Archimedes method.
  • the Vickers hardness Hv is a value measured using a Vickers hardness tester under the conditions of a load of 100 g and a load time of 15 sec
  • an information recording medium characterized in that an information recording layer is formed on the glass substrate.
  • the reinforcing layer is present on the outer peripheral surface and the inner peripheral surface. Can be improved. In addition, it has excellent impact resistance, and greatly reduces damage to the glass substrate due to handling during the manufacturing process, and in the unlikely event that it is broken, it is unlikely to scatter greatly and contaminate the process. Further, the reinforcing layer is not substantially present on the surface on which the information recording layer is formed. Therefore, the flatness and smoothness of the surface are high. This enables high-density recording when used as an information recording medium.
  • the information recording layer is formed on the glass substrate.
  • Breakage in the process can be reduced, and the product yield can be improved. Further, the durability can be improved, and the reliability of the recording medium can be increased.
  • FIG. 1 is an example of a manufacturing process of a glass substrate of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view showing an example of the information recording medium of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic diagram of indentations and cracks formed on a glass substrate surface when pressed with a Pickers indenter.
  • FIG. 4 is a schematic explanatory view of an annular bending strength test.
  • the present inventor has focused on the fact that glass substrates are often broken or broken starting from the inner and outer end faces, and as a result of intensive studies, as a result, the inner and outer peripheral surfaces of the glass substrate have been chemically and chemically damaged. If a strengthening layer due to strengthening is present, and if there is no strengthening layer on the upper and lower surfaces of the glass substrate, which is the recording surface, destruction and damage of the glass substrate can be effectively prevented, and the force is reduced by chemical strengthening. The present inventors have found that a decrease in shape accuracy such as flatness of a glass substrate, which is likely to occur, can be suppressed, and the present invention has been made.
  • the strength is improved by the presence of the reinforcing layer on the inner and outer peripheral surfaces of the glass substrate, which is the starting point of destruction and damage, and the reinforcing layer is not present on the recording surface As a result, the shape change of the glass substrate caused by the stress of the reinforcing layer was suppressed.
  • a glass substrate is immersed in a heated nitrate solution having a glass transition point or lower, and ions near the glass surface are replaced with ions having a larger ionic radius. Generates compressive stress in the steel.
  • molten salts such as potassium nitrate, sodium nitrate, and potassium carbonate, or molten salts of a mixture of these salts, or salts of ions such as Cu, Ag, Rb, and Cs mixed with these salts
  • the molten salt include:
  • the thickness of the chemical strengthening layer is adjusted by the heating temperature and the immersion time of the chemical strengthening solution, as shown in the examples below (see Table 2).
  • the thickness of the reinforcing layer is preferably in the range of 3 to 20 ⁇ m from the viewpoint of increasing the strength of the glass substrate and shortening the polishing time.
  • the heating temperature of the chemical strengthening solution may be appropriately determined in consideration of the glass transition point of the glass substrate, and is usually in the range of 280 to 660 ° C, more preferably in the range of 320 to 500 ° C.
  • the immersion time is preferably in the range of 0.1 hour to several tens of hours.
  • the glass substrate is required. After immersion in the dangou strengthening solution, the upper and lower surfaces are polished to remove the reinforcing layer, or the upper and lower surfaces of the glass substrate are covered with a masking member, and only the inner and outer peripheral surfaces of the glass substrate are exposed.
  • a method of immersing it in the dangling strengthening solution in a state where it has been made is conceivable, but removal by polishing is recommended in consideration of productivity and the like. The method of removing the upper and lower reinforcement layers by polishing is described below.
  • FIG. 1 shows a manufacturing process diagram of a glass substrate.
  • the glass block was sliced into a disk shape with a predetermined thickness, and the inner and outer circumferences were concentric circles, and the glass substrate 1 was cut out using a cutter ((a) in the same figure).
  • the inner and outer peripheral edges of the glass substrate 1 are preferably chamfered or rounded.
  • the glass substrate 1 in FIG. 1 is chamfered.
  • the information recording layer 2 (shown in FIG. 2) is finally formed on the upper surface 11 and the lower surface 12 of the glass substrate 1.
  • the glass substrate 1 is immersed in a nitrate solution heated to a predetermined temperature for a predetermined time, and the surface of the glass substrate 1 is
  • the reinforcing layer 13 is formed below the surface (FIG.
  • the polishing amount is preferably about 2 to 10 times the thickness of the reinforcing layer.
  • the polishing method is not particularly limited, and a conventionally known method can be used, and examples thereof include brush polishing and polishing with a polishing member.
  • the polishing member include cerium oxide / alumina, chromium oxide, zirconium oxide, and titanium oxide.
  • the components of the glass substrate of the present invention are not particularly limited.
  • a reinforcing layer having the following components is desirable because a reinforcing layer having an appropriate thickness can be formed stably and the mechanical strength and the durable durability can be further improved. That is, the glass component on the recording surface is SiO: 40-75%, Al O: 3-20%, B O: 0-8% (% by weight).
  • Ln O is a lanthanoid metal oxide
  • SiO is a component that forms a glass matrix. With its content power less than 0%
  • the glass structure becomes unstable and the chemical durability deteriorates, and at the same time, the viscous properties at the time of melting deteriorate and the formability is hindered.
  • the content is preferably in the range of 40 to 75%. A more preferred range is 50-72%.
  • Al O enters the glass matrix, stabilizes the glass structure, and improves the chemical durability.
  • the content is preferably in the range of 3-20%. A more preferred range is 5-18%.
  • BO improves the melting property and the productivity, and also enters the glass matrix to form a glass. This has the effect of stabilizing the gas structure and improving the chemical durability. If the content exceeds 8%, the viscous properties at the time of melting deteriorate, which impairs the moldability, and the volatility of the glass solution becomes high, so that productivity and stability are remarkably reduced. Therefore, the content is preferably in the range of 8% or less (including zero). It is more preferably at most 6%.
  • the total amount is preferably in the range of 60-90%. A more preferred range is 68-88%.
  • Alkali metal oxides R O Li, Na, K improve the meltability and improve the productivity.
  • the total amount of the alkali metal oxide is preferably in the range of 5 to 15%. A more preferred range is the range of 7-16%. Further, in order to reduce the alkali elution amount, that is, to obtain a so-called alkali mixing effect, it is desirable that the lower limit contents of the respective components of the alkali metal oxide are set to 0.5%.
  • the divalent metal oxide R'O (R ': Mg, Ca, Sr, Ba, Zn) has the effect of increasing rigidity, improving meltability, and stabilizing the glass structure. If the total amount of R'O exceeds 20%, the glass structure becomes unstable, the melt productivity decreases, and the chemical durability decreases. Therefore, the content of R'O is preferably 20% or less. A more preferred upper limit of the total amount of R'O is 18%.
  • the preferred content of each component of R'O is as follows.
  • MgO has the effect of increasing rigidity and improving meltability. If the content exceeds 20%, the glass structure becomes unstable, and the melt productivity may decrease and the chemical durability may decrease. Therefore, the content is preferably in the range of 0 to 19%. A more preferred upper limit is 18%.
  • CaO has the effect of increasing the coefficient of linear thermal expansion and rigidity and improving the meltability.
  • the content is preferably in the range of 0 to 10%. A more preferred upper limit is 9%.
  • SrO has the effects of increasing the linear thermal expansion coefficient, stabilizing the glass structure, and improving the meltability. If the content exceeds 8%, the glass structure may be unstable. Therefore, the content is preferably in the range of 0-8%. More preferably, the upper limit is 6%.
  • BaO has the same effect as SrO, and if its content exceeds 8%, the glass structure may become unstable. Therefore, the content is preferably in the range of 0 to 8%. A more preferred upper limit is 6%.
  • ZnO has the effect of increasing chemical durability and rigidity and improving meltability.
  • the content is preferably in the range of 0-6%. A more preferred upper limit is 5%.
  • TiO strengthens the structure of glass, improves rigidity, and improves melting properties.
  • ZrO also strengthens the glass structure to increase rigidity and chemical durability
  • Ln O has the effect of strengthening the glass structure and improving rigidity and toughness. Note that this Ln O is a lanthanoid metal oxide and Y O
  • NbO, TaO force means at least one compound selected from the group
  • LnO and LnO there are various types of metal oxides such as LnO and LnO, and Ln is La, Ce, Er, Pr
  • the total amount of these is preferably 15% or less.
  • a more preferred total amount is in the range of 0.5-13%.
  • a fining agent such as SbO is further added in a range of 2% or less. May be. If necessary, conventionally known glass components and additives may be added as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the method for producing a glass substrate is not particularly limited, and a conventionally known production method can be used.
  • oxides, carbonates, nitrates, hydroxides, and the like corresponding to the respective components are used as raw materials, weighed to a desired ratio, and sufficiently mixed with powder to obtain a prepared raw material.
  • This is put into, for example, a platinum crucible in an electric furnace heated to 1,300-1,550 ° C, melted and refined, homogenized with stirring, poured into a pre-heated mold, and gradually cooled to form a glass. Make a block.
  • the glass is reheated to near the glass transition point, cooled slowly, and strain is removed.
  • the obtained glass block is sliced into a disk shape, and the inner and outer peripheries are cut into concentric circles using a core drill.
  • the molten glass is press-formed and formed into a disk shape.
  • the glass substrate according to the present invention preferably satisfies the following physical properties.
  • the specific elastic modulus (EZ) is 30 or more.
  • the mechanical strength of a glass substrate depends on the rigidity of the substrate. If the specific elastic modulus is less than 30, the mechanical strength of the substrate becomes insufficient and the external This is because when subjected to an impact, the partial force of the connection with the HDD member is easily damaged.
  • a more preferable specific elastic modulus (EZ p) is 31 or more.
  • Vickers hardness Hv is preferably in the range of 450-650! / ⁇ . If the Vickers hardness is less than the ⁇ force of 50, damage due to impact and damage in the manufacturing process are likely to occur. On the other hand, if the Pickers hardness ⁇ is larger than 650, the polishing rate is lowered in the polishing substrate of the glass substrate, and a desired smooth surface is obtained. This is because it is difficult to adjust the surface shape by processing and to correct surface defects by tape or scrub cleaning. In order to set the Vickers hardness in such a range, for example, the component ratio may be adjusted so as to increase the ion filling rate in the glass within the range without deteriorating the intended main physical properties. A more preferred lower limit of the Vickers hardness ⁇ is 500, and a more preferred upper limit is 630.
  • the alkali elution amount ⁇ is preferably 350 ppb or less per 2.5 inch disk. If the amount of alkaline leaching A is more than 350 ppb, the gas It is also a force that a recording film such as a magnetic film formed on the surface of the glass substrate is degraded by the eluted alkali component. More preferably, the alkali elution amount A is 320 ppb or less.
  • the Si elution amount S is preferably 500 ppb or less per 2.5 inch disk.
  • SiO is glass bone
  • the Si elution amount S is one index indicating the water resistance of glass, that is, the stability to water. If the Si elution amount S is more than 500 ppb, the water resistance is poor, the production stability in the polishing and washing steps in the manufacturing process is reduced, and the storage stability is poor because it is easily affected by atmospheric moisture. A more preferable range of the Si elution amount S is 400 ppb or less per 2.5 inch disc.
  • the fracture toughness value Kc is preferably 0.80 or more.
  • the fracture toughness value Kc is less than 0.80, the glass substrate is cracked due to pressure applied in a process of forming a recording film such as a magnetic film on the surface of the glass substrate. Can occur
  • the fracture toughness value Kc is less than 0.80, the substrate is easily damaged in the machining of the substrate, and the processing yield is greatly reduced.
  • a more preferable range of the fracture toughness value Kc is 0.85 or more.
  • the size of the glass substrate of the present invention is not limited, and may be a small-diameter disk of 3.5, 2. 5, 1.8 inches or smaller, and the thickness may be 2 mm or lmm. , 0.63 mm, or less! /
  • FIG. 2 is a perspective view of a magnetic disk.
  • the magnetic disk D is obtained by directly forming a magnetic film 2 on the surface of a circular glass substrate 1.
  • a conventionally known method can be used, for example, a method in which a thermosetting resin in which magnetic particles are dispersed is spin-coated on a substrate, or a method in which sputtering or electroless plating is used.
  • the film thickness by spin coating is about 0.3-1.2 / zm
  • the film thickness by sputtering is about 0.04-0.08 ⁇ m
  • the film thickness is by electroless plating. 0.05-0. 1 ⁇ m approx.
  • the film formation by the method is preferred.
  • the magnetic material used for the magnetic film is not particularly limited, and a conventionally known magnetic material can be used.
  • Co is used, which has a high crystal anisotropy, and adjusts the residual magnetic flux density.
  • a Co-based alloy obtained by adding Ni or Cr. Specifically, CoPt ⁇ CoCr ⁇ CoNi ⁇ CoNiCr ⁇ CoCrTa, CoPtCr ⁇ CoNiPt or CoNiCrPt, CoNiCrTa, CoCrPtTa, CoCrPtB, CoCrPtSiO or the like containing Co as a main component.
  • the magnetic film may have a multilayer structure (for example, CoPtCr / CrMo / CoPtCr, CoCrPtTaZCrMoZCoCrPtTa, etc.) in which noise is reduced by being divided by a nonmagnetic film (for example, Cr, CrMo, CrV, etc.).
  • a nonmagnetic film for example, Cr, CrMo, CrV, etc.
  • a non-magnetic film having a structure in which magnetic particles such as Fe, Co, FeCo, and CoNiPt are dispersed may be used. Further, the magnetic film may be of any of an internal type and a vertical type.
  • the surface of the magnetic film may be thinly coated with a lubricant in order to improve the slip of the magnetic head.
  • a lubricant include those obtained by diluting perfluoropolyether (PFPE) as a liquid lubricant with a solvent such as Freon.
  • a base layer or a protective layer may be provided.
  • the underlayer in the magnetic disk is selected according to the magnetic film.
  • the material of the underlayer include at least one material selected from nonmagnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, and Ni.
  • Cr nonmagnetic metals
  • the underlayer is not limited to a single layer, and may have a multilayer structure in which the same or different layers are stacked.
  • a multilayer underlayer of CrZCr, Cr / CrMo, Cr / CrV, NiAl / Cr, NiAl / CrMo, NiAlZCrV or the like may be used.
  • Examples of the protective layer for preventing abrasion and corrosion of the magnetic film include a Cr layer, a Cr alloy layer, a carbon layer, a hydrogenated carbon layer, a zirconia layer, and a silica layer.
  • These protective layers can be continuously formed with an underlayer, a magnetic film and the like by an in-line type sputtering apparatus.
  • these protective layers may be used as a single layer or as a multi-layer structure composed of the same or different layers.
  • a protective layer is formed on the protective layer or in place of the protective layer. May be.
  • colloidal silica fine particles are dispersed and coated on a Cr layer after diluting a tetraalkoxylan with an alcohol-based solvent, and then calcined to obtain a silicon oxide (SiO 2). )
  • a layer may be formed.
  • the information recording medium is not limited to this, and the glass substrate of the present invention is also used for a magneto-optical disk or an optical disk. be able to.
  • a specified amount of raw material powder was weighed and placed in a platinum crucible, mixed, and then melted at 1,550 ° C in an electric furnace. After the raw materials were sufficiently dissolved, the stirring blade was inserted into the glass melt and stirred for about 1 hour. After that, the stirring blade was taken out and allowed to stand for 30 minutes, and then a melt was poured into a jig to obtain a glass block. Thereafter, the glass blocks were reheated to near the glass transition point of each glass, and gradually cooled to remove strain. The obtained glass block was sliced into a disc shape having a thickness of 0.635 mm, and cut out using a cutter with the inner circumference (inner diameter 20 mm) and the outer circumference (outer diameter 65 mm) concentric circles.
  • the prepared glass substrate was immersed for 0.5 hours to form a reinforced layer below the surface of the glass substrate. Then, the upper and lower surfaces of the glass substrate were polished and polished with 100 m of cerium, and then subjected to 100 m of coarse polishing and polishing, followed by washing to produce glass substrates of Example 19 and Comparative Example 13.
  • the polishing amount of the glass substrate of Comparative Example 4 was 20 m on both the upper and lower surfaces.
  • Various physical properties of the manufactured glass substrate were measured by the above-described measuring methods and the following measuring methods. Table 1 shows the measurement results.
  • the outer peripheral surface, inner peripheral surface, and recording surface of the polished glass substrate were observed with a polarizing microscope, and the thickness of the reinforcing layer was measured.
  • An annular bending strength test of the glass substrate was performed using the apparatus shown in FIG. Specifically, a load is applied to a glass substrate via a steel ball, was measured to be the breaking load. This ring bending strength test was not performed with chemical strengthening.
  • the ring strength ratio was 1.5 or more, and the strength was improved by 50% or more as compared with the case where the power was not chemically strengthened.
  • the glass substrate had a flatness of 3 ⁇ m or less, which was perfect for information recording media.
  • the glass substrate of Comparative Example 1 in which the content of the alkali metal After the polishing treatment, the ion exchange reaction proceeded excessively, and the thickness of the reinforcing layer reached 120 m, and the reinforcing layer of 70 m remained on the recording surface even after the polishing treatment. For this reason, the alkali elution amount was large at 623 ppb, and the flatness was very high at 33 m, which was unsuitable for a glass substrate of an information recording medium.
  • Al O ZB O was as small as 1.3.
  • the strength of the glass substrate could not be increased.
  • the glass structure is weak and Si
  • the elution amount was as high as 709 ppb.
  • the glass substrate of Comparative Example 3 since the total amount of the alkali metal oxides was as small as 4.0%, no strengthening layer was formed in the chemical strengthening treatment, the Pickers hardness was as high as 655, and the workability was reduced. Also, the fracture toughness was as low as 0.78.
  • the Si elution amount S was 563 ppb, which was high.
  • the glass substrate of Comparative Example 4 had the same glass composition as the glass substrate of Example 5, and the polishing amount by the polishing treatment was 20 m on both the upper and lower surfaces (10 ⁇ m on one side), and the reinforcing layer was 5 ⁇ m on the recording surface. It is what was left. Such a glass substrate had a high flatness of 15 m after polishing, making it unsuitable for information recording media.
  • the thickness of the reinforcing layer formed on the glass substrate was measured by changing the components of the chemical strengthening solution and the temperature and time of the chemical strengthening treatment.
  • the glass material used in Example 1 was used.
  • the ring strength ratio and flatness of each glass substrate were measured. Table 2 shows the results.
  • Table 2 shows that the thickness of the reinforcing layer formed on the glass substrate can be controlled by changing the component ratio of nitrate, the processing temperature, and the processing time. Further, the reinforcing layer formed on the recording surface was polished and removed, and the reinforcing layer was left only on the outer and inner peripheral surfaces of the glass substrate. It can be seen that the annular bending strength can be increased 1.5 to 2.3 times and the smoothness of the recording surface can be reduced to 3 ⁇ m or less.

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Abstract

　化学強化された情報記録媒体用ガラスにおいて、化学強化による強化層１３を、外周面および内周面に存在させるとともに、情報記録層が形成される上面１１及び下面１２に実質的に存在させないようにする。これにより高精度の基板研磨技術を必要とすることなく、平坦度などの形状精度および強度を向上させることができる。

Description

明 細 書
情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用レ、た情報記録媒体
技術分野
[0001] 本発明は情報記録媒体用ガラス基板 (以下、単に「ガラス基板」と記することがある） に関し、より詳細には磁気ディスク、光磁気ディスク、 DVD、 MDなどの情報記録用 媒体などの基板として用いるガラス基板に関するものである。
背景技術
[0002] 従来、磁気ディスク用基板としては、デスクトップ用コンピュータやサーバなどの据 え置き型にはアルミニウム合金力 他方ノート型コンピュータゃモパイル型コンビユー タなどの携帯型にはガラス基板が一般に使用されていたが、アルミニウム合金は変形 しゃすぐまた硬さが不十分であるため研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言え なかった。さら〖こ、ヘッドが機械的に磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から 剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なぐ平滑性が良好で、かつ機 械的強度の大き 、ガラス基板が、携帯型のみならず据え置き型の機器やその他の家 庭用情報機器にも今後広く使用されていくものと予測されている。
[0003] ガラス基板としては、基板表面のアルカリ元素を他のアルカリ元素と置換することに より圧縮歪みを発生させ、機械的強度を向上させたィ匕学強化ガラスが知られている。 化学強化ガラスの製造において、化学強化処理はこれまでは一般的に研磨処理の 後に行われ、化学強化処理されたガラス基板はそのまま再加工されることなく製品と して出荷されていた。このため、化学処理によってガラス基板の平坦度は通常は粗く なるところ、それを見越してより平坦度の高い研磨処理を行う必要があった。また化学 処理によってガラス基板に歪みが生じると廃棄処分に直結し、製造歩留を上げること が難し力つた。そこで、例えば特許文献 1では、ガラス基板を化学強化処理した後研 磨処理し生産性などを高める技術が提案されて 、る。
特許文献 1：日本国公開特許公報『特開 2000 - 76652号公報（2000年 3月 14日公 開)』
発明の開示 発明が解決しょうとする課題
[0004] 前記提案技術では、化学強化処理後の研磨処理によって主表面の強化層を研磨 除去するものの、研磨処理後所定厚さの強化層を残している。このため、研磨処理 後の強化層が不均一であると、平坦度などの形状品質の低下が起こる。これを防止 するにはガラス基板の上下面を均質に研磨処理しなければならず、高精度の研磨技 術が要求される。
[0005] 本発明はこのような従来の問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ は、高精度の研磨技術を必要とすることなく平坦度などの形状精度に優れ、また高い 強度を有する情報記録媒体用ガラス基板を提供することにある。
[0006] また本発明の他の目的は、機械的強度および耐久性に優れると共に、高密度記録 が可能な情報記録媒体を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0007] 本発明によれば、化学強化された情報記録媒体用ガラス基板であって、化学強化 による強化層が、外周面および内周面に存在し、情報記録層が形成される面 (以下「 記録面」と記すことがある）に実質的に存在しないことを特徴とする情報記録媒体用 ガラス基板が提供される。なお、本明細書において化学強化とは、ガラス基板のガラ ス転移点以下の温度領域において、ガラス表面近傍のイオンをより大きなイオン半径 を有するイオンに置換し
てガラス基板表面に圧縮応力を発生させることをいう。
[0008] ここで、化学強化処理によって適度な厚みの強化層が安定して形成させる観点、お よび機械的強度やィ匕学的耐久性などを一層向上させる観点から、情報記録層が形 成される面におけるガラス成分を、重量％で、 SiO :40— 75%、 Al O : 3— 20%、
2 2 3
B O : 0— 8% (ただし、ゼロを含む）、 R 0 (R=Li, Na, K)の総量： 5— 15%、 SiO
2 3 2 2
+A1 O +B O : 60—90%、R，O (R，=Mg, Ca, Sr, Ba, Zn)の総量： 0— 20% (
2 3 2 3
ただし、ゼロを含む）、 TiO +ZrO +Ln O : 0— 15% (ただしゼロを含む、また Ln
2 2
Oはランタノイド金属酸ィ匕物及び Y O , Nb O , Ta Οカゝらなる群より選ばれた少な y 2 3 2 5 2 5
くとも 1つの化合物を意味する）とし、
1. 5<A1 O /B O 又は B O =0% を満足するようにするのが好ましい。なお、以下「％」は特に断りのない限り「重量％」 を意味するものとする。
[0009] また比弾性率 (EZ )を 30以上、ビッカース硬度 Hvを 450— 650、アルカリ溶出 量 Αお 2. 5インチディスク当たり 350ppb以下、 Si溶出量 Sを 2. 5インチディスク当た り 500ppb以下、破壊靭性値 Kcを 0. 80 (MPa/m1/2)以上とするのが好ましい。
[0010] なお、破壊靭性値 Kcは、ビッカース硬度試験機を用いて、荷重 500g、負荷時間 1 5secの条件下にてビッカース圧子にて圧痕をつけ下記式力 算出した（図 3を参照）
[0011] Kc = 0.018 (E/Hv) 1/2 (P/C3/2) =0.026E1/2P1/2a/C3/2
(式中、 Kc :破壊靭性値 (Pa'm1/2)、 E :弾性率 (Pa)、 Hv:ピッカース硬度 (Pa)、 P :押 し込み荷重 (N)、 C :クラック長さの平均の半分 (m)、 a :圧痕の対角線長さの平均の半 分 (m))
また、 Si溶出量 S及びアルカリ溶出量 Aは、強化処理後のガラス基板の記録面を研 磨処理して作製した 2. 5インチディスク基板を、 80°Cの逆浸透膜水 50ml中に 24h 浸潰した後、 ICP発光分光分析装置でその溶出液を分析し算出した値である。した 力 てアルカリ溶出量は Li, Na, K溶出量の総量である。比弾性率 (EZ /0 )はヤン グ率 Εを比重 ρで割った値であって、ヤング率 ίお IS R 1602ファインセラミックスの 弾性試験方法の動的弾性率試験方法に準じて測定し、比重 pはアルキメデス法に より 25°Cの蒸留水中で測定したものである。またビッカース硬度 Hvは、ビッカース硬 度試験機を用い荷重 100g、負荷時間 15secの条件下にて測定した値である。
[0012] また本発明によれば、前記ガラス基板に情報記録層を形成したことを特徴とする情 報記録媒体が提供される。
発明の効果
[0013] 本発明の情報記録媒体用ガラス基板では、外周面および内周面に強化層を存在 させているので外 ·内周面を起点とした破壊や損傷が発生しにくぐ実効的な強度の 向上が図れる。また耐衝撃性に優れ、製造工程などの取扱いでガラス基板が破損す ることが大幅に低減され、万一破損した場合にぉ ヽても大きく飛散して工程を汚染す ることが少ない。また情報記録層が形成される面には強化層が実質的に存在しない ので、表面の平坦度及び平滑度が高い。これにより、情報記録媒体としたときに高密 度記録が可能となる。
[0014] また本発明の情報記録媒体では、前記のガラス基板に情報記録層を形成したので 、製造
工程上の破損を低下させることができ製品の歩留まりを向上させることができる。また 、耐久性の向上が図れ、記録媒体の信頼性を高くできる。
図面の簡単な説明
[0015] [図 1]本発明のガラス基板の製造工程図例である。
[図 2]本発明の情報記録用媒体の一例を示す斜視図である。
[図 3]ピッカース圧子で押圧したときにできるガラス基板表面の圧痕とクラックの模式 図である。
[図 4]円環曲げ強度試験の概略説明図である。
符号の説明
[0016] 1 ガラス基板
2 磁性膜
D 磁気ディスク
11 上面 (記録面）
12 下面 (記録面）
13 強化層
発明を実施するための最良の形態
[0017] 本発明者は、ガラス基板の破壊や破損が内'外端面を起点として発生することが多 いことに着目し鋭意検討を重ねた結果、ガラス基板の内周面および外周面に化学強 化による強化層を存在させ、且つ記録面である、ガラス基板の上下面に強化層を存 在させないと、ガラス基板の破壊や損傷を効果的に防止でき、し力も化学強化によつ て生じやすい、ガラス基板の平坦度などの形状精度の低下を抑えられることを見出し 本発明をなすに至った。
[0018] すなわち、破壊や破損の起点となる、ガラス基板の内周面および外周面に強化層 を存在させることによって強度の向上を図り、そして記録面に強化層を存在させない ことによって強化層の応力に起因するガラス基板の形状変化を抑制したのである。
[0019] 本発明で用いる化学強化は、例えばガラス転移点以下の加熱した硝酸塩溶液にガ ラス基板を浸漬して、ガラス表面近傍のイオンをより大きなイオン半径を有するイオン に置換してガラス基板表面に圧縮応力を発生させて強化する。化学強化溶液として は、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの溶融塩や、これらの塩を混合し たものの溶融塩、あるいは、これらの塩に Cu、 Ag、 Rb、 Csなどのイオンの塩を混合 したものの溶融塩等が挙げられる。
[0020] 化学処理による強化層の厚みは、後述する実施例で示すように (表 2を参照）、化 学強化溶液の加熱温度と浸漬時間とによって調整される。溶液温度が高いほど、ま た浸漬時間が長いほど強化層は厚くなる。強化層の厚みとしては、ガラス基板の強 度アップと研磨処理時間の短縮との兼ね合いから、 3— 20 μ mの範囲が好ましい。 化学強化溶液の加熱温度はガラス基板のガラス転移点を考慮し適宜決定すればよく 、通常は 280— 660°Cの範囲が好ましぐより好ましくは 320— 500°Cの範囲である。 また浸漬時間は 0. 1時間一数十時間の範囲が好ま 、。
[0021] ガラス基板の内周面および外周面に化学強化による強化層を存在させ、且つ記録 面である、ガラス基板の上下面には強化層を存在させないようにするには、ガラス基 板をィ匕学強化溶液に浸漬した後、上下面を研磨処理して強化層を取り除く方法、あ るいはガラス基板の上下面をマスキング部材によって被覆し、ガラス基板の内周面と 外周面だけを露出させた状態でィ匕学強化溶液に浸漬させる方法が考えられるが、生 産性などを考慮すると研磨処理による除去が推奨される。以下、研磨処理による上下 面の強化層の除去方法について説
明する。
[0022] 図 1に、ガラス基板の製造工程図を示す。ガラスブロックを所定の厚さで円盤形状 にスライスし、内周，外周を同心円としてカッターを用いてガラス基板 1を切り出した（ 同図（a) )。ここでガラス基板 1の内 ·外周端を面取り又は丸め処理しておくのが好まし い。図 1のガラス基板 1では面取りが施されている。このガラス基板 1の上面 11および 下面 12の表面に最終的に情報記録層 2 (図 2に図示）が形成される。そしてこのガラ ス基板 1を所定温度に加熱した硝酸塩溶液に所定時間浸漬して、ガラス基板 1の表 面以下に強化層 13を形成させる（同図 (b) )。そして、ガラス基板 1の上面 11と下面 1 2とを強化層 13の厚みよりも深く研磨し、面 11と下面 12に形成された強化層 13を研 磨削除する（同図（c) )。ここで研磨量は強化層の厚みの 2— 10倍程度が好ましい。 研磨方法としては特に限定はなく従来公知の方法を用いることができ、例えばブラシ 研磨や研磨部材による研磨などが挙げられる。研磨部材としては例えば、酸化セリウ ムゃアルミナ、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどが挙げられる。
[0023] 本発明のガラス基板の成分としては特に限定はない。適度な厚みの強化層を安定 して形成でき、また機械的強度やィ匕学的耐久性などの一層向上が図れることから、 例えば次のような成分を有するものが望ましい。すなわち、記録面におけるガラス成 分が、重量％で、 SiO :40— 75%、 Al O : 3— 20%、 B O : 0— 8% (ただし、ゼロ
2 2 3 2 3
を含む）、 R 0 (R=Li, Na, K)の総量： 5— 15%、 SiO +A1 O +B O : 60— 90
2 2 2 3 2 3
%、 R，0 (R， =Mg, Ca, Sr, Ba, Zn)の総量： 0— 20% (ただし、ゼロを含む）、 TiO +ZrO +Ln O : 0— 15% (ただしゼロを含む、また Ln Oはランタノイド金属酸ィ匕
2 2
物及び Y O , Nb O , Ta Ο力 なる群より選ばれた少なくとも 1つの化合物を意味
2 3 2 5 2 5
する）であり、
1. 5<A1 O /B O 又は B O =0%
2 3 2 3 2 3
を満足する。これらのガラス成分についてその限定した理由について説明する。
[0024] まず SiOはガラスのマトリックスを形成する成分である。その含有量力 0%未満で
2
は、ガラスの構造が不安定となり化学的耐久性が劣化すると共に、溶融時粘性特性 が悪くなり成形性に支障を来す。一方含有量が 75%を超えると、溶融性が悪くなり生 産性が低下すると共に、十分な剛性が得られなくなる。したがって含有量は 40— 75 %の範囲が好ましい。より好ましい範囲は 50— 72%の範囲である。
[0025] Al Oはガラスのマトリックス中に入り、ガラス構造を安定ィ匕させ、化学的耐久性を
2 3
向上させる効果を奏する。含有量が 3%未満では十分な安定ィヒ効果が得られず、ま た強化処理にぉ 、てイオン交換が安定して進行しなくなる。他方 20%を超えると溶 融性が悪くなり、生産性に支障を来す。したがって含有量は 3— 20%の範囲が好ま しい。より好ましい範囲は 5— 18%の範囲である。
[0026] B Oは溶融性を改善し生産性を向上させると共に、ガラスマトリックス中に入りガラ ス構造を安定化させ、化学的耐久性を向上させる効果を奏する。含有量が 8%を超 えると、溶融時粘性特性が悪くなり、成形性に支障を来すと共に、ガラス溶液の揮発 性が高くなり生産性及び安定性が著しく低下する。したがって含有量は 8%以下 (た だしゼロを含む）の範囲が好まし 、。より好ましくは 6%以下である。
[0027] ガラスの骨格成分であるこれら 3つのガラス成分（SiO、 Al O、 B O )の総量が 60
2 2 3 2 3
%より少ないと、ガラスの構造が脆弱となる一方、前記総量が 90%を超えると、溶融 性が低下し生産性が落ちる。したがって前記総量は 60— 90%の範囲が好ましい。よ り好ましい範囲は 68— 88%の範囲である。
[0028] アルカリ金属酸化物 R O (R=Li, Na, K)は、溶融性を改善し、生産性を向上させ
2
る。アルカリ金属酸ィ匕物の総量が 5%未満では、溶融改善性に十分な効果が発揮で きなくなると共に、イオン交換処理によるガラス基板の強度アップが図れなくなる。一 方総量が 15%を超えると、ガラス骨格間に分散されるアルカリ量が過剰となりアル力 リ溶出量が増大し、化学的耐久性が著しく低下する。また強化処理において過剰に イオン交換反応が進行し、強化層の厚さ制御が困難となる。したがってアルカリ金属 酸化物の総量は 5— 15%の範囲が好ましい。より好ましい範囲は 7— 16%の範囲で ある。また、アルカリ溶出量を低減する、いわゆるアルカリ混合効果を得るためには、 前記アルカリ金属酸ィ匕物の各成分の下限含有量をそれぞれ 0. 5%とするのが望まし い。
[0029] 2価の金属酸化物 R' O (R'： Mg, Ca, Sr, Ba, Zn)は、剛性を上げると共に溶融 性を改善し、ガラス構造を安定化させる効果を奏する。 R' Oの総量が 20%を超える と、ガラス構造が不安定となり溶融生産性が低下すると共に化学的耐久性が低下す る。したがって R' Oの含有量は 20%以下が好ましい。 R' Oの総量のより好ましい上 限値は 18%である。 R' Oの各成分の好適含有量は次の通りである。
[0030] MgOは剛性を上げると共に溶融性を改善する効果を奏する。含有量が 20%を超 えるとガラス構造が不安定となり、溶融生産性が低下すると共に化学的耐久性が低 下するおそれがある。したがって含有量は 0— 19%の範囲が好ましい。より好ましい 上限値は 18%である。
[0031] また CaOは線熱膨張係数及び剛性を上げると共に溶融性を改善する効果を奏す る。含有量が 10%を超えると、ガラス構造が不安定となり溶融生産性が低下すると共 に化学的耐久性が低下するおそれがある。したがって含有量は 0— 10%の範囲が 好ましい。より好ましい上限値は 9%である。
[0032] SrOは線熱膨張係数を上げ、ガラス構造を安定ィ匕すると共に、溶融性を改善する 効果を奏する。含有量が 8%を超えるとガラス構造が不安定となるおそれがある。した 力 て含有量は 0— 8%の範囲が好まし 、。より好まし 、上限値は 6%である。
[0033] BaOは SrOを同じ効果を奏し、その含有量が 8%を超えるとガラス構造が不安定と なるおそれがある。したがって含有量は 0— 8%の範囲が好ましい。より好ましい上限 値は 6%である。
[0034] ZnOは化学的耐久性及び剛性を上げると共に溶融性を改善する効果を奏する。
含有量が 6%を超えると、ガラス構造が不安定となり溶融生産性が低下すると共に化 学的耐久性が低下するおそれがある。したがって含有量は 0— 6%の範囲が好まし い。より好ましい上限値は 5%である。
[0035] TiOはガラスの構造を強固にし、剛性を向上させると共に溶融性を改善する効果
2
を奏する。また ZrOもガラスの構造を強固にし剛性を向上させると共に化学的耐久
2
性を向上させる効果を奏する。そして Ln Oはガラスの構造を堅固にし剛性および靭 性を向上させる効果を奏する。なお、この Ln Oはランタノイド金属酸ィ匕物及び Y O
2 3
, Nb O , Ta O力 なる群より選ばれた少なくとも 1つの化合物を意味し、ランタノィ
2 5 2 5
ド金属酸化物としては、 Ln Oや LnOなどが種類があり、 Lnとしては La、 Ce、 Er、 Pr
2 3
、 Nd、 Pm、 Sm、 Eu、 Gd、 Tb、 Dy、 Ho、 Tm、 Yb、 Luなどが挙げられる。ここで（Ti O +ZrO +Ln O )が 15%を超えるとガラスが不安定となり、靭性が大幅に低下す
2 2
ると共に失透傾向が高まり生産性が著しく低下する。したがってこれらの総量は 15% 以下が好ましい。より好ましい総量は 0. 5— 13%の範囲である。
[0036] また本発明のガラス組成物では B Oの含有量がゼロでない場合、 Al O ZB Oを
2 3 2 3 2 3
1. 5より大きくする必要がある。 Al O /B Oが 1. 5以下であると、ガラスの構造が
2 3 2 3
脆弱になり、十分な靭性が得られなくなると共に、強化処理においてイオン交換が安 定して進行しに《なるからである。
[0037] 本発明のガラス成分として、 Sb Oなどの清澄剤を 2%以下の範囲でさらに添加し てもよい。その他必要により従来公知のガラス成分及び添加剤を本発明の効果を害 しな 、範囲で添カ卩しても構わな 、。
[0038] 前記ガラス成分力 ガラス基板を製造する方法に特に限定はなぐこれまで公知の 製造方法を用いることができる。例えば、各成分の原料として各々相当する酸化物、 炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等を使用し、所望の割合に秤量し、粉末で十分に混合し て調合原料とする。これを例えば 1, 300— 1, 550°Cに加熱された電気炉中の白金 坩堝などに投入し、溶融清澄後、撹拌均質化して予め加熱された铸型に铸込み、徐 冷してガラスブロックにする。次に、ガラス転移点付近まで再加熱し、徐冷して歪み取 りを行う。そして得られたガラスブロックを円盤形状にスライスして、内周および外周を 同心円としてコアドリルを用いて切り出す。あるいは溶融ガラスをプレス成形して円盤 状に成形する。
[0039] 本発明に係るガラス基板ではつぎの諸物性を満足して 、るのが好ま 、。まず、比 弾性率 (EZ )が 30以上であるのが好まし 、。強化処理を行って!/、な 、ガラス基板 では機械的強度は基板の剛性に依存するため、比弾性率が 30よりも小さいと、基板 の機械的強度が不十分となり、 HDD搭載時に外部力 衝撃を受けた際、 HDD部材 との締結部分力も破損しやすくなるからである。より好ましい比弾性率 (EZ p )は 31 以上である。
[0040] ビッカース硬度 Hvは 450— 650の範囲が好まし!/ヽ。ビッカース硬度 Ην力 50よりも 小さいと、衝撃による破損や製造工程内での損傷が生じやすくなる。一方、ピッカー ス硬度 Ηνが 650よりも大き 、と、ガラス基板の研磨カ卩ェにお 、て研磨レート低下し、 所望の平滑面が得られに《なる共に、研磨カ卩ェ後のテープテクスチャー加工による 表面形状の調整やテープもしくはスクラブ洗浄処理による表面欠陥修正などが困難 となるからである。ビッカース硬度をこのような範囲とするには、例えば目的とする主 物性を劣化させな 、範囲で、ガラス中のイオン充填率を高めるように成分比率を調整 すればよい。ビッカース硬度 Ηνのより好ましい下限値は 500であり、より好ましい上限 値は 630である。
[0041] アルカリ溶出量 Αは 2. 5インチディスク当たり 350ppb以下が好ましい。アルカリ溶 出量 Aが 350ppbより多いと、ガラス基板を情報記録用媒体として用いた場合に、ガ ラス基板表面に形成される磁性膜などの記録膜が、溶出したアルカリ成分によって劣 ィ匕する力もである。より好まし 、アルカリ溶出量 Aは 320ppb以下である。
[0042] Si溶出量 Sは 2. 5インチディスク当たり 500ppb以下が好ましい。 SiOはガラス骨
2
格の主成分であるから、 Si溶出量 Sはガラスの耐水性、すなわち水に対する安定度 を示す一つの指標となる。 Si溶出量 Sが 500ppbより多いと耐水性に劣り、製造工程 における研磨や洗浄工程での生産安定性が低下し、また大気中の水分による影響 を受けやすいので保存安定性が悪くなる。 Si溶出量 Sのより好ましい範囲は、 2. 5ィ ンチディスク当たり 400ppb以下である。
[0043] 破壊靭性値 Kcは 0. 80以上が好ましい。ガラス基板を情報記録用媒体として用い る場合、破壊靭性値 Kcが 0. 80未満であると、ガラス基板表面に磁性膜などの記録 膜を形成する工程において加わえられる圧力などによりガラス基板にひび割れが生 じることが
ある力もである。また、破壊靭性値 Kcが 0. 80未満であると、基板の機械加工におい て基板が損傷を受けやすくなり、加工歩留まりが大きく低下する。破壊靭性値 Kcのよ り好ましい範囲は 0. 85以上である。
[0044] 本発明のガラス基板は、その大きさに限定はなく 3. 5, 2. 5, 1. 8インチ、あるいは それ以下の小径ディスクとすることもでき、またその厚さは 2mmや lmm、 0. 63mm, あるいはそれ以下と!/、つた薄型とすることもできる。
[0045] 次に、本発明のガラス基板を用いた情報記録用媒体について説明する。情報記録 用媒体の基板として本発明のガラス基板を用いると、耐久性および高記録密度が実 現される。以下、図面に基づき情報記録用媒体について説明する。
[0046] 図 2は磁気ディスクの斜視図である。この磁気ディスク Dは、円形のガラス基板 1の 表面に磁性膜 2を直接形成したものである。磁性膜 2の形成方法としては従来公知 の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性榭脂を基板上に スピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めつきにより形成する方法 が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約 0. 3-1. 2 /z m程度、スパッタリング法で の膜厚 ίま 0. 04-0. 08 μ m程度、無電解めつき法での膜厚 ίま 0. 05-0. 1 μ m程 度であり、薄膜ィ匕および高密度化の観点力 はスパッタリング法および無電解めつき 法による膜形成が好ましい。
[0047] 磁性膜に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが 、高い保持力を得るために結晶異方性の高い Coを基本とし、残留磁束密度を調整 する目的で Niや Crをカ卩えた Co系合金などが好適である。具体的には、 Coを主成分 とする CoPtゝ CoCrゝ CoNiゝ CoNiCrゝ CoCrTa、 CoPtCrゝ CoNiPtや、 CoNiCrPt 、 CoNiCrTa、 CoCrPtTa、 CoCrPtB、 CoCrPtSiOなどが挙げられる。磁性膜は、 非磁性膜 (例えば、 Cr、 CrMo、 CrVなど)で分割しノイズの低減を図った多層構成（ 例えば、 CoPtCr/CrMo/CoPtCr, CoCrPtTaZCrMoZCoCrPtTaなど）とし てもよい。上記の磁性材料の他、フェライト系、鉄-希土類系や、 SiO、 BNなどから
2
なる非磁性膜中に Fe、 Co、 FeCo、 CoNiPt等の磁性粒子を分散された構造のダラ 二ユラ一などであってもよい。また、磁性膜は、内面型および垂直型のいずれの記録 形式であってもよい。
[0048] また、磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティング してもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル (PFP E)をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
[0049] さらに必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスクにおける下地層は 磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、 Cr、 Mo、 Ta、 Ti、 W、 V、 B、 Al、 Niなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられ る。 Coを主成分とする磁性膜の場合には、磁気特性向上等の観点カゝら Cr単体や Cr 合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積 層した複数層構造としても構わない。例えば、 CrZCr、 Cr/CrMo, Cr/CrV, Ni Al/Cr, NiAl/CrMo, NiAlZCrV等の多層下地層としてもよい。
[0050] 磁性膜の摩耗や腐食を防止する保護層としては、例えば、 Cr層、 Cr合金層、カー ボン層、水素化カーボン層、ジルコユア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護 層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また 、これらの保護層は、単層としてもよぐあるいは、同一又は異種の層からなる多層構 成として
もよい。なお、上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成し てもよい。例えば、上記保護層に替えて、 Cr層の上にテトラアルコキシランをアルコー ル系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成 して酸ィ匕ケィ素（SiO )層を形成してもよい。
2
[0051] 以上、情報記録用媒体の一実施態様として磁気ディスクについて説明したが、情 報記録用媒体はこれに限定されるものではなぐ光磁気ディスクや光ディスクなどにも 本発明のガラス基板を用いることができる。
実施例 1
[0052] 実施例 1一 9,比較例 1一 4
定められた量の原料粉末を白金るつぼに秤量して入れ、混合したのち、電気炉中 で 1, 550°Cで溶解した。原料が充分に溶解したのち、撹拌羽をガラス融液に挿入し 、約 1時間撹拌した。その後、撹拌羽を取り出し、 30分間静置したのち、治具に融液 を流しこむことによってガラスブロックを得た。その後各ガラスのガラス転移点付近ま でガラスブロックを再加熱し、徐冷して歪取りを行った。得られたガラスブロックを厚さ 0. 635mmの円盤形状にスライスし、内周（内径 20mm) ,外周（外径 65mm)を同心 円としてカッターを用いて切り出した。
[0053] 350°Cにカロ熱した、 70mol%の NaNOと 30mol%の KNOの硝酸塩混合溶液に、上
3 3
記作製したガラス基板を 0. 5時間浸漬して、ガラス基板の表面以下に強化層を形成 した。そして、ガラス基板の上下両面を酸ィ匕セリウムによって合わせて 100 m粗研 磨及び研磨を行つた後、洗浄を行って実施例 1一 9及び比較例 1一 3のガラス基板を 作製した。なお、比較例 4のガラス基板における研磨量は上下両面で 20 mとした。 作製したガラス基板につ!、て各種物性を、前述の測定方法および下記測定方法に よって行った。測定結果を表 1に示す。
[0054] (強化層の厚み）
研磨処理後のガラス基板の外周面、内周面、記録面を偏光顕微鏡によって観察し 、強化層の厚みを測定した。
[0055] (円環強度比）
図 4に示す装置を用いてガラス基板の円環曲げ強度試験を行った。具体的には、 ガラス基板にスチールボールを介して荷重を加え、ガラス基板が破壊した時の荷重 を測定し破壊荷重とした。この円環曲げ強度試験を、化学強化をした場合としていな
V、場合にっ 、てそれぞれ行! 、、その強度 (破壊荷重) Fの比 (F /¥ )を算 強化処理 未処理 出した。
[0056] (平坦度）
ディスク形状測定器 rWYKO400Gj WYKO社製を用 、てガラス基板の平坦度を測 し 7こ。
[0057] [表 1]
Figure imgf000016_0001
表 1から明らかなように、実施例 1 9のガラス基板では、円環強度比が 1. 5以上と 化学強化しな力つた場合に比べ強度が 50%以上向上した。カロえて、ガラス基板の平 坦度が 3 μ m以下と情報記録媒体用として申し分のないものであった。
一方、アルカリ金属酸ィ匕物の含有量の多力つた比較例 1のガラス基板では、化学強 化処理にぉ 、て過剰にイオン交換反応が進行して強化層の厚さが 120 mに達し、 研磨処理後も記録面に 70 mの強化層が残存した。このため、アルカリ溶出量が 62 3ppbと多くなり、また平坦度も 33 mと非常に高くなり、情報記録用媒体のガラス基 板には不適なものであった。比較例 2のガラス基板では、 Al O ZB Oが 1. 3と小さ
2 3 2 3
力たっため、化学強化処理においてイオン交換が安定して進行せず強化層は形成 されなかった。このためガラス基板の強度アップは図れなかった。また、ガラスの構造 が脆弱で Si
溶出量が 709ppbと高力つた。比較例 3のガラス基板では、アルカリ金属酸化物の総 量が 4. 0%と少なかったため化学強化処理において強化層が形成されず、ピッカー ス硬度が 655と硬くなり加工性が低下しており、また破壊靭性が 0. 78と低い強度で あった。また Si溶出量 Sが 563ppbと高力つた。比較例 4のガラス基板は、実施例 5の ガラス基板と同じガラス組成であって、研磨処理による研磨量を上下両面で 20 m( 片面 10 μ m)として、記録面に強化層を 5 μ m残存させたものである。このようなガラ ス基板では研磨後の平坦度が 15 mと高かぐ情報記録媒体用として不適であった
[0059] 次に、化学強化溶液の成分と化学強化処理の温度'時間とを変化させて、ガラス基 板に形成される強化層の厚みを測定した。なお、ガラス材は実施例 1のものを使用し た。そしてその後、所定厚さ研磨して各ガラス基板の円環強度比および平坦度を測 定した。結果を表 2に示す。
[0060] [表 2]
Figure imgf000018_0001
表 2によれば、硝酸塩の成分比や処理温度、処理時間を変えることによりガラス基 板に形成される強化層の厚みを制御できることがわかる。また、記録面に形成された 強化層を研磨削除し、ガラス基板の外周面および内周面にのみ強化層を残存させた 状態とすることによって、円環曲げ強度を 1. 5-2. 3倍にでき、且つ記録面の平滑 度を 3 μ m以下にできることがわかる。

Claims

請求の範囲
[1] 化学強化された情報記録媒体用ガラス基板であって、化学強化による強化層が、 外周面および内周面に存在し、情報記録層が形成される面に実質的に存在しな!ヽこ とを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
[2] 前記情報記録層が形成される面におけるガラス成分が重量％で、
SiO :40— 75%
2 、
Al O : 3— 20%
2 3 、
B O : 0— 8% (ただし、ゼロを含む）、
2 3
R 0 (R = Li, Na, K)の総量： 5— 15%
2 、
SiO +A1 O +B O : 60— 90%
2 2 3 2 3 、
R，0 (R，=Mg, Ca, Sr, Ba, Zn)の総量： 0— 20% (ただし、ゼロを含む）、
TiO +ZrO +Ln O : 0— 15% (ただしゼロを含む、また Ln Oはランタノイド金属
2 2
酸化物及び Y O , Nb O , Ta Ο力 なる群より選ばれた少なくとも 1つの化合物を
2 3 2 5 2 5
意味する）
であって、
1. 5<A1 O /B O 又は B O =0%
2 3 2 3 2 3
を満足する請求項 1記載の情報記録媒体用ガラス基板。
[3] 比弾性率 (EZ )が 30以上、ビッカース硬度 Hv力 50— 650、アルカリ溶出量 A が 2. 5インチディスク当たり 350ppb以下、 Si溶出量 Sが 2. 5インチディスク当たり 50
Oppb以下、破壊靭性値 Kcが 0. 80 (MPaZm1/2)以上である請求項 1又は 2記載 の情報記録媒体用ガラス基板。
[4] 請求項 1一 3の ヽずれかに記載のガラス基板に情報記録層を形成したことを特徴と する情報記録媒体。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007164901A (ja) * 2005-12-14 2007-06-28 Konica Minolta Opto Inc 磁気記録媒体用ガラス基板、及び磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2007217204A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Konica Minolta Opto Inc 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法
JP2008198285A (ja) * 2007-02-13 2008-08-28 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法
JP2011251854A (ja) * 2010-05-31 2011-12-15 Konica Minolta Opto Inc ガラス基板
JP2012142046A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Konica Minolta Advanced Layers Inc ガラス基板およびその製造方法、ならびに情報記録装置
WO2014084096A1 (ja) * 2012-11-30 2014-06-05 旭硝子株式会社 強化ガラスおよびその製造方法
KR20190032429A (ko) * 2016-07-21 2019-03-27 코닝 인코포레이티드 높은 파괴 인성을 갖는 투명한 실리케이트 유리
JP2022033356A (ja) * 2016-10-18 2022-02-28 Ａｇｃ株式会社 化学強化用ガラス、化学強化ガラスおよび化学強化ガラスの製造方法
WO2023149384A1 (ja) * 2022-02-02 2023-08-10 Ａｇｃ株式会社 ガラス、化学強化ガラスおよびカバーガラス
US11767252B2 (en) 2016-01-21 2023-09-26 AGC Inc. Chemically strengthened glass, and glass for chemical strengthening

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4530618B2 (ja) * 2002-09-27 2010-08-25 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物及びガラス基板
TWI321752B (en) * 2005-10-06 2010-03-11 Quanta Comp Inc Audio/video playing system
US20070111042A1 (en) * 2005-11-16 2007-05-17 Seagate Technology Llc Alkali-depleted glass & glass-based substrates for magnetic & magneto-optical recording media
WO2008004468A1 (fr) * 2006-07-03 2008-01-10 Konica Minolta Opto, Inc. Procédé de nettoyage et procédé de production d'un substrat de verre, et disque magnétique utilisant ce substrat de verre
MY149133A (en) * 2006-07-03 2013-07-15 Konica Minolta Opto Inc Method for fabricating a glass substrate, magnetic disk, and method for fabricating the same
WO2008004472A1 (fr) * 2006-07-03 2008-01-10 Konica Minolta Opto, Inc. Procédé de fabrication d'un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations et disque magnétique utilisant ce procédé
JPWO2008004469A1 (ja) * 2006-07-03 2009-12-03 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス基板の洗浄方法、製造方法およびそれを用いた磁気ディスク
WO2008044694A1 (en) * 2006-10-10 2008-04-17 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Reinforced glass substrate
JP4208035B2 (ja) * 2006-10-16 2009-01-14 コニカミノルタオプト株式会社 情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体並びに情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
US20100075180A1 (en) * 2006-10-16 2010-03-25 Hiroaki Ueda Magnetic recording medium substrate and manufacturing method thereof, and magnetic recording medium and manufacturing method thereof
MY182785A (en) 2007-09-28 2021-02-05 Hoya Corp Glass substrate for magnetic disk and manufacturing method of the same
JP2009104703A (ja) * 2007-10-23 2009-05-14 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
CN105776849B (zh) 2007-11-29 2020-04-14 康宁股份有限公司 具有改进的韧性和抗刮性的玻璃
WO2010029878A1 (ja) * 2008-09-10 2010-03-18 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク
US9190096B2 (en) * 2008-10-17 2015-11-17 Hoya Corporation Method for producing glass substrate and method for producing magnetic recording medium
US8341976B2 (en) * 2009-02-19 2013-01-01 Corning Incorporated Method of separating strengthened glass
US8206789B2 (en) * 2009-11-03 2012-06-26 Wd Media, Inc. Glass substrates and methods of annealing the same
JP4752966B2 (ja) * 2009-12-08 2011-08-17 旭硝子株式会社 データ記憶媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板
JP4760975B2 (ja) * 2009-12-22 2011-08-31 旭硝子株式会社 データ記憶媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板
DE102010009584B4 (de) * 2010-02-26 2015-01-08 Schott Ag Chemisch vorgespanntes Glas, Verfahren zu seiner Herstellung sowie Verwendung desselben
JP5837492B2 (ja) * 2010-06-30 2015-12-24 Hoya株式会社 情報記録媒体用ガラス基板
US8316668B1 (en) 2010-09-23 2012-11-27 Wd Media, Inc. Composite magnetic recording medium
US20140011035A1 (en) * 2011-03-31 2014-01-09 Nippon Sheet Glass Company, Limited Glass composition suitable for chemical strengthening and chemically strengthened glass article
JP2012232882A (ja) * 2011-04-18 2012-11-29 Asahi Glass Co Ltd 化学強化ガラスの製造方法および化学強化用ガラス
US8834962B2 (en) 2011-06-03 2014-09-16 WD Media, LLC Methods for improving the strength of glass substrates
CN102352143B (zh) * 2011-06-29 2013-10-02 济南大学 降低铂铑合金漏板损耗的玻璃涂层及涂膜工艺
US8893527B1 (en) 2011-07-21 2014-11-25 WD Media, LLC Single surface annealing of glass disks
US20130136909A1 (en) 2011-11-30 2013-05-30 John Christopher Mauro Colored alkali aluminosilicate glass articles
TWI592382B (zh) * 2012-05-30 2017-07-21 宸鴻科技控股有限公司 硬質基板、觸控面板及硬質基板的處理方法
JP6261399B2 (ja) * 2014-03-17 2018-01-17 株式会社神戸製鋼所 磁気記録媒体用アルミニウム基板
US9670088B2 (en) 2014-05-20 2017-06-06 Corning Incorporated Scratch resistant glass and method of making
US11097974B2 (en) 2014-07-31 2021-08-24 Corning Incorporated Thermally strengthened consumer electronic glass and related systems and methods
US10259745B2 (en) 2015-02-27 2019-04-16 Corning Incorporated Low temperature chemical strengthening process for glass
EP3402762B1 (en) 2016-01-12 2023-11-08 Corning Incorporated Thin thermally and chemically strengthened glass-based articles
KR20180098546A (ko) * 2016-01-21 2018-09-04 에이지씨 가부시키가이샤 화학 강화 유리 및 화학 강화 유리의 제조 방법
US11795102B2 (en) * 2016-01-26 2023-10-24 Corning Incorporated Non-contact coated glass and related coating system and method
JP6574740B2 (ja) * 2016-07-08 2019-09-11 昭和電工株式会社 磁気記録媒体用基板およびハードディスクドライブ
CN108101358B (zh) * 2017-12-15 2021-05-18 成都光明光电股份有限公司 玻璃组合物
US11591255B2 (en) 2018-05-22 2023-02-28 Corning Incorporated Low temperature moldable sheet forming glass compositions
JP2022512405A (ja) 2018-12-12 2022-02-03 コーニング インコーポレイテッド イオン交換可能なリチウム含有アルミノケイ酸塩ガラス
KR20220044538A (ko) 2019-08-06 2022-04-08 코닝 인코포레이티드 균열을 저지하기 위한 매장된 응력 스파이크를 갖는 유리 적층물 및 이를 제조하는 방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998055993A1 (fr) * 1997-06-05 1998-12-10 Hoya Corporation Substrat pour support d'enregistrement d'information
JP2000082211A (ja) * 1998-06-30 2000-03-21 Hoya Corp 情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体
JP2000207730A (ja) * 1999-01-12 2000-07-28 Ishizuka Glass Co Ltd 磁気記録媒体用ガラス基板

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE618737A (ja) * 1961-06-12
US5780371A (en) * 1994-10-13 1998-07-14 Saint-Gobain Vitrage S.A. Reinforced glass substrate
US5476821A (en) 1994-11-01 1995-12-19 Corning Incorporated High modulus glass-ceramics containing fine grained spinel-type crystals
US5674790A (en) * 1995-12-15 1997-10-07 Corning Incorporated Strengthening glass by ion exchange
US5691256A (en) * 1995-12-28 1997-11-25 Yamamura Glass Co., Ltd. Glass composition for magnetic disk substrates and magnetic disk substrate
FR2744440B1 (fr) * 1996-02-07 1998-03-20 Saint Gobain Vitrage Procede de traitement de substrats en verre
US6030537A (en) 1996-08-02 2000-02-29 Engelhard Corporation Method for removing arsenic from aqueous systems containing competing ions
DE19802919C1 (de) * 1998-01-27 1999-10-07 Schott Glas Verwendung von Gläsern als Festplattensubstrate
GB2335423A (en) * 1998-03-20 1999-09-22 Pilkington Plc Chemically toughenable glass
SG77697A1 (en) 1998-06-30 2001-01-16 Hoya Corp Substrate for information recording medium and method of producing it and information recording medium comprising the substrate
JP2972830B1 (ja) 1998-08-31 1999-11-08 株式会社三井金属プレシジョン 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP3995902B2 (ja) * 2001-05-31 2007-10-24 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用ガラス基板及びそれを用いた磁気情報記録媒体
JP4185266B2 (ja) * 2001-07-25 2008-11-26 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用基板の製造方法
US7197897B2 (en) * 2002-04-04 2007-04-03 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Chemical strengthening process for disks used in disk drive data storage devices
JP4282273B2 (ja) * 2002-06-07 2009-06-17 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス基板
JP4530618B2 (ja) * 2002-09-27 2010-08-25 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物及びガラス基板
JP4726399B2 (ja) * 2003-05-29 2011-07-20 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス基板
JP4039381B2 (ja) * 2004-03-25 2008-01-30 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物を用いた情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998055993A1 (fr) * 1997-06-05 1998-12-10 Hoya Corporation Substrat pour support d'enregistrement d'information
JP2000082211A (ja) * 1998-06-30 2000-03-21 Hoya Corp 情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体
JP2000207730A (ja) * 1999-01-12 2000-07-28 Ishizuka Glass Co Ltd 磁気記録媒体用ガラス基板

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007164901A (ja) * 2005-12-14 2007-06-28 Konica Minolta Opto Inc 磁気記録媒体用ガラス基板、及び磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2007217204A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Konica Minolta Opto Inc 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法
JP2008198285A (ja) * 2007-02-13 2008-08-28 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法
JP2011251854A (ja) * 2010-05-31 2011-12-15 Konica Minolta Opto Inc ガラス基板
JP2012142046A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Konica Minolta Advanced Layers Inc ガラス基板およびその製造方法、ならびに情報記録装置
WO2014084096A1 (ja) * 2012-11-30 2014-06-05 旭硝子株式会社 強化ガラスおよびその製造方法
US11767252B2 (en) 2016-01-21 2023-09-26 AGC Inc. Chemically strengthened glass, and glass for chemical strengthening
KR20190032429A (ko) * 2016-07-21 2019-03-27 코닝 인코포레이티드 높은 파괴 인성을 갖는 투명한 실리케이트 유리
KR102325306B1 (ko) 2016-07-21 2021-11-12 코닝 인코포레이티드 높은 파괴 인성을 갖는 투명한 실리케이트 유리
JP2019529298A (ja) * 2016-07-21 2019-10-17 コーニング インコーポレイテッド 破壊靭性が高い透明なケイ酸塩ガラス
JP2022033356A (ja) * 2016-10-18 2022-02-28 Ａｇｃ株式会社 化学強化用ガラス、化学強化ガラスおよび化学強化ガラスの製造方法
JP7327533B2 (ja) 2016-10-18 2023-08-16 Ａｇｃ株式会社 化学強化用ガラス、化学強化ガラスおよび化学強化ガラスの製造方法
WO2023149384A1 (ja) * 2022-02-02 2023-08-10 Ａｇｃ株式会社 ガラス、化学強化ガラスおよびカバーガラス

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