JP2944387B2 - 低融点ガラス - Google Patents

低融点ガラス

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JP2944387B2
JP2944387B2 JP5271454A JP27145493A JP2944387B2 JP 2944387 B2 JP2944387 B2 JP 2944387B2 JP 5271454 A JP5271454 A JP 5271454A JP 27145493 A JP27145493 A JP 27145493A JP 2944387 B2 JP2944387 B2 JP 2944387B2
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glass
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延也 栗山
繁樹 森本
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/24Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/23Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron
    • C03C3/247Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron containing fluorine and phosphorus

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  • Organic Chemistry (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は低融点ガラスにかかり、
光学ガラス、音響光学ガラス、赤外透過性ガラス等とし
て、更に金属やセラミックの接着や封止用、特に磁気ヘ
ッドの接着・封止用ガラスとして好適な低融点ガラスに
関する。
【0002】
【従来技術とその問題点】例えば金属やセラミックの接
着や封止にPbO 系の低融点ガラスが広く利用されてお
り、一例として PbO−B2O3系をベースとして、 PbO−B2
O3−SiO2系、PbO −B2O3−ZnO 系、 PbO−B2O3−SiO2
Al2O3 系等のガラスはよく知られるところである。しか
しPbO 成分を含むため、加熱加工作業環境を悪化し、ま
た水と接触するとPbを溶出して公害問題を誘起するこ
と、硬度が不充分であること、耐水、耐薬品性に劣るこ
と、被接着材料とも反応し易いこと等問題点が少なくな
い。
【0003】また、特開昭62−128946号にはTeO2−P2O5
−PbO −(ZnO+Li2O) 系で、光学材料等に利用されるテ
ルライトガラスが開示されている。しかし、PbO 成分を
必須とするため、上記同様にPbによる弊害が危惧され
る。
【0004】これに対し、例えば特開昭61−36135 号、
特開昭61−111935号には、V2O5−P2O5系を主体としTeO2
等を含んだ低融点ガラスで、磁気ヘッドの接着・封止を
目的としたガラスが開示されている。しかし、耐水、耐
薬品性に劣り、着色、不透明になり易く、硬度が低く、
被接着材とも反応し易い等やはり問題が多い。
【0005】低融点ガラスはそれ自体低い処理温度でガ
ラス製造できるものであり、特にセラミックや金属の接
着・封止に利用される。その場合、熱膨張率が被接着材
料のそれとよく適合していること、作業温度が適合して
いること、耐水、耐薬品性に優れること、被接着材料と
の相互反応がないこと、機械的強度が高いこと等が要求
され、更に磁気ヘッド封着分野においては、熱膨張率の
磁性材料との適合性、磁性材料との非反応性、磁気絶縁
性、透視性、硬度等も重要なファクターであるが、前記
公知例はこれらを満足し得ない。本発明はそれらファク
ターを満足する新たな低融点ガラスを提供するものであ
り、勿論光学ガラス、赤外透過性ガラス等としても適用
できるものである。
【0006】
【問題点を解決するための手段】本発明は、 mol%表示
で、P2O5 5〜60、TeO2 20 〜90、ZnF2 5〜60の範囲から
なる低融点ガラス、前記低融点ガラスにおいて、特にP2
O5 10 〜30%、TeO2 20 〜70%、ZnF2 20〜60%の範囲
であること、から構成される。
【0007】本発明においては、光学ガラス、赤外透過
性ガラス等としても好適であるが、接着・封止用ガラス
として優れた特性を有する。すなわち、適宜成分組成を
選択することにより熱膨張率を100 ×10-7/℃以下程度
から130 ×10-7/℃程度のものが得られるので、金属、
セラミック、特に磁気ヘッド材料の熱膨張率に応じ適宜
採用でき、屈伏点も300 〜400 ℃台であるので 500〜60
0 ℃程度で変質しないような金属、セラミック等の被接
着材料を接着・封止でき、耐水性においても優れ、硬度
も高く、また、磁気ヘッドの接着・封止においても磁性
材料との相互反応がなく、磁気的絶縁性に優れる等、各
種金属、セラミック等の接着は勿論、特に磁気ヘッド封
着用に適応した諸特性を備えるものである。
【0008】本成分系において、P2O5は mol%で 5〜60
%の範囲においてガラス形成が良好で安定しており、他
方60%を越えるとガラスの耐水・耐薬品性を悪化させ、
また5%未満であってもガラス形成を不安定にする。好
適には10〜30%の範囲とするものである。
【0009】TeO2は同様に20〜90%の範囲においてガラ
ス形成が良好で安定しており、90%を越えるとガラス形
成を不安定にし、ガラスの硬度を低下させ、20%未満で
は耐水性を悪化させる等不具合が生ずる。好適には20〜
70%の範囲とするものである。
【0010】ZnF2は前記P2O5−TeO2系に 5〜60%の範囲
で導入するものであり、ガラスの耐水性を向上し、硬度
を増大する等の作用を有するが、 5%未満ではそれら作
用が効果的でなく、60%を越えるとガラス形成を困難と
し、失透を生じ易くなる。好適には20〜60%の範囲とす
るものである。
【0011】なお、更にガラスの硬度、耐水性等を向上
するために例えばSiO2、TiO2、Al2O 3 、SrO 、ZnO 、Ba
O 、Bi2O3 等を、ガラスの安定性を向上するためにB
2O3、V2O5等を、溶融性の改善のためにNa2O、K2O 、MgO
、CaO 等を、あるいは熱膨張率を調整するために上記
成分を10%以下程度の範囲で適宜導入することができ
る。但しPbO 等有害な成分は実質的に含まないこととす
る。
【0012】
【実施例】以下実施例を例示して本発明を詳述する。
【0013】〔試料調製〕P2O5源としてオルトリン酸、
TeO2源として二酸化テルル、ZnF2源としてフッ化亜鉛
(4水塩) を使用し、各原料をガラス組成のP2O5・TeO2
・ZnF2の所定モル比率で混合し、アルミナ坩堝に充填
後、坩堝に蓋をし、予め1050℃ないし1200℃の適宜温度
に加熱保持した電気炉内にセットし20〜30分間溶融し
た。得られた溶融物をいったんカーボンプレート上に流
し出し、さらにこれを電気炉内で徐冷して試料を得た。
前記各試料のガラス組成 (モル百分率) を表1に示す。
【0014】〔物性測定〕各試料を、シリカガラスを標
準物質とする示差熱膨張計により、昇温速度 5℃/min
の条件で熱膨張を測定し、30〜300 ℃の平均熱膨張率、
ガラス転移点、屈伏点を求めた。またビッカース微小硬
度計により硬度を測定し、95℃の蒸留水に20時間浸漬し
て重量減少率 (耐水性) を求めた。
【0015】結果を表1に併せて示す。
【0016】
【表1】
【0017】〔結果〕表1中実施例1 〜9 は本発明組成
範囲のもの、比較例1 、2 は組成範囲を外れたものを示
す。
【0018】表示から明らかなとおり、本発明のものは
熱膨張率が100 〜130 ×10-7/℃程度と、広い範囲で被
接着金属、セラミックと適合でき、屈伏点も300 ℃ない
し400 ℃台、従って作業温度も500 〜600 ℃程度と低く
設定できるので多くの金属、セラミックの接着・封止用
に採用でき、耐水性 (重量減少率) も 2%以下、殊に0.
1 %以下のものが得られる等非常に優れ、水へのPb溶出
も皆無と公害が生ずる恐れもなく、ビッカース硬度が30
0 〜400 と比較的高い硬度を有する等接着・封止用ガラ
スとして好適である。
【0019】なお、比較例はいずれもガラス形成が困難
またはガラス化し得ないことが明白である。
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、熱膨張率が 100以下〜
130 ×10-7/℃程度と、広い範囲で被接着金属、セラミ
ックと適合でき、屈伏点も300 ℃ないし400 ℃台、従っ
て作業温度も500 〜600 ℃程度と低く設定できるので多
くの金属、セラミックの接着・封止用に採用でき、耐水
性に優れ、公害問題の恐れもなく、ビッカース硬度が30
0 〜400 と比較的高い硬度を有する等接着・封止用ガラ
スとして好適であり、あるいは光学ガラス、音響光学ガ
ラス、赤外透過性ガラス等としても採用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C03C 1/00 - 14/00 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】mol%表示で、P2O5 5〜60、TeO2 20 〜9
    0、ZnF2 5〜60の範囲からなる低融点ガラス。
  2. 【請求項2】P2O5 10〜30%、TeO2 20 〜70%、ZnF2 20
    〜60%の範囲からなる請求項1記載の低融点ガラス。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US7451619B2 (en) 2003-06-26 2008-11-18 Central Glass Company, Limited Organic-inorganic hybrid glassy materials and their production processes
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WO2008007681A1 (fr) 2006-07-14 2008-01-17 Central Glass Company, Limited Matière vitreuse hybride organique-inorganique et son procédé de fabrication
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