JP6608693B2

JP6608693B2 - ビス−（アルケニルアミド）化合物を含む封止膜用共架橋剤系

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Publication number: JP6608693B2
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Description

本発明は、（ｉ）トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレートからなる群から選択される少なくとも１種の化合物（Ｉ）；及び（ｉｉ）少なくとも１種のビス−（アルケニルアミド）化合物を含む第一の組成物（Ａ）であって、その際、前記化合物（Ｉ）は好ましくはトリアリルイソシアヌレートであるものとする前記第一の組成物（Ａ）に関する。さらに本発明は、前記第一の組成物（Ａ）と少なくとも１種のポリオレフィン共重合体とを含む第二の組成物（Ｂ）にも関する。最後に本発明は、電子デバイス、特に太陽電池の封止膜を製造するための、前記組成物（Ｂ）の使用に関する。

光起電モジュール（光起電性（photovoltaic）＝「ＰＶ」）は、通常は対称的に配置されたシリコンセルの層からなり、このシリコンセルは保護膜の２つの層内で溶着される。この保護膜自体も、その裏面で「バックシート」により、そしてその表面で「フロントシート」により安定化されている。「バックシート」及び「フロントシート」は、適したプラスチックフィルムであってもよいし、ガラスからなっていてもよい。封止材の機能は、主にＰＶモジュールを天候の影響や機械的負荷から保護することにあるため、それぞれの封止材の機械的安定性は重要な特性である。それに加えて、良好な封止材は、高い硬化速度、高いゲル含有率、高い透過率、温度や熱により誘起される変色のしにくさ、そして高い密着性（つまりＵＶにより誘起される剥離の生じにくさ）を示す。

従来技術において（例えば特許文献１（国際公開第２００８／０３６７０８号））この目的のために記載されている封止材は、典型的には、例えばシリコーン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、イオノマー、ポリオレフィンフィルム又はエチレン・酢酸ビニル共重合体（「ＥＶＡ」）といった材料をベースとしている。

そのような封止膜の製造方法は、当業者に公知である（特許文献２（欧州特許出願公開第１１６４１６７号明細書））。この方法では、架橋剤がポリオレフィン共重合体（及び場合によりさらなる添加剤）と共に例えば押出機中で均質に混合され、その後押出成形によりフィルムが生成される。この特許文献２に記載されている方法はＥＶＡ系封止膜に関連してはいるものの、他の、例えば上述の材料からのフィルムも適用可能である。

シリコンセルの封止は、典型的には真空積層炉内で行われる（特許文献３（欧州特許出願公開第２４５７７２８号明細書））。そのために、ＰＶモジュールの層構造体が準備され、かつ（膜により隔離された２つのチャンバからなる）積層炉内でまず初めにゆっくりと加熱される。それによりポリオレフィン共重合体（例えばＥＶＡ）が軟化する。それと同時に炉の真空引きが行われて、層間の空気が排出される。この工程は極めてクリティカルであり、４〜６分間を要する。それに続き、第二のチャンバを通じて真空が解除され、圧力印加によりモジュールの層が互いに溶接される。それと同時に、架橋温度に達するまでさらに加熱され、その際、この最後の工程でフィルムの架橋が生じる。

まさにＥＶＡは、ソーラーモジュール用封止膜の製造において標準的に用いられている。しかしながらＥＶＡは、例えばポリオレフィンフィルムよりも低い比抵抗ρをも有している。これによって、封止材としてのＥＶＡフィルムの使用はあまり魅力のないものとなっている。何故ならば、高い比抵抗ρを有する封止材が望まれているためである。

ＰＶモジュールにおいては、いわゆる「ＰＩＤ」現象（ＰＩＤ＝potential induced degradation）が、目下、品質上の大きな問題となっている。ＰＩＤという概念は電圧誘起出力低下と解釈され、いわゆるＰＶモジュール内部での「漏れ電流」により引き起こされる。

障害となる漏れ電流の原因は、太陽電池の構造の他に、大地電位に対する個々のＰＶモジュールの電圧レベルにあり、その際、多くの非接地ＰＶ系において、ＰＶモジュールは正電圧又は負電圧に曝されている。ＰＩＤは大抵、大地電位に対して負電圧で生じ、高い系電圧、高温及び高い空中湿度により助長される。その結果、ナトリウムイオンがＰＶモジュールのカバーガラスから太陽電池の界面へとマイグレーションし、そこで障害（「シャント」）を引き起こし、この障害によってＰＶモジュールの出力低下が生じ、そしてさらにはＰＶモジュールの全損が生じることもある。

封止膜の比抵抗ρを上昇させることで、ＰＩＤ現象発生のリスクを明らかに低減することができる。

比抵抗ρや体積抵抗率（「volume resistivity」、以下では省略して「ＶＲ」とも称される）は、温度に依存する材料定数である。これは、均一な導電体の電気抵抗を算出するために用いられる。比抵抗は、本発明によればＡＳＴＭ−Ｄ２５７により求められる。

材料の比抵抗ρが高いほど、光起電モジュールのＰＩＤ現象の生じ易さが低下する。従って、封止膜の比抵抗ρが上昇した場合の主な好影響とは、ＰＶモジュールの寿命及び効率の向上である。

従来技術においては、特許文献４（中国特許出願公開第１０３５２５３２１号明細書）において、ＰＩＤ現象の問題がＰＶモジュール用封止膜と関連づけて議論されている。この文献には太陽電池のＥＶＡ系封止膜が記載されており、この封止膜は、共架橋剤としてトリアリルイソシアヌレート（「ＴＡＩＣ」）及びトリメチロールプロパントリメタクリレート（「ＴＭＰＴＭＡ」）を、そして他の添加剤として好ましくはポリオレフィンイオノマー及びポリシロキサンを疎水化のために含有している。この封止膜はＰＩＤ現象の低減を示す。しかしながらこの封止膜は、ポリオレフィンイオノマーが比較的高価であることが欠点である。さらに、ポリシロキサンは付着特性に対して不利に作用する。さらに、実施例では、どのくらいの濃度でどのような改善が達成されうるのかに関して、具体的な記載が一切なされていない。

ＴＡＩＣとＴＭＰＴＭＡとからの架橋剤組合せ物は、特許文献５（特開２００７−２８１１３５号公報）にも記載されている。この場合、ＴＭＰＴＭＡによって架橋反応の促進が生じ、それに伴って生産性の向上がもたらされる。

特許文献６（特開２０１２−０６７１７４号公報）及び特許文献７（特開２０１２−０８７２６０号公報）には、太陽電池用のＥＶＡないしポリオレフィン系の封止膜が記載されており、この封止膜は、ＴＡＩＣの他に例えばエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレートを架橋剤として有している。この共架橋剤は最初に架橋反応を若干遅延させ、それによってポットライフが延長される。

特許文献８（特開２００９−１３５２００号公報）にも同様に、ＴＡＩＣと多価アルコールの種々の（メタ）アクリレート誘導体とを含む架橋剤が記載されており、その際、この場合には、ＥＶＡ系封止材の剥離しにくさにつながる、改善された耐熱性が記載されている。

特許文献５及び特許文献９（特開２００７−３０５６３４号公報）には、太陽電池用の同時押出成形された多層ＥＶＡ封止膜の製造に使用するための、ＴＡＩＣとトリメチロールプロパントリアクリレート（「ＴＭＰＴＡ」）とからの架橋剤組合せ物が記載されている。

太陽電池用封止膜のための同様の架橋剤組合せ物は、例えば特許文献１０（特開２０１３−１３８０９４号公報）、特許文献１１（特開平１１−２００９４号公報）、特許文献１２（特開平１１−２００９５号公報）、特許文献１３（特開平１１−２００９６号公報）、特許文献１４（特開平１１−２００９７号公報）、特許文献１５（特開平１１−２００９８号公報）、特許文献１６（特開平１１−２１５４１号公報）、特許文献１７（中国特許出願公開第１０２３９１５６８号明細書）、特許文献１８（中国特許出願公開第１０２５０４７１５号明細書）、特許文献１９（中国特許出願公開第１０２８６３９１８号明細書）、特許文献２０（中国特許出願公開第１０２９１１６１２号明細書）、特許文献２１（中国特許出願公開第１０３０４５１０５号明細書）、特許文献２２（中国特許出願公開第１０３７５５８７６号明細書）、特許文献２３（中国特許出願公開第１０３８０４７７４号明細書）、特許文献２４（米国特許出願公開第２０１１／０１６０３８３号明細書）、特許文献２５（国際公開第２０１４／１２９５７３号）に記載されている。

従って、従来技術により架橋されているフィルムに比して明らかに高められた電気抵抗をもたらし、それにより光起電モジュールにおける使用時にＰＩＤのリスクが低減されるような、新規の共架橋剤系、特に太陽電池用封止膜を製造するための新規の共架橋剤系が求められている。

国際公開第２００８／０３６７０８号欧州特許出願公開第１１６４１６７号明細書欧州特許出願公開第２４５７７２８号明細書中国特許出願公開第１０３５２５３２１号明細書特開２００７−２８１１３５号公報特開２０１２−０６７１７４号公報特開２０１２−０８７２６０号公報特開２００９−１３５２００号公報特開２００７−３０５６３４号公報特開２０１３−１３８０９４号公報特開平１１−２００９４号公報特開平１１−２００９５号公報特開平１１−２００９６号公報特開平１１−２００９７号公報特開平１１−２００９８号公報特開平１１−２１５４１号公報中国特許出願公開第１０２３９１５６８号明細書中国特許出願公開第１０２５０４７１５号明細書中国特許出願公開第１０２８６３９１８号明細書中国特許出願公開第１０２９１１６１２号明細書中国特許出願公開第１０３０４５１０５号明細書中国特許出願公開第１０３７５５８７６号明細書中国特許出願公開第１０３８０４７７４号明細書米国特許出願公開第２０１１／０１６０３８３号明細書国際公開第２０１４／１２９５７３号

従って本発明の課題は、できる限り高い比抵抗ρを有するフィルムの製造において使用されることができ、従って特に例えば太陽電池のような電子デバイスの封止に適した新規組成物を提供することであった。前記組成物はさらに、確立されたプロセスにおいて使用可能であることが望ましく、またフィルムのコストがそれほど上昇しないことが望ましい。特に前記組成物は、従来技術の共架橋剤系において、またここで特に特許文献４に記載された組成物において認められるような欠点を有しないことが望ましい。

ここで驚くべきことに、特定の組成物を用いることで、上記の要求を満たす太陽電池用封止膜が得られることが判明した。ここで見出された組成物は、比較的低い使用量で、他のフィルム特性に不利な影響を及ぼすことなく体積抵抗を著しく高める。前記フィルムは、卓越した加工性、高い透明性及び卓越したＵＶ特性及び熱老化特性を示す。

本発明による共架橋剤系は、驚くべきことに、例えば太陽電池のような電子デバイスの、高い比抵抗を有する封止膜の製造に使用されることができる。

従って本発明による共架橋剤系は、以下：
（ｉ）トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレートからなる群から選択される少なくとも１種の化合物（Ｉ）であって、ここで、トリアリルイソシアヌレートが前記化合物（Ｉ）として特に好ましいものとする、前記化合物（Ｉ）；及び
（ｉｉ）少なくとも１種の化合物（ＩＩ）であって、その際、前記化合物（ＩＩ）は一般に以下の構造式：

により定義されるものとする、前記化合物（ＩＩ）；
を含む組成物（Ａ）であって、
ここで、
Ａ¹、Ａ²は、互いに無関係にそれぞれ、少なくとも１つの末端二重結合を有する、３〜１８個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルケニル基、化学構造式（ＩＩＩ）：

［式中、
Ｒ¹は、水素又はメチルであり、
Ａ³は、１〜１２個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
Ｂは、−ＮＲ²−、化学構造式−（ＣＨ₂）_p−ＮＲ³−（ＣＨ₂）_q−で示される基、及び化学構造式（ＩＶ）：

で示される基からなる群から選択され、ここで、
Ｒ²、Ｒ³は、互いに無関係にそれぞれ、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、少なくとも１つの末端二重結合を有する、３〜１８個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルケニル基、化学構造式（Ｖ）：

［式中、
Ｒ⁴は、水素又はメチルであり、
Ａ⁴は、１〜１２個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
その際、ｎ、ｐ、ｑは、互いに無関係にそれぞれ、１〜５の範囲内の整数であり、
その際、前記組成物（Ａ）に含まれる少なくとも１種の化合物（ＩＩ）は、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して少なくとも１質量％の割合で存在する、前記組成物（Ａ）である。

好ましい一実施形態においては、前記組成物（Ａ）に含まれる少なくとも１種の化合物（ＩＩ）は、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して、少なくとも１質量％〜５０質量％、好ましくは１．７質量％〜２５質量％、さらに好ましくは２．１質量％〜１１．１質量％、さらに好ましくは２．２質量％〜６．４質量％、さらに好ましくは３．１質量％〜６．４質量％、最も好ましくは４．４質量％〜５．３質量％の割合で存在する。

好ましい一実施形態においては、前記組成物（Ａ）において、
Ａ¹、Ａ²は、互いに無関係にそれぞれ、アリル基、メタリル基、化学構造式（ＩＩＩ）：

［式中、
Ｒ¹は、水素又はメチルであり、
Ａ³は、１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
Ｂは、−ＮＲ²−、−ＣＨ₂−ＮＨ−ＣＨ₂−、及び化学構造式（ＩＶ）：

で示される基からなる群から選択され、
その際、Ｒ²は、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリル基、メタリル基、化学構造式（Ｖ）：

［式中、
Ｒ⁴は、水素又はメチルであり、
Ａ⁴は、１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
その際、ｎは、１〜３の範囲内の整数である。

極めて好ましくは、前記組成物（Ａ）において、前記化合物（ＩＩ）は、化学構造式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）：

［式中、
Ｒ⁵は、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリル基、メタリル基からなる群から選択され、
Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｑ⁵は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルである］
で示される化合物からなる群から選択される。

極めて好ましくは、前記組成物（Ａ）において、前記化合物（ＩＩ）は、トリアリルビウレット、Ｎ−プロピル−ジアリルビウレット、イミノ−ジ−（酢酸−Ｎ−アリルアミド）から選択される。

前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物は、本発明の意味においては「ビス−（アルケニルアミド）化合物」とも称される。

「前記組成物（Ａ）に含まれる少なくとも１種の化合物（ＩＩ）が、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して少なくとも１質量％の割合で存在する」という表現は、前記組成物（Ａ）において、前記一般構造式（ＩＩ）で示される少なくとも１種の化合物が、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して少なくとも１質量％の量で存在することを意味する。

このことは、例えば、前記組成物（Ａ）が化合物（Ｉ）としてトリアリルイソシアヌレートを含み、かつ化合物（ＩＩ）としてトリアリルビウレットを含む、という本発明による一実施態様において、トリアリルビウレットがトリアリルイソシアヌレートの質量に対して少なくとも１．０質量％の割合で存在することを意味する。もう一つのさらに好ましい実施形態においては、トリアリルビウレットの割合は、トリアリルイソシアヌレートの質量に対して２．１質量％〜２５．０質量％であり、特に好ましくは３．１質量％〜１１．１質量％であり、極めて好ましくは５．３質量％〜６．４質量％である。トリアリルビウレットは、前記式（ＶＩ）において、Ｑ¹＝Ｑ²＝Ｈであり、かつＲ⁵がアリルである化合物である。

このことはさらに、例えば、前記組成物（Ａ）が化合物（Ｉ）としてトリアリルイソシアヌレートを含み、かつ化合物（ＩＩ）としてＮ−プロピル−ジアリルビウレットを含む、という本発明による一実施態様において、Ｎ−プロピル−ジアリルビウレットがトリアリルイソシアヌレートの質量に対して少なくとも１．０質量％の割合で存在することを意味する。もう一つのさらに好ましい実施形態においては、Ｎ−プロピル−ジアリルビウレットの割合は、トリアリルイソシアヌレートの質量に対して１．１質量％〜５質量％であり、特に好ましくは１．５質量％〜３．０質量％であり、極めて好ましくは１．７質量％である。Ｎ−プロピル−ジアリルビウレットは、前記式（ＶＩ）において、Ｑ¹＝Ｑ²＝Ｈであり、かつＲ⁵がｎ−プロピルである化合物である。

このことはさらに、例えば、前記組成物（Ａ）が化合物（Ｉ）としてトリアリルイソシアヌレートを含み、かつ化合物（ＩＩ）としてイミノ−ジ−（酢酸−Ｎ−アリルアミド）を含む、という本発明による一実施態様において、イミノ−ジ−（酢酸−Ｎ−アリルアミド）がトリアリルイソシアヌレートの質量に対して少なくとも１．０質量％の割合で存在することを意味する。もう一つのさらに好ましい実施形態においては、イミノ−ジ−（酢酸−Ｎ−アリルアミド）の割合は、トリアリルイソシアヌレートの質量に対して１．１質量％〜１０．０質量％であり、特に好ましくは２．２質量％〜８質量％であり、極めて好ましくは４．４質量％である。イミノ−ジ−（酢酸−Ｎ−アリルアミド）は、前記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物である。

このことはさらに、例えば、前記組成物（Ａ）が化合物（Ｉ）としてトリアリルシアヌレートを含み、かつ化合物（ＩＩ）としてトリアリルビウレットを含む、という本発明による一実施態様において、トリアリルビウレットがトリアリルシアヌレートの質量に対して少なくとも１．０質量％の割合で存在することを意味する。もう一つのさらに好ましい実施形態においては、トリアリルビウレットの割合は、トリアリルシアヌレートの質量に対して２．１質量％〜２５質量％であり、特に好ましくは３．１質量％〜１１．１質量％であり、極めて好ましくは５．３質量％〜６．４質量％である。

「アリル基」及び「メタリル基」は、それぞれ以下の化学構造式を有する：

本発明の意味において、「少なくとも１つの末端二重結合を有する非分岐状又は分岐状のアルケニル基」とは、少なくとも１つの末端二重結合を有する一価の非分岐状又は分岐状の炭化水素基である。

好ましくは、「少なくとも１つの末端二重結合を有する、３〜１８個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルケニル基」とは、本発明の意味においては、以下の化学構造式：

［式中、
Ｒ’は、ｘ個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基であり、かつＲ''は、これとは無関係に、水素であるか、又はｙ個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキル基であり、その際、ｘ及びｙは整数であり、
Ｒ''がＨである場合にはｘは１〜１６の範囲内であり、ここで、ｘが１である場合にはＲ’はメチレンであり、
Ｒ''が非分岐状又は分岐状のアルキル基である場合には、ｘは１〜１５の範囲内であり、その場合にはｙは１〜（１６−ｘ）の範囲内であり、その際、ｘ＋ｙの合計は１６の値を上回らない］
を有する。

特に、Ｒ''はＨ又はメチルであり、かつＲ’は１〜１５個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である。好ましくは、Ｒ''はＨ又はメチルであり、かつＲ’は１〜１０個の炭素原子を有する非分岐状のアルキレン基である。さらに好ましくは、Ｒ’はメチレンであり、かつＲ''はＨ又はメチルである。

「アルキレン基」とは、本発明の意味においては、二価の飽和炭化水素基である。

１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基は、特に、メチレン、エチレン、ｎ−プロピレン、ｎ−ブチレン、ｎ−ペンチレン、ｎ−ヘキシレンから選択される。「ｎ−ヘキシレン」は「ヘキサメチレン」と同義である。

フィルムの均質性及びフィルムの有効性を保証するためは、前記組成物（Ａ）に含まれる少なくとも１種の化合物（ＩＩ）が、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して少なくとも１質量％の割合で存在することが極めて重要である。このことによって、それによって得られるフィルムの比抵抗が大工業的応用に必要な値に達し、かつ従来技術の架橋剤系に対して十分な改善を達成することが保証される。そのような十分な量で存在している化合物（ＩＩ）が全くないような組成物は、比抵抗の上昇に十分な寄与をなさない。

前記組成物（Ａ）中の前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の割合に関して、この割合は、前記組成物（Ａ）に含まれる少なくとも１種の化合物（ＩＩ）の割合に関する上記規定によってのみ制限される。好ましくは、前記組成物（Ａ）中の前記組成物（Ａ）に含まれる前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の総質量は、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して、少なくとも１質量％であり、特に１．１質量％〜５０．０質量％の範囲内であり、好ましくは２質量％〜２０．０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは３質量％〜１０．０質量％の範囲内である。

本共架橋剤系は、好ましくは、ＰＶモジュールにおける、例えば太陽電池のような電子デバイスの封止膜の製造に使用される。

その際、前記共架橋剤系は、典型的にはポリオレフィン共重合体と一緒に使用される。

従って本発明は、少なくとも１種のポリオレフィン共重合体と本発明による組成物（Ａ）とを含む組成物（Ｂ）にも関する。

本発明により使用可能なポリオレフィン共重合体は当業者に公知であり、例えば特許文献１及び特許文献７に記載されている。

特に本発明によれば、ポリオレフィン共重合体としてエチレン／α−オレフィン−インターポリマーが使用され、その際、「インターポリマー」という概念は、当該ポリオレフィン共重合体が少なくとも２種の異なるモノマーから製造されていることを意味する。従って、「インターポリマー」という概念には特に、ちょうど２種のモノマー単位からなるポリオレフィン共重合体や、ターポリマー（例えばエチレン／プロピレン／１−オクテン、エチレン／プロピレン／ブテン、エチレン／ブテン／１−オクテン、エチレン／ブテン／スチレン）やテトラポリマーも包含される。

ポリオレフィン共重合体として、本発明によれば特に、好ましくはエチレン及びα−オレフィンの他に他のモノマー単位を有しないエチレン／α−オレフィン共重合体が考慮され、その際、本発明の意味において、「α−オレフィン」は好ましくは、プロペン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、３−シクロヘキシル−１−プロペン、ビニルシクロヘキサン、アクリル酸、メタクリル酸、ノルボルネン、スチレン、メチルスチレン、酢酸ビニルからなる群から選択される。

さらに好ましくは、前記組成物（Ｂ）中の本発明によるポリオレフィン共重合体は、エチレン・酢酸ビニル共重合体である。

ポリオレフィン共重合体としてエチレン／α−オレフィン−インターポリマーが使用される場合には、これは特に、エチレン／α−オレフィン−インターポリマーの総質量に対して１５〜５０質量％の範囲内のα−オレフィン含有率を有する。好ましくは、このα−オレフィン含有率は、それぞれエチレン／α−オレフィン−インターポリマーの総質量に対して２０〜４５質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２５〜４０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２６〜３４質量％の範囲内であり、最も好ましくは２８〜３３質量％の範囲内である。

ポリオレフィン共重合体がエチレン・酢酸ビニル共重合体である好ましい一実施態様においては、このエチレン・酢酸ビニル共重合体は特に、このエチレン・酢酸ビニル共重合体の総質量に対して１５〜５０質量％の範囲内の酢酸ビニル含有率を有する。その場合には好ましくは、酢酸ビニル含有率は、それぞれこのエチレン・酢酸ビニル共重合体の総質量に対して２０〜４５質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２５〜４０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２６〜３４質量％の範囲内であり、最も好ましくは２８〜３３質量％の範囲内である。

その際、α−オレフィン含有率、特にエチレン・酢酸ビニル共重合体の場合には酢酸ビニルの含有率は、ＡＳＴＭＤ５５９４：１９９８［フーリエ変換赤外分光法によるエチレン・酢酸ビニル（ＥＶＡ）共重合体の酢酸ビニル含有率の測定］に記載されている方法により測定される。

その際、前記組成物（Ｂ）に含まれる前記組成物（Ａ）の割合に特に制限はない。前記組成物（Ｂ）中の前記組成物（Ａ）の割合は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０５〜１０質量％の範囲内であり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲内であり、さらに好ましくは０．２〜３質量％の範囲内であり、さらに好ましくは０．３〜１．５質量％の範囲内であり、特に好ましくは０．５質量％である。

前記組成物（Ｂ）は、本発明によれば、例えば太陽電池のような電子デバイス用封止膜の製造に適している。そのために、前記組成物（Ｂ）はソーラーモジュール積層の際に架橋反応に供される。

架橋反応の開始時には、通常は、開始剤、すなわち、熱、光、水分又は電子線により活性化可能なラジカル発生剤が使用される。

従って、本発明の好ましい一実施態様においては、前記組成物（Ｂ）は、ペルオキシド系化合物、アゾ化合物、光開始剤からなる群から選択される開始剤をも含む。さらに好ましくは、この開始剤は、ペルオキシド系化合物、アゾ化合物からなる群から選択される。その例は、“Encyclopedia of Chemical Technology 1992, 3rd Edition, Vol. 17, p.27-90”に記載されている。

ペルオキシド系化合物は特に、ジアルキルペルオキシド、ジペルオキシケタール、ペルオキシカルボン酸エステル、ペルオキシカーボナートからなる群から選択される有機ペルオキシドである。

ジアルキルペルオキシドは特に、ジクミルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルペルオキシド、イソ−プロピルクミル−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ヘキシルクミルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）−ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−ヘキサ−３−イン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）−ヘキサ−３−イン、α，α−ジ［（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−イソ−プロピル］−ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−アミルペルオキシド、１，３，５−トリ−［（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−イソプロピル］−ベンゼン、１，３−ジメチル−３−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−ブタノール、１，３−ジメチル−３−（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）−ブタノール、イソ−プロピルクミルヒドロペルオキシドからなる群から選択される。

ジペルオキシケタールは特に、１，１−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）バレラート、エチル−３，３−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ブチラート、２，２−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ブタン、３，６，６，９，９−ペンタメチル−３−エトキシカルボニルメチル−１，２，４，５−テトラオキサシクロノナン、２，２−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）プロパン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）バレラートからなる群から選択される。

ペルオキシカルボン酸エステルは特に、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシアセタート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノアート、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシベンゾアート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシアセタート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾアート、ＯＯ−ｔｅｒｔ−ブチルモノペルオキシスクシナート、ＯＯ−ｔｅｒｔ−アミルモノペルオキシスクシナートからなる群から選択される。

ペルオキシカーボナートは特に、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−イソ−プロピルカーボナート、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシベンゾアートからなる群から選択される。好ましいペルオキシカーボナートは、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート（「ＴＢＰＥＨＣ」）である。

前記アゾ化合物は、好ましくは、２，２’−アゾビス−（２−アセトキシプロパン）、１，１’−アゾジ（ヘキサヒドロベンゾニトリル）からなる群から選択される。

特に好ましくは、前記開始剤は、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−ヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノアート、１，１−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナートからなる群から選択され、最も好ましくは、開始剤はｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート（「ＴＢＰＥＨＣ」）である。

前記ポリオレフィン共重合体の質量に対して使用される前記ペルオキシド系化合物又は前記アゾ化合物の、好ましくは前記ペルオキシド系化合物の質量に、特に制限はない。前記ペルオキシド系化合物又は前記アゾ化合物、好ましくは前記ペルオキシド系化合物は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０５〜１０質量％の量で、好ましくは０．１〜５質量％の量で、さらに好ましくは０．５〜２質量％の量で使用される。

前記光開始剤は特に、ベンゾフェノン、ベンズアントロン、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−フェノキシジクロロアセトフェノン、２−ヒドロキシシクロヘキシルフェノン、２−ヒドロキシイソプロピルフェノン、１−フェニルプロパンジオン−２−（エトキシカルボニル）−オキシムからなる群から選択される。

前記光開始剤は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０５〜１０質量％の量で、好ましくは０．１〜５質量％の量で、さらに好ましくは０．２〜３質量％の量で、さらに好ましくは０．２５〜１質量％の量で使用される。

本発明のもう一つの実施形態においては、前記組成物（Ｂ）はさらに、架橋剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、金属酸化物、金属水酸化物、白色顔料からなる群から選択される少なくとも１種のさらなる化合物を含み、その際、さらなる化合物として特に好ましくはシランカップリング剤が使用される。

その際、「さらなる化合物」という概念は、本発明の意味では、このさらなる化合物がトリアリルイソシアヌレートやトリアリルシアヌレートや前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物ではないことを含意する。

その際、架橋剤は、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジビニルベンゼン、多価アルコールのアクリレート及びメタクリレートからなる群から選択される。多価アルコールのアクリレート及びメタクリレートは特に、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される。

前記組成物（Ｂ）に含まれる架橋剤の割合に、特に制限はない。前記組成物（Ｂ）中の前記架橋剤の割合は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．００５〜５質量％であり、好ましくは０．０１〜３質量％であり、さらに好ましくは０．０５〜３質量％であり、さらに好ましくは０．１〜１．５質量％である。

本発明により前記組成物（Ｂ）中で使用可能なシランカップリング剤としては、不飽和炭化水素基と加水分解性基とを有する全てのシランが考慮される（例えば欧州特許第２４３６７０１号明細書、米国特許第５，２６６，６２７号明細書に記載）。

不飽和炭化水素基は特に、ビニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、シクロヘキセニル、γ−（メタ）アクリルオキシアリルからなる群から選択される。

加水分解性基は特に、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルボニルオキシ、ヒドロカルビルアミノからなる群から選択される。好ましい加水分解性基は、メトキシ、エトキシ、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、アルキルアミノ、アリールアミノからなる群から選択される。

好ましくは、前記シランカップリング剤は、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス−（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エトキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランからなる群から選択される。特に好ましくは、前記シランカップリング剤としてγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（省略して「ＫＢＭ」と称される）が使用される。

その際、前記組成物（Ｂ）に含まれるシランカップリング剤の割合に、特に制限はない。前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのシランカップリング剤の割合は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０５〜５質量％であり、好ましくは０．１〜２質量％である。

酸化防止剤は、本発明の意味において、好ましくはフェノール系酸化防止剤、含リン酸化防止剤からなる群から選択される。

フェノール系酸化防止剤は特に、４−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート、ペンタエリトリットテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステルからなる群から選択される。

含リン酸化防止剤は特に、トリフェニルホスフィット、トリス−（ノニルフェニル）ホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、テトラ−（トリデシル）−１，１，３−トリス−（２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタンジホスファート、テトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニルジホスホニットからなる群から選択される。

その際、前記組成物（Ｂ）に含まれる酸化防止剤の割合に、特に制限はない。前記組成物（Ｂ）に含まれる全ての酸化防止剤の割合は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０１〜０．５質量％であり、好ましくは０．０５〜０．３質量％である。

老化防止剤は、本発明の意味においては特に、ヒンダードアミン系光安定剤（hindered amine light stabilizers＝「ＨＡＬＳ」安定剤）及びＵＶ吸収剤の群から選択される。

ＨＡＬＳ安定剤は、本発明の意味においては特に、少なくとも１つの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を有する化合物であって、その際、ピペリジル基の１位の窒素原子は、Ｈ、アルキル基又はアルコキシ基を有するものとする前記化合物である。

好ましくは、ＨＡＬＳ安定剤は、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバカート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバカート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバカート、ビス−（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバカート、ＣＡＳ番号８２４５１−４８−７を有するポリ｛（６−モルホリノ−Ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）［２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］｝、ＣＡＳ番号１９３０９８−４０−７の重合体、ジメチルスクシナートと１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールからの共重合体、ＣＡＳ番号１０６９９０−４３−６を有するＮ，Ｎ'，Ｎ''，Ｎ'''−テトラキス−｛４，６−ビス［ブチル（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ］トリアジン−２−イル｝−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミンからなる群から選択される。

その際、前記組成物（Ｂ）に含まれるＨＡＬＳ安定剤の割合に、特に制限はない。前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのＨＡＬＳ安定剤の割合は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０１〜０．５質量％であり、好ましくは０．０５〜０．３質量％である。

ＵＶ吸収剤は特に、２−ヒドロキシ−４−Ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−カルボキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、ｐ−オクチルフェニルサリチラート、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］フェノール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートからなる群から選択される。

その際、前記組成物（Ｂ）に含まれるＵＶ吸収剤の割合に、特に制限はない。前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのＵＶ吸収剤の割合は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０１〜０．５質量％であり、好ましくは０．０５〜０．３質量％である。

金属酸化物は、本発明によれば特に、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、酸化亜鉛からなる群から選択され、好ましくは、酸化マグネシウム、酸化亜鉛からなる群から選択される。

その際、前記組成物（Ｂ）に含まれる金属酸化物の割合に、特に制限はない。前記組成物（Ｂ）に含まれる全ての金属酸化物の割合は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０１〜１０質量％であり、好ましくは０．０５〜３質量％である。

金属水酸化物は、本発明によれば特に、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物からなる群から選択され、好ましくは、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムからなる群から選択される。

その際、前記組成物（Ｂ）に含まれる金属水酸化物の割合に、特に制限はない。前記組成物（Ｂ）に含まれる全ての金属水酸化物の割合は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０１〜１０質量％であり、好ましくは０．０５〜３質量％である。

白色顔料は、本発明の意味においては特に、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫酸バリウム、リトポンからなる群から選択される。

その際、前記組成物（Ｂ）に含まれる白色顔料の割合に、特に制限はない。前記組成物（Ｂ）に含まれる全ての白色顔料の割合は、それぞれ前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に５〜２５質量％であり、好ましくは１０〜２０質量％であり、さらに好ましくは１５質量％である。

前記重合体組成物（Ｂ）は、本発明のもう一つの態様においては、電子デバイス、特に太陽電池の封止膜の製造に使用される。

その際、前記組成物（Ｂ）は、最初に、前記組成物（Ａ）とそれぞれの添加剤とポリオレフィン共重合体との混合により製造される。これは特に、ミキサー中で、添加剤を液状で、すなわちそのままか又は溶剤中の溶液として前記組成物（Ｂ）に添加することにより行われる。その後、液体が完全に重合体造粒体に吸収されるまでの間、撹拌されるか、又は混合物が運動状態に保たれる。その後、場合により使用される溶剤が、真空引きにより除去される。

第二の工程において、この重合体調製物が押出機で押出成形されてフィルムが生成される。その際、前記組成物（Ｂ）は連続的に配量スクリューを通じて押出機に供給され、この押出機中で重合体が溶融され、かつ添加剤が混合物の混練により重合体マトリックス中に均一に分配される。押出機の出口で、溶融物はスロットダイを通過する。ダイの後に、フィルムはローラー系により引き出され、後冷却されて巻取られる。

また、添加剤又は添加剤混合物は、充填スタブを通じて、又は側方配量部を通じて、フィルム押出機に直接配量されてもよい。

以下の実施例により本発明を詳説するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。

用いられる略称
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン＝ＫＢＭ
ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート＝ＴＢＰＥＨＣ
トリアリルイソシアヌレート＝ＴＡＩＣ
トリアリルシアヌレート＝ＴＡＣ
使用される化学薬品
以下で使用されるトリアリルイソシアヌレートは、Evonik Industries AG社製「TAICROS（登録商標）」である。

以下で使用されるトリアリルシアヌレートは、Evonik Industries AG社製「TAC」である。

以下で使用されるγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランは、Evonik Industries AG社製「Dynasylan Memo（登録商標）」である。

以下で使用されるＥＶＡは、２８．３質量％の酢酸ビニル含有率を有するArkema社製「EVATANE 28-40（登録商標）」である。

以下で使用されるｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート（＝「ＴＢＰＥＨＣ」）は、United Initiators社製である。

ジアリル−Ｎ−プロピル−イソシアヌレート（ＣＡＳ：５３２０−２５−２）は、ABCR GmbH社製である。

イミノ二酢酸ジエチルエステル（ＣＡＳ：６２９０−０５−７）は、ABCR GmbH社製である。

アリルアミン（ＣＡＳ：１０７−１１−９）は、ABCR GmbH社製である。

１．合成
１．１トリアリルビウレット
トリアリルビウレットを、水性アルカリ媒体中でのトリアリルイソシアヌレートの開環により、以下のように得た：
撹拌翼を備えた３Ｌ二重ジャケット式反応器中に、４０％ＮａＯＨ溶液８３０ｇ（２０．８モル）及び水１３３０ｇ（７３．８モル）を装入し、９５℃に加熱した。トリアリルイソシアヌレート８００ｇ（３．２モル）の添加後、このコロイド溶液を９５℃で４時間、集中的に撹拌した。有機相を蒸留水で数回洗浄し、次いで真空中で乾燥させた。収量は、純度９７．４％のトリアリルビウレット６７７．２ｇ（３．０３モル）であった（ガスクロマトグラフィーにより測定）。

１．２Ｎ−プロピル−ジアリルビウレット
Ｎ−プロピル−ジアリルビウレットを、水性アルカリ媒体中でのジアリル−Ｎ−プロピル−イソシアヌレートの開環により、以下のように得た：
ジアリル−Ｎ−プロピル−イソシアヌレート１．０ｇ（４．０ミリモル）を、水１．５ｇ及び４０％ＮａＯＨ溶液１．０ｇ中で、９５℃で１５時間、集中的に撹拌した。生成物が収率９６％で得られた。蒸留水で数回洗浄することにより精製を行った。

１．３イミノ−ジ−（酢酸−Ｎ−アリルアミド）
イミノ二酢酸ジエチルエステル（ＣＡＳ：６２９０−０５−７）２ｇ（１０．６ミリモル）及びアリルアミン（ＣＡＳ：１０７−１１−９）３ｇ（５２ミリモル）を圧力反応器中に装入し、次いで９０℃〜１００℃で２〜３時間加熱した。次いで、遊離エタノール及び過剰のアリルアミンを分別蒸留により留去し、この分離除去したアリルアミンを、次いで反応溶液に再度供給した。この反応混合物を再度２〜３時間加熱し、完全な転化率が得られるまでこの手順を３回繰り返した（完全な転化率をＨＰＬＣにより測定した）。エタノール及びアリルアミンの残分を真空中で除去した。

２．例配合物の製造
２．１比較例Ｖ１
トリアリルイソシアヌレート２．５ｇ（１０．０ミリモル）を、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例１
ＴＡＩＣ２．４８ｇ（９．９５ミリモル）を、トリアリルビウレット（モル質量２２３．２７ｇ／モル）０．０５ｇ（０．２３ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例２
ＴＡＩＣ２．４２ｇ（９．７３ミリモル）を、トリアリルビウレット０．０７６ｇ（０．３４ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例３
ＴＡＩＣ２．３８ｇ（９．５３ミリモル）を、トリアリルビウレット０．１２５ｇ（０．５６ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例４
ＴＡＩＣ２．３５ｇ（９．４３ミリモル）を、トリアリルビウレット０．１５０ｇ（０．６７ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例５
ＴＡＩＣ２．２５ｇ（９．０３ミリモル）を、トリアリルビウレット０．２５０ｇ（１．１２ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例６
ＴＡＩＣ２．００ｇ（８．０２ミリモル）を、トリアリルビウレット０．５００ｇ（２．２４ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例７
ＴＡＩＣ２．４５ｇ（９．８３ミリモル）を、Ｎ−プロピル−ジアリルビウレット（モル質量：２２５．２７ｇ／モル）０．０４ｇ（０．１９ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例８
ＴＡＩＣ２．４７ｇ（９．９３ミリモル）を、イミノ−ジ−（酢酸−Ｎ−アリルアミド）（モル質量：２１１．２５ｇ／モル）０．０２５ｇ（０．１２ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと一緒に均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例９
ＴＡＩＣ２．４５ｇ（９．８３ミリモル）を、イミノ−ジ−（酢酸−Ｎ−アリルアミド）０．０５２ｇ（０．２５ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと一緒に均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例１０
ＴＡＩＣ２．４０ｇ（９．６３ミリモル）を、イミノ−ジ−（酢酸−Ｎ−アリルアミド）０．１０６ｇ（０．５０ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと一緒に均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

比較例Ｖ２
トリアリルシアヌレート（＝「ＴＡＣ」）２．５ｇ（１０ミリモル）を、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例１１
ＴＡＣ２．４３ｇ（９．７３ミリモル）を、トリアリルビウレット０．０７５ｇ（０．３４ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと一緒に均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例１２
ＴＡＣ２．３８ｇ（９．５３ミリモル）を、トリアリルビウレット０．１２５ｇ（０．５６ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと一緒に均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

実施例１３
ＴＡＣ２．２５ｇ（９．０３ミリモル）を、トリアリルビウレット０．２５ｇ（１．１１ミリモル）、ＫＢＭ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ４．０ｇと一緒に均質に混合した。この混合物をＥＶＡ４９３ｇに一様に分配させ、そのようにして得られた添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。

３．フィルム押出成形
ＥＶＡフィルムを製造するために、実施例Ｖ１、Ｖ２、１〜１３に記載した通りに製造した調製ＥＶＡ造粒体を、体積測定により二軸スクリュー実験室用押出機（Collin社製）中で配量した。ＥＶＡ溶融物を調整可能なスリット幅を有するスロットダイ（１０ｃｍ）によって押出し、フィルムを連続的にローラー系上で水で２０℃に後冷却し、次いで巻取った。押出機の設定を以下に示す：

４．フィルム積層
ＥＶＡフィルムの積層を、１５０℃（機器設定）でテフロン剥離フィルム間で行い、その際、相応する温度を積層プロセス全体にわたって一定に保持した。一段の脱気工程の期間は１００ｓであった。次いで、試験体を０．７ｋｇ／ｃｍ²の接触圧力で圧縮した。積層装置内の滞留時間は２０分であった。

５．比抵抗ρの測定
架橋された厚さ４００〜５００μｍのＥＶＡフィルムの抵抗を測定するために、まず約８×８ｃｍの寸法を有する試験体を、室温（２２．５℃）で相対空中湿度５０％で７日間貯蔵し、それによって、確実にこのＥＶＡフィルム内部での水分レベルが一定となるようにした。

抵抗測定を、Keithley社製オーム計（6517B）及び同様にKeithley社製の相応する測定セル（「resistivity test fixture 8009」）を用いて実施した。ＡＳＴＭＤ−２５７に準拠して、この試験体に５００Ｖの電圧を６０秒間印加し、この時間の後に電流を測定した。抵抗ρ（ＶＲ）は、既知のパラメータから算出することができる。

６．例配合物の抵抗測定の結果
６．１比較例Ｖ１、本発明による実施例１〜１０
以下の第１表に、比較例Ｖ１により得られたＥＶＡ造粒体を用いて製造されたフィルムについて測定したＶＲ値と、本発明による実施例１〜１０により得られたＥＶＡ造粒体を用いて製造されたフィルムについて測定したＶＲ値とを示す。その際、これらの共架橋剤系は、ＴＡＩＣ及びそれぞれ第１表に示される架橋添加剤を、同様に第１表に示す量で含む。

６．２比較例Ｖ２、本発明による実施例１１〜１３
以下の第２表に、比較例Ｖ２により得られたＥＶＡ造粒体を用いて製造されたフィルムについて測定したＶＲ値と、本発明による実施例１１〜１３により得られたＥＶＡ造粒体を用いて製造されたフィルムについて測定したＶＲ値とを示す。その際、それぞれの共架橋剤系は、ＴＡＣ及びトリアリルビウレットを第２表に示す量で含む。

第１表及び第２表に示す結果は、本発明による共架橋剤系、すなわち組成物（Ａ）を用いることで、高い比抵抗を有するフィルムが得られることを実証している。本発明による共架橋剤系を用いて製造されたフィルムの全てのＶＲ値は、従来技術による共架橋剤であるＴＡＩＣないしＴＡＣを用いて得られたフィルムの値よりも高い。

［本発明の態様］
１．以下：
（ｉ）トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレートからなる群から選択される少なくとも１種の化合物（Ｉ）；及び
（ｉｉ）一般に以下の構造式：

により定義される少なくとも１種の化合物（ＩＩ）；
を含む組成物（Ａ）であって、
ここで、
Ａ¹、Ａ²は、互いに無関係にそれぞれ、少なくとも１つの末端二重結合を有する、３〜１８個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルケニル基、化学構造式（ＩＩＩ）：

［式中、
Ｒ⁴は、水素又はメチルであり、
Ａ⁴は、１〜１２個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
その際、ｎ、ｐ、ｑは、互いに無関係にそれぞれ、１〜５の範囲内の整数であり、
その際、前記組成物（Ａ）に含まれる少なくとも１種の化合物（ＩＩ）は、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して少なくとも１質量％の割合で存在する、前記組成物（Ａ）。

２．１に記載の組成物（Ａ）であって、前記化合物（Ｉ）がトリアリルイソシアヌレートである、前記組成物（Ａ）。

３．１又は２に記載の組成物（Ａ）であって、
Ａ¹、Ａ²が、互いに無関係にそれぞれ、アリル基、メタリル基、化学構造式（ＩＩＩ）：

［式中、
Ｒ¹は、水素又はメチルであり、
Ａ³は、１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
Ｂが、−ＮＲ²−、−ＣＨ₂−ＮＨ−ＣＨ₂−、及び化学構造式（ＩＶ）：

［式中、
Ｒ⁴は、水素又はメチルであり、
Ａ⁴は、１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
その際、ｎは、１〜３の範囲内の整数である、前記組成物（Ａ）。

４．３に記載の組成物（Ａ）であって、前記化合物（ＩＩ）が、化学構造式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）：

［式中、
Ｒ⁵は、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリル基、メタリル基からなる群から選択され、
Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｑ⁵は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルである］
で示される化合物からなる群から選択される、前記組成物（Ａ）。

５．１から４までのいずれか１つに記載の組成物（Ａ）であって、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（ＩＩ）の総質量が、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して１〜５０質量％である、前記組成物（Ａ）。

６．少なくとも１種のポリオレフィン共重合体と、１から５までのいずれか１つに記載の組成物（Ａ）とを含む、組成物（Ｂ）。

７．６に記載の組成物（Ｂ）であって、前記ポリオレフィン共重合体がエチレン・酢酸ビニル共重合体である、前記組成物（Ｂ）。

８．７に記載の組成物（Ｂ）であって、前記エチレン・酢酸ビニル共重合体が、ＡＳＴＭＤ５５９４：１９９８により測定して、前記エチレン・酢酸ビニル共重合体の総質量に対して１５〜５０質量％の酢酸ビニル含有率を有する、前記組成物（Ｂ）。

９．６から８までのいずれか１つに記載の組成物（Ｂ）であって、前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対する前記組成物（Ａ）の割合が、０．０５〜１０質量％である、前記組成物（Ｂ）。

１０．６から９までのいずれか１つに記載の組成物（Ｂ）であって、前記組成物（Ｂ）がさらに、ペルオキシド系化合物、アゾ化合物、光開始剤からなる群から選択される少なくとも１種の開始剤を含む、前記組成物（Ｂ）。

１１．１０に記載の組成物（Ｂ）であって、前記開始剤がペルオキシド系化合物である、前記組成物（Ｂ）。

１２．６から１１までのいずれか１つに記載の組成物（Ｂ）であって、前記組成物（Ｂ）がさらに、架橋剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、金属酸化物、金属水酸化物、白色顔料からなる群から選択される少なくとも１種のさらなる化合物を含む、前記組成物（Ｂ）。

１３．１２に記載の組成物（Ｂ）であって、前記さらなる化合物がシランカップリング剤である、前記組成物（Ｂ）。

１４．電子デバイスの封止膜を製造するための、６から１３までのいずれか１つに記載の組成物（Ｂ）の使用。

Claims

以下：
（ｉ）トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレートからなる群から選択される少なくとも１種の化合物（Ｉ）；及び
（ｉｉ）以下の構造式：

により定義される少なくとも１種の化合物（ＩＩ）；
を含む組成物（Ａ）であって、
ここで、
Ａ¹、Ａ²は、互いに無関係にそれぞれ、少なくとも１つの末端二重結合を有する、３〜１８個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルケニル基、化学構造式（ＩＩＩ）：

［式中、
Ｒ¹は、水素又はメチルであり、
Ａ³は、１〜１２個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
Ｂは、−ＮＲ²−、化学構造式−（ＣＨ₂）_p−ＮＲ³−（ＣＨ₂）_q−で示される基、及び化学構造式（ＩＶ）：

で示される基からなる群から選択され、ここで、
Ｒ²、Ｒ³は、互いに無関係にそれぞれ、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、少なくとも１つの末端二重結合を有する、３〜１８個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルケニル基、化学構造式（Ｖ）：

［式中、
Ｒ⁴は、水素又はメチルであり、
Ａ⁴は、１〜１２個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
その際、ｎ、ｐ、ｑは、互いに無関係にそれぞれ、１〜５の範囲内の整数であり、
その際、前記組成物（Ａ）に含まれる少なくとも１種の化合物（ＩＩ）は、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して少なくとも１質量％の割合で存在する、前記組成物（Ａ）。
請求項１に記載の組成物（Ａ）であって、前記化合物（Ｉ）がトリアリルイソシアヌレートである、前記組成物（Ａ）。
請求項１又は２に記載の組成物（Ａ）であって、
Ａ¹、Ａ²が、互いに無関係にそれぞれ、アリル基、メタリル基、化学構造式（ＩＩＩ）：

［式中、
Ｒ¹は、水素又はメチルであり、
Ａ³は、１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
Ｂが、−ＮＲ²−、−ＣＨ₂−ＮＨ−ＣＨ₂−、及び化学構造式（ＩＶ）：

で示される基からなる群から選択され、
その際、Ｒ²は、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリル基、メタリル基、化学構造式（Ｖ）：

［式中、
Ｒ⁴は、水素又はメチルであり、
Ａ⁴は、１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基である］
で示される基からなる群から選択され、
その際、ｎは、１〜３の範囲内の整数である、前記組成物（Ａ）。
請求項３に記載の組成物（Ａ）であって、前記化合物（ＩＩ）が、化学構造式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）：

［式中、
Ｒ⁵は、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、アリル基、メタリル基からなる群から選択され、
Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｑ⁵は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルである］
で示される化合物からなる群から選択される、前記組成物（Ａ）。
請求項１から４までのいずれか１項に記載の組成物（Ａ）であって、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（ＩＩ）の総質量が、前記組成物（Ａ）に含まれる全ての化合物（Ｉ）の総質量に対して１〜５０質量％である、前記組成物（Ａ）。
少なくとも１種のポリオレフィン共重合体と、請求項１から５までのいずれか１項に記載の組成物（Ａ）とを含む、組成物（Ｂ）。
請求項６に記載の組成物（Ｂ）であって、前記ポリオレフィン共重合体がエチレン・酢酸ビニル共重合体である、前記組成物（Ｂ）。
請求項７に記載の組成物（Ｂ）であって、前記エチレン・酢酸ビニル共重合体が、ＡＳＴＭＤ５５９４：１９９８により測定して、前記エチレン・酢酸ビニル共重合体の総質量に対して１５〜５０質量％の酢酸ビニル含有率を有する、前記組成物（Ｂ）。
請求項６から８までのいずれか１項に記載の組成物（Ｂ）であって、前記組成物（Ｂ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対する前記組成物（Ａ）の割合が、０．０５〜１０質量％である、前記組成物（Ｂ）。
請求項６から９までのいずれか１項に記載の組成物（Ｂ）であって、前記組成物（Ｂ）がさらに、ペルオキシド系化合物、アゾ化合物、光開始剤からなる群から選択される少なくとも１種の開始剤を含む、前記組成物（Ｂ）。
請求項１０に記載の組成物（Ｂ）であって、前記開始剤がペルオキシド系化合物である、前記組成物（Ｂ）。
請求項６から１１までのいずれか１項に記載の組成物（Ｂ）であって、前記組成物（Ｂ）がさらに、架橋剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、金属酸化物、金属水酸化物、白色顔料からなる群から選択される少なくとも１種のさらなる化合物を含む、前記組成物（Ｂ）。
請求項１２に記載の組成物（Ｂ）であって、前記さらなる化合物がシランカップリング剤である、前記組成物（Ｂ）。
電子デバイスの封止膜を製造するための、請求項６から１３までのいずれか１項に記載の組成物（Ｂ）の使用。