JPS63288929A - ガラス溶射用フリット - Google Patents
ガラス溶射用フリットInfo
- Publication number
- JPS63288929A JPS63288929A JP12459187A JP12459187A JPS63288929A JP S63288929 A JPS63288929 A JP S63288929A JP 12459187 A JP12459187 A JP 12459187A JP 12459187 A JP12459187 A JP 12459187A JP S63288929 A JPS63288929 A JP S63288929A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frit
- thermal spraying
- glass
- thermally spraying
- spraying glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000005507 spraying Methods 0.000 title abstract 2
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 claims abstract description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910015621 MoO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- QFXZANXYUCUTQH-UHFFFAOYSA-N ethynol Chemical group OC#C QFXZANXYUCUTQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
- C03C3/066—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing zinc
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明はガラス溶射用フリットに関し、特に溶射を容
易に行なうことができるフリットに関す（発明の背景） 例えば、特開昭６０−２３５７７５号公報によって開示
されているように、金屑、セメント等の被塗物表面にガ
ラス被膜を形成するためにガラス溶射することが可能で
、その溶射材料としてフリットが有用である。
易に行なうことができるフリットに関す（発明の背景） 例えば、特開昭６０−２３５７７５号公報によって開示
されているように、金屑、セメント等の被塗物表面にガ
ラス被膜を形成するためにガラス溶射することが可能で
、その溶射材料としてフリットが有用である。
しかしながら現実の問題として溶射装置にどのようなフ
リットを装填しても容易にガラス被膜が形成されるもの
では決してなく、ものによってはフリットが全く溶融す
ることなくそのままの粉状で溶射装置から吐出されるこ
ともある。一般に溶射装置内では２５００〜３２００”
０程度まで昇温することが可能であるが、フリットがガ
ラス状に溶融するにはある程度の時間が必要である。し
かし溶射装置にあっては瞬間的な速度で材料が吐出され
るので、このような性質に適合するフリット材料でなけ
ればならない。
リットを装填しても容易にガラス被膜が形成されるもの
では決してなく、ものによってはフリットが全く溶融す
ることなくそのままの粉状で溶射装置から吐出されるこ
ともある。一般に溶射装置内では２５００〜３２００”
０程度まで昇温することが可能であるが、フリットがガ
ラス状に溶融するにはある程度の時間が必要である。し
かし溶射装置にあっては瞬間的な速度で材料が吐出され
るので、このような性質に適合するフリット材料でなけ
ればならない。
（発明が解決しようとする問題点）
この発明は上のような状況にあって提案されたものであ
って、溶射を容易に行なうことができるフリットを提供
することを目的とする。
って、溶射を容易に行なうことができるフリットを提供
することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
すなわち、この発明に係るガラス溶射用フリットは、少
なくとも主成分が重量％で ５１０２ ５〜５０ ％ Ｂ２０３ １０〜６０ ％ Ｎ ａ ２０ ５〜３５ ％ＺｎＯ５〜６０
％ に２０ ０〜１５ ％ Ａ ｌ ２０３１〜１５ ％ Ｓ ｎ Ｏ２０−１５％ ＣａＯ０〜１０ ％ Ｌ １２０ ０〜１５ ％ Ｔ １０２ ０〜１０ ％含むことを特徴
とするものである。
なくとも主成分が重量％で ５１０２ ５〜５０ ％ Ｂ２０３ １０〜６０ ％ Ｎ ａ ２０ ５〜３５ ％ＺｎＯ５〜６０
％ に２０ ０〜１５ ％ Ａ ｌ ２０３１〜１５ ％ Ｓ ｎ Ｏ２０−１５％ ＣａＯ０〜１０ ％ Ｌ １２０ ０〜１５ ％ Ｔ １０２ ０〜１０ ％含むことを特徴
とするものである。
（作用）
上の組成において、Ｓ ｉＯ２は主要なフリット形成酸
化物であり、熱膨張係数、軟化点および耐水性に大きな
影響を与える。ＳｉＯ２を５〜５０％としたのは５％未
満ではクラックが入りやすく。
化物であり、熱膨張係数、軟化点および耐水性に大きな
影響を与える。ＳｉＯ２を５〜５０％としたのは５％未
満ではクラックが入りやすく。
また融解した時の流動性が低下するからであり、６０％
以上では、融解予熱温度として高温を要するうえに、溶
射面を平滑にすることが困難となるからである。
以上では、融解予熱温度として高温を要するうえに、溶
射面を平滑にすることが困難となるからである。
Ｂ２Ｏ３を１０〜６０％としたのは、１０％以下ではガ
ラス化が困難で、６０％以上では、膨張係数が小さくて
使用しにくいからである。
ラス化が困難で、６０％以上では、膨張係数が小さくて
使用しにくいからである。
Ｂ２Ｏ３にアルカリを添加すると熱膨張係数はしだいに
低下し、本発明ではＮ ａ ２０を５〜３５％の範囲で
使用する。
低下し、本発明ではＮ ａ ２０を５〜３５％の範囲で
使用する。
ＺｎＯはフリットの熱膨張を低下させ、化学耐久性を増
大させる。５％以下では他の成分との関係上フリットの
膨張係数が大きくなり６０％以」−になると逆に小さく
なりすぎて、使用しにくい。
大させる。５％以下では他の成分との関係上フリットの
膨張係数が大きくなり６０％以」−になると逆に小さく
なりすぎて、使用しにくい。
ＺｎＯを変化させることによって対象物の膨張係数を合
せる。
せる。
Ｋ２Ｏはアルカリ性化合物の一種として低融点化のため
に重要な成分であるが多くなると耐久性が悪くなる。
に重要な成分であるが多くなると耐久性が悪くなる。
／Ｍｌ、０３はフリットの形成補助成分であり、１５％
を超えるとフリットの融解温度が上り溶融性が低下する
。
を超えるとフリットの融解温度が上り溶融性が低下する
。
Ｓ ｎ Ｏ２は母材を低い温度で予熱して溶射を行なう
時にはフリットに多く入れる必要がある。予熱が高、〈
てもいい時は入れなくてもよい。
時にはフリットに多く入れる必要がある。予熱が高、〈
てもいい時は入れなくてもよい。
ＣａＯは溶射時のフリットの粘性を小さくする効果があ
る。また電気絶縁性を増すことができる。
る。また電気絶縁性を増すことができる。
Ｔ ｓ Ｏ２は、フリットの熱膨張を低下させる。
Ｌ ｉＯ２は溶射時のフリットの粘性を下げるために重
要である。
要である。
上の実施例において、主成分以外に耐候性または耐化学
性を向上する目的をもって１次のグループからなる添加
物の１種または２種以上のものが適宜使用される。
性を向上する目的をもって１次のグループからなる添加
物の１種または２種以上のものが適宜使用される。
添加物グループ：
Ｚｒ０ｚ（＃化ジルコン）。
Ｐ２Ｏ３（五酸化リン）。
Ｂａｄ（酸化バリウム）。
ＺｒＯ２・ＳｉＯ２ （ＺｒＳｉＯ４）（硅酸ジルコニ
ウム）。
ウム）。
Ｂｉ２Ｏ３（酸化ビスマス）。
ＭｇＯ（酸化マグネシウム）
ＳｒＯ（ｌｌｊ化ストストロンチウ
ムａ２０５ （酸化タンタル）。
」−の添加物のうちＺ ｒ Ｏ２はフリットの弾性率、
耐アルカリ性を増すことができ極めて有用である。
耐アルカリ性を増すことができ極めて有用である。
なお、ＺｒＯ２は粘性が増すので用途に応じて適ｊ１；
、入れる。
、入れる。
なお、顔料化合物として前述の元素を含むものを加えて
も耐候性または耐化学性を増大し膨張係数を小さくする
ことができる。この場合フリットを溶融する時に入れる
場合もあればフリットを溶融、粉砕した後、加えてブレ
ンドしたものでもそれなりに効果を発揮する。
も耐候性または耐化学性を増大し膨張係数を小さくする
ことができる。この場合フリットを溶融する時に入れる
場合もあればフリットを溶融、粉砕した後、加えてブレ
ンドしたものでもそれなりに効果を発揮する。
顔料としては、Ｃｏｏ、ＮｉＯ，ＭｎＯ２、ｃｕｏ、Ｆ
ｅ２Ｏ３、Ｃｒ２ ｏ３．ＳｎＯ２，ＴｉＯ２、Ｖ、Ｎ
ｂＯ，ＭｏＯ，Ｗ、Ｐｒ、Ｎｄ等の一種または複数種あ
るいは化合物の形で適宜（例えば５％程度）配合するこ
とができる。
ｅ２Ｏ３、Ｃｒ２ ｏ３．ＳｎＯ２，ＴｉＯ２、Ｖ、Ｎ
ｂＯ，ＭｏＯ，Ｗ、Ｐｒ、Ｎｄ等の一種または複数種あ
るいは化合物の形で適宜（例えば５％程度）配合するこ
とができる。
上の配合よりなるフリットを酸素アセチレンの溶射装置
に装填し、２００〜５００℃に予熱した鉄板表面に溶射
して、ガラス被膜を得た。
に装填し、２００〜５００℃に予熱した鉄板表面に溶射
して、ガラス被膜を得た。
この実施例のフリットによれば、２００〜５００℃に予
熱した被塗装物表面に極めて良好なガラス被膜を形成す
ることができた。フリットの波動性は良好で溶射後のク
ラックは皆無であった。
熱した被塗装物表面に極めて良好なガラス被膜を形成す
ることができた。フリットの波動性は良好で溶射後のク
ラックは皆無であった。
（効果）
以上説明したように、この発明によれば、従来困難であ
ろうと考えられていたガラス溶射を極めて容易に行なう
ことができる実際的でかつ実用件の高いガラス溶射用フ
リットを提供することができ、この種技術分野に大きな
利益をもたらすことができたものである。
ろうと考えられていたガラス溶射を極めて容易に行なう
ことができる実際的でかつ実用件の高いガラス溶射用フ
リットを提供することができ、この種技術分野に大きな
利益をもたらすことができたものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 少なくとも主成分が重量％で ＳｉＯ＿２ ５〜５０％ Ｂ＿２Ｏ＿３ １０〜６０％ Ｎａ＿２Ｏ ５〜３５％ ＺｎＯ ５〜６０％ Ｋ＿２Ｏ ０〜１５％ Ａｌ＿２Ｏ＿３ １〜１５％ ＳｎＯ＿２ ０〜１５％ ＣａＯ ０〜１０％ Ｌｉ＿２Ｏ ０〜１５％ ＴｉＯ＿２ ０〜１０％ 含むことを特徴とするガラス溶射用フリット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12459187A JPS63288929A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | ガラス溶射用フリット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12459187A JPS63288929A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | ガラス溶射用フリット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63288929A true JPS63288929A (ja) | 1988-11-25 |
Family
ID=14889247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12459187A Pending JPS63288929A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | ガラス溶射用フリット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63288929A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01286937A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Nakashima:Kk | ガラス溶射用材料 |
| US5342810A (en) * | 1992-03-02 | 1994-08-30 | Degussa Aktiengesellschaft | Zinc-containing, lead- and cadmium-free glass frits, method of their production and their use |
| WO2010041693A1 (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-15 | 旭硝子株式会社 | 電極被覆用無鉛ガラスおよびプラズマディスプレイ装置 |
| JP2013216977A (ja) * | 2013-05-30 | 2013-10-24 | Nakashima:Kk | 金属基材ロール体用ガラス質溶射材料、ガラス質被膜形成金属基材ロール体、及びオゾン発生装置 |
| JP2014076912A (ja) * | 2012-10-10 | 2014-05-01 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 半導体封入用無鉛ガラス |
-
1987
- 1987-05-21 JP JP12459187A patent/JPS63288929A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01286937A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Nakashima:Kk | ガラス溶射用材料 |
| US5342810A (en) * | 1992-03-02 | 1994-08-30 | Degussa Aktiengesellschaft | Zinc-containing, lead- and cadmium-free glass frits, method of their production and their use |
| WO2010041693A1 (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-15 | 旭硝子株式会社 | 電極被覆用無鉛ガラスおよびプラズマディスプレイ装置 |
| JP2014076912A (ja) * | 2012-10-10 | 2014-05-01 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 半導体封入用無鉛ガラス |
| JP2013216977A (ja) * | 2013-05-30 | 2013-10-24 | Nakashima:Kk | 金属基材ロール体用ガラス質溶射材料、ガラス質被膜形成金属基材ロール体、及びオゾン発生装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1089497A (en) | Lead-free glaze for alumina bodies | |
| CA1141396A (en) | Low-melting, lead-free ceramic frits | |
| CA2122459C (en) | Non-lead sealing glasses | |
| WO1999032282A1 (en) | Porcelain enamel composition for electronic applications | |
| JPH02289445A (ja) | 被覆用ガラス組成物 | |
| KR890006537A (ko) | 납을 함유하지 않는 유약 재료용 유리 | |
| JPH03275531A (ja) | コバール封着用ガラス組成物 | |
| CA1097696A (en) | Lead-free glaze for alumina bodies | |
| US5244848A (en) | Glaze compositions | |
| KR880005051A (ko) | 법랑도기 조성물 및 이 조성물로 피복된 기질 | |
| JP4061762B2 (ja) | 低吸湿性ガラスフリット、ガラスセラミックス組成物および焼成体 | |
| JPH11106234A (ja) | 釉薬用ガラス組成物 | |
| JPH1143351A (ja) | 釉薬用ガラス組成物 | |
| US4376169A (en) | Low-melting, lead-free ceramic frits | |
| JPH01122937A (ja) | ガラス溶射用フリット | |
| JPS6124347B2 (ja) | ||
| JPS6451346A (en) | Glass ceramic composition | |
| JPS63288929A (ja) | ガラス溶射用フリット | |
| US2972543A (en) | Ceramic glaze composition | |
| JPWO2001090012A1 (ja) | ガラス組成物及び該組成物を含むガラス形成材料 | |
| JP3098307B2 (ja) | 無毒性ガラスフリット、及びガラス、ガラスセラミック及びセラミックからなる製品の釉掛け及び装飾方法 | |
| JP2000203878A (ja) | ガラスセラミックス組成物 | |
| US3252812A (en) | Glass compositions | |
| JP2944387B2 (ja) | 低融点ガラス | |
| JPS6344699B2 (ja) |