JP2008513437A - 有用な中間体の新規製造方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 104
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 title description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 111
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 76
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 56
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 55
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 55
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 45
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 42
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- -1 alkaline earth metal amide Chemical class 0.000 claims description 33
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 33
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 30
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 27
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 25
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 20
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 20
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 15
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 13
- QQIRAVWVGBTHMJ-UHFFFAOYSA-N [dimethyl-(trimethylsilylamino)silyl]methane;lithium Chemical compound [Li].C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C QQIRAVWVGBTHMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 8
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000003392 indanyl group Chemical group C1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 claims description 7
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 6
- VVWRJUBEIPHGQF-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl n-propan-2-yloxycarbonyliminocarbamate Chemical compound CC(C)OC(=O)N=NC(=O)OC(C)C VVWRJUBEIPHGQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 5
- BEIVRAYQIXQZKG-LJQANCHMSA-N (3r)-3-hydroxy-3-[2-methoxy-3-(phenylmethoxymethyl)pyridin-4-yl]pentanoic acid Chemical compound OC(=O)C[C@](O)(CC)C1=CC=NC(OC)=C1COCC1=CC=CC=C1 BEIVRAYQIXQZKG-LJQANCHMSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- WUOIAOOSKMHJOV-UHFFFAOYSA-N ethyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(CC)C1=CC=CC=C1 WUOIAOOSKMHJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N palladium(II) acetate Substances [Pd].CC(O)=O.CC(O)=O LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 claims description 3
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- ZYCMDWDFIQDPLP-UHFFFAOYSA-N hbr bromine Chemical compound Br.Br ZYCMDWDFIQDPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 claims 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 230000001028 anti-proliverative effect Effects 0.000 abstract description 5
- LGMNIULNWUAHTF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-3-pyridin-4-ylpentanoic acid Chemical class OC(=O)CC(O)(CC)C1=CC=NC=C1 LGMNIULNWUAHTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000011914 asymmetric synthesis Methods 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 57
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 28
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 26
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 24
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 23
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 20
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 16
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 15
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 14
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 14
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 12
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 12
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 11
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 9
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 9
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HSJKGGMUJITCBW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutanal Chemical compound CC(O)CC=O HSJKGGMUJITCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl iodide Chemical compound C[Si](C)(C)I CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Substances OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 7
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 5
- 238000004296 chiral HPLC Methods 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 5
- RQLKAKQYERUOJD-UHFFFAOYSA-N lithium;1,3,5-trimethylbenzene-6-ide Chemical compound [Li+].CC1=CC(C)=[C-]C(C)=C1 RQLKAKQYERUOJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 0 CC[C@@](*)(CC(O)=O)c1cc(*)nc(O*)c1CO* Chemical compound CC[C@@](*)(CC(O)=O)c1cc(*)nc(O*)c1CO* 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940127093 camptothecin Drugs 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- HSUGRBWQSSZJOP-RTWAWAEBSA-N diltiazem Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[C@H]1[C@@H](OC(C)=O)C(=O)N(CCN(C)C)C2=CC=CC=C2S1 HSUGRBWQSSZJOP-RTWAWAEBSA-N 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N lithium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006263 metalation reaction Methods 0.000 description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- WRIKHQLVHPKCJU-UHFFFAOYSA-N sodium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound C[Si](C)(C)N([Na])[Si](C)(C)C WRIKHQLVHPKCJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- UYVSHNMZZWFXAP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-methoxy-3-(phenylmethoxymethyl)pyridin-4-yl]propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=NC(OC)=C1COCC1=CC=CC=C1 UYVSHNMZZWFXAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazolidone Chemical compound O=C1NCCO1 IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QZSSGGZMSWRLKH-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-propan-2-ylpyridine-4-carboxamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C1=CC=NC(Cl)=C1 QZSSGGZMSWRLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QRXBTPFMCTXCRD-UHFFFAOYSA-N 2-chloropyridine-4-carbonitrile Chemical compound ClC1=CC(C#N)=CC=N1 QRXBTPFMCTXCRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QXCOHSRHFCHCHN-UHFFFAOYSA-N 2-chloropyridine-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=NC(Cl)=C1 QXCOHSRHFCHCHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 238000006673 asymmetric aldol addition reaction Methods 0.000 description 3
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- LFQCJSBXBZRMTN-OAQYLSRUSA-N diflomotecan Chemical compound CC[C@@]1(O)CC(=O)OCC(C2=O)=C1C=C1N2CC2=CC3=CC(F)=C(F)C=C3N=C21 LFQCJSBXBZRMTN-OAQYLSRUSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000002523 gelfiltration Methods 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000001665 trituration Methods 0.000 description 3
- YALNNTIJTPTUPI-GFCCVEGCSA-N (3r)-3-hydroxy-3-[3-(hydroxymethyl)-2-methoxypyridin-4-yl]pentanoic acid Chemical compound OC(=O)C[C@](O)(CC)C1=CC=NC(OC)=C1CO YALNNTIJTPTUPI-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 2
- CGNGQKIWOMGEOV-CVEARBPZSA-N (4r,5s)-3-acetyl-4,5-diphenyl-1,3-oxazolidin-2-one Chemical compound C1([C@H]2[C@H](N(C(O2)=O)C(=O)C)C=2C=CC=CC=2)=CC=CC=C1 CGNGQKIWOMGEOV-CVEARBPZSA-N 0.000 description 2
- LTENIVFVXMCOQI-KGLIPLIRSA-N (4r,5s)-4,5-diphenyl-1,3-oxazolidin-2-one Chemical compound C1([C@H]2[C@H](NC(O2)=O)C=2C=CC=CC=2)=CC=CC=C1 LTENIVFVXMCOQI-KGLIPLIRSA-N 0.000 description 2
- LGKKSLGZKGFBKH-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-4-methoxy-3h-furo[3,4-c]pyridin-1-ol Chemical compound C1=CN=C(OC)C2=C1C(CC)(O)OC2 LGKKSLGZKGFBKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Br)C(=O)C1=CC=CC=C1 ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZIABJCRSGKERIW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-methoxy-2-propan-2-yl-3h-pyrrolo[3,4-c]pyridin-1-one Chemical compound COC1=NC=CC2=C1C(O)N(C(C)C)C2=O ZIABJCRSGKERIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRJNWKANQXXLPV-UHFFFAOYSA-N 4-(2-ethyl-1,3-dioxan-2-yl)-2-methoxypyridine Chemical compound C=1C=NC(OC)=CC=1C1(CC)OCCCO1 ZRJNWKANQXXLPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKQIBRIEXOOANY-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-3h-furo[3,4-c]pyridin-1-one Chemical compound COC1=NC=CC2=C1COC2=O GKQIBRIEXOOANY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VRSJWHSFZQAJJH-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)[SiH2]OC(C=1C(=NC=CC1C(CC)=O)OC)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)[SiH2]OC(C=1C(=NC=CC1C(CC)=O)OC)(C)C VRSJWHSFZQAJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 2
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYJKEHKQUPSJDH-UHFFFAOYSA-N [dimethyl-(trimethylsilylamino)silyl]methane;potassium Chemical compound [K].C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FYJKEHKQUPSJDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical group NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005574 benzylation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 2
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N indane Chemical group C1=CC=C2CCCC2=C1 PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PKMBLJNMKINMSK-UHFFFAOYSA-N magnesium;azanide Chemical compound [NH2-].[NH2-].[Mg+2] PKMBLJNMKINMSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH2-]C YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IUBQJLUDMLPAGT-UHFFFAOYSA-N potassium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound C[Si](C)(C)N([K])[Si](C)(C)C IUBQJLUDMLPAGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- MHYGQXWCZAYSLJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-chloro-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 MHYGQXWCZAYSLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- XALZBROPIGPSAQ-JTQLQIEISA-N (4r)-3-acetyl-4-phenyl-1,3-oxazolidin-2-one Chemical compound C1OC(=O)N(C(=O)C)[C@@H]1C1=CC=CC=C1 XALZBROPIGPSAQ-JTQLQIEISA-N 0.000 description 1
- WKUHGFGTMLOSKM-YFKPBYRVSA-N (4r)-4-tert-butyl-1,3-oxazolidin-2-one Chemical compound CC(C)(C)[C@@H]1COC(=O)N1 WKUHGFGTMLOSKM-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- GCEDCKUTKFTUGB-JSWXEYCZSA-N (4r,5s)-3-[(3r)-3-hydroxy-3-[2-methoxy-3-(phenylmethoxymethyl)pyridin-4-yl]pentanoyl]-4,5-diphenyl-1,3-oxazolidin-2-one Chemical compound C1([C@H]2[C@H](N(C(O2)=O)C(=O)C[C@](O)(CC)C=2C(=C(OC)N=CC=2)COCC=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=CC=CC=C1 GCEDCKUTKFTUGB-JSWXEYCZSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBPIFCWDBWHHBE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxypyridin-4-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=NC(OC)=C1 OBPIFCWDBWHHBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRTLQRYOJOSPEA-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,3,5-trimethylbenzene Chemical group CC1=CC(C)=C(Br)C(C)=C1 RRTLQRYOJOSPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBUBRLUTGWYNJO-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-n-propan-2-ylpyridine-4-carboxamide Chemical compound COC1=CC(C(=O)NC(C)C)=CC=N1 BBUBRLUTGWYNJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZAZWLSRKMDRNS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypyridine-4-carbonitrile Chemical compound COC1=CC(C#N)=CC=N1 NZAZWLSRKMDRNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTENIVFVXMCOQI-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1,3-oxazolidin-2-one Chemical compound O1C(=O)NC(C=2C=CC=CC=2)C1C1=CC=CC=C1 LTENIVFVXMCOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZIKIBCHWLENBF-UHFFFAOYSA-N 4-(2-ethyl-1,3-dioxan-2-yl)-2-methoxy-3-(phenylmethoxymethyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC(OC)=C(COCC=2C=CC=CC=2)C=1C1(CC)OCCCO1 BZIKIBCHWLENBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRJMDBUZMKTQCX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-ethyl-1,3-dioxan-2-yl)-2-methoxypyridine-3-carbaldehyde Chemical compound C=1C=NC(OC)=C(C=O)C=1C1(CC)OCCCO1 RRJMDBUZMKTQCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- FWQOAHQCQNEISO-SVQMELKDSA-N C(C)(C)(C)[SiH2]OC(C=1C(=NC=CC1C(CC(=O)N1C(OC[C@H]1C1=CC=CC=C1)=O)(CC)O)OC)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)[SiH2]OC(C=1C(=NC=CC1C(CC(=O)N1C(OC[C@H]1C1=CC=CC=C1)=O)(CC)O)OC)(C)C FWQOAHQCQNEISO-SVQMELKDSA-N 0.000 description 1
- GMJDXLIIPPFQLM-YPXMJKPUSA-N CC[C@@](CC(O)=O)(C(C1CO)=CC=NC1OC)O Chemical compound CC[C@@](CC(O)=O)(C(C1CO)=CC=NC1OC)O GMJDXLIIPPFQLM-YPXMJKPUSA-N 0.000 description 1
- KLWPJMFMVPTNCC-UHFFFAOYSA-N Camptothecin Natural products CCC1(O)C(=O)OCC2=C1C=C3C4Nc5ccccc5C=C4CN3C2=O KLWPJMFMVPTNCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000003379 Townes-Brocks syndrome Diseases 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000005798 acetal elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229930013930 alkaloid Natural products 0.000 description 1
- 150000003797 alkaloid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006470 amide elimination reaction Methods 0.000 description 1
- ZXKINMCYCKHYFR-UHFFFAOYSA-N aminooxidanide Chemical compound [O-]N ZXKINMCYCKHYFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001093 anti-cancer Effects 0.000 description 1
- 239000002246 antineoplastic agent Substances 0.000 description 1
- 229940041181 antineoplastic drug Drugs 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N azaperone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)CCCN1CCN(C=2N=CC=CC=2)CC1 XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004071 biological effect Effects 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MXOSTENCGSDMRE-UHFFFAOYSA-N butyl-chloro-dimethylsilane Chemical compound CCCC[Si](C)(C)Cl MXOSTENCGSDMRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSJKWCGYPAHWDS-FQEVSTJZSA-N camptothecin Chemical compound C1=CC=C2C=C(CN3C4=CC5=C(C3=O)COC(=O)[C@]5(O)CC)C4=NC2=C1 VSJKWCGYPAHWDS-FQEVSTJZSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 230000004663 cell proliferation Effects 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 231100000433 cytotoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000001472 cytotoxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007257 deesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005661 deetherification reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000002027 dichloromethane extract Substances 0.000 description 1
- 125000004310 dioxan-2-yl group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([H])C([H])(*)OC1([H])[H] 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000006806 disease prevention Effects 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSJKWCGYPAHWDS-UHFFFAOYSA-N dl-camptothecin Natural products C1=CC=C2C=C(CN3C4=CC5=C(C3=O)COC(=O)C5(O)CC)C4=NC2=C1 VSJKWCGYPAHWDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012039 electrophile Substances 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011087 fumaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 239000008241 heterogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004895 liquid chromatography mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229960003966 nicotinamide Drugs 0.000 description 1
- 235000005152 nicotinamide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011570 nicotinamide Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;potassium Chemical compound [K].OP(O)(O)=O PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 229940074439 potassium sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 1
- KJTULOVPMGUBJS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-[tert-butyl(diphenyl)silyl]oxy-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C(C)(C)C)O[Si](C(C)(C)C)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KJTULOVPMGUBJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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Abstract
本発明は、抗増殖活性を示すことが知られている3−(ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸誘導体の新規な不斉合成法に関する。
Description
本出願は、3−(ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸誘導体の新規な製造方法に関する。
具体的には、本発明は、式(I)
で示される化合物及びその製薬学的に許容し得る塩及びエステルの製造方法であって、
a)式(II)
で示される化合物を、式(III)
で示される化合物と反応させ、そして
b)アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物の存在下でさらに反応させて前記の式(I)で示される化合物を得ることからなる前記の式(I)で示される化合物の製造方法〔式中:
R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンから独立して選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されていてもよく;そして
Rがアルキルである場合には、式(I)のR1は水素又はシリルであり且つ式(II)のR1もまたシリルであり;
R2は水素又はハロゲンであり;
Xは
であり;
R3及びR4は独立して水素、フェニル、アルキル及び−C(CH3)2−フェニルから選択され;
R5はフェニル、ベンジル又はアルキルであり;
R6は水素、アルキル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7が水素であり;
R11及びR12は独立してアルキル、シクロアルキル、ベンジル又はフェニルであり;且つ
R13はフェニル又はアルキルである〕
に関する。
で示される化合物及びその製薬学的に許容し得る塩及びエステルの製造方法であって、
a)式(II)
で示される化合物を、式(III)
で示される化合物と反応させ、そして
b)アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物の存在下でさらに反応させて前記の式(I)で示される化合物を得ることからなる前記の式(I)で示される化合物の製造方法〔式中:
R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンから独立して選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されていてもよく;そして
Rがアルキルである場合には、式(I)のR1は水素又はシリルであり且つ式(II)のR1もまたシリルであり;
R2は水素又はハロゲンであり;
Xは
であり;
R3及びR4は独立して水素、フェニル、アルキル及び−C(CH3)2−フェニルから選択され;
R5はフェニル、ベンジル又はアルキルであり;
R6は水素、アルキル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7が水素であり;
R11及びR12は独立してアルキル、シクロアルキル、ベンジル又はフェニルであり;且つ
R13はフェニル又はアルキルである〕
に関する。
好ましい具体的態様において、本発明は、式(I)
で示される化合物及びその製薬学的に許容し得る塩及びエステルの製造方法であって、
a)式(II)
で示される化合物を、式(III)
で示される化合物と反応させ、そして
b)アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物の存在下でさらに反応させて前記の式(I)で示される化合物を得ることからなる前記の式(I)で示される化合物の製造方法〔式中:
R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンから独立して選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されていてもよく;
R2は水素又はハロゲンであり;
Xは
であり;
R3及びR4は独立して水素、フェニル、アルキル及び−C(CH3)2−フェニルから選択され;
R5はフェニル、ベンジル又はアルキルであり;
R6は水素、アルキル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7が水素であり;
R11及びR12は独立してアルキル、シクロアルキル、ベンジル又はフェニルであり;且つ
R13はフェニル又はアルキルである〕
に関する。
で示される化合物及びその製薬学的に許容し得る塩及びエステルの製造方法であって、
a)式(II)
で示される化合物を、式(III)
で示される化合物と反応させ、そして
b)アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物の存在下でさらに反応させて前記の式(I)で示される化合物を得ることからなる前記の式(I)で示される化合物の製造方法〔式中:
R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンから独立して選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されていてもよく;
R2は水素又はハロゲンであり;
Xは
であり;
R3及びR4は独立して水素、フェニル、アルキル及び−C(CH3)2−フェニルから選択され;
R5はフェニル、ベンジル又はアルキルであり;
R6は水素、アルキル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7が水素であり;
R11及びR12は独立してアルキル、シクロアルキル、ベンジル又はフェニルであり;且つ
R13はフェニル又はアルキルである〕
に関する。
別の好ましい具体的態様において、式(I)
で示される化合物及びその製薬学的に許容し得る塩及びエステルの製造方法であって、
a)式(II)
で示される化合物を、式(III)
で示される化合物と反応させ、そして
b)アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物の存在下でさらに反応させて前記の式(I)で示される化合物を得ることからなる前記の式(I)で示される化合物の製造方法〔式中:
Rはアルキルであり;且つ
R1は水素又は式(I)で示されるシリル及び式(II)で示されるシリルであり;
R2は水素又はハロゲンであり;
Xは
であり;
R5はフェニル、ベンジル又はアルキルであり;
R6は水素、アルキル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルである〕
に関する。
で示される化合物及びその製薬学的に許容し得る塩及びエステルの製造方法であって、
a)式(II)
で示される化合物を、式(III)
で示される化合物と反応させ、そして
b)アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物の存在下でさらに反応させて前記の式(I)で示される化合物を得ることからなる前記の式(I)で示される化合物の製造方法〔式中:
Rはアルキルであり;且つ
R1は水素又は式(I)で示されるシリル及び式(II)で示されるシリルであり;
R2は水素又はハロゲンであり;
Xは
であり;
R5はフェニル、ベンジル又はアルキルであり;
R6は水素、アルキル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルである〕
に関する。
式(I)で示される化合物は、ホモカンプトテシン類(hCPT類)の製造の有用な中間体である。ホモカンプトテシン類の幾つかは、抗増殖活性を示すことが知られている。
アルカロイドカンプトテシン(CPT、1)は、強い抗増殖活性を示し、新しい抗癌薬を開発するための極めて魅力のあるリード構造として役立っている(例えば、C.J. Thomas, N.J. Rahier,S.M. Hecht, Bioorg. Med. Chem. 2004, 12, 1585-1604参照)。五環骨格の構造は、高求電子性のα−ヒドロキシ−8−ラクトン環(環“E”)を含有し、この環は塩基性及び中性媒体中で迅速に加水分解して、ほとんど不活性である開鎖カルボン酸体(2、スキーム1)を生成する。
7員β−ヒドロキシ−ε−ラクトン環“E”を有するCPT類縁体であるホモカンプトテシン類(hCPT)の開発は、この問題を取り扱っている。α-ヒドロキシラクトンが抗癌活性について不可欠な構造的特徴であることがすでに一般的に受け入れられているが、抗増殖活性を保持し、しかも同時に加水分解に対して高められた安定性を示すCPT-ラクトン環の修飾が研究された(Lavergne, Bigg et al., J. Med. Chem. 2000, 43, 2285-2289)。従って、hCPTは、新しい高細胞毒性合物を調製するための優れた鋳型を提供し、2つの有望なhCPT誘導体、すなわち下記の3(Diflomotecan)及び4(スキーム2)が癌の治療のために研究中である。
hCPT類の製造方法は、当該技術においては公知であり(米国特許第6,723,853 B2号明細書)、主としてスキーム3に示す一般的合成経路に従う。このスキームにおいて、“X”及び“Y”は任意の置換基を表す(Lavergne, Bigg et al., J. Med. Chem. 2000, 43, 2285-2289もまた参照)。
しかし、大規模製造(kg量)に使用した場合には、これらの方法は、最終生成物の生物活性に必須である二環式“DE-断片”について典型的に0.5%の極めて低い収率を招く。従って、この断片の別の合成経路を提供する必要性が依然としてある。
本発明によって提供される解決策は、その後に式(I)のR2の性質に従って前記の“DE-断片”又はその誘導体に変換される式(I)の化合物の改善された収率をもたらす不斉酢酸アルドール付加であることが見出された。酢酸アルドール付加反応は、通常は低いエナンチオ選択性を招く。また、ケトン基質を使用する不斉酢酸アルドール付加は、大きな未開拓分野である。ごくわずかな助剤しかアセトフェノン又は同様のフェニルアルキルケトンに対する付加反応において合理的な立体選択性を提供しないことが文献に報告されている(E.B. Dongala, D.L. Dull, C. Mioskowski, G. Solladie, Tetrahedron Lett. 1973, 4983-4986;M. Braun, R. Devant, Tetrahedron Lett. 1984, 5031-5034)。
今般、前記の2環式“DE-断片”がスキーム5の式(IV)の化合物から、好ましくは本発明の方法を使用する場合には2−クロロ−4−シアノピリジンから出発して鏡像異性体として純粋な形(約99.95:0.05のer)で且つ約9%の全収率で得ることができることが意外にも見出された。
本明細書で使用する“シリル”という用語は、式R14R15R16Si−(式中、R14、R13及びR16は独立してアルキル、シクロアルキル又はフェニルである)で示される基を意味する。好ましいシリル基は、t−ブチルジメチルシリル基及びt−ブチルジフェニルシリル基である。
本明細書で使用する“アルキル”という用語は、炭素原子を1〜8個、好ましくは1〜6個、さらに好ましくは1〜4個含有する飽和線状又は分岐炭化水素を意味する。このような“アルキル”基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、1−ブチル基、2−ブチル基、t−ブチル基などである。これに関連して、本明細書の式に使用される符号“Me”、“Et”及び“iPr”は、メチル基、エチル基及びイソプロピル基それぞれを意味する。本明細書で使用する用語“O−アルキル”に関連して、好ましい“アルキル”はメチルである。
本明細書で使用する“シクロアルキル”という用語は、5〜10個の炭素原子からなる飽和単環式又は二環式炭化水素を意味する。5〜7個、好ましくは6個の炭素原子からなる単環式炭化水素が好ましい。このようなシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、デカヒドロナフチル基、オクタヒドロインジル基などである。本発明によれば、前記シクロアルキル基は、非置換であるか又はフェニル、ベンジル、アルキル、ヒドロキシル又はオキソで1回、2回又は3回、好ましくは1回又は2回置換される。
本明細書で使用する“ヘテロシクリル”という用語は、1個、2個、3個又は4個、好ましくは1個又は2個の炭素原子が酸素、窒素又は硫黄、好ましくは酸素及び窒素で置換されている単環式、二環式又は三環式飽和もしくは部分不飽和又は部分芳香族炭化水素を意味する。このような複素環式基の例は、3,3a,4,8b−テトラヒドロ−1H−インデノ[1,2−c]イソオキサゾール−1−イル;3,3a,8,8a−テトラヒドロ−1H−2−チア−3−アザ−シクロペンタ[a]インデン−3−イル;オクタヒドロ−インドール−1−イル;オクタヒドロ−ベンゾ[c]イソチアゾール−1−イル;オクタヒドロ−ベンゾ[c]イソオキサゾール−1−イル;2,3−ジヒドロ−1H−インドール−1−イル;1,3−ジヒドロ−ベンゾ[c]イソチアゾール−1−イル;1,3−ジヒドロ−ベンゾ[c]イソオキサゾール−1−イルなどである。本発明によれば、前記のヘテロシクリル基は、非置換であるか、あるいはフェニル、ベンジル、アルキル、ヒドロキシル又はオキソで1回、2回、3回又は4回、好ましくは1回又は2回置換される。
本明細書で使用する“アルカリ金属又はアルカリ土類金属アミド塩基”という用語は、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド及びマグネシウムアミド塩基を意味する。このような塩基の例は、リチウムヘキサメチルジシラザン(LHMDS)、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)、1−リチウム−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(LTMP)、リチウムジシクロヘキシルアミド(LiCA)、ナトリウムヘキサメチルジシラザン(NaHMDS)、カリウムヘキサメチルジシラザン(KHMDS)である。LHMDSの使用が特に好ましい。
本明細書で使用する“場合により置換されていてもよい”という用語は、非置換あるいは1置換、2置換又は3置換を意味する。
本明細書で使用する“エーテル溶媒”という用語は、線状又は環状エーテルの化学分類の溶媒を意味する。このようなエーテル溶媒の例は、ジエチルエーテル(Et2O)、1,2−ジメトキシメタン(DME)、ジイソプロピルエーテル(iPr2O)、テトラヒドロフラン(THF)又はtert−ブチルメチルエーテル(TBME)である。THFが特に好ましい。
本明細書で使用する“鉱酸”という用語は、塩酸(HCl)、臭化水素酸(HBr)、ヨウ化トリメチルシリル(TMSI)又は三臭化ホウ素(BBr3)を意味する。水性臭化水素酸が特に好ましい。
本明細書で使用する“室温(RT)”という用語は、本発明の方法が実施される場所の周囲温度を意味する。前記の温度は、15〜35℃の間で変化させ得る。好ましくは、前記の温度は18〜28℃の間、さらに好ましくは20〜23℃の間である。
本明細書で使用する“製薬学的に許容し得る塩及びエステル”とは、式(I)で示される慣用の酸付加塩又は塩基付加塩を示すか、あるいは式(I)で示される慣用のエステル化化合物を示し、適当な無毒性有機又は無機酸、有機又は無機塩基から、あるいは適当なアルコールそれぞれから形成される。前記の“製薬学的に許容し得る塩及びエステル”は、例えば、式(I)で示される化合物を単離する前の本発明の方法中に、又は式(I)で示される化合物をさらに反応させて式(A)で示される化合物を得る前の単離の後に中間体として生じる。酸付加塩の例としては、無機酸、例えば塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、スルファミン酸、リン酸及び硝酸から誘導される塩、並びに有機酸、例えばp−トルエンスルホン酸、サリチル酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、コハク酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、フマル酸などから誘導される塩が挙げられる。塩基付加塩の例としては、水酸化アンモニウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム及び四級アンモニウムヒドロキシド、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシドから誘導される塩が挙げられる。
ケトン基質を使用する不斉酢酸アルドール付加は、大きな未開発分野である。この種の反応において高選択性を得るための重要な因子である有効な助剤についてはほとんど知られていない。今般、良好な選択性が以下に記載のそれぞれの式のR5及びR3において嵩高な基をもつ式(III)で示される助剤(auxiliary)を用いて得られることが見出された。本発明によれば、最も有望な助剤は、キラルオキサゾリジノン(アシル化エバンス型助剤)である。最もよい選択性は、R5において嵩高な基をもつこのようなオキサゾリジノンを用いて得られた。R5に対してシスのR6置換基が、転化率及び選択性の両方に都合がよいことが明らかにされ、これに対してR5に対してトランスのR7は悪影響を及ぼすことが明らかにされた。本発明によれば、2つの助剤(4R)−4−tert−ブチルオキサゾリジン−2−オン及び(4R,5S)−4,5−ジフェニルオキサゾリジン−2−オンが特に好ましい。
本発明の不斉アルドール付加は、通常は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属塩基の存在下で行われる。好ましい塩基は、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド及びマグネシウムアミド塩基;リチウム-、ナトリウム-及びカリウムアルキル塩基;ナトリウム-及びカリウムアリール塩基;並びにグリニャール試薬である。このような塩基の例は、リチウムヘキサメチルジシラザン(LHMDS)、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)、1−リチウム−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(LTMP)、リチウムジシクロヘキシルアミド(LiCA)、ナトリウムヘキサメチルジシラザン(NaHMDS)、カリウムヘキサメチルジシラザン(KHMDS)、アルカリアルコキシド、と組み合わせたブチルリチウム(BuLi)、フェニルリチウム(PhLi)である。LHMDSの使用が特に好ましい。
本発明の方法は、好ましくはエーテル溶媒又はアルカン中で実施される。“エーテル溶媒”の好ましい例は、ジエチルエーテル(Et2O)、テトラヒドロフラン(THF)又はtert−ブチルメチルエーテル(TBME)である。アルカンの好ましい例は、ペンタン、ヘキサン又はヘプタン及びこれらの適当な誘導体である。特に好ましい溶媒はTHFである。
本発明の方法は、好ましくは−120℃から室温(RT)までの温度で実施される。 −100〜−60℃の温度が特に好ましい。
式(I)で示される化合物を得るためのその後の助剤の切断は、例えば“T.W. Greene, P.G.M. Wuts, Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd edition, Wiley-Interscience 1999”に記載のような当業者に周知のエステル及び/又はアミド切断法を使用して行われる。好ましくは、前記の助剤の切断は、金属アルコキシド、例えばアルカリ金属及びアルカリ土類金属アルコキシドを使用して行われる。過酸化水素(H2O2)と組み合わせた水酸化リチウム(LiOH)の使用が特に好ましい。
その後に、式(I)で示される化合物の上述の“DE−断片”〔さらに式(A)の化合物という〕への転化は、当業者に周知であり且つ“T.W. Greene, P.G.M. Wuts, Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd edition, Wiley-Interscience 1999”に記載されている慣用のルイス酸又はブレンステッド酸促進エーテル切断法を使用して達成される。塩酸(HCl)又は臭化水素酸(HBr)のような鉱酸、ヨウ化トリメチルシリル(TMSI)、三臭化ホウ素(BBr3)の使用が好ましい。水性臭化水素酸を使用する方法が特に好ましい。この反応は、好ましくは、ジメトキシメタン(DME)、テトラヒドロフラン(THF)又はジオキサンのようなエーテル溶媒中で;又は例えばアセトニトリル(MeCN)のようなニトリル中で0〜120℃、好ましくは室温(RT)〜60℃の温度で行われる。
式(A)で示される化合物から本明細書に記載の式(D)で示される化合物、特にDiflomotecanを得るための最終工程は、当業者には周知であり、一般にスキーム4に記載の合成経路に従って行なうことができる。
本発明の好ましい具体的態様は、Xが
(式中、R5はフェニル、ベンジル、イソプロピル、tert−ブチル又はメチルであり;
R6は水素、メチル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7は水素である)
である前記の方法である。
(式中、R5はフェニル、ベンジル、イソプロピル、tert−ブチル又はメチルであり;
R6は水素、メチル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7は水素である)
である前記の方法である。
本発明の別の好ましい具体的態様は、
R1がベンジルであり;
R2が水素であり;且つ
Xが
(式中、R5はフェニル、ベンジル、イソプロピル、tert−ブチル又はメチルであり;
R6は水素、メチル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7は水素である)
である前記の方法である。
R1がベンジルであり;
R2が水素であり;且つ
Xが
(式中、R5はフェニル、ベンジル、イソプロピル、tert−ブチル又はメチルであり;
R6は水素、メチル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7は水素である)
である前記の方法である。
本発明の別の好ましい具体的態様は、
R5及びR6が共にフェニルであり、且つR7が水素である前記の方法である。
R5及びR6が共にフェニルであり、且つR7が水素である前記の方法である。
本発明の別の好ましい具体的態様は、式(I−1)
で示される化合物を、
a)式(II−1)
で示される化合物を、式(III−1)
で示される化合物と反応させ、
b)さらに過酸化水素と組み合わせた水酸化リチウムの存在下で反応させて式(I)で示される対応化合物を得ることによって得る前記の方法である。
で示される化合物を、
a)式(II−1)
で示される化合物を、式(III−1)
で示される化合物と反応させ、
b)さらに過酸化水素と組み合わせた水酸化リチウムの存在下で反応させて式(I)で示される対応化合物を得ることによって得る前記の方法である。
本発明の別の好ましい具体的態様は、R5がフェニルであり且つR6及びR7が共に水素である前記の方法である。
本発明の別の好ましい具体的態様は、式(I−2)
で示される化合物を、
a)式(II−2)
で示される化合物を、式(III−2)
で示される化合物と反応させ、
b)さらに過酸化水素と組み合わせた水酸化リチウムの存在下で反応させて式(I−2)で示される対応化合物を得ることによって得る前記の方法である。
で示される化合物を、
a)式(II−2)
で示される化合物を、式(III−2)
で示される化合物と反応させ、
b)さらに過酸化水素と組み合わせた水酸化リチウムの存在下で反応させて式(I−2)で示される対応化合物を得ることによって得る前記の方法である。
本発明のさらに別の好ましい具体的態様は、プロセス工程a)をアルカリ金属又はアルカリ土類金属アミド塩基の存在下で実施する前記の方法である。
本発明のさらに別の好ましい具体的態様は、プロセス工程a)をリチウムヘキサメチルジシラザン(LHMDS)の存在下で実施する前記の記載の方法である。
本発明のさらに別の好ましい具体的態様は、プロセス工程a)をジエチルエーテル(Et2O)、テトラヒドロフラン(THF)、tert−ブチルメチルエーテル(TBME)、ペンタン、ヘキサン又はヘプタンから選択される溶媒の存在下で実施する前記の方法である。
本発明のさらに別の好ましい具体的態様は、プロセス工程a)をテトラヒドロフラン(THF)の存在下で実施する前記の方法である。
本発明のさらに別の好ましい具体的態様は、プロセス工程a)を25℃〜−120℃の範囲内の温度で実施する前記の方法である。
本発明のさらに別の好ましい具体的態様は、プロセス工程a)を−60℃〜−100℃の範囲内の温度で実施する前記の方法である。
本発明のさらに別の好ましい具体的態様は、プロセス工程a)を−90℃〜−100℃の範囲内の温度で実施する前記の方法である。
本発明のさらに別の好ましい具体的態様は、プロセス工程b)をアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物単独又は過酸化水素との組み合わせの存在下で実施する前記の方法である。
本発明のさらに別の好ましい具体的態様は、プロセス工程b)を過酸化水素と組み合わせた水酸化リチウムの存在下で実施する前記の方法である。
本発明の新規な方法によって得ることができる式(I)で示される化合物は、式(D)で示されるホモカンプトテシン類を製造するための有用な中間体である。幾つかのホモカンプトテシン類、例えばDiflomotecanは抗増殖活性を示し、従って異常細胞増殖活性に関連した病気、例えば癌の治療及び/又は予防に有用である。
本発明のさらに別の具体的態様は、前記の式(A)で示される化合物を、式(B)
で示される化合物と、アゾジカルボン酸ジイソプロピル(DIAD)、エチルジフェニルホスフィン(EtPPh2)及びジメチルアセトアミド(DMA)の存在下でさらに反応させて、式(C)
で示される化合物を得る前記の方法である。
で示される化合物と、アゾジカルボン酸ジイソプロピル(DIAD)、エチルジフェニルホスフィン(EtPPh2)及びジメチルアセトアミド(DMA)の存在下でさらに反応させて、式(C)
で示される化合物を得る前記の方法である。
本発明のさらに別の具体的態様は、前記の式(C)で示される化合物を酢酸パラジウム(II)(Pd(OAc)2)、酢酸カリウム(KOAc)、トリフェニルホスフィン(Ph3P)、テトラブチルアンモニウムブロミド(Bu4NBr)及びアセトニトリル(MeCN)の存在下でさらにさらに反応させて、式(D)
(式中、R2は前記の意義を有し;R8及びR9は独立してアルキル又はハロゲンであり;且つR10は4−メチル−ピペリジン−1−イルメチル又は水素である)
で示される対応化合物を得る前記の方法である。
(式中、R2は前記の意義を有し;R8及びR9は独立してアルキル又はハロゲンであり;且つR10は4−メチル−ピペリジン−1−イルメチル又は水素である)
で示される対応化合物を得る前記の方法である。
本発明のさらに別の具体的態様は、前記の式(I)で示される化合物を、式(D)
で示される化合物に、
a)前記の式(I)で示される化合物を式(A)
で示される化合物に、鉱酸及びエーテル溶媒の存在下で、室温(RT)〜60℃の間の温度で転化させ;そして
b)前記の式(A)で示される化合物を、式(B)
で示される化合物と、アゾジカルボン酸ジイソプロピル(DIAD)、エチルジフェニルホスフィン(EtPPh2)及びジメチルアセトアミド(DMA)の存在下でさらに反応させて、 式(C)
で示される化合物を得、
そして
c)前記の式(C)で示される化合物を酢酸パラジウム(II)(Pd(OAc)2)、酢酸カリウム(KOAc)、トリフェニルホスフィン(Ph3P)、テトラブチルアンモニウムブロミド(Bu4NBr)及びアセトニトリル(MeCN)の存在下でさらにさらに反応させて、式(D)
で示される対応化合物を得る
ことによって転化させる(但し、R2は前記の意義を有し;R8及びR9は独立してアルキル又はハロゲンであり;且つR10は4−メチル−ピペリジン−1−イルメチル又は水素である)前記の方法である。
で示される化合物に、
a)前記の式(I)で示される化合物を式(A)
で示される化合物に、鉱酸及びエーテル溶媒の存在下で、室温(RT)〜60℃の間の温度で転化させ;そして
b)前記の式(A)で示される化合物を、式(B)
で示される化合物と、アゾジカルボン酸ジイソプロピル(DIAD)、エチルジフェニルホスフィン(EtPPh2)及びジメチルアセトアミド(DMA)の存在下でさらに反応させて、 式(C)
で示される化合物を得、
そして
c)前記の式(C)で示される化合物を酢酸パラジウム(II)(Pd(OAc)2)、酢酸カリウム(KOAc)、トリフェニルホスフィン(Ph3P)、テトラブチルアンモニウムブロミド(Bu4NBr)及びアセトニトリル(MeCN)の存在下でさらにさらに反応させて、式(D)
で示される対応化合物を得る
ことによって転化させる(但し、R2は前記の意義を有し;R8及びR9は独立してアルキル又はハロゲンであり;且つR10は4−メチル−ピペリジン−1−イルメチル又は水素である)前記の方法である。
本発明のさらに別の具体的態様は、R2及びR10が共に水素であり且つR8及びR9が共に弗素である前記の方法である。
本発明のさらに別の具体的態様は、R2が水素であり、R10が4−メチル−ピペリジン−1−イルメチルであり、R8が塩素であり且つR9がメチルである前記の方法である。
本発明のさらに別の具体的態様は、プロセス工程a)を臭化水素酸(HBr)及びジメトキシメタン(DME)の存在下で45〜55℃の間の温度で実施する前記の方法である。
本発明のさらに別の具体的態様は、一般式(I)
(式中、R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンで置換されていてもよく;且つ
Rがアルキルである場合には、R1は水素であることができ;R2は水素又はハロゲンである)
で示される化合物である。
(式中、R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンで置換されていてもよく;且つ
Rがアルキルである場合には、R1は水素であることができ;R2は水素又はハロゲンである)
で示される化合物である。
本発明のさらに別の具体的態様は、一般式(I)
(式中、R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンで置換されていてもよく;且つ
R2は水素又はハロゲンである)
で示される化合物である。
(式中、R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンで置換されていてもよく;且つ
R2は水素又はハロゲンである)
で示される化合物である。
本発明のさらに別の具体的態様は、R2が水素である前記の化合物である。
本発明のさらに別の具体的態様は、R及びR1が独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルが場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンで置換されていてもよい前記の化合物である。
本発明のさらに別の具体的態様は、(R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸である式(I)で示される化合物である。
本発明のさらに別の具体的態様は、(R)−3−ヒドロキシ−3−(3−ヒドロキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−ペンタン酸である式(I)で示される化合物である。
本発明のさらに別の具体的態様は、前記の方法における前記の化合物のしようである。
本発明のさらに別の具体的態様は、式(I)で示される化合物を調製するための前記の方法の使用である。
式(II)で示される化合物(式中、R及びR1は独立してアルキル又は場合により置換されていてもよいベンジルであり且つR2は前記の意義を有する)は、当業者が適用できることが知られている方法で得ることができる。本発明によれば、スキーム5に記載の合成経路が、特に好ましい。公知の合成に基づくが、式(II)で示される化合物をもたらす工程は、本発明により改善された。これは、公知の方法に従って得られた場合の式(II)で示されるケトン類の純度が、本発明による記載の不斉アルドール付加反応の開発には十分ではないという理由からである。特に、工程4〜7の反応条件は変更されており、スキーム5の式(II)で示されるケトン類の高い収率及びより良い品質をもたらす。
従って、スキーム5の工程1〜7について以下に記載の個々の反応条件及び添付の非限定的実施例に記載の個々の反応条件は、本発明の別の具体的態様である。
工程1及び2:
これらの反応は、出発原料2−クロロ−4−シアノ−ピリジンのアルカノーリシス、次いでグリニャール付加である(工程2)。両方の反応は当業者には周知である。しかし、本発明に従って、0.5〜3.0当量(eq)、好ましくは1.0〜1.5eq、最も好ましくは1.0〜1.2eqの量のナトリウムメトキシド(NaOMe)を、工程1で使用した。生成物は、ソックスレー抽出により精製される。次のグリニャール付加は、好ましくは溶媒としてtert-ブチルメチルエーテル(TBME)中で行われる。
これらの反応は、出発原料2−クロロ−4−シアノ−ピリジンのアルカノーリシス、次いでグリニャール付加である(工程2)。両方の反応は当業者には周知である。しかし、本発明に従って、0.5〜3.0当量(eq)、好ましくは1.0〜1.5eq、最も好ましくは1.0〜1.2eqの量のナトリウムメトキシド(NaOMe)を、工程1で使用した。生成物は、ソックスレー抽出により精製される。次のグリニャール付加は、好ましくは溶媒としてtert-ブチルメチルエーテル(TBME)中で行われる。
工程3:
プロパンジオールを用いたアセタール形成中に、転化は使用する酸触媒の量に大きく依存することが分かった。幾つかの場合には、2モル%のパラ-トルエンスルホン酸(PTSA)を用いると24時間後でも転化は実現しなかった;しかし、追加のPTSA又は硫酸(H2SO4)を用いると、反応は24時間後に完結した。これらの工程の後に、式(VII)で示されるアセタールが約40%の収率で及び高真空蒸留後にHPLC純度>95%(面積)で単離することができる。これらの改良は、ピリジンの3位のその後の感度のよいメタレーションに必須である。
プロパンジオールを用いたアセタール形成中に、転化は使用する酸触媒の量に大きく依存することが分かった。幾つかの場合には、2モル%のパラ-トルエンスルホン酸(PTSA)を用いると24時間後でも転化は実現しなかった;しかし、追加のPTSA又は硫酸(H2SO4)を用いると、反応は24時間後に完結した。これらの工程の後に、式(VII)で示されるアセタールが約40%の収率で及び高真空蒸留後にHPLC純度>95%(面積)で単離することができる。これらの改良は、ピリジンの3位のその後の感度のよいメタレーションに必須である。
工程4:
ピリジンの3位のメタレーションを行うために、本発明者らは、n−ブチルリチウム(n−BuLi)のヘキサン溶液の濃度が重要なパラメーターであり、これは一般的な1.6M n−BuLiヘキサン溶液を使用しないで最適化することができる。ヘキサンに溶解したn−BuLiの1.7〜4M、好ましくは2.0〜3.0M溶液を使用する場合には、メシチルリチウム(MesLi)の溶解性に重要であるヘキサンの量を減らすことができる。リチウム化された化学種は、次いでジメチルホルムアミド(DMF)によって捕捉されて、式(VIII)で示されるアルデヒドを生じる、スキーム5。この方法の利点は、高転化率並びにメシチル副生成物及び未反応出発原料並びにその他の副生成物を除去するためのシリカゲル濾過による生成物精製の容易さである。最も顕著な副生成物は、LC−MS及びNMRでピリジンの6位のメシチル付加生成物として確認された。
ピリジンの3位のメタレーションを行うために、本発明者らは、n−ブチルリチウム(n−BuLi)のヘキサン溶液の濃度が重要なパラメーターであり、これは一般的な1.6M n−BuLiヘキサン溶液を使用しないで最適化することができる。ヘキサンに溶解したn−BuLiの1.7〜4M、好ましくは2.0〜3.0M溶液を使用する場合には、メシチルリチウム(MesLi)の溶解性に重要であるヘキサンの量を減らすことができる。リチウム化された化学種は、次いでジメチルホルムアミド(DMF)によって捕捉されて、式(VIII)で示されるアルデヒドを生じる、スキーム5。この方法の利点は、高転化率並びにメシチル副生成物及び未反応出発原料並びにその他の副生成物を除去するためのシリカゲル濾過による生成物精製の容易さである。最も顕著な副生成物は、LC−MS及びNMRでピリジンの6位のメシチル付加生成物として確認された。
工程5:
水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)を用いる還元工程がここで必要であり、従って ヘプタンを用いた磨砕後にスキーム5の式(IX)で示される化合物が高収率及び高純度で得られる。
水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)を用いる還元工程がここで必要であり、従って ヘプタンを用いた磨砕後にスキーム5の式(IX)で示される化合物が高収率及び高純度で得られる。
工程6:
その後のベンジル化工程において、公知の方法で使用されるような水素化ナトリウム(NaH)を別の塩基に置き換えることが望ましかった。NaHによって生じる安全性の問題の他に、本発明者らは、NaHの量に応じて副生成物として相当な量の高沸点ジベンジルエーテルの形成に遭遇した。本発明によれば、非求核性リチウム塩基が好ましい。 対応するリチウムアルコキシドのきれいな予備形成にTHF溶液として入手できるリチウム ヘキサメチル-ジシラザン(LHMDS)が特に好ましい。10モル%の乾燥テトラブチルアンモニウムヨージド(TBAI)を加えることによって、アルキル化が65℃で主な分解を生じることなく進行し、スキーム5の式(X)で示される化合物が高純度で生成する。過剰の臭化ベンジルを除去するために、ほぼ転化が終わった後にピロリジンを加え、生じた第三級ベンジルアミンを水性塩化水素(HCl)を用いて抽出することにより除去した。意外にも、反応の終わりでのピロリジンの添加もまた、未反応出発原料(IX、スキーム5)のベンジル化の促進をもたらした。
その後のベンジル化工程において、公知の方法で使用されるような水素化ナトリウム(NaH)を別の塩基に置き換えることが望ましかった。NaHによって生じる安全性の問題の他に、本発明者らは、NaHの量に応じて副生成物として相当な量の高沸点ジベンジルエーテルの形成に遭遇した。本発明によれば、非求核性リチウム塩基が好ましい。 対応するリチウムアルコキシドのきれいな予備形成にTHF溶液として入手できるリチウム ヘキサメチル-ジシラザン(LHMDS)が特に好ましい。10モル%の乾燥テトラブチルアンモニウムヨージド(TBAI)を加えることによって、アルキル化が65℃で主な分解を生じることなく進行し、スキーム5の式(X)で示される化合物が高純度で生成する。過剰の臭化ベンジルを除去するために、ほぼ転化が終わった後にピロリジンを加え、生じた第三級ベンジルアミンを水性塩化水素(HCl)を用いて抽出することにより除去した。意外にも、反応の終わりでのピロリジンの添加もまた、未反応出発原料(IX、スキーム5)のベンジル化の促進をもたらした。
工程7:
本発明によれば、その後のアセタール切断は、触媒量のパラ-トルエンスルホン酸(PTSA、0.2eq)を使用して、エタノール/水(4:1)の混合物中で行われる。これらの条件下で、式(II)で示される粗製ケトンが高純度で単離される。
本発明によれば、その後のアセタール切断は、触媒量のパラ-トルエンスルホン酸(PTSA、0.2eq)を使用して、エタノール/水(4:1)の混合物中で行われる。これらの条件下で、式(II)で示される粗製ケトンが高純度で単離される。
式(II)で示される化合物(式中、Rはアルキルであり、R1はシリルであり且つR2は前記の意義を有する)は、当業者が適用できることが知られている方法で得ることができる。本発明によれば、スキーム6に記載の合成経路が、メシチルリチウム(MesLi)の複雑な使用及び関連した問題、例えばMesLiをその場で生成させるための複雑な条件並びにシリカゲル濾過で除去できるだけである高沸点メシチル副生成物の形成を避けるために特に好ましい。
工程1及び2:
式(XIII)で示される2−メトキシ−4−イソプロピルアミドは、式(XI)で示される2−クロロイソニコチン酸から出発して2工程で調製され、これは最初に対応する酸塩化物の形成によって活性化され、次いで同じ反応容器中でイソプロピルアミンと反応させる。2−クロロ置換基は、その後にNaOMを使用してメトキシ基で置換される。
式(XIII)で示される2−メトキシ−4−イソプロピルアミドは、式(XI)で示される2−クロロイソニコチン酸から出発して2工程で調製され、これは最初に対応する酸塩化物の形成によって活性化され、次いで同じ反応容器中でイソプロピルアミンと反応させる。2−クロロ置換基は、その後にNaOMを使用してメトキシ基で置換される。
工程3:
本発明の式(XIII)で示される化合物の3位のメタレーションは、好ましくはn−BuLiを用いてTMEDA又は塩化リチウム(LiCl)の存在下で実施される。ピリジンの6位へのブチル付加は、この基質については観察されなかった。立体選択性はTHF中では低い(3−Li/5−Li=約3:1)が、3位のメタレーションはTBME中で著しく都合が良い。リチウム化された化学種は、DMFによって捕捉され、式(XIV)で示されるN,O−ヘミアセテートが得られる。
本発明の式(XIII)で示される化合物の3位のメタレーションは、好ましくはn−BuLiを用いてTMEDA又は塩化リチウム(LiCl)の存在下で実施される。ピリジンの6位へのブチル付加は、この基質については観察されなかった。立体選択性はTHF中では低い(3−Li/5−Li=約3:1)が、3位のメタレーションはTBME中で著しく都合が良い。リチウム化された化学種は、DMFによって捕捉され、式(XIV)で示されるN,O−ヘミアセテートが得られる。
工程4:
工程3の粗生成物(これは、未だ多量のDMFを含有している)が、イソプロパノール/水中でNaBH4により対応するヒドロキシアミドに還元され、これは次いで同じ反応容器中で水性HClを加えることによって環化されて式(XV)で示されるラクトンを生じ、これは磨砕によって精製される。本発明によれば、この反応工程にはイソプロパノール/水の混合物の選択がNaBH4の量を減らすために特に好ましい。
工程3の粗生成物(これは、未だ多量のDMFを含有している)が、イソプロパノール/水中でNaBH4により対応するヒドロキシアミドに還元され、これは次いで同じ反応容器中で水性HClを加えることによって環化されて式(XV)で示されるラクトンを生じ、これは磨砕によって精製される。本発明によれば、この反応工程にはイソプロパノール/水の混合物の選択がNaBH4の量を減らすために特に好ましい。
工程5:
本発明によれば、式(XVI)で示されるラクトールを得るための式(XV)で示されるラクトンへのエチルの付加は、好ましくはエチルリチウム(EtLi)を使用して実施される。トリエチルアルミニウム(AlEt3)及びエチルリチウムの組み合わせの使用が特に好ましい。等モル量のAlEt3及びEtLiが0℃で予備調製される。次いで、出発原料(XV)の溶液が−40℃で迅速に加えられる。高転化率を得るために、第二の当量のEtLiが必要とされ、これは−40℃で迅速に加えられ、その後に反応混合物は徐々に−15℃に温められる。
本発明によれば、式(XVI)で示されるラクトールを得るための式(XV)で示されるラクトンへのエチルの付加は、好ましくはエチルリチウム(EtLi)を使用して実施される。トリエチルアルミニウム(AlEt3)及びエチルリチウムの組み合わせの使用が特に好ましい。等モル量のAlEt3及びEtLiが0℃で予備調製される。次いで、出発原料(XV)の溶液が−40℃で迅速に加えられる。高転化率を得るために、第二の当量のEtLiが必要とされ、これは−40℃で迅速に加えられ、その後に反応混合物は徐々に−15℃に温められる。
工程6:
本発明の不斉アルドール付加反応のための式(II)で示されるケトン基質を得るためには、式(XVI)で示される化合物は、適当な求電子試薬で開環させなければならない。本発明の別の特徴として、塩化シリル、特別にはブチルジメチルシリルクロリド(TBSCl)及びt−ブチルジフェニルシリルクロリド(TBDPSCl)が好ましい。TBS及びTBDPSエーテル形成の処理は、親油性シリルエーテルのヘプタン溶解度から恩恵を受ける。結果として、極性成分DMF及びイミダゾールは、水性処理によって完全に除去され、式(II)で示される粗製ケトンを高純度で得ることができる。
本発明の不斉アルドール付加反応のための式(II)で示されるケトン基質を得るためには、式(XVI)で示される化合物は、適当な求電子試薬で開環させなければならない。本発明の別の特徴として、塩化シリル、特別にはブチルジメチルシリルクロリド(TBSCl)及びt−ブチルジフェニルシリルクロリド(TBDPSCl)が好ましい。TBS及びTBDPSエーテル形成の処理は、親油性シリルエーテルのヘプタン溶解度から恩恵を受ける。結果として、極性成分DMF及びイミダゾールは、水性処理によって完全に除去され、式(II)で示される粗製ケトンを高純度で得ることができる。
以下の実施例及び比較は、本発明の理解を助けるために提供され、その真の範囲は添付の特許請求の範囲に示される。示された方法において部分変更が本発明の精神から逸脱することなくなし得ることが理解される。
以下の実施例において、特に明記されない場合には、分析高性能液体クロマトグラフィー(HPLC)は下記のプロトコールに従って行った:
方法 :SEVI.M
試料調製:反応混合物5μLをアセトニトリル/水(9:1)0.2mLに加えた。
装置 :HP1050シリーズHPLC装置
カラム :Chromolith、Performance 100×4.6
温度 :40℃
移動相 :勾配(3成分)
A:水
B:水800ml、アセトニトリル200ml、TBAHS 1g
C:アセトニトリル
流量 :2.0ml/分
注入容量:1μl
検出 :UV210nm
方法 :SEVI.M
試料調製:反応混合物5μLをアセトニトリル/水(9:1)0.2mLに加えた。
装置 :HP1050シリーズHPLC装置
カラム :Chromolith、Performance 100×4.6
温度 :40℃
移動相 :勾配(3成分)
A:水
B:水800ml、アセトニトリル200ml、TBAHS 1g
C:アセトニトリル
流量 :2.0ml/分
注入容量:1μl
検出 :UV210nm
実施例1
2−メトキシ−イソニコチンニトリルの合成
NaOMe17.86g(330.7ミリモル、1.22eq)をアセトニトリル95mLに懸濁し攪拌した攪拌懸濁物を0℃に冷却し、2−クロロ−4−シアノピリジン37.56g(8、271.1ミリモル)をアセトニトリル225mLに溶解した溶液を45分間にわたって加えた。HPLCで4%(面積)もよりも少ない出発原料が検出されるまで、攪拌を室温で23時間続けた。リン酸二水素カリウム11.1g(81.56ミリモル、0.30eq)を0℃で加え、攪拌を室温で3時間続けた。次いで、反応混合物をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発乾固し、粗生成物(64.94g、179重量%)を褐色固体として得た。粗生成物64.94gを、ソックスレー抽出装置を使用してトルエン900mLを用いて還流温度で18時間抽出し、表題生成物(25.65g、71重量%)を橙色固体として得た。
2−メトキシ−イソニコチンニトリルの合成
NaOMe17.86g(330.7ミリモル、1.22eq)をアセトニトリル95mLに懸濁し攪拌した攪拌懸濁物を0℃に冷却し、2−クロロ−4−シアノピリジン37.56g(8、271.1ミリモル)をアセトニトリル225mLに溶解した溶液を45分間にわたって加えた。HPLCで4%(面積)もよりも少ない出発原料が検出されるまで、攪拌を室温で23時間続けた。リン酸二水素カリウム11.1g(81.56ミリモル、0.30eq)を0℃で加え、攪拌を室温で3時間続けた。次いで、反応混合物をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発乾固し、粗生成物(64.94g、179重量%)を褐色固体として得た。粗生成物64.94gを、ソックスレー抽出装置を使用してトルエン900mLを用いて還流温度で18時間抽出し、表題生成物(25.65g、71重量%)を橙色固体として得た。
実施例2
1−(2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパ−1−オンの合成
実施例1で得られた2−メトキシ−イソニコチンニトリル25.44g(189.7ミリモル)をTBME380mLに懸濁し攪拌した懸濁物を0℃に冷却し、THF中のエチルマグネシウムクロリド114mL(2.0M、228.0ミリモル、1.20eq)を45分以内に加えた。攪拌を0℃で続けた。3時間40分後に、さらにTHF中のエチルマグネシウムクロリド5mL(2.0M、10.0ミリモル、0.05eq)を0℃で加えた。反応をHPLCで監視した。4.5時間後に〔<3%(面積)2−メトキシ−イソニコチンニトリル〕、反応を0℃で水300mlを加えることによって停止させた。得られた懸濁物を室温で16時間攪拌し、次いでトルエン200mLで希釈した。水性相をトルエン400mLで抽出し、一緒にした有機相を飽和水性NH4Cl 500mL及び食塩水500mLで洗浄し、Na2SO4 50gで乾燥し(30分)、濾過した。濾紙ケーキをトルエン100mLで洗浄した。ロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で溶媒を蒸発させた後に、表題化合物(28.64g、91重量%)を橙色固体として得た。
1−(2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパ−1−オンの合成
実施例1で得られた2−メトキシ−イソニコチンニトリル25.44g(189.7ミリモル)をTBME380mLに懸濁し攪拌した懸濁物を0℃に冷却し、THF中のエチルマグネシウムクロリド114mL(2.0M、228.0ミリモル、1.20eq)を45分以内に加えた。攪拌を0℃で続けた。3時間40分後に、さらにTHF中のエチルマグネシウムクロリド5mL(2.0M、10.0ミリモル、0.05eq)を0℃で加えた。反応をHPLCで監視した。4.5時間後に〔<3%(面積)2−メトキシ−イソニコチンニトリル〕、反応を0℃で水300mlを加えることによって停止させた。得られた懸濁物を室温で16時間攪拌し、次いでトルエン200mLで希釈した。水性相をトルエン400mLで抽出し、一緒にした有機相を飽和水性NH4Cl 500mL及び食塩水500mLで洗浄し、Na2SO4 50gで乾燥し(30分)、濾過した。濾紙ケーキをトルエン100mLで洗浄した。ロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で溶媒を蒸発させた後に、表題化合物(28.64g、91重量%)を橙色固体として得た。
実施例3
4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジンの合成
実施例2から得ることができる1−(2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン38.23g(231.4ミリモル)をトルエン575mLに溶解し攪拌した溶液に、1,3−プロパンジオール100mL(1.39モル、6.0eq)、硫酸473μL(4.63ミリモル、0.02eq)及びパラートルエンスルホン酸一水和物889mg(4.63ミリモル、0.02eq)を加えた。反応混合物を、ジーンスタークトラップを使用して(油浴温度160℃)72時間加熱還流した〔NMR対照:<2%出発原料1−(2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン)〕。室温まで冷却した後に、飽和水性NaHCO3 500mLを加え、二相を分離した。有機相を食塩水250mLで2回(合計500mL)洗浄し、次いでNa2SO4 50gで乾燥し(30分)、濾過した。濾紙ケーキをトルエン100mLで洗浄した。ロータリーエバポレーター(50℃/10ミリバール)で溶媒を蒸発させた後に、粗生成物(40.41g、78重量%)を褐色固体として得た〔HPLC純度93.9%(面積)〕。精製は高真空蒸留を使用して達成され(0.056ミリバールでbp95℃、油浴温度125℃、40cmのVigreuxカラム)、表題化合物(31.80g、142.4ミリモル、62重量%)を無色液体として得た。
Bp:95℃(0.056ミリバール)
4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジンの合成
実施例2から得ることができる1−(2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン38.23g(231.4ミリモル)をトルエン575mLに溶解し攪拌した溶液に、1,3−プロパンジオール100mL(1.39モル、6.0eq)、硫酸473μL(4.63ミリモル、0.02eq)及びパラートルエンスルホン酸一水和物889mg(4.63ミリモル、0.02eq)を加えた。反応混合物を、ジーンスタークトラップを使用して(油浴温度160℃)72時間加熱還流した〔NMR対照:<2%出発原料1−(2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン)〕。室温まで冷却した後に、飽和水性NaHCO3 500mLを加え、二相を分離した。有機相を食塩水250mLで2回(合計500mL)洗浄し、次いでNa2SO4 50gで乾燥し(30分)、濾過した。濾紙ケーキをトルエン100mLで洗浄した。ロータリーエバポレーター(50℃/10ミリバール)で溶媒を蒸発させた後に、粗生成物(40.41g、78重量%)を褐色固体として得た〔HPLC純度93.9%(面積)〕。精製は高真空蒸留を使用して達成され(0.056ミリバールでbp95℃、油浴温度125℃、40cmのVigreuxカラム)、表題化合物(31.80g、142.4ミリモル、62重量%)を無色液体として得た。
Bp:95℃(0.056ミリバール)
実施例4
4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン−3−カルバルデヒドの合成
2−ブロモメシチレン6.87mL(44.78ミリモル、2.0eq)をTHF44mLに溶解し攪拌した溶液を−45℃に冷却した。n−ブチルリチウムのヘキサン溶液35.8mL(2.5M、89.56ミリモル、4.0eq)を20分以内に加えた。次いで、得られた白色懸濁液を2.5時間以内に0℃まで温度を上げた。−10℃で、反応混合物が透明溶液になった。攪拌を0℃でさらに1時間続けた。溶液を−10℃に冷却し、実施例3から得ることができる4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン5.00g(22.39ミリモル)をTHF15mLに溶解した溶液を、激しく攪拌しながら15分間にわたって加えた。得られた褐色懸濁液を2.5時間以内に10℃まで温度を上げた。次いで、冷却浴を取り除き、攪拌を室温でさらに1時間続けた。次いで、得られた透明褐色溶液を−23℃に冷却し、DMF5.19mL(67.17ミリモル、3.0eq)を加えた。得られた混合物を一夜室温まで徐々に温めた。100mLの飽和水性NH4Clを加えることによって反応を停止させた。15分後に、水50mLを加えた。得られた混合物をTBME150mLを用いて3回(全体で450mL)抽出した。有機相を一緒にして食塩水300mLを用いて2回(合計600mL)洗浄し、Na2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをTBME40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(12.048g、214重量%)が褐色油状物として得られ、次いでこれをヘプタン/酢酸エチル(30:1)2.0L及びヘプタン/酢酸エチル(5:1)1.4Lを用いて勾配溶出を使用してシリカゲル濾過(シリカゲル97g)により精製した。第二の画分をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発乾固して、表題化合物(3.832g、15.2ミリモル、68重量%)を得た。
4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン−3−カルバルデヒドの合成
2−ブロモメシチレン6.87mL(44.78ミリモル、2.0eq)をTHF44mLに溶解し攪拌した溶液を−45℃に冷却した。n−ブチルリチウムのヘキサン溶液35.8mL(2.5M、89.56ミリモル、4.0eq)を20分以内に加えた。次いで、得られた白色懸濁液を2.5時間以内に0℃まで温度を上げた。−10℃で、反応混合物が透明溶液になった。攪拌を0℃でさらに1時間続けた。溶液を−10℃に冷却し、実施例3から得ることができる4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン5.00g(22.39ミリモル)をTHF15mLに溶解した溶液を、激しく攪拌しながら15分間にわたって加えた。得られた褐色懸濁液を2.5時間以内に10℃まで温度を上げた。次いで、冷却浴を取り除き、攪拌を室温でさらに1時間続けた。次いで、得られた透明褐色溶液を−23℃に冷却し、DMF5.19mL(67.17ミリモル、3.0eq)を加えた。得られた混合物を一夜室温まで徐々に温めた。100mLの飽和水性NH4Clを加えることによって反応を停止させた。15分後に、水50mLを加えた。得られた混合物をTBME150mLを用いて3回(全体で450mL)抽出した。有機相を一緒にして食塩水300mLを用いて2回(合計600mL)洗浄し、Na2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをTBME40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(12.048g、214重量%)が褐色油状物として得られ、次いでこれをヘプタン/酢酸エチル(30:1)2.0L及びヘプタン/酢酸エチル(5:1)1.4Lを用いて勾配溶出を使用してシリカゲル濾過(シリカゲル97g)により精製した。第二の画分をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発乾固して、表題化合物(3.832g、15.2ミリモル、68重量%)を得た。
実施例5
[4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン−3−イル]−メタノールの合成
実施例4から得ることができる4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン−3−カルバルデヒド3.178g(12.65ミリモル)をイソプロパノール95mL及び水15.8mLに溶解し攪拌した溶液に、0℃で水素化ホウ素ナトリウム134.6mg(3.416ミリモル、0.27eq)を加えた。反応をHPLCで監視し、30分後に〔<0.2%(面積)実施例4から得られる出発原料〕、アセトン11mLを加えることにより還元を停止させ、攪拌を室温で30分続けた。190mLの飽和水性NH4Clを加え、混合物をジクロロメタン180mLを用いて3回(合計540mL)抽出した。有機相を一緒にしてNa2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(3.184g、99重量%)を黄色油状物として得た。精製はヘプタン16mLを用いて室温で24時間磨砕し、次いで−20℃で4日間放置することにより達成された。冷却濾過及びロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で残留溶媒の除去の後に、表題化合物(2.827g、11.2ミリモル、88重量%)を白色結晶として得た。
[4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン−3−イル]−メタノールの合成
実施例4から得ることができる4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン−3−カルバルデヒド3.178g(12.65ミリモル)をイソプロパノール95mL及び水15.8mLに溶解し攪拌した溶液に、0℃で水素化ホウ素ナトリウム134.6mg(3.416ミリモル、0.27eq)を加えた。反応をHPLCで監視し、30分後に〔<0.2%(面積)実施例4から得られる出発原料〕、アセトン11mLを加えることにより還元を停止させ、攪拌を室温で30分続けた。190mLの飽和水性NH4Clを加え、混合物をジクロロメタン180mLを用いて3回(合計540mL)抽出した。有機相を一緒にしてNa2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(3.184g、99重量%)を黄色油状物として得た。精製はヘプタン16mLを用いて室温で24時間磨砕し、次いで−20℃で4日間放置することにより達成された。冷却濾過及びロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で残留溶媒の除去の後に、表題化合物(2.827g、11.2ミリモル、88重量%)を白色結晶として得た。
実施例6
3−ベンジルオキシメチル−4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジンの合成
実施例5から得られる[4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン−3−イル]−メタノール3.828g(15.11ミリモル)をTHF21mLに溶解し攪拌した溶液に、リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのTHF溶液16.6mL(1.0M、16.62ミリモル、1.1eq)を10分以内で且つ−78℃で加えた。−78℃でさらに10分経過後に、攪拌を0℃で10分間続け、そして室温で15分間続けた。臭化ベンジル2.56mL(21.15ミリモル、1.4eq)とテトラブチルアンモニウムヨージド570mg(1.51ミリモル、0.1eq)を連続的に加え、混合物を65℃に加熱した。反応はHPLCで監視した。65℃で16時間後に(<2%面積 実施例5から得られる出発原料)、ピロリジン250μL(3.02ミリモル、0.2eq)を室温で加えた。室温で1時間後に〔<1%(面積)実施例5から得られる出発原料〕、さらにピロリジン625μL(3.02ミリモル、0.2eq)を加えた。2.5時間後に〔<0.1%(面積)臭化ベンジル〕、混合物をヘプタン600mLに注加し、有機相を水性HCl(0.5M)400mLで2回(合計800mL)洗浄し、次いで水500mLで洗浄した。有機相を一緒にしてNa2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をヘプタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、表題組成物(4.985g、96重量%)を黄色油状物として得た。
3−ベンジルオキシメチル−4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジンの合成
実施例5から得られる[4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン−3−イル]−メタノール3.828g(15.11ミリモル)をTHF21mLに溶解し攪拌した溶液に、リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのTHF溶液16.6mL(1.0M、16.62ミリモル、1.1eq)を10分以内で且つ−78℃で加えた。−78℃でさらに10分経過後に、攪拌を0℃で10分間続け、そして室温で15分間続けた。臭化ベンジル2.56mL(21.15ミリモル、1.4eq)とテトラブチルアンモニウムヨージド570mg(1.51ミリモル、0.1eq)を連続的に加え、混合物を65℃に加熱した。反応はHPLCで監視した。65℃で16時間後に(<2%面積 実施例5から得られる出発原料)、ピロリジン250μL(3.02ミリモル、0.2eq)を室温で加えた。室温で1時間後に〔<1%(面積)実施例5から得られる出発原料〕、さらにピロリジン625μL(3.02ミリモル、0.2eq)を加えた。2.5時間後に〔<0.1%(面積)臭化ベンジル〕、混合物をヘプタン600mLに注加し、有機相を水性HCl(0.5M)400mLで2回(合計800mL)洗浄し、次いで水500mLで洗浄した。有機相を一緒にしてNa2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をヘプタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、表題組成物(4.985g、96重量%)を黄色油状物として得た。
実施例7
1−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オンの合成
実施例6から得られる3−ベンジルオキシメチル−4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン4.120g(12.00ミリモル)をエタノール96mL及び水24mLに溶解し攪拌した溶液に、パラ−トルエンスルホン酸一水和物461mg(2.40ミリモル、0.2eq)を室温で加えた。次いで、得られた混合物を80℃に加熱し、反応をHPLCで監視し、80℃で6.25時間後に〔<0.2%(面積)実施例6から得られる出発原料〕、得られた溶液を室温に冷却し、ヘプタン600mLに注加した。有機相を水600mLで洗浄し、次いで水性NaHCO3溶液(0.1M)600mLで洗浄し、再度水600mLで洗浄した。有機相をNa2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をヘプタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、表題化合物(3.302g、96重量%)を淡黄色油状物として得た。
1−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オンの合成
実施例6から得られる3−ベンジルオキシメチル−4−(2−エチル−[1,3]ジオキサン−2−イル)−2−メトキシ−ピリジン4.120g(12.00ミリモル)をエタノール96mL及び水24mLに溶解し攪拌した溶液に、パラ−トルエンスルホン酸一水和物461mg(2.40ミリモル、0.2eq)を室温で加えた。次いで、得られた混合物を80℃に加熱し、反応をHPLCで監視し、80℃で6.25時間後に〔<0.2%(面積)実施例6から得られる出発原料〕、得られた溶液を室温に冷却し、ヘプタン600mLに注加した。有機相を水600mLで洗浄し、次いで水性NaHCO3溶液(0.1M)600mLで洗浄し、再度水600mLで洗浄した。有機相をNa2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をヘプタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、表題化合物(3.302g、96重量%)を淡黄色油状物として得た。
実施例8
(4R,5S)−3−アセチル−4,5−ジフェニル−オキサゾリジン−2−オンの合成
(4R,5S)−(+)−シス−4,5−ジフェニル−2−オキサゾリジノン5.100g(20.89ミリモル)をTHF102mLに懸濁し攪拌した懸濁物に、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液13.65mL(1.5M、20.47ミリモル、0.98eq)を−78℃で6分間で加えた。得られた暗赤色溶液を−78℃でさらに68分間攪拌した。この時間の間に、溶液は無色になった。攪拌を−25℃で15分間続け、その後に再度−78℃に冷却した。次いで、塩化アセチル1.536mL(21.31ミリモル、1.02eq)をTHF15.3mLに溶解した溶液を、5分以内に加えた。52分後に、混合物を水510mLに注加し、生成物をジクロロメタン305mLで3回(合計915mL)抽出した。有機相を一緒にし、水性NaHCO3715mL及び食塩水715mLで洗浄した。得られた溶液をNa2SO425gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン5040mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、30ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(5.899g、100重量%)が白色固体として得られた。精製はトルエン13mLから再結晶によって行った。不均質混合物を透明溶液が得られるまで加熱還流し、次いで室温まで徐々に冷却した。2日後に、濾過することによって表題化合物を白色結晶として得た(5.157g、18.332ミリモル、88重量%)。
(4R,5S)−3−アセチル−4,5−ジフェニル−オキサゾリジン−2−オンの合成
(4R,5S)−(+)−シス−4,5−ジフェニル−2−オキサゾリジノン5.100g(20.89ミリモル)をTHF102mLに懸濁し攪拌した懸濁物に、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液13.65mL(1.5M、20.47ミリモル、0.98eq)を−78℃で6分間で加えた。得られた暗赤色溶液を−78℃でさらに68分間攪拌した。この時間の間に、溶液は無色になった。攪拌を−25℃で15分間続け、その後に再度−78℃に冷却した。次いで、塩化アセチル1.536mL(21.31ミリモル、1.02eq)をTHF15.3mLに溶解した溶液を、5分以内に加えた。52分後に、混合物を水510mLに注加し、生成物をジクロロメタン305mLで3回(合計915mL)抽出した。有機相を一緒にし、水性NaHCO3715mL及び食塩水715mLで洗浄した。得られた溶液をNa2SO425gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン5040mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、30ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(5.899g、100重量%)が白色固体として得られた。精製はトルエン13mLから再結晶によって行った。不均質混合物を透明溶液が得られるまで加熱還流し、次いで室温まで徐々に冷却した。2日後に、濾過することによって表題化合物を白色結晶として得た(5.157g、18.332ミリモル、88重量%)。
実施例9
(4R,5S)−3−[(R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタノイル]−4,5−ジフェニル−オキサゾリジン−2−オンの合成
10mL丸底フラスコにリチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液389.4μL(1.0M THF溶液、0.385ミリモル、1.1eq)を加え、溶液を−78℃に冷却した。THF650μLに溶解した実施例8から得ることができる(4R,5S)−3−アセチル−4,5−ジフェニル−オキサゾリジン−2−オン108.4mg(0.385ミリモル、1.1eq)を徐々に加えた(添加時間:5分)。添加中に、溶液の色が無色から明黄色に変化した。−78℃で2時間経過した後に、溶液を−95℃に冷却し、THF400μLに溶解した実施例7から得ることができる1−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン100.0mg(0.350ミリモル)を徐々に加えた(添加時間:5分)。得られた溶液を−95℃でさらに30分間保ち、次いで−78℃で45分間保った。その後に、5mLの水性0.5M HClを加えることによって反応を停止させた。混合物をジクロロメタン10mLで3回(全体で30mL)抽出し、抽出液を一緒にして硫酸ナトリウム1gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン2mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、5ミリバール)で除去した後に、表題化合物を無色油状物として得た(206.7mg、104重量%)dr=92:8(1H−NMR)。
(4R,5S)−3−[(R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタノイル]−4,5−ジフェニル−オキサゾリジン−2−オンの合成
10mL丸底フラスコにリチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液389.4μL(1.0M THF溶液、0.385ミリモル、1.1eq)を加え、溶液を−78℃に冷却した。THF650μLに溶解した実施例8から得ることができる(4R,5S)−3−アセチル−4,5−ジフェニル−オキサゾリジン−2−オン108.4mg(0.385ミリモル、1.1eq)を徐々に加えた(添加時間:5分)。添加中に、溶液の色が無色から明黄色に変化した。−78℃で2時間経過した後に、溶液を−95℃に冷却し、THF400μLに溶解した実施例7から得ることができる1−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン100.0mg(0.350ミリモル)を徐々に加えた(添加時間:5分)。得られた溶液を−95℃でさらに30分間保ち、次いで−78℃で45分間保った。その後に、5mLの水性0.5M HClを加えることによって反応を停止させた。混合物をジクロロメタン10mLで3回(全体で30mL)抽出し、抽出液を一緒にして硫酸ナトリウム1gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン2mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、5ミリバール)で除去した後に、表題化合物を無色油状物として得た(206.7mg、104重量%)dr=92:8(1H−NMR)。
実施例10
(R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸の合成
実施例8から得ることができる(4R,5S)−3−アセチル−4,5−ジフェニル−オキサゾリジン−2−オン4.733g(16.82ミリモル、1.2eq)をTHF19mLに65℃で溶解した。次いで、得られた溶液を−78℃に冷却し、リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのTHF溶液17.00mL(1.0M、16.82ミリモル、1.2eq)を徐々に加えた(添加時間:10分)。添加中に、溶液の色が無色から明黄色に変化した。−78℃で2時間経過した後に、透明溶液を−95℃に冷却した。実施例7から得ることができる1−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン4.000g(14.02ミリモル)をTHF16mLに溶解した溶液徐々に加え(シリンジポンプ、添加時間:30分)、得られた溶液を−95℃でさらに30分間保ち、次いで−78℃で45分間保った。その後に、LiOH水溶液87.6mL(0.8M、70.1ミリモル、5.0eq)とH2O2水溶液7.01mL(10.0M、70.1ミリモル、5.0eq)を加え、得られた懸濁物の攪拌を0℃で30分間、室温で1時間続けた。沈殿した助剤を濾過することにより回収し、固形物を水15mLで洗浄した。濾液をNaOH水溶液200mL(2M)に注いだ。沈殿した助剤の第二の部分を濾過することにより回収し、固形物を水3mLで洗浄した。次いで、濾液をTBME200mLで3回(合計600mL)抽出して、未反応1−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン、沈殿しなかった助剤及び数種の不純物を除去した。次いで、水性相を水性HClでpH3まで酸性にした。得られた白色懸濁液をジクロロメタン200mLで2回抽出した(全体で400mL)。ジクロロメタン抽出液を一緒にして飽和水性NH4Cl 80mL及び食塩水16mLで洗浄し、その後に硫酸ナトリウム20gで乾燥し(30分)、濾過した。固体物をジクロロメタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、5ミリバール)で除去した後に、表題化合物を淡黄色油状物として得た(3.61g、75重量%、er=87.2:12.8)。
(R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸の合成
実施例8から得ることができる(4R,5S)−3−アセチル−4,5−ジフェニル−オキサゾリジン−2−オン4.733g(16.82ミリモル、1.2eq)をTHF19mLに65℃で溶解した。次いで、得られた溶液を−78℃に冷却し、リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのTHF溶液17.00mL(1.0M、16.82ミリモル、1.2eq)を徐々に加えた(添加時間:10分)。添加中に、溶液の色が無色から明黄色に変化した。−78℃で2時間経過した後に、透明溶液を−95℃に冷却した。実施例7から得ることができる1−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン4.000g(14.02ミリモル)をTHF16mLに溶解した溶液徐々に加え(シリンジポンプ、添加時間:30分)、得られた溶液を−95℃でさらに30分間保ち、次いで−78℃で45分間保った。その後に、LiOH水溶液87.6mL(0.8M、70.1ミリモル、5.0eq)とH2O2水溶液7.01mL(10.0M、70.1ミリモル、5.0eq)を加え、得られた懸濁物の攪拌を0℃で30分間、室温で1時間続けた。沈殿した助剤を濾過することにより回収し、固形物を水15mLで洗浄した。濾液をNaOH水溶液200mL(2M)に注いだ。沈殿した助剤の第二の部分を濾過することにより回収し、固形物を水3mLで洗浄した。次いで、濾液をTBME200mLで3回(合計600mL)抽出して、未反応1−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−プロパン−1−オン、沈殿しなかった助剤及び数種の不純物を除去した。次いで、水性相を水性HClでpH3まで酸性にした。得られた白色懸濁液をジクロロメタン200mLで2回抽出した(全体で400mL)。ジクロロメタン抽出液を一緒にして飽和水性NH4Cl 80mL及び食塩水16mLで洗浄し、その後に硫酸ナトリウム20gで乾燥し(30分)、濾過した。固体物をジクロロメタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、5ミリバール)で除去した後に、表題化合物を淡黄色油状物として得た(3.61g、75重量%、er=87.2:12.8)。
実施例11
(R)−5−エチル−5−ヒドロキシ−2,5,6,9−テトラヒドロ−8−オキサ− 2−アザ−ベンゾシクロヘプタンの合成
実施例10から得ることができる(R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸3.00g(8.69ミリモル)を1,2−ジメトキシメタン11mLに溶解し攪拌した溶液に、水性HBr(48%)2.01mL(17.89ミリモル、2.06eq)を加えた。室温で15分後に、溶液を50℃に加熱した。4時間後に、第一の生成物の結晶が生じた。反応はHPLCで監視した。50℃で24時間経過した後に〔<1%(面積)(R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸〕、反応物を室温に冷却した。得られた混合物を室温で72時間攪拌し、次いで濾過した。固形物をTBME2.24mLで2回(合計4.48mL)洗浄し、その後にアセトン2.24mLで洗浄し;水2.24mLで2回(合計4.48mL)洗浄し、最後にアセトン2.24mLで2回(合計4.48mL)洗浄した。真空減圧後に、表題化合物(1.040g、4.66ミリモル、54重量%)が白色結晶として且つ下記のキラルHPLC法で測定されるer=99.95:0.05の光学異性体比で得られた:
方法 :750DH2.M
試料調製:エタノール溶液
装置 :Agilent1100
カラム :Chiralcel−ODH、250×4.6、Nr.DB075
温度 :25℃
移動相 :ヘプタン75%、エタノール/トリフルオロ酢酸(99:1)25%
流量 :0.8mL/分
注入容量:5μL
検出 :UV308nm
保持時間:9.68分(S)−生成物;13.28分(R)−生成物
(R)−5−エチル−5−ヒドロキシ−2,5,6,9−テトラヒドロ−8−オキサ− 2−アザ−ベンゾシクロヘプタンの合成
実施例10から得ることができる(R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸3.00g(8.69ミリモル)を1,2−ジメトキシメタン11mLに溶解し攪拌した溶液に、水性HBr(48%)2.01mL(17.89ミリモル、2.06eq)を加えた。室温で15分後に、溶液を50℃に加熱した。4時間後に、第一の生成物の結晶が生じた。反応はHPLCで監視した。50℃で24時間経過した後に〔<1%(面積)(R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸〕、反応物を室温に冷却した。得られた混合物を室温で72時間攪拌し、次いで濾過した。固形物をTBME2.24mLで2回(合計4.48mL)洗浄し、その後にアセトン2.24mLで洗浄し;水2.24mLで2回(合計4.48mL)洗浄し、最後にアセトン2.24mLで2回(合計4.48mL)洗浄した。真空減圧後に、表題化合物(1.040g、4.66ミリモル、54重量%)が白色結晶として且つ下記のキラルHPLC法で測定されるer=99.95:0.05の光学異性体比で得られた:
方法 :750DH2.M
試料調製:エタノール溶液
装置 :Agilent1100
カラム :Chiralcel−ODH、250×4.6、Nr.DB075
温度 :25℃
移動相 :ヘプタン75%、エタノール/トリフルオロ酢酸(99:1)25%
流量 :0.8mL/分
注入容量:5μL
検出 :UV308nm
保持時間:9.68分(S)−生成物;13.28分(R)−生成物
実施例12
2−クロロ−N−イソプロピル−イソニコチンアミドの合成
2−クロロイソニコチン酸20.00g(123.2ミリモル)をアセトニトリル200mLに懸濁し攪拌した懸濁液に、塩化チオニル(160.2ミリモル、1.3eq)11.77mLとDMF762μL(9.86ミリモル、0.08eq)を加えた。この混合物を加熱還流し、HPLCで監視した。60分後に(<1%の2−クロロイソニコチン酸)、反応混合物を室温に冷却し、揮発分全部をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で除去した。残留油状物をジクロロメタン200mLに溶解し、得られた溶液を0℃に冷却した。トリエチルアミン20.6mL(147.8ミリモル、1.20eq)とイソプロピルアミン11.7mL(135.5ミリモル、1.10eq)を連続的に加え、攪拌を溶液がほとんど黒くなるまで0℃で2時間続けた。得られた混合物を水200mLに注ぎ、二相を分離した。有機相を食塩水200mLで洗浄し、硫酸ナトリウム15gで乾燥し、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン30mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、20ミリバール)で除去した後に、粗生成物(24.83g、102%w/w)を褐色固体(HPLC純度98.6%面積)として得た。
2−クロロ−N−イソプロピル−イソニコチンアミドの合成
2−クロロイソニコチン酸20.00g(123.2ミリモル)をアセトニトリル200mLに懸濁し攪拌した懸濁液に、塩化チオニル(160.2ミリモル、1.3eq)11.77mLとDMF762μL(9.86ミリモル、0.08eq)を加えた。この混合物を加熱還流し、HPLCで監視した。60分後に(<1%の2−クロロイソニコチン酸)、反応混合物を室温に冷却し、揮発分全部をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で除去した。残留油状物をジクロロメタン200mLに溶解し、得られた溶液を0℃に冷却した。トリエチルアミン20.6mL(147.8ミリモル、1.20eq)とイソプロピルアミン11.7mL(135.5ミリモル、1.10eq)を連続的に加え、攪拌を溶液がほとんど黒くなるまで0℃で2時間続けた。得られた混合物を水200mLに注ぎ、二相を分離した。有機相を食塩水200mLで洗浄し、硫酸ナトリウム15gで乾燥し、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン30mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、20ミリバール)で除去した後に、粗生成物(24.83g、102%w/w)を褐色固体(HPLC純度98.6%面積)として得た。
実施例13:
N−イソプロピル−2−メトキシ−イソニコチンアミドの合成
実施例12から得ることができる2−クロロ−N−イソプロピル−イソニコチンアミド19.44g(97.86ミリモル)をメタノール165mLに溶解し攪拌した溶液に、NaOMe27.82g(489.3ミリモル、5.0eq)を4等分して60分間にわたって加えた。次いで、得られた溶液を80℃に加熱し、反応をHPLCで監視した。23時間後に〔<2%(面積)出発原料2−クロロ−N−イソプロピル−イソニコチンアミド〕、混合物を室温まで冷却し、200mLの飽和水性NH4Clを加えることによって反応を停止させた。生成物をジクロロメタン150mLで3回(合計450mL)抽出した。有機相を一緒にしてNa2SO440gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン80mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、22ミリバール)で除去した後に、粗生成物(15.856g、83%w/w、HPLC純度93.7面積%)を白色固体として得た。
N−イソプロピル−2−メトキシ−イソニコチンアミドの合成
実施例12から得ることができる2−クロロ−N−イソプロピル−イソニコチンアミド19.44g(97.86ミリモル)をメタノール165mLに溶解し攪拌した溶液に、NaOMe27.82g(489.3ミリモル、5.0eq)を4等分して60分間にわたって加えた。次いで、得られた溶液を80℃に加熱し、反応をHPLCで監視した。23時間後に〔<2%(面積)出発原料2−クロロ−N−イソプロピル−イソニコチンアミド〕、混合物を室温まで冷却し、200mLの飽和水性NH4Clを加えることによって反応を停止させた。生成物をジクロロメタン150mLで3回(合計450mL)抽出した。有機相を一緒にしてNa2SO440gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン80mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、22ミリバール)で除去した後に、粗生成物(15.856g、83%w/w、HPLC純度93.7面積%)を白色固体として得た。
実施例14
3−ヒドロキシ−2−イソプロピル−4−メトキシ−2,3−ジヒドロ−ピロロ[3,4−c]ピリジン−1−オンの合成
実施例12から得ることができるN−イソプロピル−2−メトキシ−イソニコチンアミド10.00g(51.40ミリモル)をTBME300mLに懸濁し攪拌した懸濁液に、透明溶液の形成を生じるTMEDA17.2mL(113.3ミリモル、2.2eq)を室温で加え、次いで−78℃に冷却した。その後に、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液102.8mL(1.5M、154.4ミリモル、3.0eq)を35分間にわたって加え、攪拌を同じ温度でさらに3時間続け、その後に−22℃でさらに3時間続けた。淡褐色懸濁液に、DMF13.9mL(180.0ミリモル、3.5eq)を−28℃で加えた。得られた懸濁液に、飽和水性NH4C1200mLを加えることによって反応を停止させた。混合物をジクロロメタン150mLで3回(合計450mL)抽出した。有機相を一緒にしてNa2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/20ミリバール)で除去した後に、粗生成物(19.400g、170%w/w、1H−NMRで測定される位置選択性:11.68:1)を褐色油状物(HPLC純度77.6%)として得た。
3−ヒドロキシ−2−イソプロピル−4−メトキシ−2,3−ジヒドロ−ピロロ[3,4−c]ピリジン−1−オンの合成
実施例12から得ることができるN−イソプロピル−2−メトキシ−イソニコチンアミド10.00g(51.40ミリモル)をTBME300mLに懸濁し攪拌した懸濁液に、透明溶液の形成を生じるTMEDA17.2mL(113.3ミリモル、2.2eq)を室温で加え、次いで−78℃に冷却した。その後に、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液102.8mL(1.5M、154.4ミリモル、3.0eq)を35分間にわたって加え、攪拌を同じ温度でさらに3時間続け、その後に−22℃でさらに3時間続けた。淡褐色懸濁液に、DMF13.9mL(180.0ミリモル、3.5eq)を−28℃で加えた。得られた懸濁液に、飽和水性NH4C1200mLを加えることによって反応を停止させた。混合物をジクロロメタン150mLで3回(合計450mL)抽出した。有機相を一緒にしてNa2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/20ミリバール)で除去した後に、粗生成物(19.400g、170%w/w、1H−NMRで測定される位置選択性:11.68:1)を褐色油状物(HPLC純度77.6%)として得た。
実施例15
4−メトキシ−3H−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オンの合成
実施例14から得ることができる粗製3−ヒドロキシ−2−イソプロピル−4−メトキシ−2,3−ジヒドロ−ピロロ[3,4−c]ピリジン−1−オン19.40g(87.29ミリモル)をイソプロパノール300mL及び水100mLに溶解し攪拌した溶液に、室温でNaBH45.160g(130.9ミリモル、1.5eq)を加えた。3時間後に〔<1.0%(面積)3−ヒドロキシ−2−イソプロピル−4−メトキシ−2,3−ジヒドロ−ピロロ[3,4−c]ピリジン−1−オン〕、0℃でアセトン34.0mL(474.4ミリモル、5.3eq)を加えることによって反応を停止させ、攪拌を室温で35分間続けた。得られた混合物を0℃で415mLの水性HCl(2.0M、829.3ミリモル、9.5eq)に注ぎ、攪拌を室温で20分間続けた。次いで、この混合物を50℃に一夜加熱し、その後に0℃に冷却した。リン酸水素二カリウムを加えてpH3.0に調整し、ロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)でイソプロパノールの約95%を除去した。水を塩が溶解するまで加え、得られた混合物をジクロロメタン300mLで3回(合計900mL)抽出した。有機相を一緒にし、Na2SO450gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をジクロロメタン100mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/25ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(9.963g、69%w/w)を淡褐色固体〔HPLC純度80.7%(面積)〕として得た。精製は、酢酸エチル30mLを用いて室温で24時間磨砕し、その後にヘプタン60mLを加えることによって行った。次いで、得られた懸濁物を5℃で24時間放置して表題生成物(5.486g、33.22ミリモル、40%w/w(2工程を通して68%)、HPLC純度95.1%面積)をベージュ色固体として得た。
4−メトキシ−3H−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オンの合成
実施例14から得ることができる粗製3−ヒドロキシ−2−イソプロピル−4−メトキシ−2,3−ジヒドロ−ピロロ[3,4−c]ピリジン−1−オン19.40g(87.29ミリモル)をイソプロパノール300mL及び水100mLに溶解し攪拌した溶液に、室温でNaBH45.160g(130.9ミリモル、1.5eq)を加えた。3時間後に〔<1.0%(面積)3−ヒドロキシ−2−イソプロピル−4−メトキシ−2,3−ジヒドロ−ピロロ[3,4−c]ピリジン−1−オン〕、0℃でアセトン34.0mL(474.4ミリモル、5.3eq)を加えることによって反応を停止させ、攪拌を室温で35分間続けた。得られた混合物を0℃で415mLの水性HCl(2.0M、829.3ミリモル、9.5eq)に注ぎ、攪拌を室温で20分間続けた。次いで、この混合物を50℃に一夜加熱し、その後に0℃に冷却した。リン酸水素二カリウムを加えてpH3.0に調整し、ロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)でイソプロパノールの約95%を除去した。水を塩が溶解するまで加え、得られた混合物をジクロロメタン300mLで3回(合計900mL)抽出した。有機相を一緒にし、Na2SO450gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をジクロロメタン100mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/25ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(9.963g、69%w/w)を淡褐色固体〔HPLC純度80.7%(面積)〕として得た。精製は、酢酸エチル30mLを用いて室温で24時間磨砕し、その後にヘプタン60mLを加えることによって行った。次いで、得られた懸濁物を5℃で24時間放置して表題生成物(5.486g、33.22ミリモル、40%w/w(2工程を通して68%)、HPLC純度95.1%面積)をベージュ色固体として得た。
実施例16
1−エチル−4−メトキシ−1,3−ジヒドロ−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オールの合成
トリエチルアルミニウムのトルエン10.52mL(1.9M、19.99ミリモル、1.1eq)に、シクロヘキサン/ベンゼン中のエチルリチウム39.97mL(0.5M、19.99ミリモル、1.1eq)を0℃で滴加した。0℃で15分後に、THF50.5μL(−40℃に予冷した)をカニューレを用いて迅速に加えた。その後に、実施例15から得ることができる4−メトキシ−3H−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オン3.0g(18.17ミリモル)をTHF75mLに溶解した溶液を、−40℃で迅速に加えた。−40℃で10分経過した後に、さらにシクロヘキサン/ベンゼン中のエチルリチウム39.97mL(0.5M、19.99ミリモル、1.1eq)を徐々に加えた。混合物を3時間以内に−15℃まで温め、その後にメタノール3.68mL(100ミリモル、5eq)を加えることによって反応を停止させた。30分後に、得られた混合物を飽和水性酒石酸カリウムナトリウム1.5Lに注ぎ、ジクロロメタン500mLで3回(合計1.5L)抽出した。有機相を一緒にし、Na2SO4100gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をジクロロメタン200mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(3.77g、106%w/w)を褐色油状物〔HPLC純度51.5%(面積)〕として得、これをカラムクロマトグラフィーでヘプタン/酢酸エチル(7:3)を用いて精製して表題生成物〔1.877g、9.61ミリモル、53%w/w;HPLC純度97.9%(面積);NMRでラクトール/ヒドロキシ−ケトン比=6:1〕を黄色油状物として得た。
1−エチル−4−メトキシ−1,3−ジヒドロ−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オールの合成
トリエチルアルミニウムのトルエン10.52mL(1.9M、19.99ミリモル、1.1eq)に、シクロヘキサン/ベンゼン中のエチルリチウム39.97mL(0.5M、19.99ミリモル、1.1eq)を0℃で滴加した。0℃で15分後に、THF50.5μL(−40℃に予冷した)をカニューレを用いて迅速に加えた。その後に、実施例15から得ることができる4−メトキシ−3H−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オン3.0g(18.17ミリモル)をTHF75mLに溶解した溶液を、−40℃で迅速に加えた。−40℃で10分経過した後に、さらにシクロヘキサン/ベンゼン中のエチルリチウム39.97mL(0.5M、19.99ミリモル、1.1eq)を徐々に加えた。混合物を3時間以内に−15℃まで温め、その後にメタノール3.68mL(100ミリモル、5eq)を加えることによって反応を停止させた。30分後に、得られた混合物を飽和水性酒石酸カリウムナトリウム1.5Lに注ぎ、ジクロロメタン500mLで3回(合計1.5L)抽出した。有機相を一緒にし、Na2SO4100gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をジクロロメタン200mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物(3.77g、106%w/w)を褐色油状物〔HPLC純度51.5%(面積)〕として得、これをカラムクロマトグラフィーでヘプタン/酢酸エチル(7:3)を用いて精製して表題生成物〔1.877g、9.61ミリモル、53%w/w;HPLC純度97.9%(面積);NMRでラクトール/ヒドロキシ−ケトン比=6:1〕を黄色油状物として得た。
実施例17
1−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−プロパン−1−オンの合成
実施例16から得ることができる1−エチル−4−メトキシ−1,3−ジヒドロ−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オール1.500g(7.68ミリモル)と、イミダゾール1.831g(26.89ミリモル、3.5eq)とをDMF12.5mLに溶解した溶液に、0℃でTBSCl 3.475g(23.05ミリモル、3.0eq)を加えた。得られた溶液を、HPLCで検出される0.1%面積未満の1−エチル−4−メトキシ−1,3−ジヒドロ−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オールが達成されるまで、一夜室温まで徐々に温めた。ヘプタン285mLと水444mLを加えた。有機相を分離し、Na2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をヘプタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で、次いで高真空(40℃、0.01ミリバール)下で蒸発させた後に、粗生成物(2.34g、7.56ミリモル、98%w/w)を淡黄色油状物〔HPLC純度99.0%(面積)〕として得た。
1−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−プロパン−1−オンの合成
実施例16から得ることができる1−エチル−4−メトキシ−1,3−ジヒドロ−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オール1.500g(7.68ミリモル)と、イミダゾール1.831g(26.89ミリモル、3.5eq)とをDMF12.5mLに溶解した溶液に、0℃でTBSCl 3.475g(23.05ミリモル、3.0eq)を加えた。得られた溶液を、HPLCで検出される0.1%面積未満の1−エチル−4−メトキシ−1,3−ジヒドロ−フロ[3,4−c]ピリジン−1−オールが達成されるまで、一夜室温まで徐々に温めた。ヘプタン285mLと水444mLを加えた。有機相を分離し、Na2SO420gで乾燥し(30分)、濾過した。固形物をヘプタン40mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で、次いで高真空(40℃、0.01ミリバール)下で蒸発させた後に、粗生成物(2.34g、7.56ミリモル、98%w/w)を淡黄色油状物〔HPLC純度99.0%(面積)〕として得た。
実施例18
(R)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オンの合成
適当な反応フラスコに、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液9.79mL(1.0MTHF溶液、9.69ミリモル、3.0eq)を加え、この溶液を−78℃に冷却した。THF7.5mLに溶解した実施例21から得ることができる(R)−3−アセチル−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オン1.989g(9.69ミリモル、3.0eq)を徐々に加えた(約10分)。−78℃で2時間経過した後に、溶液を−95℃に冷却し、THF6.7mLに溶解した実施例17から得ることができる1−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−プロパン−1−オン1.000g(3.231ミリモル)をシリンジポンプを使用して徐々に加えた(約60分)。この溶液を−95℃でさらに30分保ち、次いで−78℃で1時間保った。その後に、50mLの水性0.5MHClを加えることによって反応を停止させた。混合物をジクロロメタン50mLで3回(合計150mL)抽出し、抽出液を一緒にしてNa2SO410gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン20mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、5ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物を橙色固体〔3.12g、188%w/w、dr=87:13(1H−NMで算出した)、HPLC純度37.8%(面積)〕として得た。
(R)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オンの合成
適当な反応フラスコに、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液9.79mL(1.0MTHF溶液、9.69ミリモル、3.0eq)を加え、この溶液を−78℃に冷却した。THF7.5mLに溶解した実施例21から得ることができる(R)−3−アセチル−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オン1.989g(9.69ミリモル、3.0eq)を徐々に加えた(約10分)。−78℃で2時間経過した後に、溶液を−95℃に冷却し、THF6.7mLに溶解した実施例17から得ることができる1−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−プロパン−1−オン1.000g(3.231ミリモル)をシリンジポンプを使用して徐々に加えた(約60分)。この溶液を−95℃でさらに30分保ち、次いで−78℃で1時間保った。その後に、50mLの水性0.5MHClを加えることによって反応を停止させた。混合物をジクロロメタン50mLで3回(合計150mL)抽出し、抽出液を一緒にしてNa2SO410gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキをジクロロメタン20mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、5ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物を橙色固体〔3.12g、188%w/w、dr=87:13(1H−NMで算出した)、HPLC純度37.8%(面積)〕として得た。
実施例19
(R)−3−ヒドロキシ−3−(3−ヒドロキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−ペンタン酸の合成
実施例18から得ることができる(R)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オン3.11g(6.04ミリモル)をTHF35mLに溶解した溶液に、0℃でLiOH水溶液37.8mL(0.8M、30.2ミリモル、5.0eq)とH2O2水溶液3.02mL(10.0M、30.2ミリモル、5.0eq)を加えた。30分後に、NaOH水溶液220mL(2M)を加え、氷浴を取り除いた。反応をHPLCで監視した。2時間後に〔<0.2%(面積)(R)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オン〕、得られたエマルジョンをTBME 100mLで7回抽出した(合計700mL)。水性相を水性HClで酸性化してpH3.0に調整し、ジクロロメタン/エタノール(4:1)100mLで9回(合計900mL)抽出した。ロータリーエバポレーター(40℃、5ミリバール)で蒸発させた後に、表題生成物を無色半固体(700mg、2.74ミリモル、45%w/wの収率、又は2工程を通じて算出した場合には85%の収率)として且つHPLC(er=80.47:19.53、以下のキラルHPLC法参照)で測定される89.2%の純度で得た。
キラルHPLC法
方法 :90ADH1.M
試料調製:エタノール溶液
装置 :Agilent1100
カラム :Chiralcel−ADH、250×4.6、Nr.DB078
温度 :25℃
移動相 :ヘプタン90%、エタノール/トリフルオロ酢酸(99:1)10%
流量 :0.8mL/分
注入容量:5μL
検出 :UV308nm
保持時間:(R)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オンについては22.20分;及び(S)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オンについては24.78分
(R)−3−ヒドロキシ−3−(3−ヒドロキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−ペンタン酸の合成
実施例18から得ることができる(R)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オン3.11g(6.04ミリモル)をTHF35mLに溶解した溶液に、0℃でLiOH水溶液37.8mL(0.8M、30.2ミリモル、5.0eq)とH2O2水溶液3.02mL(10.0M、30.2ミリモル、5.0eq)を加えた。30分後に、NaOH水溶液220mL(2M)を加え、氷浴を取り除いた。反応をHPLCで監視した。2時間後に〔<0.2%(面積)(R)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オン〕、得られたエマルジョンをTBME 100mLで7回抽出した(合計700mL)。水性相を水性HClで酸性化してpH3.0に調整し、ジクロロメタン/エタノール(4:1)100mLで9回(合計900mL)抽出した。ロータリーエバポレーター(40℃、5ミリバール)で蒸発させた後に、表題生成物を無色半固体(700mg、2.74ミリモル、45%w/wの収率、又は2工程を通じて算出した場合には85%の収率)として且つHPLC(er=80.47:19.53、以下のキラルHPLC法参照)で測定される89.2%の純度で得た。
キラルHPLC法
方法 :90ADH1.M
試料調製:エタノール溶液
装置 :Agilent1100
カラム :Chiralcel−ADH、250×4.6、Nr.DB078
温度 :25℃
移動相 :ヘプタン90%、エタノール/トリフルオロ酢酸(99:1)10%
流量 :0.8mL/分
注入容量:5μL
検出 :UV308nm
保持時間:(R)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オンについては22.20分;及び(S)−3−{3−[3−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2−メトキシ−ピリジン−4−イル]−3−ヒドロキシ−ペンタノイル}−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オンについては24.78分
実施例20
(R)−5−エチル−5−ヒドロキシ−2,5,6,9−テトラヒドロ−8−オキサ−2−アザ−ベンゾシクロヘプタンの合成
実施例19から得ることができる(R)−3−ヒドロキシ−3−(3−ヒドロキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−ペンタン酸1.097g(4.298ミリモル)を1,2−ジメトキシメタン15.1mLに溶解し攪拌した溶液に、水性HBr(48%)1.014mL(9.03ミリモル、2.1eq)を加えた。室温で15分経過した後に、溶液を50℃に加熱した。50℃で18時間経過した後に、得られた懸濁液を室温でさらに24時間攪拌し、次いで5℃で18時間放置した。沈殿物を減圧を使用せずに濾過することにより回収し、次いでTBME2.55mLで2回(合計5.1mL)洗浄し、次いでアセトン2.55mLで洗浄し、水3.18mLで2回(合計6.36mL)洗浄し、最後にアセトン3.18mLで2回(合計6.36mL)洗浄した。残留溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、表題生成物を白色結晶(418.1mg、1.873ミリモル、44%w/w)として且つ鏡像異性体比er=100.00:0.00(以下のキラルHPLC法参照)で得た。
キラルHPLC法
方法 :750DH2.M
試料調製:エタノール溶液
装置 :Agilent1100
カラム :Chiralcel−ODH、250×4.6、Nr.DB075
温度 :25℃
移動相 :ヘプタン75%、エタノール/トリフルオロ酢酸(99:1)25%
流量 :0.8mL/分
注入容量:5μL
検出 :UV308nm
保持時間:(S)−5−エチル−5−ヒドロキシ−2,5,6,9−テトラヒドロ−8−オキサ−2−アザ−ベンゾシクロヘプタンについては9.68分;及び(R)−5−エチル−5−ヒドロキシ−2,5,6,9−テトラヒドロ−8−オキサ−2−アザ−ベンゾシクロヘプタンについては13.28分
その他の全ての分析データは実施例11に記載の分析データに従う。
(R)−5−エチル−5−ヒドロキシ−2,5,6,9−テトラヒドロ−8−オキサ−2−アザ−ベンゾシクロヘプタンの合成
実施例19から得ることができる(R)−3−ヒドロキシ−3−(3−ヒドロキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−ペンタン酸1.097g(4.298ミリモル)を1,2−ジメトキシメタン15.1mLに溶解し攪拌した溶液に、水性HBr(48%)1.014mL(9.03ミリモル、2.1eq)を加えた。室温で15分経過した後に、溶液を50℃に加熱した。50℃で18時間経過した後に、得られた懸濁液を室温でさらに24時間攪拌し、次いで5℃で18時間放置した。沈殿物を減圧を使用せずに濾過することにより回収し、次いでTBME2.55mLで2回(合計5.1mL)洗浄し、次いでアセトン2.55mLで洗浄し、水3.18mLで2回(合計6.36mL)洗浄し、最後にアセトン3.18mLで2回(合計6.36mL)洗浄した。残留溶媒をロータリーエバポレーター(40℃/10ミリバール)で蒸発させた後に、表題生成物を白色結晶(418.1mg、1.873ミリモル、44%w/w)として且つ鏡像異性体比er=100.00:0.00(以下のキラルHPLC法参照)で得た。
キラルHPLC法
方法 :750DH2.M
試料調製:エタノール溶液
装置 :Agilent1100
カラム :Chiralcel−ODH、250×4.6、Nr.DB075
温度 :25℃
移動相 :ヘプタン75%、エタノール/トリフルオロ酢酸(99:1)25%
流量 :0.8mL/分
注入容量:5μL
検出 :UV308nm
保持時間:(S)−5−エチル−5−ヒドロキシ−2,5,6,9−テトラヒドロ−8−オキサ−2−アザ−ベンゾシクロヘプタンについては9.68分;及び(R)−5−エチル−5−ヒドロキシ−2,5,6,9−テトラヒドロ−8−オキサ−2−アザ−ベンゾシクロヘプタンについては13.28分
その他の全ての分析データは実施例11に記載の分析データに従う。
実施例21:
(R)−3−アセチル−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オンの合成
(R)−(−)−4−フェニル−2−オキサゾリジノン5.000g(30.03ミリモル)をTHF100mLに懸濁し攪拌した懸濁液に、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液21.0mL(1.5M、31.53ミリモル、1.05eq)を0℃で10分以内に加えた。得られた無色溶液を0℃でさらに50分攪拌した。次いで、塩化アセチル2.57mL(36.04ミリモル、1.2eq)を1分以内に加えた。3.5時間後に、25mLの飽和水性NH4Clを加えることによって反応を停止させ、混合物を酢酸エチル75mLで抽出した。有機相を、飽和水性NaHCO350mLで洗浄し、次いで食塩水50mLで洗浄した。得られた溶液Na2SO45gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキを酢酸エチル10mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、18ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物を白色結晶〔6.13g、100%w/w;HPLC純度88.3%(面積)〕として得た。還流温度で酢酸エチル10.6mLに溶解し、次いでヘプタン26.6mLを滴加することによって精製した。得られた懸濁液を徐々に5℃に冷却し、一夜放置した後に、沈殿物を濾過することにより回収した。ヘプタン3mLで洗浄した後に、表題化合物を白色結晶(5.26g、25.6ミリモル、85重量%)として及び高純度(HPLC純度96.6%面積)で得た。
(R)−3−アセチル−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オンの合成
(R)−(−)−4−フェニル−2−オキサゾリジノン5.000g(30.03ミリモル)をTHF100mLに懸濁し攪拌した懸濁液に、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液21.0mL(1.5M、31.53ミリモル、1.05eq)を0℃で10分以内に加えた。得られた無色溶液を0℃でさらに50分攪拌した。次いで、塩化アセチル2.57mL(36.04ミリモル、1.2eq)を1分以内に加えた。3.5時間後に、25mLの飽和水性NH4Clを加えることによって反応を停止させ、混合物を酢酸エチル75mLで抽出した。有機相を、飽和水性NaHCO350mLで洗浄し、次いで食塩水50mLで洗浄した。得られた溶液Na2SO45gで乾燥し(30分)、濾過した。濾過ケーキを酢酸エチル10mLで洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーター(40℃、18ミリバール)で蒸発させた後に、粗生成物を白色結晶〔6.13g、100%w/w;HPLC純度88.3%(面積)〕として得た。還流温度で酢酸エチル10.6mLに溶解し、次いでヘプタン26.6mLを滴加することによって精製した。得られた懸濁液を徐々に5℃に冷却し、一夜放置した後に、沈殿物を濾過することにより回収した。ヘプタン3mLで洗浄した後に、表題化合物を白色結晶(5.26g、25.6ミリモル、85重量%)として及び高純度(HPLC純度96.6%面積)で得た。
Claims (29)
- 式(I)
で示される化合物及びその製薬学的に許容し得る塩及びエステルの製造方法であって、
a)式(II)
で示される化合物を、式(III)
で示される化合物と反応させ、そして
b)アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物の存在下でさらに反応させて前記の式(I)で示される化合物を得ることからなる前記の式(I)で示される化合物の製造方法〔式中:
R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンから独立して選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されていてもよく;そして
Rがアルキルである場合には、式(I)のR1は水素又はシリルであり且つ式(II)のR1もまたシリルであり;
R2は水素又はハロゲンであり;
Xは
であり;
R3及びR4は独立して水素、フェニル、アルキル及び−C(CH3)2−フェニルから選択され;
R5はフェニル、ベンジル又はアルキルであり;
R6は水素、アルキル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7が水素であり;
R11及びR12は独立してアルキル、シクロアルキル、ベンジル又はフェニルであり;且つ
R13はフェニル又はアルキルである〕。 - a)式(II)
で示される化合物を、式(III)
で示される化合物と反応させ、そして
b)アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物の存在下でさらに反応させて前記の式(I)で示される化合物を得ることからなる請求項1に記載の方法〔式中:
R及びR1は独立してアルキル又はベンジルであり、ベンジルは場合により−O−アルキル;アルキル及びハロゲンから独立して選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されていてもよく;
R2は水素又はハロゲンであり;
Xは
であり;
R3及びR4は独立して水素、フェニル、アルキル及び−C(CH3)2−フェニルから選択され;
R5はフェニル、ベンジル又はアルキルであり;
R6は水素、アルキル又はフェニルであり;且つ
R7は水素、メチル又はフェニルであるか;あるいはまた
R5とR6は、これらを結合している炭素原子と一緒になってインダン部分を形成し且つR7が水素であり;
R11及びR12は独立してアルキル、シクロアルキル、ベンジル又はフェニルであり;且つ
R13はフェニル又はアルキルである〕。 - R5及びR6が両方共にフェニルであり、且つRが水素である請求項4に記載の方法。
- プロセス工程a)をアルカリ金属又はアルカリ土類金属アミド塩基の存在下で実施する請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- プロセス工程a)をリチウムヘキサメチルジシラザン(LHMDS)の存在下で実施する請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- プロセス工程a)をジエチルエーテル(Et2O)、テトラヒドロフラン(THF)、tert−ブチルメチルエーテル(TBME)、ペンタン、ヘキサン又はヘプタンから選択される溶媒の存在下で実施する請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- プロセス工程a)の溶媒がテトラヒドロフラン(THF)である請求項10に記載の方法。
- プロセス工程a)を25℃〜−120℃の範囲内の温度で実施する請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- プロセス工程a)を−60℃〜−100℃の範囲内の温度で実施する請求項12に記載の方法。
- プロセス工程a)を−90℃〜−100℃の範囲内の温度で実施する請求項12に記載の方法。
- プロセス工程b)をアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物単独又は過酸化水素との組み合わせの存在下で実施する請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- プロセス工程b)を過酸化水素と組み合わせた水酸化リチウムの存在下で実施する請求項15に記載の方法。
- 前記の式(I)で示される化合物を、式(D)
で示される化合物に、
a)前記の式(I)で示される化合物を式(A)
で示される化合物に、鉱酸及びエーテル溶媒の存在下で、室温(RT)〜60℃の間の温度で転化させ;そして
b)前記の式(A)で示される化合物を、式(B)
で示される化合物と、アゾジカルボン酸ジイソプロピル(DIAD)、エチルジフェニルホスフィン(EtPPh2)及びジメチルアセトアミド(DMA)の存在下でさらに反応させて、 式(C)
で示される化合物を得、
そして
c)前記の式(C)で示される化合物を酢酸パラジウム(II)(Pd(OAc)2)、酢酸カリウム(KOAc)、トリフェニルホスフィン(Ph3P)、テトラブチルアンモニウムブロミド(Bu4NBr)及びアセトニトリル(MeCN)の存在下でさらにさらに反応させて、式(D)
で示される対応化合物を得ることによって、転化させる(但し、R2は請求項1又は2に記載の意義を有し;R8及びR9は独立してアルキル又はハロゲンであり;且つR10は4−メチル−ピペリジン−1−イルメチル又は水素である)請求項1〜17のいずれか1項に記載の方法。 - R2及びR10が共に水素であり、且つR8及びR9が共に弗素である請求項18に記載の方法。
- R2が水素であり、R10が4−メチル−ピペリジン−1−イルメチルであり、R8が塩素であり且つR9がメチルである請求項18に記載の方法。
- プロセス工程a)を臭化水素酸(HBr)及びジメトキシメタン(DME)の存在下で45〜55℃の間の温度で実施する請求項18に記載の方法。
- (R)−3−(3−ベンジルオキシメチル−2−メトキシ−ピリジン−4−イル)−3−ヒドロキシ−ペンタン酸である請求項22に記載の式(I)で示される化合物。
- 請求項18に記載の方法における請求項22に記載の化合物の使用。
- 請求項22に記載の式(I)で示される化合物を製造するための請求項1〜21に記載のいずれか1項に記載の方法の使用。
- 請求項1〜21に記載のいずれか1項に記載の方法で製造される化合物。
- 前記に記載の発明
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP04022472 | 2004-09-21 | ||
EP05100781 | 2005-02-04 | ||
PCT/IB2005/003032 WO2006033011A1 (en) | 2004-09-21 | 2005-09-20 | Novel processes for the production of useful intermediates |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008513437A true JP2008513437A (ja) | 2008-05-01 |
Family
ID=35517545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007531871A Pending JP2008513437A (ja) | 2004-09-21 | 2005-09-20 | 有用な中間体の新規製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7705155B2 (ja) |
EP (1) | EP1794127A1 (ja) |
JP (1) | JP2008513437A (ja) |
CA (1) | CA2580747A1 (ja) |
WO (1) | WO2006033011A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2580747A1 (en) | 2004-09-21 | 2006-03-30 | Societe De Conseils De Recherches Et D'applications Scientifiques (S.C.R .A.S.) | Novel processes for the production of useful intermediates |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001514261A (ja) * | 1997-08-29 | 2001-09-11 | ソシエテ・ド・コンセイユ・ド・ルシエルシエ・エ・ダアツプリカーション・シヤンテイフイツク・(エス.セー.エール.アー.エス) | 光学的に純粋なカンプトテシン類縁体、光学的に純粋な合成中間体及びその製造方法 |
JP2004115535A (ja) * | 1996-12-20 | 2004-04-15 | Soc De Conseils De Recherches & D'applications Scientifiques (Scras) | 新規なカンプトテシン類縁体、その医薬としての使用及びそれを含有する医薬組成物 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2790261B1 (fr) * | 1999-02-26 | 2004-09-10 | Sod Conseils Rech Applic | Nouveaux analogues optiquement purs de la camptothecine et leurs procedes de preparation |
US6339091B1 (en) * | 1995-06-21 | 2002-01-15 | Societe De Conseils De Recherches Et D'applications Scientifiques (S.C.R.A.S.) | Comptothecin analogues, preparation methods therefor, use thereof as drugs, and pharmaceutical compositions containing said analogues |
US6723853B2 (en) * | 2001-08-27 | 2004-04-20 | University Of Pittsburgh | Intermediates and methods of preparation of intermediates in the enantiomeric synthesis of (20R)homocamptothecins and the enantiomeric synthesis of (20R)homocamptothecins |
CA2580747A1 (en) | 2004-09-21 | 2006-03-30 | Societe De Conseils De Recherches Et D'applications Scientifiques (S.C.R .A.S.) | Novel processes for the production of useful intermediates |
-
2005
- 2005-09-20 CA CA002580747A patent/CA2580747A1/en not_active Abandoned
- 2005-09-20 EP EP05817930A patent/EP1794127A1/en not_active Withdrawn
- 2005-09-20 WO PCT/IB2005/003032 patent/WO2006033011A1/en active Application Filing
- 2005-09-20 JP JP2007531871A patent/JP2008513437A/ja active Pending
-
2007
- 2007-03-21 US US11/689,152 patent/US7705155B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-03-08 US US12/719,623 patent/US20100168426A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004115535A (ja) * | 1996-12-20 | 2004-04-15 | Soc De Conseils De Recherches & D'applications Scientifiques (Scras) | 新規なカンプトテシン類縁体、その医薬としての使用及びそれを含有する医薬組成物 |
JP2001514261A (ja) * | 1997-08-29 | 2001-09-11 | ソシエテ・ド・コンセイユ・ド・ルシエルシエ・エ・ダアツプリカーション・シヤンテイフイツク・(エス.セー.エール.アー.エス) | 光学的に純粋なカンプトテシン類縁体、光学的に純粋な合成中間体及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006033011A1 (en) | 2006-03-30 |
CA2580747A1 (en) | 2006-03-30 |
US7705155B2 (en) | 2010-04-27 |
US20100168426A1 (en) | 2010-07-01 |
US20070167475A1 (en) | 2007-07-19 |
EP1794127A1 (en) | 2007-06-13 |
US20090247563A9 (en) | 2009-10-01 |
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