JPH09263421A - 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル - Google Patents
無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネルInfo
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- JPH09263421A JPH09263421A JP8074008A JP7400896A JPH09263421A JP H09263421 A JPH09263421 A JP H09263421A JP 8074008 A JP8074008 A JP 8074008A JP 7400896 A JP7400896 A JP 7400896A JP H09263421 A JPH09263421 A JP H09263421A
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Abstract
リガラスを得る。 【解決手段】歪点が640℃以上であって、モル%表示
で実質的に、SiO2 :65〜74、Al2 O3 :7〜
14、B2 O3 :1.5〜5.5、MgO:1.5〜
8、CaO:1.5〜8、SrO:1.5〜8、Ba
O:0〜1未満、MgO+CaO+SrO+BaO:1
2〜20、からなり、アルカリ金属酸化物およびリンを
実質的に含有しない。
Description
やフォトマスク用基板ガラスとして好適な、アルカリ金
属酸化物を実質上含有せずフロート成形の可能な、無ア
ルカリガラスに関する。
特に表面に金属ないし酸化物薄膜等を形成させるもので
は、以下の特性が要求されている。 (1)アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ
金属イオンが薄膜中に拡散して膜特性を劣化させるた
め、実質的にアルカリ金属イオンを含まないこと。 (2)薄膜形成工程で高温にさらされるので、ガラスの
変形およびガラスの構造安定化に伴う収縮(熱収縮)を
最小限に抑えるため、高い歪点を有すること。 (3)半導体形成に用いられる各種薬品に対して充分な
化学耐久性を有すること。特にSiOx やSiNx のエ
ッチングのためのバッファードフッ酸(フッ酸+フッ化
アンモニウム;BHF)、およびITOのエッチングに
用いられる塩酸を含有する薬液、金属電極のエッチング
に用いられる各種の酸(硝酸、硫酸等)、レジスト剥離
液、洗浄液のアルカリに対して耐久性があること。 (4)内部および表面に欠点(泡、脈理、インクルージ
ョン、ピット、キズ等)をもたないこと。
うな状況がある。 (5)ディスプレイの軽量化が要求され、ガラス自身も
密度の小さいガラスが望まれてきた。 (6)ディスプレイの軽量化の方法として、基板ガラス
の薄板化が望まれてきた。 (7)これまでのアモルファスシリコンタイプの液晶デ
ィスプレイに加え、若干熱処理温度の高い多結晶シリコ
ンタイプの液晶ディスプレイが作製されるようになって
きた。
を向上するが、歪点を下げるおそれがあるため、多く含
有すると歪点を上げるのが困難になる。また、B2 O3
は熔解中に揮散しやすい成分であるために、製品ガラス
板の不均一(脈理)となりやすく、B2 O3 の少ない組
成は製造上メリットがある。
スとしては、以下のようなものがある。
〜3重量%含有しかつCaOが8重量%以上含まれる組
成が開示されている。特公平7−98672、特公平7
−98673にはいずれもB2 O3 を含有しない組成が
開示されているが、熔解に必要な温度が高すぎて熔解が
困難である。特開平5−232458にはB2 O3 を0
〜5モル%含有する組成が開示されているが、SrOを
15モル%以上含有し、熱膨張係数が大きい。特開平5
−193980にはB2 O3 を1〜7モル%含有する組
成が開示されているが、BaOを4.5モル%以上含有
し、耐BHF性に劣る場合がある。
O3 含有量が少ないながら耐BHF性を維持し、熔解・
成形が容易で、フロート成形が可能な無アルカリガラス
を提供することにある。
℃以上であって、モル%表示で実質的に、 SiO2 65〜 74、 Al2 O3 7〜 14、 B2 O3 1.5〜 5.5、 MgO 1.5〜 8、 CaO 1.5〜 8、 SrO 1.5〜 8、 BaO 0〜 1未満、MgO+CaO+
SrO+BaO 12〜20、からなり、アルカリ金属
酸化物およびリンを実質的に含有しない無アルカリガラ
スである。
を限定した理由について述べる。
る)未満では歪点が充分に上げられないとともに、化学
耐久性(特に耐酸性(例えば塩酸))が悪化し、熱膨張
係数が増大し、密度も上昇する。74%超では熔解性が
低下し、失透温度も上昇する。66〜74%がより好ま
しい。
膨張係数を下げ、歪点を上げるが、7%未満ではこの効
果があらわれず、14%超ではガラスの熔解性が悪くな
ったり、失透温度を上昇させる。8〜13.5%がより
好ましい。
また、失透温度を低下させるため1.5%以上添加され
るが、5.5%超では歪点が低くなる。1.5%以上5
%未満がより好ましい。
膨張係数を高くせず、かつ歪点を過大には低下させない
という特徴を有し、熔解性も向上させるため1.5%以
上添加される。8%超ではBHFによる白濁やガラスの
分相、失透温度の上昇が生じるおそれがある。2〜8%
がより好ましい。
酸化物中では熱膨張係数を高くせず、かつ歪点を過大に
は低下させないという特徴を有し、熔解性も向上させる
ため1.5%以上添加される。8%超ではBHFによる
白濁やガラスの分相、失透温度の上昇が生じるおそれが
あり、失透温度が、成形性の目安となるlogη=4.
0の温度より高くなるおそれがある。2〜8%がより好
ましい。
熔解性も向上させ、BHFによる白濁に対し比較的有用
な成分であるため、1.5%以上含有される。8%超で
は熱膨張係数が増大する。2〜8%がより好ましい。
の熱膨張係数、密度を過大に増加させるおそれがあるの
で1%未満とする。より好ましくは実質的に無添加とす
る。
スの熔解性を確保するため、合量で12%以上含有され
る。20%超では熱膨張係数が大きくなりすぎるおそれ
がある。好ましくは、BaOを実質的に含有せず、Mg
O、CaO、SrOを合量で12〜18%とする。
スの熔解性、清澄性、成形性を改善するため、ZnO、
Fe2 O3 、SO3 、F、Clを総量で5%以下添加が
できる。
酸化物およびリンを実質的に含有しない。ガラス基板上
に形成される膜特性や半導体特性を劣化させないためで
ある。また、鉛、ヒ素、アンチモンなどは実質的に含有
しないことが好ましい。
40℃以上である。特に、ディスプレイ製造時の熱処理
による収縮を小さく抑えるためには、歪点が650℃以
上であることが好ましい。
℃での平均熱膨張係数が30×10-7/℃以上50×1
0-7/℃未満であることが好ましい。より好ましくは、
33×10-7/℃〜43×10-7/℃である。
で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標成分
になるように調合し、これを熔解炉に連続的に投入し、
1500〜1600℃に加熱して熔融する。この熔融ガ
ラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切
断する。
し、白金坩堝を用いて1500〜1600℃の温度で熔
解した。熔解にあたっては、白金スターラーを用い撹拌
しガラスの均質化を行った。次いで熔解ガラスを流し出
し、板状に成形後徐冷した。
数、歪点、密度、高温粘性(熔解性の目安となる粘度η
が100ポイズを示す温度(logη=2.0の温度)
とフロート成形性の目安となる粘度ηが10000ポイ
ズを示す温度(logη=4.0の温度))、失透温
度、BHFに浸漬したときの重量減、およびBHFに浸
漬したときのヘイズ値を示した。各特性は、以下のよう
に測定した。
計を用い、石英ガラスを参照試料として毎分5℃で昇温
しながら、室温〜屈伏点までの熱膨張曲線を測定し、5
0〜350℃の平均熱膨張係数を読み取り、記録した。
ファイバー法による。
る。
100℃で1日間熱処理し、内部に結晶が存在している
のを光学顕微鏡にて確認し、これを再び1300〜14
00℃に温度保持した電気炉中で20時間熱処理して、
内部の結晶が消滅する温度を記録した。
ッ酸と40%フッ化アンモニウム水溶液を1:9(体積
比)で混合した液に25℃で20分浸漬したときのガラ
スの単位面積あたりの重量減少量である。
洗浄、乾燥したガラスについて、光を当てたとき、ガラ
スの曇りにより散乱される光の割合である。スガ試験機
社製ヘイズメーターにて測定した。
ガラスも、熱膨張係数は30×10-7/℃〜50×10
-7/℃の低い値を示し、また、歪点は650℃以上と高
く、高温での熱処理に充分耐えられるものであることが
わかる。
0の温度は1760℃以下であり、熔解法により製造で
きることがわかる。さらに、成形性の目安となるlog
η=4.0の温度は失透温度より高いため、成形時に失
透が生成するなどのトラブルがないと考えられる。
発生も少なく、ディスプレイパネルの基板用として実用
的であると考えられる。
2 O3 含有量が少ないながら耐BHF性を維持し、熔解
が比較的容易で、フロート成形が可能であり、ディスプ
レイ用基板、フォトマスク基板、TFTタイプのディス
プレイ基板等、かかる特性を要求する用途に好適であ
る。
Claims (6)
- 【請求項1】歪点が640℃以上であって、モル%表示
で実質的に、 SiO2 65〜 74、 Al2 O3 7〜 14、 B2 O3 1.5〜 5.5、 MgO 1.5〜 8、 CaO 1.5〜 8、 SrO 1.5〜 8、 BaO 0〜 1未満、 MgO+CaO+SrO+BaO 12〜20、 からなり、アルカリ金属酸化物およびリンを実質的に含
有しない無アルカリガラス。 - 【請求項2】鉛、ヒ素およびアンチモンを実質的に含有
しない請求項1記載の無アルカリガラス。 - 【請求項3】50〜350℃での平均熱膨張係数が30
×10-7/℃以上50×10-7/℃未満である請求項1
または2記載の無アルカリガラス。 - 【請求項4】モル%表示で実質的に、 SiO2 66〜 74、 Al2 O3 8〜 13.5、 B2 O3 1.5〜 5未満、 MgO 2〜 8、 CaO 2〜 8、 SrO 2〜 8、 MgO+CaO+SrO 12〜18、 からなり、アルカリ金属酸化物、BaOおよびリンを実
質的に含有しない、請求項1、2または3記載の無アル
カリガラス。 - 【請求項5】歪点が650℃以上である請求項4記載の
無アルカリガラス。 - 【請求項6】請求項1、2、3、4または5記載の無ア
ルカリガラスを少なくとも一方の基板として使用したフ
ラットディスプレイパネル。
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