JP6368351B2 - ジフルオロラクタムアナログを合成する方法 - Google Patents

ジフルオロラクタムアナログを合成する方法 Download PDF

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Description

本明細書に開示され特許請求される主題は、EP受容体媒介性疾病及び病態の治療に有用なジフルオロラクタムの調製のためのプロセス及び中間体に関する。
特許及び特許出願を含む全ての参照文献は、引用によりその全体として本明細書に組み込まれる。
EP受容体アゴニストは、眼内圧を低下させ、緑内障の治療に用途があることが報告されている。Prasanna,G.et al.,Exp.Eye Res.,2009,89(5),608−17;Luu,K.et al.,J.Pharmacol.Exp.Ther.2009,331(2),627−635;Saeki,T.et al,Invest.Ophthalmol.Vis.Sci.,2009,50(5)2201−2208。
EP受容体アゴニストは、骨の再形成を誘導し、骨粗鬆症の治療に用途を有することも報告されている。Iwaniec,U.et al.,Osteoporosis International,2007,18(3),351−362;Aguirre,J.et al.,J.Bone and Min.Res.,2007,22(6),877−888;Yoshida,K.et al.,Proc.Natl.Acad.Sci.USA,2002,99(7),4580−4585。Hayashi,K.et al.,J.Bone Joint Surg.Br.,2005,87−B(8),1150−6。
出願者らは、種々の1,5−二置換3,3−ジフルオロピロリジン−2−オン(α,α−ジフルオロラクタム又はジフルオロラクタム)が、強力なEP受容体アゴニスト活性を有することを発見した。ラクタムスキャホールドへのフッ素組込みの発表された方法は、大規模な量の主要なジフルオロラクタム中間体並びにその後の中間体及び目標化合物を製造するための固有の効率の悪さを有する。すなわち、保護工程が、大規模製造のために非実用的なほど大量の溶媒及び試薬を要するか、又は少量であるが、繰り返される操作及び厄介な2工程の求電子フッ素化プロセスを含む。Allen,N.E.et al.,Tetrahedron,1989,45,1905−1928;Konas,D.W.and Coward,J.K.,Organic Letters,1999,1(13),2105−2107;Martinez−Montero,S.et al.,Bioorganic and Medicinal Chemistry,2012,20(23),6885−6893;及びQian,X.ら国際公開第2009023193号パンフレット。ジフルオロラクタム化合物の合成のために本明細書に記載されるさらなる中間体及び方法は、高い立体化学純度を有するキラル炭素原子中心の組込みを含む効率の良さ及び官能化有機鎖の効率よい連結の簡易化を与える。
本発明の一態様において、式(IA)

(式中:
は、
a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;
は、

であり;
は、カルボン酸又は保護されたカルボン酸であり;
12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;
及びRは、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであるか;或いは、RとRは、それらが結合している炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、アリール及びヘテロアリールは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ;及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、C−Cアルキニレンであり;且つ
は、C−Cシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、Rは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている)
の化合物、又はその薬学的に許容できる塩を調製するプロセスであって;
式(10)

の化合物を、カルボニル還元剤と反応させること;及び、Rが保護されたカルボン酸である場合、任意選択で保護されたカルボン酸を脱保護することを含む方法が提供される。
本発明の別な態様において、式(10)の化合物を調製する方法であって、式(8)の化合物を、式(9)の化合物と、トリアルキルアミン塩基及び塩化リチウムの存在下で反応させることを含むプロセスが提供される;

(式中:
は、
a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、保護されたカルボン酸であり;
12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;
及びRは、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであるか;或いは、RとRは、それらが結合している炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、アリール及びヘテロアリールは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ;及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、C−Cアルキニレンであり;
は、C−Cシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、Rは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
15は、C−Cアルキルである)。
本発明の別な態様において、式(8)の化合物を調製する方法であって、式(7)の化合物を酸化剤と反応させることを含む方法が提供される

(式中:

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;
は、

であり;
は、保護されたカルボン酸であり;且つ
12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルである)。
別な態様において、式(6)の化合物を調製するプロセスであって、式(5)の化合物を、塩基及び式X−L−Rの化合物と反応させることを含む方法が提供される

(式中:
は、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択される脱離基であり;
PGは、保護基であり;

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;
は、

であり;
は、保護されたカルボン酸であり;且つ
12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルである)。
別な態様において、式(4)の化合物を調製するプロセスであって、式(2)の化合物を酸と反応させることを含む方法が提供される(式中、R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成する)。
別な態様において、式(2)の化合物を式(1)の化合物から調製するプロセスであって、式(1)の化合物を塩基及びフッ素化剤と反応させることを含むプロセスが提供される(式中、各R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成する)。
さらに別な態様において、式(10)の化合物又はその塩が提供される

(式中:

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、カルボン酸又は保護されたカルボン酸であり;
12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;
及びRは、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであるか;或いは、RとRは、それらが結合している炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、アリール及びヘテロアリールは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ;及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、C−Cアルキニレンであり;且つ
は、C−Cシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、Rは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている)。
別な態様において、式(6.1)の化合物が提供される

(式中:

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、保護されたカルボン酸であり;
12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;且つ
20は、H又はヒドロキシル保護基である)。
別な態様において、式(2)の化合物が提供される

(式中、各R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成する)。
別な態様において、式(9)の化合物が提供される

(式中:
及びRは、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであるか;或いは、RとRは、それらが結合している炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、アリール及びヘテロアリールは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ;及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、C−Cアルキニレンであり;
は、C−Cシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、Rは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
15は、C−Cアルキルである)。
本発明の別な態様において、化合物X−L−Rが提供される(式中:
は、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択され;

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;
は、

であり;
は、保護されたカルボン酸であり;且つ
12は、H又はC−Cアルキルである)。
本発明のプロセスは、改善された収率及び従来の方法よりも少ない副生成物を生じる工程を含む。本発明のプロセスの多くは、中間体の精製のために追加のクロマトグラフィーを必要とせず、高い立体化学的純度及び化学的純度を持つ中間体を生成する。本発明のプロセスは、商業的な量のジフルオロラクタム化合物の生成のために規模拡大可能である。
本発明のプロセス及び中間体は、全般的にスキーム1に示される通りである。
式(0)の化合物を、酸の存在下で、ケタール

と反応させて(式中、各R13は、独立に、C1−3アルキル又はフェニルであるか、或いは、それらが結合する炭素原子と共にC−Cシクロアルキルを形成し、アルキル化剤は含み、R14は、メチル又はエチルである)、式(1)の化合物を発生させることができる。
式(1)の化合物を、有機溶媒中で、塩基及びフッ素化剤と反応させて、式2の化合物を発生させることができる。
式(2)の化合物を酸と反応させて、式(4)の化合物を発生させることができる。
化合物(4)のヒドロキシル基を保護して、PGが保護基である式(5)の化合物を発生させることができる。
式(5)の化合物を、塩基及びアルキル化剤X−L−Rと反応させて、式(6)の化合物を発生させることができる。
式(6)の化合物から保護基を除去して、式(7)の化合物を与えることができる。
式(7)の化合物のヒドロキシル基を酸化して、式(8)のアルデヒド化合物を与えることができる。
式(8)の化合物を、トリアルキルアミン塩基及び塩化リチウムの存在下で、式(9)の化合物と反応させて、式(10)の化合物を与えることができる。スキーム1中の化合物(10)及びその前の中間体のR基は、一般的に保護されたカルボン酸であり、好適な保護基は、スキーム1に示される化学変換との適合性に基づいて選択される。
式(10)の化合物を還元剤と反応させて、式(IA)の化合物を与えることができる。式(10)か(IA)のいずれかの化合物中のRが保護されたカルボン酸である場合、保護基を除去して、対応する遊離のカルボン酸を遊離することができる。したがって、保護基の除去は、カルボニル還元の前でも後でもよい。
用語の定義
本明細書での用語「アルキル」は、1〜10個の炭素原子を含む直鎖又は分岐鎖の炭化水素を意味する。アルキルの代表例には、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシル、3−メチルヘキシル、2,2−ジメチルペンチル、2,3−ジメチルペンチル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、及びn−デシルがあるが、これらに限定されない。
本明細書での用語「アルケニル」は、2〜10個の炭素原子を含む及び少なくとも1つの炭素−炭素二重結合を含む直鎖又は分岐鎖の炭化水素を意味する。アルケニルの代表例には、エテニル、2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、3−ブテニル、4−ペンテニル、5−ヘキセニル、2−ヘプテニル、2−メチル−1−ヘプテニル、及び3−デセニルがあるが、これらに限定されない。
本明細書での用語「アルキニル」は、2〜10個の炭素原子を含む及び少なくとも1つの炭素−炭素三重結合を含む直鎖又は分岐鎖の炭化水素を意味する。代表例には、プロピニル、ブチニル、ペンチニルなどがある。
本明細書での用語「アルキレン」は、1〜10個の炭素原子を含む直鎖又は分岐鎖の炭化水素から誘導された二価の基を意味する。アルキレンの代表例には、−CH−、−CHCH−、−CHCHCH−、−CHCH(CH)CH−、及び−CHCH(CH)CH(CH)CH−があるが、これらに限定されない。
本明細書での用語「アルケニレン」は、2〜10個の炭素原子の、及び少なくとも1つの炭素−炭素二重結合を含む直鎖又は分岐鎖の炭化水素から誘導された二価の基を意味する。アルケニレンの代表例には、−CH=CH−、−CHCH=CH−、及び−CHCH=CH(CH)−があるが、これらに限定されない。
本明細書での用語「アルキニレン」は、2〜10個の炭素原子の、及び少なくとも1つの炭素−炭素三重結合を含む直鎖又は分岐鎖の炭化水素から誘導された二価の基を意味する。アルキニレンの代表例には、−CH−C≡C−、−CHCH−C≡C−、及び−C≡C−CHCH(CH)CH−があるが、これらに限定されない。
本明細書での用語「アルコキシ」は、酸素原子により親分子部分に付けられた本明細書に定義されるアルキル基を意味する。アルコキシの代表例には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、及びヘキシルオキシがあるが、これらに限定されない。
本明細書での用語「アルキルカルボニル」は、C(O)基により親分子部分に付けられた本明細書で定義されるアルキル基を意味する。
本明細書での用語「カルボン酸」は、親分子化合物に結合した部分−COOHを指す。
本明細書での用語「保護されたカルボン酸」は、カルボン酸が、より反応性の低い官能基の形態で遮蔽されているカルボン酸誘導体を指す。保護されたカルボン酸は当技術分野に周知であり、エステル、オルトエステル、オキサゾール、1,2−イソオキサゾリン、チオールエステル、アミド、及びヒドラジドなどの通常の誘導体を含む。アルキルエステル、ベンジルエステル、アリールエステル、9−フルオレニルメチルエステル、メトキシメチルエステル、テトラヒドロピラニルエステル、2−(トリメチルシリル)エトキシメチルエステル、ハロアルキルエステル、シリルエステルなどの通常の誘導体があるが、これらに限定されない多くのエステルが、保護されたカルボン酸として知られている。このリストは網羅的であるとは意図されず、単に例示的なものである。エステル及び他のカルボン酸保護基のより大規模なリストは、T.Greene及びP.Wutsによる、引用により全体として本明細書に組み込まれるProtective Groups in Organic Synthesis,John Wiley & Sons,Inc.,に記載されている。
本明細書での用語「ハロアルキル」、「ハロアルケニル」、及び「ハロアルキニル」は、1、2、3、4、5、6、又は7つの水素原子がハロゲンにより置換されている、それぞれ本明細書で定義されるアルキル、アルケニル、又はアルキニル基を意味する。例えば、ハロアルキルの代表例には、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、トリフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジメチルエチルなどがあるが、これらに限定されない。
本明細書での用語「ハロアルコキシ」は、1、2、3、4、5、又は6つの水素原子がハロゲンにより置換されている本明細書で定義されるアルコキシ基を意味する。ハロアルコキシの代表例には、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、2,2−ジフルオロエトキシ、2−フルオロエトキシ、及びペンタフルオロエトキシがあるが、これらに限定されない。
本明細書での用語「アリール」は、フェニル又は二環式アリールを意味する。二環式アリールは、ナフチル、ジヒドロナフタレニル、テトラヒドロナフタレニル、インダニル、又はインデニルである。フェニル及び二環式アリールは、フェニル又は二環式アリール内に含まれる任意の炭素原子により親分子部分に付いている。
本明細書での用語「ヘテロアリール」は、単環式ヘテロアリール又は縮合二環式ヘテロアリールを意味する。単環式ヘテロアリールは、O、N、及びSからなる群から独立に選択される少なくとも1つのヘテロ原子を含む5員又は6員の環である。5員環は、2つの二重結合及び1、2、3、又は4つのヘテロ原子を環原子として含む。6員環は、3つの二重結合及び1、2、3、又は4つのヘテロ原子を環原子として含む。単環式ヘテロアリールの代表例には、フラニル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、オキサゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピラゾリル、ピロリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、チアゾリル、チエニル、トリアゾリル、及びトリアジニルがあるが、これらに限定されない。二環式ヘテロアリールは、単環式ヘテロアリールが追加の環に縮合している8員から12員の環系であり、追加の環は芳香族でも、部分的に飽和でもよく、追加のヘテロ原子を含んでもよい。二環式ヘテロアリールの代表例には、ベンゾフラニル、ベンゾオキサジアゾリル、1,3−ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾジオキソリル、ベンゾチエニル、クロメニル、フロピリジニル、インドリル、インダゾリル、イソキノリニル、ナフチリジニル、オキサゾロピリジン、キノリニル、チエノピリジニル、5,6,7,8−テトラヒドロキノリニル、6,7−ジヒドロ−5H−シクロペンタ[b]ピリジニル、及び2,3−ジヒドロフロ[3,2−b]ピリジニルがあるが、これらに限定されない。単環式及び二環式ヘテロアリール基は、基内に含まれる任意の置換可能な炭素原子又は任意の置換可能な窒素原子により親分子部分に接続している。
本明細書での用語「シクロアルキル」は、環原子として3、4、5、6、7、又は8つの炭素原子及び0のヘテロ原子を、並びに0の二重結合を含む炭素環式環系を意味する。シクロアルキルの例には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、及びシクロオクチルがあるが、これらに限定されない。本発明のシクロアルキル基は、基の隣接しない2つの炭素原子を連結する、1、2、3、又は4つの炭素原子のアルキレンブリッジを含み得る。そのような架橋系の例には、ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル及びビシクロ[2.2.2]オクタニルがあるが、これらに限定されない。本明細書に記載されるシクロアルキル基は、任意の置換可能な炭素原子により、親分子部分に付くことができる。
本明細書での用語「複素環」又は「複素環式」は、単環式複素環、二環式複素環、又はスピロ環式複素環を指す。単環式複素環は、O、N、又はSから選択される少なくとも1つのヘテロ原子を含む3員、4員、5員、6員、7員、又は8員の環である。3員又は4員の環は、1つのヘテロ原子及び任意選択で1つの二重結合を含む。5員環は、0又は1つの二重結合及び1、2、又は3つのヘテロ原子を含む。6員、7員、又は8員の環は、0、1、又は2つの二重結合及び1、2、又は3つのヘテロ原子を含む。単環式複素環の代表例には、アゼチジニル、アゼパニル、アジリジニル、ジアゼパニル、1,3−ジオキサニル、1,4−ジオキサニル、1,3−ジオキソラニル、4,5−ジヒドロイソオキサゾール−5−イル、3,4−ジヒドロピラニル、1,3−ジチオラニル、1,3−ジチアニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、イソチアゾリニル、イソチアゾリジニル、イソオキサゾリニル、イソオキサゾリジニル、モルホリニル、オキサジアゾリニル、オキサジアゾリジニル、オキサゾリニル、オキサゾリジニル、オキセタニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピラニル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、ピロリニル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチエニル、チアジアゾリニル、チアジアゾリジニル、チアゾリニル、チアゾリジニル、チオモルホリニル、1,1−ジオキシドチオモルホリニル、チオピラニル、及びトリチアニルがあるが、これらに限定されない。二環式複素環は、単環式複素環がフェニル、飽和若しくは部分飽和炭素環式環、又は別の単環式複素環式環に縮合している5員〜12員環の環系である。二環式複素環の代表例には、1,3−ベンゾジオキソール−4−イル、1,3−ベンゾジチオリル、3−アザビシクロ[3.1.0]ヘキサニル、ヘキサヒドロ−1H−フロ[3,4−c]ピロリル、2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシニル、2,3−ジヒドロ−1−ベンゾフラニル、2,3−ジヒドロ−1−ベンゾチエニル、2,3−ジヒドロ−1H−インドリル、及び1,2,3,4−テトラヒドロキノリニルがあるが、これらに限定されない。スピロ環式複素環は、同じ炭素原子上にある置換基の2つが、シクロアルキル及び複素環からなる群から選択される3員、4員、5員、又は6員の単環式環を形成し、そのそれぞれが1、2、3、4、又は5つのアルキル基により任意選択で置換されている、4員、5員、6員、7員、又は8員の単環式複素環を意味する。スピロ複素環の例には、5−オキサスピロ[3,4]オクタン及び8−アザスピロ[4.5]デカンがあるが、これらに限定されない。本発明の単環式及び二環式複素環基は、基の隣接しない原子を連結する1、2、3、又は4つの炭素原子のアルキレンブリッジを含み得る。そのような架橋複素環の例には、2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタニル、2−アザビシクロ[2.2.2]オクタニル、1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノイソキノリニル(methanoisoquinolinyl)、及びオキサビシクロ[2.2.1]ヘプタニルがあるが、これらに限定されない。単環式、二環式、及びスピロ環式複素環基は、基内に含まれる任意の置換可能な炭素原子又は任意の置換可能な窒素原子により親分子部分に接続している。
「アルキル」、「シクロアルキル」、「アルキレン」などの用語の前には、特定の場合に基に存在する原子の数を示す呼称があり得る(例えば、「C−C10アルキル」、「C−C10シクロアルキル」、「C−Cアルキニレン」、「C−Cアルケニレン」)。これらの呼称は、一般に当業者に理解されている通り使用される。例えば、表示「C」とそれに続く下付きの数は、それに続く基に存在する炭素原子の数を示す。そのため、「Cアルキル」は、3つの炭素原子を持つアルキル(すなわちn−プロピル、イソプロピル)である。「C−C10」などのように範囲が与えられる場合、それに続く基の数は、列記された範囲内にある任意の数の炭素原子を有し得る。例えば、「C−C10アルキル」は、どのように配置されていようとも3〜10個の炭素原子を有するアルキル基である。
調製の方法
本発明の第一の態様において、式(IA)の化合物、又はその薬学的に許容できる塩を調製する方法であって、式(10)の化合物をカルボニル還元剤と反応させることを含み、Rが保護されたカルボン酸である場合、任意選択で保護されたカルボン酸を脱保護することを含む方法が提供される。
第一の態様による一実施形態において、式(IA)の化合物の一群を調製するプロセスがある(式中:

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、カルボン酸又は保護されたカルボン酸であり;
12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;
及びRは、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであるか;或いは、RとRは、それらが結合している炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、アリール及びヘテロアリールは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ;及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、C−Cアルキニレンであり;且つ
は、C−Cシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、Rは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている)。
第一の態様の別な実施形態において、R及びLが先に定義された通りであり、且つ:
が、n−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;


であり;
及びRが、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであり;
が、フェニル、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、フェニルが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
が、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されているフェニルである、式(IA)の化合物の一群を調製するプロセスがある。
第一の態様の別な実施形態において、Rが、先に定義された通りであり:
が、−(CH−G−であり;


であり;
及びRが、それぞれ独立に、H又はメチルであり;
が、−CH−C≡C−C−Cアルキル又はL−Rであり;
が、C−Cアルキレンであり;且つ
が、フェニルである、式(IA)の化合物の下位群を調製するプロセスがある。
上記下位群によると、RがメチルでありRがHであるか、H及びRがメチルであるいずれかの式(IA)の化合物のさらなる下位群を調製するプロセスがある。
いくつかの実施において、カルボニル還元剤は、(R)−コーリー・バクシ・柴田触媒((R)−CBS)

及びカテコールボランなどの不斉還元剤である。
保護されたカルボン酸の脱保護は、Greene and Wutsに記載される任意の適切な方法によっても、特定の保護基に関して当業者に周知である他の方法によってもよい。例えば、加水分解は、保護されたカルボン酸(例えば、エステル)をカルボン酸に転化する通常の方法である。そのため、いくつかの実施において、任意選択の脱保護は、エステルの加水分解による。特定の脱保護方法は、特定の保護基及び分子内に存在する他の官能基の要件によって選択される。
上記実施形態によると、L、R、R、R、及びR15が本明細書に定義される通りであり、Rが保護されたカルボン酸である式(10)の化合物を調製するプロセスであって、式(8)の化合物を、トリアルキルアミン塩基及び塩化リチウムの存在下で、式(9)の化合物と反応させることによるプロセスも提供される。
いくつかの実施において、トリアルキルアミン塩基は、トリエチルアミン(TEA)又はジイソプロピルエチルアミン(DIEA;「ヒューニッヒ塩基」としても知られる)である。例えば、トリアルキルアミン塩基はトリエチルアミンである。いくつかの実施において、有機溶媒は、エーテル溶媒である。例えば、有機溶媒はTHFである。
さらに上記実施形態によると、式(7)の化合物を有機溶媒中で酸化剤と反応させることによる、Lが本明細書に定義される通りであり、Rが保護されたカルボン酸である式(8)の化合物を調製するプロセスが提供される。いくつかの実施において、酸化剤はデス・マーチン・ペルヨージナンを含み、有機溶媒は、ジクロロメタン(DCM)、クロロホルム、又は1,2−ジクロロエタン(DCE)などのハロゲン化溶媒を含む。例えば、酸化剤はデス・マーチン・ペルヨージナンを含み、有機溶媒はDCMを含む。
上記実施形態によると、保護基PGを式(6)の化合物から除去することによる、Lが本明細書に定義される通りであり、Rが保護されたカルボン酸である式(7)の化合物を調製するプロセスも提供される。特定の実施において、PGは、−Si(R21、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;R21は、各出現で、C−Cアルキル及びフェニルから独立に選択される。
いくつかの実施において、保護基PGの除去は、式(6)の化合物を有機溶媒の存在下で酸と反応させることを含む。例えば、酸はTsOHを含み、有機溶媒はメタノールを含む。別な例として、酸はカンファースルホン酸(CSA)を含み、有機溶媒はメタノールを含む。式(6)の化合物のPGがシリル保護基である特定の実施において、脱保護工程は、式(6)の化合物を、フルオリドイオンを含む試薬、tert−ブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)、ピリジニウムフルオリド、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、又はフッ化セシウム、及び有機溶媒と反応させることを含む。例えば、フルオリドイオンを含む試薬はTBAFを含み、有機溶媒はTHFを含む。
式(5)の化合物を、有機溶媒中で塩基及び式X−L−Rの化合物(式中、Xは、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択される脱離基である)と反応させて、式(6)の化合物を製造することによる、L及びPGが本明細書に定義される通りであり、Rが保護されたカルボン酸である式(6)の化合物を調製するプロセスも提供される。好適な塩基には、水素化リチウム、水素化ナトリウム、及び水素化カリウムがあるが、これらに限定されない。
先に説明された通り、いくつかの実施において、X−L−Rの脱離基Xはハライドを含む。例えば、XはBr又はIである。いくつかの実施において、脱離基はスルホナートを含む。例えば、Xは、パラ−トルエンスルホナート(トシラート)、ベンゼンスルホナート、パラ−ニトロベンゼンスルホナート(ノシラート)、パラ−ブロモベンゼンスルホナート(ブロシラート)、トリフルオロメタンスルホネート(トリフラート)、又はメタンスルホナート(メシラート)である。
いくつかの実施において、X−L−RのLは、C−Cアルキレン基を含む。例えば、Lは、ヘキシレンである。いくつかの実施において、X−L−RのLは、C−Cアルケニレン基を含む。例えば、X−L−Rは、

である。いくつかの実施において、X−L−RのLは、C−Cアルキニレン基を含む。例えば、X−L−Rは、

である。いくつかの実施において、X−L−RのLは−(CH−G−を含み、式中、G

であり、且つnが2であるか、G

であり、且つnが3である。例えば、X−L−Rは、

である。
いくつかの実施において、X−L−Rは、R10がメチルである式(24)の化合物を含み

塩基は、水素化リチウム、水素化ナトリウム、又は水素化カリウムなどのアルカリ水素化物を含み、有機溶媒は、DMF又はジメチルアセトアミド(DMA)を含む。いくつかのさらなる実施において、式(6)の化合物を調製するための反応混合物は、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、又はヨウ化セシウムなどのアルカリヨウ化物を含み得る。
保護基PGを式(4)の化合物に加えることによる、式(5)の化合物を調製するプロセスも提供される。PGは、−Si(R21、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルでよく、R21は、各出現で、C−Cアルキル及びフェニルから独立に選択される。
いくつかの実施において、ヒドロキシル基の保護は、式(4)の化合物を、塩基及び有機溶媒の存在下で、クロロトリメチルシラン(TMSCl)、tert−ブチルジメチルシリルクロリド(TBDMSCl)、tert−ブチルクロロジフェニルシラン(TBDPSCl)、又はトリイソプロピルシリルクロリド(TIPSCl)などのシリル化剤と反応させることを含む。例えば、工程のシリル化剤はTBDMSClを含み、塩基はイミダゾールをふくみ、有機溶媒はN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)を含む。
いくつかの実施において、ヒドロキシル基の保護は、式(4)の化合物を、酸及び有機溶媒の存在下で、エチルビニルエーテル(EVE)又は3,4−ジヒドロ−2H−ピラン(DHP)などのビニルエーテルと反応させることを含む。例えば、ビニルエーテルはEVEを含み、酸はTsOHを含み、有機溶媒はTHFを含む。別な例では、ビニルエーテルはDHPを含み、酸はTsOHを含み、有機溶媒はTHFを含む。
本発明の第二の態様において、式(8)の化合物を、トリアルキルアミン塩基及び塩化リチウムの存在下で、式(9)の化合物と反応させることを含む、式(10)の化合物を調製するプロセスが与えられる;
第二の態様による一実施形態において、

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
が、保護されたカルボン酸であり;
12が、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;
及びRが、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであるか;或いは、RとRが、それらが結合している炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;
が、アリール、ヘテロアリール、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、アリール及びヘテロアリールが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ;及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
が、C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、C−Cアルキニレンであり;
が、C−Cシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、Rが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
15が、C−Cアルキルである、式(10)の化合物の一群を調製するプロセスがある。
別な実施形態において、R及びLが先に定義された通りであり:
が、n−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;


であり;
及びRが、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであり;
が、フェニル、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、フェニルが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
が、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されているフェニルである、式(10)の化合物の下位群を調製するプロセスがある。
別な実施形態において、R及びGが先に定義された通りであり:
が、−(CH−G−であり;
及びRが、それぞれ独立に、H又はメチルであり;
が、−CH−C≡C−C−Cアルキル又はL−Rであり;
が、C−Cアルキレンであり;且つ
が、フェニルである、式(10)の化合物の下位群を調製するプロセスがある。
上記実施形態によると、先に記載された式(8)、(7)、(6)、及び(5)の化合物を調製するプロセスも与えられる。
本発明の第三の態様において、式(7)の化合物を、有機溶媒中で酸化剤と反応させることを含む、式(8)の化合物を調製する方法も与えられる。第三の態様による一実施形態において、

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
が、保護されたカルボン酸であり;且つ
12が、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルである、式(8)の化合物の一群を調製するプロセスがある。
第三の態様による別な実施形態において、
が、保護されたカルボン酸であり;
が、−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;且つ


である、式(8)の化合物の下位群を調製するプロセスがある。
第三の態様による別な実施形態において、Gが先に定義された通りであり:
が、保護されたカルボン酸であり;且つ
が、−(CH−G−である、式(8)の化合物の下位群を調製するプロセスがある。
一実施において、酸化剤はデス・マーチン・ペルヨージナンである。
上記実施形態によると、先に記載された式(7)、(6)、及び(5)の化合物を調製するプロセスも提供される。
第四の態様において、式(5)の化合物を、塩基及び式X−L−Rの化合物と反応させることを含む、式(6)の化合物を調製するプロセスが提供される。
第四の態様による一実施形態において、
が、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択される脱離基であり;
PGが、保護基であり;

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
が、保護されたカルボン酸であり;且つ
12が、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルである、式(6)の化合物の一群を調製するプロセスがある。
第四の態様による別な実施形態において、
が、n−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;


であり;
が、保護されたカルボン酸であり
PGが、−Si(R21、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ
21が、各出現で、C−Cアルキル及びフェニルから独立に選択される、式(6)の化合物の下位群を調製するプロセスがある
第四の態様による別な実施形態において、R、G、及びR21が先に定義された通りであり:
が、−(CH−G−であり;且つ
PGが、−Si(R21である、式(6)の化合物の下位群を調製するプロセスがある。
式(6)の化合物の上記の群及び下位群を、式(5)の化合物及び式X−L−Rの化合物から調製するための試薬及び物質は、本明細書に全般的に記載される通りである。
第五の態様において、式(2)の化合物(式中、R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成する)を酸と反応させることによる、式(4)の化合物を調製するプロセスが提供される。いくつかの実施において、式(2)の化合物は、例えば酢酸などの有機酸と反応され、反応は、アセトニトリルなどの溶媒中で実施される。或いは、(2)を、アセトニトリルと水の混合物中で酢酸と反応させてよい。
いくつかの実施において、式(2)の化合物を、酸性カチオン交換樹脂と反応させて、式(4)の化合物を製造できる。例えば、酸性カチオン交換樹脂は、Amberlite(登録商標)IR−120 Hでよく、反応は、例えば、1,4−ジオキサンなどの溶媒中で実施できる。別な例において、酸はAmberlite(登録商標)IR−120 Hでよく、溶媒は1,4−ジオキサンと水の混合物でよい。
第六の態様において、式(1)の化合物を塩基及びフッ素化剤と反応させることを含む、式(1)の化合物から式(2)の化合物を調製する(式中、各R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成する)プロセスが提供される。
いくつかの実施において、式(1)の化合物を塩基及びフッ素化剤と反応させることは、式(1)の化合物を、第一の塩基及びフッ素化剤並びに第二の塩基及びフッ素化剤と反応させることを含む。いくつかの実施において、塩基は有機リチウム塩基である。有機リチウム塩基は、リチウムアミド塩基でよい。例えば、有機リチウム塩基は、ビス(トリメチルシリル)アミド(LiHMDS)などのビス(トリアルキルシリル)アミドでも、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)などのリチウムジアルキルアミドでもよい。
例えば、いくつかの実施において、式(1)の化合物は、i)約1モル当量のリチウムアミド塩基;ii)約1モル当量のN−フルオロベンゼンスルホンアミド(NFSI);iii)約1モル当量のリチウムアミド塩基;及びiv)約1モル当量のNFSIの連続的な添加により反応させることができる。例えば、4工程シーケンスのうちの工程i)のリチウムアミド塩基は、0.9〜1.1モル当量のLiHMDS又はLDAでよく、工程iii)のリチウムアミド塩基は、0.9〜1.1モル当量のLiHMDS又はLDAでよい。反応シーケンスは、1つの反応容器内で実施できる。
別な例示的な実施において、式(1)の化合物は、i)約1モル当量のアルキルリチウム塩基、ii)約1モル当量のNFSI、iii)約1モル当量のリチウムアミド塩基、及びiv)約1モル当量のNFSIと反応させることができる。例えば、4工程シーケンスのうちの工程i)のアルキルリチウム塩基は、0.9〜1.1モル当量のsec−ブチルリチウムを含み、4工程シーケンスのうちの工程iii)のリチウムアミド塩基は、0.9〜1.1モル当量のLiHMDS又はLDAを含む。
そのため、ある例示的な実施において、(i)sec−ブチルリチウムの有機溶媒溶液を、式(1)の化合物の有機溶媒溶液に加えて、第一の反応混合物を製造すること;(ii)N−フルオロベンゼンスルホンイミドを第一の反応混合物に加えて、第二の反応混合物を製造すること;(iii)リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミド、及びリチウムジイソプロピルアミドからなる群から選択される塩基の有機溶媒溶液を第二の反応混合物に加えて、第三の反応混合物を製造すること;並びに(iv)N−フルオロベンゼンスルホンイミドを第三の反応混合物に加えることのシーケンスにより、式(1)の化合物を反応させて式(2)の化合物が製造される。
(1)を反応させて(2)を製造する上記の実施において、反応は、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、若しくはメチルtert−ブチルエーテル(MTBE)、又はこれらの任意の組み合わせなどの有機溶媒中で実施できる。例えば、ある好ましい実施において、有機溶媒はTHFを含む。
本発明の上記態様によると、酸の存在下で、式

の化合物との反応により、式(0)の化合物から式(1)の化合物を調製するプロセスも提供される(式中、各R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;且つ、R14は、メチル又はエチルである)。いくつかの実施において、酸は、カンファースルホン酸(CSA)、p−トルエンスルホン酸(TsOH)、又はトリフルオロ酢酸(TFA)を含む。そのため、いくつかの実施において、式

の化合物は2,2−ジメトキシプロパンを含み、酸はカンファースルホン酸を含む。
式(9)の化合物の合成
がC−Cアルキルであり、Rが水素であり、Rが本明細書に定義される通りである式(9)の化合物を、以下に記載されるシーケンスに従って調製できる。式(12)のカルボン酸は、ジクロロメタンの存在下、例えば、塩化オキサリル及びDMFとの反応により、対応する酸クロリド(13)に転化できる。
式(14)の化合物を、有機溶媒の存在下でのアルキルリチウム塩基との反応により、対応するリチウム塩(15)に転化できる。
−70℃未満の温度のエーテル溶媒中の式(13)の化合物と式(15)の化合物との反応により、式(16)の化合物が生じる。
リチウムアミド塩基及び有機溶媒の存在下での式(16)の化合物とアルキル化剤R−Xとの反応(式中、RはC−Cアルキルであり、且つXは先に定義された通りである)により、式(17)の化合物が生じる。いくつかの実施において、リチウムアミド塩基は、LiHMDSなどのビス(トリアルキルシリル)アミド又はLDAなどのリチウムジアルキルアミドを含む。例えば、リチウムアミド塩基はLiHMDSを含む。いくつかの実施において、有機溶媒はエーテル溶媒を含む。例えば、有機溶媒はTHFを含む。
式(17)の化合物と、過酸化水素、水酸化リチウム、及び水を含む混合物との反応により、式(18)の化合物が生じる。
(18)の対応するアルキルエステルへの転化及びジメチルメチルホスホナートなどの試薬のアニオンとの反応により、式(18)の化合物を式(9)の化合物に転化できる。
いくつかの方法は、N−ヒドロキシスクシンイミド(NHS)、カップリング剤、塩基、及び有機溶媒を含む混合物との反応による、(18)の(20)への転化を含む。
化合物(20)を、(R)−(−)−2−フェニルグリセロールとの反応により、式(21)の化合物に変換できる。
式(21)の化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、98%を超える鏡像体過剰率(e.e.)及び98%を超えるジアステレオマー過剰率(d.e.)を有する精製された式(21)の化合物を発生させることができる。化合物(21)の立体化学的純度は、再結晶化によっても向上させることができる。再結晶化は、シリカゲルクロマトグラフィーに加えても、それの代りにしてもよい。
精製された式(21)の化合物を、80℃の1,4−ジオキサン中の3NのHSOによるカルボン酸(すなわち(18))への加水分解、カルボン酸のEtOH/HSOによるエステル化、及び上述の通りジメチルメチルホスホナートのアニオンとの反応により式(9)の化合物に転化できる。(18)から(21)へ、そして再び(18)にする上述のプロセスは、エナンチオマー(18)の代りにラセミの酸を使用しても実施できる。
式(24)の化合物の合成
式(IA)の化合物の−L−R

を含む(式中、RはCOOR10である)場合のいくつかの方法は、塩基及び有機溶媒の存在下で、式(21)の化合物を式(22)の化合物と反応させて式(23)の化合物を発生させること;及び

式(23)の化合物の式(24)の化合物へのエステル化

(式中、R10はC−Cアルキルである);及び式(24)の化合物の式(6)の化合物への転化の工程をさらに含む。いくつかの実施において、(21)と(22)の(23)への転化に使用される塩基は、リチウムアミド塩基でよい。例えば、塩基は、LiHMDSなどのビス(トリアルキルシリル)アミドでも、LDAなどのリチウムジアルキルアミドでもよい。いくつかの実施において、有機溶媒はエーテル溶媒でよい。例えば、有機溶媒はTHFを含む。
本発明の化合物
別な態様において、式(10)の化合物

又はその塩が提供される(式中:

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、カルボン酸又は保護されたカルボン酸であり;
12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;
及びRは、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであるか;或いは、RとRは、それらが結合している炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、アリール及びヘテロアリールは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ;及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、C−Cアルキニレンであり;且つ
は、C−Cシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、Rは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている)。
この態様による一実施形態において、R及びLが上記で本明細書に定義される通りであり:
が、n−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;


であり;
及びRが、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであり;
が、フェニル、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、フェニルが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
がフェニルであり;式中、Rが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている、式(10)の化合物の一群が提供される。
この態様による別な実施形態において、R及びGが上記で本明細書に定義される通りであり:
が、−(CH−G−であり;
がメチルであり;
が水素であり;
が、−CH−C≡C−C−Cアルキル又はL−Rであり;
が、C−Cアルキレンであり;且つ
がフェニルである、式(10)の化合物の下位群が提供される。
この態様による別な実施形態において、R及びGが上記で本明細書に定義された通りであり:
が−(CH−G−であり;
が水素であり;
がメチルであり;
が、−CH−C≡C−C−Cアルキル又はL−Rであり;
が、C−Cアルキレンであり;且つ
がフェニルである、式(10)の化合物の下位群が提供される。
別な態様において、式(6.1)の化合物が提供される

(式中:

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、保護されたカルボン酸であり;
12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;且つ
20は、H又はヒドロキシル保護基である)。
この態様による一実施形態において、
が、保護されたカルボン酸であり;
が、n−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;


であり;
20が、H、−Si(R21、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ
21が、各出現で、C−Cアルキル及びフェニルから独立に選択される、式(6.1)の化合物の一群が提供される。
この態様による別な実施形態において、R、G、R20、及びR21が先に定義された通りであり、且つ:
が、−(CH−G−である、式(6.1)の化合物のさらなる下位群が提供される。
別な態様において、式(2)の化合物が提供される

(式中、各R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成する)。
この態様の一実施形態において、R13がメチルである化合物がある。
別な態様において、式(9)の化合物が提供される

(式中:
及びRは、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであるか;或いは、RとRは、それらが結合している炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、アリール及びヘテロアリールは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ;及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、C−Cアルキニレンであり;
は、C−Cシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、Rは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
15は、C−Cアルキルである)。
この態様による一実施形態において、Lが先に定義された通りであり:
及びRが、それぞれ独立に、H又はC−C アルキルであり;
が、フェニル、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、フェニルが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
がフェニルであり;式中、Rが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている、式(9)の化合物の一群が提供される。
この態様による別な実施形態において、
がメチルであり;
が水素であり;
が、−CH−C≡C−C−Cアルキル又はL−Rであり;
が、C−Cアルキレンであり;
が、フェニルであり;且つ
15が、メチル又はエチルである、式(9)の化合物の下位群が提供される。
この態様による別な実施形態において、
が水素であり;
がメチルであり;
が、−CH−C≡C−C−Cアルキル又はL−Rであり;
が、C−Cアルキレンであり;
が、フェニルであり;且つ
15が、メチル又はエチルである、式(9)の化合物の別な下位群が提供される。
本発明の別な態様において
が、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択され;

a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
が、保護されたカルボン酸であり;且つ
12が、H又はC−Cアルキルである、化合物X−L−Rが提供される。
この態様による一実施形態において、Xが先に定義された通りであり:
が、保護されたカルボン酸であり;
が、n−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;且つ


である、式X−L−Rの化合物の一群が提供される。
この態様による別な実施形態において、R、X、及びGが先に定義された通りであり:
が、−(CH−G−である、式X−L−Rの化合物の下位群が提供される。
化学作用及び例
本明細書で他に定義されない限り、例示的な実施形態と関連して使用される科学技術用語は、当業者により通常理解されている意味を有するものとする。
さらに、文脈上他の解釈が要求されない限り、単数の用語は複数形を含むものとし、複数の用語は単数形を含むものとする。一般的に、本明細書に記載される化学及び分子生物学に関連する命名法並びにそれらの技法は、当技術分野に周知であり、通常利用されるものである。
合成スキーム及び具体的な実施例が説明的なものであり、本発明の範囲を限定すると読まれるべきでないことが、認識されるだろう。各個別工程の最適な反応条件及び反応時間は、利用される特定の反応物及び利用される反応物に存在する置換基によって、様々になり得る。特記されない限り、溶媒、温度、及び他の反応条件は、当業者により容易に選択され得る。当業者は、式(IA)の化合物又は式(IA)の化合物を合成するために必要な中間体中の置換基の全てが、化合物の合成に利用される特定の反応条件に耐えるものでないことも認識するだろう。反応条件、試薬、合成経路のシーケンスの適切な操作、保護及び脱保護を含む型通りの実験が、特定の化合物の場合に要求され得る。好適な保護基並びにそのような好適な保護基を使用して様々な置換基を保護及び脱保護する方法は当業者に周知であり、その例は、引用により全体として本明細書に組み込まれるT.Greene and P.Wuts,Protecting Groups in Chemical Synthesis(3d ed.),John Wiley & Sons,NY(1999)に見出され得る。
さらに、当業者は、いくつかの場合に、部分が導入される順序が変わり得ることを認識するだろう。式(IA)の化合物を製造するのに要する工程の特定の順序は、合成されている特定の化合物、出発化合物、及び置換された部分の相対的な安定性に依存する。そのため、本化合物の合成は、型通りの実験と共に(例えば、反応条件、試薬、及び合成工程のシーケンスの操作)、本明細書に記載される合成スキーム及び具体的な実施例に記載されるものに類似の方法により達成され得る。
出発物質は、市販されていない場合、標準的な有機化学技法、公知の構造的に類似の化合物の合成に類似の技法、又は上述のスキームに類似の技法、又は合成実施例の項に記載される手順から選択される手順により調製できる。
光学活性な形態の化合物が要求される場合、本明細書に記載される手順の1つを、光学活性な出発物質(例えば、好適な反応工程の不斉誘導により調製)を利用して実施しても、標準的な手順(クロマトグラフィーによる分離、再結晶化、又は酵素による分割)を利用する化合物又は中間体の立体異性体の混合物の分割によっても得ることができる。
同様に、化合物の純粋な幾何異性体が要求される場合、上記手順の1つを、純粋な幾何異性体を出発物質として使用して実施しても、クロマトグラフィーによる分離などの標準的な手順を利用する化合物若しくは中間体の幾何異性体の混合物の分割によっても得ることができる。
化合物構造の組織名は、CambridgeSoft(登録商標)によるChem & Bio Draw 12.0 UltraのConvert−Structure−to−Name機能により生成されたが、それは立体化学にカーン・インゴルド・プレローグ規則を利用している。化合物構造の個別の原子配置を議論する際には、以下に記載するラクタム用の代わりの連続的な番号付けスキームを使用できる。
液体クロマトグラフィー−質量スペクトル(LC/MS)は、Agilent LC/MSD G1946D又はAgilent 1100 Series LC/MSD Trap G1311A又はG2435Aを利用して得られた。定量化は、Cary 50 Bio UV−可視分光光度計で得られた。
H、13C、及び19F核磁気共鳴(NMR)スペクトルは、それぞれ、400、100、及び376MHzでVarian INOVA核磁気共鳴分光計を利用して得られた。
高速液体クロマトグラフィー(HPLC)分析分離は、Agilent 1100又はAgilent 1200 HPLC分析システムと、それに続いてUVmax、260nm又はその付近に設定したAgilent Technologies G1315B Diode Array Detectorで実施した。
高速液体クロマトグラフィー(HPLC)分取分離は、Gilson分取HPLCシステム又はAgilent 1100分取HPLCシステムと、それに続いてUVmax、260nm又はその付近に設定したAgilent Technologies G1315B Diode Array Detectorで実施した。
分析的キラルHPLC分離は、Agilent 1100分析システムと、それに続いてUVmax、260nm又はその付近に設定したAgilent Technologies G1315B Diode Array Detectorで実施した。
薄層クロマトグラフィー(TLC)分析は、Uniplate(商標)250μシリカゲルプレート(Analtech,Inc.カタログ番号02521)で実施して、典型的には、特に指示されない限り、水中50体積%希硫酸スプレーを使用して、可視化のために発色させた。
本願に使用される場合、以下の略語は、以下に述べる意味を有する:
Acは、アセチルである;
ACNは、アセトニトリルである;
BBrは、三臭化ホウ素である;
Bnは、ベンジルである;
BnNHは、ベンジルアミンである;
BSAは、ウシ血清アルブミンである;
CHClは、ジクロロメタンである;
CHClは、クロロホルムである;
CDClは、重水素化クロロホルムである;
CSAは、カンファースルホン酸である;
DCCは、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドである;
DMEは、1,2−ジメトキシエタンである;
DMFは、N,N−ジメチルホルムアミドである;
DMPは、2,2−ジメトキシプロパン(アセトンジメチルアセタールとも呼ばれる)である;
DMSOは、ジメチルスルホキシドである;
DBUは、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エンである;
DIAは、ジイソプロピルアミンである;
DMAPは、4−ジメチルアミノピリジンである;
EDC/EDACは、N−(3−ジメチルアミノプロピル)−N’−エチルカルボジイミド塩酸塩である;
EDTAは、エチレンジアミン四酢酸である;
EEは、エトキシエタ−1−イルである;
eeは、鏡像体過剰率である;
EIAは、酵素免疫アッセイである;
Etは、エチルである;
EtOAcは、酢酸エチルである;
EtOHは、エタノールである;
EtNは、トリエチルアミンである;
HClは、塩化水素である;
HOBtは、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールである;
Meは、メチルである;
MeOHは、メタノールである;
MTBEは、メチルtert−ブチルエーテルである;
NaOMeは、ナトリウムメトキシドである;
nBuLi又はn−BuLiは、n−ブチルリチウムである;
NFSi又はNFSIは、N−フルオロベンゼンスルホンイミドである;
NHSは、N−ヒドロキシスクシンイミドである;
NMPは、1−メチル−2−ピロリジノンである;
PGは、保護基である;
Phは、フェニルである;
Pd(PPhは、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである;
PhMeは、トルエンである;
rtは、室温である;
TBAFは、テトラブチルアンモニウムフルオリドである;
TBS又はTBDMSは、tert−ブチルジメチルシリルである;
tBu又はt−Buは、tert−ブチルである;
TEAは、トリエチルアミンである;
TFAは、トリフルオロ酢酸である;
THFは、テトラヒドロフランである;
TMSは、トリメチルシリルである;且つ
トリス−HClは、2−アミノ−2−(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール塩酸塩である。
図IAにより記載される化合物の合成のための全般的な方法は、以下の全般的なスキーム2に示される3成分のそれぞれの結合を含む。
発明の概要に例示された上部鎖の導入のためのX−L−Rには、メチル7−ブロモヘプタノアート(3a)のように市販されているものがあるが、市販の物質からの合成が必要なものもある。本発明は、3bの調製のための以下の合成工程を与えるが、その反応条件に限定されない。
β−ケト−ホスホナートエステル

に向けた合成経路
式IAの化合物の合成に使用されるβ−ケト−ホスホナートエステルには市販されているものもあるが、市販の物質からの合成が必要なものもある。以下のスキーム4は、β−ケト−ホスホナートエステル(9)を合成できる方法を記載する。本発明は、中間体の質を向上させることができる、以下の工程に含められ得る工程も与える。

などの有機β−ケトホスホナートエステルを、ホーナー・エモンズ・ワズワースタイプのプロセスで、3a及び3b(スキーム2に示す)などのアルデヒドとの反応カップリングパートナーとして使用して、ラクタム下部鎖スキャホールドを取り付けることができる。そのようなβ−ケトホスホナートエステルは、スキーム6に示される一般的な反応及びその変形版に従って、適切なカルボン酸エステル

を、リチウム化/脱プロトン化されたジアルキルメチルホスホナートとカップリングさせて調製できる。下部鎖の表A〜P/Q(下記)は、例示的な実施形態の種々の下部鎖成分Bを記載する。
カルボン酸エステル19は、市販されていることも、スキーム7a−gに示されている通り市販の出発物質から調製することもできる。カルボン酸エステル、19(a−o、下部鎖の表に記載された種々のR基を示す)a(aは、RとRが両方とも水素であることを示す)又は19(a−o)b/c(b/cは、それぞれ、1つのR又は1つのRが存在することを示す)(i−viii、どのC−Cアルキル置換基がR又はRを形成するのかを示す)は、市販のマロン酸ジエチル又は適切な市販のジエチル2−(C−Cアルキル)マロナート出発物質から2工程で調製できる。スキーム7a、工程Aに示される、マロナート出発物質と、LDA若しくはLiHMDSなどの適切なリチウムアミド塩基、又は水素化ナトリウムなどの適切な水素化物塩基、又はナトリウムエトキシドなどのアルコキシド塩基との反応、それに続いて適切なアルキル化剤R−Xとの反応は、対応する2−R−置換ジエチルマロナート14’を与える。その後の脱炭酸(工程B)は、対応するカルボン酸エステル中間体19を与え、式中、RとRは両方とも水素であるか、RとRの一方がC−Cアルキル基であり(アルキル基(i)から(viii)は、それぞれ、メチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、及びtert−ブチルを表す)、他方が水素である。市販のジエチル(C−Cアルキル)マロナートの例には、ジエチルメチルマロナート、ジエチルエチルマロナート、ジエチルイソプロピルマロナート、ジエチルn−プロピルマロナート、ジエチルn−ブチルマロナート(全て、Sigma−Aldrich、Acros Organics、又はAlfa Aesarから)、ジエチルイソブチルマロナート、及びジエチルsec−ブチルマロナート(両方ともAlfa Aesarから)がある。出発ジエチル(C−Cアルキル)マロナートを調製する方法は、当技術分野に公知である。例えば、Keglevich et al.によりLetters in Organic Chemistry,2008,5(3),224−228及びGreen Chemistry,2006,8(12),1073−1075に記載される方法において、マロン酸ジエチルを、炭酸カリウムなどの塩基及びヨウ化メチル、ヨウ化エチル、n−プロピルブロミド、又はn−ブチルブロミドなどの適切なアルキル化剤と、マイクロ波照射下で合わせることができる。ジエチル(C−Cアルキル)マロナートの調製に利用できる他の方法には、Patel and RyonoのBioorganic and Medicinal Chemistry Letters,1992,2(9),1089−1092及び他所に記載の通り、ナトリウムエトキシドなどの塩基の存在下で、エタノールなどの有機溶媒中でのマロン酸ジエチルの、ヨウ化エチル、イソプロピルブロミド、イソブチルブロミド、又はsec−ブチルブロミドなどの適切なアルキル化剤との反応がある。
19(a−o)d(i)など、gem−ジメチル置換をエステルカルボニル基のαの炭素原子で有するカルボン酸エステル中間体12(RとRはどちらもメチルである)は、スキーム7bに示され、Shibasaki,M.et alによりChemical and Pharmaceutical Bulletin,1989,37(6),1647−1649に報告された通り、対応するモノ−α−メチルエステル中間体(立体化学的混合物)19(a−o)b/c(i)のメチル化により調製できる。
スキーム7cは、市販又は調製されたカルボン酸エステル19(a−o)aのアルキル化剤R/R−Xによるモノ−アルキル化(式中、R/R基はC−Cアルキル基であり、Xは、ヨージド又はブロミドなどの脱離基である)により、それぞれ対応するモノ−アルキル化アナログ19(a−o)b/cを与えることを示す。モノ−アルキル化カルボン酸エステルアナログは、再度アルキル化することができる。例えば、スキーム7dに示される通り、モノ−メチル化されたカルボン酸エステル(立体化学的混合物)19(a−o)b/c(i)を再度メチル化して、対応するgem−ジメチル置換エステル19(a−o)d(i)を与えることができる。
スキーム7eは、1−R−置換C−Cシクロアルキルカルボン酸及びそれらのC−Cアルキルエステル19(a−o)e(ix−xi)の調製を表す。同様な変換は、Yang,D.et.al.のJournal of Organic Chemistry,2009,74(22),8726−8732;Cowling,S.J.and Goodby,J.W.のChemical Communications(Cambridge,United Kingdom),2006,39,4107−4709;Araldi,G.L.et.al.国際公開第2003/103604号パンフレット;その他に記載されている。
エナンチオピュアなカルボン酸エステル19(a−o)b(i−viii)及びそれらの立体異性体、19(a−o)c(i−viii)は、スキーム7fに表された経路に従って調製できる。酸を、THFなどの好適な溶媒の存在下で、リチウムジイソプロピルアミド(約2モル当量)などの適切な塩基で、アルキル化剤R−X(工程A)で処理することによる、プロピオン酸(R/Rはメチル基である)などの適切に置換されたカルボン酸出発物質の、酸カルボニル基のαの炭素位置でのアルキル化は、対応するカルボン酸中間体18(a−o)b/c(i−viii)を与える。その後の、カルボン酸中間体とN−ヒドロキシスクシンイミド(NHS)のカップリングは、対応するNHSエステル(活性化されたエステル)立体異性体混合物20(a−o)b/c(i−viii)(工程B)を形成する。活性化されたエステル立体異性体混合物20(a−o)b/c(i−viii)のTHF中での(R)−2−アミノ−2−フェニルエタノールによる処理は、2つのアミドジアステレオマー21(a−o)b(i−viii)及び21(a−o)c(i−viii)の混合物をもたらすが(工程C)、それをクロマトグラフィーにより分離して、それぞれ純粋なジアステレオマーを与えることができる(工程D)。個別のジアステレオマーの再結晶化は、さらに高い純度を有するアミドを与え得る。各ジアステレオマーの、それぞれその対応するカルボン酸18(a−o)b(i−viii)及び18(a−o)c(i−viii)へのアミド加水分解(工程E)、並びにその後のエステル化(工程F)は、それぞれ対応する個別のカルボン酸エステル立体異性体19(a−o)b(i−viii)及び19(a−o)c(i−viii)を与える。
スキーム7gは、工程Cにおけるより効率的な(不斉)アルキル化のためにキラル補助剤の使用を利用する、立体的に純粋なカルボン酸エステル19(a−o)b(i−vii)(Rは水素である)に至る合成経路を示す。アルキル化の後のキラル補助剤の除去(工程D)及びその後の誘導体化(工程E及びF)は、クロマトグラフィーにより分離可能で結晶化によりさらに精製される(工程G)ジアステレオマーを与える。酸で触媒されたアミド加水分解(工程H)及びその後のエステル化(工程I)は、所望の立体的に純粋な中間体を与え、それらの対応する立体的に純粋なβ−ケトホスホナートエステル9(a−o)b(i−vii)へと進めることができる。
スキーム8は、先に記載された全般的方法によるアセチレン性カルボン酸エステル19(a−f)a及び19(a−f)(b−e)(i−xi)の対応するβ−ケトホスホナートへの転化(工程A)並びにその後の接触水素化(工程B)により対応する飽和アナログを与えることを表す。







本発明は、スキーム9に示されている通り、(R)−5−(ヒドロキシメチル)ピロリジン−2−オン(0)から誘導できる本発明の化合物及び本発明の追加の化合物への共通の中間体の1つである(R)−3,3−ジフルオロ−5−(保護されたヒドロキシメチル)ピロリジン−2−オン(5)、α,α−ジフルオロ−γ−ラクタムスキャホールドの合成の方法も提供する。化合物0のラクタムNHと環外ヒドロキシル基の同時の保護は、

(式中、R13及びR14は先に定義されている)などのケタールの、酸で触媒される組込み(工程xviii)により、保護された中間体1を与えることにより達成できる。ワンポット反応技法でのその後の2工程αカルボニル脱プロトンと、それに続くNFSiを使用する求電子フッ素の付加(工程xix)は、α,α−ジフルオロピロリドン中間体2を与える。酸触媒反応、すなわち強酸性スルホン酸カチオン交換樹脂による2の脱保護は、中間体4を与える。4のヒドロキシル部分を保護して(工程xxi)、窒素−炭素結合形成反応及び本発明の化合物の上部鎖の取り付けにすぐに使用できるラクタムスキャホールドを与えることができる。
本発明は、成分3及び5から化合物8を組み立てる方法も提供する。スキャホールド5の、上述の3a又は3bなどのアルキル化剤X−L−R(式中、X、L、及びRはやはり上述の通りである)によるN−アルキル化(スキーム10、工程xxii)は、中間体6を与える。アルコール脱保護(工程xxiii)及びその後の制御されたアルコール酸化(工程xxiv)は、その後のオレフィン化工程に使用できる対応するアルデヒド中間体8を与える。
本発明は、化合物8及び9からの図(IA)(11)の化合物の合成の方法を与える。ホーナー・エモンズ・ワズワースタイプの手順(スキーム11、工程xxv)を利用して、調製が先に記載され説明されているアルデヒド中間体8と、やはり先に記載され説明されたものなどの有機ホスホナートエステルをカップリングして、α,β−不飽和ケトン化合物中間体10を製造することにより、下部鎖を取り付けることができる。C15−オキソ基は、化学選択的且つ立体選択的に、立体異性のアルコール混合物(2つ以上のジアステレオマー、必ずしも等量ではない)として、対応するC15−ヒドロキシル基に還元することができる。立体異性のアルコール混合物は、その後にHPLCにより分離して、純粋な単一のC15α−ヒドロキシジアステレオマー11(すなわち式(IA))と純粋な単一のC15β−ヒドロキシジアステレオマーを与える(工程xxvi)ことができる。
以下の実施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
5−(3−ブロモプロピル)チオフェン−2−カルボン酸の調製

THF(150mL)中のテノイル酸(10.0g、78mmol)からなる−78℃の溶液に、LDA(85mL、170mmol、2M)を20分かけて滴加し、反応物を40分撹拌した。次いで、反応混合物に、ジブロモプロパン(23.8g、117mmol)を一度に加え、反応物を放置して室温に温め、3日間撹拌した。反応混合物に、それぞれ50mlの塩化アンモニウムの飽和水溶液、塩化ナトリウムの飽和水溶液、及び6NのHClを加えた。有機物質を酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し濃縮すると、24.0gの標記化合物を黄色の油として与えた。生成物を精製せずに使用した。TLC R 0.5(溶媒系:30:70:1v/v酢酸エチル:ヘキサン:酢酸)。
メチル5−(3−ブロモプロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(3b)の調製

酢酸エチル(150mL)及びメタノール(15mL)中の5−(3−ブロモプロピル)チオフェン−2−カルボン酸(24g、78mmol)からなる0℃の溶液に、TMS−ジアゾメタン(50mL、100mmol、2M)を1時間かけて滴加し、次いで放置して室温に温め、16時間撹拌した。反応混合物を、後処理なしに減圧下で濃縮した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン(1:80v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、4.95g(2工程で24%)の標記化合物を白色の固体として与えた;TLC R 0.45(溶媒系:15:85v/v酢酸エチル:ヘキサン);MS(ESI)m/z 263,265(臭素同位体,各々(M+H));HNMR(CDCl)δ 7.5(d,1H),6.7(d,1H),3.75(s,3H),3.3(t,2H),2.9(t,2H),2.1−2.0(m,2H).
スキーム7g、工程B:(S)−4−ベンジル−3−(5−フェニルペンタノイル)オキサゾリジン−2−オン(17ma)の調製
THF(20mL)中の(S)−4−ベンジルオキサゾリジン−2−オン(0.9g、5.08mmol)の−78℃の溶液に、n−ブチルリチウム(3.5mL、5.59mmol、1.6Mヘキサン溶液)をゆっくりと加えた。混合物を−78℃で2時間撹拌し、その時に5−フェニルペンタノイルクロリド(1g、5.08mmol、5−フェニルペンタン酸の塩化オキサリル及び触媒のDMFによる処理により調製)をゆっくりと加えた。反応混合物を−78℃で2時間撹拌し、次いで、一晩放置して室温にした。混合物を5%KHSOで酸性化し、酢酸エチルで2回抽出した。有機相をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン(25:75v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、1.4g(82%)の標記化合物を透明な油として与えた;TLC R 0.40(溶媒系:25:75v/v酢酸エチル−ヘプタン);MS(ESI+)m/z 337.41g(M+H),360.2(M+Na)
スキーム7g、工程C:(S)−4−ベンジル−3−((S)−2−メチル−5−フェニルペンタノイル)オキサゾリジン−2−オン(17mb(i))の調製

THF(20mL)中の(S)−4−ベンジル−3−(5−フェニルペンタノイル)オキサゾリジン−2−オン(1.24g、3.68mmol)の−78℃の溶液に、リチウムビス−(トリメチルシリル)アミド(4.41mL、4.41mmol、1MのTHF溶液)をゆっくりと加えた。混合物を−78℃で1時間撹拌し、その時にヨードメタン(0.27mL、4.23mmol)をゆっくりと加え、混合物を放置して室温にして、一晩撹拌した。混合物を5%KHSOで酸性化し、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を、ブラインで2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣を酢酸エチル−ヘプタン(25:75v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、563mg(43.6%)の標記化合物を透明な油として与えた;TLC R 0.53(溶媒系:25:75v/v酢酸エチル−ヘプタン;MS(ESI)m/z 352.3(M+H) 374.2(M+Na)
スキーム7g、工程D:(S)−2−メチル−5−フェニルペンタン酸(18mb(i))の調製

(S)−4−ベンジル−3−((S)−2−メチル−5−フェニルペンタノイル)オキサゾリジン−2−オンの溶液に水を加え、混合物を0℃に冷却し、過酸化水素及び水酸化リチウムを加え、4時間撹拌した。反応混合物を5%KHSOで酸性化し、酢酸エチルで2回抽出し、有機層をブラインで2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空下で濃縮した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン−酢酸(25:75:0.4)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、293mg(95%)の標記化合物を無色の油として与えた;TLC R 0.35(溶媒系:25:75:0.4v/v/v酢酸エチル−ヘプタン−酢酸);HPLC保持時間12.08分、固定相:Chiralpak IA 4.6×25mm 5μ、210nmでの紫外検出器、移動相:1mL/分99:1:0.1ヘプタン:2−プロパノール:酢酸、97.22%(S)、2.78%(R)。
スキーム7g、工程E:(S)−2,5−ジオキソピロリジン−1−イル2−メチル−5−フェニルペンタノアート(20mb(i))の調製

ジクロロメタン(20mL)中の(S)−2−メチル−5−フェニルペンタン酸(290mg、1.51mmol)に、N−ヒドロキシスクシンイミド(191mg、1.66mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(203mg、1.66mmol)、及び1−エチル−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(318mg、1.66mmol)を加え、混合物を室温で2時間撹拌した。反応混合物を、次の工程で使用した。
スキーム7g、工程F及びG:(S)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチル−5−フェニルペンタンアミド(21)の調製

上記からの先の混合物に、R−(−)−2−フェニルグリシノールを加え、混合物を一晩撹拌した。混合物を濾過し、THFで洗浄し、次いで濾液を真空下で濃縮した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン(60:40v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。クロマトグラフィーから得られた固体を、酢酸エチル−ヘプタンから結晶化すると、198mg(42%)の標記化合物を白色の固体として与えた;TLC R 0.21(溶媒系:60:40v/v酢酸エチル−ヘプタン;HPLC保持時間14.68分、固定相:Gemini、5μ C18 250×4.6mm、210nmの紫外波長、移動相:1mL/分、60:40:0.1メタノール−水−酢酸、100%(S);MS(ESI)m/z 312.2(M+H),334.1(M+Na)
スキーム7g、工程H:(S)−(+)−2−メチル−5−フェニルペンタン酸(18mb(i))の調製

(S)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチル−5−フェニルペンタンアミド(3.5g、11.24mmol)の1,4−ジオキサン(80mL)溶液に、硫酸(36mL、3N水溶液)を加え、混合物を80℃で一晩撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで3回抽出し、有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン−酢酸(30:70:0.4v/v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、2.4g(定量的)の標記化合物を透明な油として与えた;R 0.48(溶媒系:30:70:0.4v/v/vエチルアセエート(aceate)−ヘプタン−酢酸;HPLC保持時間26.0分;Chiralpak IA、5μ、4.6×25mm、208nmでの紫外検出器0.75ml/分99:1:0.5v/vヘプタン−2−プロパノール−酢酸;MS(ESI)m/z 191.1(M−H)H−NMR(CDCl)δ 7.33−7.27(m,2H),7.22−7.16(m,3H),2.67−2.60(m,2H),2.56−2.46(m,1H),1.80−1.60(m,3H),1.59−1.36(m,1H),1.25−1.14(m,3H);[α] λ=α/cl,[α]21.9 =+0.089/(0.01501g/1.5mL)(0.5)=+17.79°(c=1,CHCl).
スキーム7g、工程I:(S)−(+)−エチル2−メチル−5−フェニルペンタノアート(19mb(i))の調製

エタノール(200mL)中の(S)−(+)−2−メチル−5−フェニルペンタン酸(2.3g、11.96mmol)からなる溶液に、4滴の硫酸を加え、混合物を一晩還流した。混合物を冷却し、真空下で濃縮した。残渣を酢酸エチルで希釈し、ブラインで2回洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮すると、2.4g(91%)の標記化合物を透明な油として与えた;TLC R 0.66(溶媒系:15:85:1v/v/v酢酸エチル−ヘプタン−酢酸;MS(ESI)m/z 221.2(M+H)H−NMR(CDCl)δ 7.29−7.25(m,2H),7.21−7.13(m,3H),4.12(q,J=6.96Hz,2H),2.64−2.57(m,2H),2.48−2.39(m,1H),1.75−1.54(M,3H),1.52−1.41(m,1H),1.24(t,J=7.14Hz,3H)1.16−1.11(m,3H);[α] λ=α/cl,[α]21.9 =+0.101/(0.01506g/1.5mL)(0.5)=+20.12°(c=1,CHCl).
スキーム6:(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(9mb(i))の調製

THF(400mL)中のジメチルメチルホスホナート(23.37g、188.4mmol)からなる−78℃の溶液に、n−ブチルリチウム(112mL、179.0mmol、1.6Mヘキサン溶液)をゆっくりと加えた。混合物を30分間撹拌し、その時にTHF(100mL)中の(S)−(+)−エチル2−メチル−5−フェニルペンタノアート(28.1g、94.2mmol)をゆっくりと加え、混合物を−78℃で2時間撹拌し、次いで一晩放置して室温にした。反応混合物を5%KHSOで処理し、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を50:50の水−ブラインで2回洗浄し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン(60:40v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、11.9gの標記化合物を、無関係の成分がない透明な油として与えた;TLC R 0.22(溶媒系:60:40v/v酢酸エチル−ヘプタン);HPLC保持時間14.5分、5μ Chiralpak IA 250×4.6mm、210nmでの紫外検出器、1ml/分、キラル純度97.8%(S)、2.19%(R);MS(ESI)m/z 297.1(M−H)H NMR(CDCl)δ 7.28−7.21(m,2H),7.17−7.12(m,3H),3.76−3.71(m,6H),3.10(d,J=2.20Hz,1H),3.04(d,J=2.20Hz,1H),2.79−2.70(m,1H),2.54−2.62(m,2H),1.74−1.54(m,3H),1.42−1.24(m,1H),1.07(d,J=6.96Hz,3H);[α] λ=α/cl,[α]21.9 =+0.084/(0.0169g/1.5mL)(0.5)=+14.91°(c=1.13,CHCl).
クロマトグラフィーは、TLCの目視に基づいて95%の8.3gも与えた;キラル純度98.19%(S)、1.81%(R)。
(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(9mb(i))の代替調製
スキーム7f、工程A:(±)−2−メチル−5−フェニルペンタン酸(18mb(i))の調製

−50℃のTHF(400mL)中のジイソプロピルアミン(218.25mL、1557.3mmol)の溶液に、n−ブチルリチウム(628mL、392.5mmol、1.6Mヘキサン溶液)を加えた。混合物を5分間撹拌し、次いで放置して−20℃に温めた。反応混合物に、HMPA(102mL)中のプロピオン酸(44.67g、603mmol)からなる溶液を滴加した。混合物を室温で30分間撹拌し、0℃に冷却し、THF(200mL)中の1−ブロモ−3−フェニルプロパン(100g、502mmol)を加え、混合物を室温で2時間撹拌した。反応混合物を水で希釈し、エチルアセアタート(aceatate)で抽出した。水層を分離し、次いで酸性になるまで2MのHClで酸性化した。次いで、水層を酢酸エチルで3回抽出し、有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮すると、105g(定量的)の透明な油を与えた;TLC R 0.44(溶媒系:25:75:1v/v/vエチルアセアタエ(aceatae)−ヘプタン−酢酸。
スキーム7f、工程B:(±)−2,5−ジオキソピロリジン−1−イル2−メチル−5−フェニルペンタノアート(20mb(i))の調製

ジクロロメタン(800mL)中の(±)−2−メチル−5−フェニルペンタン酸(105.6g、549.1mmol)からなる混合物に、N−ヒドロキシスクシンイミド(69.5g、604.0mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(73.8g、604.04mmol)、及び1−エチル−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(115.8g、604.0mmol)を加え、混合物を室温で一晩撹拌した。混合物をジクロロメタンで抽出し、ブラインで2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン(30:70v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、85.6g(54%)の標記化合物を与えた;TLC R 0.32(溶媒系25:75v/v酢酸エチル−ヘプタン。
スキーム7f、工程C及びD:(S)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチル−5−フェニルペンタンアミド(21mb(i))の調製

48℃のTHF(3000mL)中の(±)−2,5−ジオキソピロリジン−1−イル2−メチル−5−フェニルペンタノアート(85.6g、295.9mmol)からなる溶液に、R−(−)−2−フェニルグリシノール(65.9g、480.4mmol、Bridge Organics)を少量ずつ加えて、混合物を48℃で40時間撹拌した。白色の沈殿物を反応混合物から濾過し、THFで洗浄した。濾液を真空下で濃縮し、ジアステレオマーのペアからなる残渣を、酢酸エチル−ヘプタン(50:50v/v)で溶離させてシリカゲルのクロマトグラフにかけた。純粋なジアステレオマー、31.3g(34%)の標記化合物を無色の固体として得た;TLC R 0.205(溶媒系:50:50v/v酢酸エチル−ヘプタン);HPLC保持時間15.1分、固定相:Gemini 5μ C18 250×4.6mm、210nmでの紫外検出器、移動相:1mL/分、60:40:0.1v/vメタノール−水−酢酸。
スキーム7f、工程E及びF並びにスキーム6:(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(9mb(i))の調製

(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(9mb(i))を、(S)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチル−5−フェニルペンタンアミド(21mb(i))から上述の方法と同様に3工程で調製する。
(R)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチル−5−フェニルペンタンアミド(21mc(i))の調製

(R)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチル−5−フェニルペンタンアミドを、(S)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチル−5−フェニルペンタンアミドと同様に調製した。スキーム7f、工程C及びD反応で先に記載されたジアステレオマーペアのシリカゲルクロマトグラフィーは、30.2g(33%)の標記化合物を白色の固体として与えた;TLC R 0.33(溶媒系:50:50v/v酢酸エチル−ヘプタン);HPLC保持時間13.25分、Gemini 5μ C18 250×4.6mm、210nmの紫外波長で、1mL/分、60:40:0.1メタノール−水−酢酸、キラル純度99.36%(R)、0.64%(S);[α] λ=α/cl,[α]21.9 =−0.066/(0.01573g/2mL)(0.5)=−16.78°(c=0.7865,CHCl)。
(R)−(+)−2−メチル−5−フェニルペンタン酸(18mc(i))の調製

(R)−(+)−2−メチル−5−フェニルペンタン酸を、(S)−2−メチル−5−フェニルペンタン酸と同様に調製した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン−酢酸(20:80:0.4v/v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、20.8gの標記化合物を透明な油として与えた;TLC R 0.51(溶媒系:30:70:1v/v/vエチルアセアテ(aceate)−ヘプタン−酢酸;HPLC保持時間24.46分;Chiralpak IA 4.6×25mm 5μ、208nmの波長で、0.75mL/分、99:1:0.5ヘプタン:2−プロパノール:酢酸、キラル純度99.32%(R)、0.68%(S);MS(ESI)m/z 191.1(M−H)H−NMR(CDCl)δ 7.31−7.26(m,2H),7.21−7.15(m,3H),2.67−2.57(m,2H),2.54−2.44(m,1H),1.79−1.59(m,3H)1.58−1.41(M,1H),1.18(d,J=6.96Hz,3H).
(R)−エチル2−メチル−5−フェニルペンタノアート(19mc(i))の調製

(R)−エチル2−メチル−5−フェニルペンタノアートを、(S)−エチル2−メチル−5−フェニルペンタノアートと同様に調製した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン(5:95v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、21.0g(88%)の標記化合物を透明な油として与えた;TLC R 0.66(溶媒系:15:85:1v/v/v酢酸エチル−ヘプタン−酢酸;MS(ESI+)m/z 221.2(M+H)H−NMR(CDCl)δ 7.32−7.26(m,2H),7.20−7.14(m,3H),4.11(q,J=7.32Hz,2H),2.64−2.57(m,2H),2.48−2.39(m,1H),1.75−1.53(m,3H),1.52−1.41(m,1H),1.27−1.21(m,3H),1.13(d,J=6.96Hz,3H,);[α] λ=α/cl,[α]21.9 =−0.114/(0.01771g/1.5mL)(0.5)=−19.31°(c=1.18,CHCl).
スキーム6:(R)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(9mc(i))の調製

(R)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナートを、(S)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナートと同様に調製した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン(70:30v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、83mg(66%)の標記化合物を無色の油として与えた;TLC R 0.22(溶媒系:70:30v/v酢酸エチル−ヘプタン);HPLC保持時間12.36分、5μ Chiralpak OJ−H 4.6×250mm、210nmの紫外波長で、90:10:0.1ヘプタン:エタノール:酢酸1mL/分、キラル純度100%(R);MS(ESI)m/z 297.1(M−H)H NMR(CDCl)δ 7.29(d,J=6.51Hz,2H,),7.22−7.16(m,3H),3.77(d,J=11.35Hz,3H),3.78(d,J=11.35Hz,3H),3.13(d,J=1.83Hz,1H),3.08(d,J=1.83Hz,1H),2.78(d,J=6.96Hz,1H),2.67−2.56(m,2H),1.61−1.52(m,3H),1.45−1.32(m,1H),1.11(d,J=6.96Hz,3H);[α] λ=α/cl,[α]21.9 =−0.080/(0.01742g/1.5mL)(0.5)=−13.78°(c=1.16,CHCl).
スキーム7a、工程A及びB、並びにスキーム6:(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソオクタ−5−イン−1−イル)ホスホナート(9bb(i))の調製

(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソオクタ−5−イン−1−イル)ホスホナート(9bb(i))を、スキーム7a、7f及びスキーム6に記載されている反応工程のシーケンスに従って調製した。中間体2−メチルヘプタ−4−イン酸(18bb(i))を、国際公開第2011/003058A1号パンフレットに記載の方法に従って(スキーム7a、工程A及びB、それに続いて塩基加水分解)調製した。(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソオクタ−5−イン−1−イル)ホスホナート(9bb(i))を、2,5−ジオキソピロリジン−1−イル2−メチルヘプタ−4−イノアート(N−ヒドロキシスクシンイミド2−メチルヘプタ−4−イノアート)(20bb(i)/20bc(i)、スキーム7f、工程B)を、2−メチルヘプタ−4−イノイルクロリドの代りに活性化されたアシル種(活性化されたエステル)として調製した以外、Journal of Medicinal Chemistry,1986,29(3),313−315に記載の方法に従って調製して、キラル補助剤中間体ジアステレオマーペア(S)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチルヘプタ−4−インアミド及び(R)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチルヘプタ−4−インアミドを作った。ジアステレオマーをシリカゲルクロマトグラフィーにより分離し、その後に(S)−N−((R)−2−ヒドロキシ−1−フェニルエチル)−2−メチルヘプタ−4−インアミド(21bb(i)を記載の通り(スキーム7f、工程E1及びF1、スキーム6)操作すると、標記中間体を透明な油として与えた。標記中間体の絶対立体化学を、その比旋光度の決定により証明した:[α] λ=α/cl、[α]21.9 =+0.574/(0.025g/1mL)(0.5)=+45.92°(c=2.5、CHCl);Liebigs Annalen der Chemie,1989,11,1081−1083からの(S)−(+)−ジエチル(3−メチル−2−オキソオクタ−5−イン−1−イル)ホスホナートの文献に報告された比旋光度;[α]20 =+37.7°(c=1、CHCl);キラル分析HPLC(固定相:Chiralcel OJ−H 順相250×4.6mm;移動相:85:15ヘキサン/1−プロパノール;流量:1mL/分)保持時間6.4分、100%純度;TLC R 0.32(溶媒系:4:1v/v酢酸エチル−ヘキサン);H−NMR(CDCl)δ 3.76−3.80(m,6H),3.11−3.29(m,2H),2.86−2.95(m,1H),2.36−2.44(m,1H),2.26−2.33(m,1H),2.09−2.16(m,2H),1.16−1.20(m,3H),1.06−1.11(m,3H);MS(ESI)m/z 247(M+H)
上述の同じプロセスによる標記中間体の第二の調製は、比旋光度(c=1、CHCl)が+49°である標記中間体を与えた。
(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(9mb(i))の代替調製
スキーム8、工程A:(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキサ−5−イン−1−イル)ホスホナート(9db(i))の調製

(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキサ−5−イン−1−イル)ホスホナートを、中間体(S)−2−メチル−5−フェニルペンタ−4−イン酸(18db(i)を(S)−2−メチルヘプタ−4−イン酸(18bb(i)の代りに調製しスキーム5、工程xv、xvi、及びxvii、それに続いてスキーム4、工程xi、xii、及びxiiiに示した通り使用した以外、中間体9bb(i)の調製に記載されたのと同様に調製して、透明な油として標記化合物9hの合成を完了した;TLC R 0.22(溶媒系:4:1v/v酢酸エチル−ヘキサン);MS(ESI)m/z 295(M+H)
スキーム8、工程B:(S)−(+)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(9mb(i))の調製

メタノール(25mL)中の((S)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキサ−5−イン−1−イル)ホスホナート)(0.98g、3.3mmol)からなる溶液に、活性炭に担持された5%パラジウム(100mg)を加え、反応雰囲気を1気圧の水素ガスに替えた。反応が完了すると、水素の吸収が終わった後で、混合物をセライトの薄いパッドに通して濾過し、真空下で濃縮した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン(70:30v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、930mg(93.9%)の標記化合物を無色の油として与えた;TLC R=0.24(溶媒系:70:30v/v酢酸エチル−ヘプタン;H−NMR(CDCl)δ 7.3−7.2(m,2H),7.2−7.1(m,3H),3.8−3.7(m,6H),3.12(s,1H),3.07(s,1H),2.8−2.7(m,1H),2.7−2.5(m,2H),1.8−1.7(m,2H),1.7−1.5(m,2H),1.1(d,3H);MS(ESI)m/z 299(M+H)
保護されたアルコール中間体(5)を調製する詳細な手順を以下に記載する。以下の実施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
O−保護された(R)−3,3−ジフルオロ−5−(ヒドロキシメチル)ピロリジン−2−オン(5)の調製

スキーム9、工程xviii:(R)−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(1)の調製

2,2−ジメトキシプロパン(DMP)(40mL)中の(R)−5−ヒドロキシメチル−2−ピロリジノン(DL Chiral、5.3g、46mmol)からなる溶液に、カンファースルホン酸(530mg)を加えた。混合物を75℃で4時間還流し、その後に真空中で濃縮した。次いで、新たなDMP(40mL)を加え、混合物を一晩還流した。濃縮後、残った残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。酢酸エチル:ヘプタン(1:2v/v)で溶離させると、標記中間体(3.6g)を透明な油として与えた;TLC R 0.20(溶媒系50:50v/vヘプタン:酢酸エチル);H−NMR(CDCl)δ 4.3−4.2(1H,m),4.1(1H,dd),3.5(1H,t),2.9−2.7(1H,m),2.6−2.5(1H,m),2.2−2.1(1H,m),1.9−1.7(1H,m),1.7(3H,s),1.5(3H,s);MS(ESI)m/z 156.2(M+H)
スキーム9、工程xviii:(R)−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(1)の代替調製
R−5−ヒドロキシメチル−2−ピロリジノン(20g、174mmol)の2,2−ジメトキシプロパン(1.4L、1139mmol)溶液に、カンファースルホン酸(1.0g、4.3mmol)を加えた。混合物を75℃で20時間還流した。反応物を炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で処理し、水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。合わせた有機相を塩化ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、メタノール:ジクロロメタン(1:70v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、21.2g(78%)の標記化合物を白色の固体として与えた;TLC R 0.6(溶媒系:25:75v/v酢酸エチル−ヘキサン);MS(ESI)m/z 156.1(M+H),178.1(M+Na)H−NMR(CDCl)δ 4.3−4.2(m,1H),4.1(dd,1H),3.5(t,1H),2.9−2.7(m,1H),2.6−2.5(m,1H),2.2−2.1(m,1H),1.9−1.7(m,1H),1.7(s,3H),1.5(s,3H).
スキーム9、工程xviii:(R)−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(1)の代替調製
R−5−ヒドロキシメチル−2−ピロリジノン(50.0g、434mmol)の2,2−ジメトキシプロパン(533mL、4.3mol)溶液に、カンファースルホン酸(2.85g、10.8mmol)を加えた。混合物を88℃で1.5時間還流し、メタノールを留去した。反応物を、1時間95℃に加熱し、室温に冷却し、5mLのトリエチルアミンで処理し、5分間撹拌した。次いで、混合物を500mL(ヘキサン:酢酸エチル1:3)で希釈し、塩化ナトリウムの50%水溶液及び塩化ナトリウムの飽和水溶液で連続的に洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をヘキサンからの結晶化により精製すると、30.48g(45%)の標記化合物を白色の結晶性固体として与えた。TLC R 0.4(溶媒系:5:95v/vメタノール:ジクロロメタン)MS(ESI)m/z 156.1(M+H),178.1(M+Na)H−NMR(CDCl)δ 4.3−4.2(m,1H),4.1(dd,1H),3.5(t,1H),2.9−2.7(m,1H),2.6−2.5(m,1H),2.2−2.1(m,1H),1.9−1.7(m,1H),1.7(s,3H),1.5(s,3H).
(7aR)−6−フルオロ−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(1.1)の調製

乾燥THF(400mL)中の(R)−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(中間体1、18.5g、119.2mmol)からなる−75℃の溶液に、リチウムジイソプロピルアミド(74.5mL、149mmol、ヘプタン/THF/エチルベンゼン中2M、Sigma Aldrichから)を20分かけて滴加し、次いで1時間撹拌した。次いで、反応物を、300mlのTHF中のN−フルオロベンゼンスルホンイミド(56.6g、166.9mmol、NFSi、Oakwood Chemicalから)で30分にわたり処理し、次いで16時間撹拌し、室温に温めた。反応物に塩化アンモニウムの飽和水溶液を加えた。有機物質を酢酸エチルで2回抽出した。有機層を、塩化ナトリウムの50%水溶液、それに続いて塩化ナトリウムの飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を200mLの酢酸エチルに再び溶かし、200mLのヘプタンで処理すると白色沈殿物が生じた。沈殿物を濾過し、ヘプタン中50%酢酸エチルで洗浄した。合わせた濾液を濃縮した。残渣を200mLの酢酸エチルに再び溶かし、200mLのヘプタンで処理した。沈殿物を再び濾過し、ヘプタン中50%酢酸エチルで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣(31g)を、酢酸エチル:ヘキサン(1:3v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、標記化合物のジアステリオマー(diasteriomers)のそれぞれの純粋な試料(黄褐色固体としてそれぞれ4.1g)及び3.8gの混合(およそ1:1の比率)ジアステレオマーを与えた。総収量は12.0g(65%)であった。
(6S,7aR)−6−フルオロ−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(1.1α)及び(6R,7aR)−6−フルオロ−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(1.1β)

2つの異性体のクロマトグラフィーによる分離は、2つの純粋なエピマーを与える。
(1.1α)TLC R 0.55(溶媒系:60:40v/v酢酸エチル:ヘキサン);Agilent 1100装置、210nmでの紫外検出器、固定相 Gemini 3m C18、50×2mmカラム、移動相、4分にわたる水:メタノール:酢酸勾配(90:10:0.1から10:90:0.1)、保持時間2.33分でのHPLC;MS(ESI)m/z 174.1(M+H);1H−NMR(CDCl)δ 5.085(ddd,J=51.6,6.0,0.8Hz,1H)4.5−4.4(m,1H),4.15(dd,1H),3.4(dd,1H),2.5−2.3(m,1H),2.1−1.7(m,1H),1.65(s,3H),1.5(s,3H);19F−NMR(CDCl,376 MHz)δ−184.5(ddd,J=52,41,22Hz,1F).
(1.1β)TLC R 0.45(溶媒系:60:40v/v酢酸エチル:ヘキサン);Agilent 1100装置、210nmでの紫外検出器、固定相 Gemini 3m C18、50×2mmカラム、移動相、4分にわたる水:メタノール:酢酸勾配(90:10:0.1から10:90:0.1)、保持時間1.69分でのHPLC;MS(ESI)m/z 174.1(M+H);1H−NMR(CDCl)δ 5.325(ddd,J=52.4,9.9,7.7Hz,1H)4.2(dd,1H),4.0−3.9(m,1H),3.5(dd,1H),2.8−2.7(m,1H),2.0−1.9(m,1H),1.7(s,3H),1.5(s,3H);19F−NMR(CDCl,376 MHz)δ−185.9(dd,J=52,23Hz,1F).
(R)−6,6−ジフルオロ−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(2)の調製

乾燥THF(300mL)中の(7aR)−6−フルオロ−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(8.0g、46.2mmol、1.1のジアステレオマーの混合物)からなる−75℃の溶液に、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド(50.8mL、50.8mmol、LiHMDS、THF中1M)を10分かけて滴加し、次いで、1時間撹拌した。次いで、反応物をN−フルオロベンゼンスルホンイミド(17.5g、55.4mmol)のTHF(100mL)溶液で10分にわたり処理し、次いで、30分間撹拌した。リチウムビス(トリメチルシリル)アミド(10.0mL、10mmol)を加え、反応物を室温に温めながら16時間撹拌した。反応混合物に、塩化アンモニウムの50%水溶液を加えた。有機物質を、酢酸エチル:ヘプタン(5:1)で抽出した。有機層を、塩化ナトリウムの50%水溶液、水、及び塩化ナトリウムの飽和溶液で連続的に洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、酢酸エチル:ヘキサン(1:5v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、7.39g(79%)の標記化合物を黄褐色の固体として与えた;TLC R 0.70(溶媒系:50:50v/v酢酸エチル:ヘキサン);H−NMR(CDCl)δ 4.3(dd,1H),4.2−4.0(m,1H),3.5(t,1H),2.9−2.7(m,1H),2.2−2.0(m,1H),1.7(s,3H),1.5(s,3H).
スキーム9、工程xix:(R)−6,6−ジフルオロ−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(2)の代替調製

乾燥THF(300mL)中の(R)−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(1)(15.5g、100.0mmol)からなる−78℃の溶液に、sec−ブチルリチウム(78.5mL、110mmol、シクロヘキサン中1.4M、Sigma Aldrichから)を5分かけて滴加し、次いで1時間撹拌した。次いで、反応物を、THF(100mL)中のN−フルオロベンゼンスルホンイミド(35g、111mmol、NFSi、Oakwoodから)で5分にわたり処理し、次いで1時間撹拌した。次いで、反応混合物にリチウムビス(トリメチルシリル)アミド(110mL、110mmol、THF中1.0M、Sigma Aldrichから)を5分かけて滴加し、次いで1時間撹拌した。次いで、反応物を、THF(100mL)中のNFSi(34.4g、109mmol)で5分にわたり処理し、次いで2時間撹拌した。反応物に、−78℃で、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド(40mL、40mmol、THF中1M)を加え、30分間撹拌した。冷却浴を外し、塩化アンモニウムの飽和水溶液を加えた。反応混合物を放置して室温に温め、有機物質を酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、塩化ナトリウムの50%飽和水溶液、及び塩化ナトリウムの飽和溶液で連続的に洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、酢酸エチル:ヘキサン(1:3v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、11.64g(61%)の標記化合物を固体として与えた;TLC R 0.4(溶媒系:5:95v/vメタノール:ジクロロメタン);H−NMR(CDCl)δ 4.3(dd,1H),4.2−4.0(m,1H),3.5(t,1H),2.9−2.7(m,1H),2.2−2.0(m,1H),1.7(s,3H),1.5(s,3H).
スキーム9、工程xx:(R)−3,3−ジフルオロ−5−(ヒドロキシメチル)ピロリジン−2−オン((R)−4)の調製

水:1,4−ジオキサン(300mL、1:1)中の(R)−6,6−ジフルオロ−3,3−ジメチルテトラヒドロピロロ[1,2−c]オキサゾール−5(3H)−オン(12.5g、65.4mmol)からなる溶液に、Amberlite IR−120H*(6.23g)を加え、反応物を6時間115℃に加熱した。反応混合物を、セライトに通して濾過し、メタノールで洗浄してから、トルエン及びエタノールと共に濃縮した。残渣をジエチルエーテルで洗浄すると、8.8g(89%)の標記化合物を黄褐色固体として与え、さらに精製せずに使用した;TLC R 0.25(溶媒系:70:30v/v酢酸エチル:ヘキサン)。
*Amberlite IR−120Hイオン交換樹脂、スルホン酸官能基が付いた強酸性のゲルタイプの樹脂、CAS:39389−20−3。75gのAmberliteを洗浄し、脱イオン水で3回デカンテーションした。4回目の洗液を吸引濾過を利用して濾過し、半乾燥樹脂を、2−プロパノールで、次いでジエチルエーテルで手早く洗浄した。樹脂を乾燥させると、54gの自由流動性茶褐色ビーズ樹脂を与えた。
スキーム9、工程xxi:(5R)−5−((1−エトキシエトキシ)メチル)−3,3−ジフルオロピロリジン−2−オン(5;PG=EE)の調製

ジクロロメタン(20mL)及びTHF(10mL)中の(R)−3,3−ジフルオロ−5−(ヒドロキシメチル)ピロリジン−2−オン(中間体4、540mg、3.57mmol)からなる溶液に、エチルビニルエーテル(1.4mL、15mmol)を加え、それに続いてトリフルオロ酢酸(20mg)を加えた。反応混合物を、室温で16時間撹拌した。次いで、反応物にTHF(10ml)を加えて沈殿物を溶かし、それに続いてエチルビニルエーテル(0.4mL、4.2mmol)を加えて、反応物を3時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル(150mL)で希釈し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液(10mL)及びブライン(5mL)で洗浄してから、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。メタノール:ジクロロメタン(1:80v/v)で溶離させると、726mg(91%)の標記中間体を透明な油として与えた;TLC R 0.60(溶媒系:93:7v/vジクロロメタン:メタノール);H−NMR(CDCl)δ 4.8−4.6(m,1H),4.0−3.8(m,1H),3.7−3.5(m,2H),3.5−3.4(m,2H),2.8−2.6(m,1H),2.4−2.2(m,1H),1.3(d,3H),1.2(t,3H);MS(ESI)m/z 241.1(M+NH,246.1(M+Na);(ESI)m/z 222.1(M−H)
スキーム9、工程xxi:(R)−5−(((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)メチル)−3,3−ジフルオロピロリジン−2−オン(5;PG=TBS)の調製

DMF(10mL)及びTHF(10mL)中の(R)−3,3−ジフルオロ−5−(ヒドロキシメチル)ピロリジン−2−オン(中間体4、880mg、3.57mmol)からなる溶液に、tert−ブチルジメチルクロロシラン(1.40g、9.23mmol)を加え、それに続いてイミダゾール(800mg、6.55mmol)を加えた。反応混合物を室温で16時間撹拌した。反応混合物を水(10mL)で希釈し、酢酸エチルで3回(55ml、2×25ml)抽出した。合わせた有機液を、1:1の水:ブライン(3×10mL)及びブライン(5mL)で洗浄してから、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。メタノール:ジクロロメタン(1:50v/v)で溶離させると、標記中間体(1528mg)を透明な油として与えた;TLC R 0.60(溶媒系:95:5v/vジクロロメタン:メタノール);H−NMR(CDCl)δ 3.8−3.7(m,1H),3.7−3.6(m,1H),3.5−3.4(m,1H),2.6−2.5(m,1H),2.3−2.1(m,1H),0.8(s,9H),0.0(s,6H);MS(ESI)m/z 266.1(M+H)
スキーム10、工程xxii:メチル7−((5R)−5−((1−エトキシエトキシ)メチル)−3,3−ジフルオロ−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(6A;PG=EE)の調製

DMF(5mL)中の水素化ナトリウム(鉱油中60%、18mg、0.45mmol)及びヨウ化ナトリウム(74mg、0.49mmol)からなる懸濁液に、(5R)−5−((1−エトキシエトキシ)メチル)−3,3−ジフルオロピロリジン−2−オン(中間体5;PG=EE、100mg、0.45mmol)のDMF(5mL)溶液を滴加した。混合物を室温で2時間撹拌し、それに続いて50℃で30分間撹拌した。反応混合物に、メチル7−ブロモヘプタノアート(化合物3a、Alfa Aesarから市販、120mg、0.538mmol)を滴加し、撹拌を50℃で一晩続けた。混合物を酢酸エチル(200mL)で希釈し、0.5N塩酸(20mL)、チオ硫酸ナトリウムの5%水溶液(10mL)、50%ブライン(4×25mL)、及びブライン(25mL)で連続的に洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。メタノール:ジクロロメタン(1:100v/v)で溶離させると、128mg(78%)の標記中間体を透明な油として与えた;TLC R 0.95(溶媒系:93:7v/vジクロロメタン:メタノール);H−NMR(CDCl)δ 4.7(dq,1H),3.85−3.75(m,1H),3.75−3.4(m,8H),3.15−3.05(m,1H),2.65−2.35(m,1H),2.3(t,2H),1.7−1.4(m,4H),1.4−1.3(m,4H),1.3(d,3H),1.2(t,3H);MS(ESI)m/z 383.2(M+NH,388.1(M+Na)
DMF(30mL)中の水素化ナトリウム(鉱油60%、108mg、2.7mmol)及びヨウ化ナトリウム(450mg、3.0mmol)からなる懸濁液に、(5R)−5−((1−エトキシエトキシ)メチル)−3,3−ジフルオロピロリジン−2−オン(中間体5;PG=EE、600mg、2.68mmol)のDMF(30mL)溶液を滴加した。混合物を室温で2時間撹拌し、それに続いて50℃で30分間撹拌した。反応混合物に、メチル7−ブロモヘプタノアート(化合物3a、Alfa Aesarから市販、720mg、2.23mmol)を滴加し、撹拌を50℃で一晩続けた。混合物を酢酸エチルで希釈し、0.5N塩酸、チオ硫酸ナトリウムの5%水溶液、塩化ナトリウムの50%飽和水溶液、及び塩化ナトリウムの飽和水溶液で連続的に洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。メタノール:ジクロロメタン(1:125v/v)で溶離させると、888mg(90%)の標記中間体を黄褐色の固体として与えた;TLC R 0.95(溶媒系:93:7v/vジクロロメタン:メタノール);MS(ESI)m/z 383.2(M+NH,388.1(M+Na)
スキーム10、工程xxiii:(R)−メチル7−(3,3−ジフルオロ−5−(ヒドロキシメチル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(7A)の調製

メタノール(10mL)中のメチル7−((5R)−5−((1−エトキシエトキシ)メチル)−3,3−ジフルオロ−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(中間体6A;PG=EE、113mg、0.310mmol)からなる溶液に、p−トルエンスルホン酸一水和物(2mg)を加え、混合物を室温で18時間撹拌した。反応混合物を濃縮すると粗製の残渣を与え、それをシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。メタノール−ジクロロメタン(1:80v/v)で溶離させると、86mg(97%)の標記中間体を薄黄色の油として与えた;TLC R 0.55(溶媒系:7:93v/vメタノール:ジクロロメタン);H−NMR(CDCl)δ 3.85−3.6(m,4H),3.65(s,3H),3.2−3.1(m,1H),2.6−2.4(m,2H),2.3(t,2H),1.7−1.4(m,4H),1.4−1.2(m,4H);MS(ESI)m/z 311.2(M+NH,316.1(M+Na)
スキーム10、工程xxiv:(R)−メチル7−(3,3−ジフルオロ−5−ホルミル−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(8A)の調製

ジクロロメタン(10mL)中の(R)−メチル7−(3,3−ジフルオロ−5−(ヒドロキシメチル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(中間体7A、85mg、0.29mmol)からなる溶液に、デス・マーチンペルヨージネート(periodinate)(150mg、0.348mmol)を加え、反応混合物を4時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をその後に濃縮した。さらに後処理せずに、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。メタノール−ジクロロメタン(1:200v/v)で溶離させると、77mg(91%)の標記中間体を薄黄色の油として与えた;TLC R 0.60(溶媒系:7:93v/vメタノール:ジクロロメタン)。
スキーム10、工程xxii:(R)−メチル5−(3−(5−(((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)メチル)−3,3−ジフルオロ−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(6C;PG=TBS)の調製

DMF(60mL)中の水素化ナトリウム(鉱油中60%、458mg、11.45mmol)及びヨウ化ナトリウム(1.79g、12.0mmol)からなる懸濁液に、DMF(10mL)中の(R)−5−(((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)メチル)−3,3−ジフルオロピロリジン−2−オン(5;PG=TBS、2.9g、10.9mmol)からなる溶液を滴加した。混合物を室温で90分間撹拌した。反応混合物に、メチル5−(3−ブロモプロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(24、3.16g、12.0mmol、上述の通り調製)を滴加し、撹拌を50℃で16時間続けた。混合物を塩化アンモニウムの水溶液で処理し、2:1の酢酸エチル:ヘプタンで抽出した。合わせた有機液を、塩化ナトリウムの50%飽和水溶液、それに続いて塩化ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させた。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。酢酸エチル:ヘプタン(1:5v/v)で溶離させると、4.6g(93%)の標記中間体を与えた;TLC R 0.30(溶媒系:75:25v/vヘプタン:酢酸エチル);H−NMR(CDCl)δ 7.6(d,1H),6.8(d,1H),3.8(s,3H),3.7−3.6(m,1H),3.6−3.5(m,1H),3.3−3.1(m,1H),2.8(t,2H),2.6−2.4(m,1H),2.4−2.2(m,1H),2.0(s,3H),1.2(t,1H),0.8(s,9H),0.0(s,6H);MS(ESI)m/z 465.1(M+ NH
スキーム10、工程xxiii:(R)−メチル5−(3−(3,3−ジフルオロ−5−(ヒドロキシメチル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(7C)の調製

THF(20mL)中の(R)−メチル5−(3−(5−(((tert−ブチルジメチルシリル)オキシ)メチル)−3,3−ジフルオロ−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(6C;PG=TBS、5.15g、11.5mmol)からなる溶液に、TBAF(THF中1M、14.96mL、14.96mmol)を2時間にわたり加え、混合物を室温で16時間撹拌した。混合物を塩化アンモニウムの水溶液で処理し、酢酸エチルで抽出した。合わせた有機相を、塩化ナトリウムの50%飽和水溶液、それに続いて塩化ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。メタノール−ジクロロメタン(1:80v/v)で溶離させると、3.4g(88%)の標記中間体を薄黄色の油として与えた;TLC R 0.5(溶媒系:5:95v/vメタノール:ジクロロメタン);H−NMR(CDCl)δ 7.6(d,1H),6.8(d,1H),3.85(s,3H),3.8−3.6(m,4H),3.3−3.1(m,1H),2.85(t,2H),2.6−2.4(m,2H),2.1−1.9(m,2H);MS(ESI)m/z 351.0(M+NH
スキーム10、工程xxiv:(R)−メチル5−(3−(3,3−ジフルオロ−5−ホルミル−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(8C)の調製

(R)−メチル5−(3−(3,3−ジフルオロ−5−ホルミル−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラートを、7Cから、中間体7Aからの中間体8Aの調製に関して記載された酸化手順を利用して調製して、標記中間体(80mg)を薄黄色の油として与えた;TLC R 0.60(溶媒系:7:93v/vメタノール:ジクロロメタン)。
図IAの実施形態の調製の方法の詳細を、以下に記載する。以下の実施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
スキーム11、工程xxv:メチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((S,E)−4−メチル−3−オキソノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(10A)の調製

THF(3mL)中のジメチル(S)−(3−メチル−2−オキソオクタ−5−イン−1−イル)ホスホナート(71.2mmg、0.29mmol)、(R)−メチル7−(3,3−ジフルオロ−5−ホルミル−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(76.6mg、0.26mmol)、及び塩化リチウム(33.4mg、0.79mmol)からなる氷冷された混合物にトリエチルアミン(39.9mg、0.39mmol)を加え、室温に温めながら反応物を16時間撹拌した。反応混合物に、等量の塩化アンモニウムの飽和水溶液と水を加え、有機物質を酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、メタノール:ジクロロメタン(1:300v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、81mg(75%)の標記化合物を透明な油として与えた;TLC R 0.80(溶媒系:7:93v/vメタノール:ジクロロメタン);MS(ESI+)m/z 412.1(M+H),(ESI−) 410.1(M−H)H−NMR(CDCl)δ 6.6−6.5(m,1H),6.4(d,1H),4.3−4.2(m,1H),3.65(s,3H),3.7−3.6(m,1H)3.0−2.7(m,3H),2.5−2.4(m,1H)2.4−2.2(m,4H)2.2−2.1(m,2H),1.7−1.4(m,4H),1.4−1.2(m,4H),1.2(d,3H),1.1(t,3H).
スキーム11、工程xxvi:メチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチルノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(11A−1)及びメチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチルノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(11A−2)の主要な調製

メタノール(5mL)中のメチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((S,E)−4−メチル−3−オキソノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(61mg、0.148mmol)からなる−40℃の溶液に、塩化セリウム七水和物を一度に加えた。反応物を15分間撹拌し、次いで−78℃に20分間冷却した。水素化ホウ素ナトリウム(12mg、0.324mmol)を加え、反応物を3時間撹拌した。反応混合物に、等しい部の水と塩化アンモニウムの飽和水溶液を加え、混合物を室温に温めた。混合物を塩化ナトリウムの飽和水溶液で希釈し、有機物質を酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮して濁った白色の油にした。標記化合物のエピマー混合物を、メタノール:ジクロロメタン(1:300v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより単離した。
11A−1及び11A−2を含む立体異性混合物から、Agilent Semi−Prep装置;210nmでの紫外検出器;Luna Silica 250×10mmカラム;ヘプタン−エタノールの移動相(98:2v/v)、5mL/分での分取HPLCにより立体特異的異性体を単離した。
11A−1:(8.1mg、13%);透明な油;HPLC保持時間57分;TLC R 0.60(溶媒系:7:93v/vメタノール:ジクロロメタン);HPLC:保持時間19.076分、Agilent 1100、Luna Silica 4.6×250mm、5μ、210nmでの紫外検出器、95:5のヘプタン:エタノール;MS(ESI)m/z 414.1(M+H)(ESI)m/z 412.1(M−H)
11A−2:(20.5mg);透明な油;HPLC保持時間42分;MS(ESI)m/z 414.1(M+H)(ESI)m/z 412.1(M−H)
スキーム11、工程xxvi:メチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチルノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(11A−1)及びメチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチルノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(11A−2)の代替調製
−40℃のジクロロメタン(100mL)中のメチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((S,E)−4−メチル−3−オキソノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(169mg、0.460mmol)及び(R)−コーリー・バクシ・柴田触媒(THF中1M、0.46mmol)からなる溶液に、カテコールボラン(THF中1M、0.46mmol)を10分かけて滴加した。反応混合物を室温に温めながら一晩撹拌し、次いで、1NのHCl(10mL)でクエンチした。反応混合物を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮して濁った茶色の油にした。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。メタノール:ジクロロメタン(1:200v:v)で溶離させると、11A−1と1A−2の混合物(52mg)を透明な油として与えた;R 0.65(溶媒系:7:93v/vメタノール:ジクロロメタン)。
エピマーを分離して精製した。エピマー11A−1(15.2mg)を、上記のこの化合物の元の調製の記載された分取HPLC法を利用して単離した。
スキーム11、工程xxvii:7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチルノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタン酸(26A−1)の調製

メチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチルノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(14mg、0.034mmol)のメタノール(450μL)溶液に、水酸化リチウム(300μL、0.30mmol)を加え、反応物を4時間撹拌した。反応混合物に、硫酸水素カリウムの飽和水溶液を加え、有機物質を酢酸エチルで4回抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、酢酸:メタノール:ジクロロメタン(1:2:100v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、12.0mg(89%)の標記化合物を透明な油として与えた;TLC R 0.45(溶媒系:1:5:95v/v酢酸:メタノール:ジクロロメタン);H−NMR(CDCl)δ 5.9−5.8(m,1H),5.6−5.5(m,1H),4.2−4.1(m,2H),3.7−3.5(m,1H),3.1−2.9(m,1H),2.8−2.7(br s,1H),2.4−2.3(t,2H).2.3−2.1(m,5H),1.9−1.8(m,1H),1.7−1.5(m,5H),1.4−1.2(m,4H),1.1(t,3H),1.0(d,3H);19F−NMR(CDCl,376Hz)δ−103.5(dt,J=13.2,267Hz,1F),−105.5(dt,J=15.1,267,1F).
スキーム11、工程xxvii:7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチルノナ−1−エン−6−イン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタン酸(26A−2)の調製

14.8mgの透明な油;TLC R 0.45(溶媒系:95:5:1v/vジクロロメタン−メタノール−酢酸);MS(ESI)m/z 400(M+H),MS(ESI)m/z 398(M−H)
スキーム11、工程xxv:メチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((S,E)−4−メチル−3−オキソ−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(10B)の調製

THF(30mL)中のジメチル(S)−(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(596.6mg、2.0mmol)、(R)−メチル7−(3,3−ジフルオロ−5−ホルミル−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(585mg、2.0mmol)、及び塩化リチウム(254mg、6.0mmol)からなる0℃の混合物に、トリエチルアミン(405mg、4.0mmol)を5分かけて滴加した。反応物を、0℃で1時間撹拌し、次いで室温で2時間撹拌した。反応混合物に、塩化アンモニウムの飽和水溶液を加え、有機物質を酢酸エチルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、メタノール:ジクロロメタン(1:200v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、608mg(65%)の標記化合物を透明な油として与えた;TLC R 0.50(溶媒系:1:99v/vメタノール:ジクロロメタン);MS(ESI+)m/z 464.2(M+H),486.1(M+Na);(ESI−)m/z 462.1(M−H);1H−NMR(CDCl3)δ 7.3(t,2H),7.2(d,3H),6.6−6.4(m,1H),6.3(d,1H),4.3−4.2(m,1H),3.9−3.8(m,1H),3.7(s,3H),3.7−3.5(m,1H),3.0−2.8(m,1H),2.8−2.5(m,2H),2.4−2.2(m,4H),1.8−1.2(m,12H),1.1(d,3H).
スキーム11、工程xxvi:メチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(11B−1)及びメチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(11B−2)の調製

ジクロロメタン(20mL)中のメチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((S,E)−4−メチル−3−オキソ−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(137mg、0.3mmol)及び(R)−(+)−2−メチル−CBS−オキサザボロリジン(0.36mL、0.36mmol、トルエン中1M)の−40℃の溶液に、カテコールボラン(0.99mL、0.99mmol、THF中1M)を10分かけて加えた。反応物を、6時間−40℃から−30℃で撹拌した。反応物を1M塩酸でクエンチし、室温に温めた。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機相を、塩化ナトリウムの50%飽和水溶液及び塩化ナトリウムの飽和水溶液で連続的に洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。標記化合物のエピマー混合物(比率1.12:1.00、11B−1対11B−2)を、メタノール:ジクロロメタン(1:200v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより単離した;TLC R 0.65(溶媒系:5:95v/vメタノール:ジクロロメタン)。
スキーム11、工程xxvii:7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタン酸(26B−1)の調製

メタノール(300μL)中のメチル7−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)ヘプタノアート(3.3mg、0.007mmol)からなる溶液に水酸化リチウム(40μL、0.04mmol、1M水溶液)を加え、反応物を16時間撹拌した。反応物を、KHSOの飽和水溶液及びブラインの添加によりクエンチし、有機物質を酢酸エチルで抽出した。有機相を濃縮し、酢酸エチルに再び溶かし、濾過し、濃縮すると7.7mg(粗製)の透明な油を与えた;TLC R 0.45(溶媒系:1:10:90v/v酢酸:メタノール:ジクロロメタン);H−NMR(CDCl)δ 7.3(t,2H),7.2(d,3H),5.9−5.7(m,1H),5.5−5.4(m,1H),4.2−4.0(m,2H),3.6−3.5(m,1H),3.0−2.9(m,1H),2.8−2.6(br s,1H),2.6(t,2H),2.4−2.0(m,6H),1.8−1.4(m,7H),1.4−1.0(m,6H),0.9(dt,3H)
スキーム11、工程xxv:メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((S,E)−4−メチル−3−オキソ−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(10C)の調製

THF(70mL)中のジメチル(S)−(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(1.79g、6.0mmol)、メチル(R)−5−(3−(3,3−ジフルオロ−5−ホルミル−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(3.1g、6.0mmol)、及び塩化リチウム(763mg、18.0mmol)からなる0℃の混合物に、トリエチルアミン(1.67g、12.0mmol)を1分かけて滴加した。反応物を、室温に温めながら16時間撹拌した。反応混合物に、塩化アンモニウムの飽和水溶液を加え、有機物質を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機相を、塩化ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、メタノール:ジクロロメタン(1:200v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、1.97g(63%)の標記化合物を透明な油として与えた;TLC R 0.75(溶媒系:95:5v/vジクロロメタン:メタノール);H−NMR(CDCl)δ 7.6(d,1H),7.3−7.2(m,2H),7.2−7.1(m,3H),6.8(d,1H),6.45(dd,1H),6.25(d,1H),4.2−4.1(m,1H),3.85(s,3H),3.7−3.6(m,1H),3.0−2.9(m,1H),2.83(t,2H),2.7−2.6(m,4H),2.4−2.2(m,1H),2.0−1.9(m,2H),1.7−1.5(m,3H),1.5−1.3(m,1H),1.1(d,3H).
スキーム11、工程xxvi:メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(11C−1)及びメチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(11C−2)の調製

反応1:ジクロロメタン(1mL)中のメチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((S,E)−4−メチル−3−オキソ−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(50.0mg、0.1mmol)及び(R)−(+)−2−メチル−CBS−オキサザボロリジン(0.12mL、0.12mmol、トルエン中1M)からなる溶液に、ジクロロメタン(5mL)中のカテコールボラン(0.1mL、0.1mmol、THF中1M)を15分かけて加えた。反応物を2時間撹拌した。反応物を、1MのHClでクエンチし、酢酸エチルで抽出した。合わせた有機相を、塩化ナトリウムの50%飽和水溶液及び塩化ナトリウムの飽和水溶液で連続的に洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。標記化合物のC15−OHに関するエピマー混合物を含む残渣を、メタノール:ジクロロメタン(1:250v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより単離すると、23mgを透明な油として与えた;TLC R 0.50(溶媒系:97:3v/vジクロロメタン:メタノール)。
反応2:メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート、標記化合物のエピマー混合物を、4モル当量のカテコールボラン(0.4mL、0.4mmol、THF中1M)を1当量の代りに使用した点を除いて、反応1において先に記載した方法により調製すると、70mgを透明な油として与えた;TLC R 0.50(溶媒系:3:97v/vジクロロメタン:メタノール)。
反応3:メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート、標記化合物のエピマー混合物を、より大規模という点を除いて、反応1において先に記載した方法により調製した。メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((S,E)−4−メチル−3−オキソ−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(553mg、1.1mmol)、(R)−(+)−2−メチル−CBS−オキサザボロリジン(1.32mL、1.32mmol、トルエン中1M)、及びカテコールボラン(1.1mL、1.1mmol、THF中1M)を含む反応混合物は、226mgを透明な油として与えた;TLC R 0.50(溶媒系:3:97v/vジクロロメタン:メタノール)。
純粋な単一のエピマー11C−1を、反応1、2、及び3からの標記化合物の合わせたエピマー混合物から、Agilent 1100装置、固定相Luna 5m Silica 250×21.2mmカラム、移動相96:4ヘプタン:エタノール、保持時間26−29分で分取HPLCにより単離した。
11C−1:110mg(17%)白色の固体として;TLC R 0.50(溶媒系:97:3v/vジクロロメタン:メタノール);分析HPLC、保持時間16.3分、Agilent 1100 210nmでの紫外検出器、固定相、Phenomenex Luna Silica、5μ、4.6×250mm、移動相、95:5ヘプタン:エタノール、流量1mL/分;H−NMR(CDCl)δ 7.6(d,1H),7.3−7.2(m,2H),7.2−7.1(m,3H),6.8(d,1H),5.75(dd,1H),5.4(dd,1H),4.1−4.0(m,2H),3.82(s,3H),3.6−3.5(m,1H),3.0−2.9(m,1H),2.80(t,2H),2.6−2.5(m,3H),2.2−2.1(m,1H),2.1−2.0(m,1H),1.9−1.8(m,2H),1.7−1.4(m,4H),1.2−1.1(m,1H),0.84(d,3H);19F−NMR(CDCl,376Hz)δ−103.6(ddd,J=270,15,3Hz,1F),−105.6(ddd,J=271,17,15Hz,1F).
反応4:ジクロロメタン(1mL)中のメチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((S,E)−4−メチル−3−オキソ−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(10mg、0.02mmol)及び(R)−(+)2−メチル−CBS−オキサザボロリジン(0.040mL、0.04mmol、トルエン中1M)からなる溶液に、ジクロロメタン(1mL)中のカテコールボラン(0.060mL、0.06mmol、THF中1M)を15分かけて加えた。反応物を2時間撹拌した。反応物を1MのHClでクエンチし、酢酸エチルで抽出した。透明な油としての粗生成物を、Phenomenex Luna 5μ Silica (2)4.6×250mmカラムを30℃で使用し、95:5:0.1のヘキサン:2−プロパノール:酢酸で溶離させてHPLCにより分析すると、メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チフェン(thiphene)−2−カルボキシラート(11C−1)対メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チフェン−2−カルボキシラート(11C−2)の64:36のC15ヒドロキシ基に対するジアステレオマーの比率を明らかにした;TLC R 0.50(溶媒系:3:97v/vジクロロメタン:メタノール)。
スキーム11、工程xxvii:5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボン酸(26C−1)の調製

メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(96mg、0.19mmol)のメタノール(3mL)溶液に水酸化リチウム(950mL、0.95mmol)を加え、反応混合物を16時間撹拌した。反応物を、KHSOの飽和水溶液の添加によりクエンチし、有機物質を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機相を、塩化ナトリウムの飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、酢酸:メタノール:ジクロロメタン(1:2:140v:v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、75mg(80%)の標記化合物を白色の固体として与えた;.TLC R 0.50(溶媒系:1:4:96v/v酢酸:メタノール:ジクロロメタン);H−NMR(CDCl)δ 7.7(d,1H),7.3−7.2(m,2H),7.2−7.1(m,3H),6.85(d,1H),5.75(dd,1H),5.42(dd,1H),4.1−4.0(m,2H),3.7−3.5(m,1H),3.1−3.0(m,1H),2.85(dt,2H),2.7−2.5(m,3H),2.2(dq,1H),2.0−1.9(m,2H),1.8−1.5(m,3H),1.5−1.4(m,1H),1.2−1.1(m,1H)0.84(d,3H);13C−NMR(CDCl)δ 166.62,163.64(t,J=21Hz)153.28,142.24,137.77,135.29,129.32(d,J=233Hz),128.35(2C),128.31(2C),126.25,125.79,75.27,55.24,40.48,38.66,36.54(t,J=21Hz),36.00,31.60,28.82,28.37,27.77,14.99,14.18;19F−NMR(CDCl)δ−103.6(ddd,J=271,16,3Hz,1F),−105.6(ddd,J=270,17,15Hz,1F).
スキーム11、工程xxvii:5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボン酸(26C−2)の調製

5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4S,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボン酸を、対応するメチルエステル11C−2の加水分解により、26C−1に関する記載と同様に調製した;TLC R 0.55(溶媒系:96:4:1v/vジクロロメタン−メタノール−酢酸);MS(ESI)m/z 490.2(M−H)
スキーム11、工程xxv:メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((R,E)−4−メチル−3−オキソ−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(10D)の調製

メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((R,E)−4−メチル−3−オキソ−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラートを、(10C)に関して先に記載されたの同様に、(R)−メチル5−(3−(3,3−ジフルオロ−5−ホルミル−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(8C)及び(R)−ジメチル(3−メチル−2−オキソ−6−フェニルヘキシル)ホスホナート(9mc(i))を使用して調製すると、1.3g(53%)の無色の油を与えた;TLC R 0.42(溶媒系35:65v/v酢酸エチル−ヘプタン);MS(ESI)m/z 502(M−H)H NMR(CDOD)δ 7.60(d,J=3.66Hz,1H),7.28−7.18(m,2H),7.17−7.11(m,3H),6.89(d,J=3.94Hz1H),6.55(dd,J=8.79,15.38Hz,1H),6.42(d,J=15.75Hz,1H),4.43(td,J=4.07,8.33Hz,1H),3.82(s,3H),3.63−3.47(m,1H),3.13−3.01(m,1H),2.91−2.72(m,4H),2.58(t,J=7.32Hz,2H),2.35(d,J=15.01Hz,1H),2.01−1.84(m,2H),1.71−1.51(m,3H),1.41−1.28(m,1H),1.04(d,J=6.59Hz,3H);19F NMR(CDOD)δ−104.2(ddd,1F),−107.2(ddd,1F);[α] λ=α/cl,[α]21.9 =−0.090/(0.01606g/1.5mL)(0.5)=−16.81(c=1.07,CHCl).
スキーム11、工程xxvi:メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チフェン−2−カルボキシラート(11D−1)及びメチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チフェン−2−カルボキシラート(11D−2)の調製

メチル5−(3−((5R)−3,3−ジフルオロ−5−((4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート、標記化合物のエピマー混合物を、塩化セリウム七水和物及び水素化ホウ素ナトリウムを使用して、11A−1及び11A−2に関して記載された主要な方法により調製した。
11D−1及び11D−2の純粋なエピマーを、そのエピマーパートナーからの分取HPLCによる分離の後に単離した。
Gilson Prep HPLC、Luna Silica 5μ 21.2×250mm、紫外検出器210nm、移動相96:4:0.1ヘプタン−エタノール−酢酸、21.2ml/分。
11D−1:透明な油として175mg;TLC R 0.31(溶媒系:35:65v/v酢酸エチル−ヘプタン);HPLC保持時間39分;MS(ESI)m/z 528(M+Na)H NMR(CDOD)δ 7.62(d,J=3.66Hz,1H),7.25−7.10(m,5H),6.91(d,J=3.92Hz,1H),5.81(dd,J=6.23,15.38Hz,1H),5.42(dd,J=9.34,15.20Hz,1H),4.25(dd,J=4.58,7.87Hz,1H),3.99−3.89(m,1H),3.80(s,3H),3.55−3.47(m,1H),3.34(s,1H),3.16−3.03(m,1H),2.85(dt,J=3.48,7.42Hz,3H),2.71−2.51(m,2H),2.32−2.19(m,1H),1.99−1.85(m,2H),1.71−1.44(m,4H),1.11(s,1H),0.86(d,J=6.96Hz,3H);19F NMR(CDOD)δ−104.4(ddd,1F),−107.3(ddd,1F);[α] λ=α/cl,[α]21.9 =−0.004/(0.01568g/1.5mL)(0.5)=−0.765°(c=1.045,CHCl).
11D−2:透明な油として580mg;TLC R 0.31(溶媒系:35:65v/v酢酸エチル−ヘプタン);HPLC保持時間35分;MS(ESI)m/z 528(M+Na)H NMR(CDOD)δ 7.63−7.61(m,1H),7.25−7.10(m,5H),6.92(d,J=3.91Hz,1H,),5.85(dd,J=5.68,15.20Hz,1H),5.43(dd,J=9.34,15.20Hz,1H),4.29−4.22(m,1H),3.96(dt,J=1.46,5.49Hz,1H),3.82−3.80(m,3H),3.59−3.47(m,1H),3.36−3.32(m,1H),3.11(dd,J=6.04,7.87Hz,1H),2.85(t,J=7.51Hz,2H),2.79−2.67(m,1H),2.59(t,J=7.51Hz,2H),2.28−2.15(m,1H),1.99−1.86(m,2H),1.75−1.52(m,3H),1.47(td,J=5.17,13.46Hz,1H),1.17−1.07(m,1H),0.85(d,J=6.59Hz,3H);19F NMR(CDOD)δ−104.5(ddd,1F),−107.2(ddd,1F).
スキーム11、工程xxvi:メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チフェン−2−カルボキシラート(11D−1)及びメチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チフェン−2−カルボキシラート(11D−2)の代替調製
ジクロロメタン(1mL)中のメチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((R,E)−4−メチル−3−オキソ−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(10mg、0.02mmol)及び(R)−(+)2−メチル−CBS−オキサザボロリジン(0.040mL、0.04mmol、トルエン中1M)からなる溶液に、ジクロロメタン(1mL)中のカテコールボラン(0.060mL、0.06mmol、THF中1M)を15分かけて加えた。反応物を2時間撹拌した。反応物を1MのHClでクエンチし、酢酸エチルで抽出した。透明な油としての粗生成物を、Phenomenex Luna 5μ Silica(2)4.6×250mmカラムを30℃で使用し、95:5:0.1ヘキサン:2−プロパノール:酢酸で溶離させてHPLCにより分析すると、メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チフェン−2−カルボキシラート(11D−1)対メチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3R,4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チフェン−2−カルボキシラート(11D−2)の99:1のC15ヒドロキシ基に関するジアステレオマー比率を明らかにした;TLC R 0.50(溶媒系:3:97v/vジクロロメタン:メタノール)。
スキーム11、工程xxvii:5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(26D−1)の調製

1:1のメタノール−THFの混合物(6mL)中のメチル5−(3−((R)−3,3−ジフルオロ−5−((3S,4R,E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−7−フェニルヘプタ−1−エン−1−イル)−2−オキソピロリジン−1−イル)プロピル)チオフェン−2−カルボキシラート(140mg、0.28mmol)からなる溶液に、2M水酸化リチウム水溶液(3mL)を加えた。混合物を室温で6時間撹拌した。混合物を0℃に冷却し、6MのHClで酸性化し、酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機層をブラインで3回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣を、酢酸エチル−ヘプタン−酢酸(50:50:0.4v/v/v)で溶離させてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製すると、60mg(44%)の標記化合物を無色の油として与えた;TLC R 0.45(溶媒系:60:40:1v/v/v酢酸エチル−ヘプタン−酢酸;MS(ESI)m/z 490(M−H);[α] λ=α/cl,[α]21.9 =−0.011/(0.0163g/1.5mL)(0.5)=−2.03°(c=1.09,CHCl).
本発明の態様
態様1
式(IA)

(式中:

a)C −C アルキレン、C −C アルケニレン、若しくはC −C アルキニレン;又は
b)−(CH n1 −G −(CH −、−(CH n2 −C≡C−G −、若しくは−(CH n2 −C(R 12 )=C(R 12 )−G −(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、カルボン酸又は保護されたカルボン酸であり;
12 は、各出現で、独立に、H又はC −C アルキルであり;
及びR は、それぞれ独立に、H又はC −C アルキルであるか;或いは、R とR は、それらが結合している炭素と共に、C −C シクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C −C 10 アルキル、C −C 10 アルケニル、C −C 10 アルキニル、C −C 10 ハロアルキル、C −C 10 ハロアルケニル、C −C 10 ハロアルキニル、又はL −R であり;式中、前記アリール及びヘテロアリールは、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ;及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C −C アルキレン、C −C アルケニレン、C −C アルキニレンであり;且つ
は、C −C シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、R は、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている)
の化合物、又はその薬学的に許容できる塩を調製する方法であって;
式(10)

の化合物を、カルボニル還元剤と反応させること;及びR が保護されたカルボン酸である場合、任意選択で保護されたカルボン酸を脱保護することを含む方法。
態様2
が、n−ヘキシレン、−(CH −G −、−CH −C≡C−G −、又は−CH −C(H)=C(H)−G −であり;


であり;
及びR が、それぞれ独立に、H又はC −C アルキルであり;
が、フェニル、C −C 10 アルキル、C −C 10 アルケニル、C −C 10 アルキニル、C −C 10 ハロアルキル、C −C 10 ハロアルケニル、C −C 10 ハロアルキニル、又はL −R であり;式中、前記フェニルが、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
が、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されているフェニルである、態様1に記載の方法。
態様3
が、−(CH −G −であり;


であり;
及びR が、それぞれ独立に、H又はメチルであり;
が、−CH −C≡C−C −C アルキル又はL −R であり;
が、C −C アルキレンであり;且つ
が、フェニルである、態様2に記載の方法。
態様4
がメチルであり、R がHである、態様3に記載の方法。
態様5
がHであり、R がメチルである、態様3に記載の方法。
態様6
前記カルボニル還元剤が、

とカテコールボランの混合物を含む、態様1〜5のいずれか一項に記載の方法。
態様7
式(8)の化合物を、トリアルキルアミン塩基及び塩化リチウムの存在下で、式(9)の化合物と反応させて、式(10)の化合物を製造する(式中、R は、保護されたカルボン酸であり;且つ、R 15 は、C −C アルキルである)ことをさらに含む、態様1〜5のいずれか一項に記載の方法。

態様8
式(7)の化合物を酸化剤と反応させて、式(8)の化合物を製造することをさらに含む、態様7に記載の方法。

態様9
前記酸化剤がデス・マーチン・ペルヨージナンである、態様8に記載の方法。
態様10
保護基PGを式(6)の化合物から除去して、式(7)の化合物を製造することをさらに含む、態様8に記載の方法。

態様11
PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様10に記載の方法。
態様12
式(5)の化合物を、塩基及び式X −L −R の化合物と反応させて、式(6)の化合物を製造する(式中、X は、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択される脱離基である)ことをさらに含む、態様10に記載の方法。

態様13
前記塩基が、水素化リチウム、水素化ナトリウム、又は水素化カリウムであり;PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様12に記載の方法。
態様14
保護基PGを式(4)の化合物に加えて、式(5)の化合物を製造することをさらに含む、態様12に記載の方法。

態様15
PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様14に記載の方法。
態様16
式(8)の化合物を、トリアルキルアミン塩基及び塩化リチウムの存在下で式(9)の化合物と反応させることを含む、式(10)の化合物を調製する方法;

(式中:
は、
a)C −C アルキレン、C −C アルケニレン、若しくはC −C アルキニレン;又は
b)−(CH n1 −G −(CH −、−(CH n2 −C≡C−G −、若しくは−(CH n2 −C(R 12 )=C(R 12 )−G −(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;
は、

であり;
は、保護されたカルボン酸であり;
12 は、各出現で、独立に、H又はC −C アルキルであり;
及びR は、それぞれ独立に、H又はC −C アルキルであるか;或いは、R とR は、それらが結合している炭素と共に、C −C シクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C −C 10 アルキル、C −C 10 アルケニル、C −C 10 アルキニル、C −C 10 ハロアルキル、C −C 10 ハロアルケニル、C −C 10 ハロアルキニル、又はL −R であり;式中、前記アリール及びヘテロアリールは、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ;及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C −C アルキレン、C −C アルケニレン、C −C アルキニレンであり;
は、C −C シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、R は、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
15 は、C −C アルキルである)。
態様17
が、n−ヘキシレン、−(CH −G −、−CH −C≡C−G −、又は−CH −C(H)=C(H)−G −であり;


であり;
及びR が、それぞれ独立に、H又はC −C アルキルであり;
が、フェニル、C −C 10 アルキル、C −C 10 アルケニル、C −C 10 アルキニル、C −C 10 ハロアルキル、C −C 10 ハロアルケニル、C −C 10 ハロアルキニル、又はL −R であり;式中、前記フェニルが、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
が、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されているフェニルである、態様16に記載の方法。
態様18
が、−(CH −G −であり;
及びR が、それぞれ独立に、H又はメチルであり;
が、−CH −C≡C−C −C アルキル又はL −R であり;
が、C −C アルキレンであり;且つ
が、フェニルである、態様17に記載の方法。
態様19
式(7)の化合物を酸化剤と反応させて、式(8)の化合物を製造することをさらに含む、態様16〜18のいずれか一項記載の方法。

態様20
前記酸化剤がデス・マーチン・ペルヨージナンである、態様19に記載の方法。
態様21
保護基PGを式(6)の化合物から除去して、式(7)の化合物を製造することをさらに含む、態様19に記載の方法。

態様22
PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様21に記載の方法。
態様23
式(5)の化合物を、塩基及び式X −L −R の化合物と反応させて、式(6)の化合物を製造する(式中、X は、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択される脱離基である)ことをさらに含む、態様21に記載の方法。

態様24
前記塩基が、水素化リチウム、水素化ナトリウム、又は水素化カリウムであり;PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様23に記載の方法。
態様25
保護基PGを式(4)の化合物に加えて、式(5)の化合物を製造することをさらに含む、態様23に記載の方法。

態様26
PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様25に記載の方法。
態様27
式(7)の化合物を酸化剤と反応させることを含む、式(8)の化合物を調製する方法

(式中:

a)C −C アルキレン、C −C アルケニレン、若しくはC −C アルキニレン;又は
b)−(CH n1 −G −(CH −、−(CH n2 −C≡C−G −、若しくは−(CH n2 −C(R 12 )=C(R 12 )−G −(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、保護されたカルボン酸であり;且つ
12 は、各出現で、独立に、H又はC −C アルキルである)。
態様28
が、n−ヘキシレン、−(CH −G −、−CH −C≡C−G −、又は−CH −C(H)=C(H)−G −であり;且つ


である、態様27に記載の方法。
態様29
が、−(CH −G −である、態様28に記載の方法。
態様30
前記酸化剤がデス・マーチン・ペルヨージナンである、態様27〜29のいずれか一項に記載の方法。
態様31
保護基PGを式(6)の化合物から除去して、式(7)の化合物を製造することをさらに含む、態様27〜29のいずれか一項に記載の方法。

態様32
PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様31に記載の方法。
態様33
PGが、−Si(R 21 であり、且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様32に記載の方法。
態様34
式(5)の化合物を、塩基及び式X −L −R の化合物と反応させて、式(6)の化合物を製造する(式中、X は、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択される脱離基である)ことをさらに含む、態様31に記載の方法。

態様35
前記塩基が、水素化ナトリウム、水素化リチウム、又は水素化カリウムであり;PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様34に記載の方法。
態様36
保護基PGを式(4)の化合物に加えて、式(5)の化合物を製造することをさらに含む、態様34に記載の方法。

態様37
PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様36に記載の方法。
態様38
PGが、−Si(R 21 であり、且つ、R 21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様37に記載の方法。
態様39
式(5)の化合物を塩基及び式X −L −R の化合物と反応させることを含む、式(6)の化合物を調製する方法

(式中:
は、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択される脱離基であり;
PGは、保護基であり;
は、
a)C −C アルキレン、C −C アルケニレン、若しくはC −C アルキニレン;又は
b)−(CH n1 −G −(CH −、−(CH n2 −C≡C−G −、若しくは−(CH n2 −C(R 12 )=C(R 12 )−G −(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、保護されたカルボン酸であり;且つ
12 は、各出現で、独立に、H又はC −C アルキルである)。
態様40
が、n−ヘキシレン、−(CH −G −、−CH −C≡C−G −、又は−CH −C(H)=C(H)−G −であり;


であり;
PGが、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ
21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様39に記載の方法。
態様41
が、−(CH −G −であり;且つ
PGが、−Si(R 21 である、態様40に記載の方法。
態様42
前記塩基が、水素化ナトリウム、水素化リチウム、又は水素化カリウムである、態様39〜41のいずれか一項に記載の方法。
態様43
式(2)の化合物を酸と反応させる(式中、R 13 は、独立に、C −C アルキル又はフェニルであるか、或いは、R 13 基は、それらが結合する炭素と共に、C −C シクロアルキルを形成する)ことによる、式(4)の化合物を調製する方法。

態様44
前記酸が酸性カチオン交換樹脂である、態様43に記載の方法。
態様45
式(1)の化合物を塩基及びフッ素化剤と反応させる(式中、各R 13 は、独立に、C −C アルキル又はフェニルであるか、或いは、R 13 基は、それらが結合する炭素と共に、C −C シクロアルキルを形成する)ことを含む、式(1)の化合物から式(2)の化合物を調製する方法。

態様46
式(1)の化合物を塩基及びフッ素化剤と反応させることが、式(1)の化合物を第一の塩基及びフッ素化剤並びに第二の塩基及びフッ素化剤と反応させることを含む、態様45に記載の方法。
態様47
式(1)の化合物を塩基及びフッ素化剤と反応させることが、
sec−ブチルリチウムの有機溶媒溶液を、式(1)の化合物の有機溶媒溶液に加えて、第一の反応混合物を製造すること;
N−フルオロベンゼンスルホンイミドを前記第一の反応混合物に加えて、第二の反応混合物を製造すること;
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミド、及びリチウムジイソプロピルアミドからなる群から選択される塩基の有機溶媒溶液を、前記第二の反応混合物に加えて、第三の反応混合物を製造すること;並びに
N−フルオロベンゼンスルホンイミドを、前記第三の反応混合物に加えること
を含む、態様45に記載の方法。
態様48
前記式(0)の化合物を、酸の存在下で、式

の化合物と反応させる(式中、各R 13 は、独立に、C −C アルキル又はフェニルであるか、或いは、R 13 基は、それらが結合する炭素と共に、C −C シクロアルキルを形成し;且つ、R 14 は、メチル又はエチルである)ことにより、式(0)の化合物から式(1)の化合物を調製することをさらに含む、態様45に記載の方法。

態様49
13 がメチルである、態様45〜48のいずれか一項に記載の方法。
態様50
式(10)

(式中:

a)C −C アルキレン、C −C アルケニレン、若しくはC −C アルキニレン;又は
b)−(CH n1 −G −(CH −、−(CH n2 −C≡C−G −、若しくは−(CH n2 −C(R 12 )=C(R 12 )−G −(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、カルボン酸又は保護されたカルボン酸であり;
12 は、各出現で、独立に、H又はC −C アルキルであり;
及びR は、それぞれ独立に、H又はC −C アルキルであるか;或いは、R とR は、それらが結合している炭素と共に、C −C シクロアルキルを形成し
は、アリール、ヘテロアリール、C −C 10 アルキル、C −C 10 アルケニル、C −C 10 アルキニル、C −C 10 ハロアルキル、C −C 10 ハロアルケニル、C −C 10 ハロアルキニル、又はL −R であり;式中、前記アリール及びヘテロアリールは、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ;及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C −C アルキレン、C −C アルケニレン、C −C アルキニレンであり;且つ
は、C −C シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、R は、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている)
の化合物又はその塩。
態様51
が、n−ヘキシレン、−(CH −G −、−CH −C≡C−G −、又は−CH −C(H)=C(H)−G −であり;


であり;
及びR が、それぞれ独立に、H又はC −C アルキルであり;
が、フェニル、C −C 10 アルキル、C −C 10 アルケニル、C −C 10 アルキニル、C −C 10 ハロアルキル、C −C 10 ハロアルケニル、C −C 10 ハロアルキニル、又はL −R であり;式中、前記フェニルが、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
が、フェニルであり、式中、R が、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている、態様50に記載の化合物又はその塩。
態様52
が、−(CH −G −であり;
が、メチルであり;
が、水素であり;
が、−CH −C≡C−C −C アルキル又はL −R であり;
が、C −C アルキレンであり;且つ
が、フェニルである、態様51に記載の化合物。
態様53
が、−(CH −G −であり;
が、水素であり;
が、メチルであり;
が、−CH −C≡C−C −C アルキル又はL −R であり;
が、C −C アルキレンであり;且つ
が、フェニルである、態様51に記載の化合物。
態様54
式(6.1)

(式中:

a)C −C アルキレン、C −C アルケニレン、若しくはC −C アルキニレン;又は
b)−(CH n1 −G −(CH −、−(CH n2 −C≡C−G −、若しくは−(CH n2 −C(R 12 )=C(R 12 )−G −(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、保護されたカルボン酸であり;
12 は、各出現で、独立に、H又はC −C アルキルであり;且つ
20 は、H又はヒドロキシル保護基である)
の化合物。
態様55
が、n−ヘキシレン、−(CH −G −、−CH −C≡C−G −、又は−CH −C(H)=C(H)−G −であり;


であり;
20 が、H、−Si(R 21 、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ
21 が、各出現で、C −C アルキル及びフェニルから独立に選択される、態様54に記載の化合物。
態様56
が、−(CH −G −である、態様55に記載の化合物。
態様57
式(2)

(式中、各R 13 は、独立に、C −C アルキル又はフェニルであるか、或いは、R 13 基は、それらが結合する炭素と共に、C −C シクロアルキルを形成する)
の化合物。
態様58
13 がメチルである、態様57に記載の化合物。
態様59
式(9)

(式中:
及びR は、それぞれ独立に、H又はC −C アルキルであるか;或いは、R とR は、それらが結合している炭素と共に、C −C シクロアルキルを形成し;
は、アリール、ヘテロアリール、C −C 10 アルキル、C −C 10 アルケニル、C −C 10 アルキニル、C −C 10 ハロアルキル、C −C 10 ハロアルケニル、C −C 10 ハロアルキニル、又はL −R であり;式中、前記アリール及びヘテロアリールは、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ;及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
は、C −C アルキレン、C −C アルケニレン、C −C アルキニレンであり;
は、C −C シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、R は、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
15 は、C −C アルキルである)
の化合物。
態様60
及びR が、それぞれ独立に、H又はC −C アルキルであり;
が、フェニル、C −C 10 アルキル、C −C 10 アルケニル、C −C 10 アルキニル、C −C 10 ハロアルキル、C −C 10 ハロアルケニル、C −C 10 ハロアルキニル、又はL −R であり;式中、前記フェニルは、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
が、フェニルであり;式中、R が、C −C アルキル、C −C ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C −C アルコキシ、C −C ハロアルコキシ、及び−C −C アルキレン−C −C アルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている、態様59に記載の化合物。
態様61
がメチルであり;
が水素であり;
が、−CH −C≡C−C −C アルキル又はL −R であり;
がC −C アルキレンであり;
がフェニルであり;且つ
15 が、メチル又はエチルである、態様60に記載の化合物。
態様62
が水素であり;
がメチルであり;
が、−CH −C≡C−C −C アルキル又はL −R であり;
がC −C アルキレンであり;
がフェニルであり;且つ
15 が、メチル又はエチルである、態様60に記載の化合物。
態様63
式X −L −R (式中:
は、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択され;

a)C −C アルキレン、C −C アルケニレン、若しくはC −C アルキニレン;又は
b)−(CH n1 −G −(CH −、−(CH n2 −C≡C−G −、若しくは−(CH n2 −C(R 12 )=C(R 12 )−G −(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;


であり;
は、保護されたカルボン酸であり;且つ
12 は、H又はC −C アルキルである)
の化合物。
態様64
が、n−ヘキシレン、−(CH −G −、−CH −C≡C−G −、又は−CH −C(H)=C(H)−G −であり;且つ


である、態様63に記載の化合物。
態様65
が、−(CH −G −である、態様64に記載の化合物。

Claims (19)

  1. 式(5)の化合物を塩基及び式X−L−Rの化合物と反応させることを含む、式(6)の化合物を調製する方法
    (式中:
    は、ブロモ、クロロ、ヨード、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、及びアリールスルホナートからなる群から選択される脱離基であり;
    PGは、保護基であり;
    は、
    a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
    b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;

    であり;
    は、保護されたカルボン酸であり;且つ
    12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルである)。
  2. が、n−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;

    であり;
    PGが、−Si(R21、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ
    21が、各出現で、C−Cアルキル及びフェニルから独立に選択される、請求項1に記載の方法。
  3. が、−(CH−G−であり;且つ
    PGが、−Si(R21である、請求項2に記載の方法。
  4. 前記塩基が、水素化ナトリウム、水素化リチウム、又は水素化カリウムである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 式(2)の化合物を酸と反応させる(式中、R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成する)ことによる、式(4)の化合物を調製する方法。
  6. 前記酸が酸性カチオン交換樹脂である、請求項5に記載の方法。
  7. 式(1)の化合物を塩基及びフッ素化剤と反応させる(式中、各R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成する)ことを含む、式(1)の化合物から式(2)の化合物を調製する方法。
  8. 式(1)の化合物を塩基及びフッ素化剤と反応させることが、式(1)の化合物を第一の塩基及びフッ素化剤並びに第二の塩基及びフッ素化剤と反応させることを含む、請求項7に記載の方法。
  9. 式(1)の化合物を塩基及びフッ素化剤と反応させることが、
    sec−ブチルリチウムの有機溶媒溶液を、式(1)の化合物の有機溶媒溶液に加えて、第一の反応混合物を製造すること;
    N−フルオロベンゼンスルホンイミドを前記第一の反応混合物に加えて、第二の反応混合物を製造すること;
    リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミド、及びリチウムジイソプロピルアミドからなる群から選択される塩基の有機溶媒溶液を、前記第二の反応混合物に加えて、第三の反応混合物を製造すること;並びに
    N−フルオロベンゼンスルホンイミドを、前記第三の反応混合物に加えること
    を含む、請求項7に記載の方法。
  10. 式(0)の化合物
    から式(1)の化合物を調製することをさらに含み、ここで、式(0)の化合物を、酸の存在下で、式
    の化合物と反応させる(式中、各R 13 は、独立に、C −C アルキル又はフェニルであるか、或いは、R 13 基は、それらが結合する炭素と共に、C −C シクロアルキルを形成し;且つ、R 14 は、メチル又はエチルである)ことによる、請求項7に記載の方法
  11. 13がメチルである、請求項7〜10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 式(10)
    (式中:

    a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
    b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;

    であり;
    は、カルボン酸又は保護されたカルボン酸であり;
    12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;
    及びRは、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであるか;或いは、RとRは、それらが結合している炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成し;
    は、アリール、ヘテロアリール、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、前記アリール及びヘテロアリールは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ;及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;
    は、C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、C−Cアルキニレンであり;且つ
    は、C−Cシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、又はヘテロシクリルであり;式中、Rは、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている)
    の化合物又はその塩。
  13. が、n−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;

    であり;
    及びRが、それぞれ独立に、H又はC−Cアルキルであり;
    が、フェニル、C−C10アルキル、C−C10アルケニル、C−C10アルキニル、C−C10ハロアルキル、C−C10ハロアルケニル、C−C10ハロアルキニル、又はL−Rであり;式中、前記フェニルが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されており;且つ
    が、フェニルであり、式中、Rが、C−Cアルキル、C−Cハロアルキル、シアノ、ハロゲン、C−Cアルコキシ、C−Cハロアルコキシ、及び−C−Cアルキレン−C−Cアルコキシからなる群から選択される1、2、3、又は4つの置換基により任意選択で置換されている、請求項12に記載の化合物又はその塩。
  14. が、−(CH−G−であり;
    が、メチルであり;
    が、水素であり;
    が、−CH−C≡C−C−Cアルキル又はL−Rであり;
    が、C−Cアルキレンであり;且つ
    が、フェニルである、請求項13に記載の化合物又はその塩。
  15. が、−(CH−G−であり;
    が、水素であり;
    が、メチルであり;
    が、−CH−C≡C−C−Cアルキル又はL−Rであり;
    が、C−Cアルキレンであり;且つ
    が、フェニルである、請求項13に記載の化合物又はその塩。
  16. 式(6.1)
    (式中:

    a)C−Cアルキレン、C−Cアルケニレン、若しくはC−Cアルキニレン;又は
    b)−(CHn1−G−(CH−、−(CHn2−C≡C−G−、若しくは−(CHn2−C(R12)=C(R12)−G−(式中、n1は、2、3、4、又は5であり、n2は、1、2、又は3であり、pは、0、1、2、又は3であり、且つ、n1+p=2、3、4、5、又は6である)であり;

    であり;
    は、保護されたカルボン酸であり;
    12は、各出現で、独立に、H又はC−Cアルキルであり;且つ
    20は、H又はヒドロキシル保護基である)
    の化合物。
  17. が、n−ヘキシレン、−(CH−G−、−CH−C≡C−G−、又は−CH−C(H)=C(H)−G−であり;

    であり;
    20が、H、−Si(R21、1−エトキシエチル、又はテトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルであり;且つ
    21が、各出現で、C−Cアルキル及びフェニルから独立に選択される、請求項16に記載の化合物。
  18. が、−(CH−G−である、請求項17に記載の化合物。
  19. 式(2)
    (式中、各R13は、独立に、C−Cアルキル又はフェニルであるか、或いは、R13基は、それらが結合する炭素と共に、C−Cシクロアルキルを形成する)
    の化合物。
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