JPH07330656A - タキソール合成中間体及びその製造法 - Google Patents
タキソール合成中間体及びその製造法Info
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- JPH07330656A JPH07330656A JP6122107A JP12210794A JPH07330656A JP H07330656 A JPH07330656 A JP H07330656A JP 6122107 A JP6122107 A JP 6122107A JP 12210794 A JP12210794 A JP 12210794A JP H07330656 A JPH07330656 A JP H07330656A
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- dichloromethane
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 抗腫瘍活性を有するタキソールの合成中間体
である次の化合物。 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ4 及びＲ9 はヒドロキシ基の保護基を
表す） 【効果】 タキソールをより少ない工程で製造すること
ができる。
である次の化合物。 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ4 及びＲ9 はヒドロキシ基の保護基を
表す） 【効果】 タキソールをより少ない工程で製造すること
ができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、抗腫瘍活性物質として
有望視されている後記タキソール（２）の合成中間体お
よびその製造法に関する。
有望視されている後記タキソール（２）の合成中間体お
よびその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】タキ
ソール（２）は、西洋いちいの一種から１９７１年に単
離され、構造決定された天然有機化合物である。タキソ
ールは米国国立ガンセンターでの臨床試験の結果から強
い抗腫瘍活性を示すことが明らかにされ、有望な抗腫瘍
剤として注目されている。しかし、近年の世界的な森林
保護の高揚により、西洋いちいからの採取が困難とな
り、化学合成による供給が待たれている。
ソール（２）は、西洋いちいの一種から１９７１年に単
離され、構造決定された天然有機化合物である。タキソ
ールは米国国立ガンセンターでの臨床試験の結果から強
い抗腫瘍活性を示すことが明らかにされ、有望な抗腫瘍
剤として注目されている。しかし、近年の世界的な森林
保護の高揚により、西洋いちいからの採取が困難とな
り、化学合成による供給が待たれている。
【０００３】ごく最近、米国の二つのグループによりそ
れぞれ全合成が達成された〔J. Am.chem. Soc. 116, 15
97-1600(1994), Nature 367, 630-634(1994) 〕が、総
収率が低いこと及び多数の反応工程を経るため、その合
成の繁雑さが問題となっており、より簡便な合成法の開
発が望まれている。また、類縁体の合成を容易にするた
めにも、より柔軟性に富む合成法の確立が急務とされて
いる。
れぞれ全合成が達成された〔J. Am.chem. Soc. 116, 15
97-1600(1994), Nature 367, 630-634(1994) 〕が、総
収率が低いこと及び多数の反応工程を経るため、その合
成の繁雑さが問題となっており、より簡便な合成法の開
発が望まれている。また、類縁体の合成を容易にするた
めにも、より柔軟性に富む合成法の確立が急務とされて
いる。
【０００４】
【化５】
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、不斉合成の手
段によってタキソール合成中間体になりうるシクロオク
テノン誘導体（１）を合成することに成功し、発明を完
成した。
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、不斉合成の手
段によってタキソール合成中間体になりうるシクロオク
テノン誘導体（１）を合成することに成功し、発明を完
成した。
【０００６】
【化６】
【０００７】（式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は水酸基の保護基を表
す）ここにＲ1 〜Ｒ4 が表す水酸基の保護基としては、
ホルミル、アセチル、メトキシアセチルのような低級ア
ルコキシ基が置換していてもよいアルカノイル基；ベン
ゾイル、４−クロロベンゾイル、４−トルオイルのよう
なハロゲン原子または低級アルキル基が置換していても
よいベンゾイル基：テトラヒドロピラン−２−イル、４
−メトキシテトラヒドロピラン−２−イル、テトラヒド
ロチオピラン−２−イルのような低級アルコキシ基が置
換していてもよいテトラヒドロピラニル基又はテトラヒ
ドロチオピラニル基；トリメチルシリル、トリエチルシ
リル、ｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリ低級アル
キルシリル基；ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブ
チルシリルのような１又は２個のフェニル基が置換して
いてもよい低級アルキルシリル基；メトキシメチル、
１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、２−メトキシ
エトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチルのよ
うな低級アルコキシ置換低級アルキル；ベンジル、４−
メチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−シアノベ
ンジル、トリフェニルメチルのような低級アルキル、低
級アルコキシ、ハロゲン又はシアノがベンゼン環に置換
していてもよいアラルキル基；メチルチオメチルのよう
な低級アルキルチオメチル基が挙げられる。
す）ここにＲ1 〜Ｒ4 が表す水酸基の保護基としては、
ホルミル、アセチル、メトキシアセチルのような低級ア
ルコキシ基が置換していてもよいアルカノイル基；ベン
ゾイル、４−クロロベンゾイル、４−トルオイルのよう
なハロゲン原子または低級アルキル基が置換していても
よいベンゾイル基：テトラヒドロピラン−２−イル、４
−メトキシテトラヒドロピラン−２−イル、テトラヒド
ロチオピラン−２−イルのような低級アルコキシ基が置
換していてもよいテトラヒドロピラニル基又はテトラヒ
ドロチオピラニル基；トリメチルシリル、トリエチルシ
リル、ｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリ低級アル
キルシリル基；ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブ
チルシリルのような１又は２個のフェニル基が置換して
いてもよい低級アルキルシリル基；メトキシメチル、
１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、２−メトキシ
エトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチルのよ
うな低級アルコキシ置換低級アルキル；ベンジル、４−
メチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−シアノベ
ンジル、トリフェニルメチルのような低級アルキル、低
級アルコキシ、ハロゲン又はシアノがベンゼン環に置換
していてもよいアラルキル基；メチルチオメチルのよう
な低級アルキルチオメチル基が挙げられる。
【０００８】本発明の一般式（１）で示されるシクロオ
クテノン誘導体は、以下に示す方法により製造される。
クテノン誘導体は、以下に示す方法により製造される。
【０００９】
【化７】
【００１０】
【化８】
【００１１】（式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は前述と同じであり、
Ｒ5 、Ｒ9 、Ｒ11およびＲ12は水酸基の保護基を示し、
そのような保護基としては前記例示のものが挙げられ
る。Ｒ6、Ｒ7 、Ｒ8 およびＲ10は低級アルキル基を表
し、あるいはＲ6 とＲ7 は一緒になってエチレン基を形
成してもよい） 第１工程〔化合物（３）から化合物（４）を得る工程〕 ２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（３）の
水酸基を保護した後、酸化してアルデヒド（４）を得る
工程である。
Ｒ5 、Ｒ9 、Ｒ11およびＲ12は水酸基の保護基を示し、
そのような保護基としては前記例示のものが挙げられ
る。Ｒ6、Ｒ7 、Ｒ8 およびＲ10は低級アルキル基を表
し、あるいはＲ6 とＲ7 は一緒になってエチレン基を形
成してもよい） 第１工程〔化合物（３）から化合物（４）を得る工程〕 ２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（３）の
水酸基を保護した後、酸化してアルデヒド（４）を得る
工程である。
【００１２】保護の工程は、保護基がアシル基の場合に
は、一般式Ｒ5 −Ｘ又はＲ5 −Ｏ−Ｒ5 と化合物（３）
を、塩基存在下又は非存在下反応させる方法〔方法
１〕、又はＲ5 ＯＨと各種エステル化剤と化合物（３）
を触媒量の塩基存在下に反応させる方法〔方法２〕で行
うことができる。
は、一般式Ｒ5 −Ｘ又はＲ5 −Ｏ−Ｒ5 と化合物（３）
を、塩基存在下又は非存在下反応させる方法〔方法
１〕、又はＲ5 ＯＨと各種エステル化剤と化合物（３）
を触媒量の塩基存在下に反応させる方法〔方法２〕で行
うことができる。
【００１３】〔方法１〕において、Ｘは脱離基を示す
が、かかる脱離基とは、通常、求核残基として脱離する
基であれば特に限定はないが、好適には塩素、臭素のよ
うなハロゲン原子、アセトキシのようなアシルオキシ
基、シアノ基を挙げることができ、更に好適には、ハロ
ゲン原子、アシルオキシ基を示す。
が、かかる脱離基とは、通常、求核残基として脱離する
基であれば特に限定はないが、好適には塩素、臭素のよ
うなハロゲン原子、アセトキシのようなアシルオキシ
基、シアノ基を挙げることができ、更に好適には、ハロ
ゲン原子、アシルオキシ基を示す。
【００１４】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、
ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（te
rt−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのよう
な有機塩基類を挙げることができる。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、
ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（te
rt−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのよう
な有機塩基類を挙げることができる。
【００１５】なお、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピ
リジン、４−ピロリジノピリジンは、他の塩基と組み合
わせて、触媒量を用いることもでき、また反応を効果的
に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムク
ロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第
４級アンモニウム塩類、ジベンゾ−１８−クラウン−６
のようなクラウンエーテル類等を添加することもでき
る。
リジン、４−ピロリジノピリジンは、他の塩基と組み合
わせて、触媒量を用いることもでき、また反応を効果的
に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムク
ロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第
４級アンモニウム塩類、ジベンゾ−１８−クラウン−６
のようなクラウンエーテル類等を添加することもでき
る。
【００１６】反応温度は、通常、−２０℃乃至使用する
溶媒の還流温度で行われるが、好適には、０℃乃至使用
する溶媒の還流温度である。
溶媒の還流温度で行われるが、好適には、０℃乃至使用
する溶媒の還流温度である。
【００１７】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
使用される塩基又は使用される溶媒の種類によって異な
るが、通常、１０分間乃至３日間であり、好適には、１
時間乃至６時間である。
使用される塩基又は使用される溶媒の種類によって異な
るが、通常、１０分間乃至３日間であり、好適には、１
時間乃至６時間である。
【００１８】一般式Ｒ5 −Ｘを有する化合物の具体例と
しては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロ
リド、ブチリルブロミド、バレリルクロリド、ヘキサノ
イルクロリドのような脂肪族アシルハライド；メトキシ
カルボニルクロリド、メトキシカルボニルブロミド、エ
トキシカルボニルクロリド、プロポキシカルボニルクロ
リド、ブトキシカルボニルクロリド、ヘキシルオキシカ
ルボニルクロリドのような低級アルコキシカルボニルハ
ライド又はベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロミド、
ナフトイルクロリドのようなアリールカルボニルハライ
ドのようなアシルハライド類を挙げることができる。
しては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロ
リド、ブチリルブロミド、バレリルクロリド、ヘキサノ
イルクロリドのような脂肪族アシルハライド；メトキシ
カルボニルクロリド、メトキシカルボニルブロミド、エ
トキシカルボニルクロリド、プロポキシカルボニルクロ
リド、ブトキシカルボニルクロリド、ヘキシルオキシカ
ルボニルクロリドのような低級アルコキシカルボニルハ
ライド又はベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロミド、
ナフトイルクロリドのようなアリールカルボニルハライ
ドのようなアシルハライド類を挙げることができる。
【００１９】一般式Ｒ5 −Ｏ−Ｒ5 を有する化合物の具
体例としては、例えば、ギ酸と酢酸のような混合酸無水
物、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水バレリル酸、無
水ヘキサン酸のような脂肪族カルボン酸無水物を挙げる
ことができる。
体例としては、例えば、ギ酸と酢酸のような混合酸無水
物、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水バレリル酸、無
水ヘキサン酸のような脂肪族カルボン酸無水物を挙げる
ことができる。
【００２０】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げ
ることができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げ
ることができる。
【００２１】〔方法２〕において、使用される「エステ
ル化剤」としては、縮合剤；クロロギ酸メチル、クロロ
ギ酸エチルのようなハロゲン化ギ酸エステル；シアノ燐
酸ジエチルのようなシアノ燐酸ジエステルを挙げること
ができ、かかる「縮合剤」としては、例えばＮ−ヒドロ
キシサクシイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカ
ルボキシイミドのようなＮ−ヒドロキシ誘導体；２，２
´−ジピリジルジスルファイドのようなジスルファイド
化合物類；Ｎ，Ｎ´−ジスクシンイミジルカーボネート
のようなコハク酸化合物類；Ｎ，Ｎ´−ビス（２−オキ
ソ−３−オキサゾリジニル）ホスフィニッククロリドの
ようなホスフィニッククロリド化合物類；Ｎ，Ｎ´−ジ
スクシンイミジルオキザレート（ＤＳＯ）、Ｎ，Ｎ´−
ジフタールイミドオキザレート（ＤＰＯ）、Ｎ，Ｎ´−
ビス（ノルボルネニルスクシンイミジル）オキザレート
（ＢＮＯ）、１，１´−ビス（ベンゾトリアゾリル）オ
キザレート（ＢＢＴＯ）、１，１´−ビス（６−クロロ
ベンゾトリアゾリル）オキザレート（ＢＣＴＯ）、１，
１´−ビス（６−トリフルオロメチルベンゾトリアゾリ
ル）オキザレート（ＢＴＢＯ）のようなオキザレート誘
導体；トリフェニルホスフィンのようなトリアリールホ
スフィン類、アゾジカルボン酸ジエチル−トリフェニル
ホスフィンのようなアゾジカルボン酸ジ低級アルキル−
トリアリールホスフィン類等のトリアリールホスフィン
類；Ｎ−エチル−５−フェニルイソオキサゾリウム−３
´−スルホナートのようなＮ−低級アルキル−５−アリ
ールイソオキサゾリウム−３´−スルホナート類；Ｎ
´，Ｎ´−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）
のようなＮ´，Ｎ´−ジシクロアルキルカルボジイミド
類、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド（ＥＤＡＰＣ）等のカルボジイミド誘導
体；ジ−２−ピリジルジセレニドのようなジヘテロアリ
ールジセレニド類；ｐ−ニトロベンゼンスルホニルトリ
アゾリドのようなアリールスルホニルトリアゾリド類；
２−クロル−１−メチルピリジニウム ヨーダイドのよ
うな２−ハロ−１−低級アルキルピリジニウム ハライ
ド類；ジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰＡ）のよう
なジアリールホスホリルアジド類；１，１´−オキザリ
ルジイミダゾール、Ｎ，Ｎ´−カルボニルジイミダゾー
ルのようなイミダゾール誘導体；１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール（ＨＯＢＴ）のようなベンゾトリアゾール
誘導体；Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−
ジカルボキシイミド（ＨＯＮＢ）のようなジカルボキシ
イミド誘導体を挙げることができるが、好適には、ジア
リールホスホリルアジド類である。
ル化剤」としては、縮合剤；クロロギ酸メチル、クロロ
ギ酸エチルのようなハロゲン化ギ酸エステル；シアノ燐
酸ジエチルのようなシアノ燐酸ジエステルを挙げること
ができ、かかる「縮合剤」としては、例えばＮ−ヒドロ
キシサクシイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカ
ルボキシイミドのようなＮ−ヒドロキシ誘導体；２，２
´−ジピリジルジスルファイドのようなジスルファイド
化合物類；Ｎ，Ｎ´−ジスクシンイミジルカーボネート
のようなコハク酸化合物類；Ｎ，Ｎ´−ビス（２−オキ
ソ−３−オキサゾリジニル）ホスフィニッククロリドの
ようなホスフィニッククロリド化合物類；Ｎ，Ｎ´−ジ
スクシンイミジルオキザレート（ＤＳＯ）、Ｎ，Ｎ´−
ジフタールイミドオキザレート（ＤＰＯ）、Ｎ，Ｎ´−
ビス（ノルボルネニルスクシンイミジル）オキザレート
（ＢＮＯ）、１，１´−ビス（ベンゾトリアゾリル）オ
キザレート（ＢＢＴＯ）、１，１´−ビス（６−クロロ
ベンゾトリアゾリル）オキザレート（ＢＣＴＯ）、１，
１´−ビス（６−トリフルオロメチルベンゾトリアゾリ
ル）オキザレート（ＢＴＢＯ）のようなオキザレート誘
導体；トリフェニルホスフィンのようなトリアリールホ
スフィン類、アゾジカルボン酸ジエチル−トリフェニル
ホスフィンのようなアゾジカルボン酸ジ低級アルキル−
トリアリールホスフィン類等のトリアリールホスフィン
類；Ｎ−エチル−５−フェニルイソオキサゾリウム−３
´−スルホナートのようなＮ−低級アルキル−５−アリ
ールイソオキサゾリウム−３´−スルホナート類；Ｎ
´，Ｎ´−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）
のようなＮ´，Ｎ´−ジシクロアルキルカルボジイミド
類、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド（ＥＤＡＰＣ）等のカルボジイミド誘導
体；ジ−２−ピリジルジセレニドのようなジヘテロアリ
ールジセレニド類；ｐ−ニトロベンゼンスルホニルトリ
アゾリドのようなアリールスルホニルトリアゾリド類；
２−クロル−１−メチルピリジニウム ヨーダイドのよ
うな２−ハロ−１−低級アルキルピリジニウム ハライ
ド類；ジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰＡ）のよう
なジアリールホスホリルアジド類；１，１´−オキザリ
ルジイミダゾール、Ｎ，Ｎ´−カルボニルジイミダゾー
ルのようなイミダゾール誘導体；１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール（ＨＯＢＴ）のようなベンゾトリアゾール
誘導体；Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−
ジカルボキシイミド（ＨＯＮＢ）のようなジカルボキシ
イミド誘導体を挙げることができるが、好適には、ジア
リールホスホリルアジド類である。
【００２２】使用される塩基としては、〔方法１〕と同
様のものを挙げることができる。
様のものを挙げることができる。
【００２３】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げ
ることができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げ
ることができる。
【００２４】保護基が低級アルキルオキシ基；アラルキ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、１〜３個のアリール
基で置換されたメチル基、又はアルキル基の場合には、
Ｒ5−Ｘを塩基又は酸の存在下に化合物（３）と反応さ
せる方法〔方法３〕、又はＲ5 Ｏ−Ｃ＝ＮＨＣＸ3 と酸
を化合物（３）に作用させる方法〔方法４〕で行うこと
ができる。
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、１〜３個のアリール
基で置換されたメチル基、又はアルキル基の場合には、
Ｒ5−Ｘを塩基又は酸の存在下に化合物（３）と反応さ
せる方法〔方法３〕、又はＲ5 Ｏ−Ｃ＝ＮＨＣＸ3 と酸
を化合物（３）に作用させる方法〔方法４〕で行うこと
ができる。
【００２５】〔方法３〕において、Ｘは脱離基を示す
が、かかる脱離基とは、通常、求核残基として脱離する
基であれば特に限定はないが、好適にはメトキシ、エト
キシなどの低級アルキルオキシ基；塩素、臭素、沃素の
ようなハロゲン原子；メトキシカルボニルオキシ、エト
キシカルボニルオキシのような低級アルコキシカルボニ
ルオキシ基；クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチル
オキシ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセ
チルオキシのようなハロゲン化アルキルカルボニルオキ
シ基；メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキ
シのような低級アルカンスルホニルオキシ基；トリフル
オロメタンスルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンス
ルホニルオキシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニ
ルオキシ基；ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエン
スルホニルオキシ、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルオキ
シのようなアリールスルホニルオキシ基を挙げることが
でき、更に好適には、低級アルキルオキシ基、ハロゲン
原子、ハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基、及び
アリールスルホニルオキシ基である。
が、かかる脱離基とは、通常、求核残基として脱離する
基であれば特に限定はないが、好適にはメトキシ、エト
キシなどの低級アルキルオキシ基；塩素、臭素、沃素の
ようなハロゲン原子；メトキシカルボニルオキシ、エト
キシカルボニルオキシのような低級アルコキシカルボニ
ルオキシ基；クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチル
オキシ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセ
チルオキシのようなハロゲン化アルキルカルボニルオキ
シ基；メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキ
シのような低級アルカンスルホニルオキシ基；トリフル
オロメタンスルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンス
ルホニルオキシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニ
ルオキシ基；ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエン
スルホニルオキシ、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルオキ
シのようなアリールスルホニルオキシ基を挙げることが
でき、更に好適には、低級アルキルオキシ基、ハロゲン
原子、ハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基、及び
アリールスルホニルオキシ基である。
【００２６】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素
化リチウムのようなアルカリ金属水素化物；ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブト
キシドのようなアルカリ金属アルコキシド；ナトリウム
アミド、リチウムイソプロピルアミドのようなアルカリ
金属アミド；トリエチルアミン、エチルジイソプロピル
アミン、トリブチルアミンのような三級低級アルキルア
ミン；１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデカ
ン−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ
〔２．２．２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）のような三級脂
環式アミンであり得、更に好適には、アルカリ金属水素
化物（特に、水素化ナトリウム）である。
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素
化リチウムのようなアルカリ金属水素化物；ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブト
キシドのようなアルカリ金属アルコキシド；ナトリウム
アミド、リチウムイソプロピルアミドのようなアルカリ
金属アミド；トリエチルアミン、エチルジイソプロピル
アミン、トリブチルアミンのような三級低級アルキルア
ミン；１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデカ
ン−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ
〔２．２．２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）のような三級脂
環式アミンであり得、更に好適には、アルカリ金属水素
化物（特に、水素化ナトリウム）である。
【００２７】使用される酸としては、ｐ−トルエンスル
ホン酸、カンファースルホン酸などの有機スルホン酸
類；塩酸、硫酸などの無機酸類；トリフルオロ酢酸のよ
うなハロゲノ低級アルカン酸類であり、更に好適には有
機スルホン酸類である。
ホン酸、カンファースルホン酸などの有機スルホン酸
類；塩酸、硫酸などの無機酸類；トリフルオロ酢酸のよ
うなハロゲノ低級アルカン酸類であり、更に好適には有
機スルホン酸類である。
【００２８】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチル
エーテル、ジグライム、ジメトキシエタンのようなエー
テル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノンのようなアミド類、
アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチルスルホキ
シドのようなスルホキシド類であり得、更に好適にはエ
ーテル類、アミド類である。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチル
エーテル、ジグライム、ジメトキシエタンのようなエー
テル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノンのようなアミド類、
アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチルスルホキ
シドのようなスルホキシド類であり得、更に好適にはエ
ーテル類、アミド類である。
【００２９】〔方法４〕において、Ｘとはフッ素、塩素
などのハロゲン原子を示し、使用される酸としては、ト
リフルオロ酢酸のようなハロゲノ低級アルカン酸；トリ
フルオロメタンスルホン酸，ｐ−トルエンスルホン酸、
カンファースルホン酸などの有機スルホン酸；強酸性イ
オン交換樹脂などを挙げることができる。
などのハロゲン原子を示し、使用される酸としては、ト
リフルオロ酢酸のようなハロゲノ低級アルカン酸；トリ
フルオロメタンスルホン酸，ｐ−トルエンスルホン酸、
カンファースルホン酸などの有機スルホン酸；強酸性イ
オン交換樹脂などを挙げることができる。
【００３０】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げ
ることができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げ
ることができる。
【００３１】〔方法５〕として、保護基がテトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒド
ロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基の場合に
は、ジヒドロピランなどの対応するジヒドロ体を酸存在
下に化合物（３）と反応させることによって保護するこ
とができる。
ピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒド
ロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基の場合に
は、ジヒドロピランなどの対応するジヒドロ体を酸存在
下に化合物（３）と反応させることによって保護するこ
とができる。
【００３２】使用される酸としては、通常の反応におい
て酸として使用されるものであれば特に制限はないが、
好適にはトルエンスルホン酸などのスルホン酸類；トリ
フルオロ酢酸などのハロゲノ低級アルカン酸類；臭化
銅、三フッ化ホウ素、ヨウ化トリメチルシリルなどのル
イス酸類；強酸性イオン交換樹脂などを挙げることがで
き、更に好適には、スルホン酸類、ハロゲノ低級アルカ
ン酸類である。
て酸として使用されるものであれば特に制限はないが、
好適にはトルエンスルホン酸などのスルホン酸類；トリ
フルオロ酢酸などのハロゲノ低級アルカン酸類；臭化
銅、三フッ化ホウ素、ヨウ化トリメチルシリルなどのル
イス酸類；強酸性イオン交換樹脂などを挙げることがで
き、更に好適には、スルホン酸類、ハロゲノ低級アルカ
ン酸類である。
【００３３】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適にはヘキサン、ヘプタンのような脂肪族
炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルの
ようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキ
サメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げる
ことができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適にはヘキサン、ヘプタンのような脂肪族
炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルの
ようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキ
サメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げる
ことができる。
【００３４】〔方法６〕として、保護基がシリル基の場
合には、一般式Ｒ5 −Ｘを有する化合物を塩基の存在下
に化合物（３）と反応させることにより保護することが
できる。
合には、一般式Ｒ5 −Ｘを有する化合物を塩基の存在下
に化合物（３）と反応させることにより保護することが
できる。
【００３５】Ｘは脱離基を示すが、かかる脱離基として
は、通常、求核残基として脱離する基であれば特に限定
はないが、好適には、塩素、臭素、沃素のようなハロゲ
ン原子；メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニ
ルオキシのような低級アルコキシカルボニルオキシ基；
クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリ
クロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシの
ようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基；メタン
スルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような低
級アルカンスルホニルオキシ基；トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキ
シのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基；
ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオ
キシ、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルオキシのようなア
リールスルホニルオキシ基を挙げることができ、更に好
適には、ハロゲン原子、ハロゲノ低級アルカンスルホニ
ルオキシ基、及びアリールスルホニルオキシ基である。
は、通常、求核残基として脱離する基であれば特に限定
はないが、好適には、塩素、臭素、沃素のようなハロゲ
ン原子；メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニ
ルオキシのような低級アルコキシカルボニルオキシ基；
クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリ
クロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシの
ようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基；メタン
スルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような低
級アルカンスルホニルオキシ基；トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキ
シのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基；
ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオ
キシ、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルオキシのようなア
リールスルホニルオキシ基を挙げることができ、更に好
適には、ハロゲン原子、ハロゲノ低級アルカンスルホニ
ルオキシ基、及びアリールスルホニルオキシ基である。
【００３６】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適にはＮ−メチルモルホリン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリ
ジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（tert−ブ
チル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのような有機
塩基類を挙げることができる。
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適にはＮ−メチルモルホリン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリ
ジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（tert−ブ
チル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのような有機
塩基類を挙げることができる。
【００３７】なお、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピ
リジン、４−ピロリジノピリジンは、他の塩基と組み合
わせて、触媒量を用いることができ、また反応を効果的
に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムク
ロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第
４級アンモニウム塩類、ジベンゾ−１８−クラウン−６
のようなクラウンエーテル類等を添加することもでき
る。
リジン、４−ピロリジノピリジンは、他の塩基と組み合
わせて、触媒量を用いることができ、また反応を効果的
に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムク
ロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第
４級アンモニウム塩類、ジベンゾ−１８−クラウン−６
のようなクラウンエーテル類等を添加することもでき
る。
【００３８】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適にはヘキサン、ヘプタンのような脂肪族
炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルの
ようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキ
サメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げる
ことができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適にはヘキサン、ヘプタンのような脂肪族
炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルの
ようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキ
サメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げる
ことができる。
【００３９】酸化剤としては、通常の酸化反応に使用さ
れるものであれば特に限定はなく、例えば重クロム酸カ
リウム、酸化クロム、塩化クロミルなどのクロム酸類；
ジメチルスルホキシド−脱水剤（オキザリルクロリド、
ＤＣＣ、無水酢酸等）；四酸化ルテニウム；テトラプロ
ピルアンモニウムペルルテナートのようなルテニウム酸
化物；Dess-Martin 試薬等が用いられ、好適にはジメチ
ルスルホキシド−オキザリルクロリド、Dess-Martin 試
薬、テトラプロピルアンモニウムペルルテナート、クロ
ム酸類であり、特に好適にはジメチルスルホキシド−オ
キザリルクロリドである。必要により塩基としてトリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩
基を用いることが、溶剤としては特に限定はないが、好
適にはジクロロメタン、ジクロロエタン、ベンゼンが用
いられる。
れるものであれば特に限定はなく、例えば重クロム酸カ
リウム、酸化クロム、塩化クロミルなどのクロム酸類；
ジメチルスルホキシド−脱水剤（オキザリルクロリド、
ＤＣＣ、無水酢酸等）；四酸化ルテニウム；テトラプロ
ピルアンモニウムペルルテナートのようなルテニウム酸
化物；Dess-Martin 試薬等が用いられ、好適にはジメチ
ルスルホキシド−オキザリルクロリド、Dess-Martin 試
薬、テトラプロピルアンモニウムペルルテナート、クロ
ム酸類であり、特に好適にはジメチルスルホキシド−オ
キザリルクロリドである。必要により塩基としてトリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩
基を用いることが、溶剤としては特に限定はないが、好
適にはジクロロメタン、ジクロロエタン、ベンゼンが用
いられる。
【００４０】第２工程〔化合物（４）から化合物（５）
を得る工程〕 酸の存在下にアルデヒド（４）をアセタール（５）とし
て保護する工程である。
を得る工程〕 酸の存在下にアルデヒド（４）をアセタール（５）とし
て保護する工程である。
【００４１】試剤としては、ＣＨ（ＯＣＨ3)3 、ＣＨ
（ＯＣ2 Ｈ5)3 、メタノール、エタノール、エチレンジ
オール等が用いられる。酸としては、トルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸、硫酸等が用いられ、溶媒と
しては、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、ベ
ンゼン、トルエン等が用いられる。
（ＯＣ2 Ｈ5)3 、メタノール、エタノール、エチレンジ
オール等が用いられる。酸としては、トルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸、硫酸等が用いられ、溶媒と
しては、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、ベ
ンゼン、トルエン等が用いられる。
【００４２】第３工程〔化合物（５）から化合物（６）
を得る工程〕 水酸基の脱保護工程である。
を得る工程〕 水酸基の脱保護工程である。
【００４３】保護基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下の様に実施される。
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下の様に実施される。
【００４４】水酸基の保護基として、シリル基を使用し
た場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウムのよ
うな弗素アニオンを生成する化合物又は塩酸、硫酸、酢
酸などの酸で処理することにより除去される。反応溶媒
は、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
又は水、メタノール、エタノールなどのアルコール類が
好適である。
た場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウムのよ
うな弗素アニオンを生成する化合物又は塩酸、硫酸、酢
酸などの酸で処理することにより除去される。反応溶媒
は、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
又は水、メタノール、エタノールなどのアルコール類が
好適である。
【００４５】水酸基の保護基が、アラルキル基である場
合には、通常、溶媒中、還元剤と接触させることにより
（好適には、触媒下に常温にて接触還元）除去する方法
又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。接触還
元による除去において使用される溶媒としては、本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール
類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような
脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのような
エステル類、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶
媒と水との混合溶媒が好適である。使用される触媒とし
ては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、
特に限定はないが、好適には、パラジウム炭素、ラネー
ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニ
ウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジ
ウム−硫酸バリウムが用いられる。
合には、通常、溶媒中、還元剤と接触させることにより
（好適には、触媒下に常温にて接触還元）除去する方法
又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。接触還
元による除去において使用される溶媒としては、本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール
類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような
脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのような
エステル類、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶
媒と水との混合溶媒が好適である。使用される触媒とし
ては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、
特に限定はないが、好適には、パラジウム炭素、ラネー
ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニ
ウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジ
ウム−硫酸バリウムが用いられる。
【００４６】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル類、
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙
げることができる。使用される酸化剤としては、酸化に
使用される化合物であれば特に限定はないが、好適に
は、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウム
セリウムナイトレイト（ＣＡＮ）、２，３−ジクロロ−
５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用い
られる。
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル類、
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙
げることができる。使用される酸化剤としては、酸化に
使用される化合物であれば特に限定はないが、好適に
は、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウム
セリウムナイトレイト（ＣＡＮ）、２，３−ジクロロ−
５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用い
られる。
【００４７】水酸基の保護基が、アルカノイル基又はベ
ンゾイル基である場合には、溶媒中、塩基で処理するこ
とにより除去される。使用される塩基としては、化合物
の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はな
いが、好適にはナトリウムメトキシドのような金属アル
コキシド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチ
ウムのようなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属
水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−メタノール
のようなアンモニア類が用いられる。
ンゾイル基である場合には、溶媒中、塩基で処理するこ
とにより除去される。使用される塩基としては、化合物
の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はな
いが、好適にはナトリウムメトキシドのような金属アル
コキシド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチ
ウムのようなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属
水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−メタノール
のようなアンモニア類が用いられる。
【００４８】水酸基の保護基が、低級アルコキシ置換ア
ルキル基、テトラヒドロピラニル基又はテトラヒドロチ
オピラニル基である場合には、通常、溶媒中、酸で処理
することにより除去される。使用される酸としては、通
常、ブレンステッド酸として使用されるものであれば特
に限定はなく、好適には、塩酸、硫酸のような無機酸又
は酢酸、パラトルエンスルホン酸のような有機酸である
が、ダウエックス５０Ｗのような強酸性の陽イオン交換
樹脂も使用することができる。使用される溶媒として
は、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、メタノール、エタノールのようなアルコール類；テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又は
これらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。
ルキル基、テトラヒドロピラニル基又はテトラヒドロチ
オピラニル基である場合には、通常、溶媒中、酸で処理
することにより除去される。使用される酸としては、通
常、ブレンステッド酸として使用されるものであれば特
に限定はなく、好適には、塩酸、硫酸のような無機酸又
は酢酸、パラトルエンスルホン酸のような有機酸である
が、ダウエックス５０Ｗのような強酸性の陽イオン交換
樹脂も使用することができる。使用される溶媒として
は、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、メタノール、エタノールのようなアルコール類；テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又は
これらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。
【００４９】第４工程〔化合物（６）から化合物（７）
を得る工程〕 第１工程の酸化に準じた方法でヒドロキシメチル（６）
をアルデヒド（７）とすることができる。
を得る工程〕 第１工程の酸化に準じた方法でヒドロキシメチル（６）
をアルデヒド（７）とすることができる。
【００５０】第５工程〔化合物（７）から化合物（８）
を得る工程〕 アルデヒド（７）を、Ｓｎ（ＯＴｆ）2 、ＢｕＳｎ（Ｏ
Ａｃ）2 、Ｂｕ3 ＳｎＦのような４価のスズ及び１−メ
チル、１−エチルもしくは１−プロピル−２−（ピペリ
ジノメチル）ピロリジン、１−メチル−２−〔１−ナフ
チル（もしくはフェニル）アミノメチル〕ピロリジン、
１−メチル−２−（２−メトキシメチル−ピロリジニル
メチル）ピロリジンのようなジアミンの存在下に、２位
に保護された水酸基を有するケテンのトリメチルシリ
ル、ｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシ
リルアセタールと反応させる。溶媒としては、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、アセトニトリル、ニトロベン
ゼン、ベンゼン、エーテル等が用いられる。上記２位に
保護された水酸基を有するケテンのトリメチルシリル、
ｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシリル
アセタールは、ヒドロキシ酢酸の水酸基を第１工程保護
に準じた方法により保護した後、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ベンゼン、ヘキサメチルリン酸トリアミドな
どの溶媒中、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム
ヘキサメチルジシラジドなどの塩基によりエノラートと
した後、トリメチルシリルクロリド、トリメチルシリル
トリフラート、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、ｔ
−ブチルジメチルシリルトリフラートなどのシリル化剤
によりシリル化することにより得ることができる。
を得る工程〕 アルデヒド（７）を、Ｓｎ（ＯＴｆ）2 、ＢｕＳｎ（Ｏ
Ａｃ）2 、Ｂｕ3 ＳｎＦのような４価のスズ及び１−メ
チル、１−エチルもしくは１−プロピル−２−（ピペリ
ジノメチル）ピロリジン、１−メチル−２−〔１−ナフ
チル（もしくはフェニル）アミノメチル〕ピロリジン、
１−メチル−２−（２−メトキシメチル−ピロリジニル
メチル）ピロリジンのようなジアミンの存在下に、２位
に保護された水酸基を有するケテンのトリメチルシリ
ル、ｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシ
リルアセタールと反応させる。溶媒としては、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、アセトニトリル、ニトロベン
ゼン、ベンゼン、エーテル等が用いられる。上記２位に
保護された水酸基を有するケテンのトリメチルシリル、
ｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシリル
アセタールは、ヒドロキシ酢酸の水酸基を第１工程保護
に準じた方法により保護した後、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ベンゼン、ヘキサメチルリン酸トリアミドな
どの溶媒中、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム
ヘキサメチルジシラジドなどの塩基によりエノラートと
した後、トリメチルシリルクロリド、トリメチルシリル
トリフラート、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、ｔ
−ブチルジメチルシリルトリフラートなどのシリル化剤
によりシリル化することにより得ることができる。
【００５１】第６工程〔化合物（８）から化合物（１
０）を得る工程〕 エステル（８）を還元してヒドロキシメチル（９）と
し、さらにこの水酸基を保護する工程である。
０）を得る工程〕 エステル（８）を還元してヒドロキシメチル（９）と
し、さらにこの水酸基を保護する工程である。
【００５２】還元剤としては、ＬｉＡｌＨ4 、ＬｉＡｌ
（ＯＥｔ）3 Ｈ、（ｉＢｕ）2 ＡｌＨ（ＤＩＢＡＬ）、
ＮａＢＨ4 、Ｚｎ（ＢＨ4 ）2 等が用いられる。溶媒と
しては、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、ア
ルコール等が用いられる。
（ＯＥｔ）3 Ｈ、（ｉＢｕ）2 ＡｌＨ（ＤＩＢＡＬ）、
ＮａＢＨ4 、Ｚｎ（ＢＨ4 ）2 等が用いられる。溶媒と
しては、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、ア
ルコール等が用いられる。
【００５３】水酸基の保護は、第１工程の保護に準じて
行うことができる。
行うことができる。
【００５４】第７工程〔化合物（１０）から化合物（１
１）を得る工程〕 １）化合物（１０）の水酸基を第１工程保護に準じて保
護した後、２）酸と反応させてアルデヒド（１１）とす
る工程である。酸としては、酢酸、トリフルオロ酢酸、
希塩酸、希硫酸が用いられ、溶媒としては酸のみ又は酸
とＴＨＦ、エーテル、水との混合溶媒が用いられる。
１）を得る工程〕 １）化合物（１０）の水酸基を第１工程保護に準じて保
護した後、２）酸と反応させてアルデヒド（１１）とす
る工程である。酸としては、酢酸、トリフルオロ酢酸、
希塩酸、希硫酸が用いられ、溶媒としては酸のみ又は酸
とＴＨＦ、エーテル、水との混合溶媒が用いられる。
【００５５】第８工程〔化合物（１１）から化合物（１
２）を得る工程〕 化合物（１１）に第５工程に述べた方法により合成した
２位に保護された水酸基を有するケテンシリルアセター
ルをアルドール縮合させる工程であり、触媒としてはＭ
ｇＢｒ2 、ＺｎＣｌ2 、ＺｎＢｒ2 、ＴｉＣｌ4 、Ｓｎ
Ｃｌ4 、Ｓｎ（ＯＴｆ）2 、Ｐｈ3 ＣＣｌＯ4 等が用い
られ、溶媒としてはトルエン、ベンゼン、エーテル、Ｔ
ＨＦ、ジクロロメタン、クロロホルム、ニトロベンゼン
等が用いられる。
２）を得る工程〕 化合物（１１）に第５工程に述べた方法により合成した
２位に保護された水酸基を有するケテンシリルアセター
ルをアルドール縮合させる工程であり、触媒としてはＭ
ｇＢｒ2 、ＺｎＣｌ2 、ＺｎＢｒ2 、ＴｉＣｌ4 、Ｓｎ
Ｃｌ4 、Ｓｎ（ＯＴｆ）2 、Ｐｈ3 ＣＣｌＯ4 等が用い
られ、溶媒としてはトルエン、ベンゼン、エーテル、Ｔ
ＨＦ、ジクロロメタン、クロロホルム、ニトロベンゼン
等が用いられる。
【００５６】第９工程〔化合物（１２）から化合物（１
３）を得る工程〕 遊離の水酸基を保護する工程であり、第１工程の保護と
同様に行われる。
３）を得る工程〕 遊離の水酸基を保護する工程であり、第１工程の保護と
同様に行われる。
【００５７】第１０工程〔化合物（１３）から化合物
（１４）を得る工程〕 エステル（１３）を第６工程と同様に還元して第３工程
と同様に脱保護し、次いで第１工程と同様に酸化してア
ルデヒド（１４）とする工程である。前半の還元には好
適には（ｉＢｕ）2 ＡｌＨ（ＤＩＢＡＬ−Ｈ）が用いら
れる。
（１４）を得る工程〕 エステル（１３）を第６工程と同様に還元して第３工程
と同様に脱保護し、次いで第１工程と同様に酸化してア
ルデヒド（１４）とする工程である。前半の還元には好
適には（ｉＢｕ）2 ＡｌＨ（ＤＩＢＡＬ−Ｈ）が用いら
れる。
【００５８】第１１工程〔化合物（１４）から化合物
（１６）を得る工程〕 前半ではアルデヒド（１４）に、ＭｅＭｇＢｒ、（Ｍ
ｅ）2 Ｍｇ、（Ｍｅ）2Zn、MeLi、(Me)2 ＣｕＬｉのよう
なメチル化金属をエーテル、ＴＨＦ、トルエン、ベンゼ
ンのような溶媒中反応させて第２アルコール（１５）と
する工程であり、後半はこのアルコール（１５）を酸化
してケトン（１６）とする工程であり、第１工程と同様
に行われる。
（１６）を得る工程〕 前半ではアルデヒド（１４）に、ＭｅＭｇＢｒ、（Ｍ
ｅ）2 Ｍｇ、（Ｍｅ）2Zn、MeLi、(Me)2 ＣｕＬｉのよう
なメチル化金属をエーテル、ＴＨＦ、トルエン、ベンゼ
ンのような溶媒中反応させて第２アルコール（１５）と
する工程であり、後半はこのアルコール（１５）を酸化
してケトン（１６）とする工程であり、第１工程と同様
に行われる。
【００５９】第１２工程〔化合物（１６）から化合物
（１７）を得る工程〕 水酸基の脱保護する工程であり、第３工程と同様に行わ
れる。
（１７）を得る工程〕 水酸基の脱保護する工程であり、第３工程と同様に行わ
れる。
【００６０】第１３工程〔化合物（１７）から化合物
（１８）を得る工程〕 末端アルコールを酸化してアルデヒド（１８）を得る工
程であり、第１工程と同様に行われる。
（１８）を得る工程〕 末端アルコールを酸化してアルデヒド（１８）を得る工
程であり、第１工程と同様に行われる。
【００６１】第１４工程〔化合物（１８）から化合物
（１９）を得る工程〕 化合物（１８）にチオフェニル、チオメチル、チオエチ
ル、チオプロピル又はチオｐ−トリルと、トリメチルシ
リル又はｔ−ブチルジメチルシリルのエーテル試薬を、
Ｍｅ3 ＳｉＣｌＯ4 、Ｍｅ3 ＳｉＯＴｆ、Ｍｅ3 ＳｉＣ
ｌ、ｔ−ＢｕＭｅ2 ＳｉＣｌＯ4 、ｔＢｕＭｅ2 ＳｉＯ
Ｔｆ、ｔＢｕＭｅ2 ＳｉＣｌのような触媒の存在下に、
ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、ジクロロメタ
ン、ニトロベンゼン、キシレンのような溶媒中で反応さ
せる。
（１９）を得る工程〕 化合物（１８）にチオフェニル、チオメチル、チオエチ
ル、チオプロピル又はチオｐ−トリルと、トリメチルシ
リル又はｔ−ブチルジメチルシリルのエーテル試薬を、
Ｍｅ3 ＳｉＣｌＯ4 、Ｍｅ3 ＳｉＯＴｆ、Ｍｅ3 ＳｉＣ
ｌ、ｔ−ＢｕＭｅ2 ＳｉＣｌＯ4 、ｔＢｕＭｅ2 ＳｉＯ
Ｔｆ、ｔＢｕＭｅ2 ＳｉＣｌのような触媒の存在下に、
ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、ジクロロメタ
ン、ニトロベンゼン、キシレンのような溶媒中で反応さ
せる。
【００６２】第１５工程〔化合物（１９）から化合物
（２０）を得る工程〕 第５工程に述べた２位に保護された水酸基を有する酢酸
よりシリルケテンアセタールを合成する方法と同様にし
て行われる。
（２０）を得る工程〕 第５工程に述べた２位に保護された水酸基を有する酢酸
よりシリルケテンアセタールを合成する方法と同様にし
て行われる。
【００６３】第１６工程〔化合物（２０）から化合物
（２２）を得る工程〕 化合物（２０）を、ＴＨＦ、エーテル、ジクロロメタ
ン、クロロホルム等の中で、Ｎ−ブロモスクシンイミ
ド、Ｎ−クロロスクシンイミド、ブロム（Ｂｒ2 ）のよ
うなハロゲン化試剤と反応させて化合物（２１）とし、
これを塩酸、硫酸、フッ化水素等の酸と、触媒の不存在
下又はＨｇＣｌ2 又はＨｇＯの触媒の存在下に、ＴＨ
Ｆ、エーテル、ジクロロエタン、アセトニトリル、水、
アセトンのような溶媒中で反応させて、脱保護してアル
デヒド（２２）とする。
（２２）を得る工程〕 化合物（２０）を、ＴＨＦ、エーテル、ジクロロメタ
ン、クロロホルム等の中で、Ｎ−ブロモスクシンイミ
ド、Ｎ−クロロスクシンイミド、ブロム（Ｂｒ2 ）のよ
うなハロゲン化試剤と反応させて化合物（２１）とし、
これを塩酸、硫酸、フッ化水素等の酸と、触媒の不存在
下又はＨｇＣｌ2 又はＨｇＯの触媒の存在下に、ＴＨ
Ｆ、エーテル、ジクロロエタン、アセトニトリル、水、
アセトンのような溶媒中で反応させて、脱保護してアル
デヒド（２２）とする。
【００６４】第１７工程〔化合物（２２）から化合物
（２３）を得る工程〕 化合物（２２）に、沃化サマリウム、Ｅｔ2 ＡｌＣｌ−
Ｚｎ−ＣｕＢｒ、Ｚｎ、Ｃｄ（ｎＰｒ）2 、インジウム
（Ｉｎ）、ＳｂＢｕ3 −Ｉ2 、ＣｅＣｌ3 −ＳｎＣｌ
2 、ＳｎＣｌ2 、Ｓｎ、ＣｒＣｌ2 のような金属活性化
剤と反応させて、閉環する工程である。溶媒としてはＴ
ＨＦ、エーテル、ベンゼン、ヘキサン、トルエン、水等
が用いられる。
（２３）を得る工程〕 化合物（２２）に、沃化サマリウム、Ｅｔ2 ＡｌＣｌ−
Ｚｎ−ＣｕＢｒ、Ｚｎ、Ｃｄ（ｎＰｒ）2 、インジウム
（Ｉｎ）、ＳｂＢｕ3 −Ｉ2 、ＣｅＣｌ3 −ＳｎＣｌ
2 、ＳｎＣｌ2 、Ｓｎ、ＣｒＣｌ2 のような金属活性化
剤と反応させて、閉環する工程である。溶媒としてはＴ
ＨＦ、エーテル、ベンゼン、ヘキサン、トルエン、水等
が用いられる。
【００６５】第１８工程〔化合物（２３）から化合物
（１）を得る工程〕 化合物（２３）のアルコールを活性化するために、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピリジン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノピリジンのような塩基の存在下に、
メタンスルホニルクロリド、トルエンスルホニルクロリ
ド、トリフルオロメタンスルホニルクロリドのようなス
ルホン化剤と反応させる。溶媒としては、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、エーテル、ＤＭＦ、ベンゼン、ト
ルエン等が用いられる。次いで、これをジアザビシクロ
ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザヒシクロノネン（ＤＢ
Ｎ）、ジアザビシクロオクタン（ＤＢＣＯ）、強塩基性
イオン交換樹脂のような強塩基と反応させると化合物
（１）が得られる。溶媒としてはジクロロメタン、ジク
ロロエタン、ＴＨＦ、エーテル、ベンゼン、トルエン、
ニトロベンゼン、アセトニトリル等が用いられる。
（１）を得る工程〕 化合物（２３）のアルコールを活性化するために、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピリジン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノピリジンのような塩基の存在下に、
メタンスルホニルクロリド、トルエンスルホニルクロリ
ド、トリフルオロメタンスルホニルクロリドのようなス
ルホン化剤と反応させる。溶媒としては、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、エーテル、ＤＭＦ、ベンゼン、ト
ルエン等が用いられる。次いで、これをジアザビシクロ
ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザヒシクロノネン（ＤＢ
Ｎ）、ジアザビシクロオクタン（ＤＢＣＯ）、強塩基性
イオン交換樹脂のような強塩基と反応させると化合物
（１）が得られる。溶媒としてはジクロロメタン、ジク
ロロエタン、ＴＨＦ、エーテル、ベンゼン、トルエン、
ニトロベンゼン、アセトニトリル等が用いられる。
【００６６】さらに一般式（１１）の化合物は、以下に
示す方法により製造することもできる。
示す方法により製造することもできる。
【００６７】
【化９】
【００６８】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ9 はそれぞれ
水酸基の保護基を示し、そのような保護基としては前記
例示のものが挙げられる。Ｒ13およびＲ14は低級アルキ
ル基を表す） 第１工程〔化合物（２４）から化合物（２５）を得る工
程〕 グリセリン酸モノエステル（２４）の末端水酸基を保護
する工程であり、前記第１工程保護と同様に行われる。
水酸基の保護基を示し、そのような保護基としては前記
例示のものが挙げられる。Ｒ13およびＲ14は低級アルキ
ル基を表す） 第１工程〔化合物（２４）から化合物（２５）を得る工
程〕 グリセリン酸モノエステル（２４）の末端水酸基を保護
する工程であり、前記第１工程保護と同様に行われる。
【００６９】第２工程〔化合物（２５）から化合物（２
６）を得る工程〕 水酸基を第１工程に準じた方法により保護する。
６）を得る工程〕 水酸基を第１工程に準じた方法により保護する。
【００７０】第３工程〔化合物（２６）から化合物（２
８）を得る工程〕 化合物（２６）にＤＩＢＡＬ、ＬｉＡｌＨ4 −Ｅｔ2 Ｎ
Ｈ、ＮａＡｌＨ4 、ＮａＨ2 Ａｌ（ｉＢｕ）2 、ＮａＨ
2 Ａｌ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ3 ）2 のような還元剤を
反応させてアルデヒド（２８）とする。溶媒としてはジ
クロロメタン、ＴＨＦ、エーテル、トルエン、ベンゼ
ン、ヘキサン等が用いられる。
８）を得る工程〕 化合物（２６）にＤＩＢＡＬ、ＬｉＡｌＨ4 −Ｅｔ2 Ｎ
Ｈ、ＮａＡｌＨ4 、ＮａＨ2 Ａｌ（ｉＢｕ）2 、ＮａＨ
2 Ａｌ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ3 ）2 のような還元剤を
反応させてアルデヒド（２８）とする。溶媒としてはジ
クロロメタン、ＴＨＦ、エーテル、トルエン、ベンゼ
ン、ヘキサン等が用いられる。
【００７１】上記の方法の別法として、化合物（２６）
から化合物（２７）を経て化合物（２８）を得ることも
できる。前半の工程は前記第６工程と同様に、エステル
（２６）を還元してヒドロキシメチル（２７）とし、こ
れを第１工程と同様に酸化してアルデヒド（２８）とす
る。
から化合物（２７）を経て化合物（２８）を得ることも
できる。前半の工程は前記第６工程と同様に、エステル
（２６）を還元してヒドロキシメチル（２７）とし、こ
れを第１工程と同様に酸化してアルデヒド（２８）とす
る。
【００７２】第４工程〔化合物（２８）から化合物（２
９）を得る工程〕 化合物（２８）にイソ酪酸アルキルエステルのＬｉ、Ｍ
ｇＢｒ、ＴｉＣｌ3 、ＢＢｕ2 、Ｂ（シクロヘキシル）
2 エノラートを反応させてアルドール縮合化合物（２
９）を得る。溶媒としてはＴＨＦ、エーテル、ジクロロ
メタン、ベンゼン、トルエン、ニトロベンゼン、アセト
ニトリル等が用いられる。
９）を得る工程〕 化合物（２８）にイソ酪酸アルキルエステルのＬｉ、Ｍ
ｇＢｒ、ＴｉＣｌ3 、ＢＢｕ2 、Ｂ（シクロヘキシル）
2 エノラートを反応させてアルドール縮合化合物（２
９）を得る。溶媒としてはＴＨＦ、エーテル、ジクロロ
メタン、ベンゼン、トルエン、ニトロベンゼン、アセト
ニトリル等が用いられる。
【００７３】第５工程〔化合物（２９）から化合物（３
０）を得る工程〕 水酸基を保護する工程であり、第１工程の保護と同様に
行われる。
０）を得る工程〕 水酸基を保護する工程であり、第１工程の保護と同様に
行われる。
【００７４】第６工程〔化合物（３０）から化合物（３
１）を得る工程〕 前記第６工程１）と同様にエステル（３０）をＬｉＡｌ
Ｈ4 等で還元してヒドロキシメチル化合物（３１）とす
る。
１）を得る工程〕 前記第６工程１）と同様にエステル（３０）をＬｉＡｌ
Ｈ4 等で還元してヒドロキシメチル化合物（３１）とす
る。
【００７５】第７工程〔化合物（３１）から化合物（１
１）を得る工程〕 第３工程と同様に酸化してアルデヒド（１１）とする。
１）を得る工程〕 第３工程と同様に酸化してアルデヒド（１１）とする。
【００７６】
【発明の効果】本発明の中間体を経由してタキソールを
従来よりも少ない工程で容易に製造することができる。
従来よりも少ない工程で容易に製造することができる。
【００７７】
例１ ３−ベンジルオキシ−２，２−ジメチルプロパナ
ール（４）
ール（４）
【００７８】
【化１０】
【００７９】１）水素化ナトリウム（１３．５g 、５５
％オイル懸濁液、０．３０９mol)をアルゴン気流下でＴ
ＨＦ １００mlに懸濁し、これに氷冷下で２，２−ジメ
チル−１，３−プロパンジオール（３）（６４．５g 、
０．６２０mol)のＴＨＦ３００ml溶液を滴下した。次い
で、ベンジルブロミド（２４．６ml、０．２０７mol)を
滴下し、室温で一晩撹拌した。メタノールを加えて反応
を停止し、水を加え、酢酸エチルで抽出、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。残分を蒸留し、
無色油状物を得た（bp１１４−１１８℃／４Torr）。
％オイル懸濁液、０．３０９mol)をアルゴン気流下でＴ
ＨＦ １００mlに懸濁し、これに氷冷下で２，２−ジメ
チル−１，３−プロパンジオール（３）（６４．５g 、
０．６２０mol)のＴＨＦ３００ml溶液を滴下した。次い
で、ベンジルブロミド（２４．６ml、０．２０７mol)を
滴下し、室温で一晩撹拌した。メタノールを加えて反応
を停止し、水を加え、酢酸エチルで抽出、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。残分を蒸留し、
無色油状物を得た（bp１１４−１１８℃／４Torr）。
【００８０】２）オキザリルクロリド（１．１eq.)をジ
クロロメタンに溶解、−７８℃に冷却後ＤＭＳＯ（２．
２eq.)のジクロロメタン溶液を滴下した。次いで、１０
分後に１）で得られたアルコール体のジクロロメタン溶
液を滴下し、同温度で３０分撹拌後、トリエチルアミン
（４．０eq.)を加え、徐々に室温まで昇温した。水を加
え、ジクロロメタンで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧留去した。残分をシリカゲルクロマトグ
ラフィー及び蒸留（bp１０２−１０４℃／４Torr）で精
製し、化合物（４）を９２％の収率で得た。
クロロメタンに溶解、−７８℃に冷却後ＤＭＳＯ（２．
２eq.)のジクロロメタン溶液を滴下した。次いで、１０
分後に１）で得られたアルコール体のジクロロメタン溶
液を滴下し、同温度で３０分撹拌後、トリエチルアミン
（４．０eq.)を加え、徐々に室温まで昇温した。水を加
え、ジクロロメタンで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧留去した。残分をシリカゲルクロマトグ
ラフィー及び蒸留（bp１０２−１０４℃／４Torr）で精
製し、化合物（４）を９２％の収率で得た。
【００８１】NMR δ(CDCl3/TMS) 1.06(s, 6H), 3.39(s,
2H), 4,48(s, 2H), 7,28(s, 5H),9.53(s, 1H) 例２ ２，２−ジメチル−３−ベンジルオキシプロパナ
ールジメチルアセタール（５）
2H), 4,48(s, 2H), 7,28(s, 5H),9.53(s, 1H) 例２ ２，２−ジメチル−３−ベンジルオキシプロパナ
ールジメチルアセタール（５）
【００８２】
【化１１】
【００８３】化合物（４）及びＣＨ（ＯＣＨ3)3 （２．
５eq.)をメタノールに溶解し、触媒量のカンファースル
ホン酸（５％wt.)を加え、室温で１時間撹拌した。トリ
エチルアミンで中和し、エーテル抽出、飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し
た。残分を蒸留し、無色油状物（５）を８７％の収率で
得た。
５eq.)をメタノールに溶解し、触媒量のカンファースル
ホン酸（５％wt.)を加え、室温で１時間撹拌した。トリ
エチルアミンで中和し、エーテル抽出、飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し
た。残分を蒸留し、無色油状物（５）を８７％の収率で
得た。
【００８４】bp１２８−１３０℃／６Torr NMR δ(CDCl3/TMS) 0.86(s, 6H), 3.17(s, 2H), 3.39
(s, 3H), 3.40(s, 3H),4.05(s, 1H), 4.40(s, 2H), 7.2
2(s, 5H) 例３ ２，２−ジメチル−３，３−ジメトキシプロパノ
ール（６）
(s, 3H), 3.40(s, 3H),4.05(s, 1H), 4.40(s, 2H), 7.2
2(s, 5H) 例３ ２，２−ジメチル−３，３−ジメトキシプロパノ
ール（６）
【００８５】
【化１２】
【００８６】化合物（５）をメタノールに溶解し、１０
％Ｐｄ／Ｃ（５０％wt.)を加え、水素気流下接触還元し
た。触媒を濾去、溶媒を減圧留去し、無色油状物（６）
を９６％の収率で得た。
％Ｐｄ／Ｃ（５０％wt.)を加え、水素気流下接触還元し
た。触媒を濾去、溶媒を減圧留去し、無色油状物（６）
を９６％の収率で得た。
【００８７】NMR δ(CCl4/TMS) 0.90(s, 6H), 2.00(br
s, 1H), 3.25(d, 2H, J=5Hz), 3.40(s, 6H), 3.90(s, 1
H) 例４ ２，２−ジメチル−３，３−ジメトキシプロパナ
ール（７）
s, 1H), 3.25(d, 2H, J=5Hz), 3.40(s, 6H), 3.90(s, 1
H) 例４ ２，２−ジメチル−３，３−ジメトキシプロパナ
ール（７）
【００８８】
【化１３】
【００８９】オキザリルクロリド（１．１eq.)をジクロ
ロメタンに溶解、−７８℃に冷却後ＤＭＳＯ（２．２e
q.)のジクロロメタン溶液を滴下した。次いで、１０分
後にアルコール体（６）のジクロロメタン溶液を滴下
し、同温度で３０分撹拌後、トリエチルアミン（４．０
eq.)を加え、徐々に室温まで昇温した。水を加え、ジク
ロロメタンで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を減圧留去した。残分を蒸留（bp７１−７２℃／２６To
rr）で精製し、化合物（７）を８６％の収率で得た。
ロメタンに溶解、−７８℃に冷却後ＤＭＳＯ（２．２e
q.)のジクロロメタン溶液を滴下した。次いで、１０分
後にアルコール体（６）のジクロロメタン溶液を滴下
し、同温度で３０分撹拌後、トリエチルアミン（４．０
eq.)を加え、徐々に室温まで昇温した。水を加え、ジク
ロロメタンで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を減圧留去した。残分を蒸留（bp７１−７２℃／２６To
rr）で精製し、化合物（７）を８６％の収率で得た。
【００９０】NMR δ(CDCl3/TMS) 1.03(s, 6H), 3.46(s,
6H), 4.16(s, 1H), 9.55(s, 1H) 例５ メチル ２−ベンジルオキシ−４，４−ジメチル
−５，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシペンタノエート
（８）
6H), 4.16(s, 1H), 9.55(s, 1H) 例５ メチル ２−ベンジルオキシ−４，４−ジメチル
−５，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシペンタノエート
（８）
【００９１】
【化１４】
【００９２】アルゴン雰囲気下、スズ（II）トリフラー
ト（１５．１mg ０．３６mmol）をジクロロメタン１．
０mlに懸濁し、（Ｓ）−１−メチル−２−（ピペリジノ
メチル）ピロリジン（７８．６mg ０．４３mmol）のジ
クロロメタン溶液０．５mlを室温で加え、更にジブチル
スズジアセテート（１８９mg ０．４０mmol）のジクロ
ロメタン溶液０．５mlを加えた。得られた淡黄色溶液を
−２３℃に冷却し、２−ベンジルオキシケテン−ｔ−ブ
チルジメチルシリル−メチルアセタール（１０６mg
０．３６mmol）のジクロロメタン溶液１．０mlを加え、
２，２−ジメチル−３，３−ジメトキシ−１−プロパナ
ール（７）（３５．９mg ０．２５mmol）のジクロロメ
タン溶液０．８mlをゆっくりと加えた。１５時間撹拌し
た後、飽和重曹水で反応を停止し、ジクロロメタンで抽
出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、シリカゲル薄
層クロマトグラフィーで精製し、メチル ２−ベンジル
オキシ−４，４−ジメチル−５，５−ジメトキシ−３−
ヒドロキシペンタノエート（８）が３５．８mg、４５％
の収率で得られた。
ト（１５．１mg ０．３６mmol）をジクロロメタン１．
０mlに懸濁し、（Ｓ）−１−メチル−２−（ピペリジノ
メチル）ピロリジン（７８．６mg ０．４３mmol）のジ
クロロメタン溶液０．５mlを室温で加え、更にジブチル
スズジアセテート（１８９mg ０．４０mmol）のジクロ
ロメタン溶液０．５mlを加えた。得られた淡黄色溶液を
−２３℃に冷却し、２−ベンジルオキシケテン−ｔ−ブ
チルジメチルシリル−メチルアセタール（１０６mg
０．３６mmol）のジクロロメタン溶液１．０mlを加え、
２，２−ジメチル−３，３−ジメトキシ−１−プロパナ
ール（７）（３５．９mg ０．２５mmol）のジクロロメ
タン溶液０．８mlをゆっくりと加えた。１５時間撹拌し
た後、飽和重曹水で反応を停止し、ジクロロメタンで抽
出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、シリカゲル薄
層クロマトグラフィーで精製し、メチル ２−ベンジル
オキシ−４，４−ジメチル−５，５−ジメトキシ−３−
ヒドロキシペンタノエート（８）が３５．８mg、４５％
の収率で得られた。
【００９３】ジアステレオマー比は、化合物（８）を常
法によりアセチル化した後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーで分離精製し、その重量比からｓｙｎ：ａｎｔ
ｉ＝２０：８０と決定した。ａｎｔｉ体の光学収率は、
光学異性体分離カラム（ダイセル化学工業社製：CHIRAL
CEL OD）を用いたＨＰＬＣ分析により９３％eeと決定し
た。
法によりアセチル化した後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーで分離精製し、その重量比からｓｙｎ：ａｎｔ
ｉ＝２０：８０と決定した。ａｎｔｉ体の光学収率は、
光学異性体分離カラム（ダイセル化学工業社製：CHIRAL
CEL OD）を用いたＨＰＬＣ分析により９３％eeと決定し
た。
【００９４】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.96(s, 3H), 0.97(s,
3H), 3.40(s, 3H), 3.47(s, 3H),3.65(d, 1H, J=6.0H
z), 3.76(s, 3H), 3.86(t, 1H, J=6.0Hz), 4.05(s, 1
H), 4.11(d, 1H, J=6.0Hz), 4.38(d, 2H, J=11.2Hz),
4.62(d, 2H, J=11.2Hz) 例６ ４−ベンジルオキシ−５−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−２，２−ジメチル−３−ヒドロキシペ
ンタナールジメチルアセタール（１０）
3H), 3.40(s, 3H), 3.47(s, 3H),3.65(d, 1H, J=6.0H
z), 3.76(s, 3H), 3.86(t, 1H, J=6.0Hz), 4.05(s, 1
H), 4.11(d, 1H, J=6.0Hz), 4.38(d, 2H, J=11.2Hz),
4.62(d, 2H, J=11.2Hz) 例６ ４−ベンジルオキシ−５−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−２，２−ジメチル−３−ヒドロキシペ
ンタナールジメチルアセタール（１０）
【００９５】
【化１５】
【００９６】リチウムアルミニウムヒドリド（１００mo
l ％）をＴＨＦに懸濁し、氷冷下に化合物（８）のＴＨ
Ｆ溶液を滴下し、３０分撹拌した。水、１５％ＮａＯＨ
水溶液及び水の順に反応液に加え、析出物を濾去、溶媒
を減圧留去し、化合物（９）のジオール体を得た。
l ％）をＴＨＦに懸濁し、氷冷下に化合物（８）のＴＨ
Ｆ溶液を滴下し、３０分撹拌した。水、１５％ＮａＯＨ
水溶液及び水の順に反応液に加え、析出物を濾去、溶媒
を減圧留去し、化合物（９）のジオール体を得た。
【００９７】次いで、化合物（９）及びイミダゾール
（２eq.)をジクロロメタンに溶解し、氷冷下にｔ−ブチ
ルジメチルシリルクロリド（ＴＢＳ−Ｃｌ）（１．２e
q.)を加え、１時間撹拌した。反応液を水、１N 塩酸水
溶液及び飽和重曹水の順に洗浄し、溶媒を減圧留去し
た。残分をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、ａ
ｎｔｉ体（１０）を６８％の収率で得た。
（２eq.)をジクロロメタンに溶解し、氷冷下にｔ−ブチ
ルジメチルシリルクロリド（ＴＢＳ−Ｃｌ）（１．２e
q.)を加え、１時間撹拌した。反応液を水、１N 塩酸水
溶液及び飽和重曹水の順に洗浄し、溶媒を減圧留去し
た。残分をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、ａ
ｎｔｉ体（１０）を６８％の収率で得た。
【００９８】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.01(s, 6H), 0.83(s,
9H), 0.85(s, 3H), 0.89(s, 3H),3.36(d, 1H, J=4.6H
z), 3.39(s, 3H), 3.40(s, 3H), 3.46(ddd, 1H, J=3.6,
5.6, 9.2Hz), 3.68(dd, 1H, J=4.6, 9.2Hz), 3.78(dd,
1H, J=5.6, 11.2Hz), 3.92(dd, 1H, J=3.6, 11.2Hz),
4.06(s, 1H), 4.47(d, 1H, J=11.5Hz), 4.65(d, 1H,J=1
1.5Hz), 7.16-7.33(m, 5H) 例７ ４−ベンジルオキシ−５−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−２，２−ジメチル−３−（ｐ−メトキ
シベンジルオキシ）ペンタナール（１１）
9H), 0.85(s, 3H), 0.89(s, 3H),3.36(d, 1H, J=4.6H
z), 3.39(s, 3H), 3.40(s, 3H), 3.46(ddd, 1H, J=3.6,
5.6, 9.2Hz), 3.68(dd, 1H, J=4.6, 9.2Hz), 3.78(dd,
1H, J=5.6, 11.2Hz), 3.92(dd, 1H, J=3.6, 11.2Hz),
4.06(s, 1H), 4.47(d, 1H, J=11.5Hz), 4.65(d, 1H,J=1
1.5Hz), 7.16-7.33(m, 5H) 例７ ４−ベンジルオキシ−５−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−２，２−ジメチル−３−（ｐ−メトキ
シベンジルオキシ）ペンタナール（１１）
【００９９】
【化１６】
【０１００】１）化合物（１０）及びｐ−メトキシベン
ジル−２，２，２−トリクロロアセトイミデート（２e
q.)をエーテルに溶解し、室温で触媒量のトリフルオロ
メタンスルホン酸（０．０３mol ％）のエーテル溶液を
加え、１５分撹拌した。飽和重曹水を加え、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。残分
をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。
ジル−２，２，２−トリクロロアセトイミデート（２e
q.)をエーテルに溶解し、室温で触媒量のトリフルオロ
メタンスルホン酸（０．０３mol ％）のエーテル溶液を
加え、１５分撹拌した。飽和重曹水を加え、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。残分
をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。
【０１０１】２）その後、酢酸：ＴＨＦ：水＝４：２：
１溶液を加え、室温で１時間撹拌した。氷冷下、炭酸ナ
トリウム粉末を加えて中和し、酢酸エチルで抽出、水及
び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、無色油状物（１１）を８０％の収率で得た。
１溶液を加え、室温で１時間撹拌した。氷冷下、炭酸ナ
トリウム粉末を加えて中和し、酢酸エチルで抽出、水及
び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、無色油状物（１１）を８０％の収率で得た。
【０１０２】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.01(s, 6H), 0.87(s,
9H), 0.99(s, 3H), 1.08(s, 3H),3.32-3.38(m, 1H),
3.76(s, 3H), 3.70-3.93(m, 3H), 4.35(d, 1H, J=11.2H
z),4.49(d, 1H, J=10.9Hz), 4.56(d, 1H, J=11.2Hz),
4.64(d, 1H, J=10.9Hz), 6.83(d, 2H, J=8.6Hz), 7.19-
7.31(m, 7H), 9.33(s, 1H) 例８ メチル ７−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２，６−ジベンジルオキシ−４，４−ジメチル−
３−ヒドロキシ−５−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）
ヘプタノエート（１２）
9H), 0.99(s, 3H), 1.08(s, 3H),3.32-3.38(m, 1H),
3.76(s, 3H), 3.70-3.93(m, 3H), 4.35(d, 1H, J=11.2H
z),4.49(d, 1H, J=10.9Hz), 4.56(d, 1H, J=11.2Hz),
4.64(d, 1H, J=10.9Hz), 6.83(d, 2H, J=8.6Hz), 7.19-
7.31(m, 7H), 9.33(s, 1H) 例８ メチル ７−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２，６−ジベンジルオキシ−４，４−ジメチル−
３−ヒドロキシ−５−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）
ヘプタノエート（１２）
【０１０３】
【化１７】
【０１０４】マグネシウムブロミド（３．０eq.)をトル
エンに懸濁し、氷冷下に化合物（１１）を加え、３０分
後に２−ベンジルオキシケテン−ｔ−ブチルジメチルシ
リル−メチルアセタール（１．２eq.)のトルエン溶液を
加え、１時間撹拌した。反応液を冷飽和重曹水に注ぎ、
酢酸エチルで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を減圧留去した。残分をシリカゲルクロマトグラフィー
で精製し、無色油状物（１２）を８３％の収率で得た。
エンに懸濁し、氷冷下に化合物（１１）を加え、３０分
後に２−ベンジルオキシケテン−ｔ−ブチルジメチルシ
リル−メチルアセタール（１．２eq.)のトルエン溶液を
加え、１時間撹拌した。反応液を冷飽和重曹水に注ぎ、
酢酸エチルで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を減圧留去した。残分をシリカゲルクロマトグラフィー
で精製し、無色油状物（１２）を８３％の収率で得た。
【０１０５】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.01(s, 6H), 0.83(s,
3H), 0.84(s, 9H), 0.91(s, 3H),3.58(d, 1H, J=4.9H
z), 3.67(s, 3H), 3.72(s, 3H), 3.65-3.83(m, 2H), 3.
91-4.01(m, 2H), 4.21-4.32(m, 2H), 4.48-4.68(m, 6
H), 6.96(d, 2H, J=8.6Hz), 7.17-7.31(m, 12H) 例９ メチル ２，６−ジベンジルオキシ−３，７−ジ
−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメ
チル−５−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）ヘプタノエ
ート（１３）
3H), 0.84(s, 9H), 0.91(s, 3H),3.58(d, 1H, J=4.9H
z), 3.67(s, 3H), 3.72(s, 3H), 3.65-3.83(m, 2H), 3.
91-4.01(m, 2H), 4.21-4.32(m, 2H), 4.48-4.68(m, 6
H), 6.96(d, 2H, J=8.6Hz), 7.17-7.31(m, 12H) 例９ メチル ２，６−ジベンジルオキシ−３，７−ジ
−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメ
チル−５−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）ヘプタノエ
ート（１３）
【０１０６】
【化１８】
【０１０７】２，６−ルチジン（２．４eq.)及びＴＢＳ
−ＯＴｆ（２．０eq.)を氷冷下にジクロロメタンに溶解
し、次いで化合物（１２）のジクロロメタン溶液を滴下
し、１時間撹拌した。反応液を水で希釈し、ジクロロメ
タンで抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧留去した。残分をシリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、化合物（１３）を７２％の収率で得た。
−ＯＴｆ（２．０eq.)を氷冷下にジクロロメタンに溶解
し、次いで化合物（１２）のジクロロメタン溶液を滴下
し、１時間撹拌した。反応液を水で希釈し、ジクロロメ
タンで抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧留去した。残分をシリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、化合物（１３）を７２％の収率で得た。
【０１０８】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.01(s, 6H), 0.02(s,
6H), 0.83(s, 9H), 0.86(s, 9H),0.94(s, 3H), 0.95
(s, 3H), 3.60(s, 3H), 3.70(s, 3H), 3.75-4.04(m, 2
H), 4.15-4.28(m, 4H), 4.42-4.48(m, 2H), 4.62-4.78
(m, 4H), 6.76(d, 1H, J=8.6Hz), 7.12-7.29(m, 12H) 例１０ ２，６−ジベンジルオキシ−３，７−ジ−（ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメチル−
５−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）ヘプタナール（１
４）
6H), 0.83(s, 9H), 0.86(s, 9H),0.94(s, 3H), 0.95
(s, 3H), 3.60(s, 3H), 3.70(s, 3H), 3.75-4.04(m, 2
H), 4.15-4.28(m, 4H), 4.42-4.48(m, 2H), 4.62-4.78
(m, 4H), 6.76(d, 1H, J=8.6Hz), 7.12-7.29(m, 12H) 例１０ ２，６−ジベンジルオキシ−３，７−ジ−（ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメチル−
５−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）ヘプタナール（１
４）
【０１０９】
【化１９】
【０１１０】１）化合物（１３）をトルエンに溶解し、
−７８℃に冷却、そこにＤＩＢＡＬ−Ｈ（トルエン溶
液、２．０eq.)を滴下し、同温度で３０分撹拌した。メ
タノールを加えて反応を停止し、室温まで昇温した。析
出物を濾去し、濾液を濃縮した。
−７８℃に冷却、そこにＤＩＢＡＬ−Ｈ（トルエン溶
液、２．０eq.)を滴下し、同温度で３０分撹拌した。メ
タノールを加えて反応を停止し、室温まで昇温した。析
出物を濾去し、濾液を濃縮した。
【０１１１】２）次いで、オキザリルクロリド（２．０
eq.)をジクロロメタンに溶解し、−７８℃に冷却後ＤＭ
ＳＯ（４．０eq.)のジクロロメタン溶液を滴下した。１
０分後に１）で得られたアルコール体のジクロロメタン
溶液を滴下し、３０分後にトリエチルアミン（６eq.)を
加えて反応を停止し、−７８℃で飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。シリカゲルク
ロマトグラフィーで精製し、化合物（１４）を７６％の
収率で得た。
eq.)をジクロロメタンに溶解し、−７８℃に冷却後ＤＭ
ＳＯ（４．０eq.)のジクロロメタン溶液を滴下した。１
０分後に１）で得られたアルコール体のジクロロメタン
溶液を滴下し、３０分後にトリエチルアミン（６eq.)を
加えて反応を停止し、−７８℃で飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。シリカゲルク
ロマトグラフィーで精製し、化合物（１４）を７６％の
収率で得た。
【０１１２】例１１ ３，７−ジベンジルオキシ−４，
８−ジ−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−５，５
−ジメチル−６−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）−２
−オクタノン（１６）
８−ジ−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−５，５
−ジメチル−６−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）−２
−オクタノン（１６）
【０１１３】
【化２０】
【０１１４】１）メチルマグネシウムブロミド（３．０
eq.)のエーテル溶液を−７８℃に冷却し、例１０で得ら
れたアルデヒド体（１４）のエーテル溶液を滴下し、２
時間撹拌した。次いで、飽和塩化アンモニウム水溶液を
加えて反応を停止した。エーテルで抽出し、飽和食塩水
で洗浄、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧留去した。
eq.)のエーテル溶液を−７８℃に冷却し、例１０で得ら
れたアルデヒド体（１４）のエーテル溶液を滴下し、２
時間撹拌した。次いで、飽和塩化アンモニウム水溶液を
加えて反応を停止した。エーテルで抽出し、飽和食塩水
で洗浄、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧留去した。
【０１１５】２）次いで、オキザリルクロリド（３．０
eq.)をジクロロメタンに溶解し、−７８℃に冷却後ＤＭ
ＳＯ（６．０eq.)のジクロロメタン溶液を滴下した。１
０分後に１）で得られたアルコール体のジクロロメタン
溶液を滴下し、３０分後、−４５℃まで昇温した。トリ
エチルアミン（１２eq.)を加えて反応を停止し、飽和塩
化アンモニウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し
た。シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、化合物
（１６）を８５％の収率で得た。
eq.)をジクロロメタンに溶解し、−７８℃に冷却後ＤＭ
ＳＯ（６．０eq.)のジクロロメタン溶液を滴下した。１
０分後に１）で得られたアルコール体のジクロロメタン
溶液を滴下し、３０分後、−４５℃まで昇温した。トリ
エチルアミン（１２eq.)を加えて反応を停止し、飽和塩
化アンモニウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し
た。シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、化合物
（１６）を８５％の収率で得た。
【０１１６】NMR δ(CDCl3/TMS) -0.05(s, 6H), 0.08
(s, 3H), 0.09(s, 3H), 0.89(s, 9H),0.94(s, 9H), 0.9
7(s, 3H), 0.99(s, 3H), 2.23(s, 3H), 3.52-3.56(m, 1
H), 3.79(s, 3H), 3.80-3.86(m, 1H), 4.02-4.09(m, 3
H), 4.20(s, 2H), 4.32(d, 1H,J=2.6Hz), 4.40(d, 1H,
J=11.2Hz), 4.54(d, 1H, J=10.9Hz), 4.62(d, 1H, J=1
0.9Hz), 4.73(d, 1H, J=11.2Hz), 6.86(d, 2H, J=8.9H
z), 7.10-7.37(m, 12H) 例１２ ３，７−ジベンジルオキシ−４−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５，５−ジメチル−８−ヒド
ロキシ−６−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）−２−オ
クタノン（１７）
(s, 3H), 0.09(s, 3H), 0.89(s, 9H),0.94(s, 9H), 0.9
7(s, 3H), 0.99(s, 3H), 2.23(s, 3H), 3.52-3.56(m, 1
H), 3.79(s, 3H), 3.80-3.86(m, 1H), 4.02-4.09(m, 3
H), 4.20(s, 2H), 4.32(d, 1H,J=2.6Hz), 4.40(d, 1H,
J=11.2Hz), 4.54(d, 1H, J=10.9Hz), 4.62(d, 1H, J=1
0.9Hz), 4.73(d, 1H, J=11.2Hz), 6.86(d, 2H, J=8.9H
z), 7.10-7.37(m, 12H) 例１２ ３，７−ジベンジルオキシ−４−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５，５−ジメチル−８−ヒド
ロキシ−６−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）−２−オ
クタノン（１７）
【０１１７】
【化２１】
【０１１８】化合物（１６）（６５０mg、０．８４９mm
ol）をＴＨＦ７８mlに溶解し、０℃に冷却、次いで０．
８N 塩酸５２mlを加え、７時間撹拌した。飽和重曹水を
加え、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥、溶媒を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製し、化合物（１７）を９６％の収率で得た。
ol）をＴＨＦ７８mlに溶解し、０℃に冷却、次いで０．
８N 塩酸５２mlを加え、７時間撹拌した。飽和重曹水を
加え、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥、溶媒を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製し、化合物（１７）を９６％の収率で得た。
【０１１９】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.06(s, 3H), 0.07(s,
3H), 0.93(s, 9H), 0.99(s, 3H),1.02(s, 3H), 2.25
(s, 3H), 2.67(brs, 1H), 3.58-3.76(m, 1H), 3.79(s,
3H),3.86-4.03(m, 3H), 4.24-4.73(m, 8H), 6.87(d, 2
H, J=8.6Hz), 7.19-7.31(m, 12H) 例１３ ２，６−ジベンジルオキシ−５−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメチル−３−（ｐ
−メトキシベンジルオキシ）−７−オキソオクタナール
（１８）
3H), 0.93(s, 9H), 0.99(s, 3H),1.02(s, 3H), 2.25
(s, 3H), 2.67(brs, 1H), 3.58-3.76(m, 1H), 3.79(s,
3H),3.86-4.03(m, 3H), 4.24-4.73(m, 8H), 6.87(d, 2
H, J=8.6Hz), 7.19-7.31(m, 12H) 例１３ ２，６−ジベンジルオキシ−５−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメチル−３−（ｐ
−メトキシベンジルオキシ）−７−オキソオクタナール
（１８）
【０１２０】
【化２２】
【０１２１】オキザリルクロリド（５．０eq.)をジクロ
ロメタンに溶解し、−７８℃に冷却後ＤＭＳＯ（１０e
q.)のジクロロメタン溶液を滴下した。１０分後に例１
２で得られたアルコール体（１７）のジクロロメタン溶
液を滴下し、１時間後にトリエチルアミン（２０eq.)を
加えて反応を停止し、−７８℃で飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。シリカゲルク
ロマトグラフィーで精製し、化合物（１８）を９６％の
収率で得た。
ロメタンに溶解し、−７８℃に冷却後ＤＭＳＯ（１０e
q.)のジクロロメタン溶液を滴下した。１０分後に例１
２で得られたアルコール体（１７）のジクロロメタン溶
液を滴下し、１時間後にトリエチルアミン（２０eq.)を
加えて反応を停止し、−７８℃で飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。シリカゲルク
ロマトグラフィーで精製し、化合物（１８）を９６％の
収率で得た。
【０１２２】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.01(s, 6H), 0.85(s,
9H), 0.87(s, 3H), 0.92(s, 3H),2.14(s, 3H), 3.70
(s, 3H), 3.85-3.94(m, 4H), 4.17-4.55(m, 6H), 6.78
(d, 2H, J=8.6Hz), 7.12-7.27(m, 12H), 9.59(d, 1H, J
=2.0Hz) 例１４ ３，７−ジベンジルオキシ−４−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５，５−ジメチル−６−（ｐ
−メトキシベンジルオキシ）−８−フェニルチオ−８−
トリメチルシリルオキシ−２−オクタノン（１９）
9H), 0.87(s, 3H), 0.92(s, 3H),2.14(s, 3H), 3.70
(s, 3H), 3.85-3.94(m, 4H), 4.17-4.55(m, 6H), 6.78
(d, 2H, J=8.6Hz), 7.12-7.27(m, 12H), 9.59(d, 1H, J
=2.0Hz) 例１４ ３，７−ジベンジルオキシ−４−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５，５−ジメチル−６−（ｐ
−メトキシベンジルオキシ）−８−フェニルチオ−８−
トリメチルシリルオキシ−２−オクタノン（１９）
【０１２３】
【化２３】
【０１２４】トリメチルシリルクロリド（ＴＭＳ−Ｃ
ｌ）（３２mg、５０mol ％）及びＡｇＣｌＯ4(６１mg、
５０mol ％）をトルエン２mlに溶解し、室温で１時間撹
拌した。次いで−７８℃に冷却後化合物（１８）（３８
１．９mg、０．５８９mmol）及びＰｈＳ−ＴＭＳ（４２
９．３mg、４eq.)のトルエン溶液２．０mlを加えた。ト
リエチルアミン（４eq）を加えた後、飽和重曹水を加
え、酢酸エチルで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、化合物（１９）を９０％の収率で得た。
ｌ）（３２mg、５０mol ％）及びＡｇＣｌＯ4(６１mg、
５０mol ％）をトルエン２mlに溶解し、室温で１時間撹
拌した。次いで−７８℃に冷却後化合物（１８）（３８
１．９mg、０．５８９mmol）及びＰｈＳ−ＴＭＳ（４２
９．３mg、４eq.)のトルエン溶液２．０mlを加えた。ト
リエチルアミン（４eq）を加えた後、飽和重曹水を加
え、酢酸エチルで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去した。シリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、化合物（１９）を９０％の収率で得た。
【０１２５】NMR δ(CDCl3/TMS) -0.02(s, 3H), 0.00
(s, 9H), 0.04(s, 3H), 1.00(s, 9H),1.10(s, 3H), 1.1
4(s, 3H), 2.34(s, 3H), 3.89(s, 3H), 3.93(d, 1H, J=
5.3Hz), 4.30-4.79(m, 8H), 5.44(d, 1H, 10.9Hz), 5.5
6(s, 1H), 6.91(d, 2H, J=8.6Hz), 7.22-7.81(m, 17H) 例１５ ３，７−ジベンジルオキシ−４−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５，５−ジメチル−６−（ｐ
−メトキシベンジルオキシ）−２−トリメチルシリルオ
キシ−８−フェニルチオ−８−トリメチルシリルオキシ
−１−オクテン（２０）
(s, 9H), 0.04(s, 3H), 1.00(s, 9H),1.10(s, 3H), 1.1
4(s, 3H), 2.34(s, 3H), 3.89(s, 3H), 3.93(d, 1H, J=
5.3Hz), 4.30-4.79(m, 8H), 5.44(d, 1H, 10.9Hz), 5.5
6(s, 1H), 6.91(d, 2H, J=8.6Hz), 7.22-7.81(m, 17H) 例１５ ３，７−ジベンジルオキシ−４−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５，５−ジメチル−６−（ｐ
−メトキシベンジルオキシ）−２−トリメチルシリルオ
キシ−８−フェニルチオ−８−トリメチルシリルオキシ
−１−オクテン（２０）
【０１２６】
【化２４】
【０１２７】（ＴＭＳ)2ＮＨ（６．７５g 、４１．８３
mmol）をＴＨＦ３０mlに溶解し、氷冷下にｎ−ＢｕＬｉ
（ｎ−ヘキサン溶液、２２．１ml、３８mmol）を滴下、
３０分撹拌した。次いで−７８℃に冷却し、化合物（１
９）（３．１６g 、３．８mmol）のＴＨＦ溶液１０mlを
加え、１時間撹拌した。トリメチルシリルクロリド
（６．２g 、５７mmol）を加え、室温まで昇温した。溶
媒を減圧留去し、不活性化したシリカゲルクロマトグラ
フィーで精製し、化合物（２０）を８７％の収率で得
た。
mmol）をＴＨＦ３０mlに溶解し、氷冷下にｎ−ＢｕＬｉ
（ｎ−ヘキサン溶液、２２．１ml、３８mmol）を滴下、
３０分撹拌した。次いで−７８℃に冷却し、化合物（１
９）（３．１６g 、３．８mmol）のＴＨＦ溶液１０mlを
加え、１時間撹拌した。トリメチルシリルクロリド
（６．２g 、５７mmol）を加え、室温まで昇温した。溶
媒を減圧留去し、不活性化したシリカゲルクロマトグラ
フィーで精製し、化合物（２０）を８７％の収率で得
た。
【０１２８】例１６ ８−ブロモ−２，６−ジベンジル
オキシ−５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−
４，４−ジメチル−３−（ｐ−メトキシベンジルオキ
シ）−７−オキソオクタナール（２２）
オキシ−５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−
４，４−ジメチル−３−（ｐ−メトキシベンジルオキ
シ）−７−オキソオクタナール（２２）
【０１２９】
【化２５】
【０１３０】１）化合物（２０）（５２７．３mg、０．
５８４mmol）をＴＨＦ２０mlに溶解し、０℃で１０分間
撹拌し、そこにＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）
（１０４．０mg、０．５８４mmol）を加えて５分間撹拌
した。リン酸緩衝液を加え、エーテルで抽出、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。シリカゲル
クロマトグラフィーで精製し、化合物（２１）を８５
％、化合物（２２）を１３％得た。
５８４mmol）をＴＨＦ２０mlに溶解し、０℃で１０分間
撹拌し、そこにＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）
（１０４．０mg、０．５８４mmol）を加えて５分間撹拌
した。リン酸緩衝液を加え、エーテルで抽出、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。シリカゲル
クロマトグラフィーで精製し、化合物（２１）を８５
％、化合物（２２）を１３％得た。
【０１３１】２）化合物（２１）（４００．１mg、０．
４９４mmol）をＴＨＦ／１N 塩酸＝１０／１の混合溶媒
で３時間撹拌した。飽和重曹水を加え、エーテルで抽
出、水及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製し、化合物（２２）を総収率９５％で得た。
４９４mmol）をＴＨＦ／１N 塩酸＝１０／１の混合溶媒
で３時間撹拌した。飽和重曹水を加え、エーテルで抽
出、水及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製し、化合物（２２）を総収率９５％で得た。
【０１３２】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.059(s, 3H), 0.076
(s, 3H), 0.922(s, 9H), 0.939(s, 3H), 0.967(s, 3H),
3.802(s, 3H), 3.87-4.60(m, 12H), 6.87(d, 2H, J=8.
58Hz), 7.21-7.31(m, 12H), 9.67(d, 1H, J=1.97Hz) 例１７ ２，６−ジベンジルオキシ−３−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメチル−７−ヒド
ロキシ−５−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）シクロオ
クタノン（２３）
(s, 3H), 0.922(s, 9H), 0.939(s, 3H), 0.967(s, 3H),
3.802(s, 3H), 3.87-4.60(m, 12H), 6.87(d, 2H, J=8.
58Hz), 7.21-7.31(m, 12H), 9.67(d, 1H, J=1.97Hz) 例１７ ２，６−ジベンジルオキシ−３−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメチル−７−ヒド
ロキシ−５−（ｐ−メトキシベンジルオキシ）シクロオ
クタノン（２３）
【０１３３】
【化２６】
【０１３４】化合物（２２）（７６６．０mg、１．０５
mmol）をＴＨＦ １０mlに溶解し、０℃で１０分間撹拌
した。沃化サマリウム（ＳｍＩ2)（ＴＨＦ溶媒、２．５
eq）をゆっくり滴下し、１時間撹拌した。リン酸緩衝液
を加え、エーテルで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィー
で精製し、化合物（２３）を８５％の収率で得た。
mmol）をＴＨＦ １０mlに溶解し、０℃で１０分間撹拌
した。沃化サマリウム（ＳｍＩ2)（ＴＨＦ溶媒、２．５
eq）をゆっくり滴下し、１時間撹拌した。リン酸緩衝液
を加え、エーテルで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィー
で精製し、化合物（２３）を８５％の収率で得た。
【０１３５】NMR δ(CDCl3/TMS) -0.05-0.97(m, 6H),
1.10-1.23(m, 15H), 2.39-4.92(m, 14H), 6.81-7.29(m,
14H) 例１８ ２，６−ジベンジルオキシ−３−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメチル−５−（ｐ
−メトキシベンジルオキシ）−７−シクロオクテノン
（１）
1.10-1.23(m, 15H), 2.39-4.92(m, 14H), 6.81-7.29(m,
14H) 例１８ ２，６−ジベンジルオキシ−３−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−４，４−ジメチル−５−（ｐ
−メトキシベンジルオキシ）−７−シクロオクテノン
（１）
【０１３６】
【化２７】
【０１３７】化合物（２３）（５７５．３mg ０．８８
８mmol）をジクロロメタン１０mlに溶解し、０℃で１０
分間撹拌した。ジイソプロピルエチルアミン（５eq.)の
ジクロロメタン溶液を滴下し、次いでメシルクロリド
（ＭｓＣｌ）（３eq）のジクロロメタン溶液を滴下し、
室温で３０分間撹拌した。再び０℃に冷却し、ＤＢＵ
（１０eq）のジクロロメタン溶液を滴下し、室温で３０
分間撹拌した。リン酸緩衝液を加え、ジクロロメタンで
抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、収率８１
％で化合物（１）を得た。
８mmol）をジクロロメタン１０mlに溶解し、０℃で１０
分間撹拌した。ジイソプロピルエチルアミン（５eq.)の
ジクロロメタン溶液を滴下し、次いでメシルクロリド
（ＭｓＣｌ）（３eq）のジクロロメタン溶液を滴下し、
室温で３０分間撹拌した。再び０℃に冷却し、ＤＢＵ
（１０eq）のジクロロメタン溶液を滴下し、室温で３０
分間撹拌した。リン酸緩衝液を加え、ジクロロメタンで
抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、収率８１
％で化合物（１）を得た。
【０１３８】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.00(s, 6H), 0.673-
1.007(m, 15H), 3.34-5.36(m, 10H),5.79-6.43(m, 2H),
6.76-7.24(m, 14H) 例１９ メチル ３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピオネート（２５）
1.007(m, 15H), 3.34-5.36(m, 10H),5.79-6.43(m, 2H),
6.76-7.24(m, 14H) 例１９ メチル ３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピオネート（２５）
【０１３９】
【化２８】
【０１４０】アルゴン雰囲気下、化合物（２４）（１
７．１g 、１４２mmol）及びイミダゾール（２１．４g
、１４２mmol）をＤＭＦ １００mlに溶解し、０℃に
冷却してｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（２２．３
g 、３２７mmol）のＤＭＦ溶液をゆっくりと滴下した。
１時間撹拌後、冷水２００mlを加え、反応を停止させ
た。その後エーテルで抽出、水で数回洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製し、無色油状物（２５）
を２７．５g 、８２％の収率で得た。
７．１g 、１４２mmol）及びイミダゾール（２１．４g
、１４２mmol）をＤＭＦ １００mlに溶解し、０℃に
冷却してｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（２２．３
g 、３２７mmol）のＤＭＦ溶液をゆっくりと滴下した。
１時間撹拌後、冷水２００mlを加え、反応を停止させ
た。その後エーテルで抽出、水で数回洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製し、無色油状物（２５）
を２７．５g 、８２％の収率で得た。
【０１４１】NMR δ(CDCl3/TMS) 0.00(s, 6H), 0.84(s,
9H), 2.85(d, 1H, J=7.0Hz), 3.73(s, 3H), 3.73-4.20
(m, 3H) 例２０ メチル ３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２−ベンジルオキシプロピオネート（２６）
9H), 2.85(d, 1H, J=7.0Hz), 3.73(s, 3H), 3.73-4.20
(m, 3H) 例２０ メチル ３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２−ベンジルオキシプロピオネート（２６）
【０１４２】
【化２９】
【０１４３】化合物（２５）（２７．５g 、１１７mmo
l）及びベンジル−２，２，２−トリフルオロアセトイ
ミデート（６１．１g 、２４２mmol）をエーテル２３０
mlに溶解し、０℃に冷却してトリフルオロメタンスルホ
ン酸（０．８８g 、５．８mmol）のエーテル溶液１mlを
加え撹拌した。約１時間還流した後、飽和重曹水２００
mlを加えて反応を停止させた。エーテルで抽出し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した後、シリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製し、無色油状物（２６）
を３２．３g 、８５％の収率で得た。
l）及びベンジル−２，２，２−トリフルオロアセトイ
ミデート（６１．１g 、２４２mmol）をエーテル２３０
mlに溶解し、０℃に冷却してトリフルオロメタンスルホ
ン酸（０．８８g 、５．８mmol）のエーテル溶液１mlを
加え撹拌した。約１時間還流した後、飽和重曹水２００
mlを加えて反応を停止させた。エーテルで抽出し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した後、シリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製し、無色油状物（２６）
を３２．３g 、８５％の収率で得た。
【０１４４】NMR δ(CCl4) 0.00(s, 6H), 0.84(s, 9H),
3.66(s, 3H), 3.70-3.90(m, 3H),4.35(d, 1H, J=12H
z), 4.65(d, 1H, J=12Hz), 7.25(s, 5H) 例２１ ２−ベンジルオキシ−３−（ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）−プロパナール（２８）
3.66(s, 3H), 3.70-3.90(m, 3H),4.35(d, 1H, J=12H
z), 4.65(d, 1H, J=12Hz), 7.25(s, 5H) 例２１ ２−ベンジルオキシ−３−（ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）−プロパナール（２８）
【０１４５】
【化３０】
【０１４６】化合物（２６）（１５２．３mg、０．４７
mmol）をジクロロメタン５mlに溶解し、−７８℃に冷却
した後水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）
（１．４１mmol）の１．０M ヘキサン溶液１．４１mlを
滴下し、同温で１５分撹拌後０℃まで昇温させ、さらに
１時間撹拌した。メタノール３mlを加えて１時間撹拌
後、溶媒を減圧留去した後、析出物を濾別し、シリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製し、無色油状物（２７）を
９９．１mg、７１．２％の収率で得た。
mmol）をジクロロメタン５mlに溶解し、−７８℃に冷却
した後水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）
（１．４１mmol）の１．０M ヘキサン溶液１．４１mlを
滴下し、同温で１５分撹拌後０℃まで昇温させ、さらに
１時間撹拌した。メタノール３mlを加えて１時間撹拌
後、溶媒を減圧留去した後、析出物を濾別し、シリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製し、無色油状物（２７）を
９９．１mg、７１．２％の収率で得た。
【０１４７】次にオキザリルクロリド（５．１３g 、４
０．５mmol）のジクロロメタン溶液を−７８℃に冷却し
た後、ＤＭＳＯ（３．９５g 、５０．６mmol）のジクロ
ロメタン溶液をゆっくりと滴下し、１０分後に化合物
（２７）（１０．０g 、３４mmol）のジクロロメタン溶
液を同温で滴下し、３０分間撹拌した。トリエチルアミ
ン（１０．２g 、１０１mmol）を同温で加え、室温まで
昇温させた後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反
応を停止させ、ジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、エーテルを加え
不溶物を濾別した後、更に溶媒を減圧留去した。残分を
シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、無色油状物
（２８）を８．３３g 、８４％の収率で得た。
０．５mmol）のジクロロメタン溶液を−７８℃に冷却し
た後、ＤＭＳＯ（３．９５g 、５０．６mmol）のジクロ
ロメタン溶液をゆっくりと滴下し、１０分後に化合物
（２７）（１０．０g 、３４mmol）のジクロロメタン溶
液を同温で滴下し、３０分間撹拌した。トリエチルアミ
ン（１０．２g 、１０１mmol）を同温で加え、室温まで
昇温させた後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反
応を停止させ、ジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、エーテルを加え
不溶物を濾別した後、更に溶媒を減圧留去した。残分を
シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、無色油状物
（２８）を８．３３g 、８４％の収率で得た。
【０１４８】NMR δ(CCl4) (27) 0.00(s, 6H), 0.84(s, 9H), 2.65(brs, 1H), 3.70
-3.85(m, 4H), 3.90-4.10(m, 1H), 4.25-4.70(m, 2H),
7.24(s, 5H) (28) 0.00(s, 6H), 0.84(s, 9H), 3.50-3.90(m, 3H),
4.64(s, 2H), 7.29(s,5H), 9.65(s, 1H) 例２２ メチル ５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−４−ベンジルオキシ−２，２−ジメチル−３−ヒ
ドロキシペンタノエート（２９）
-3.85(m, 4H), 3.90-4.10(m, 1H), 4.25-4.70(m, 2H),
7.24(s, 5H) (28) 0.00(s, 6H), 0.84(s, 9H), 3.50-3.90(m, 3H),
4.64(s, 2H), 7.29(s,5H), 9.65(s, 1H) 例２２ メチル ５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−４−ベンジルオキシ−２，２−ジメチル−３−ヒ
ドロキシペンタノエート（２９）
【０１４９】
【化３１】
【０１５０】ジイソプロピルアミン（３．７２g 、３
６．８mmol）をＴＨＦに溶解し、氷冷下ｎ−ブチルリチ
ウム（１９．９ml、３４．０mmol）のヘキサン溶液をゆ
っくりと滴下し、３０分間撹拌後−７８℃に冷却し、イ
ソ酪酸メチル（３．７６g 、３６．８mmol）のＴＨＦ溶
液を加え、３０分間撹拌し、化合物（２８）（８．３３
g 、２８．３mmol）のＴＨＦ溶液を同温で加え、更に３
０分間撹拌した。次いで、飽和塩化アンモニウム水溶液
を加えて反応を停止させ、室温まで昇温させた後、酢酸
エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精
製して、淡黄色油状物（２９）を４．９９g 、４５％の
収率で得た。
６．８mmol）をＴＨＦに溶解し、氷冷下ｎ−ブチルリチ
ウム（１９．９ml、３４．０mmol）のヘキサン溶液をゆ
っくりと滴下し、３０分間撹拌後−７８℃に冷却し、イ
ソ酪酸メチル（３．７６g 、３６．８mmol）のＴＨＦ溶
液を加え、３０分間撹拌し、化合物（２８）（８．３３
g 、２８．３mmol）のＴＨＦ溶液を同温で加え、更に３
０分間撹拌した。次いで、飽和塩化アンモニウム水溶液
を加えて反応を停止させ、室温まで昇温させた後、酢酸
エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精
製して、淡黄色油状物（２９）を４．９９g 、４５％の
収率で得た。
【０１５１】NMR δ(CCl4) 0.00(s, 6H), 0.84(s, 9H),
1.07(s, 3H), 1.12(s, 3H), 2.95(brs, 1H), 3.23(s,
3H), 3.23-3.40(m, 1H), 3.65-3.90(m, 3H), 4.25(d, 1
H, J=11Hz), 4.50(d, 1H, J=11Hz), 7.18(s, 5H) 例２３ メチル ５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−４−ベンジルオキシ−２，２−ジメチル−３−
（ｐ−メトキシベンジルオキシ）ペンタノエート（３
０）
1.07(s, 3H), 1.12(s, 3H), 2.95(brs, 1H), 3.23(s,
3H), 3.23-3.40(m, 1H), 3.65-3.90(m, 3H), 4.25(d, 1
H, J=11Hz), 4.50(d, 1H, J=11Hz), 7.18(s, 5H) 例２３ メチル ５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−４−ベンジルオキシ−２，２−ジメチル−３−
（ｐ−メトキシベンジルオキシ）ペンタノエート（３
０）
【０１５２】
【化３２】
【０１５３】化合物（２９）（１１７．３mg、０．３０
mmol）及びｐ−メトキシベンジル−２，２，２−トリク
ロロアセトイミデート（２５０mg、０．９０mmol）をエ
ーテルに溶解し、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン
酸（０．１３mg、０．０００８９mmol）のエーテル溶液
を加え、同温で約１時間撹拌後、飽和重曹水水溶液を加
えて反応を停止させた。エーテルで抽出後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して、薄層クロマト
グラフィーで精製し、無色油状物（３０）を７１．２m
g、４７％の収率で得た。
mmol）及びｐ−メトキシベンジル−２，２，２−トリク
ロロアセトイミデート（２５０mg、０．９０mmol）をエ
ーテルに溶解し、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン
酸（０．１３mg、０．０００８９mmol）のエーテル溶液
を加え、同温で約１時間撹拌後、飽和重曹水水溶液を加
えて反応を停止させた。エーテルで抽出後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して、薄層クロマト
グラフィーで精製し、無色油状物（３０）を７１．２m
g、４７％の収率で得た。
【０１５４】NMR δ(CCl4) 0.00(s, 6H), 0.88(s, 9H),
1.08(s, 3H), 1.19(s, 3H), 3.25(s, 3H), 3.25-3.45
(m, 1H), 3.63-3.95(m, 3H), 3.71(s, 3H), 4.20-4.70
(m, 4H), 6.50-7.35(m, 9H) 例２４ ５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−ベンジルオキシ−２，２−ジメチル−３−（ｐ−メト
キシベンジルオキシ）ペンタノール（３１）
1.08(s, 3H), 1.19(s, 3H), 3.25(s, 3H), 3.25-3.45
(m, 1H), 3.63-3.95(m, 3H), 3.71(s, 3H), 4.20-4.70
(m, 4H), 6.50-7.35(m, 9H) 例２４ ５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−ベンジルオキシ−２，２−ジメチル−３−（ｐ−メト
キシベンジルオキシ）ペンタノール（３１）
【０１５５】
【化３３】
【０１５６】化合物（３０）（７１．２mg、０．１４mm
ol）をジクロロメタン２mlに溶解し、−７８℃に冷却
後、水素化ジイソブチルアルミニウム（０．４１３ml、
０．４１３mmol、ヘキサン溶液）を滴下し、１時間撹拌
した。メタノールを加えて反応を停止した後、０℃まで
昇温させ、更に１時間撹拌した。溶媒を減圧留去した
後、エーテルを加えて析出物を濾別し、再び溶媒を減圧
留去し、残分を薄層クロマトグラフィーで精製し、無色
油状物（３１）を５９．７mg、８９％の収率で得た。
ol）をジクロロメタン２mlに溶解し、−７８℃に冷却
後、水素化ジイソブチルアルミニウム（０．４１３ml、
０．４１３mmol、ヘキサン溶液）を滴下し、１時間撹拌
した。メタノールを加えて反応を停止した後、０℃まで
昇温させ、更に１時間撹拌した。溶媒を減圧留去した
後、エーテルを加えて析出物を濾別し、再び溶媒を減圧
留去し、残分を薄層クロマトグラフィーで精製し、無色
油状物（３１）を５９．７mg、８９％の収率で得た。
【０１５７】NMR δ(CCl4) 0.08(s, 6H), 0.70-1.00(m,
15H), 1.90(brs, 1H), 3.04-4.15(m, 6H), 3.77(s, 3
H), 4.30-4.75(m, 4H), 6.65-7.33(m, 9H) 例２５ ５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−ベンジルオキシ−２，２−ジメチル−３−（ｐ−メト
キシベンジルオキシ）ペンタナール（９）
15H), 1.90(brs, 1H), 3.04-4.15(m, 6H), 3.77(s, 3
H), 4.30-4.75(m, 4H), 6.65-7.33(m, 9H) 例２５ ５−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−ベンジルオキシ−２，２−ジメチル−３−（ｐ−メト
キシベンジルオキシ）ペンタナール（９）
【０１５８】
【化３４】
【０１５９】オキザリルクロリド（４６．５mg、０．３
７mmol）のジクロロメタン溶液を−７８℃に冷却した
後、ＤＭＳＯ（４７．７mg、０．６１mmol）のジクロロ
メタン溶液をゆっくりと滴下し、１０分後、化合物（３
１）（５９．７mg、０．１２mmol）のジクロロメタン溶
液を同温で滴下し、３０分間撹拌した。トリエチルアミ
ン（９８．９２mg、０．９８mmol）のジクロロメタン溶
液を同温で加え、室温まで昇温した後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加えて、反応を停止させた。ジクロロメ
タンで抽出し、無水硫酸ナトリウム水溶液で乾燥した。
溶媒を減圧留去し、エーテルを加え不溶物を濾別した
後、更に溶媒を減圧留去した。残分をシリカゲルクロマ
トグラフィーで精製し、無色油状物（１１）を５０．６
mg ８５％の収率で得た。
７mmol）のジクロロメタン溶液を−７８℃に冷却した
後、ＤＭＳＯ（４７．７mg、０．６１mmol）のジクロロ
メタン溶液をゆっくりと滴下し、１０分後、化合物（３
１）（５９．７mg、０．１２mmol）のジクロロメタン溶
液を同温で滴下し、３０分間撹拌した。トリエチルアミ
ン（９８．９２mg、０．９８mmol）のジクロロメタン溶
液を同温で加え、室温まで昇温した後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加えて、反応を停止させた。ジクロロメ
タンで抽出し、無水硫酸ナトリウム水溶液で乾燥した。
溶媒を減圧留去し、エーテルを加え不溶物を濾別した
後、更に溶媒を減圧留去した。残分をシリカゲルクロマ
トグラフィーで精製し、無色油状物（１１）を５０．６
mg ８５％の収率で得た。
【０１６０】NMR δ（ＣＣｌ４） ０．００（ｓ， ６
Ｈ）， ０．８７（ｓ， ９Ｈ）， ０．９９（ｓ，
３Ｈ）， １．０８（ｓ， ３Ｈ）， ３．３２−３．
３８（ｍ， １Ｈ）， ３．７６（ｓ， ３Ｈ），
３．７０−３．９３（ｍ， ３Ｈ）， ４．３５（ｄ，
１Ｈ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ）， ４．４９（ｄ， １
Ｈ， Ｊ＝１０．９Ｈｚ）， ４．５６（ｄ， １Ｈ，
Ｊ＝１１．２Ｈｚ）， ４．６４（ｄ， １Ｈ， Ｊ
＝１０．９Ｈｚ）， ６．８３（ｄ，２Ｈ， Ｊ＝８．
６Ｈｚ）， ７．１９−７．３１（ｍ， ７Ｈ），
９．３３（ｓ， １Ｈ）
Ｈ）， ０．８７（ｓ， ９Ｈ）， ０．９９（ｓ，
３Ｈ）， １．０８（ｓ， ３Ｈ）， ３．３２−３．
３８（ｍ， １Ｈ）， ３．７６（ｓ， ３Ｈ），
３．７０−３．９３（ｍ， ３Ｈ）， ４．３５（ｄ，
１Ｈ， Ｊ＝１１．２Ｈｚ）， ４．４９（ｄ， １
Ｈ， Ｊ＝１０．９Ｈｚ）， ４．５６（ｄ， １Ｈ，
Ｊ＝１１．２Ｈｚ）， ４．６４（ｄ， １Ｈ， Ｊ
＝１０．９Ｈｚ）， ６．８３（ｄ，２Ｈ， Ｊ＝８．
６Ｈｚ）， ７．１９−７．３１（ｍ， ７Ｈ），
９．３３（ｓ， １Ｈ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 49/503 // Ｃ０７Ｄ 305/14
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（１）で示されるシクロオクテノ
ン誘導体。 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ4 はそれぞれ水酸基の保護基を表す） - 【請求項２】 一般式（２２）で示される７−オキソオ
クタナール誘導体に金属活性化剤を反応させ、得られた
一般式（２３）で示されるシクロオクタノン誘導体に塩
基の存在下にスルホン化剤を反応させてアルコールを活
性化し、次いで強塩基で処理することを特徴とする請求
項１の一般式（１）で示されるシクロオクテノン誘導体
の製造法。 【化２】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ4 はそれぞれ水酸基の保護基を表し、
Ｘはハロゲン原子を表す） - 【請求項３】 一般式（１８）で示される７−オキソオ
クタナール誘導体。 【化３】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ4 はそれぞれ水酸基の保護基を表す） - 【請求項４】 一般式（１１）で示されるヘプタナール
誘導体。 【化４】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ9 はそれぞれ水酸基の保護基
を表す）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6122107A JPH07330656A (ja) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | タキソール合成中間体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6122107A JPH07330656A (ja) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | タキソール合成中間体及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07330656A true JPH07330656A (ja) | 1995-12-19 |
Family
ID=14827820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6122107A Pending JPH07330656A (ja) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | タキソール合成中間体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07330656A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006086913A1 (fr) * | 2005-02-17 | 2006-08-24 | China Petroleum & Chemical Corporation | Dérivés d'éthers siliciés et synthèse desdits dérivés |
| US7399812B2 (en) | 2005-02-16 | 2008-07-15 | China Petroleum & Chemical Corporation | Silicon ether compounds and a method for the preparation thereof |
-
1994
- 1994-06-03 JP JP6122107A patent/JPH07330656A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7399812B2 (en) | 2005-02-16 | 2008-07-15 | China Petroleum & Chemical Corporation | Silicon ether compounds and a method for the preparation thereof |
| WO2006086913A1 (fr) * | 2005-02-17 | 2006-08-24 | China Petroleum & Chemical Corporation | Dérivés d'éthers siliciés et synthèse desdits dérivés |
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