JP6603710B2 - 導電パターン製造用エッチ抵抗性インクジェットインク - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims description 110
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 57
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 57
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 36
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 31
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 24
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 19
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 11
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 9
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 claims description 7
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical group C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 claims description 5
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical group OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical group N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WDFFWUVELIFAOP-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluoro-4-nitroaniline Chemical compound NC1=C(F)C=C([N+]([O-])=O)C=C1F WDFFWUVELIFAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KNSXNCFKSZZHEA-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C KNSXNCFKSZZHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- WUJSANDCMGDCAS-UHFFFAOYSA-N (2,2-dimethyl-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate;[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C=C.C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C WUJSANDCMGDCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 claims 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 22
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 19
- -1 aromatic acrylate compounds Chemical class 0.000 description 18
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 18
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 14
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 14
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 12
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 11
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 10
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 241001479434 Agfa Species 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010546 Norrish type I reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010547 Norrish type II reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 3
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical class C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000720524 Gordonia sp. (strain TY-5) Acetone monooxygenase (methyl acetate-forming) Proteins 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 231100001010 corrosive Toxicity 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229930000044 secondary metabolite Natural products 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- TZPCGEVFZZYCIY-UHFFFAOYSA-N 1-octylsulfonyloctane Chemical compound CCCCCCCCS(=O)(=O)CCCCCCCC TZPCGEVFZZYCIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDAUZPCVKLTZPV-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol 2,2-dimethylpropaneperoxoic acid prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CC(C)(CO)CO.CC(C)(C)C(=O)OO VDAUZPCVKLTZPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PASIEQDVKZQWRI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O PASIEQDVKZQWRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URQQDYIVGXOEDA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethenoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=COCCOCCOC(=O)C=C URQQDYIVGXOEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOCCOC(=O)C=C FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-L 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl phosphate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP([O-])([O-])=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QHVBLSNVXDSMEB-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C=C QHVBLSNVXDSMEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXBXJOWBDCQIHF-UHFFFAOYSA-N 2-[hydroxy-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phosphoryl]oxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(=O)OCCOC(=O)C(C)=C NXBXJOWBDCQIHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLZHVHESHDZRD-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl 2-methylprop-2-enoate;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.CC(=C)C(=O)OCCO POLZHVHESHDZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical group C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- HWNIMFWVBMOWHI-UHFFFAOYSA-N 2-morpholin-4-ylethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN1CCOCC1 HWNIMFWVBMOWHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical group NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFBALPQGUUDWRM-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(3-oxopent-4-enoxy)butanoic acid Chemical group C=CC(=O)CCOC(=O)CCC(=O)O BFBALPQGUUDWRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(C)C)=CC=C2 IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C=C LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000028 Gradient copolymer Polymers 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical group CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229920005692 JONCRYL® Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N Padimate O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDGDYAHBIXFCIS-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethylbenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethylphenyl)methanone Chemical compound CC=1C=CC=C(C)C=1C(=O)P(=O)(CC(CC(C)(C)C)C)C(=O)C1=C(C)C=CC=C1C BDGDYAHBIXFCIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKSISPKJEMTIGI-LWTKGLMZSA-K aluminum (Z)-oxido-oxidoimino-phenylazanium Chemical compound [Al+3].[O-]\N=[N+](/[O-])c1ccccc1.[O-]\N=[N+](/[O-])c1ccccc1.[O-]\N=[N+](/[O-])c1ccccc1 MKSISPKJEMTIGI-LWTKGLMZSA-K 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229940064734 aminobenzoate Drugs 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N chelidonic acid Natural products OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000002894 chemical waste Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- GDEBSAWXIHEMNF-UHFFFAOYSA-O cupferron Chemical compound [NH4+].O=NN([O-])C1=CC=CC=C1 GDEBSAWXIHEMNF-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000004985 dialkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000012949 free radical photoinitiator Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000010808 liquid waste Substances 0.000 description 1
- 239000004579 marble Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXTZRIBXKVRLOA-UHFFFAOYSA-N padimate a Chemical compound CCCCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 LXTZRIBXKVRLOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- WDHYRUBXLGOLKR-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OP(O)(O)=O WDHYRUBXLGOLKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229940074404 sodium succinate Drugs 0.000 description 1
- ZDQYSKICYIVCPN-UHFFFAOYSA-L sodium succinate (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)CCC([O-])=O ZDQYSKICYIVCPN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004426 substituted alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003510 tertiary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
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- B44B—MACHINES, APPARATUS OR TOOLS FOR ARTISTIC WORK, e.g. FOR SCULPTURING, GUILLOCHING, CARVING, BRANDING, INLAYING
- B44B5/00—Machines or apparatus for embossing decorations or marks, e.g. embossing coins
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- B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
- B44C1/22—Removing surface-material, e.g. by engraving, by etching
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- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
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- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
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- C09D11/106—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
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Description
ラメチルアンモニウムなどが基になっている。そのようなストリッピング溶液は三次元構造を有する架橋点(レジストを重合させている間に生じる)の所の重合体鎖をレジストと銅表面の間の結合が破壊される前に分解させる。ストリッピング溶液の作業寿命を長くするには、レジストの剥がれた薄片を除去する目的でその溶液を濾過する必要がある。その薄片の大きさがあまりにも大きいと、それがストリッピング装置に粘着する傾向があることで、製造工程の滑らかな稼働が邪魔される。その薄片があまりにも小さいと、それらはフィルターを通り抜けてストリッピング溶液の中に戻ってしまう。しばらくするとそのような小さな薄片が集積することでまた製造工程の滑らかな稼働が邪魔され始める。そのような非常に小さな薄片はストリッピングラインのスプレーノズルを詰まらせる傾向がある。剥がれる薄片の大きさは、ストリッピング溶液の種類、ストリッピング溶液の濃度、ストリッピング溶液の温度およびストリッピング装置のデザインなどに依存する。このような数多くの影響を与える要因によって薄片の大きさを所望の大きさに制御するのは非常に困難である。
定義
用語“単官能”は、単量体またはオリゴマーが含有するフリーラジカル重合性基が1個であることを意味する。
基である。
本発明の好適な態様に従う紫外線硬化性インクジェットインクは重合性組成物を含有して成り、ここで、前記重合性組成物の少なくとも80重量%、好適には少なくとも90重量%、最も好適には100重量%が、
a)15.0から70.0重量%の量のアクリルアミド類(以下、「アクリルアミド」ということもある)、
b)20.0から75.0重量%の量の多官能アクリレート、および
c)1.0から15.0重量%の量のカルボン酸基、燐酸基もしくはホスホン酸基含有単官能(メタ)アクリレート、
から成り、ここで、重量パーセント(重量%)は全部が前記重合性組成物の総重量が基になっている。
本発明の好適な態様に従うインクジェット印刷は、a)紫外線硬化性インクジェットインクを金属表面に印刷して硬化させることで前記金属表面に保護された領域を生じさせ、b)その金属表面の保護されていない領域から金属をエッチングで除去しそしてc)その金属表面の保護された領域から硬化した紫外線硬化性インクジェットインクを少なくともある程度除去する段階を包含し、ここで、前記紫外線硬化性インクジェットインクは重合性組成物を含有して成り、ここで、前記重合性組成物の少なくとも80重量%が、
a)15.0から70.0重量%の量のアクリルアミド、
b)20.0から75.0重量%の量の多官能アクリレート、および
c)1.0から15.0重量%の量のカルボン酸基、燐酸基もしくはホスホン酸基含有単官能(メタ)アクリレート、
から成り、ここで、重量パーセント(重量%)は全部が前記重合性組成物の総重量が基になっている。
Reagent、PicralおよびVilella’s Reagentが含まれる。
び三塩化鉄などが入っていてもよい。
本発明に従う紫外線硬化性インクジェットインクに含める重合性組成物にアクリルアミドを少なくとも15.0から70.0重量%、好適には少なくとも20.0から65.0重量%、最も好適には少なくとも30.0から60.0重量%含有させるが、重量パーセント(重量%)は全部が前記重合性組成物の総重量が基になっている。
本発明に従う紫外線硬化性インクジェットインクに含める重合性組成物に多官能アクリレートを少なくとも20.0から75.0重量%、好適には少なくとも30.0から65.0重量%、最も好適には少なくとも40.0から55.0重量%含有させるが、重量パーセント(重量%)は全部が前記重合性組成物の総重量が基になっている。
本発明に従う紫外線硬化性インクジェットインクに含める重合性組成物にカルボン酸基、燐酸基もしくはホスホン酸基を含有する(メタ)アクリレートを少なくとも1から15重量%、好適には少なくとも2から12重量%、最も好適には少なくとも4から8重量%含有させるが、重量パーセント(重量%)は全部が前記重合性組成物の総重量が基になっている。
Rは水素原子またはメチル基、好適には水素原子を表しそしてZは二価の有機基を表す]で表される化合物が含まれる。
この上に示した重合性化合物以外の他の重合性化合物を本紫外線硬化性インクジェットインクに0から20重量%、より好適には15重量%以下、最も好適には10重量%以下の量で存在させてもよいが、重量パーセント(重量%)は全部が前記重合性組成物の総重量が基になっている。
本紫外線硬化性インクジェットは実質的に無色のインクジェットインクであってもよいが、好適には本紫外線硬化性インクジェットインクに少なくとも1種の着色剤を含有させる。その着色剤によって一時的マスクを導電パターン製造業者が明確に見ることができることで品質の可視的検査が可能になる。
dustrial Organic Pigments、Production、Properties、Applications、第3版、Wiley−VCH、2004、ISBN 3527305769に開示されているそれらから選択可能である。
本紫外線硬化性インクジェットインクに入れる着色剤が顔料の場合、その顔料を分散させる目的で、本紫外線硬化性インクジェットインクに好適には分散剤、より好適には高分子量分散剤を含有させる。
・ 単量体を統計学的に重合(例えば単量体AおよびBを重合させてABBAABABにする)、
・ 単量体を交互に重合させる(例えば単量体AおよびBを重合させてABABABABにする)、
・ 単量体を勾配(先細)重合させる(例えば単量体AおよびBを重合させてAAABAABBABBBにする)、
・ ブロック共重合体(例えば単量体AおよびBを重合させてAAAAABBBBBBにする)[ブロック各々のブロック長(2、3、4、5またはそれ以上)が高分子量分散剤の分散能力にとって重要である]、
・ グラフト共重合体(グラフト共重合体は重合体側鎖が重合体バックボーンに結合しているバックボーンで構成されている)、および
・ そのような重合体の混合形態、例えばブロック状勾配共重合体。
・ BYK CHEMIE GMBHから入手可能なDISPERBYKTM 分散剤、
・ NOVEONから入手可能なSOLSPERSETM 分散剤、
・ NOVEONのTEGOTM DISPERSTM 分散剤、
・ MUENZING CHEMIEのEDAPLANTM 分散剤、
・ LYONDELLのETHACRYLTM 分散剤、
・ ISPのGANEXTM 分散剤、
・ CIBA SPECIALTY CHEMICALS INCのDISPEXTM およびEFKATM 分散剤、
・ DEUCHEMのDISPONERTM 分散剤、および
・ JOHNSON POLYMERのJONCRYLTM 分散剤。
本紫外線硬化性インクジェットインクに少なくとも1種の光開始剤を含有させるが、複数の光開始剤および/または共開始剤を含有する光開始系を含有させることも可能である。
0、IrgacureTM 369、IrgacureTM 1700、IrgacureTM
651、IrgacureTM 819、IrgacureTM 1000、IrgacureTM 1300、IrgacureTM 1870、DarocurTM 1173、DarocurTM 2959、DarocurTM 4265およびDarocurTM ITX(CIBA SPECIALTY CHEMICALSから入手可能)、LucerinTM TPO(BASF AGから入手可能)、EsacureTM KT046、EsacureTM KIP150、EsacureTM KT37およびEsacureTM EDB(LAMBERTIから入手可能)、H−NuTM 470およびH−NuTM 470X(SPECTRA GROUP Ltd.から入手可能)が含まれる。
またはN−モルホリノアルキル−(メタ)アクリレート(例えばN−モルホリノエチル−アクリレート)。好適な共開始剤はアミノベンゾエートである。
本紫外線硬化性インクジェットインクの熱安定性を向上させる目的で本インクに少なくとも1種の禁止剤を含有させてもよい。
本紫外線硬化性インクジェットインクに少なくとも1種の界面活性剤を含有させてもよ
いが、好適には界面活性剤を存在させない。界面活性剤を存在させないと本紫外線硬化性インクジェットインクが金属板上に良好に拡散しないことで薄い導電ラインを生じさせることができなくなる可能性がある。
小さい液滴をノズルに通してプリントヘッド1個または2個以上と関連して動いている基質上に制御様式で噴出する1個以上のプリントヘッドを用いて本紫外線硬化性インクジェットインクを噴出させることができる。
ラミックが元々の形状にまで膨張することでインクの液滴がプリントヘッドから噴出される。しかしながら、本発明に従うインクジェット印刷方法を圧電インクジェット印刷に限定するものでない。他のインクジェットプリントヘッドも使用可能であり、それには様々な種類、例えば連続型などが含まれる。
紫外線硬化性インクジェットインクの硬化はそれを化学作用のある放射線、好適には紫外放射線に暴露させることで実施可能である。
・UV−A:400nmから320nm
・UV−B:320nmから290nm
・UV−C:290nmから100nm。
nm以上のもの、好適には波長が380nm以上の紫外LED、最も好適には波長が約395nm以上の紫外LEDを1個以上装備する。
以下の実施例で用いる材料は全部、特に明記しない限り、標準的供給源、例えばALDRICH CHEMICAL Co.(Belgium)およびACROS(Belgium)などから容易に入手可能であった。用いた水は脱イオン水であった。
1.硬化速度
銅板に印刷して硬化させた後のインクジェット層に指を触れる評価を受けさせた。評価を表5に記述する判断基準に従って行った。
エッチ抵抗性の評価をエッチングおよび濯ぎ直後の層を綿棒でこすることで実施した。評価を表6に記述する判断基準に従って行った。
エッチングして乾燥させたサンプルの打ち抜き片を6.25%のNaOH溶液が入っているビーカーにいれて50℃で撹拌した。インクジェット層が銅表面から剥がれる時間、即ち剥離時間を測定した。評価を表7に記述する判断基準に従って行った。
配合物が示す粘度の測定をCAMBRIDGE APPLIED SYSTEMSの“Robotic Viscometer Type VISCObot”を用いて45℃で実施した。
比較紫外線硬化性インクジェットインクであるCOMP−1からCOMP−11および発明紫外線硬化性インクであるINV−1からINV−16の調製を表9に示すタイプAまたはBの組成に従って実施した。重量パーセント(重量%)の全部を紫外線硬化性インクジェットインクの総重量を基準にした。
銅箔が35μmのIsolaTM IS400銅板(CCI Eurolamから入手可能)にMEC EuropeのMecbriteTM CA−95と呼ばれる溶液(これはpH<1であり、H2SO4、H2O2およびCu2+が入っている)を用いた洗浄を25℃で5秒間受けさせた。この操作中にCuの上部薄層(0.3−0.5μm)を除去した。次に、その板を水ジェットで90秒間濯いだ。
ドーパントとして添加されているHgランプを550mJ/cm2の出力で用いて硬化させた。硬化速度の評価を行って、その結果を表11に示す。
あるが(メタ)アクリレートである他の単量体に置き換えたか或はアクリルアミド、多官能アクリレートおよび酸単量体に関する範囲を無視した紫外線硬化性インクジェットインクは、導電パターン製造に関する要求の1つ以上を満たさなかった。
Claims (10)
- 重合性組成物を含有して成る紫外線硬化性インクジェットインクであって、前記重合性組成物の少なくとも80重量%が
a)15.0から70.0重量%の量のアクリルアミド類、
b)20.0から75.0重量%の量の多官能アクリレート、および
c)1.0から15.0重量%の量のカルボン酸基、燐酸基もしくはホスホン酸基含有単官能(メタ)アクリレート、
から成っていて、重量パーセント(重量%)の全部が前記重合性組成物の総重量が基になっており、前記アクリルアミド類がアクリロイルモルホリンである、紫外線硬化性インクジェットインク。 - カルボン酸基、燐酸基もしくはホスホン酸基含有(メタ)アクリレートが前記重合性組成物中に少なくとも1.5重量%存在する請求項1記載の紫外線硬化性インクジェットインク。
- 前記カルボン酸基、燐酸基もしくはホスホン酸基含有(メタ)アクリレートがアクリル酸2−カルボキシエチル、こはく酸2−アクリロイルエチルおよび2−ヒドロキシエチルメタアクリレートホスフェートから成る群より選択される請求項1から2のいずれか1項記載の紫外線硬化性インクジェットインク。
- 前記多官能アクリレートがジプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール(2xプロポキシル化)ジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エトキシル化tmpta、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジトリメチロイルプロパンテトラアクリレート、エトキシル化ペンタエリスリトールテトラアクリレートおよびポリエチレングリコールジアクリレートから成る群より選択される請求項1から3のいずれか1項記載の紫外線硬化性インクジェットインク。
- 前記重合性組成物が1種以上のアクリルアミド類、1種以上の多官能アクリレートおよび1種以上のカルボン酸基、燐酸基もしくはホスホン酸基含有(メタ)アクリレートから成る請求項1から4のいずれか1項記載の紫外線硬化性インクジェットインク。
- 界面活性剤を紫外線硬化性インクジェットインクの総重量を基準にして0から0.05重量%含有する請求項1から5のいずれか1項記載の紫外線硬化性インクジェットインク。
- インクジェット印刷方法であって、
a)金属表面に紫外線硬化性インクジェットインクを印刷して硬化させることで前記金属表面に保護された領域を生じさせ、
b)前記金属表面の保護されていない領域から金属をエッチングで除去し、そして
c)前記金属表面の前記保護された領域から硬化した紫外線硬化性インクジェットインクを少なくともある程度除去する、
段階を包含し、前記紫外線硬化性インクジェットインクが重合性組成物を含有して成っていて、前記重合性組成物の少なくとも80重量%が
a)15.0から70.0重量%の量のアクリルアミド類、
b)20.0から75.0重量%の量の多官能アクリレート、および
c)1.0から15.0重量%の量のカルボン酸基、燐酸基もしくはホスホン酸基含有(メタ)アクリレート、
から成ることを特徴とし、ここで、重量パーセント(重量%)の全部が前記重合性組成物の総重量が基になっており、前記アクリルアミド類がアクリロイルモルホリンである、インクジェット印刷方法。 - 前記重合性組成物の化合物にアクリロイルモルホリン、アクリル酸2−カルボキシエチル、2−ヒドロキシエチルメタアクリレートホスフェート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール(2xプロポキシル化)ジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートおよびアクリル酸2−(2−ビニルオキシ−エトキシ)−エチルから選択される群から選択した1種以上の化合物を含める請求項7記載のインクジェット印刷方法。
- 導電パターンの製造方法であって、請求項7から8のいずれか記載のインクジェット印刷方法を包含する方法。
- 装飾的にエッチングされた金属板の製造方法であって、請求項7から8のいずれか記載のインクジェット印刷方法を包含する方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP14186726.7A EP3000853B1 (en) | 2014-09-29 | 2014-09-29 | Etch-resistant inkjet inks for manufacturing conductive patterns |
EP14186726.7 | 2014-09-29 | ||
PCT/EP2015/071147 WO2016050504A1 (en) | 2014-09-29 | 2015-09-16 | Etch-resistant inkjet inks for manufacturing conductive patterns |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017537986A JP2017537986A (ja) | 2017-12-21 |
JP6603710B2 true JP6603710B2 (ja) | 2019-11-06 |
Family
ID=51619067
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017516865A Active JP6383104B2 (ja) | 2014-09-29 | 2015-06-01 | 金属品のデジタル製造 |
JP2017516851A Active JP6603710B2 (ja) | 2014-09-29 | 2015-09-16 | 導電パターン製造用エッチ抵抗性インクジェットインク |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017516865A Active JP6383104B2 (ja) | 2014-09-29 | 2015-06-01 | 金属品のデジタル製造 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US9938420B2 (ja) |
EP (3) | EP3000853B1 (ja) |
JP (2) | JP6383104B2 (ja) |
KR (1) | KR20170047357A (ja) |
CN (3) | CN107075283B (ja) |
ES (1) | ES2757933T3 (ja) |
WO (3) | WO2016050372A1 (ja) |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2915856B1 (en) * | 2014-03-03 | 2019-10-16 | Agfa-Gevaert | Etch-resistant inkjet inks for manufacturing conductive patterns |
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EP3321331B1 (en) | 2016-11-10 | 2020-10-21 | Agfa-Gevaert | Solder mask inkjet inks for manufacturing printed circuit boards |
CN109906253B (zh) | 2016-11-10 | 2022-02-01 | 爱克发-格法特公司 | 用于制造印刷电路板的阻焊喷墨油墨 |
EP3321330B1 (en) | 2016-11-10 | 2022-01-05 | Agfa-Gevaert Nv | Solder mask inkjet inks for manufacturing printed circuit boards |
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-
2014
- 2014-09-29 EP EP14186726.7A patent/EP3000853B1/en active Active
-
2015
- 2015-06-01 US US15/514,585 patent/US9938420B2/en active Active
- 2015-06-01 WO PCT/EP2015/062107 patent/WO2016050372A1/en active Application Filing
- 2015-06-01 US US15/514,588 patent/US10662532B2/en active Active
- 2015-06-01 WO PCT/EP2015/062105 patent/WO2016050371A1/en active Application Filing
- 2015-06-01 EP EP15729770.6A patent/EP3201278B1/en active Active
- 2015-06-01 JP JP2017516865A patent/JP6383104B2/ja active Active
- 2015-06-01 EP EP15724723.0A patent/EP3201277B1/en active Active
- 2015-06-01 CN CN201580052769.0A patent/CN107075283B/zh active Active
- 2015-06-01 ES ES15729770T patent/ES2757933T3/es active Active
- 2015-06-01 CN CN201580052758.2A patent/CN107074008A/zh active Pending
- 2015-09-16 US US15/514,582 patent/US20170218213A1/en not_active Abandoned
- 2015-09-16 KR KR1020177008549A patent/KR20170047357A/ko active Search and Examination
- 2015-09-16 CN CN201580052766.7A patent/CN106715607B/zh active Active
- 2015-09-16 WO PCT/EP2015/071147 patent/WO2016050504A1/en active Application Filing
- 2015-09-16 JP JP2017516851A patent/JP6603710B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3201278B1 (en) | 2019-10-09 |
CN107075283B (zh) | 2021-02-26 |
EP3201277B1 (en) | 2019-02-20 |
JP2017537986A (ja) | 2017-12-21 |
EP3201277A1 (en) | 2017-08-09 |
US20170226355A1 (en) | 2017-08-10 |
US20170218213A1 (en) | 2017-08-03 |
EP3201278A1 (en) | 2017-08-09 |
ES2757933T3 (es) | 2020-04-30 |
US9938420B2 (en) | 2018-04-10 |
US20170218520A1 (en) | 2017-08-03 |
CN106715607A (zh) | 2017-05-24 |
EP3000853B1 (en) | 2020-04-08 |
US10662532B2 (en) | 2020-05-26 |
KR20170047357A (ko) | 2017-05-04 |
CN107075283A (zh) | 2017-08-18 |
EP3000853A1 (en) | 2016-03-30 |
WO2016050372A1 (en) | 2016-04-07 |
WO2016050504A1 (en) | 2016-04-07 |
CN106715607B (zh) | 2020-08-07 |
CN107074008A (zh) | 2017-08-18 |
JP2017533814A (ja) | 2017-11-16 |
JP6383104B2 (ja) | 2018-08-29 |
WO2016050371A1 (en) | 2016-04-07 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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