JPS6116005A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　技術分野 本発明は、磁気ヘッド、特に非晶質磁性合金を用いたフ
ロッピーディスク等のデジタル記録に用いるナローギャ
ップ型の磁気ヘッドに関するものである。

ＩＩ　　先行技術 近年、情報機器の性能の向上とＯＡ化が進むなかで記憶
媒体の一つであるフロッピーディスクの高性能と小型化
が望まれている。

このような要求に応えて、８インチのフロッピーディス
クからさらに小型化された５、２５インチのフロッピー
ディスクが開発されてきた。゛ また、最近さらに小型化し、記憶容量も８インチフロッ
ピーディスクと同容量の３．５インチのマイクロフロン
ピーディスク（ＭＦＤ）が実用化に向けて開発されてい
る。

このように小型化し、かつ大記憶容量をもったフロッピ
ーディスクを実現するためには、高密度記録を実現しな
ければならない。　高密度記録を実現するためには、記
録媒体と磁気ヘッドとに関して新たな特性が要求される
。

記録媒体では性能向上の１つとして高保磁力の磁性材料
の開発が必要になっている。

磁気ヘッドにも新たに特性の向上が要求される。　従来
、フロッピーディスク用の磁気ヘッドは、フロッピーデ
ィスクの実用化の初期の段階では磁気ヘッド用コア材に
パーマロイが使用されていた。

しかし、パーマロイでは種々の問題がある。

例えば、フロッピーヘッドの使用周波数帯域（１２５Ｋ
Ｈｚ−２５０ＫＨｚ）とオーディオヘッドの使用周波数
帯域（２０ＫＨｚ以下）を比較すると、フロッピーヘッ
ドの使用周波数帯域は高周波数の帯域である。

しかし、パーマロイは比抵抗が５０〜１５０用Ωｃｍと
小さいので、高周波帯域での実効透磁率は急激に減少し
、再生出力、Ｓ／Ｎ比、分解能等の磁気特性が悪くなる
。

他方、同しく多様されているフェライトは比抵抗ｌＸ１
０６　鉢ΩＣＩＯと大きく、しかも磁気キャンプもガラ
ス溶着法を用いるので、強固な狭磁気ギャップが製造で
きる。

したがって、最近ではフロッピー用磁気ヘッドのコア材
は、フェライトが主に使用されている。　そして、高密
度記録は、磁気ベントのコア材にフェライトを用いるこ
とによって、ある水準までは達成することができる。

ところで、さらに高密度記録を達成するためには、磁気
記録媒体であるフロッピーディスクの保磁力（Ｈｅ）は
初期の頃のＨｃ＝２７００ｅ（磁性体としてγ−Ｆｅ２
Ｏ３を使用）から、高保磁力の記録媒体（磁性体として
ＣｏをトープしたＣｏ−γ−Ｆｅ２Ｏ３を使用）のＨｃ
　＝　６３０　０ｅに移行している。

そして、さらに合金粉を磁性体としだ高保磁力の記録媒
体ではＨｃ　＝　ｌ　３００　０ｅに至っている。

従って、磁気ヘッド用コア材はこのような高保磁力記録
媒体に記録するために、高飽和磁束密度をもち、かつ高
周波帯域において実効透磁；Ｖが減少しない材料の開発
が必要になってきた。

このため、磁気ヘッド用コア材としてセンダストと非晶
質合金とが注目されている。

これらの材料は、フェライトと比較すると飽和磁束密度
も大きいので、高保磁力記録媒体への記録も可能になる
。

しかし、磁気ヘッドの問題は、コアの材質の磁気特性だ
けの問題でなく、信頼性の点から強固なナローギャップ
を４１する磁気へ・ンドのギャップ製造法の確立も必要
である。

センダストについては、銀ロウ溶接による接合が検討さ
れている。

しかし、非晶質合金の場合には、結晶化温度が低いので
、一定温度以上の処理ができない。

特開＋１ｉ’Ｊ５５−１１０２４１号のように２．３の
磁気ギャップ製造方法に関する提案もあるが未だ十分な
解決をみるには至っていない。

ナローギャップで高磁束密度の磁気ヘッドを−実現する
際には、作製時の性能とともに、経時的な劣化が問題に
なる。

すなわち、非晶質磁性合金コア材とギャップ材との相対
的な温度特性、接着性または固着性、残留応力、比抵抗
等によって電磁変換特性が、経時的に、あるいは多数回
の走行により劣化する。

例えば、特にギャップ長の安定度と関係のある、分解能
、オーバーライド特性、消去特性等に大きな問題があっ
た。

■　発明の目的 本発明は、前記の問題を解決するためになされたもので
ある。

すなわち、非晶質合金を用いた磁気ヘッドにおいて、狭
ギャップ長の強固な磁気ギャップを有し、分解能がよ〈
、高密度記録が可能であり、しかも長時間使用ないし保
存しても電磁変換特性、特に分解能やオーバーライド特
性や消去特性等が劣化しない磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。

このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち本発明は、 非晶質磁性合金からなるコア半休を、ギャップ材を介し
てつきあわせ一体化してなる磁気ヘッドにおいて、 ギャップ材が１両コア半休の少なくともギャップ面に被
着されたＡ文、　Ｚ　ｒ　、　Ｍ　ｏ　。

Ｗ　、　Ｔ　ｉ　、　Ｔ　ａおよびＮｂのうちの少なく
とも１種以上からなる薄膜と、この薄膜間にはさまれた
ガラス膜とからなることを特徴とする磁気ヘッドである
。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の磁気ヘッドにおけるコアは、通常、非晶質磁性
合金の薄板から形成される。

非晶質磁性合金をコア材として用いるときには、コアと
しての特性が良好で、またきわめて長期にわたる使用に
よってもヘッドの媒体摺接面の偏摩耗が少なく、周波数
特性や出力レベル変動が少ない点で、良好な結果を得る
。

コア材として、非晶質磁性合金薄板を用いる場合、その
組成としては、磁気へンドのコア用のものとして知られ
ている種々の組成であってもよいが、特に飽和磁束密度
Ｂｓが高く、高保磁力磁気記録媒体に好適であるという
点で、下記式（Ｉ）で示される組成であることが好まし
い。

式ＣＩ）　　Ｔｘ’Ｔｙ 上記式中において、Ｔは、ＦｅおよびＣｏ。

またはＦｅおよびＣｏと他の遷移金属元素の１種以上と
の組合せを表わす。

この場合、必要に応じＦｅおよびＣｏとともに組合せ添
加される他の添加元素は、ＦｅおよびＣＯ以外の他の遷
移金属元素（Ｓｃ−Ｚｎ：Ｙ−Ｃｄ　；　Ｌａ−Ｈｇ　
；　Ａｃ以上）であり、例えば、Ｔ　ｉ　、Ｔ　ｉ、Ｚ
ｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ。

Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏ５
、Ｉｒ、Ｐｔ等の１種類以上をその具体例として挙げる
ことができる。

一方、Ｘは、Ｂ、ＳｉおよびＢ、またはＢもしくはＳｔ
およびＢと他のガラス化元素の１種類以上との組合せを
表わす。

この場合、必要に応じ、Ｂ、またはＳｔおよびＢととも
に組合せ添加される他のガラス化元素の例としては、Ｐ
、Ｃ，Ｇｅ、Ｓｎ、Ａｎ等の１種類以−ヒを挙げること
ができる。

他方、」二足式（１）において、ｘ＋ｙ＝　１００ａｔ
％であり、ｙは２０〜２７ａｔ％である。すなわち、Ｆ
ｅおよびＣＯを必須成分とする遷移金属元素性分量Ｘは
７３〜８０ａｔ％であり、ＢまたはＳｉおよびＢを必須
成分とするガラス化元素成分量ｙは２０〜２７ａｔ％で
ある。ｙが２０ａｔ％未満となると、非晶質化が困難と
なり、また、２７ａｔ％を越えると残留磁束密度Ｂｓが
減少してしまう。

さらに、遷移金属元素成分中の必須成分ＦｅおよびＣｏ
の含有量は、それぞれＦｅ；１．５−５．６ａｔ％およ
び、Ｃｏ　；　４５−７８　、５ａｔ％ある。

Ｆｅ含有量が１．５ａｔ％未満（Ｃｏ含有量が７８．５
ａｔ％より人）、あるいは５．６ａｔ％を越えると、磁
歪が大きなものとなってしまい。

また透ｆ！ｉ率が減少する。

Ｃｏが４５ａｔ％未満となるとＢｓが減少してしまう。

この場合、上記式ＣＩ）において、Ｔは、上記含有り３
Ｂ内にて、ＦｅおよびＣＯのみからなっても、ＦｅとＣ
Ｏと上記した他の添加元素の１挿具−トからなってもよ
い。

ＴがＦｅとＣＯのみからなる場合、Ｆｅ含有量は、１　
、５〜５　、６ａ’ｔ％、より好ましくは２−５．５ａ
ｔ％、Ｃｏ含有量は、６７．４−７８．５ａｔ％、より
好ましくは６７．５〜７８ａｔ％である。ＴがＦｅおよ
びＣＯに加え、他の元素の１種以上を含むｆｉ−４合、
他の遷移金属元素の１種以上は、通常、総計で最大２５
ａｔ％まで含イ１することができる。

これ以］−の含有量となると、Ｂｓが低下し、表面性が
悪くなる等の不都合が生じる。

このような元素の１例としてはＮｉがある。

Ｎｉ添加は、ＣＯを置換して、材料コストを低減する等
の効果があるが、Ｎｉｔが増大するとＢｓが減少するの
で、Ｎｉ含有量は、好ましくは８ａｔ％以下である。

一方、他の元素の１種以上としては、鉄族（Ｆｅ、Ｃｏ
、Ｎｉ）以外の８移金属元素であってよいが、鉄族以外
の遷移金属元素の１秤量には、総ｊｌ１２ａｔ％以下で
あることが好ましい。　このとき、Ｂｓの低Ｆは少なく
、各添加元素特有のすぐれた効果が実現する。

このような元素としては、牡にＲｕ、Ｃｒ、Ｔｉのうち
の１秤量」二が好ましい。

特に、０．５〜８ａｔ％のＲｕを添加すると、耐摩耗性
が向１−シ、表面性や打抜加重性等が向１−する。

また、１〜８ａｔ％のＣｒを添加すると、耐食性が向上
する。

そして、０．５−８ａｔ％のＲｕと、ｌ−８ａｔ％、特
に２〜６ａｔ％のＣｒを併用添加すると、これらの効果
はさらに向−トし、より好ましい結果を得る。

また、０．０５〜２ａｔ％のＴｉを、これらにかえ、よ
り好ましくはこれらに加えて添加するとより好ましい結
果をうる。

さらに、これらＲｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、ＮＩ等に加え、Ｔａ
、Ｗ、ＭＯ等の１種以上を含有させることもできる。

なお、このようにＦｅ、ＣＯ以外の他の遷移金属元素を
含有させる場合、これらの総計は２０ａｔ％以下となり
、Ｃｏ含有量が４７．４〜７８．５ａｔ％、より好まし
くは４７５〜７８ａｔ％、またＦｅ含有量が１．５〜５
．６ａｔ％、より好ましくは、２〜５．５ａｔ％となる
ことが好ましい。

これに対し、ガラス化元素成分Ｘは、ＢあるいはＳｉお
よびＢを必須成分とする。

この場合、Ｂ含有量が３．３−２７ａｔ％、Ｓｉ含有量
が０−１８．２ａｔ％となると、Ｂｓが高くなり、薄板
の表面性が向上し、好ましい結果を得る。

そして、Ｂ含有量が１４．１〜２６．９ａｔ％、Ｓｉ含
有量が０．１−５．４ａｔ％となると、Ｂｓがさらに高
くなり、表面性もさらに向上し、ざらにＲｕ、Ｃｒ等の
添加元素の故加効果も顕著となり、より好ましい結果を
得る。

なお、ガラス化元素成分Ｘ中には、必要に応じ、Ｓｉお
よびＢ以外の他の元素の１挿具りが含まれていてもよい
、ただ、その総計が０．５ａｔ％を越えると非晶質化し
にくくなるので、その含有量は０．５ａｔ％以下である
ことが好ましい。　以上詳述したような組成をもつ薄板
は、実質的に長範囲規則性をもたない非晶質体である。

　また、板厚は、概ね、ｌＯ〜２００ｇｍ程度である。

　このような非晶質磁性合金薄板は、公知の高速急冷法
に従い製造される。

すなわち、対応する組成の合金を、気相または液相から
超急冷する。　この場合、通常は、合金を融液となし、
液相から１０４℃／　ｓ　ｅ　ｃ以」−１通常１０４〜
１０８℃／　ｓ　ｅ　ｃの冷却速度で超急冷し、固化さ
せることによって非晶質磁性合金を得る。

溶融状態の合金を超急冷するには、溶融合金をノズルか
ら噴射させ、双ロール法、片ロール法、遠心急冷法等公
知の種々の方式、なかでも片ロール法に従い急冷すれば
よい。

このような非晶質磁性合金薄板は、それを好ましくは絶
縁性接着剤層を介して積層して、所、望の形状のコア半
休とされ、これを後述のように突き合わせて磁気ヘッド
、特にフロッピーディスク用、ビデオ映像用等の磁気ヘ
ッドとされる。

あるいは、薄板を積層せず、薄板自体を所望の形状のコ
ア半休となし、このコア半休を突き合わせて磁気へフド
、特にフロッピー用、ビデオ用等の磁気ヘッドとされる
。

このような磁気ヘッド用コア半休は、通常以下のように
して、磁気ヘッドとされる。

まず、好ましくは、超急冷法によって得られた薄板に対
し、所定の熱処理を施す。

この熱処理としては、例えば、結晶化温度未満、キュリ
一点以上の温度で施す無磁場中での、特シこ内部歪取り
を目的とする焼鈍処理でもよく、また、結晶化温度およ
びキュリ一点未満の温度で行う、歪取りと磁気特性の改
良を目的とする磁場中での焼鈍処理であってもよい。

そして、この後者の磁場中での焼鈍処理としては、静磁
場、回転磁場等のいずれかを用いてもよい。　これら焼
鈍熱処理およびその条件は、非晶質磁性合金の組成と所
望の磁気特性とから、適宜選択して行えばよい。

次いで１通常は、このような非晶質磁性合金薄板を金型
により打抜き、所定の形状となし、一般に、その複数枚
を絶縁性接着剤により所定トランクＴＩ］となるよう積
層して、コア半休を作製する。

なお、コア半体１１は、第１図、第２図に示されるよう
な１字状、Ｃ字状等公知の種々の形状とすればよい。

次いで、これらコア゛ｒ９体は、以Ｆのようなギャップ
材を介してつきあわされる。

すなわち、第１図、第２図に１例として示すようにコア
半休１１ｈの少なくともギャップ端面には、ＡＪＩ　、
　Ｚｒ　、Ｍｏ　、Ｔｉ　、Ｗ、Ｔａ　。

Ｎｂのうちの少なくとも１挿具−にからなる薄膜１２を
設層する。

この薄膜１２は、Ａ文、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｔｉ　。

Ｗ　、　Ｔ　ａ　、　Ｎ　ｂの単一金属や合金を用いて
スパッタリング法や蒸着法を用いて設層することができ
る。

このような第１層は、　Ａｎ’、　Ｚ　ｒ　、Ｍｏ　。

Ｔ　ｉ　、　Ｗ　、　Ｔ　ａ　、　Ｎ　ｂ単独でも良い
。　また。

Ａ　ｌ　、　Ｚ　ｒ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｔ　ｉ　、　Ｗ
　、　Ｔ　ａ　、　Ｎ　ｂ　（７）　２種以上であって
もよいが、そのときには、添加元素の１種以上は、主た
る元素の２０ｗｔ％以下であることが好ましく、特に、
Ｌｏｕｔ％以下であることが好ましい。

Ａ　Ｉ　、　Ｚ　ｒ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｔ　ｉ　、　Ｗ
　、　Ｔ　ａ　、　Ｎ　ｂの少なくとも１種以上からな
る薄膜は、比抵抗が小さいので、高周波帯域にて渦電流
を生じ、そのために、磁気ギャップの磁気抵抗が大きく
なり、磁気再生効率も良くなるので、分解能もよくなる
。

なお、２種以上の元素を含むとき、スパッタリング法で
は過飽和固溶体になりやすいが、添加性が２０ｗｔ％以
七になると金属間化合物を形成しやすく、薄膜にクラッ
クが入りやすいので２０ｗｔ％以下とすることが好まし
い。

この際、磁気キャンプ用の薄膜と磁気へンドのコアの密
着強度をあげるために被着体（磁気へラドコア）の温度
をあげるのが良い。　温度は、被着体の結晶化温度以下
である必要があり、好ましくは２５０℃以下である。

なお、第１層と磁気ヘッドを形成する非晶質磁性合金材
料の熱膨張係数に差異があると、薄ｎ９に応力が残留し
、薄膜にクラックが入るか、さらにすすんでコア半休か
ら薄膜が剥離してしまう。

しかし、Ａ　ｌ　、　Ｚ　ｒ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｔ　ｉ
　、　Ｗ　。

Ｔａ、Ｎｂの少なくとも１挿具−Ｌからなる薄膜は、磁
気ヘッド川のコア材と熱膨張係数がほぼ同じなので、こ
のような不都合がない。

これらの元素は、カラスの形成元素または修飾元素であ
るので、このＡ文、　Ｚ　ｒ　、　Ｍ　ｏ　。

Ｔｉ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｂの少なくとも１挿置りからなる薄
膜間には挟まれたガラス膜を構成する低融点カラス、あ
るいは非晶質磁性合金と反応し、相互に拡散するため、
ガラス薄膜およびコ・ ア寥体と強固に密着する。　その結果、強固な磁気キャ
ンプを形成することができるにのような薄膜の厚みとし
ては、０．０５〜２．０Ｂｍ、特に好ましくは０．１〜
１．ＥＢｔｍであることが好ましい。

膜厚が、２．０ｐｍをこえると、十分な接着強度を得る
ための中間層の効果が失われるためである。

つまり、第１層成分は酸化されやすい元素であるので、
高温高湿（例えば４０℃　９０％ＲＨ）で保存すると、
薄膜が酸化ξれ、体積膨張し、磁気ギャップにクラック
が入ってしまい、特性の劣化をまねく。

また、膜厚が０．０５ｇｍより少ないと、十分な密着強
度が得られないからである。

薄膜１２］−には、第１図、第２図に例示するようにガ
ラス薄膜１３を積層する。

本発明では、カラス薄ｖ１３は、低融点カラスのＰｂＯ
−Ｂ２Ｏ３系のガラスを用い、Ｐｂ０８０−９０ｗｔ％
、Ｂ２．０３１０−２０ｗｔ％程度とし、必要な場合に
は融点を下げる元素としてＢｉ２Ｏ３やｖ２０５等を加
えて所望の融点の低融点ガラスとする。

カラス薄＠１３は、通常スパッタリングにより積層する
。

ガラス＃膜１３は、薄膜１２と良好に接着し、充分強固
なギャップを形成する。　　し　かも、設層する際に、
下地層としての薄膜を損傷しない。

カラス薄膜１３の軟化温度は５００〜７００°Ｃである
ことが好ましい。

ガラス１ｌｌｉＪ１３の厚みは、所望の磁気ギャップ長
のＯ９σ５〜０．７程度であることが好ましい。　ガラ
ス薄膜層が薄い場合、ギャップ長の０．０５未満である
と、強固な接着強度が得られない。

また、’０．７より大であると、下地層である薄膜によ
り、ガラス薄膜形成時の応力を吸収することができずに
、小さなりラックが入ってしまう。

この場合、ガラス薄膜の厚みは、ギャップ長の好ましく
は０．１〜０．６であることが好ましい。

なお、ガラス薄膜の厚みは、０．１−１．０川ｌである
ことが好ましい。

このようにして、少なくとも前部および後部ギャップ突
合せ面に、薄１１３１２と、ガラス薄膜１３とを形成し
たコア半体１１はギャップ突合せ面を突合せて、一体化
する。

この際、第３図に示されるようにガラス薄膜１３．１３
間にはガラス質１４を配設する。

そして、これを熱処理してギャップ突き合せ面を融着す
る。

この場合、ガラス質１４は、前部および後部ギャップ１
５に配設する。

ここで用いるガラス質１４は、低融点ガラスを用いる。

この場合、その軟化温度は３００〜５００℃が好ましい
。

組成としては、特に、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３系のガラスが好
適である。

そして、通常Ｐｂ０　８０〜９０ｗｔ％、Ｂ２Ｏ３１０
〜２０ｗｔ％とし、他に添加物としてＢｉ２Ｏ３または
ｖ２０５などを添加して所望の軟化温度に調整する。

このような低融点ガラスからなる粒状のガラス質１４を
ガラス薄膜１３を積層した両ギャップ突合せ面近傍に配
設した後、磁気コア全体を３００〜５００℃で熱処理す
る。　これにより、カラス８１！ｌ！１３をａ層したギ
ャップ突合せ面を融着し、全体をガラス膜とする。

ガラス薄膜を機械的に充分接着し、しかも他のコア本体
や薄膜２を損傷しないためには、熱処理温度が、ガラス
質の軟化温度から溶融温度であることが必要である。

以上のようにして形成されたギャップは、全体として４
に麿以下であることが好ましく、より門Ｉましくは０．
５〜２，０井腸である。　　−のとき、本発明の効果は
より顕著に実現する。

なお、薄Ｈ１２と、ガラス薄膜１３との膜厚の総計は、
全体として、所望とする磁気へ一２Ｆのギャップ長と等
しいか、または１．２倍以下とすることが必要である。

このようにして作製される磁気ヘッドは、フロッピーデ
ィスク用の用途において、きわめて有用である。

なお、第４図には、第１図、第２図に示されるコア半休
を、第３図に示されるように突き合わせてなる２つのコ
アを、スペーサーを介して一体化して、３ギヤツプ型の
フロッピーヘッドとした例が示される。

■　発明の具体的効果 本発明のＡｎ　、Ｚｒ　、Ｍｏ　、Ｔｉ　、Ｗ。

Ｔａ、Ｎｂの少なくとも１挿具りを有する薄膜とカラス
薄膜からなるギャップ材を有し、Ｆｅ、Ｇｏ、Ｓｉおよ
びＢを主体とする非晶質磁性合金からなるコア半休を有
するが磁気ヘッドは以下のような効果を有する。

すなわち、磁気抵抗の高いギャップが形成さ九るので、
オーバーライド特性が良好で分解能が高い。

そして、コア本体との密着性がよく、ガラス質との密着
性もよいので、強固な磁気ギャップが形成され、保存性
、耐久性がよい。

また、ガラス薄膜間の密着性も、ガラス質を配設するの
で、熱的機械的に安定であり、強固なナローギャンプが
形成される。

これらの結果、使用ないし経時に従い発生するオーバー
ライド特性や分解能の劣化はきわめて少ない。

■　発明の具体的実施例 以下に実施例をあげて、未発明の効果を実証する。

実施例 ７０　（５，５Ｆｅ−９４，５Ｃｏ）−２４（１０Ｓｉ
−９０Ｂ）−ＢＲｕ からなる合金を用い１片ロール法によって非晶質磁性合
金薄板を得た。　板厚は５０＃Ｌ、１１とした。

この非晶質磁性合金薄板を焼鈍処理し、内部歪取りを行
った。

次に、この非晶質磁性合金薄板上に、スパッタリングに
より、下記表に示される金属を膜厚０　、５　ｇｆｆ＋
にて被着し、下地層薄膜とした。

次に、第２層カラス薄膜として、コーニング社製（ｃ−
１４１６）を膜厚０．２５ｐ＋ｗに設層した。　この軟
化温度は５８０℃である６以上のコア半休の形状は第１
図、第２図の形状とし、これらをつきあわせた。

そして、ビーズ状のガラス質〔コーニング社製ガラス（
８４６３））を、第３図に示されるように、磁気ギャッ
プ近傍に設置し、温度４００℃にて熱処理して、ｗＳ４
図に示されるようなスリーギャップの磁気ヘッドとした
。

キャンプ長は１．、５　ｇ園である。

別に比較のために、ギャップ材として１．５ｇｍ厚のＴ
ｉ箔を用い、熱硬化性樹脂で固着して磁気ヘッドを作製
した。

これら各サンプルについて以下の測定を行った。

１）分解能 内周を１２５ＫＨｚ（この際の出力をＩＦとする）で書
き込みを行い、外周を２５０ＫＨｚ（この際の出力を２
Ｆとする）で書き込み、録再の出力を測定して２Ｆ／Ｉ
Ｆを百分率で示し、分解能とする。

この分解能を初期のものと２００パス後のもので測定す
る。

２）オーバーライド（０マｅｒ　ｗｒｉｔｅ）特性１２
５ＫＨｚ（出力＝ＩＦ）で書き込みを行った後に、２５
０ＫＨｚ（出力＝２Ｆ）で消去しながら書き込みを行い
（重ね書き）２Ｆを書き込み後のＩＦの出力ＩＦ’　を
測定する。

１Ｆ’／２Ｆをオーバーライド特性として表しす。　　
単位はｄＢである。

この消去率を、初期のものと２００パス後のもので測定
する。

３）保存性 ４０℃、９０％ＲＨで、２４０時間後の上記のオーバー
ライド特性の変化率を測定する。

これらの結果を表１に示す。

表１に示される結果により本発明の効果が明らかである
。

すなわち本発明の組成、膜厚からなるギャップ材からな
る磁気ヘッドは初期、多数回走行後、劣悪な条件下での
保存後とも、すぐれた多解能およびオーバーライド特性
を示すことが：かる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のコア半休の１例を示す斜視図、第２図
は、本発明のコア半休の別の例を示す斜視図である。 第３図は、第１図に示すコア半休と、第２図に示すコア
半休を突き合わせたときの正面図、第４図は、第３図に
示すコアからなるスリーへラド型の磁気ヘッドを示す斜
視図である。 １１・・・コア半休。 １２・・・薄膜。 １３・・・ガラス薄膜。 １４・・・ガラス質

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）非晶質磁性合金からなるコア半体を、ギャップ材
   を介してつきあわせ一体化してなる磁気ヘッドにおいて
   、 ギャップ材が、両コア半休の少なくとも ギャップ面に被着されたＡｌ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、
   ＴａおよびＮｂのうちの少なくとも１種以上からなる薄
   膜と、この薄膜間にはさまれたガラス膜とからなること
   を特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）薄膜の膜厚が０．０５〜２．０μｍである特許請
   求の範囲第１項に記載の磁気ヘッド。
3. （３）ガラス膜が、ガラス薄膜を薄膜上に設層し、しか
   もガラス薄膜間にガラス質を配設した後、熱処理して形
   成される特許請求の範囲第１項または第２項に記載の磁
   気ヘッド。
4. （４）ガラス薄膜が、軟化温度５００〜７００℃である
   特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の
   磁気ヘッド。
5. （５）ガラス質が、軟化温度３００〜５００℃である特
   許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の磁
   気ヘッド。
6. （６）ガラス薄膜の厚みが０．１〜１μｍである特許請
   求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の磁気ヘ
   ッド。
7. （７）熱処理温度が、ガラス質の軟化温度から溶融温度
   である特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれかに
   記載の磁気ヘッド。
8. （８）磁気ヘッドのギャップ長が４μｍ以下である特許
   請求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記載の磁気
   ヘッド。
9. （９）第１層とガラス膜からなる膜厚の総計が、所望と
   する磁気ヘッドのギャップ長と等しいか、または１．２
   倍以下であるように設層する特許請求の範囲第１項ない
   し第８項のいずれかに記載の磁気ヘッド。
10. （１０）非晶質磁性合金がＦｅとＣｏとＢまたはＢおよ
    びＳｉとを主体とし、Ｒｕ、ＣｒおよびＴｉの１種以上
    を含む組成からなる特許請求の範囲第１項ないし第９項
    のいずれかに記載の磁気ヘッド。