JPH01199945A - 光学活性３‐デメチルメバロン酸誘導体の製法 - Google Patents
光学活性３‐デメチルメバロン酸誘導体の製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/54—Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D213/55—Acids; Esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/06—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D319/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D319/04—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes
- C07D319/06—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes not condensed with other rings
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３−デメチルメバロン酸の誘導体例えば、メビノリンは
３−ヒドロキシ−３−メチルグルタリル補酵素Ａレダク
ターゼ（ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ）の阻害剤として
大へん重要である。この酵素は５−ヒドロキシ−５−メ
チルグルタリル−補酵素Ａ （ＨＭＧ −ＣｏＡ ）か
らのメバロン酸の生成を触媒しそしてコレステロールの
生合成における律速酵素として中心的役割を果している
。
３−ヒドロキシ−３−メチルグルタリル補酵素Ａレダク
ターゼ（ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ）の阻害剤として
大へん重要である。この酵素は５−ヒドロキシ−５−メ
チルグルタリル−補酵素Ａ （ＨＭＧ −ＣｏＡ ）か
らのメバロン酸の生成を触媒しそしてコレステロールの
生合成における律速酵素として中心的役割を果している
。
それゆえ３−デメチルメバロン酸の誘導体は多数の疾患
と関連する高いコレステロールレベルを低下させるのに
適する（ Ｍ、 Ｓ、 Ｂｒｏｗｎ他、５ｏｉｅｎｏｅ
２５２．３４（１９８６））ｏ天然物質メビノリンの
他に、メビノリンと同様デメチルメバロン酸構造部分を
含有する構造的により簡単な多数の類似体が存在する（
Ｄｒｕｇｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｆｕｔｕｒｅ１２．４３
７（１９８７））。これら化合物は合成により得られる
。デメチルメバロン酸構造部分はこれら化合物の構造の
中心的な要素であって、以下に例示する刊行物中に記載
されるように多数の合成法が存在する、すなわち、Ｄ、
Ｅ、 Ｌｙｎｏｈ他、Ｔｅｔｒａｂｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔ、 ２８．１３８５（１９８７）、Ｔ、 Ｒｏｓｅ
ｎ他ｓ Ｔｌ；３ ｔｒａｈｅｄｒ ｏｎ ４２ｓ’、
４９ Ｑ ９ （１９８６） ｓＪ、 Ｄ、 Ｐｒｕｇ
ｈ他、Ｊ、 Ｏｒｇ、 Ｃｈｅｍ、 ５１．６４Ｂ（１
９８６）、Ｙ、 Ｇｕｉｎｄｏｎ他、Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔ、 ２６．１１８５（１９８５） ％
Ｍ、 ８１ｅｔｚｉｎｇｅｒ他５Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎＬｅｔｔ、 ２５．２９５１ （１９８５）、Ｊ、
Ｄ、 Ｐｒｕｇｈ他、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔ、’ ２３．２８１ （１９８２）およびＹ、 Ｌ
、 Ｙａｎｇ他、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、
２５．４３ｏ５（１９８２）。それぞれの方法に応じ
、デメチルメバロン酸構造部分は２４４類の異なるかし
がし合成的には等価の形態すなわち ３．５−ジヒドロキシカルボン酸誘導体重またはβ−ヒ
ドロキシラクトン■ ￥ として得られる。式Ｉおよび式ＩＩの化合物は知られた
方法により相互に変換されうる。薬理学的には、式■お
よび■に記載される絶対配置を有する化合物が重要であ
る。
と関連する高いコレステロールレベルを低下させるのに
適する（ Ｍ、 Ｓ、 Ｂｒｏｗｎ他、５ｏｉｅｎｏｅ
２５２．３４（１９８６））ｏ天然物質メビノリンの
他に、メビノリンと同様デメチルメバロン酸構造部分を
含有する構造的により簡単な多数の類似体が存在する（
Ｄｒｕｇｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｆｕｔｕｒｅ１２．４３
７（１９８７））。これら化合物は合成により得られる
。デメチルメバロン酸構造部分はこれら化合物の構造の
中心的な要素であって、以下に例示する刊行物中に記載
されるように多数の合成法が存在する、すなわち、Ｄ、
Ｅ、 Ｌｙｎｏｈ他、Ｔｅｔｒａｂｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔ、 ２８．１３８５（１９８７）、Ｔ、 Ｒｏｓｅ
ｎ他ｓ Ｔｌ；３ ｔｒａｈｅｄｒ ｏｎ ４２ｓ’、
４９ Ｑ ９ （１９８６） ｓＪ、 Ｄ、 Ｐｒｕｇ
ｈ他、Ｊ、 Ｏｒｇ、 Ｃｈｅｍ、 ５１．６４Ｂ（１
９８６）、Ｙ、 Ｇｕｉｎｄｏｎ他、Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔ、 ２６．１１８５（１９８５） ％
Ｍ、 ８１ｅｔｚｉｎｇｅｒ他５Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎＬｅｔｔ、 ２５．２９５１ （１９８５）、Ｊ、
Ｄ、 Ｐｒｕｇｈ他、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔ、’ ２３．２８１ （１９８２）およびＹ、 Ｌ
、 Ｙａｎｇ他、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、
２５．４３ｏ５（１９８２）。それぞれの方法に応じ
、デメチルメバロン酸構造部分は２４４類の異なるかし
がし合成的には等価の形態すなわち ３．５−ジヒドロキシカルボン酸誘導体重またはβ−ヒ
ドロキシラクトン■ ￥ として得られる。式Ｉおよび式ＩＩの化合物は知られた
方法により相互に変換されうる。薬理学的には、式■お
よび■に記載される絶対配置を有する化合物が重要であ
る。
本発明は式Ｉおよび■を有する純粋なｉＩ像異性体形に
おけるデメチルメバロン酸構造部分を有する化合物の新
規な製法に関する。但しここで上記式１および■におい
て、 Ｙは−ＣＨ−ＣＨ−または−ＣＨ２−ＣＨ２−基であり
、Ｒは式α Ｒコ （式中、 ２は式−ＣＨ−を有する基または■累原子であり、Ｒ３
、Ｒ４およびＲ５は相互に独立して水素であるか、６個
までの炭素原子を有し、場合により末端の炭素で３〜６
個の炭素原子を有する１ａ相または不飽和の環状炭化水
素によって置換されていてもよい直鎖または分校状炭化
水素基であるか、３〜７個の炭素原子を有する環状の飽
和または２個まで不飽和のある炭化水素基であるか、あ
るいはフェニル、フリル、チエニルおよびピリジニルか
らなる群から選択され場合によりその核がハロゲン、ト
リフルオロメチル、ソレソれ６個までの炭素原子を有す
るアルキルまたはアルケニル、ヒドロキシル、１〜６個
の炭素原子を有するアルコキシ、カルボキシル、または
アルコキシ部分中に１〜６個の炭素原子を有するカルボ
アルコキシから選択される同一または異なる１〜３個の
置換基を有していてもよい芳香族基である）を有する基
を意味するか、または式β Ｒ７ （式中、 Ａ−Ｂは−ＣＨ−ＣＨ−または−〇−Ｃ−基であり、Ｒ
６およびＲ７は同一または相異なっており、そして２０
個までの炭素原子を有し、１〜６１ｒ！Ａの炭素原子を
有するアルコキシ基によってまたは基 ０− Ｃ−１９ （式中Ｒ９は１〜８１１ｉ１の炭素原子を有するアルキ
ルである）で置換されていてもよい飽和または不飽和ア
ルキル基であるか、３〜７個の炭素原子を有するシクロ
アルキル基であるか、芳香核がハロゲン、それぞれ１〜
６ （ｔｉの炭素原子を有するアルキルまたはアルコキ
シ、３〜７個の炭素原子を有するシクロアルキルあるい
は基０− Ｃ−Ｒ９ （式中Ｒ９は１〜８個の炭素原子を有するアルキルであ
る）の１〜３個によって置換されていてもよいフェニル
、チオエニル、フリルまたはナフチル基であるか、ある
いは核が１〜４個の炭素原子を有するアルキルの１〜３
１ｔ！ｌで置換されていてもよいピリジニル基であり１ Ｒ８は８個までの炭素原子を有する飽和または不飽和ア
ルキル基であるか、核がノ）ロゲンあるいはそれぞれ１
〜４個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシの
１〜３＠でｉ！ｆ換されていてもよいベンジル基である
か、芳香核がハロゲンあるいはそれぞれ１〜４個の炭素
原子を有するアルキルまたはアルコキシの１〜３個で置
換されていてもよいフェニル、チエニル、フリルまたは
ナフチル基であるか、あるいは３〜７個の炭素原子を有
するシクロアルキル基である）を有する基を意味し、そ
して Ｒ１は水素、金属陽イオンまたは１〜８個の炭素原子を
有するアルキルを表わすものとする。
おけるデメチルメバロン酸構造部分を有する化合物の新
規な製法に関する。但しここで上記式１および■におい
て、 Ｙは−ＣＨ−ＣＨ−または−ＣＨ２−ＣＨ２−基であり
、Ｒは式α Ｒコ （式中、 ２は式−ＣＨ−を有する基または■累原子であり、Ｒ３
、Ｒ４およびＲ５は相互に独立して水素であるか、６個
までの炭素原子を有し、場合により末端の炭素で３〜６
個の炭素原子を有する１ａ相または不飽和の環状炭化水
素によって置換されていてもよい直鎖または分校状炭化
水素基であるか、３〜７個の炭素原子を有する環状の飽
和または２個まで不飽和のある炭化水素基であるか、あ
るいはフェニル、フリル、チエニルおよびピリジニルか
らなる群から選択され場合によりその核がハロゲン、ト
リフルオロメチル、ソレソれ６個までの炭素原子を有す
るアルキルまたはアルケニル、ヒドロキシル、１〜６個
の炭素原子を有するアルコキシ、カルボキシル、または
アルコキシ部分中に１〜６個の炭素原子を有するカルボ
アルコキシから選択される同一または異なる１〜３個の
置換基を有していてもよい芳香族基である）を有する基
を意味するか、または式β Ｒ７ （式中、 Ａ−Ｂは−ＣＨ−ＣＨ−または−〇−Ｃ−基であり、Ｒ
６およびＲ７は同一または相異なっており、そして２０
個までの炭素原子を有し、１〜６１ｒ！Ａの炭素原子を
有するアルコキシ基によってまたは基 ０− Ｃ−１９ （式中Ｒ９は１〜８１１ｉ１の炭素原子を有するアルキ
ルである）で置換されていてもよい飽和または不飽和ア
ルキル基であるか、３〜７個の炭素原子を有するシクロ
アルキル基であるか、芳香核がハロゲン、それぞれ１〜
６ （ｔｉの炭素原子を有するアルキルまたはアルコキ
シ、３〜７個の炭素原子を有するシクロアルキルあるい
は基０− Ｃ−Ｒ９ （式中Ｒ９は１〜８個の炭素原子を有するアルキルであ
る）の１〜３個によって置換されていてもよいフェニル
、チオエニル、フリルまたはナフチル基であるか、ある
いは核が１〜４個の炭素原子を有するアルキルの１〜３
１ｔ！ｌで置換されていてもよいピリジニル基であり１ Ｒ８は８個までの炭素原子を有する飽和または不飽和ア
ルキル基であるか、核がノ）ロゲンあるいはそれぞれ１
〜４個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシの
１〜３＠でｉ！ｆ換されていてもよいベンジル基である
か、芳香核がハロゲンあるいはそれぞれ１〜４個の炭素
原子を有するアルキルまたはアルコキシの１〜３個で置
換されていてもよいフェニル、チエニル、フリルまたは
ナフチル基であるか、あるいは３〜７個の炭素原子を有
するシクロアルキル基である）を有する基を意味し、そ
して Ｒ１は水素、金属陽イオンまたは１〜８個の炭素原子を
有するアルキルを表わすものとする。
適当なＲ基は西ドイツ特許出ＦＪ Ｐ３７２２８０７．
２（米国特許出に！Ｉ第２１６３３１に相当（式β））
およびｐｓａ２３ｏ４ｓ、３（米国特許出願第２１６４
５８に相当（式α、優先権主張日： １９８７年７月１
０日〔特許出願Ｐ３７２２８０８．０）１９８８年７月
７日出願））に提案されている。
２（米国特許出に！Ｉ第２１６３３１に相当（式β））
およびｐｓａ２３ｏ４ｓ、３（米国特許出願第２１６４
５８に相当（式α、優先権主張日： １９８７年７月１
０日〔特許出願Ｐ３７２２８０８．０）１９８８年７月
７日出願））に提案されている。
ここに記載される方法に比較して、本発明方法は合成径
路をかなり単純化かつ短縮するものである。
路をかなり単純化かつ短縮するものである。
本発明方法を実施するための中心的な中間体は弐■
（式中Ｍは１，３−ジオールに適する床護基例えばＨｘ
Ｃ−Ｃ−ＣＨ３−であるか、または下記式：を有する基
であり、そしてＲ１はＣ［−ｃ８−アルキル例えば第三
ブチルを意味する）を有する化合物であって、このもの
は式■または■を有する多種類の誘導体に変換されうる
。
Ｃ−Ｃ−ＣＨ３−であるか、または下記式：を有する基
であり、そしてＲ１はＣ［−ｃ８−アルキル例えば第三
ブチルを意味する）を有する化合物であって、このもの
は式■または■を有する多種類の誘導体に変換されうる
。
本発明による方法は以下の１稲からなる、すなわち
（１）式■
（式中Ｒ１はＣｌ−０８−アルキルを意味する）を有す
るジオールエステルにそれ自体知られた方法で慣用の保
護基を導入することにより第一アルコール基が保護され
た式■ （式中Ｒ１はＣ１−Ｃｏ−アルキルを意味しそしてＲ２
は慣用のアルコール保護基である）を有する化合物に変
換し、 （２） 得られる式ＶＩＩの化合物またはその対応す
るアルコラードを第三ブチルアセテートまたはその適当
な等価物例えばマロン酸エステルと慣用法により縮合さ
せて式１ （式中Ｒ１およびＲ２は式■に記載される意味を有する
）を有する化合物に変換し、 （３）得られるヒドロキシケトエステル■をそれ自体知
られた方法で還元して式■ （式中Ｒ１およびＲ２は式■に記載される意味を有する
）を有する１、３−ジオールエステルとなし、 （４）得られる式■の１，３−ジオールエステルに１．
３−ジオールに適する保護基を導入して式（式中Ｍは１
．３−：）オールに適する保護基でありそしてＲ１およ
びＲ２は式■に、記載される意味を有する）を有する化
合物に変換し、（５）得られる式Ｘを有する化合物から
慣用の方法に従い保護基Ｒ２を除去して弐■ （式中Ｍは１，３−ジオールに適する保護基でありそし
てＲ１はＣ１−Ｃ８−アルキル基を意味する）を有する
化合物に変換し、 （６） 得られる式■の化合物を弐Ｍ（式Ｉ中のＹ
＝ ＣＨ−ＣＨ） を有するオレフィン誘導体に変換し、そして（力 得ら
れる弐灯の化合物を加水分層して式Ｉ（式中Ｙは−ＣＨ
＝ＣＨ−基でありそしてＲ１はｃｌ−ＣＢ−アルキルを
表わす）を有する化合物となし、 （８） 得られる式■の化合物（式中Ｙは−ＣＨ−Ｃ
ｌ’（−基を表わす）を場合により水素添加して式！（
式中Ｙは−ＣＨ２−Ｃ）！２−基を表わす）を有する化
合物となし、 （９） 得られる式Ｉ・の化合物を場合により酸（Ｒ
１＝Ｈ）あるいは塩（Ｒ１＝金属陽イオン）Ｋ変換し、
そして （１０）得られる式■の化合物を場合により式ＩＩの化
合物に変換する。
るジオールエステルにそれ自体知られた方法で慣用の保
護基を導入することにより第一アルコール基が保護され
た式■ （式中Ｒ１はＣ１−Ｃｏ−アルキルを意味しそしてＲ２
は慣用のアルコール保護基である）を有する化合物に変
換し、 （２） 得られる式ＶＩＩの化合物またはその対応す
るアルコラードを第三ブチルアセテートまたはその適当
な等価物例えばマロン酸エステルと慣用法により縮合さ
せて式１ （式中Ｒ１およびＲ２は式■に記載される意味を有する
）を有する化合物に変換し、 （３）得られるヒドロキシケトエステル■をそれ自体知
られた方法で還元して式■ （式中Ｒ１およびＲ２は式■に記載される意味を有する
）を有する１、３−ジオールエステルとなし、 （４）得られる式■の１，３−ジオールエステルに１．
３−ジオールに適する保護基を導入して式（式中Ｍは１
．３−：）オールに適する保護基でありそしてＲ１およ
びＲ２は式■に、記載される意味を有する）を有する化
合物に変換し、（５）得られる式Ｘを有する化合物から
慣用の方法に従い保護基Ｒ２を除去して弐■ （式中Ｍは１，３−ジオールに適する保護基でありそし
てＲ１はＣ１−Ｃ８−アルキル基を意味する）を有する
化合物に変換し、 （６） 得られる式■の化合物を弐Ｍ（式Ｉ中のＹ
＝ ＣＨ−ＣＨ） を有するオレフィン誘導体に変換し、そして（力 得ら
れる弐灯の化合物を加水分層して式Ｉ（式中Ｙは−ＣＨ
＝ＣＨ−基でありそしてＲ１はｃｌ−ＣＢ−アルキルを
表わす）を有する化合物となし、 （８） 得られる式■の化合物（式中Ｙは−ＣＨ−Ｃ
ｌ’（−基を表わす）を場合により水素添加して式！（
式中Ｙは−ＣＨ２−Ｃ）！２−基を表わす）を有する化
合物となし、 （９） 得られる式Ｉ・の化合物を場合により酸（Ｒ
１＝Ｈ）あるいは塩（Ｒ１＝金属陽イオン）Ｋ変換し、
そして （１０）得られる式■の化合物を場合により式ＩＩの化
合物に変換する。
Ｒ１が１〜８個の炭素原子を有するアルキル基を表わす
場合は、該アルキル基は直鎖または分校状である。
場合は、該アルキル基は直鎖または分校状である。
式■の出発化合物は知られているかまたは常法により製
造されつる。その製造においては式を有するＬ（−）−
りんご酸（Ｓ（−）−２−ヒト四キシフハク酸）から出
発するのが好ましい。これを知られた方法、好ましくは
酸性条件下にアルコールで処理することにより式Ｖ （式中Ｒ１はＣｌ−０８−ア片ル好ましくはメチルまた
はエチルである）を有するＣＩ−ＣＢ−アルキルエステ
ルに変換する。
造されつる。その製造においては式を有するＬ（−）−
りんご酸（Ｓ（−）−２−ヒト四キシフハク酸）から出
発するのが好ましい。これを知られた方法、好ましくは
酸性条件下にアルコールで処理することにより式Ｖ （式中Ｒ１はＣｌ−０８−ア片ル好ましくはメチルまた
はエチルである）を有するＣＩ−ＣＢ−アルキルエステ
ルに変換する。
この化合物ＶをＴ、 Ｍｏｒｉｗａｋｅ他の方法（Ｃｈ
ｅｍｉ−ｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ １９８４．１３８
９）に従い触媒量の水素化硼素ナトリウムを使用し好ま
しくはポラン／ジメチルスルフイツト複合物を用いてジ
オールエステル■に還元する。
ｅｍｉ−ｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ １９８４．１３８
９）に従い触媒量の水素化硼素ナトリウムを使用し好ま
しくはポラン／ジメチルスルフイツト複合物を用いてジ
オールエステル■に還元する。
本発明による方法においては第一工程でジオールエステ
ル■の第一アルコール基を保護する。
ル■の第一アルコール基を保護する。
式■においては、Ｒ２はアルコール保護基（Ｐｒｏｔｅ
ａ−ｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉ
ｏ ５ｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｗｉｌｓｙ 。
ａ−ｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉ
ｏ ５ｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｗｉｌｓｙ 。
Ｎ＠ｗ Ｙｏｒｋ １９８１ ｍ照）、好ましくは第三
ブチルジフェニルシリルを意味する。
ブチルジフェニルシリルを意味する。
工程（２）による縮合は例えば第三ブチルアセテート好
ましくは第三ブチルアセテートのリチウムエノラートを
用い溶媒中−７８℃ないし室温まで、好ましくは一３０
°〜−１０℃で、好ましくはテトラヒドロフラン（’ｆ
’ＨＦ）中で実施される。２〜５当量の二ノラートが用
いられる。リチウムエノラートは常法に従い、好ましく
はリチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）を用い一７
０℃〜−５０℃で！ｌｉｇされる。この方法は化合物■
をそのアルコラード形、詳細には例えばリチウム、ナト
リウムまたはマグネシウムアルコラード形で使用するこ
ともできる。
ましくは第三ブチルアセテートのリチウムエノラートを
用い溶媒中−７８℃ないし室温まで、好ましくは一３０
°〜−１０℃で、好ましくはテトラヒドロフラン（’ｆ
’ＨＦ）中で実施される。２〜５当量の二ノラートが用
いられる。リチウムエノラートは常法に従い、好ましく
はリチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）を用い一７
０℃〜−５０℃で！ｌｉｇされる。この方法は化合物■
をそのアルコラード形、詳細には例えばリチウム、ナト
リウムまたはマグネシウムアルコラード形で使用するこ
ともできる。
ヒドロキシケトエステル〜ｌは詳細には式■で示される
配置が優先的Ｋまたはそれのみ形成される様式で１，３
−ジオールエステル■に還元される。
配置が優先的Ｋまたはそれのみ形成される様式で１，３
−ジオールエステル■に還元される。
この目的には詳細には文献上知られた方法（Ｋ、 Ｎａ
ｒａｓａｋａ他、Ｃｈｅｗ、 Ｌｅｔｔ、 １９８０．
１４１５、Ｔｅｔｒａｈａｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、 ２８
．１５５（１９８７））に従いアルキルボラ／またはア
ルコキシアルキルボランを一１１０℃〜０℃で水素化硼
素ナトリウムと組み合せて使用するのが好ましい。
ｒａｓａｋａ他、Ｃｈｅｗ、 Ｌｅｔｔ、 １９８０．
１４１５、Ｔｅｔｒａｈａｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、 ２８
．１５５（１９８７））に従いアルキルボラ／またはア
ルコキシアルキルボランを一１１０℃〜０℃で水素化硼
素ナトリウムと組み合せて使用するのが好ましい。
化合物■は、例えばｐ−）ルエンスルホン酸のような酸
触媒を添加したアセトン中好ましくは２，２−ジメトキ
シプロパンを使用してアセトニドＸ に変換するのが好都合である。
触媒を添加したアセトン中好ましくは２，２−ジメトキ
シプロパンを使用してアセトニドＸ に変換するのが好都合である。
に変換する。保護基Ｒ２はそれ自体知られた方法を用い
て除去される。第三ブチルジフェニルシリルは好ましく
はフルオライドイオン、例えばＴＨＦのテトラブチルア
ンモニウムフルオライドを用いて除去される。
て除去される。第三ブチルジフェニルシリルは好ましく
はフルオライドイオン、例えばＴＨＦのテトラブチルア
ンモニウムフルオライドを用いて除去される。
アルコール■はデメチルメバロン酸誘導体を製造するた
めの価値ある中間体である。
めの価値ある中間体である。
弐■を有するオレフィン誘導体を製造するには、■を例
えばジメチルスルホキシド／オキサリルクロライド／ト
リエチルアミンを用いて酸化してアルデヒド■となす（
５ｙｎｔｈｅｓｉｓ １９８１．１６５）。
えばジメチルスルホキシド／オキサリルクロライド／ト
リエチルアミンを用いて酸化してアルデヒド■となす（
５ｙｎｔｈｅｓｉｓ １９８１．１６５）。
例えば西ドイツ特許比ｄＰ３８２３０４５．３の記載に
相当する化合物を製造するためＫは、式■を適当なハラ
イド雇 との連結は好ましくはウイテツヒ反応またはウイテツヒ
ーホーナー反応により、適当なホスホニウムハライドｘ
■′またはアルキルホスホネートＷを経て弐刈′ を有する化合物となす。
相当する化合物を製造するためＫは、式■を適当なハラ
イド雇 との連結は好ましくはウイテツヒ反応またはウイテツヒ
ーホーナー反応により、適当なホスホニウムハライドｘ
■′またはアルキルホスホネートＷを経て弐刈′ を有する化合物となす。
同様な方法で他の化合物が製造されうる。化合物■をそ
れ自体知られた方法で加水分解すると化合物Ｉ （Ｙ＝
ＣＨ＝Ｃ）Ｉ）が得られる。化合物■の所望の最終生成
物への変換は以下に化合物ＪＧ’との反応で説明する。
れ自体知られた方法で加水分解すると化合物Ｉ （Ｙ＝
ＣＨ＝Ｃ）Ｉ）が得られる。化合物■の所望の最終生成
物への変換は以下に化合物ＪＧ’との反応で説明する。
式刈′のアセトニドを酸性条件下に加水分解すると化合
物Ｉ’ が得られる。ＩＩは（目的方法に従い、好ましくはメチ
レンクロライド中トリフルオロ酢酸を用いて相当するラ
クトン に変換される。
物Ｉ’ が得られる。ＩＩは（目的方法に従い、好ましくはメチ
レンクロライド中トリフルオロ酢酸を用いて相当するラ
クトン に変換される。
化合物■のラクトン■への変換は直接エステル（Ｒ’
＝０１−Ｃ８−アルキル）からまたは相当する遊離の酸
（Ｒ１＝Ｈ）から行われる。また、酸感受性化合物のラ
クトンは遊離の酸から例えばカルボジイミドのようなラ
クトン化試薬を使用することにより製造される。
＝０１−Ｃ８−アルキル）からまたは相当する遊離の酸
（Ｒ１＝Ｈ）から行われる。また、酸感受性化合物のラ
クトンは遊離の酸から例えばカルボジイミドのようなラ
クトン化試薬を使用することにより製造される。
・式」のアルデヒドのうち、Ｍが式
を有する基を意味する化合物は新規である。
それゆえ本発明はまたこれら新規化合物およびそれらの
製法にも関する。これらアルデヒドは、例えば価値ある
医薬である式■および式ＩＩの化合物を製造するための
価値ある中間体である。
製法にも関する。これらアルデヒドは、例えば価値ある
医薬である式■および式ＩＩの化合物を製造するための
価値ある中間体である。
実施例 １
メチル５−５−ヒドロキシ−４−（第三ブチルジフェニ
ルシリルオキシ）ブチレート（式■）乾燥ジメチルホル
ムアミド４００−中の３１１９（α２３３モル）のメチ
ル（３Ｂ）−３，４−ジヒドロキシブチレート（式ｖｌ
） （Ｃｈｅｍ、 Ｌｅｔ、ｔ、 １９８４．１９３
９）および３．ｔ７９（０，４６６モル）のイミダゾー
ルの溶液中にＯ’Ｃで６４．０５ｇ（α２５３モル）の
第三ブチルジフェニルクロロシランを滴下した。
ルシリルオキシ）ブチレート（式■）乾燥ジメチルホル
ムアミド４００−中の３１１９（α２３３モル）のメチ
ル（３Ｂ）−３，４−ジヒドロキシブチレート（式ｖｌ
） （Ｃｈｅｍ、 Ｌｅｔ、ｔ、 １９８４．１９３
９）および３．ｔ７９（０，４６６モル）のイミダゾー
ルの溶液中にＯ’Ｃで６４．０５ｇ（α２５３モル）の
第三ブチルジフェニルクロロシランを滴下した。
この混合物を室温で２時間攪拌し、続いて水１０００ｍ
を加えそしてエーテルで抽出しり（２回）。合一した有
機相を乾燥しくＭｇ５Ｏ４）そして回転蒸発器で蒸発さ
せた。シリカゲルでフラッシュクロマトグラフィー（シ
クロヘキサン／酢酸エチル（３：１）＋１％ＮＥｔｓ
）すると標記化合物７７．４９（０，２０８モル、８９
チ）が得られた。
を加えそしてエーテルで抽出しり（２回）。合一した有
機相を乾燥しくＭｇ５Ｏ４）そして回転蒸発器で蒸発さ
せた。シリカゲルでフラッシュクロマトグラフィー（シ
クロヘキサン／酢酸エチル（３：１）＋１％ＮＥｔｓ
）すると標記化合物７７．４９（０，２０８モル、８９
チ）が得られた。
〔α〕ろ０±−９６°（ｏ＝１０．２メタノール中）Ｈ
−ＮＭＲ（ｃＤｃｔｓ ） 、 ６０ ＭＨｚ ） ：
δ＝７．８０−７．２０（ｍ、１０Ｈ）、４．２０−３
．６０（ｍ、６Ｈ）、２．５（ｄ、２Ｈ）、１．０５
（ｓ ＊ ９ Ｈ）実施例 ２ 第三ブチル（５８）−５−ヒドロ午シー３−オキソ−６
−（第三ブチルジフェニルシリルオキシ）ヘキサノエー
ト（式Ｖｌ ） 乾燥ＴＨＦ ４００−中の４ｔ０９（０，４０５モル）
のジイソゾロビルアミンの溶液中に０′Ｃでアルゴンの
下２２５ｍ（０，３６モル）のｎ−ブチルリチウム（ヘ
キサン）を滴下した。０℃で３０分後この混合物を一７
０℃に冷却しそして３６．７ｍ（０，２７モル）の第三
ブチルアセテートを滴下した。−７０℃で１時間経過後
実施例１の化合物２７．９ ｇ（０，０７５モル）を少
量のＴＨＦに溶解して滴下した。−７０℃で１５時間後
ゆっくりと一１５℃となした。終りに一１５°Ｃで１５
分間攪拌しそして次に２ Ｎ ＨＣｌ ５００ｍｌ／−
ｒ−−チル５００−の冷混合物に注いだ。水相をエーテ
ルで２回抽出しそして合一した有機相を飽和塩化ナトリ
ウム溶液を用いて中性となるまで洗浄した（３回）。Ｍ
ｇ８０４で乾燥しそして真空下に溶媒を除去すると標記
化合物３６ｇ（定量的）が得られた。このものはそれ以
上精製することなく後続の工程での反応に用いられた。
−ＮＭＲ（ｃＤｃｔｓ ） 、 ６０ ＭＨｚ ） ：
δ＝７．８０−７．２０（ｍ、１０Ｈ）、４．２０−３
．６０（ｍ、６Ｈ）、２．５（ｄ、２Ｈ）、１．０５
（ｓ ＊ ９ Ｈ）実施例 ２ 第三ブチル（５８）−５−ヒドロ午シー３−オキソ−６
−（第三ブチルジフェニルシリルオキシ）ヘキサノエー
ト（式Ｖｌ ） 乾燥ＴＨＦ ４００−中の４ｔ０９（０，４０５モル）
のジイソゾロビルアミンの溶液中に０′Ｃでアルゴンの
下２２５ｍ（０，３６モル）のｎ−ブチルリチウム（ヘ
キサン）を滴下した。０℃で３０分後この混合物を一７
０℃に冷却しそして３６．７ｍ（０，２７モル）の第三
ブチルアセテートを滴下した。−７０℃で１時間経過後
実施例１の化合物２７．９ ｇ（０，０７５モル）を少
量のＴＨＦに溶解して滴下した。−７０℃で１５時間後
ゆっくりと一１５℃となした。終りに一１５°Ｃで１５
分間攪拌しそして次に２ Ｎ ＨＣｌ ５００ｍｌ／−
ｒ−−チル５００−の冷混合物に注いだ。水相をエーテ
ルで２回抽出しそして合一した有機相を飽和塩化ナトリ
ウム溶液を用いて中性となるまで洗浄した（３回）。Ｍ
ｇ８０４で乾燥しそして真空下に溶媒を除去すると標記
化合物３６ｇ（定量的）が得られた。このものはそれ以
上精製することなく後続の工程での反応に用いられた。
粗生成物についての（ｆｆ）Ｄ＝−９，８°（ａ＝１０
．６、メタノール中） 実施例 ６ 第三ブチル３Ｒ，５Ｂ−ジヒドロキシ−６−（第三ブチ
ルジフェニルシリルオキシ）ヘキサノエート （式■） 乾燥Ｔ）ＩＦ２０Ｃ１ｄ中の実施例２の化合物９１３ｇ
（０，０２モル）にアルゴンの下５２−（α０５２モル
）のトリエチルポラン溶液（ＴＥＦ）を室温で滴下した
。室温で１５分間攪拌後−７０℃に冷却し、水素化硼素
ナトリウムｔ５１り（０，０４モル）を加えそして次に
乾燥メタノール１５ｍを加えた。この混合物を一７０℃
で２．５時間攪拌しそして水３００ｄ中の６５−過酸化
水素３５−の冷溶液中に注入した。酢酸エチルで抽出し
た（３回）。合一した有機相を飽和炭酸水素す） ＩＪ
ウム浴液で洗い（３回）そして乾燥した（Ｍｇ８０４）
。真空下に溶媒を除夫すると９４８２（定量的）の標記
化合物が得られた。
．６、メタノール中） 実施例 ６ 第三ブチル３Ｒ，５Ｂ−ジヒドロキシ−６−（第三ブチ
ルジフェニルシリルオキシ）ヘキサノエート （式■） 乾燥Ｔ）ＩＦ２０Ｃ１ｄ中の実施例２の化合物９１３ｇ
（０，０２モル）にアルゴンの下５２−（α０５２モル
）のトリエチルポラン溶液（ＴＥＦ）を室温で滴下した
。室温で１５分間攪拌後−７０℃に冷却し、水素化硼素
ナトリウムｔ５１り（０，０４モル）を加えそして次に
乾燥メタノール１５ｍを加えた。この混合物を一７０℃
で２．５時間攪拌しそして水３００ｄ中の６５−過酸化
水素３５−の冷溶液中に注入した。酢酸エチルで抽出し
た（３回）。合一した有機相を飽和炭酸水素す） ＩＪ
ウム浴液で洗い（３回）そして乾燥した（Ｍｇ８０４）
。真空下に溶媒を除夫すると９４８２（定量的）の標記
化合物が得られた。
分析用試料はシリカゲルでのフラッシュクロマドグ２フ
イーにより精製した（酢酸エチル／シクロヘキサン（２
：１）＋１ ＊ＮＥｔｇ ）。
イーにより精製した（酢酸エチル／シクロヘキサン（２
：１）＋１ ＊ＮＥｔｇ ）。
〔α］、＝−６．６°（ｏ＝１α４、メタノール中）Ｈ
−ＭＭＲ（ＣＤＣＬＳ ｇ ２７０ ＭＨｚ ）コＪ＝
７：ｉ５および７４０（それぞれｍ、全部で１０Ｈ）、
４．２１ （ｍ＊ＩＨ）、４．０（ｍ、ＩＨ）、＆５Ｄ
ｍ、２Ｈ）、２．４０（ｍ、２Ｈ）、１７〇−１４０お
よびｔｏ５（６個のｍ、全部で２０Ｈ）実施例 ４ 第三ブチル（３Ｒ，５Ｂ）−６−（第三ブチルジフェニ
ルシリルオキシ） −５，５−０−インプロピリデン−
３９５−ジヒドロ午シヘキサノエート（式実施例３の化
合物（粗生成物） ６．８８９（０，０１５モル）ヲア
七トン２００ｄ／２，２−ジメトキシプロ／々ン２．７
５−中に溶解させ、これに室温で２５（１１９のｐ−）
ルエンスルホン酸を加えた。菫温で２時間後トリエチル
アミン４−を加えそして真空下に溶媒を除夫した。残留
物をエーテルと水との間で分配した。水相をエーテルで
１回抽出した。合一した有機相を炭酸水素ナトリウム溶
液で洗い、乾燥（Ｍｇ５Ｏ４） した。真空下に溶媒を
除去しそし゛Ｃシリカゲル上フラッシュクロマトグラフ
ィー（シクロヘキサン／酢酸エチル（５：１））すると
５．：ｌ（０，０１０モル、７０チ）の標記化合物が得
られた。
−ＭＭＲ（ＣＤＣＬＳ ｇ ２７０ ＭＨｚ ）コＪ＝
７：ｉ５および７４０（それぞれｍ、全部で１０Ｈ）、
４．２１ （ｍ＊ＩＨ）、４．０（ｍ、ＩＨ）、＆５Ｄ
ｍ、２Ｈ）、２．４０（ｍ、２Ｈ）、１７〇−１４０お
よびｔｏ５（６個のｍ、全部で２０Ｈ）実施例 ４ 第三ブチル（３Ｒ，５Ｂ）−６−（第三ブチルジフェニ
ルシリルオキシ） −５，５−０−インプロピリデン−
３９５−ジヒドロ午シヘキサノエート（式実施例３の化
合物（粗生成物） ６．８８９（０，０１５モル）ヲア
七トン２００ｄ／２，２−ジメトキシプロ／々ン２．７
５−中に溶解させ、これに室温で２５（１１９のｐ−）
ルエンスルホン酸を加えた。菫温で２時間後トリエチル
アミン４−を加えそして真空下に溶媒を除夫した。残留
物をエーテルと水との間で分配した。水相をエーテルで
１回抽出した。合一した有機相を炭酸水素ナトリウム溶
液で洗い、乾燥（Ｍｇ５Ｏ４） した。真空下に溶媒を
除去しそし゛Ｃシリカゲル上フラッシュクロマトグラフ
ィー（シクロヘキサン／酢酸エチル（５：１））すると
５．：ｌ（０，０１０モル、７０チ）の標記化合物が得
られた。
〔α〕。＝−４，０°（ｏ＝２４．６、メタノール中）
Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ 、 ＣＤＣ１，ｓ ） ：
δ＝Ｚ２０および７．４０（それぞれｍ、全部で１ ｏ
ｎ）、４．２５ （ｍ ｔ ｉ Ｈ）、４．００（ｍ、
ＩＨ）、５．７０（ａａ、ＩＨ）、３．５２（ａａ。
Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ 、 ＣＤＣ１，ｓ ） ：
δ＝Ｚ２０および７．４０（それぞれｍ、全部で１ ｏ
ｎ）、４．２５ （ｍ ｔ ｉ Ｈ）、４．００（ｍ、
ＩＨ）、５．７０（ａａ、ＩＨ）、３．５２（ａａ。
１１）、２．４５（ｄａ、ＩＨ）、２．３０（ｄｄ、Ｉ
Ｈ）、１７０（ｄｔ、ＩＨ）、１５０−１００（異なる
ｍ。
Ｈ）、１７０（ｄｔ、ＩＨ）、１５０−１００（異なる
ｍ。
全部で２５Ｈ）
実施例 ５
第三ブチル（３Ｒ，５Ｂ ） −（Ｓ−ヒドロキシ−５
，５−〇−インゾロビリデンー３，５−ジヒドロキシヘ
キサノエート（式１ｆｆ） ＴＨＦ ２０−中の実施例４の化合物２．４９９（５ミ
リモル）の溶液に０℃で１８９２（６ミリモル）のテト
ラブチルアンモニウムフルオライド三水化物を加えた。
，５−〇−インゾロビリデンー３，５−ジヒドロキシヘ
キサノエート（式１ｆｆ） ＴＨＦ ２０−中の実施例４の化合物２．４９９（５ミ
リモル）の溶液に０℃で１８９２（６ミリモル）のテト
ラブチルアンモニウムフルオライド三水化物を加えた。
０℃で６時間後エーテル１００ＷＩｔで希釈しそしてこ
の溶液を飽和塩化ナトリウム溶ｇ１００−で洗った。水
相をエーテルで１回再抽出しそして合一した有機相を乾
燥（Ｍｇ５Ｏ４） した。
の溶液を飽和塩化ナトリウム溶ｇ１００−で洗った。水
相をエーテルで１回再抽出しそして合一した有機相を乾
燥（Ｍｇ５Ｏ４） した。
溶媒を真空下に除去しそして残留物をシリカゲル上フラ
ッシュクロマ１グラフイーした（シクロヘキサン／酢酸
エチル（１：１））。［量１．０４ｇ（４，０ミリモル
、８０％） 〔α：＋Ｄ＝−３．７°（ａ＝１４．９、メタノール中
）Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｄ、 ２ ｙ ＯＭＨｚ
） ：δ＝４．６１（ｔ、ＩＨ）、４．２０（ｍ、ｌＨ
）、３．８８（ｍ、ＩＨ）、３．４０−３．２０（ｍ、
２Ｈ）、２．３８（ｄｄ、ＩＨ）、２．２２（ｄｄ、Ｉ
Ｈ）、１５５（ｄｔ、、１ａ）、ｔ４０（ｓ、１２Ｈ）
、ｔ ２５ （ｓ ｔ５Ｈ）、１１５（ｍ、１ａ） ＭＳ ： ０１５Ｈ２４０５，２６１（Ｍ＋Ｈ” ）実
施例 ６ 第三ブチル（３Ｒ，５Ｓ）−６−オキソ−３，５−０−
イソプロピリデン−３，５−’）ヒドロキシヘキサノエ
ート（式Ｍ） ジクロロメタン１〇−中のオキサリルクロライド０．２
５５ｄｌＣ２，７５ミリモル）の溶液に一７８℃でα４
５９Ｃ５，５０ミリモル）のジメチルスルホキシドを滴
下しそしてこの温度で５分間攪拌した。次に実施例５の
化合物０．６５２（２，５ミｌＪモル）を滴下した。５
分間攪拌後トリエチルアミン１．７０ｄを添加し、反応
混合物を２時間内で室温まで上昇させた。後処理するに
は反応混合物を水に注入し、そしてそれぞれ５０−ずつ
のエーテルを用いて３１ｇＩ振盪抽出した。合一した有
、機抽出液をＭｇ８０４で乾燥し蒸発させた。残留する
油状物から高真空下に揮発性成分を除失しそして直ちに
次ｆ） 反応に用いた。Ｒ，（シクロヘキサン／酢酸エ
チル（１：１））”０．２４゜ 実施例 ７ ｇ−６８−２−（４−（４−フルオロフェニル）−２−
（１−メチルエチル）−６−フェニルピリジン−３−イ
ル）−エチニル−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，６−
テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン（式■） 工程ａ：（式Ｘｔ） ＴＨＦ １０ ｄ中の０．２６９（２，５ミリモル）の
ジイソプロピルアミンの溶液にヘキサン中のｎ−ブチル
リチウムの１６Ｍ溶液１６ｍ（２，５ミリモル）を０℃
で滴下し、そして１５分間この温度で攪拌した。この溶
液にＴＨＦ ５−中のジエチル４−（４−フルオロフェ
ニル）−２−（１−メチルエチル）−６−フェニルピリ
ジン−３−イルメチルホスホネート〔式ＸＶＳ適当なブ
ロマイドをトルエン中でトリエチルホスファイトと８時
間加熱しそしてクロマトグラフィー精Ｉｎ（シクロヘキ
サン／酢酸エチル（２：１）、シリカゲル）することに
より調１）ｔｌｏｇ（２，５ミリモル）を滴下した。生
成する深緑色の反応溶液を０℃で１時間攪拌し、実施例
乙の粗生成物α６５ｇを加えそして攪拌下に５時間内で
室温となした。後処理するにはこの混合物を水１００ｍ
に加えそしてエーテル１００１Ｒｔずつを用いて３回抽
出した。合一した有機抽出液を飽和食塩溶液で洗い−、
乾燥（ＭｇＳＯ４）しそして蒸発させた。シリカゲルで
のフラッシュクロマトグラフィーにより精製（シクロヘ
キサン／酢酸エチル（３：１）−ＭチＮＥｔｇ ）。
ッシュクロマ１グラフイーした（シクロヘキサン／酢酸
エチル（１：１））。［量１．０４ｇ（４，０ミリモル
、８０％） 〔α：＋Ｄ＝−３．７°（ａ＝１４．９、メタノール中
）Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｄ、 ２ ｙ ＯＭＨｚ
） ：δ＝４．６１（ｔ、ＩＨ）、４．２０（ｍ、ｌＨ
）、３．８８（ｍ、ＩＨ）、３．４０−３．２０（ｍ、
２Ｈ）、２．３８（ｄｄ、ＩＨ）、２．２２（ｄｄ、Ｉ
Ｈ）、１５５（ｄｔ、、１ａ）、ｔ４０（ｓ、１２Ｈ）
、ｔ ２５ （ｓ ｔ５Ｈ）、１１５（ｍ、１ａ） ＭＳ ： ０１５Ｈ２４０５，２６１（Ｍ＋Ｈ” ）実
施例 ６ 第三ブチル（３Ｒ，５Ｓ）−６−オキソ−３，５−０−
イソプロピリデン−３，５−’）ヒドロキシヘキサノエ
ート（式Ｍ） ジクロロメタン１〇−中のオキサリルクロライド０．２
５５ｄｌＣ２，７５ミリモル）の溶液に一７８℃でα４
５９Ｃ５，５０ミリモル）のジメチルスルホキシドを滴
下しそしてこの温度で５分間攪拌した。次に実施例５の
化合物０．６５２（２，５ミｌＪモル）を滴下した。５
分間攪拌後トリエチルアミン１．７０ｄを添加し、反応
混合物を２時間内で室温まで上昇させた。後処理するに
は反応混合物を水に注入し、そしてそれぞれ５０−ずつ
のエーテルを用いて３１ｇＩ振盪抽出した。合一した有
、機抽出液をＭｇ８０４で乾燥し蒸発させた。残留する
油状物から高真空下に揮発性成分を除失しそして直ちに
次ｆ） 反応に用いた。Ｒ，（シクロヘキサン／酢酸エ
チル（１：１））”０．２４゜ 実施例 ７ ｇ−６８−２−（４−（４−フルオロフェニル）−２−
（１−メチルエチル）−６−フェニルピリジン−３−イ
ル）−エチニル−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，６−
テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン（式■） 工程ａ：（式Ｘｔ） ＴＨＦ １０ ｄ中の０．２６９（２，５ミリモル）の
ジイソプロピルアミンの溶液にヘキサン中のｎ−ブチル
リチウムの１６Ｍ溶液１６ｍ（２，５ミリモル）を０℃
で滴下し、そして１５分間この温度で攪拌した。この溶
液にＴＨＦ ５−中のジエチル４−（４−フルオロフェ
ニル）−２−（１−メチルエチル）−６−フェニルピリ
ジン−３−イルメチルホスホネート〔式ＸＶＳ適当なブ
ロマイドをトルエン中でトリエチルホスファイトと８時
間加熱しそしてクロマトグラフィー精Ｉｎ（シクロヘキ
サン／酢酸エチル（２：１）、シリカゲル）することに
より調１）ｔｌｏｇ（２，５ミリモル）を滴下した。生
成する深緑色の反応溶液を０℃で１時間攪拌し、実施例
乙の粗生成物α６５ｇを加えそして攪拌下に５時間内で
室温となした。後処理するにはこの混合物を水１００ｍ
に加えそしてエーテル１００１Ｒｔずつを用いて３回抽
出した。合一した有機抽出液を飽和食塩溶液で洗い−、
乾燥（ＭｇＳＯ４）しそして蒸発させた。シリカゲルで
のフラッシュクロマトグラフィーにより精製（シクロヘ
キサン／酢酸エチル（３：１）−ＭチＮＥｔｇ ）。
Ｈ−ＮｈｌＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ ＃ ２７０ ＭＨｚ
） ”δ＝０．９３（ｎｏ、２Ｈ）、ｔ２ｓ（ｓ、３Ｈ
＞、ｔ３１ （ｄ 、Ｊ＝７Ｈｚ 、＜ＳＨ）、ｔ４１
（ｓ、９Ｈ）、ｔ４５ｃＢ、３ｌ−１）、２．４８（ｍ
ｏ。
） ”δ＝０．９３（ｎｏ、２Ｈ）、ｔ２ｓ（ｓ、３Ｈ
＞、ｔ３１ （ｄ 、Ｊ＝７Ｈｚ 、＜ＳＨ）、ｔ４１
（ｓ、９Ｈ）、ｔ４５ｃＢ、３ｌ−１）、２．４８（ｍ
ｏ。
２Ｈ）、３．５２ （ｈ 、Ｊ＝７Ｈｚ 、 ＩＨ）、
４．３０（ｍｅ。
４．３０（ｍｅ。
１Ｈ）、４．４７（ｎｏ、ＩＨ）、５．３３ （ｄｄ
、 Ｊ ＝１６Ｈｚ 。
、 Ｊ ＝１６Ｈｚ 。
６Ｈｚ、ＩＨ）、６．５６（ｃ！５Ｊ＝１６ＨｚｔＩＨ
）、７．２５（ｍｅ、２Ｈ）、７．４０−７．５３ （
ｍ 、 ５ Ｈ）、７．６６（ｓ ＊ＩＨ）、８．１６
（ｍｅ 、 ２Ｈ） ｐｐｍＭＩＤ（ＤＣＩ） ：ｍ
／ｅ＝ｓ４ｓ（７＋Ｈ）工程ｂ ； 第三ブチルＥ −５Ｒ，５Ｂ −５−一ジヒドロキシ−
７−（４−（４−フルオロフェニル）−２−（１−メチ
ルエチル）−６−フエニルヒ、ｖ Ｑノー５−イル）−
ヘプト−６−エノエート（式Ｉ）工程７ａの化合物１０
７岬（００丁９ミリモル）をＴＨＦ１〇−中に溶解させ
そして２Ｎ ＨＣｌ ５−を加えた。
）、７．２５（ｍｅ、２Ｈ）、７．４０−７．５３ （
ｍ 、 ５ Ｈ）、７．６６（ｓ ＊ＩＨ）、８．１６
（ｍｅ 、 ２Ｈ） ｐｐｍＭＩＤ（ＤＣＩ） ：ｍ
／ｅ＝ｓ４ｓ（７＋Ｈ）工程ｂ ； 第三ブチルＥ −５Ｒ，５Ｂ −５−一ジヒドロキシ−
７−（４−（４−フルオロフェニル）−２−（１−メチ
ルエチル）−６−フエニルヒ、ｖ Ｑノー５−イル）−
ヘプト−６−エノエート（式Ｉ）工程７ａの化合物１０
７岬（００丁９ミリモル）をＴＨＦ１〇−中に溶解させ
そして２Ｎ ＨＣｌ ５−を加えた。
室温で１５時間後飽和炭酸水素ナトリウム溶液で中和し
そしてエーテルで抽出した。合一したエーテル相を飽和
塩化ナトリウム溶液で１回洗い、乾燥した（Ｍｇ８０４
）。溶媒を真空下に除去しそしてジイソプロピルエーテ
ル／ｎ−ペンタンから結晶化させると７８９（α１５ミ
リモルＳ７９％）が得られた。
そしてエーテルで抽出した。合一したエーテル相を飽和
塩化ナトリウム溶液で１回洗い、乾燥した（Ｍｇ８０４
）。溶媒を真空下に除去しそしてジイソプロピルエーテ
ル／ｎ−ペンタンから結晶化させると７８９（α１５ミ
リモルＳ７９％）が得られた。
１ａ−ＮＭＲＣｃＤｃｔｓ ； ２７０ ＭＨｚ ）
：δ＝ｔｓ６（ａ、ＪＰ７Ｈｚ、６Ｈ）、ｔ４５−１５
５（ｍ、１１Ｈ）、０５（ｓ、ＩＨ）、２．３７（ｄ、
、Ｔ＝２ＨｚｔＩＨ）、３．３０（ｂｒｓｙＩＨ）、３
．４６（ｈ、Ｊ＝７Ｈ２，ＩＨ）％３．７３（ｂｒｓｙ
ｌＨ）、４ｊｉ（ｍｅ、ＩＨ）、４．４１ （ｎｏ ＊
ＩＨ）、５．５８（ｄａ、Ｊ＝１６Ｈｚ、７Ｈｚ、ＩＨ
）、６．６２（ｄｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ１２Ｈｚ、ＩＨ）、
７．０８（ｍｅ、２）り、７．２５−７．４９ （ｍ
、 ６ Ｈ）、８．１０（ｍｅ、２Ｈ） Ｍｓ： （ＦＡＢ） ：ｍ／ｓ＝５０６（Ｍｅ＋Ｈ）工
程０： に−６８−２−（４−（４−フルオロフェニル）−２−
（１−メチルエチル）−６−フェニルピリジン−５−イ
ル）工・戸ニルー４Ｒ−ヒト°ロキシ−３，４，５，６
−テト２ヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−オン（式■） ジクロロメタン２ｓｄおよびトリフルオロ酢酸α１０ｗ
ｔ（α５９ミリモル）中の工程すの化合物４１ｒｑ（α
０８ミリモル）の溶液を室温で攪拌し、その間反応の進
行を薄層り冒マドグラフィーにより検査した（シリカゲ
ル、シクロヘキサン／酢酸エチル（２：１））。８時間
後には何ら出発物質の存在は認められない０この反応溶
液を自相ＮａＡＣＯｓ溶液に加え、エーテルで数回抽出
した。合一した有機抽出液を水洗し、乾燥（Ｍｇ８０４
） １．そして蒸発させた。すべての特徴が真正物質
と一致する実施例７の標記化合物４０１Ｆ（１００％）
が残る（西ドイツ特許出願ｐ４８２３，０４５．３号参
照）。
：δ＝ｔｓ６（ａ、ＪＰ７Ｈｚ、６Ｈ）、ｔ４５−１５
５（ｍ、１１Ｈ）、０５（ｓ、ＩＨ）、２．３７（ｄ、
、Ｔ＝２ＨｚｔＩＨ）、３．３０（ｂｒｓｙＩＨ）、３
．４６（ｈ、Ｊ＝７Ｈ２，ＩＨ）％３．７３（ｂｒｓｙ
ｌＨ）、４ｊｉ（ｍｅ、ＩＨ）、４．４１ （ｎｏ ＊
ＩＨ）、５．５８（ｄａ、Ｊ＝１６Ｈｚ、７Ｈｚ、ＩＨ
）、６．６２（ｄｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ１２Ｈｚ、ＩＨ）、
７．０８（ｍｅ、２）り、７．２５−７．４９ （ｍ
、 ６ Ｈ）、８．１０（ｍｅ、２Ｈ） Ｍｓ： （ＦＡＢ） ：ｍ／ｓ＝５０６（Ｍｅ＋Ｈ）工
程０： に−６８−２−（４−（４−フルオロフェニル）−２−
（１−メチルエチル）−６−フェニルピリジン−５−イ
ル）工・戸ニルー４Ｒ−ヒト°ロキシ−３，４，５，６
−テト２ヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−オン（式■） ジクロロメタン２ｓｄおよびトリフルオロ酢酸α１０ｗ
ｔ（α５９ミリモル）中の工程すの化合物４１ｒｑ（α
０８ミリモル）の溶液を室温で攪拌し、その間反応の進
行を薄層り冒マドグラフィーにより検査した（シリカゲ
ル、シクロヘキサン／酢酸エチル（２：１））。８時間
後には何ら出発物質の存在は認められない０この反応溶
液を自相ＮａＡＣＯｓ溶液に加え、エーテルで数回抽出
した。合一した有機抽出液を水洗し、乾燥（Ｍｇ８０４
） １．そして蒸発させた。すべての特徴が真正物質
と一致する実施例７の標記化合物４０１Ｆ（１００％）
が残る（西ドイツ特許出願ｐ４８２３，０４５．３号参
照）。
工程ｄ ：
工４ｂのエステルから相当するナトリウム塩が得られる
。
。
ナトリウムＥ −ＳＲ，５Ｂ −５，５−ジヒドロキシ
ー７−（４−（４−フルオロフェニル） −２−（１−
メチルエチル）−６−フェニルピリシン−６−イル）ヘ
プト−６−ニノエート エ１ｊｂのエステル１ミリモルをエタノール／水中の１
ミリモルの水酸化ナトリウム溶液を用い室温で加水分解
した。溶媒を真空下に除去し残留物をトルエンと数回共
線させた。残留物をエーテル／ヘキサンで４砕した。
ー７−（４−（４−フルオロフェニル） −２−（１−
メチルエチル）−６−フェニルピリシン−６−イル）ヘ
プト−６−ニノエート エ１ｊｂのエステル１ミリモルをエタノール／水中の１
ミリモルの水酸化ナトリウム溶液を用い室温で加水分解
した。溶媒を真空下に除去し残留物をトルエンと数回共
線させた。残留物をエーテル／ヘキサンで４砕した。
同様の方法で下記の式Ｉまたは■を有する化合物が製造
されうる。
されうる。
ナトリウムＫ −３Ｒ，５８−９，９−ジ（４−フルオ
ロフェニル） −３，５−ジヒドロキシ−８−イソプロ
ピル−６，８−ノナジェノエートナトリウムｌｌｅ −
３Ｒ，５８−９，９−ジ（４−フルオロ−３−メチルフ
ェニル）”３ｙ５−シヒ）’ロキシー８−イソプロピル
−６，８−７ナジエノエート ナトリウムＥ −３Ｒ，５Ｂ −９，９−ジ（４−フル
オロ−２−メチルフェニル） −５，５−ジヒドロキシ
−８−イソプロピル−６，８−ノナジェノエート ナトリウムｗ −３Ｒ，ＳＲ−９，９−Ｊ）（４−フル
オロ−３−メチルフェニル） −！１１５−ジヒドロキ
シー８−イソプロピル−８−ノナノエートナトリウムＲ
−３１，５Ｒ−９，９−ジ（４−フルオロフェニル）
−３，５−ｄヒドロキシ−８−イソゾロビル−８−ノネ
ノエート ｍ−６ｓ−（２−（４−（４−フルオロフェニル）−２
−（１−メチルエチル）−６−フェニル−ピリシン−３
−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，
６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン Ｅ−６８−＜２−（２，６−ビス（１−メチルエチル）
−４−（４−フルオロフェニル）−ピリジン−３−イル
）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，６−テ
トラヒドロ−２Ｈ−ピタンー２−オン Ｅ−６８−（２−（６−（１，ｌ−ジメチルエチル）−
４−（４−フルオロフェニル）−２−（１−メチルエチ
ル）ピリジン−３−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキ
シ−５，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２
−オン Ｅ−７５８−（２−（４，６−ビス（４−フルオロフェ
ニル）−２−（１−メチルエチル＞ −ピリシン−３−
イル）エチニル）−４１−ヒドロキシ−３，４，５，６
−テト２ヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−オン Ｅ−６８−（２−（２−（４−フルオロフェニル）−４
−（１−メチルエチル）−６−フェニル−ピリジン−３
−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，
６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン Ｅ−６Ｂ−（２−＜６− （２，５−ジメチルフェニル
）−４−（４−フルオロフェニル）−２−（１−メチル
エチル）ピリジン−３−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒド
ロキシ−３，４，５，６−テト２ヒドロ−２Ｈ−ピラン
−２−オン ６Ｂ−（２−（２−エチル−４−（４−フルオロフェニ
ル）−６−フエエルピリジンー３−イル）−エチル）−
４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５゜６−チトラヒドロー２
Ｈ−ピラン−２−オンＥ−６８−（２−（２−シクロヘ
キシル−４−（４−フルオはフェニル）−５−（１−メ
チルエチル）ピリジン−３−イル）エチニル）−４Ｒ−
ヒドロキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ランー２−オン Ｉｎ−６８−（２−（４−（４−フルオロフェニル−）
−２−（１−メチルエチル）−６−フエニルピリミジン
−３−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，
５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン Ｅ −６８−（２−（２，６−ビス（１−メチルエチル
）−４−（４−フルオロフェニル）ピリミシン−３−イ
ル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−５，４，５，６−
テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン Ｅ−６８−（２−（６−シクロヘキジルー４−（４−フ
ルオロフェニル）−２−（１−メチルエチル）ピリミジ
ン−３−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン ｇ−６８−（２−（４，６−ビス（４−フルオロフェニ
ル）−２−（１−メチルエチル）ピリミシン−３−イル
）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，６−テ
トラヒドロ−２Ｈ−ビランー２−オン。
ロフェニル） −３，５−ジヒドロキシ−８−イソプロ
ピル−６，８−ノナジェノエートナトリウムｌｌｅ −
３Ｒ，５８−９，９−ジ（４−フルオロ−３−メチルフ
ェニル）”３ｙ５−シヒ）’ロキシー８−イソプロピル
−６，８−７ナジエノエート ナトリウムＥ −３Ｒ，５Ｂ −９，９−ジ（４−フル
オロ−２−メチルフェニル） −５，５−ジヒドロキシ
−８−イソプロピル−６，８−ノナジェノエート ナトリウムｗ −３Ｒ，ＳＲ−９，９−Ｊ）（４−フル
オロ−３−メチルフェニル） −！１１５−ジヒドロキ
シー８−イソプロピル−８−ノナノエートナトリウムＲ
−３１，５Ｒ−９，９−ジ（４−フルオロフェニル）
−３，５−ｄヒドロキシ−８−イソゾロビル−８−ノネ
ノエート ｍ−６ｓ−（２−（４−（４−フルオロフェニル）−２
−（１−メチルエチル）−６−フェニル−ピリシン−３
−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，
６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン Ｅ−６８−＜２−（２，６−ビス（１−メチルエチル）
−４−（４−フルオロフェニル）−ピリジン−３−イル
）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，６−テ
トラヒドロ−２Ｈ−ピタンー２−オン Ｅ−６８−（２−（６−（１，ｌ−ジメチルエチル）−
４−（４−フルオロフェニル）−２−（１−メチルエチ
ル）ピリジン−３−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキ
シ−５，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２
−オン Ｅ−７５８−（２−（４，６−ビス（４−フルオロフェ
ニル）−２−（１−メチルエチル＞ −ピリシン−３−
イル）エチニル）−４１−ヒドロキシ−３，４，５，６
−テト２ヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−オン Ｅ−６８−（２−（２−（４−フルオロフェニル）−４
−（１−メチルエチル）−６−フェニル−ピリジン−３
−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，
６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン Ｅ−６Ｂ−（２−＜６− （２，５−ジメチルフェニル
）−４−（４−フルオロフェニル）−２−（１−メチル
エチル）ピリジン−３−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒド
ロキシ−３，４，５，６−テト２ヒドロ−２Ｈ−ピラン
−２−オン ６Ｂ−（２−（２−エチル−４−（４−フルオロフェニ
ル）−６−フエエルピリジンー３−イル）−エチル）−
４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５゜６−チトラヒドロー２
Ｈ−ピラン−２−オンＥ−６８−（２−（２−シクロヘ
キシル−４−（４−フルオはフェニル）−５−（１−メ
チルエチル）ピリジン−３−イル）エチニル）−４Ｒ−
ヒドロキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ランー２−オン Ｉｎ−６８−（２−（４−（４−フルオロフェニル−）
−２−（１−メチルエチル）−６−フエニルピリミジン
−３−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，
５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン Ｅ −６８−（２−（２，６−ビス（１−メチルエチル
）−４−（４−フルオロフェニル）ピリミシン−３−イ
ル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−５，４，５，６−
テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン Ｅ−６８−（２−（６−シクロヘキジルー４−（４−フ
ルオロフェニル）−２−（１−メチルエチル）ピリミジ
ン−３−イル）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２−オン ｇ−６８−（２−（４，６−ビス（４−フルオロフェニ
ル）−２−（１−メチルエチル）ピリミシン−３−イル
）エチニル）−４Ｒ−ヒドロキシ−３，４，５，６−テ
トラヒドロ−２Ｈ−ビランー２−オン。
特許出願人 ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト外
２名
２名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ I （３，５−ジヒドロキシカルボン酸誘導体）または式I
I ▲数式、化学式、表等があります▼II （β−ヒドロキシラクトン）を有する光学活性３−デメ
チルメバロン酸誘導体 〔ここで上式 I およびIIにおいて、 Ｙは−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−基で
あり、Ｒは式α ▲数式、化学式、表等があります▼α （式中、 Ｚは式−ＣＨを有する基または窒素原子であり、 Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５は相互に独立して水素であ
るか、６個までの炭素原子を有し、場合により末端の炭
素で３〜６個の炭素原子を有する飽和または不飽和の環
状炭化水素基によつて置換されていてもよい直鎖または
分枝状炭化水素基であるか、５〜７個の炭素原子を有す
る環状の飽和または２個まで不飽和である炭化水素基で
あるか、あるいはフェニル、フリル、チエニルおよびピ
リジリルからなる群から選択され、場合によりその核が
ハロゲン、トリフルオロメチル、それぞれ６個までの炭
素原子を有するアルキルまたはアルケニル、ヒドロキシ
ル、１〜６個の炭素原子を有するアルコキシ、カルボキ
シル、またはアルコキシ部分中に１〜６個の炭素原子を
有するカルボアルコキシから選択される同一または異な
る１〜３個の置換基を有していてもよい芳香族基である
）を有する基を意味するか、 または式β ▲数式、化学式、表等があります▼β （式中、 Ａ−Ｂは−ＣＨ−ＣＨ−または−Ｃ＝Ｃ−基であり、Ｒ
＾６およびＲ＾７は同一または相異なつており、そして
２０個までの炭素原子を有し、１〜６個の炭素原子を有
するアルコキシ基によつてまたは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾９は１〜８個の炭素原子を有するアルキルで
ある）によつて置換されていてもよい飽和または不飽和
アルキル基であるか、３〜７個の炭素原子を有するシク
ロアルキル基であるか、芳香核がハロゲン、それぞれ１
〜６個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ、
３〜７個の炭素原子を有するシクロアルキルあるいは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾９は１〜８個の炭素原子を有するアルキルで
ある）の１〜３個によつて置換されていてもよいフェニ
ル、チエリル、フリルまたはナフチル基であるか、ある
いは核が１〜４個の炭素原子を有するアルキルの１〜３
個で置換されていてもよいピリジリル基であり、Ｒ＾８
は８個までの炭素原子を有する飽和または不砲和アルキ
ル基であるか、核がハロゲンあるいはそれぞれ１〜４個
の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシの１〜３
個で置換されていてもよいベンジル基であるか、芳香核
がハロゲンあるいはそれぞれ１〜４個の炭素原子を有す
るアルキルまたはアルコキシの１〜３個で置換されてい
てもよいフェニル、チエリル、フリルまたはナフチル基
であるか、あるいは３〜７個の炭素原子を有するシクロ
アルキル基である）を有する基を意味し、そして Ｒ＾１は水素、金属陽イオンまたは１〜８個の炭素原子
を有するアルキルである〕を製造するにあたり、 （１）式VI ▲数式、化学式、表等があります▼VI （式中Ｒ＾１はＣ＿１−Ｃ＿８−アルキルを意味する）
を有するジオールエステルにそれ自体知ら れた方法で慣用の保護基を導入することに より第一アルコール基が保護された式VII ▲数式、化学式、表等があります▼VII （式中Ｒ＾１はＣ＿１−Ｃ＿８−アルキルを意味しそし
てＲ＾２は慣用のアルコール保護基である）を有する化
合物に変換し、 （２）得られる式VIIの化合物またはその対応するアル
コラードを第三ブチルアセテートま たはその適当な等価物と慣用法により縮合 させて式VIII ▲数式、化学式、表等があります▼VIII （式中Ｒ＾１およびＲ＾２は式VIIに記載される意味を
有する）を有する化合物に変換し、 （３）得られるヒドロキシケトエステルVIIIをそれ自体
知られた方法で還元して式IX ▲数式、化学式、表等があります▼IX （式中Ｒ＾１およびＲ＾２は式VIIに記載される意味を
有する）を有する１，３−ジオールエステルとなし、 （４）得られる式IXの１，３−ジオールエステルに１，
３−ジオールに適する保護基を導入して式Ｘ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｘ （式中Ｍは１，３−ジオールに適する保護基でありそし
てＲ＾１およびＲ＾２は式VIIに記載される意味を有す
る）を有する化合物に変換 し、 （５）得られる式Ｘを有する化合物から慣用の方法に従
い保護基Ｒ＾２を除去して式III ▲数式、化学式、表等があります▼III （式中Ｍは１，３−ジオールに適する保護基でありそし
てＲ＾１はＣ＿１−Ｃ＿８−アルキル基を意味する）を
有する化合物に変換し、 （６）得られる式IIIの化合物を式Ｘ I ▲数式、化学式、表等があります▼Ｘ I （式 I 中のＹ＝ＣＨ＝ＣＨ） を有するオレフィン誘導体に変換し、そして （７）得られる式Ｘ I の化合物を加水分解して式 I （
式中Ｙは−ＣＨ＝ＣＨ−基でありそしてＲ＾１はＣ＿１
−Ｃ＿８−アルキルを表わす）を有する化合物となし、 （８）得られる式 I の化合物（式中Ｙは−ＣＨ＝ＣＨ
−基を表わす）を場合により水素添加して式 I （式中Ｙは−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−基を表わす）を
有する化合物となし、 （９）得られる式 I の化合物を場合により酸（Ｒ＾１
＝Ｈ）あるいは塩（Ｒ＾１＝金属陽イオン）に変換し、
そして （１０）得られる式 I の化合物を場合により式IIの化
合物に変換する、 ことからなる方法。 ２）式VII ▲数式、化学式、表等があります▼VII （式中Ｍは式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、あるいは▲数式
、化学式、表等があります▼を有する基である）を有す
るアルデヒド。 ３）式III（式中Ｍは式VIIに記載される意味を有する）
を有するアルコールを酸化することからなる式VIIのア
ルデヒドの製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3741509.3 | 1987-12-08 | ||
| DE19873741509 DE3741509A1 (de) | 1987-12-08 | 1987-12-08 | Verfahren zur herstellung optisch aktiver 3-desmethylmevalonsaeurederivate sowie zwischenprodukte |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7318777A Division JP2573819B2 (ja) | 1987-12-08 | 1995-12-07 | アルデヒドおよびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01199945A true JPH01199945A (ja) | 1989-08-11 |
| JP2511510B2 JP2511510B2 (ja) | 1996-06-26 |
Family
ID=6342094
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63307972A Expired - Lifetime JP2511510B2 (ja) | 1987-12-08 | 1988-12-07 | 光学活性３―デメチルメバロン酸誘導体の製法 |
| JP7318777A Expired - Lifetime JP2573819B2 (ja) | 1987-12-08 | 1995-12-07 | アルデヒドおよびその製法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7318777A Expired - Lifetime JP2573819B2 (ja) | 1987-12-08 | 1995-12-07 | アルデヒドおよびその製法 |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4970313A (ja) |
| EP (1) | EP0319847B1 (ja) |
| JP (2) | JP2511510B2 (ja) |
| KR (1) | KR970008314B1 (ja) |
| AT (1) | ATE92045T1 (ja) |
| AU (2) | AU616224B2 (ja) |
| CA (1) | CA1340105C (ja) |
| DE (2) | DE3741509A1 (ja) |
| DK (1) | DK170616B1 (ja) |
| ES (1) | ES2058222T3 (ja) |
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| HU (2) | HU202856B (ja) |
| IE (1) | IE62540B1 (ja) |
| IL (1) | IL88612A (ja) |
| NO (1) | NO174201C (ja) |
| NZ (1) | NZ227210A (ja) |
| PT (1) | PT89163B (ja) |
| ZA (1) | ZA889120B (ja) |
Cited By (3)
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