JP7008517B2 - めっきマスク用硬化性組成物、マスク材及びめっきの除去方法 - Google Patents
めっきマスク用硬化性組成物、マスク材及びめっきの除去方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7008517B2 JP7008517B2 JP2018012621A JP2018012621A JP7008517B2 JP 7008517 B2 JP7008517 B2 JP 7008517B2 JP 2018012621 A JP2018012621 A JP 2018012621A JP 2018012621 A JP2018012621 A JP 2018012621A JP 7008517 B2 JP7008517 B2 JP 7008517B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- monomer
- curable composition
- mask
- mask material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
- C09D5/4476—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications comprising polymerisation in situ
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/085—Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
第一のモノマーは、(メタ)アクリロイル基及び酸性官能基を有し、第二のモノマーと共重合可能なモノマーである。
第二のモノマーは、(メタ)アクリロイル基及びベンゼン環を有し、第一のモノマーと共重合可能なモノマーである。
モノマー成分は、複数の重合性基を有する多官能モノマーを更に含有していてよい。モノマー成分が多官能モノマーを含有することで、めっきマスク用硬化性組成物の硬化速度が上昇(すなわち、速硬化性が向上)し、めっきマスク用硬化性組成物の硬化に要する時間をより短くすることができる。これにより、めっきマスク用硬化性組成物が公知の印刷手法等に適用しやすくなり、緻密なパターンを有するマスク材の形成が一層容易になる傾向がある。
光重合開始剤は、光照射によりモノマー成分の重合を開始できる成分であれば特に限定されず、アクリル系モノマー用の開始剤として利用可能な光重合開始剤を特に制限無く使用できる。光重合開始剤の種類及び含有量は、モノマー成分の種類、照射する光等に応じて適宜選択することができる。また、光重合開始剤は、一種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本実施形態に係るめっきマスク用硬化性組成物は、上記以外の他の成分を更に含有していてもよい。他の成分としては、例えば、蛍光剤、UV硬化助剤、光増感剤、無機充填剤、有機充填剤、カップリング剤、粘着付与剤、消泡剤、可塑剤、酸化防止剤、重合禁止剤、難燃剤、顔料、染料、顔料誘導体等が挙げられる。
本実施形態に係るマスク材は、めっきをめっき剥離剤等の薬品から保護するためのマスク材であり、上記めっきマスク用硬化性組成物の硬化物から構成される。
本実施形態に係るめっきの除去方法は、塗布工程、硬化工程及び除去工程を備える。塗布工程は、めっき(金属めっき)を有する基材上に、めっきの一部を被覆するようにめっきマスク用硬化性組成物を塗布する工程である。また、硬化工程は、めっき上に塗布された上記硬化性組成物を硬化する工程である。硬化工程により、上記硬化性組成物の硬化物(すなわち、マスク材)でめっきが被覆された被覆部と、めっきが露出した露出部とが形成される。除去工程は、上記露出部のめっきにめっき剥離剤を接触させて、上記露出部のめっきを除去する工程である。
表1に記載した原材料を遮光下で順次混合し、めっきマスク用硬化性組成物(以下、塗布液ともいう。)を得た。
マスク材の表面を触り、タックの有無を確認した。タックが無かった場合をA、タックがあった場合をBとして評価した。
マスク材を形成した真鍮基板を、2%塩酸中に25℃で90秒間浸漬した。浸漬後、マスク材の剥離の有無を確認し、剥離が無く、基板への密着性が維持されていた場合をA、剥離は無いがマスク材が軟化した場合をB、剥離が有った場合をCとして評価した。
マスク材を形成した真鍮基板を、塩基性溶液(Metal cleaner 373、ATOTECH社製、pH12.35)中に25℃で90秒間浸漬した。浸漬後、マスク材の剥離の有無を確認し、剥離が無く、基板への密着性が維持されていた場合をA、剥離は無いがマスク材が軟化した場合をB、剥離が有った場合をCとして評価した。
マスク材を形成した真鍮基板を、めっき剥離剤(メルストリップ CU-3940、メルテックス株式会社製)中に25℃で90秒間浸漬した。浸漬後、マスク材の剥離の有無を確認し、剥離が無く、基板への密着性が維持されていた場合をA、剥離は無いがマスク材が軟化した場合をB、剥離が有った場合をCとして評価した。
JIS K 5600に準拠したクロスカット法により、素地の付着性を評価した。具体的には、1mm間隔で5×5の格子状にマスク材をカットした後、マスク材上に粘着テープ(日東電工株式会社製)を付着させた。付着した粘着テープを引き剥がし、剥離が生じなかった場合をA、剥離が生じた場合をCとして評価した。
原材料を表1又は表2に記載のとおり変更したこと以外は、実施例1と同様にして、めっきマスク用硬化性組成物を調製した。また、得られためっきマスク用硬化性組成物を用いて、実施例1と同様にしてマスク材を形成し、評価した。結果は表1又は表2に示す。
原材料を表3に記載のとおり変更したこと以外は、実施例1と同様にして、めっきマスク用硬化性組成物を調製した。また、得られためっきマスク用硬化性組成物を用いて、実施例1と同様にしてマスク材を形成し、評価した。結果は表3に示す。なお、比較例3では、組成物が硬化せず、マスク材を形成することができかった。
原材料を表4に記載のとおり変更したこと以外は、実施例1と同様にして、めっきマスク用硬化性組成物を調製した。また、得られためっきマスク用硬化性組成物を用いて、実施例1と同様にしてマスク材を形成し、評価した。結果は表4に示す。
Claims (8)
- (メタ)アクリロイル基及び酸性官能基を有する第一のモノマー並びに(メタ)アクリロイル基及びベンゼン環を有する第二のモノマーを含むモノマー成分と、
光重合開始剤と、
を含有する、めっき剥離剤からめっきを保護するためのマスク材形成用硬化性組成物。 - 前記第一のモノマーの含有量が、前記モノマー成分の全量基準で5~40質量%である、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 前記第二のモノマーの含有量が、前記モノマー成分の全量基準で40~95質量%である、請求項1又は2に記載の硬化性組成物。
- 前記モノマー成分が、(メタ)アクリロイル基を2つ以上有する多官能モノマーを更に含む、請求項1~3のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
- 前記多官能モノマーの含有量が、前記モノマー成分の全量基準で5~40質量%である、請求項4に記載の硬化性組成物。
- 前記モノマー成分の単位質量当たりの前記酸性官能基の含有割合が、0.15~6.0mmol/gである、請求項1~5のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
- 請求項1~6のいずれか一項に記載の硬化性組成物の硬化物からなる、めっき剥離剤からめっきを保護するためのマスク材。
- 金属めっきを有する基材上に、前記金属めっきの一部を被覆するように請求項1~6のいずれか一項に記載の硬化性組成物を塗布する塗布工程と、
前記硬化性組成物を硬化して、前記金属めっきが前記硬化性組成物の硬化物で被覆された被覆部と、前記金属めっきが露出した露出部とを形成する硬化工程と、
前記露出部の前記金属めっきに、めっき剥離剤を接触させて、前記露出部の前記金属めっきを除去する除去工程と、
を備える、めっきの除去方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018012621A JP7008517B2 (ja) | 2018-01-29 | 2018-01-29 | めっきマスク用硬化性組成物、マスク材及びめっきの除去方法 |
CN201980010070.6A CN111655902B (zh) | 2018-01-29 | 2019-01-18 | 用于镀层掩模的可固化组合物、掩模材料、和去除镀层的方法 |
PCT/IB2019/050434 WO2019145833A1 (en) | 2018-01-29 | 2019-01-18 | Curable composition for plating mask, mask material and removing method of plating |
TW108103120A TW201934647A (zh) | 2018-01-29 | 2019-01-28 | 用於電鍍遮罩之可固化組成物、遮罩材料、及電鍍之移除方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018012621A JP7008517B2 (ja) | 2018-01-29 | 2018-01-29 | めっきマスク用硬化性組成物、マスク材及びめっきの除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019131836A JP2019131836A (ja) | 2019-08-08 |
JP7008517B2 true JP7008517B2 (ja) | 2022-01-25 |
Family
ID=67395253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018012621A Active JP7008517B2 (ja) | 2018-01-29 | 2018-01-29 | めっきマスク用硬化性組成物、マスク材及びめっきの除去方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7008517B2 (ja) |
CN (1) | CN111655902B (ja) |
TW (1) | TW201934647A (ja) |
WO (1) | WO2019145833A1 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000256585A (ja) | 1999-03-11 | 2000-09-19 | Toagosei Co Ltd | シャドウマスク製造時の裏止め材用硬化性組成物 |
JP2002333724A (ja) | 2001-05-11 | 2002-11-22 | Asahi Kasei Corp | 精密ふるい板の製造方法 |
JP2005301101A (ja) | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びその用途 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06282069A (ja) * | 1993-03-25 | 1994-10-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 厚膜回路用感光性樹脂組成物 |
TWI390346B (zh) * | 2005-01-17 | 2013-03-21 | Toagosei Co Ltd | Active line hardening composition |
JP4530980B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2010-08-25 | 東京応化工業株式会社 | 膜形成用材料およびパターン形成方法 |
JP2010254917A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Hitachi Chem Co Ltd | レジストインキおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法 |
EP3000853B1 (en) * | 2014-09-29 | 2020-04-08 | Agfa-Gevaert | Etch-resistant inkjet inks for manufacturing conductive patterns |
WO2016159136A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 被めっき層形成用組成物、被めっき層前駆体層付きフィルム、パターン状被めっき層付きフィルム、導電性フィルム、タッチパネル |
-
2018
- 2018-01-29 JP JP2018012621A patent/JP7008517B2/ja active Active
-
2019
- 2019-01-18 WO PCT/IB2019/050434 patent/WO2019145833A1/en active Application Filing
- 2019-01-18 CN CN201980010070.6A patent/CN111655902B/zh active Active
- 2019-01-28 TW TW108103120A patent/TW201934647A/zh unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000256585A (ja) | 1999-03-11 | 2000-09-19 | Toagosei Co Ltd | シャドウマスク製造時の裏止め材用硬化性組成物 |
JP2002333724A (ja) | 2001-05-11 | 2002-11-22 | Asahi Kasei Corp | 精密ふるい板の製造方法 |
JP2005301101A (ja) | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びその用途 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201934647A (zh) | 2019-09-01 |
WO2019145833A1 (en) | 2019-08-01 |
JP2019131836A (ja) | 2019-08-08 |
CN111655902B (zh) | 2022-09-02 |
CN111655902A (zh) | 2020-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6230159B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物、インプリント用樹脂モールド、光インプリント方法、半導体集積回路の製造方法及び微細光学素子の製造方法並びにフッ素化ウレタン(メタ)アクリレート | |
JP4637905B2 (ja) | 保存安定性および接着性に優れた熱硬化性樹脂組成物 | |
EP1923406A1 (en) | Resin composition | |
JP2020529489A (ja) | 二重硬化性樹脂組成物、該組成物から調製された硬化体、及び該硬化体を含む電子機器 | |
EP3823772B1 (en) | Articles prepared using curable compositions based on polymerizable ionic species | |
KR20130050270A (ko) | 잉크젯용 경화성 조성물 및 전자 부품의 제조 방법 | |
JP6327408B1 (ja) | (メタ)アクリル系組成物、それを含む塗料および硬化体 | |
JP2016204631A (ja) | 光硬化性組成物及び電子部品の製造方法 | |
JP7008517B2 (ja) | めっきマスク用硬化性組成物、マスク材及びめっきの除去方法 | |
TW200902656A (en) | UV inkjet resist | |
KR20200065524A (ko) | Uv led 경화형 잉크 조성물 | |
KR20140094452A (ko) | 광학적 입체 조형용 광경화성 조성물 및 조형물의 제조 방법 | |
JP2011026595A (ja) | めっき保護テープ | |
JP2015221841A (ja) | 湿気硬化及び光硬化性樹脂組成物 | |
JP2012241096A (ja) | 紫外線硬化型マスキング剤組成物 | |
JP2545867B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
TW530079B (en) | Resin composition curable with actinic energy ray | |
CN111491963B (zh) | (甲基)丙烯酸系组合物的制造方法、含有(甲基)丙烯酸系组合物的涂料及固化体 | |
JP6623934B2 (ja) | インプリント用感放射線性組成物及びパターン | |
WO2023190204A1 (ja) | 爪用光硬化性組成物 | |
JPH04239526A (ja) | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
JP2016117870A (ja) | 光硬化性樹脂組成物及びそれを用いたガラス板保護用樹脂 | |
KR100552234B1 (ko) | 평탄화막용 열경화성 수지 조성물 및 이를 이용한 평탄성경화막 | |
JP2022176029A (ja) | 導電助剤 | |
JP2022134392A (ja) | 仮固定又はマスキング用光硬化性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210831 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211124 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211214 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220111 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7008517 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |