JPH08124340A - 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 テクスチャーの凹凸の高さの調整を、極めて
高い精度で行うことができる磁気記録媒体の製造方法を
提供すること、及びフライングハイトを小さくすること
により、大きな記録容量を得ることができ、しかもＣＳ
Ｓ耐久性の良い磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。 【構成】 平面度の高い基板１０を用意する（ステップ
１）。基板１０に、下地層２０、２０ａ、磁性層３０、
３０ａを順次形成する（ステップ２）。磁性層３０、３
０ａの上に、表面にテクスチャー４１、４１ａを有する
保護膜４０、４０ａを成膜する（ステップ３）。テクス
チャー４１、４１ａに対し第１段バーニッシュを行う
（ステップ４）。記録再生ゾーンにおいて、第１段バー
ニッシュ時より低い高さ設定で第２段バーニッシュを行
う（ステップ５）。このように、バーニッシュを、保護
膜が成膜された後に２段階に分けて行うことにより、小
さな摩擦係数を有するランディングゾーンと、テクスチ
ャーの凹凸の高さが低い記録再生ゾーンとを、精密な高
さ調整のもとに設けることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気的にデータの記録再
生をするための磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒
体に関し、特にＣＳＳ(Contact Start and Stop)を行う
ためのランディングゾーンを有する磁気記録媒体の製造
方法及び磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】パーソナル・コンピュータ等の各種デー
タ処理装置で取り扱われるデータ量の増大化に伴い、デ
ータを保存するための磁気ディスク装置にも、より大き
な記憶容量が要求されている。また、コンピュータの小
型化が進んだことにより、コンピュータに内蔵される磁
気ディスク装置も小型である必要がある。小型の磁気デ
ィスク装置を大容量化するには、磁気記録媒体の記録密
度を高密度化しなければならない。しかも、同時に高い
信頼性が要求されている。

【０００３】このように、高密度と高信頼性を得るため
に、ＣＳＳ方式が多く用いられている。ＣＳＳ方式と
は、磁気ディスク装置において磁気ディスク（磁気記録
媒体）が停止しているときは磁気ヘッドを磁気ディスク
上に接触させておき、磁気ディスクが回転すると、磁気
ディスクの回転に伴う空気の流れを利用して、磁気ヘッ
ドを浮上させる制御方式である。

【０００４】このようなＣＳＳ方式においては、磁気デ
ィスク装置の起動、停止時には、磁気ヘッドと磁気ディ
スクとが摺動し、摩擦が発生する。この摩擦量が大きけ
れば吸着が引き起こされる。磁気ヘッドの吸着は、磁気
ヘッドや磁気ディスクの破損を招いてしまう。従って、
摩擦量を抑えるために、磁気ディスク表面にテクスチャ
ーを設け、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの接触面積を減
らしている。なお、このＣＳＳを繰り返し行った場合の
磁気記録媒体の耐久性を、ＣＳＳ耐久性と呼ぶ。

【０００５】図３は従来の磁気記録媒体の断面図であ
る。基板６０の表と裏の両面に、１段目のテクスチャー
６１、６１ａと、その内周側の２段目のテクスチャー６
２、６２ａとが設けられている。この１段目のテクスチ
ャー６１、６１ａと、その内周側の２段目のテクスチャ
ー６２、６２ａとは、主に円周方向の同心円上に形成さ
れた溝である。１段目のテクスチャー６１、６１ａは溝
深さが小さく、２段目のテクスチャー６２、６２ａは溝
深さが大きい。テクスチャー６１、６１ａの上に、層７
０、７０ａが形成される。この層７０、７０ａは、基板
６０に近い方から、下地層、磁性層、保護膜の順で形成
されている。

【０００６】１段目のテクスチャー６１、６１ａ、及び
２段目のテクスチャー６２、６２ａの凹凸は、層７０、
７０ａの表面にも影響を及ぼし、表面に溝が形成され
る。テクスチャー６１、６１ａの上の領域８１は、記録
再生ゾーン７１、７１ａとして使用される。また、テク
スチャー６２、６２ａの上の領域８２は、ランディング
ゾーン７２、７２ａとして使用される。

【０００７】このように、記録再生ゾーン７１、７１ａ
とランディングゾーン７２、７２ａとのテクスチャーの
高さには、差が設けられている。ランディングゾーン７
２、７２ａでのテクスチャーの目的は、磁気ディスク装
置の起動、停止時に磁気ヘッドが接触する際の吸着を防
止するためのものであるが、一方、記録再生ゾーン７
１、７１ａでのテクスチャーは、外部からの振動や突然
の電源停止等の緊急時の障害発生を防止するためのもの
である。そのため、記録再生ゾーン７１、７１ａにおい
ては、テクスチャーの高さをできるだけ低く抑え、磁気
ヘッドのフライングハイト（磁気ヘッドが浮上した際
の、磁気記録媒体との距離）を小さくできるようにして
いる。このフライングハイトを小さくすることにより、
記録や再生の際の磁界の幅を絞ることができ、磁気記録
媒体に高密度に記録再生を行うことが可能となる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法で
はテクスチャー加工が基板面に行われているため、磁気
記録媒体の表面の最終的な溝深さの調整を、極めて精密
に行うことが困難であった。しかも、磁気記録媒体の記
憶容量の増大化に伴い、磁気ヘッドのフライングハイト
は０．１μｍ以下が要求されている。その要求に対応す
るには、テクスチャーの高さの調整を非常に精密に行わ
なければならない。

【０００９】このように、ＣＳＳ耐久性を得るためにテ
クスチャーが設けられており、そのテクスチャーの溝深
さの精度が悪いためフライングハイトを小さくすること
に限界があった。そのことが、磁気記録媒体の記録容量
の増大化を妨げているという問題点があった。

【００１０】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、テクスチャーの凹凸の高さの調整を、極めて
高い精度で行うことができる磁気記録媒体の製造方法を
提供することを目的とする。

【００１１】また、本発明の別の目的は、フライングハ
イトを小さくすることにより、大きな記録容量を得るこ
とができ、しかもＣＳＳ耐久性の良い磁気記録媒体を提
供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、ＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストッ
プ）を行うためのランディングゾーンを有する磁気記録
媒体の製造方法において、平面度の高い基板上に、磁性
層と、表面にテクスチャーを有する保護膜とを順次形成
し、前記テクスチャーに対し第１段バーニッシュを行
い、記録再生ゾーンにおいて、前記第１段バーニッシュ
時より低い高さ設定で第２段バーニッシュを行う、こと
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法が提供される。

【００１３】また、ＣＳＳ（コンタクト・スタート・ス
トップ）を行うためのランディングゾーンを有する磁気
記録媒体において、平面度の高い基板上に形成された磁
性層と、前記磁性層上に設けられ、前記ランディングゾ
ーンにおける第１のテクスチャーの凹凸の高さが２００
Å〜５００Å、記録再生ゾーンにおける第２のテクスチ
ャーの凹凸の高さが２００Å以下である保護膜と、を有
することを特徴とする磁気記録媒体が提供される。

【００１４】

【作用】磁気記録媒体の製造方法では、バーニッシュ
を、保護膜が成膜された後に２段階に分けて行うことに
より、小さな摩擦係数を有するランディングゾーンと、
テクスチャーの凹凸の高さが低い記録再生ゾーンとを、
精密な高さ調整のもとに設けることができる。

【００１５】また、磁気記録媒体は、ランディングゾー
ンにおける第１のテクスチャーの凹凸の高さが２００Å
〜５００Åであるため、ランディングゾーンでの摩擦係
数は小さい。さらに、記録再生ゾーンにおける第２のテ
クスチャーの凹凸の高さが２００Å以下であるため、磁
気ディスク装置に使用する際に、磁気ヘッドのフライン
グハイトを非常に低くすることが可能となる。また、ラ
ンディングゾーンの凹凸の高さが２００〜５００Åと小
さいため、０．１μｍ以下の低いフライングハイトのヘ
ッドがランディングゾーンに移動した際にヘッドクラッ
シュが起きることが無い。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図１は本発明の磁気記録媒体の製造方法の工程
を示す図である。 〔ステップ１〕極めて平滑な基板１０を用意する。この
基板１０の面粗さは、Ｒ _1P-P≦５０Åである。ここで言
う面粗さとは、基板１０面上の凹凸の大きさのことであ
る。即ち凹部の最も低い場所から、凸部の最も高い場所
までの高低差である。以下の説明中で用いられる凹凸の
大きさも、同様の定義である。

【００１７】基板１０には、ガラス基板、セラミックス
基板、シリコン基板、及びカーボン基板のように、平面
度の高い基板が望ましい。特にガラス基板では、鏡面に
近づけることが可能であるため、テクスチャーを設けた
場合の精度を向上させるのに有効である。なお、Ａｌ基
板等の金属基板も使用可能であるが、平面度を高めるの
に限界がある。 〔ステップ２〕基板１０両面に、下地層２０、２０ａ、
磁性層３０、３０ａを順次成膜する。これは、通過型イ
ンラインスパッタ装置を用いて、スパッタリングにより
成膜することができる。 〔ステップ３〕磁性層３０、３０ａの上にテクスチャー
４１、４１ａを有した保護膜４０、４０ａを成膜する。
このテクスチャー４１、４１ａは、等方的な凹凸であ
り、凹凸の高さは２００Å≦Ｒ_2P-P≦５００Åである。
等方的なテクスチャーを設ける方法としては、保護膜４
０、４０ａを塗布する際に、材料内に大きさの異なる微
粒子を混入させる方法がある。この微粒子の大きさの差
により、保護膜４０、４０ａ表面に等方的な凹凸が設け
られる。

【００１８】また、等方的なテクスチャーを設ける方法
としては、スパッタリングもしくは真空蒸着により、凹
凸を有する保護膜を形成させる方法でも良い。 〔ステップ４〕第１段バーニッシュを行う。この時のグ
ライドハイトの条件は、凹凸の高さがＲ_3P-P≧２００Å
となるような条件である。これにより、テクスチャー４
２、４２ａの凹凸の高さは２００Å〜５００Åの範囲に
なる。

【００１９】ここで、バーニッシュは、ヘッドの衝突が
起きないように突起部をカットする。つまり、グライド
ハイトの高さ条件よりも突出している部分をカットす
る。バーニッシュを行う方法には、研磨テープによる方
法と、バーニッシュヘッドによる方法がある。

【００２０】研磨テープによる方法は、一定の空気圧に
より研磨テープを磁気記録媒体に押し当てながら、磁気
記録媒体上を滑らせる。研磨テープはアルミナ砥粒等を
バインダとともにベースフィルム上に塗布したものを使
用する。砥粒の大きさ及び研摩テープの押しつけ空気圧
を変えることにより、任意の高さ条件でバーニッシュを
行うことができる。

【００２１】また、バーニッシュヘッドによる方法は、
ヘッドスライダに突起部をカットするための溝を設け、
磁気記録媒体上を滑空させる。バーニッシュヘッドの高
さに達する突起部は、接触時にカットされる。この際の
浮上量を調節することにより、設定された高さ以上に突
出した部分を除去することができる。 〔ステップ５〕記録再生ゾーンとして使用すべき領域に
対し、第２段バーニッシュを行う。この時のグライドハ
イトの条件は、凹凸の高さがＲ_4P-P≦２００Åとなるよ
うな条件である。これにより、磁気記録媒体表面は、記
録再生ゾーン４３、４３ａ（凹凸の高さがＲ_4P-P≦２０
０Å）と、ランディングゾーン４４、４４ａ（凹凸の高
さ２００Å≦Ｒ_3P-P≦５００Å）とに分けられる。換言
すると、記録再生ゾーン４３、４３ａの最大高さ（Ｒ
_MAX ）が、ランディングゾーン４４、４４ａの最大高さ
（Ｒ_MAX ）に比べ小さくなっている。

【００２２】このようにバーニッシュを、保護膜を設け
た後の最終段階で行うことにより、磁気記録媒体に２段
階のテクスチャーを高精度で設けることができる。しか
も、この製造方法は、従来の方法で使用していた製造設
備を用いて実施できるため、製造工程の変更が非常に容
易である。

【００２３】なお、磁気記録媒体表面に潤滑膜を設ける
ことにより、摩擦力をさらに小さくすることができる。
潤滑膜の改良等により摩擦力が小さくなれば、テクスチ
ャーの凹凸の高さをさらに小さくすることが可能とな
る。このような場合にも、バーニッシュの高さをさらに
低くすることにより、精密なテクスチャーを設けること
ができる。

【００２４】図２はＣＳＳを行う磁気ディスク装置の概
略構成を示す図である。（Ａ）は磁気記録媒体の上面図
である。磁気記録媒体１の上面は、記録再生ゾーン４３
と、ランディングゾーン４４とに分けられている。磁気
記録媒体１は、図中右回りに高速に回転する。ヘッドス
ライダ５０は、アーム５１の先端に設けられている。こ
のヘッドスライダ５０の後方（磁気記録媒体との相対的
移動方向の後方）に磁気ヘッドが設けられている。ヘッ
ドスライダ５０は、磁気記録媒体１の回転にともなう空
気の流れを利用して、一定の高さに浮上する。この浮上
量が、フライングハイトである。ヘッドスライダ５０
は、左右に移動することにより、任意のトラックに移動
する。

【００２５】（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ断面図である。基
板１０の両面には、下地層２０、２０ａ、磁性層３０、
３０ａ、及び保護膜４０、４０ａが成膜されている。保
護膜４０、４０ａには、２段階のテクスチャーが設けら
れており、記録再生ゾーン４３、４３ａと、ランディン
グゾーン４４、４４ａとに分けられている。記録再生ゾ
ーン４３、４３ａは、凹凸の高さがＲ_4P-P≦２００Åの
範囲である。従って、ヘッドスライダ５０、５０ａのフ
ライングハイトを２μｍ程にすることが可能である。ラ
ンディングゾーン４４、４４ａは、凹凸の高さが２００
Å≦Ｒ_3P-P≦５００Åの範囲である。従って、ヘッドス
ライダ５０、５０ａと磁気記録媒体１とが接触した際の
摩擦係数が、低く抑えられている。

【００２６】このような磁気ディスク装置の電源切断時
は、ヘッドスライダ５０、５０ａは、磁気記録媒体１の
ランディングゾーン４４、４４ａ上に乗せられている。
磁気ディスク装置の電源が投入されるとサーボモータが
回転することにより、磁気記録媒体１が回転する。これ
によって、ヘッドスライダ５０、５０ａが浮上する。こ
の時のフライングハイトは約０．０７５μｍである。

【００２７】データの記録再生動作時は、ヘッドスライ
ダ５０、５０ａが記録再生ゾーン４３、４３ａの任意の
トラックに移動することにより、目的の位置でデータの
記録再生を行う。

【００２８】磁気ディスク装置が停止する際には、ヘッ
ドスライダ５０、５０ａがランディングゾーン４４、４
４ａの上に移動した後、磁気記録媒体１の回転が停止す
る。磁気記録媒体１の停止により、ヘッドスライダ５
０、５０ａはランディングゾーン４４、４４ａに下ろさ
れる。

【００２９】このように、データの記録再生時には、ヘ
ッドスライダ５０、５０ａは、小さな凹凸のテクスチャ
ーを有している記録再生ゾーン４３、４３ａの上に浮い
ているため、フライングハイトを低くすることが可能で
ある。それにより、磁気記録媒体に対し、高密度の記録
再生が行われる。

【００３０】また、ランディングゾーン４４、４４ａ
は、テクスチャーの凹凸が大きいこと以外は、記録再生
ゾーン４３、４３ａと変わるところがないため、必要で
あればランディングゾーンにデータを記録することも可
能である。この際のランディングゾーン４４、４４ａ
は、記録再生ゾーンとしての機能とランディングゾーン
としての機能とを併せ持つことになる。

【００３１】従って、高い記録密度が可能となるととも
に、記録再生に使用できる領域が広いため、磁気記録媒
体全体としての記録容量が大きくなる。一方、通常の動
作時にヘッドスライダ５０、５０ａと磁気記録媒体１が
接触するのは、ランディングゾーン４４、４４ａのみで
ある。ランディングゾーン４４、４４ａは、十分大きな
凹凸のテクスチャーを有しているため、摩擦量が小さく
耐摺動性が高い。つまり、高いＣＳＳ耐久性を有してい
る。

【００３２】また、記録再生ゾーン４３、４３ａにもテ
クスチャーがあることにより、突然の電源遮断や、外部
からの振動により、ヘッドスライダ５０、５０ａが磁気
記録媒体１の記録再生ゾーン４３、４３ａに接触して
も、吸着することはない。

【００３３】このように、高いＣＳＳ耐久性が確保され
ているため、この磁気記録媒体を用いた磁気ディスク装
置は、磁気ヘッドが吸着することが非常に少なく、極め
て高い信頼性を得ることができる。

【００３４】

【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気記録媒
体の製造方法では、バーニッシュを、保護膜が成膜され
た後に２段階に分けて行うようにしたため、小さな摩擦
係数を有するランディングゾーンと、テクスチャーの凹
凸の高さが低い記録再生ゾーンとを、精密な高さ調整の
もとに形成することができる。その結果、フライングハ
イトを低くすることにより高密度の記録再生が可能であ
り、しかもＣＳＳ耐久性に優れた磁気記録媒体を製造す
ることができる。

【００３５】また、本発明の磁気記録媒体では、小さな
摩擦係数を有するランディングゾーンと、テクスチャー
の凹凸の高さが低い記録再生ゾーンとを有するため、磁
気ディスク装置に使用する際に、磁気ヘッドのフライン
グハイトを非常に低くすることが可能となる。しかも、
高いＣＳＳ耐久性が得られる。その結果、この磁気記録
媒体を用いた磁気ディスク装置では、記憶容量を大きく
することができるとともに、高い信頼性を得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法の工程を示す
図である。

【図２】ＣＳＳを行う磁気ディスク装置の概略構成を示
す図である。（Ａ）は磁気記録媒体の上面図であり、
（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ断面図である。

【図３】従来の磁気記録媒体の断面図である。

【符号の説明】

１０ 基板 ２０、２０ａ 下地層 ３０、３０ａ 磁性層 ４０、４０ａ 保護膜 ４３、４３ａ 記録再生ゾーン ４４、４４ａ ランディングゾーン

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストッ
   プ）を行うためのランディングゾーンを有する磁気記録
   媒体の製造方法において、 平面度の高い基板上に、磁性層と、表面にテクスチャー
   を有する保護膜とを順次形成し、 前記テクスチャーに対し第１段バーニッシュを行い、 記録再生ゾーンにおいて、前記第１段バーニッシュ時よ
   り低い高さ設定で第２段バーニッシュを行う、 ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 第１段バーニッシュを行う際には、高さ
   設定を２００Å〜５００Åの範囲にすることを特徴とす
   る請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 第２段バーニッシュを行う際には、高さ
   設定を２００Å以下にすることを特徴とする請求項１記
   載の磁気記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 前記基板には、表面の凹凸が５０Å以下
   のガラス基板を使用することを特徴とする請求項１記載
   の磁気記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】 ＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストッ
   プ）を行うためのランディングゾーンを有する磁気記録
   媒体において、 平面度の高い基板上に形成された磁性層と、 前記磁性層上に設けられ、前記ランディングゾーンにお
   ける第１のテクスチャーの凹凸の高さが２００Å〜５０
   ０Å、記録再生ゾーンにおける第２のテクスチャーの凹
   凸の高さが２００Å以下である保護膜と、 を有することを特徴とする磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 前記基板は、ガラスからなり、表面の凹
   凸が５０Å以下であることを特徴とする請求項５記載の
   磁気記録媒体。