JPH11106234A - 釉薬用ガラス組成物 - Google Patents
釉薬用ガラス組成物Info
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- JPH11106234A JPH11106234A JP28468597A JP28468597A JPH11106234A JP H11106234 A JPH11106234 A JP H11106234A JP 28468597 A JP28468597 A JP 28468597A JP 28468597 A JP28468597 A JP 28468597A JP H11106234 A JPH11106234 A JP H11106234A
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- Japan
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- mol
- glass
- glaze
- glass composition
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/04—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing zinc
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 鉛成分を含有せず、1000℃以下で焼成で
き、しかも高い絶縁抵抗を有する釉薬用ガラス組成物を
提供する。 【解決手段】 モル%表示でSiO2 30〜70%、
B2 O3 1〜55%、ZnO 10〜50%、BaO
0〜30%、CaO 0〜30%、SrO 0〜30
%、MgO 0〜30%、ZnO+BaO+CaO+S
rO+MgO 11〜50%、Li2 O 0〜6%、N
a2 O 0〜3.8%、K2 O 0〜8%、Li2 O+
Na2 O+K2 O 1〜10%、Al2 O3 0〜10
%、TiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6%、F2
0〜15%からなり、Li2 O、Na2 O及びK2 O
から選ばれる2種以上を含有し、そのうちの一成分の含
有量を1としたときに他の各成分の含有量がモル比で1
〜3の範囲にあることを特徴とする。
き、しかも高い絶縁抵抗を有する釉薬用ガラス組成物を
提供する。 【解決手段】 モル%表示でSiO2 30〜70%、
B2 O3 1〜55%、ZnO 10〜50%、BaO
0〜30%、CaO 0〜30%、SrO 0〜30
%、MgO 0〜30%、ZnO+BaO+CaO+S
rO+MgO 11〜50%、Li2 O 0〜6%、N
a2 O 0〜3.8%、K2 O 0〜8%、Li2 O+
Na2 O+K2 O 1〜10%、Al2 O3 0〜10
%、TiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6%、F2
0〜15%からなり、Li2 O、Na2 O及びK2 O
から選ばれる2種以上を含有し、そのうちの一成分の含
有量を1としたときに他の各成分の含有量がモル比で1
〜3の範囲にあることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、釉薬用ガラス組成物に
関し、より具体的には点火プラグ用アルミナ碍子に用い
られる高絶縁性の釉薬用ガラス組成物に関するものであ
る。
関し、より具体的には点火プラグ用アルミナ碍子に用い
られる高絶縁性の釉薬用ガラス組成物に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】碍子は、汚れによる絶縁抵抗の劣化防止
のために、表面に釉薬が施される。特に点火プラグ用碍
子には、より高い絶縁性を有し、またプラグ構成材料の
耐熱限界以下の温度(1000℃以下、好ましくは90
0℃以下)で焼成できる釉薬が施される。従来、このよ
うな点火プラグ用碍子の釉薬には、高絶縁性で低融点の
鉛ホウケイ酸系ガラス粉末が用いられている。
のために、表面に釉薬が施される。特に点火プラグ用碍
子には、より高い絶縁性を有し、またプラグ構成材料の
耐熱限界以下の温度(1000℃以下、好ましくは90
0℃以下)で焼成できる釉薬が施される。従来、このよ
うな点火プラグ用碍子の釉薬には、高絶縁性で低融点の
鉛ホウケイ酸系ガラス粉末が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】近年、環境汚染防止の
観点から、鉛を製造物中から削減することが要求されて
おり、点火プラグ用碍子に用いられる釉薬にも非鉛化が
求められている。そこでホウケイ酸ガラスやアルカリ亜
鉛ホウケイ酸ガラスで代替することが検討されたが、ホ
ウケイ酸ガラスでは転移点が高く、1000℃以下の温
度で施釉することが困難である。またアルカリ亜鉛ホウ
ケイ酸ガラスでは1000℃以下で施釉できるものの、
絶縁抵抗が低いという問題がある。
観点から、鉛を製造物中から削減することが要求されて
おり、点火プラグ用碍子に用いられる釉薬にも非鉛化が
求められている。そこでホウケイ酸ガラスやアルカリ亜
鉛ホウケイ酸ガラスで代替することが検討されたが、ホ
ウケイ酸ガラスでは転移点が高く、1000℃以下の温
度で施釉することが困難である。またアルカリ亜鉛ホウ
ケイ酸ガラスでは1000℃以下で施釉できるものの、
絶縁抵抗が低いという問題がある。
【0004】本発明の目的は、鉛成分を含有せず、10
00℃以下で施釉でき、しかも高い絶縁抵抗を有する釉
薬用ガラス組成物を提供することである。
00℃以下で施釉でき、しかも高い絶縁抵抗を有する釉
薬用ガラス組成物を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の釉薬用ガラス組
成物は、モル%表示でSiO2 30〜70%、B2O3
1〜55%、ZnO 10〜50%、BaO 0〜
30%、CaO 0〜30%、SrO 0〜30%、M
gO 0〜30%、ZnO+BaO+CaO+SrO+
MgO 11〜50%、Li2 O 0〜6%、Na2 O
0〜3.8%、K2 O 0〜8%、Li2 O+Na2
O+K2 O 1〜10%、Al2 O30〜10%、Ti
O2 0〜10%、ZrO2 0〜6%、F2 0〜1
5%からなり、Li2 O、Na2 O及びK2 Oから選ば
れる2種以上を含有し、そのうちの一成分の含有量を1
としたときに他の各成分の含有量がモル比で1〜3の範
囲にあることを特徴とする。
成物は、モル%表示でSiO2 30〜70%、B2O3
1〜55%、ZnO 10〜50%、BaO 0〜
30%、CaO 0〜30%、SrO 0〜30%、M
gO 0〜30%、ZnO+BaO+CaO+SrO+
MgO 11〜50%、Li2 O 0〜6%、Na2 O
0〜3.8%、K2 O 0〜8%、Li2 O+Na2
O+K2 O 1〜10%、Al2 O30〜10%、Ti
O2 0〜10%、ZrO2 0〜6%、F2 0〜1
5%からなり、Li2 O、Na2 O及びK2 Oから選ば
れる2種以上を含有し、そのうちの一成分の含有量を1
としたときに他の各成分の含有量がモル比で1〜3の範
囲にあることを特徴とする。
【0006】
【作用】本発明の釉薬用ガラス組成物は、550℃以下
の転移点を有するため、1000℃以下の温度で焼成可
能である。またNa2 Oの含有量を3.8%以下に制限
するとともに、Li2 O、Na2 O及びK2 Oから選ば
れる2種以上のアルカリ成分を特定の割合で含有するた
めに、高い絶縁抵抗を得ることができる。
の転移点を有するため、1000℃以下の温度で焼成可
能である。またNa2 Oの含有量を3.8%以下に制限
するとともに、Li2 O、Na2 O及びK2 Oから選ば
れる2種以上のアルカリ成分を特定の割合で含有するた
めに、高い絶縁抵抗を得ることができる。
【0007】以下、本発明の釉薬用ガラス組成物におい
て、組成範囲を上記のように限定した理由を述べる。
て、組成範囲を上記のように限定した理由を述べる。
【0008】SiO2 は主たるガラス形成成分であり、
その含有量は30〜70%、好ましくは30〜55%で
ある。SiO2 が30%より少なくなるとガラスが不安
定になって結晶性となり、十分に流動する前に著しく結
晶が析出して流動性が悪くなり、均質に施釉できなくな
る。一方、55%より多くなると、ガラス転移点が上昇
する傾向が現れ、70%より多くなるとガラス転移点が
550℃より高くなり、1000℃以下の温度で施釉で
きなくなる。
その含有量は30〜70%、好ましくは30〜55%で
ある。SiO2 が30%より少なくなるとガラスが不安
定になって結晶性となり、十分に流動する前に著しく結
晶が析出して流動性が悪くなり、均質に施釉できなくな
る。一方、55%より多くなると、ガラス転移点が上昇
する傾向が現れ、70%より多くなるとガラス転移点が
550℃より高くなり、1000℃以下の温度で施釉で
きなくなる。
【0009】B2 O3 はガラス形成成分であり、その含
有量は1〜55%、好ましくは3〜40%、さらに好ま
しくは3〜18%である。B2 O3 が3%より少なくな
るとガラスの安定性が低下して結晶が析出し易くなり、
1%よりも少なくなると成型時に結晶が析出して失透現
象がおこり好ましくない。一方、40%を越えるとガラ
スの耐水性が低下し、微粉砕時に粉砕媒体である水に溶
け出し易くなる傾向が現れ、55%を越えると水への溶
け出しが極端に多くなり、所望の特性が得られなくな
る。
有量は1〜55%、好ましくは3〜40%、さらに好ま
しくは3〜18%である。B2 O3 が3%より少なくな
るとガラスの安定性が低下して結晶が析出し易くなり、
1%よりも少なくなると成型時に結晶が析出して失透現
象がおこり好ましくない。一方、40%を越えるとガラ
スの耐水性が低下し、微粉砕時に粉砕媒体である水に溶
け出し易くなる傾向が現れ、55%を越えると水への溶
け出しが極端に多くなり、所望の特性が得られなくな
る。
【0010】ZnOは主成分の一つであり、その含有量
は10〜50%、好ましくは10〜30%である。Zn
Oが10%より少なくなるとガラスが不安定になり、結
晶が析出し易くなって失透現象がおこり、外観上や施釉
性の点で好ましくない。一方、ZnOが30%より多い
場合もガラスの安定性が低下して結晶が析出する傾向が
現れ、50%を越えると著しく結晶が析出して失透現象
が起こり好ましくない。
は10〜50%、好ましくは10〜30%である。Zn
Oが10%より少なくなるとガラスが不安定になり、結
晶が析出し易くなって失透現象がおこり、外観上や施釉
性の点で好ましくない。一方、ZnOが30%より多い
場合もガラスの安定性が低下して結晶が析出する傾向が
現れ、50%を越えると著しく結晶が析出して失透現象
が起こり好ましくない。
【0011】BaO、CaO、SrO、MgOはフラッ
クスとして働きガラスの溶融を助ける成分であり、その
含有量はそれぞれ0〜30%、好ましくはそれぞれ0〜
25%である。これら各成分が25%より多くなるとガ
ラスの安定性が低下して焼成時に結晶が析出する傾向が
現れ、30%を越えると著しく結晶が析出して失透現象
が発生するので好ましくない。。
クスとして働きガラスの溶融を助ける成分であり、その
含有量はそれぞれ0〜30%、好ましくはそれぞれ0〜
25%である。これら各成分が25%より多くなるとガ
ラスの安定性が低下して焼成時に結晶が析出する傾向が
現れ、30%を越えると著しく結晶が析出して失透現象
が発生するので好ましくない。。
【0012】またZnO、BaO、CaO、SrO及び
MgOは合量で11〜50%、好ましくは11〜45%
含有する。これらの合量が11%より少なくなるとガラ
スの粘性が高くなってガラス転移点が550℃より高く
なる。一方、45%より多くなるとガラスの安定性が低
下する傾向が現れ、50%を越えるとガラスが十分に流
動する前に結晶化して失透現象が起こる。
MgOは合量で11〜50%、好ましくは11〜45%
含有する。これらの合量が11%より少なくなるとガラ
スの粘性が高くなってガラス転移点が550℃より高く
なる。一方、45%より多くなるとガラスの安定性が低
下する傾向が現れ、50%を越えるとガラスが十分に流
動する前に結晶化して失透現象が起こる。
【0013】Li2 O、Na2 O及びK2 Oはガラスを
低融点化させる成分であり、その含有量はLi2 Oが0
〜6%、好ましくは0〜4%であり、Na2 Oが0〜
3.8%、好ましくは0〜3.5%であり、K2 Oが0
〜8%、好ましくは0〜4%である。各成分がその上限
値より多いと絶縁抵抗が低下する。
低融点化させる成分であり、その含有量はLi2 Oが0
〜6%、好ましくは0〜4%であり、Na2 Oが0〜
3.8%、好ましくは0〜3.5%であり、K2 Oが0
〜8%、好ましくは0〜4%である。各成分がその上限
値より多いと絶縁抵抗が低下する。
【0014】また本発明においてはこれらアルカリ金属
酸化物の2種以上を合量で1〜10%、好ましくは2〜
8%含有する。アルカリ金属酸化物の合量が2%より少
なくなるとガラスが硬くなる傾向が現れ、1%より少な
くなるとガラスの転移点が550℃より高くなる。一
方、8%より多くなるとガラスの絶縁抵抗が低下する傾
向が現れ、10%を越えると十分な絶縁抵抗が得られな
くなる。
酸化物の2種以上を合量で1〜10%、好ましくは2〜
8%含有する。アルカリ金属酸化物の合量が2%より少
なくなるとガラスが硬くなる傾向が現れ、1%より少な
くなるとガラスの転移点が550℃より高くなる。一
方、8%より多くなるとガラスの絶縁抵抗が低下する傾
向が現れ、10%を越えると十分な絶縁抵抗が得られな
くなる。
【0015】さらに本発明においては、上記したアルカ
リ金属酸化物成分のうちの一成分の含有量を1としたと
きに他の各成分の含有量がモル比で1〜3(好ましくは
1.5、さらに好ましくは1〜1.2)の範囲にあるこ
とが重要である。この比が1.2より大きくなると絶縁
抵抗が下がる傾向が現れ、1.5を越えると十分な絶縁
抵抗が得られなくなる。
リ金属酸化物成分のうちの一成分の含有量を1としたと
きに他の各成分の含有量がモル比で1〜3(好ましくは
1.5、さらに好ましくは1〜1.2)の範囲にあるこ
とが重要である。この比が1.2より大きくなると絶縁
抵抗が下がる傾向が現れ、1.5を越えると十分な絶縁
抵抗が得られなくなる。
【0016】Al2 O3 とTiO2 はガラスの耐水性を
改善してアルカリ溶出量を低下させることにより、絶縁
特性を向上させる成分であり、その含有量は何れも0〜
10%、好ましくは0〜6%である。各成分が6%を越
えるとガラスの粘性が高くなる傾向が現れ、10%を越
えるとガラスの転移点が550℃より高くなる。
改善してアルカリ溶出量を低下させることにより、絶縁
特性を向上させる成分であり、その含有量は何れも0〜
10%、好ましくは0〜6%である。各成分が6%を越
えるとガラスの粘性が高くなる傾向が現れ、10%を越
えるとガラスの転移点が550℃より高くなる。
【0017】ZrO2 はガラスの耐水性や耐薬品性を改
善してアルカリ溶出量を低下させることにより、絶縁特
性を向上させる成分であり、その含有量は0〜6%、好
ましくは0〜5%である。ZrO2 が5%を越えるとガ
ラスの粘性が高くなる傾向が現れ、6%を越えるとガラ
スの転移点が550℃より高くなる。
善してアルカリ溶出量を低下させることにより、絶縁特
性を向上させる成分であり、その含有量は0〜6%、好
ましくは0〜5%である。ZrO2 が5%を越えるとガ
ラスの粘性が高くなる傾向が現れ、6%を越えるとガラ
スの転移点が550℃より高くなる。
【0018】F2 はガラスの粘性を下げるために添加す
る成分であり、その含有量は0〜15%、好ましくは0
〜6%である。F2 が6%より多くなるとガラスの安定
性が低下し、15%を越えるとガラスが十分に流動する
前に結晶化して失透現象が起こる。
る成分であり、その含有量は0〜15%、好ましくは0
〜6%である。F2 が6%より多くなるとガラスの安定
性が低下し、15%を越えるとガラスが十分に流動する
前に結晶化して失透現象が起こる。
【0019】次に本発明の釉薬用ガラス組成物を用いて
施釉する方法を述べる。
施釉する方法を述べる。
【0020】まず、所望の組成を有するガラス粉末を含
むスラリーを用意する。ガラス粉末は、平均粒径が2〜
20μm程度になるように、ボールミルにて粗粉砕した
後、水を加えて湿式粉砕することが望ましい。なお湿式
粉砕する際に、ホウ酸、ホウ酸塩、シランカップリング
剤、界面活性剤等を添加しておくと、スラリーのゲル化
を防止することができる。なおスラリーの粘性を変化さ
せるために、有機バインダーを添加してもよい。
むスラリーを用意する。ガラス粉末は、平均粒径が2〜
20μm程度になるように、ボールミルにて粗粉砕した
後、水を加えて湿式粉砕することが望ましい。なお湿式
粉砕する際に、ホウ酸、ホウ酸塩、シランカップリング
剤、界面活性剤等を添加しておくと、スラリーのゲル化
を防止することができる。なおスラリーの粘性を変化さ
せるために、有機バインダーを添加してもよい。
【0021】このようにして用意したスラリーを、例え
ばプラグ用アルミナ碍子等の被施釉物の表面に塗布す
る。塗布の方法には、ディッピング、刷毛塗り等種々の
方法が採用できる。
ばプラグ用アルミナ碍子等の被施釉物の表面に塗布す
る。塗布の方法には、ディッピング、刷毛塗り等種々の
方法が採用できる。
【0022】続いてスラリーが塗布された被施釉物を乾
燥させた後、1000℃以下の温度で焼成することによ
り、本発明の釉薬用ガラス組成物を被施釉物に施釉する
ことができる。
燥させた後、1000℃以下の温度で焼成することによ
り、本発明の釉薬用ガラス組成物を被施釉物に施釉する
ことができる。
【0023】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明の釉薬用ガラ
ス組成物を説明する。
ス組成物を説明する。
【0024】表1及び表2は、本発明の実施例(試料N
o.1〜8)及び比較例(試料No.9)である。また
試料No.10は鉛ホウケイ酸系ガラスを用いた従来例
を示している。
o.1〜8)及び比較例(試料No.9)である。また
試料No.10は鉛ホウケイ酸系ガラスを用いた従来例
を示している。
【0025】
【表1】
【0026】
【表2】
【0027】試料No.1〜9は次のようにして調製し
た。
た。
【0028】まず表の組成となるように、純珪石、ホウ
酸、酸化亜鉛、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸ス
トロンチウム、炭酸マグネシウム、炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化アルミニウム、酸化
チタン、酸化ジルコニウム、フッ化珪素を混合し、白金
坩堝に入れて1350℃で1時間溶融した。また試料N
o.10は、純珪石、ホウ酸、酸化亜鉛、炭酸バリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、光鉛丹を混合し、
白金坩堝に入れて1000℃で1時間溶融した。
酸、酸化亜鉛、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸ス
トロンチウム、炭酸マグネシウム、炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化アルミニウム、酸化
チタン、酸化ジルコニウム、フッ化珪素を混合し、白金
坩堝に入れて1350℃で1時間溶融した。また試料N
o.10は、純珪石、ホウ酸、酸化亜鉛、炭酸バリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、光鉛丹を混合し、
白金坩堝に入れて1000℃で1時間溶融した。
【0029】次いで溶融ガラスを成形し、ボールミルに
て粉砕した後、ガラス3重量部に対して水1重量部を添
加し、さらにアニオン系界面活性剤を加えて湿式粉砕
し、平均粒径2μmのガラス粉末を含むスラリーを得
た。続いてスラリー中に50×10×0.8mmの大き
さのアルミナ板をディッピングして塗布し、120℃で
30分間乾燥させた後、900℃で3分間焼成して、厚
さ0.2mmのガラス膜を形成した。
て粉砕した後、ガラス3重量部に対して水1重量部を添
加し、さらにアニオン系界面活性剤を加えて湿式粉砕
し、平均粒径2μmのガラス粉末を含むスラリーを得
た。続いてスラリー中に50×10×0.8mmの大き
さのアルミナ板をディッピングして塗布し、120℃で
30分間乾燥させた後、900℃で3分間焼成して、厚
さ0.2mmのガラス膜を形成した。
【0030】得られた試料について、焼成後の膜の外
観、ガラス転移点、絶縁抵抗及び体積抵抗を評価した。
結果を各表に示す。
観、ガラス転移点、絶縁抵抗及び体積抵抗を評価した。
結果を各表に示す。
【0031】表から明らかなように、本発明の実施例で
あるNo.1〜8の各試料は、膜の外観が良好であっ
た。またガラス転移点が530℃以下、絶縁抵抗が8.
9〜9.9、体積抵抗が250℃で11.2〜12.
0、350℃で8.6〜10.0であり、従来のガラス
と同等以上の高い絶縁抵抗性を有していた。一方、比較
例である試料No.9は、絶縁抵抗が7.8、体積抵抗
が250℃で10.3、350℃で8.0であり、絶縁
抵抗性が劣っていた。
あるNo.1〜8の各試料は、膜の外観が良好であっ
た。またガラス転移点が530℃以下、絶縁抵抗が8.
9〜9.9、体積抵抗が250℃で11.2〜12.
0、350℃で8.6〜10.0であり、従来のガラス
と同等以上の高い絶縁抵抗性を有していた。一方、比較
例である試料No.9は、絶縁抵抗が7.8、体積抵抗
が250℃で10.3、350℃で8.0であり、絶縁
抵抗性が劣っていた。
【0032】なお膜の外観は、アルミナ板表面に釉薬が
均一に施釉されているかどうかを目視で観察した。ガラ
ス転移点はディラトメーターによって測定した。絶縁抵
抗は、ガラス膜が形成されたアルミナ板の両端に5mm
幅の電極を形成し、絶縁耐圧測定機にて測定した。体積
抵抗は、ガラスをキャスティングして円盤状に加工した
後、ガード付き電極を形成し、メガオームメーターにて
250℃及び350℃の雰囲気温度で測定した。値は対
数表示である。
均一に施釉されているかどうかを目視で観察した。ガラ
ス転移点はディラトメーターによって測定した。絶縁抵
抗は、ガラス膜が形成されたアルミナ板の両端に5mm
幅の電極を形成し、絶縁耐圧測定機にて測定した。体積
抵抗は、ガラスをキャスティングして円盤状に加工した
後、ガード付き電極を形成し、メガオームメーターにて
250℃及び350℃の雰囲気温度で測定した。値は対
数表示である。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の釉薬用ガ
ラス組成物は、鉛成分を含有しないため、環境を汚染す
ることがない。また1000℃以下で焼成でき、しかも
従来品と同等以上の高い絶縁抵抗を有するため、特に点
火プラグ用アルミナ碍子の釉薬として好適である。
ラス組成物は、鉛成分を含有しないため、環境を汚染す
ることがない。また1000℃以下で焼成でき、しかも
従来品と同等以上の高い絶縁抵抗を有するため、特に点
火プラグ用アルミナ碍子の釉薬として好適である。
【0034】またプラグ用途以外にも、例えば高温釉薬
の代替品として使用すれば、比較的低い温度で焼成でき
るために省エネルギー化することが可能である。
の代替品として使用すれば、比較的低い温度で焼成でき
るために省エネルギー化することが可能である。
Claims (4)
- 【請求項1】 モル%表示でSiO2 30〜70%、
B2 O3 1〜55%、ZnO 10〜50%、BaO
0〜30%、CaO 0〜30%、SrO0〜30
%、MgO 0〜30%、ZnO+BaO+CaO+S
rO+MgO11〜50%、Li2 O 0〜6%、Na
2 O 0〜3.8%、K2 O 0〜8%、Li2 O+N
a2 O+K2 O 1〜10%、Al2 O3 0〜10
%、TiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6%、F2
0〜15%からなり、Li2O、Na2 O及びK2 O
から選ばれる2種以上を含有し、そのうちの一成分の含
有量を1としたときに他の各成分の含有量がモル比で1
〜3の範囲にあることを特徴とする釉薬用ガラス組成
物。 - 【請求項2】 ガラス転移点が550℃以下であること
を特徴とする請求項1の釉薬用ガラス組成物。 - 【請求項3】 アルミナの釉薬として用いられることを
特徴とする請求項1又は2の釉薬用ガラス組成物。 - 【請求項4】 点火プラグ用アルミナ碍子の釉薬として
用いられることを特徴とする請求項3の釉薬用ガラス組
成物。
Priority Applications (1)
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JP28468597A JPH11106234A (ja) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | 釉薬用ガラス組成物 |
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JPH11106234A true JPH11106234A (ja) | 1999-04-20 |
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ID=17681662
Family Applications (1)
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