JP2746120B2 - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドおよびその製造方法Info
- Publication number
- JP2746120B2 JP2746120B2 JP6139515A JP13951594A JP2746120B2 JP 2746120 B2 JP2746120 B2 JP 2746120B2 JP 6139515 A JP6139515 A JP 6139515A JP 13951594 A JP13951594 A JP 13951594A JP 2746120 B2 JP2746120 B2 JP 2746120B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- head
- slider
- magnetic
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、浮動型の磁気ヘッドと
その製造方法に係り、特にハードディスクを搭載した磁
気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドおよびその製造
方法に関するものである。
その製造方法に係り、特にハードディスクを搭載した磁
気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドおよびその製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置の大容量化にともな
い、高記録密度化に適する薄膜媒体を用いた磁気ディス
ク（薄膜ディスク）と，薄膜技術により作成されたエレ
メントを搭載した薄膜磁気ヘッド（薄膜ヘッド）が用い
られるようになっている。また、近年、ラップトップパ
ソコンやノートパソコンなど可搬機器への磁気ディスク
装置の搭載が普及すると共に、その小型化への進展も進
み、軽量化・低消費電力化の社会的要請によって、スピ
ンドルモータも起動トルクが小さいものが使用される傾
向にある。
い、高記録密度化に適する薄膜媒体を用いた磁気ディス
ク（薄膜ディスク）と，薄膜技術により作成されたエレ
メントを搭載した薄膜磁気ヘッド（薄膜ヘッド）が用い
られるようになっている。また、近年、ラップトップパ
ソコンやノートパソコンなど可搬機器への磁気ディスク
装置の搭載が普及すると共に、その小型化への進展も進
み、軽量化・低消費電力化の社会的要請によって、スピ
ンドルモータも起動トルクが小さいものが使用される傾
向にある。
【０００３】一方、磁気ディスク装置における高密度記
憶に際しては、ディスクとヘッドとの間の間隔を近づけ
る必要があり、ディスク表面およびヘッドのエアベアリ
ング面は平滑に仕上げられるようになっている。通常、
ディスク表面には耐久性向上のため液体潤滑剤が塗布さ
れており、このため、ヘッドがディスクに吸着しやすく
なり（吸着現象）、これが特に小型の磁気ディスク装置
では主要な障害原因の一つとなっている。
憶に際しては、ディスクとヘッドとの間の間隔を近づけ
る必要があり、ディスク表面およびヘッドのエアベアリ
ング面は平滑に仕上げられるようになっている。通常、
ディスク表面には耐久性向上のため液体潤滑剤が塗布さ
れており、このため、ヘッドがディスクに吸着しやすく
なり（吸着現象）、これが特に小型の磁気ディスク装置
では主要な障害原因の一つとなっている。
【０００４】従来より、磁気ヘッドは、Ｍｎ・ＺｎやＮ
ｉ・Ｚｎの多結晶フェライト材料を研磨加工してエアベ
アリング面を形成し、端面にフェライトコア部分をガラ
ス融着して作製される。また、薄膜ヘッドは、Ａｌ2 Ｏ
3 を母材とし、ＴｉＣを分散したセラミックをスライダ
材料（以下、ＡｌＴｉＣ材料）に用いることが多く、Ａ
ｌＴｉＣ材料のウエハにエレメントを作り込んだ後、ス
ライスし、エアベアリング面を研磨加工する。いずれも
エアベアリング面が平滑に加工されるため、前述した吸
着現象が生じやすくなる。
ｉ・Ｚｎの多結晶フェライト材料を研磨加工してエアベ
アリング面を形成し、端面にフェライトコア部分をガラ
ス融着して作製される。また、薄膜ヘッドは、Ａｌ2 Ｏ
3 を母材とし、ＴｉＣを分散したセラミックをスライダ
材料（以下、ＡｌＴｉＣ材料）に用いることが多く、Ａ
ｌＴｉＣ材料のウエハにエレメントを作り込んだ後、ス
ライスし、エアベアリング面を研磨加工する。いずれも
エアベアリング面が平滑に加工されるため、前述した吸
着現象が生じやすくなる。
【０００５】かかる問題を解決するため、従来より、多
結晶材の粒界に沿って平坦な頂面の凸部と平坦な凹底面
を形成する特開平１−２５１３０８号公報（公知例）
や、ＡｌＴｉＣスライダのＴｉＣ部分を選択的にエッチ
ングし、ピットを形成するＵＳＰ４，５４９，２３８
（公知例）等、スライダ面を粗面化することが提案さ
れている。
結晶材の粒界に沿って平坦な頂面の凸部と平坦な凹底面
を形成する特開平１−２５１３０８号公報（公知例）
や、ＡｌＴｉＣスライダのＴｉＣ部分を選択的にエッチ
ングし、ピットを形成するＵＳＰ４，５４９，２３８
（公知例）等、スライダ面を粗面化することが提案さ
れている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、多結晶
材の粒界に沿って平坦な頂面の凸部と平坦な凹底面を形
成する特開平１−２５１３０８号公報（公知例）記載
のものは、山と谷の間は高さが急激に変化する崖となっ
ており、山は平坦な頂面の凸部で又谷は平坦な凹底面よ
りなる山と谷を特定の面粗さにすることによって、吸着
現象を軽減することができるが、一方、凸部の角によっ
てヘッドクラッシュを生じやすくなるという問題が生じ
ている。
材の粒界に沿って平坦な頂面の凸部と平坦な凹底面を形
成する特開平１−２５１３０８号公報（公知例）記載
のものは、山と谷の間は高さが急激に変化する崖となっ
ており、山は平坦な頂面の凸部で又谷は平坦な凹底面よ
りなる山と谷を特定の面粗さにすることによって、吸着
現象を軽減することができるが、一方、凸部の角によっ
てヘッドクラッシュを生じやすくなるという問題が生じ
ている。
【０００７】また、この特開平１−２５１３０８号公報
（公知例）記載のものは、ヘッドを構成している材質
は多結晶材であり、各結晶粒子の面方位が異なることに
より原子結合エネルギーに差があり、逆スパッタで表面
をエッチングしていくのに必要なエネルギーが異なるた
め、特定の面粗さを形成できるとしている。
（公知例）記載のものは、ヘッドを構成している材質
は多結晶材であり、各結晶粒子の面方位が異なることに
より原子結合エネルギーに差があり、逆スパッタで表面
をエッチングしていくのに必要なエネルギーが異なるた
め、特定の面粗さを形成できるとしている。
【０００８】しかしながら、各結晶粒子の面方位はまち
まちであるため、山と谷との間は高さの変動も大きくな
り、この特開平１−２５１３０８号公報（公知例）記
載の第９図に開示されているように、実質的な平面を保
つことができない。このため、このような方法では突起
高さのばらつきが小さく且つ一様な粗さのエアベアリン
グ面を得ることが困難となっている。
まちであるため、山と谷との間は高さの変動も大きくな
り、この特開平１−２５１３０８号公報（公知例）記
載の第９図に開示されているように、実質的な平面を保
つことができない。このため、このような方法では突起
高さのばらつきが小さく且つ一様な粗さのエアベアリン
グ面を得ることが困難となっている。
【０００９】更に、ＡｌＴｉＣスライダのＴｉＣ部分を
選択的にエッチングしてピットを形成するＵＳＰ４，５
４９，２３８（公知例）の方法では、そのＦＩＧ．３
にあるように、Ａｌ2 Ｏ3 の母材部分の平滑な面の中に
僅かな深さのＴｉＣ部分のピットがあり、その深さは一
定している。このＵＳＰ４，５４９，２３８（公知例
）では、このようにして作製したヘッドを塗布ディス
クに適用して好ましい結果を得たとしている。
選択的にエッチングしてピットを形成するＵＳＰ４，５
４９，２３８（公知例）の方法では、そのＦＩＧ．３
にあるように、Ａｌ2 Ｏ3 の母材部分の平滑な面の中に
僅かな深さのＴｉＣ部分のピットがあり、その深さは一
定している。このＵＳＰ４，５４９，２３８（公知例
）では、このようにして作製したヘッドを塗布ディス
クに適用して好ましい結果を得たとしている。
【００１０】しかしながら、表面が粗く、潤滑剤が磁性
塗膜内部に滲み込ませてある塗布ディスクと異なり、液
体潤滑剤を表面に塗布した薄膜ディスクに適用した場
合、前記ピットが液体潤滑剤によって容易に目詰りし、
吸着防止の効果は短期間で失われるという不都合が生じ
ている。
塗膜内部に滲み込ませてある塗布ディスクと異なり、液
体潤滑剤を表面に塗布した薄膜ディスクに適用した場
合、前記ピットが液体潤滑剤によって容易に目詰りし、
吸着防止の効果は短期間で失われるという不都合が生じ
ている。
【００１１】また、スライダを粗面化するそのほかの公
知例としては、特開昭５９−１４８１７９号公報（公知
例）、特開昭５９−２２７０６５号公報（公知例
）、特開昭６１−１７２８０公報（公知例）があ
る。
知例としては、特開昭５９−１４８１７９号公報（公知
例）、特開昭５９−２２７０６５号公報（公知例
）、特開昭６１−１７２８０公報（公知例）があ
る。
【００１２】この内、特開昭５９−１４８１７９号公報
のものは、エアベアリング面に結晶粒が析出する状態で
金属膜を形成し、該金属膜をエッチングし、これをマス
クとしてエアベアリング面をエッチングし、更に該金属
膜を除去して粗面化したエアベアリング面をなすという
方法が採られている。しかしながらこの特開昭５９−１
４８１７９号公報（公知例）のものは、プロセスが複
雑で生産性が悪いという不都合が生じていた。また、エ
アベアリング面の材質がＡｌＴｉＣスライダのようにエ
ッチングレートの異なる成分からなる場合には、この部
分の粗さ変動も加わり、粗さの制御が困難なものとなっ
ている。
のものは、エアベアリング面に結晶粒が析出する状態で
金属膜を形成し、該金属膜をエッチングし、これをマス
クとしてエアベアリング面をエッチングし、更に該金属
膜を除去して粗面化したエアベアリング面をなすという
方法が採られている。しかしながらこの特開昭５９−１
４８１７９号公報（公知例）のものは、プロセスが複
雑で生産性が悪いという不都合が生じていた。また、エ
アベアリング面の材質がＡｌＴｉＣスライダのようにエ
ッチングレートの異なる成分からなる場合には、この部
分の粗さ変動も加わり、粗さの制御が困難なものとなっ
ている。
【００１３】更に、特開昭５９−２２７０６５号公報
（公知例）のものは、エアベアリング面を粗面化し、
該粗面の凹部にフッ素樹脂を充填する方法であり、フッ
素樹脂の弾力によって極微小にフッ素樹脂部分が突出す
るとされる。しかしながら、これではメニスカスを防止
するほどの突起は形成できない。
（公知例）のものは、エアベアリング面を粗面化し、
該粗面の凹部にフッ素樹脂を充填する方法であり、フッ
素樹脂の弾力によって極微小にフッ素樹脂部分が突出す
るとされる。しかしながら、これではメニスカスを防止
するほどの突起は形成できない。
【００１４】また、特開昭６１−１７２８０号公報（公
知例）のものは、硬質カーボンを用いてエアベアリン
グ面が粗面化されている。しかしながら、かかる手法は
全面を一様に粗面化したにすぎない。このため、凹部が
液体潤滑剤によって容易に目詰りし、吸着防止の効果は
短期間で失われるという問題は前述と同様である。
知例）のものは、硬質カーボンを用いてエアベアリン
グ面が粗面化されている。しかしながら、かかる手法は
全面を一様に粗面化したにすぎない。このため、凹部が
液体潤滑剤によって容易に目詰りし、吸着防止の効果は
短期間で失われるという問題は前述と同様である。
【００１５】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくにヘッドクラッシュを有効に回避し吸着
機能を有効に低減し得る磁気ヘッドおよびその製造方法
を提供することを、その目的とする。
を改善し、とくにヘッドクラッシュを有効に回避し吸着
機能を有効に低減し得る磁気ヘッドおよびその製造方法
を提供することを、その目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明では、その請求項
１で、磁気ディスクの回転動作と共に当該磁気ディスク
上に浮上して当該磁気ディスクに対して所定の情報の書
き込み読み出しを行うヘッド本体を備えた磁気ヘッドに
おいて、磁気ヘッド本体の磁気ディスクに対向するスラ
イダ面に、微小凹凸を設けると共に、この微小凹凸の
内、凸部をＴｉＣで形成した、という構成をとってい
る。
１で、磁気ディスクの回転動作と共に当該磁気ディスク
上に浮上して当該磁気ディスクに対して所定の情報の書
き込み読み出しを行うヘッド本体を備えた磁気ヘッドに
おいて、磁気ヘッド本体の磁気ディスクに対向するスラ
イダ面に、微小凹凸を設けると共に、この微小凹凸の
内、凸部をＴｉＣで形成した、という構成をとってい
る。
【００１７】また、請求項２では、前述したスライダ面
の微小凹凸の内、凹部をＡｌ2 Ｏ 3で形成する、という
構成をとっている。
の微小凹凸の内、凹部をＡｌ2 Ｏ 3で形成する、という
構成をとっている。
【００１８】請求項３では、その磁気ヘッドの製造に際
しては、前記スライダ面を平坦に加工する第１の工程
と、この平坦に加工されたスライダ面に対して酸素を用
いたプラズマ処理により前記微小凹凸を形成する第２の
工程とを備えている、という構成をとっている。
しては、前記スライダ面を平坦に加工する第１の工程
と、この平坦に加工されたスライダ面に対して酸素を用
いたプラズマ処理により前記微小凹凸を形成する第２の
工程とを備えている、という構成をとっている。
【００１９】（削除）
【００２０】請求項４では、その磁気ヘッドの製造に際
し、請求項３の第２の工程において、前記プラズマ処理
に際して前記酸素の流量を変化させることによって前記
凸部の生成高さを変化させる、という構成をとってい
る。
し、請求項３の第２の工程において、前記プラズマ処理
に際して前記酸素の流量を変化させることによって前記
凸部の生成高さを変化させる、という構成をとってい
る。
【００２１】これによって前述した目的を達成しようと
するものである。
するものである。
【００２２】
【作 用】ＡｌＴｉＣスライダのＡｌ2 Ｏ3 部分を凹部
とし且つＴｉＣ部分を突起にした場合、これを薄膜ディ
スクに適用することにより吸着防止に向けて顕著な効果
が得られる。磁気ヘッドに微細突起があっても、一方で
は対応するディスク面が平滑な薄膜ディスクであるた
め、ヘッドクラッシュを生じることがない。突起の面積
はエアベアリング面（スライダ面）の面積に比べて圧倒
的に少ないため、液体潤滑剤によって目づまりすること
がない。
とし且つＴｉＣ部分を突起にした場合、これを薄膜ディ
スクに適用することにより吸着防止に向けて顕著な効果
が得られる。磁気ヘッドに微細突起があっても、一方で
は対応するディスク面が平滑な薄膜ディスクであるた
め、ヘッドクラッシュを生じることがない。突起の面積
はエアベアリング面（スライダ面）の面積に比べて圧倒
的に少ないため、液体潤滑剤によって目づまりすること
がない。
【００２３】また、本発明による磁気ヘッドの製造方法
では、エアベアリング面を酸素を用いてプラズマ処理す
ることによって突起を形成しているが、公知例のよう
にエッチングは行っていない。
では、エアベアリング面を酸素を用いてプラズマ処理す
ることによって突起を形成しているが、公知例のよう
にエッチングは行っていない。
【００２４】また、本発明による突起形成のメカニズム
は明確ではないが、スライダの母材中の成分であるＴｉ
Ｃ部分が隆起しており、この部分が酸化されて体積増加
したものと考えられる。また選択的にエッチングする方
法ではないため、角に曲面形状をもつ突起の形成が可能
となっている。
は明確ではないが、スライダの母材中の成分であるＴｉ
Ｃ部分が隆起しており、この部分が酸化されて体積増加
したものと考えられる。また選択的にエッチングする方
法ではないため、角に曲面形状をもつ突起の形成が可能
となっている。
【００２５】
【実施例１】以下、本発明の一実施例を図１に基づいて
説明する。
説明する。
【００２６】この図１において、符号１は磁気ヘッド本
体を示す。また、符号２は、前述した磁気ヘッド本体１
のスライダ面を示す。
体を示す。また、符号２は、前述した磁気ヘッド本体１
のスライダ面を示す。
【００２７】そして、本実施例では、酸素雰囲気下でプ
ラズマ処理による表面処理を行い、スライダ面２の粗面
化を行った。図２にその結果の例を示す。ここで、この
表面処理に先立って、スライダ面２は予め平坦に加工さ
れるようになっている。
ラズマ処理による表面処理を行い、スライダ面２の粗面
化を行った。図２にその結果の例を示す。ここで、この
表面処理に先立って、スライダ面２は予め平坦に加工さ
れるようになっている。
【００２８】この図２において、符号３はスライダ面２
の下地を構成する素材Ａｌ2 Ｏ3 を示す。また、符号４
はスライダ面２の凸部を構成する素材ＴｉＣを示す。こ
の図２において、下地素材Ａｌ2 Ｏ3 が凹部となり、素
材ＴｉＣ部分が突起を構成している。また、Ｏ2 の流量
を変化させることにより、突起形成速度を変化させ、こ
れによってスライダ面２上の凸部の高さをコントロール
した。
の下地を構成する素材Ａｌ2 Ｏ3 を示す。また、符号４
はスライダ面２の凸部を構成する素材ＴｉＣを示す。こ
の図２において、下地素材Ａｌ2 Ｏ3 が凹部となり、素
材ＴｉＣ部分が突起を構成している。また、Ｏ2 の流量
を変化させることにより、突起形成速度を変化させ、こ
れによってスライダ面２上の凸部の高さをコントロール
した。
【００２９】上記図２において、（ａ）はＯ2 が５０
〔ｍｌ〕の場合を示し、（ｂ）はＯ2が１００〔ｍｌ〕
の場合を示し、（ｃ）はＯ2 が１５０〔ｍｌ〕の場合を
示す。処理時間はいづれも５分間で、パワー３００
〔ｗ〕は一定で、Ｏ2 の流量のみを変えた。
〔ｍｌ〕の場合を示し、（ｂ）はＯ2が１００〔ｍｌ〕
の場合を示し、（ｃ）はＯ2 が１５０〔ｍｌ〕の場合を
示す。処理時間はいづれも５分間で、パワー３００
〔ｗ〕は一定で、Ｏ2 の流量のみを変えた。
【００３０】この図２（ａ）では、Ｏ2 の流量が少ない
ため、８０オングストローム程度の段差である。図２
（ｂ）は、１１０オングストローム程度の段差を形成し
ており、凸部は曲面形状を有している。図２（ｃ）で
は、流量が多いため、突起形成速度も大きくなり、凸部
段差も２００オングストローム程度と高い。
ため、８０オングストローム程度の段差である。図２
（ｂ）は、１１０オングストローム程度の段差を形成し
ており、凸部は曲面形状を有している。図２（ｃ）で
は、流量が多いため、突起形成速度も大きくなり、凸部
段差も２００オングストローム程度と高い。
【００３１】このように、凸部高さをコントロールする
ことにより、凸部に曲面形状を持たせることができた。
ことにより、凸部に曲面形状を持たせることができた。
【００３２】こうして作製した磁気ヘッドと従来の磁気
ヘッドを、１．８インチの磁気ディスク装置に適用して
ＣＳＳ耐久性を評価した。
ヘッドを、１．８インチの磁気ディスク装置に適用して
ＣＳＳ耐久性を評価した。
【００３３】評価に用いた磁気ディスクの表面粗さは、
Ｒａ３０オングストロームであり、ＰＦＰＥ液体潤滑剤
の膜厚を３０オングストローム、カーボン保護膜の膜厚
を２００オングストロームとした。
Ｒａ３０オングストロームであり、ＰＦＰＥ液体潤滑剤
の膜厚を３０オングストローム、カーボン保護膜の膜厚
を２００オングストロームとした。
【００３４】比較のために公知例と公知例の類似の
ヘッドを用いた。この場合、公知例のヘッドを多結晶
材の粒界に沿って平坦な頂面の凸部と平坦な凹底面を形
成し、その凹凸の差が１５０オングストロームのものと
し、公知例のヘッドについては、ＡｌＴｉＣスライダ
のＴｉＣ部分を選択的にエッチングしてピットを形成
し、そのピット深さを１５０オングストロームのものと
した。表１に、その比較の結果を示す。
ヘッドを用いた。この場合、公知例のヘッドを多結晶
材の粒界に沿って平坦な頂面の凸部と平坦な凹底面を形
成し、その凹凸の差が１５０オングストロームのものと
し、公知例のヘッドについては、ＡｌＴｉＣスライダ
のＴｉＣ部分を選択的にエッチングしてピットを形成
し、そのピット深さを１５０オングストロームのものと
した。表１に、その比較の結果を示す。
【００３５】
【表１】
【００３６】比較例のヘッドでは、ＣＳＳ３００〜５０
０回でヘッドクラッシュまたは吸着を生じたが、本実施
例のヘッドでは２０，０００回以上のＣＳＳ耐久性を得
ることができた。
０回でヘッドクラッシュまたは吸着を生じたが、本実施
例のヘッドでは２０，０００回以上のＣＳＳ耐久性を得
ることができた。
【００３７】このように、今回、本発明者らは、ＡｌＴ
ｉＣスライダのＡｌ2 Ｏ3 部分を凹部とし、ＴｉＣ部分
を突起にした場合、薄膜ディスクに適用することにより
顕著な効果が得られることを初めて見いだした。そし
て、磁気ヘッドに突起があっても、一方では対応するデ
ィスク面が平滑な薄膜ディスクであるためヘッドクラッ
シュを生じることがない。角に曲面形状をもっているこ
とも有効である。突起の面積はエアベアリング面（スラ
イダ面）の面積に比べて圧倒的に少ないため、液体潤滑
剤によって目づまりすることがない。
ｉＣスライダのＡｌ2 Ｏ3 部分を凹部とし、ＴｉＣ部分
を突起にした場合、薄膜ディスクに適用することにより
顕著な効果が得られることを初めて見いだした。そし
て、磁気ヘッドに突起があっても、一方では対応するデ
ィスク面が平滑な薄膜ディスクであるためヘッドクラッ
シュを生じることがない。角に曲面形状をもっているこ
とも有効である。突起の面積はエアベアリング面（スラ
イダ面）の面積に比べて圧倒的に少ないため、液体潤滑
剤によって目づまりすることがない。
【００３８】また、本実施例による磁気ヘッドの製造方
法では、エアベアリング面を酸素を用いてプラズマ処理
することによって突起を形成しているが、公知例のよ
うにエッチングは行っていない。
法では、エアベアリング面を酸素を用いてプラズマ処理
することによって突起を形成しているが、公知例のよ
うにエッチングは行っていない。
【００３９】本実施例による突起形成のメカニズムは明
確ではないが、スライダの母材中の成分であるＴｉＣ部
分が隆起しており、この部分が酸化されて体積増加した
ものと考えられる。また、選択的にエッチングする方法
ではないため、角に曲面形状をもつ突起の形成が可能と
なったと考えられる。更に、本実施例による磁気ヘッド
の突起はエアベアリング面の全面もしくは一部に形成さ
れるが、突起の形成が磁気ディスクに対向する磁気ヘッ
ド面のうちエアベアリング面以外の箇所（磁気ヘッドの
エレメント部分を除いて）に及んでも差し支えない。
確ではないが、スライダの母材中の成分であるＴｉＣ部
分が隆起しており、この部分が酸化されて体積増加した
ものと考えられる。また、選択的にエッチングする方法
ではないため、角に曲面形状をもつ突起の形成が可能と
なったと考えられる。更に、本実施例による磁気ヘッド
の突起はエアベアリング面の全面もしくは一部に形成さ
れるが、突起の形成が磁気ディスクに対向する磁気ヘッ
ド面のうちエアベアリング面以外の箇所（磁気ヘッドの
エレメント部分を除いて）に及んでも差し支えない。
【００４０】
【実施例２】上述した実施例１と同様の条件のもとに、
磁気ヘッドのスライダ面の粗面化を行ったが、本実施例
ではＯ2 １００〔ｍｌ〕，パワー３００〔Ｗ〕を一定と
し、処理時間を制御することによって、凸部高さをコン
トロールした。図３に、この場合の処理時間と段差との
関係を示す。
磁気ヘッドのスライダ面の粗面化を行ったが、本実施例
ではＯ2 １００〔ｍｌ〕，パワー３００〔Ｗ〕を一定と
し、処理時間を制御することによって、凸部高さをコン
トロールした。図３に、この場合の処理時間と段差との
関係を示す。
【００４１】そして、実施例１の場合と同様の評価を行
った。表２に、その比較の結果を示す。
った。表２に、その比較の結果を示す。
【００４２】
【表２】
【００４３】比較例のヘッドでは、ＣＳＳ３００〜５０
０回でヘッドクラッシュまたは吸着を生じたが、本実施
例のヘッでは１５，０００以上のＣＳＳ耐久性を得るこ
とができた。
０回でヘッドクラッシュまたは吸着を生じたが、本実施
例のヘッでは１５，０００以上のＣＳＳ耐久性を得るこ
とができた。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、磁
気ヘッドのヘッドスライダ面に微細な突起が形成される
ため、ディスク表面とヘッドスライダ面との間にメニス
カスの形成が抑制され、これがためヘッドの吸着を有効
に防止することができ、従って磁気ディスクを傷つける
ことが少なくなり、突部形成によるヘッドクラッシュの
発生を低減することができるという従来にない優れた磁
気ヘッドおよびその製造方法を提供することができる。
気ヘッドのヘッドスライダ面に微細な突起が形成される
ため、ディスク表面とヘッドスライダ面との間にメニス
カスの形成が抑制され、これがためヘッドの吸着を有効
に防止することができ、従って磁気ディスクを傷つける
ことが少なくなり、突部形成によるヘッドクラッシュの
発生を低減することができるという従来にない優れた磁
気ヘッドおよびその製造方法を提供することができる。
【図１】本発明の第１実施例における磁気ヘッドのスラ
イダ部全体の状態を示す斜視図である。
イダ部全体の状態を示す斜視図である。
【図２】図１の実施例における突起形成速度を変化させ
た場合の磁気ヘッド本体のスライダ面の拡大断面図に例
示で、図２（ａ）はＯ2 流量が５０ｍｌの場合を、図２
（ｂ）はＯ2 流量が１００ｍｌの場合を、図２（ｃ）は
流量が１５０ｍｌの場合を示す。
た場合の磁気ヘッド本体のスライダ面の拡大断面図に例
示で、図２（ａ）はＯ2 流量が５０ｍｌの場合を、図２
（ｂ）はＯ2 流量が１００ｍｌの場合を、図２（ｃ）は
流量が１５０ｍｌの場合を示す。
【図３】図１におけるスライダ面の処理の例で、プラズ
マ処理時間と段差の変化を示した説明図である。
マ処理時間と段差の変化を示した説明図である。
１ 磁気ヘッド本体 ２ スライダ面 ３ 下地素材Ａｌ2 Ｏ3 ４ 凸部素材ＴｉＣ
フロントページの続き (72)発明者 佐久間 和子 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気 株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−187915（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−146682（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】 磁気ディスクの回転動作と共に当該磁気
ディスク上に浮上して当該磁気ディスクに対して所定の
情報の書き込み読み出しを行うヘッド本体を備えた磁気
ヘッドにおいて、 前記磁気ヘッド本体の前記磁気ディスクに対向するスラ
イダ面に、微小凹凸を設けると共に、 この微小凹凸の内、凸部をＴｉＣで形成した ことを特徴
とした磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記スライダ面の微小凹凸の内、凹部が
Ａｌ2 Ｏ 3で形成されていることを特徴とした請求項１
記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の磁気ヘッドを製造
する方法であって、 前記スライダ面を平坦に加工する
第１の工程と、この平坦に加工されたスライダ面に対し
て酸素を用いたプラズマ処理により前記微小凹凸を形成
する第２の工程とを備えていることを特徴とした磁気ヘ
ッドの製造方法。 - 【請求項４】 前記第２の工程において、前記プラズマ
処理に際して前記酸素の流量を変化させることによって
前記凸部の生成高さを変化させることを特徴とする請求
項３記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6139515A JP2746120B2 (ja) | 1994-05-30 | 1994-05-30 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6139515A JP2746120B2 (ja) | 1994-05-30 | 1994-05-30 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07326150A JPH07326150A (ja) | 1995-12-12 |
| JP2746120B2 true JP2746120B2 (ja) | 1998-04-28 |
Family
ID=15247099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6139515A Expired - Lifetime JP2746120B2 (ja) | 1994-05-30 | 1994-05-30 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2746120B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11120528A (ja) | 1997-10-08 | 1999-04-30 | Tdk Corp | 磁気ヘッド |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02187915A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
| JPH03146682A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-21 | Victor Co Of Japan Ltd | 浮動磁気ヘッドの製造方法 |
-
1994
- 1994-05-30 JP JP6139515A patent/JP2746120B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07326150A (ja) | 1995-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5576918A (en) | Magnetic disk medium with designed textured surfaces and controlled surface roughness and method of producing same | |
| US6212042B1 (en) | Slider having air bearing surface which includes pads for disk storage system | |
| EP0710957B1 (en) | Air bearing slider and method of manufacture therefor | |
| US4939614A (en) | Magnetic disk medium with circumferentially textured surfaces and varied surface roughness and method of producing the same | |
| EP0583989A2 (en) | Slider for a magnetic head | |
| US7029590B2 (en) | Self-limiting wear contact pad slider and method for making the same | |
| JP2746120B2 (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JP3012668B2 (ja) | 浮上式磁気ヘッド | |
| JP3226307B2 (ja) | 浮上式磁気ヘッド | |
| JPH02223015A (ja) | 磁気ディスク及びその製造方法 | |
| WO1995012199A1 (en) | Burnishable head and media for near contact and contact recording | |
| JPH02281485A (ja) | 浮動型磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2617922B2 (ja) | 浮動型磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH08124340A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 | |
| JPH06223525A (ja) | 浮上型磁気ヘッド装置 | |
| JPH01317226A (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPH03272019A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH07153068A (ja) | 磁気ディスク媒体用基板およびその製造方法 | |
| JPH1125629A (ja) | 磁気ヘッドスライダ及び磁気ディスク記録装置 | |
| US20010024932A1 (en) | Substrate for magnetic recording media, manufacturing method for the same, and magnetic recording media | |
| WO1999045537A1 (fr) | Support d'enregistrement magnetique, son procede de fabrication et appareil de memorisation magnetique fabrique par utilisation de ce support d'enregistrement magnetique | |
| JPH06325342A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01149216A (ja) | 浮動型磁気ヘッド | |
| JPH11144238A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH1196529A (ja) | 磁気ヘッドおよび磁気ディスク装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980113 |