JPS6278128A - アモルフアス磁気ヘツト用耐水性低温軟化ガラス組成物 - Google Patents
アモルフアス磁気ヘツト用耐水性低温軟化ガラス組成物Info
- Publication number
- JPS6278128A JPS6278128A JP21804785A JP21804785A JPS6278128A JP S6278128 A JPS6278128 A JP S6278128A JP 21804785 A JP21804785 A JP 21804785A JP 21804785 A JP21804785 A JP 21804785A JP S6278128 A JPS6278128 A JP S6278128A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- low
- temperature
- thermal expansion
- working point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
- C03C3/21—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing titanium, zirconium, vanadium, tungsten or molybdenum
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、ガラスを用いた低温光てんや低温ボンディン
グに係ジ、特にアモルファス金属を採用した高性能磁気
ヘッド出光てん材やボンディング材として好適な強耐水
性低温軟化ガラス組成物に関する。
グに係ジ、特にアモルファス金属を採用した高性能磁気
ヘッド出光てん材やボンディング材として好適な強耐水
性低温軟化ガラス組成物に関する。
近年、記録装置の小型化や高密度記録化が進むにつれて
、より性能の優れた磁気ヘッドが要求されるようになっ
た。その友め、大きな飽和磁束密度を有するアモルファ
ス金属を採用した高性能磁気ヘッドの開発が急速に進め
られている。
、より性能の優れた磁気ヘッドが要求されるようになっ
た。その友め、大きな飽和磁束密度を有するアモルファ
ス金属を採用した高性能磁気ヘッドの開発が急速に進め
られている。
磁気ヘッドは磁気ギャップ部でボンディングされた構造
となっており、従来から充てん材やボンディング材とし
ては非磁性であるガラスが寿命の点で最も適しているこ
とが知られている。
となっており、従来から充てん材やボンディング材とし
ては非磁性であるガラスが寿命の点で最も適しているこ
とが知られている。
アモルファス金属を採用した高性能磁気ヘッドの充てん
材やボンディング材として使用されるガラスは、ガラス
の熱膨脹係数が被充てん材や被ボンデイング材の熱膨脹
係数に適合していることが大切である。また充てんやボ
ンディングの作業温朋が被充てん材や被ボンディング材
の耐熱限度エリ低いことが要求されることはもちろんで
あるが、特にアモルファス金属の高温加熱は結晶化を起
こすので、作業温度は出来るだけ低い方がよく、出来得
るならば４８０℃以下で充てんやボンディングできるこ
とが望ましい。
材やボンディング材として使用されるガラスは、ガラス
の熱膨脹係数が被充てん材や被ボンデイング材の熱膨脹
係数に適合していることが大切である。また充てんやボ
ンディングの作業温朋が被充てん材や被ボンディング材
の耐熱限度エリ低いことが要求されることはもちろんで
あるが、特にアモルファス金属の高温加熱は結晶化を起
こすので、作業温度は出来るだけ低い方がよく、出来得
るならば４８０℃以下で充てんやボンディングできるこ
とが望ましい。
更に磁気ヘッドは湿度の高い雰囲気中で使用される場合
もあるので、磁気ヘッドに使用するガラスの耐水性が弱
いと、ガラスの溶出を起こし、磁気ヘッドとしての信頼
性を損うことにもなるので、ガラスに対しては実用に耐
える程度の強い耐水性が要求される。
もあるので、磁気ヘッドに使用するガラスの耐水性が弱
いと、ガラスの溶出を起こし、磁気ヘッドとしての信頼
性を損うことにもなるので、ガラスに対しては実用に耐
える程度の強い耐水性が要求される。
従来からこの種のガラスとしては、鉛を多量に含み、Ｐ
ｂＯ−Ｂ２Ｏ，を基本とした系が多く、この糸では鉛含
量が多いほど、より低温で作業できるが、熱膨脹係数が
Ｉ Ｑ ＯＸ １０−’／ ℃を超える上に、耐水性が
劣るという欠点がある。一方鉛含量を少なくすると、熱
膨脹係数が１００Ｘ１０−７／℃以下のものも得られ、
また耐水性もある程度改善されるが、充てんやボンデイ
ンクの作業温度が５００℃以上で高過ぎる欠点がある。
ｂＯ−Ｂ２Ｏ，を基本とした系が多く、この糸では鉛含
量が多いほど、より低温で作業できるが、熱膨脹係数が
Ｉ Ｑ ＯＸ １０−’／ ℃を超える上に、耐水性が
劣るという欠点がある。一方鉛含量を少なくすると、熱
膨脹係数が１００Ｘ１０−７／℃以下のものも得られ、
また耐水性もある程度改善されるが、充てんやボンデイ
ンクの作業温度が５００℃以上で高過ぎる欠点がある。
このため、従来からのガラスではアモルファス金属を採
用した高性能磁気ヘッドには適しておらず、３つの特性
すなわち、熱膨脹係数、作業温度及び耐水性を満足した
ガラスがいまだ出現していない。これは３つの特性が相
矛盾したものであることが原因で、５つの特性を満足し
た新規なガラスの開発が磁気ヘッドに限らず、従来から
いろいろな方面で大変強く望１れている。
用した高性能磁気ヘッドには適しておらず、３つの特性
すなわち、熱膨脹係数、作業温度及び耐水性を満足した
ガラスがいまだ出現していない。これは３つの特性が相
矛盾したものであることが原因で、５つの特性を満足し
た新規なガラスの開発が磁気ヘッドに限らず、従来から
いろいろな方面で大変強く望１れている。
ｖ！Ｏｓを官有するガラスの発明として、例えば特開昭
５８−７４５５９号、同５５−７５９５７号、同５４−
６４５１４号、同５５−８２８２６号、同４Ｂ−４５０
０７号がある。Ｂ、０３−Ｚｎ０−Ｖ、Ｏ，−Ｂｉ、Ｏ
，−Ｔｔ！Ｏ，糸ガラス（特開紹５８−７４５５９号ン
、Ｌｉ２Ｏ−Ｎａ１０−ＺｎＯ−ＢＩＯＩ−ＶＩＯＢ−
Ｐ２Ｏ３−Ｚｒ０３−ＡｌｓＯｓ系ガラス（￥ｆ開昭５
４−６４５１４号）、Ｎａｎｏ−ＺｎＯ−Ｂ１０ｇ−Ｐ
２Ｏ３−７１０５系ガラス（特開昭５５−８２８２６号
ン及Ｕ Ｂ＊０ｓ−ｖｚＯｓ−ＺｎＯ−ＮａｌＯ−８１
０２−Ａ４０３−ＺｒＯ１系ガラス（４５Ｆ開昭４８−
４５００７号］においては、熱膨脹係数が１００×１０
７℃以下のものも得られるが、充てんやボンディングの
作業温度が５ｏｏｔ：以上と高いという問題がある。Ｐ
ｂ０−Ｖ２Ｏ３−Ｐ２Ｏ５糸ガラス（特開昭５５−７５
９５７号ｊはＰｂＯを最モ多く含み、軟化点が約５２０
Ｃと低く、シかも強い耐水性をもつといった利点がある
が、熱膨脹係数が約１５０ Ｘ １０”７℃と大きい問
題がある。
５８−７４５５９号、同５５−７５９５７号、同５４−
６４５１４号、同５５−８２８２６号、同４Ｂ−４５０
０７号がある。Ｂ、０３−Ｚｎ０−Ｖ、Ｏ，−Ｂｉ、Ｏ
，−Ｔｔ！Ｏ，糸ガラス（特開紹５８−７４５５９号ン
、Ｌｉ２Ｏ−Ｎａ１０−ＺｎＯ−ＢＩＯＩ−ＶＩＯＢ−
Ｐ２Ｏ３−Ｚｒ０３−ＡｌｓＯｓ系ガラス（￥ｆ開昭５
４−６４５１４号）、Ｎａｎｏ−ＺｎＯ−Ｂ１０ｇ−Ｐ
２Ｏ３−７１０５系ガラス（特開昭５５−８２８２６号
ン及Ｕ Ｂ＊０ｓ−ｖｚＯｓ−ＺｎＯ−ＮａｌＯ−８１
０２−Ａ４０３−ＺｒＯ１系ガラス（４５Ｆ開昭４８−
４５００７号］においては、熱膨脹係数が１００×１０
７℃以下のものも得られるが、充てんやボンディングの
作業温度が５ｏｏｔ：以上と高いという問題がある。Ｐ
ｂ０−Ｖ２Ｏ３−Ｐ２Ｏ５糸ガラス（特開昭５５−７５
９５７号ｊはＰｂＯを最モ多く含み、軟化点が約５２０
Ｃと低く、シかも強い耐水性をもつといった利点がある
が、熱膨脹係数が約１５０ Ｘ １０”７℃と大きい問
題がある。
本発明の目的は、従来からの低温軟化ガラス組成物より
、熱膨脹係数が小さく、シかも低温で作業でき、その上
耐水性の優れ九強耐水性低温軟化ガラス組成物を提供す
ることにある。特にアモルファス金属を採用した高性能
磁気ヘッド月光てん材やボンディング材に適した強耐水
性低温軟化ガラス組成物を提供することにある。
、熱膨脹係数が小さく、シかも低温で作業でき、その上
耐水性の優れ九強耐水性低温軟化ガラス組成物を提供す
ることにある。特にアモルファス金属を採用した高性能
磁気ヘッド月光てん材やボンディング材に適した強耐水
性低温軟化ガラス組成物を提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明は耐水性低温軟化ガラス組
成物に関する発明であって、主要成分トシテ、ｖｇｏｓ
を５５〜７０３ｉｊ１％、Ｐ２Ｏ５を１７〜３０重量％
及び８ｂ２０３を２〜２０ｉ３１％ｆｆＷし、熱膨脹係
数が１００ Ｘ １０−’／ ℃以下であることを特徴
とする。
成物に関する発明であって、主要成分トシテ、ｖｇｏｓ
を５５〜７０３ｉｊ１％、Ｐ２Ｏ５を１７〜３０重量％
及び８ｂ２０３を２〜２０ｉ３１％ｆｆＷし、熱膨脹係
数が１００ Ｘ １０−’／ ℃以下であることを特徴
とする。
更に上記組成に２０重債チ以下、好ましくは５重量−以
上のＰ１３０を加えた範囲内にあり、熱膨脹係数が７０
〜１００Ｘ１０−７／℃、作業点が４５０℃以下である
ことを特徴とするｖ２０ｆＪ−ＰＲＯＢ−ｓｂ、ｏｓ−
ＰｂＯ系耐水性低温軟化ガラス組成物に係るものでもあ
る。
上のＰ１３０を加えた範囲内にあり、熱膨脹係数が７０
〜１００Ｘ１０−７／℃、作業点が４５０℃以下である
ことを特徴とするｖ２０ｆＪ−ＰＲＯＢ−ｓｂ、ｏｓ−
ＰｂＯ系耐水性低温軟化ガラス組成物に係るものでもあ
る。
更に１５５重量以下、好ましくは２重量％以上のＴｌ４
ｏを加え、熱膨脹係数が８０〜１００Ｘ１ ｇ−７／℃
、作業点が４４０℃以下でろることを特徴ト”ｊ ルＶ
ＩＯ，−ＰＩＯ＠−８１＋＝Ｏｓ−Ｐｌ）ｏ−ＴｉＢ２
系強酎水性低温軟化ガラスｍ底物に係るものでもある。
ｏを加え、熱膨脹係数が８０〜１００Ｘ１ ｇ−７／℃
、作業点が４４０℃以下でろることを特徴ト”ｊ ルＶ
ＩＯ，−ＰＩＯ＠−８１＋＝Ｏｓ−Ｐｌ）ｏ−ＴｉＢ２
系強酎水性低温軟化ガラスｍ底物に係るものでもある。
また、前記２種の系のいずれかに５重ｉ％以下、好まし
くは０．５重量％以上のＮｌ）、Ｏｓを加え、熱膨脹係
数が７０〜９５Ｘ１０−’／℃、作業点が４５０℃以下
であることを特徴とするＶ、Ｏ，−Ｐ、Ｏ。
くは０．５重量％以上のＮｌ）、Ｏｓを加え、熱膨脹係
数が７０〜９５Ｘ１０−’／℃、作業点が４５０℃以下
であることを特徴とするＶ、Ｏ，−Ｐ、Ｏ。
−８ｂ、０３−Ｐ’ｂＯ−Ｎ’ｂ、ＯＳ系及ヒＶ２０．
−Ｐ、Ｏ，−８ｂｌＯ３−ＰｂＯ−るものである。
−Ｐ、Ｏ，−８ｂｌＯ３−ＰｂＯ−るものである。
本発明において、作業点とはガラスの粘度が約１０４ポ
アズになる温度をいう。
アズになる温度をいう。
本発明の耐水性低温軟化ガラス組成物は、その熱＃張係
数をアモルファス金属を採用した高性能磁気ヘッドの波
光てん材や被ボンデイング材の熱膨脹係数に適合させる
ことができるほどに小さいのでガラスが破損することな
く充てんやボンディングが可能である。また、このガラ
スは、４８０℃以下の低温で充てんやボンディングが可
能なので、高温での加熱を嫌うアモルファス金属として
は、結晶化を起こさず、磁気ヘッドの高性能化をより高
めることができる。
数をアモルファス金属を採用した高性能磁気ヘッドの波
光てん材や被ボンデイング材の熱膨脹係数に適合させる
ことができるほどに小さいのでガラスが破損することな
く充てんやボンディングが可能である。また、このガラ
スは、４８０℃以下の低温で充てんやボンディングが可
能なので、高温での加熱を嫌うアモルファス金属として
は、結晶化を起こさず、磁気ヘッドの高性能化をより高
めることができる。
更にまた本発明のガラスは、その耐水性も良好なので、
このガラスで充てんやボンディングした磁気ヘッドは高
湿度中にさらされても、ガラスが溶出することなく、ア
モルファス金属を採用し念高性能磁気ヘッドの信頼性の
向上に役立つ。以上、本発明の強耐水性低温軟化ガラス
組成物は、前に述べた従来のこの種のガラスの欠点が取
除かれた新規なガラスである。
このガラスで充てんやボンディングした磁気ヘッドは高
湿度中にさらされても、ガラスが溶出することなく、ア
モルファス金属を採用し念高性能磁気ヘッドの信頼性の
向上に役立つ。以上、本発明の強耐水性低温軟化ガラス
組成物は、前に述べた従来のこの種のガラスの欠点が取
除かれた新規なガラスである。
次に本発明の強耐水性低温軟化ガラス組底物を構成する
各種成分並びにそれらの組成範囲の限定理由について説
明する。
各種成分並びにそれらの組成範囲の限定理由について説
明する。
まずｖ２０５は強耐水性低温軟化ガラス組成物の主成分
で、ガラスの熱膨脹係数及び作業点を下げるのに有効で
あるが、７０重量％を超えるとガラスの耐水性が悪化し
、また５５重ＪＩｋ％未満であるとガラスの熱膨脹係数
が大きくなり過ぎる。
で、ガラスの熱膨脹係数及び作業点を下げるのに有効で
あるが、７０重量％を超えるとガラスの耐水性が悪化し
、また５５重ＪＩｋ％未満であるとガラスの熱膨脹係数
が大きくなり過ぎる。
Ｐ、ＯＩＩはガラス形成！！！ｆヒ物であり、ガラスの
失透を防止し、流動性を良くするが、３０重量％を超え
るとガラスの作業点が上がり過ぎかつ耐水性も悪くなる
。ま几１７重量％未満ではガラスが失透を起こしやすく
、実用に供し得ない。
失透を防止し、流動性を良くするが、３０重量％を超え
るとガラスの作業点が上がり過ぎかつ耐水性も悪くなる
。ま几１７重量％未満ではガラスが失透を起こしやすく
、実用に供し得ない。
ｓ ｂ、ｏ３はガラスの耐水性改善に著しく効果がある
が、２０重ｉ１％を超えるとガラスの作業点が上が＃）
過ぎ、また、２重ｉｉｔ％未満ではガラスの耐水性改善
に対し充分な効果が得られない。
が、２０重ｉ１％を超えるとガラスの作業点が上が＃）
過ぎ、また、２重ｉｉｔ％未満ではガラスの耐水性改善
に対し充分な効果が得られない。
ＰｂＯはガラスの作業点を下げ、かつ耐水性を向上させ
るが、２０重量％を超えるとガラスの熱膨脹係数が大き
くなり過ぎ、しかも失透を起こしやすくなる。
るが、２０重量％を超えるとガラスの熱膨脹係数が大き
くなり過ぎ、しかも失透を起こしやすくなる。
Ｔ２Ｏはガラスの作業点を下げるために加えるが、１５
重量％を超えるとガラスの熱膨脹係数が大きくなり過ぎ
、しかも耐水性が悪くなる。
重量％を超えるとガラスの熱膨脹係数が大きくなり過ぎ
、しかも耐水性が悪くなる。
Ｎｂ２Ｏ２はガラスの熱膨脹係数を小さくするために加
えるが５重量％を超えるとガラスの作業点が上がり過ぎ
、しかも失透しやすくなる。
えるが５重量％を超えるとガラスの作業点が上がり過ぎ
、しかも失透しやすくなる。
次に本発明のガラスの熱膨脹係数の範囲が７０〜１００
Ｘ １０−’／１１：であるので、各種フェライト等
の波光てん材や被ボンデイング材に適合した、すなわち
磁気ヘッドとして適したガラスを選択することができる
。一般に１００Ｘ１０″″７℃を超えるガラスは、充て
ん後やボンディング後にガラス部にクラックが発生した
り、強固な充てんやボンディングができないため、磁気
ヘッドが壊れやすくなってしまう。また熱膨張差による
応力が磁性材にかが９礎気ヘツドの磁気特性が劣化して
しまつ。７０ Ｘ １０−？／’Ｃ未満のガラスは低温
軟化ガラス罠おいてはいまだ出現していないが、存在す
るとすれば、上記の様な問題が生ずるであろう。
Ｘ １０−’／１１：であるので、各種フェライト等
の波光てん材や被ボンデイング材に適合した、すなわち
磁気ヘッドとして適したガラスを選択することができる
。一般に１００Ｘ１０″″７℃を超えるガラスは、充て
ん後やボンディング後にガラス部にクラックが発生した
り、強固な充てんやボンディングができないため、磁気
ヘッドが壊れやすくなってしまう。また熱膨張差による
応力が磁性材にかが９礎気ヘツドの磁気特性が劣化して
しまつ。７０ Ｘ １０−？／’Ｃ未満のガラスは低温
軟化ガラス罠おいてはいまだ出現していないが、存在す
るとすれば、上記の様な問題が生ずるであろう。
ガラスの作業点が４８０℃以下であるということは、磁
気ヘッド炸裂におけるガラス充てんやボンディングが４
８０℃以下で行えるということでろシ、このような低温
で作業できることはアモルファス金属を採用した高性能
磁気ヘッドには最も有効である。充てんやボンディング
温度が高いとアモルファス金属は結晶化を起こし、磁気
ヘッドとしての性能を発揮できない。
気ヘッド炸裂におけるガラス充てんやボンディングが４
８０℃以下で行えるということでろシ、このような低温
で作業できることはアモルファス金属を採用した高性能
磁気ヘッドには最も有効である。充てんやボンディング
温度が高いとアモルファス金属は結晶化を起こし、磁気
ヘッドとしての性能を発揮できない。
−１次、アモルファス金属は結晶化を起こさない温度範
囲にあっても、充てん温度やボンディング温度が高いほ
ど寿命が短くなり、すなわち磁気ヘッドとしての寿命が
短くなるので、なるべく低温で充てんやポンディングを
する必要がある。その点、本発明のガラスは４４０℃以
下の低温で充てんやボンディングもできるので、アモル
ファス金属を結晶化させずに、長寿命な高性能磁気ヘッ
ドを作製することが可能である。
囲にあっても、充てん温度やボンディング温度が高いほ
ど寿命が短くなり、すなわち磁気ヘッドとしての寿命が
短くなるので、なるべく低温で充てんやポンディングを
する必要がある。その点、本発明のガラスは４４０℃以
下の低温で充てんやボンディングもできるので、アモル
ファス金属を結晶化させずに、長寿命な高性能磁気ヘッ
ドを作製することが可能である。
本発明のガラスを構成する成分の原料としては焼成によ
り、前記成分の酸化物若しくはそれらの酸化物の混合物
を生ずるものであればどんなものでもよい。
り、前記成分の酸化物若しくはそれらの酸化物の混合物
を生ずるものであればどんなものでもよい。
次に本発明のガラスの製造方法について説明する。ガラ
ス原料を配合及び混合し、アルミナルツボ又は白金ルツ
ボに入れ、電気炉中で９００℃、α５〜１時間溶融させ
た。この溶融物を２５０〜３００℃に保持し次黒鉛治具
に流し込み、その後空冷させてガラスを作製した。
ス原料を配合及び混合し、アルミナルツボ又は白金ルツ
ボに入れ、電気炉中で９００℃、α５〜１時間溶融させ
た。この溶融物を２５０〜３００℃に保持し次黒鉛治具
に流し込み、その後空冷させてガラスを作製した。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
第１表〜第５表に本発明における実施例の組成と特性を
示す。第６表に比較例として従来のこの株の低温軟化ガ
ラスの組成と特性を示す。
示す。第６表に比較例として従来のこの株の低温軟化ガ
ラスの組成と特性を示す。
ナオ、各ガラスの特性の測定方法は以下のとおりである
。
。
（１１熱膨脹係数
５φ×２０ｆｉの円柱状に加工したガラスを測定試料と
して、熱膨張計を用いて、空気中、昇温速度１０℃／分
で測定した。
して、熱膨張計を用いて、空気中、昇温速度１０℃／分
で測定した。
（２） 軟化点及び作業点
粉末にしたガラスを示差熱分析装置を用いて、を気中、
昇温速度１０℃／分で、軟化点及び作業点を測定した。
昇温速度１０℃／分で、軟化点及び作業点を測定した。
ここで軟化点及び作業点は粘度が約１０７Ｊポアズ及び
約１０４ポアズに相当する。
約１０４ポアズに相当する。
（３）耐水性
５Ｘ５Ｘ５ｍの立方体に加工したガラス片を４０ｃｃの
蒸留水中に入れ、７０℃、２時間加熱し、その後ガラス
片を十分乾燥させ、重量減少を測定した。ここにおける
耐水性とは、上記条件で試Ｐｒ１ｆ当りの重量減少をｍ
２で算出した値である。
蒸留水中に入れ、７０℃、２時間加熱し、その後ガラス
片を十分乾燥させ、重量減少を測定した。ここにおける
耐水性とは、上記条件で試Ｐｒ１ｆ当りの重量減少をｍ
２で算出した値である。
第１表〜第５表から明らかなように本発明のガラスはｖ
！０５を最も多く含んだ組成で構成され念ものである。
！０５を最も多く含んだ組成で構成され念ものである。
それに対し、従来からの低温軟化ガラスＶｉ第６表から
れかるようＫ ＰｂＯを最も多く含んだ組成で構成され
たもので、ＰｂＯ量が多いほど軟化点や作業点が低い傾
向を示すが、一方、熱膨脹係数が大きり、シかも耐水性
が弱い傾向も示す。第６辰のガラスは、磁気ヘッド出光
てん材やボンディング材及びそれ以外の色々なものへの
低温ボンディング材として一般的で６Ｄ、従来からの使
用頻度がかなシ高い。アモルファス金属を採用した高性
能磁気ヘッドには現在比較例ａのような作業点が低いガ
ラスが使用されているが、熱膨脹係数が大きいために、
磁気ヘッド炸裂における歩留りが悪い、磁気ヘッドの特
性が上がらないといった問題がある。
れかるようＫ ＰｂＯを最も多く含んだ組成で構成され
たもので、ＰｂＯ量が多いほど軟化点や作業点が低い傾
向を示すが、一方、熱膨脹係数が大きり、シかも耐水性
が弱い傾向も示す。第６辰のガラスは、磁気ヘッド出光
てん材やボンディング材及びそれ以外の色々なものへの
低温ボンディング材として一般的で６Ｄ、従来からの使
用頻度がかなシ高い。アモルファス金属を採用した高性
能磁気ヘッドには現在比較例ａのような作業点が低いガ
ラスが使用されているが、熱膨脹係数が大きいために、
磁気ヘッド炸裂における歩留りが悪い、磁気ヘッドの特
性が上がらないといった問題がある。
熱膨脹係数の値としては、１００ Ｘ １０−７／ ℃
以下が好ましい。また、比較例ａのガラスは耐水性が２
（１１ｍｆ／ ｔと悪いので、高湿度中で使用すると
きＶｉ、磁気ヘッドの寿命が短くなり、信頼性にかける
といった問題もある。耐水性の値としては、比較例ｅ％
ｆ、ｇ、ｈのガラス程度のものが好ましい。更に、比較
例ａのガラスの作業点は４５８℃とアモルファス金属に
とってはまだ高いので、磁気ヘッドの長寿命化を図るた
めに、よシ低温で充てんやボンディングできる方が好ま
しい。
以下が好ましい。また、比較例ａのガラスは耐水性が２
（１１ｍｆ／ ｔと悪いので、高湿度中で使用すると
きＶｉ、磁気ヘッドの寿命が短くなり、信頼性にかける
といった問題もある。耐水性の値としては、比較例ｅ％
ｆ、ｇ、ｈのガラス程度のものが好ましい。更に、比較
例ａのガラスの作業点は４５８℃とアモルファス金属に
とってはまだ高いので、磁気ヘッドの長寿命化を図るた
めに、よシ低温で充てんやボンディングできる方が好ま
しい。
第１表〜第５表において、実施例１〜１３のガラスはＶ
、Ｏ，−Ｐ２Ｏ５−８’ｂ、Ｏ，糸、実施例１４〜２６
ＯガラスＩｄ Ｖ２Ｏ５−Ｐ２Ｏ５−８ｂ１０３−Ｐｂ
Ｏ系、実施例２７〜５２のガラスはｖ２ｏ、−ｐ２ｏ、
−ｓｂ、ｏ３−ＰｂＯ−’Ｉ’ｔｚｏ 糸、実施例５３
〜６５のガラスはｖ、ｏ、−ｐ、ｏ、−ｓｂ！ｏ、−Ｐ
ｂＯ−Ｎｂ２ｏ、糸及（ｊ Ｖ、Ｏ，−Ｐ２Ｏ５−８’
ｂ、０３−ＰｂＯ−Ｔｚ、０−Ｎｂ２Ｏ５系である。
、Ｏ，−Ｐ２Ｏ５−８’ｂ、Ｏ，糸、実施例１４〜２６
ＯガラスＩｄ Ｖ２Ｏ５−Ｐ２Ｏ５−８ｂ１０３−Ｐｂ
Ｏ系、実施例２７〜５２のガラスはｖ２ｏ、−ｐ２ｏ、
−ｓｂ、ｏ３−ＰｂＯ−’Ｉ’ｔｚｏ 糸、実施例５３
〜６５のガラスはｖ、ｏ、−ｐ、ｏ、−ｓｂ！ｏ、−Ｐ
ｂＯ−Ｎｂ２ｏ、糸及（ｊ Ｖ、Ｏ，−Ｐ２Ｏ５−８’
ｂ、０３−ＰｂＯ−Ｔｚ、０−Ｎｂ２Ｏ５系である。
実施例１〜１３のガラスは熱膨脹係数が７２〜９８ Ｘ
１０−７／℃、軟化点が３４８へ５９５℃、作業点が
４１０−４７８℃、耐水性がα７〜９．４ｍＷ／りの範
囲にあり、第６表の比較例ａ、ｂ及びｄのガラスと同程
度″！！たはそれ以下の軟化点や作業点をもつが、それ
らより熱膨脹係数が小さく、耐水性も優れていることが
わかる。
１０−７／℃、軟化点が３４８へ５９５℃、作業点が
４１０−４７８℃、耐水性がα７〜９．４ｍＷ／りの範
囲にあり、第６表の比較例ａ、ｂ及びｄのガラスと同程
度″！！たはそれ以下の軟化点や作業点をもつが、それ
らより熱膨脹係数が小さく、耐水性も優れていることが
わかる。
実施例１４〜２６のガラスは熱膨脹係数が８１〜１００
Ｘ １０−’ ／ ｕ、軟化点が３６１〜３８６℃、
作業点が４１８〜４４／℃、耐水性が（１２〜４．１
ｍＷ／ ｆの範囲にあシ、前述した実施例１〜１３のガ
ラスより比較的軟化点や作業点が低目で、しかも耐水性
が良好であることｔ−特徴とする。第６表のガラスと比
較すると、熱膨脹係数は小さ目であり、しかも軟化点や
作業点も低目であり、従来の低温軟化ガラスよシ優れて
いる。また、耐水性に関しては、作業点がＳＯＯ℃以上
と高目である比較例θ、ｆ％ｇ、、ｈのガラスと同程度
の値を示し、比較例ａのガラスより著しく耐水性が強い
こともわかる。すなわち、従来からの低温軟化ガラスエ
り熱膨脹係数、作業点及び耐水性において明らかに優れ
ている。
Ｘ １０−’ ／ ｕ、軟化点が３６１〜３８６℃、
作業点が４１８〜４４／℃、耐水性が（１２〜４．１
ｍＷ／ ｆの範囲にあシ、前述した実施例１〜１３のガ
ラスより比較的軟化点や作業点が低目で、しかも耐水性
が良好であることｔ−特徴とする。第６表のガラスと比
較すると、熱膨脹係数は小さ目であり、しかも軟化点や
作業点も低目であり、従来の低温軟化ガラスよシ優れて
いる。また、耐水性に関しては、作業点がＳＯＯ℃以上
と高目である比較例θ、ｆ％ｇ、、ｈのガラスと同程度
の値を示し、比較例ａのガラスより著しく耐水性が強い
こともわかる。すなわち、従来からの低温軟化ガラスエ
り熱膨脹係数、作業点及び耐水性において明らかに優れ
ている。
実施例２７〜５２のガラスは熱膨脹係数が８１〜１００
Ｘ １ ｏ−７ｒ、、軟化点が３６１〜３８８℃、作
業点が４１０〜４３／℃、耐水性がα３〜＆ ５ ｍ９
７ ｔの範囲にある。前述した実施例１〜２６のガラス
より作業点が低目であることを特徴とし、そのため、よ
り低温で充てんやボンディングが可能である。耐水性に
関しては、実施例１４〜２６のガラスより若干劣るが、
比較例ａのガラスよりかなり優れている。第６表から明
らかなように、従来からの低温軟化ガラスでは、これほ
ど作業点が低く、シかも耐水性が強いものはない。
Ｘ １ ｏ−７ｒ、、軟化点が３６１〜３８８℃、作
業点が４１０〜４３／℃、耐水性がα３〜＆ ５ ｍ９
７ ｔの範囲にある。前述した実施例１〜２６のガラス
より作業点が低目であることを特徴とし、そのため、よ
り低温で充てんやボンディングが可能である。耐水性に
関しては、実施例１４〜２６のガラスより若干劣るが、
比較例ａのガラスよりかなり優れている。第６表から明
らかなように、従来からの低温軟化ガラスでは、これほ
ど作業点が低く、シかも耐水性が強いものはない。
実施例５３〜６５のガラスは熱膨脹係数が７１〜９４
Ｘ １０−７／℃、軟化点が３６８〜３９０℃、作業温
度が４２１〜４４６℃、耐水性がα３〜２、８ ｍＷ／
９の範囲にあり、特に前述した実施１４〜５２のガラ
スより熱膨脹係数が小さ目であり、′！た実施例１〜１
３のガラスよシ作業處が低目で、しかも耐水性が優れて
いることが特徴である。第６表から明らかなように従来
からの低温軟化ガラスでは、これほど熱膨脹係数が小さ
く、しかも作業点が低く、更に耐水性が強いものは存在
しない。
Ｘ １０−７／℃、軟化点が３６８〜３９０℃、作業温
度が４２１〜４４６℃、耐水性がα３〜２、８ ｍＷ／
９の範囲にあり、特に前述した実施１４〜５２のガラ
スより熱膨脹係数が小さ目であり、′！た実施例１〜１
３のガラスよシ作業處が低目で、しかも耐水性が優れて
いることが特徴である。第６表から明らかなように従来
からの低温軟化ガラスでは、これほど熱膨脹係数が小さ
く、しかも作業点が低く、更に耐水性が強いものは存在
しない。
以上の実施例及び比較例より明らかなように、本発明の
ガラスは、従来からの低温軟化ガラスの熱膨脹係数より
小さく、しかもその作業点より低く、更にその耐水性が
より強いもので、従来からの低温軟化ガラスにはない３
つの特性を満足した新規なガラスである。すなわち本発
明のガラスは熱膨脹係数が７０〜１００ Ｘ １０−７
７℃の範囲内にあり、しかも作業点が４８０℃以下であ
る強耐水性低温軟化ガラスである。そのため、アモルフ
ァス金属を採用した高性能磁気ヘッドの寿命及び性能を
損うことな（，４８０℃以下で充てんやポンディングが
可能でめった。
ガラスは、従来からの低温軟化ガラスの熱膨脹係数より
小さく、しかもその作業点より低く、更にその耐水性が
より強いもので、従来からの低温軟化ガラスにはない３
つの特性を満足した新規なガラスである。すなわち本発
明のガラスは熱膨脹係数が７０〜１００ Ｘ １０−７
７℃の範囲内にあり、しかも作業点が４８０℃以下であ
る強耐水性低温軟化ガラスである。そのため、アモルフ
ァス金属を採用した高性能磁気ヘッドの寿命及び性能を
損うことな（，４８０℃以下で充てんやポンディングが
可能でめった。
また、磁気ヘッド炸裂における歩留りの向上も図ること
ができた。これによシ、本発明による強耐水性低温軟化
ガラス組成物は、従来からの低温軟化ガラスよシ明らか
に優れていることを確認した。ここにおいては、特にア
モルファス金属を採用した高性能磁気ヘッドの充てん材
やボンディング材として取上げたが、それだけに限らず
、いろいろな面においての低温ボンディング材としても
広く使用可能である。
ができた。これによシ、本発明による強耐水性低温軟化
ガラス組成物は、従来からの低温軟化ガラスよシ明らか
に優れていることを確認した。ここにおいては、特にア
モルファス金属を採用した高性能磁気ヘッドの充てん材
やボンディング材として取上げたが、それだけに限らず
、いろいろな面においての低温ボンディング材としても
広く使用可能である。
本発明は、従来からの低温軟化ガラスのようにＰｂＯを
主成分とした組成ではなく、■２０ｓを主成分としたｖ
、ｏ、−ｐ２ｏ、−ｓｂ、ｏ３系であり、従来のガラス
より熱膨脹係数が１００Ｘ１０″″γ／℃以下と小さく
、しかも作業点も低く、その上耐水性も強いといった３
つの効果を同時に達成したガラスである。したがって、
ガラスを用いた４８０℃以下の低温光てんや低温ボンデ
ィングに係り、特にアモルファス金属を採用した高性能
磁気ヘッド材やボンディング材として好適である。
主成分とした組成ではなく、■２０ｓを主成分としたｖ
、ｏ、−ｐ２ｏ、−ｓｂ、ｏ３系であり、従来のガラス
より熱膨脹係数が１００Ｘ１０″″γ／℃以下と小さく
、しかも作業点も低く、その上耐水性も強いといった３
つの効果を同時に達成したガラスである。したがって、
ガラスを用いた４８０℃以下の低温光てんや低温ボンデ
ィングに係り、特にアモルファス金属を採用した高性能
磁気ヘッド材やボンディング材として好適である。
ＰｂＯを加えりＶ、Ｏ，−Ｐ、Ｏ，−８ｂ、０−Ｐｌ）
Ｏ系では、熱膨脹係数が７０〜１００ Ｘ １０−？／
’ｃであり、作業点が４５０℃以下とより低温化でき
、しかも耐水性を向上させることができる強耐水性低温
軟化ガラスが得られる。
Ｏ系では、熱膨脹係数が７０〜１００ Ｘ １０−？／
’ｃであり、作業点が４５０℃以下とより低温化でき
、しかも耐水性を向上させることができる強耐水性低温
軟化ガラスが得られる。
更にＴｌ２Ｏを加えたＶ、Ｏ，−Ｐ、０Ｓ−１９１）、
Ｏ，−ＰＩ）０−Ｔｔ、０系では、熱膨脹係数が８０〜
１００Ｘ１０″″’／ｃであり、作業点が４４０℃以下
とより低温化させることができる強耐水性低温軟化ガラ
スが得られる。この系のガラスを用いると４４０℃以下
の低温で光てんやボンディングが可能であり、アモルフ
ァス金属のように耐熱性のないものにとっては非常に有
効である。
Ｏ，−ＰＩ）０−Ｔｔ、０系では、熱膨脹係数が８０〜
１００Ｘ１０″″’／ｃであり、作業点が４４０℃以下
とより低温化させることができる強耐水性低温軟化ガラ
スが得られる。この系のガラスを用いると４４０℃以下
の低温で光てんやボンディングが可能であり、アモルフ
ァス金属のように耐熱性のないものにとっては非常に有
効である。
Ｎｂ、Ｏ，系及びＶ２Ｏ３−Ｐ２Ｏ３−８ｂ１０３−Ｔ
２Ｏ−ＮａｔＯｓ系では、Δ 熱膨脹係数が７０〜９５Ｘ１０−？／Ｃとより小さく、
作業点が４５０℃以下である強耐水性低温軟化ガラスが
得られる。この系のガラスは波光てん材や被ポンディン
グ材に熱膨張保数の小さい材料を用いるときに特に有効
に使用することができる。
２Ｏ−ＮａｔＯｓ系では、Δ 熱膨脹係数が７０〜９５Ｘ１０−？／Ｃとより小さく、
作業点が４５０℃以下である強耐水性低温軟化ガラスが
得られる。この系のガラスは波光てん材や被ポンディン
グ材に熱膨張保数の小さい材料を用いるときに特に有効
に使用することができる。
本発明の低温軟化ガラスは低膨張、低融点及び強耐水性
である３つの特性を同時に満足し、従来のガラスの特性
を著しく上回り、いまだ世の中に出現していない画期的
なガラスである。
である３つの特性を同時に満足し、従来のガラスの特性
を著しく上回り、いまだ世の中に出現していない画期的
なガラスである。
このようなガラスは充てん、ボンディング及び封止用ガ
ラスとしているいろな方面で強く望まれている。
ラスとしているいろな方面で強く望まれている。
その他にも、一般の磁気ヘッドやＬＳＩパッケージにも
使用できる。広くは、セラミックスへの低温ボンディン
グに有効である。
使用できる。広くは、セラミックスへの低温ボンディン
グに有効である。
一般の磁気ヘッドの充てん材及びボンディング材として
使用する場合には、低温で作業ができるという利点があ
り、磁気ヘッド全般にわたシ有効に使用できる。
使用する場合には、低温で作業ができるという利点があ
り、磁気ヘッド全般にわたシ有効に使用できる。
ＬＳＩパッケージ、特に高熱伝導性ｓ１ｃを用いたパッ
ケージの封止用ガラスとして有効に使用できる。この封
止用ガラスとして、現在高膨張低融点であるＰｂＯ系ガ
ラスに低膨張材であるフィラーを多量に含有させた材料
を用いているが、本発明のガラスでは少量のフィラー又
はフィラーなしで封止でき、また従来より低温で封止で
き、更に耐水性が優れているので高湿シでもパッケージ
の使用が可能となる。ＳＩＣとのぬれ性も悪くないこと
がわかっている。
ケージの封止用ガラスとして有効に使用できる。この封
止用ガラスとして、現在高膨張低融点であるＰｂＯ系ガ
ラスに低膨張材であるフィラーを多量に含有させた材料
を用いているが、本発明のガラスでは少量のフィラー又
はフィラーなしで封止でき、また従来より低温で封止で
き、更に耐水性が優れているので高湿シでもパッケージ
の使用が可能となる。ＳＩＣとのぬれ性も悪くないこと
がわかっている。
以上のように、比較的低膨張である材料への低温光てん
、低温ボンディング及び低温封止に有効に使用できる。
、低温ボンディング及び低温封止に有効に使用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、主要成分として、Ｖ＿２Ｏ＿５を５５〜７０重量％
、Ｐ＿２Ｏ＿５を１７〜３０重量％及びＳｂ＿２Ｏ＿３
を２〜２０重量％含有し、熱膨脹係数が１００×１０＾
−＾７／℃以下であることを特徴とする耐水性低温軟化
ガラス組成物。 ２、成分として更にＰｂＯを２０重量％以下含有し、熱
膨脹係数が７０〜１００×１０＾−＾７／℃、作業点が
４５０℃以下である特許請求の範囲第１項記載の耐水性
低温軟化ガラス組成物。 ３、成分として更にＴｌ＿２Ｏを１５重量％以下含有し
、熱膨脹係数が８０〜１００×１０＾−＾７／℃、作業
点が４４０℃以下である特許請求の範囲第２項記載の耐
水性低温軟化ガラス組成物。 ４、成分として更にＮｂ＿２Ｏ＿５を５重量％以下含有
し、熱膨脹係数が７０〜９５×１０＾−＾７／℃、作業
点が４５０℃以下である特許請求の範囲第２項又は第３
項記載の耐水性低温軟化ガラス組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21804785A JPS6278128A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | アモルフアス磁気ヘツト用耐水性低温軟化ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21804785A JPS6278128A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | アモルフアス磁気ヘツト用耐水性低温軟化ガラス組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6278128A true JPS6278128A (ja) | 1987-04-10 |
| JPH0372023B2 JPH0372023B2 (ja) | 1991-11-15 |
Family
ID=16713815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21804785A Granted JPS6278128A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | アモルフアス磁気ヘツト用耐水性低温軟化ガラス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6278128A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02267137A (ja) * | 1989-04-06 | 1990-10-31 | Hitachi Ltd | 封着材料 |
| US5239434A (en) * | 1990-09-26 | 1993-08-24 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head, bonding glass used therefor and magnetic recording and reproducing apparatus |
| US5519555A (en) * | 1989-02-23 | 1996-05-21 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head including PbO-V2 O5 -P2 O5 system glass bonding |
| US6998776B2 (en) | 2003-04-16 | 2006-02-14 | Corning Incorporated | Glass package that is hermetically sealed with a frit and method of fabrication |
| JP2006290665A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Boe Technology Group Co Ltd | 無鉛シーリングガラス粉末及び製造方法 |
| JP2007320822A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Hitachi Ltd | ガラス封着材料、平面型表示装置用枠ガラス及び平面型表示装置 |
| US7344901B2 (en) | 2003-04-16 | 2008-03-18 | Corning Incorporated | Hermetically sealed package and method of fabricating of a hermetically sealed package |
| US8823163B2 (en) | 2012-08-30 | 2014-09-02 | Corning Incorporated | Antimony-free glass, antimony-free frit and a glass package that is hermetically sealed with the frit |
-
1985
- 1985-10-02 JP JP21804785A patent/JPS6278128A/ja active Granted
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5519555A (en) * | 1989-02-23 | 1996-05-21 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head including PbO-V2 O5 -P2 O5 system glass bonding |
| JPH02267137A (ja) * | 1989-04-06 | 1990-10-31 | Hitachi Ltd | 封着材料 |
| US5239434A (en) * | 1990-09-26 | 1993-08-24 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head, bonding glass used therefor and magnetic recording and reproducing apparatus |
| US6998776B2 (en) | 2003-04-16 | 2006-02-14 | Corning Incorporated | Glass package that is hermetically sealed with a frit and method of fabrication |
| JP2006524419A (ja) * | 2003-04-16 | 2006-10-26 | コーニング インコーポレイテッド | フリットにより密封されたガラスパッケージおよびその製造方法 |
| US7344901B2 (en) | 2003-04-16 | 2008-03-18 | Corning Incorporated | Hermetically sealed package and method of fabricating of a hermetically sealed package |
| US7602121B2 (en) | 2003-04-16 | 2009-10-13 | Corning Incorporated | Glass package that is hermetically sealed with a frit and method of fabrication |
| JP2006290665A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Boe Technology Group Co Ltd | 無鉛シーリングガラス粉末及び製造方法 |
| JP2007320822A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Hitachi Ltd | ガラス封着材料、平面型表示装置用枠ガラス及び平面型表示装置 |
| US8823163B2 (en) | 2012-08-30 | 2014-09-02 | Corning Incorporated | Antimony-free glass, antimony-free frit and a glass package that is hermetically sealed with the frit |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0372023B2 (ja) | 1991-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5179047A (en) | Hermetic sealing glass composition | |
| KR900003448B1 (ko) | 유리 조성물 | |
| KR20010106248A (ko) | 반도체 캡슐화용 글라스 및 글라스 튜브 | |
| JP2003095697A (ja) | 封着用組成物 | |
| US3088835A (en) | Thermally devitrifiable sealing glasses | |
| JP3339647B2 (ja) | 無鉛系低融点ガラス及び封着用ガラス組成物 | |
| EP0048120B1 (en) | Glass envelopes for tungsten-halogen lamps and production thereof | |
| JPS6278128A (ja) | アモルフアス磁気ヘツト用耐水性低温軟化ガラス組成物 | |
| US3485648A (en) | Devitrifying solder glass | |
| JPS6343329B2 (ja) | ||
| JPS60255643A (ja) | 無鉛系低融点ガラス | |
| JPH0436104B2 (ja) | ||
| US3888686A (en) | Sealing glass compositions containing calcined zirconia vanadia silica stain | |
| US3922471A (en) | Surface having sealing glass composition thereon | |
| JPS59164649A (ja) | 封着用ガラス組成物 | |
| JPS6272543A (ja) | ガラス組成物 | |
| JP2944387B2 (ja) | 低融点ガラス | |
| JPH07126037A (ja) | 接着・封止用ガラス | |
| JPH0264037A (ja) | 小熱弾性率のガラス | |
| JPH0424295B2 (ja) | ||
| US2615816A (en) | Glass solder | |
| JPH0432025B2 (ja) | ||
| JP2004155597A (ja) | 磁気ヘッド用低融点ガラス | |
| CN112551896A (zh) | 一种无铅低温玻璃及其制备方法及应用该玻璃制备的二极管玻壳 | |
| JPS6071540A (ja) | 基板用ガラス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |