JP2651671B2 - 紫外線硬化型インキ組成物 - Google Patents
紫外線硬化型インキ組成物Info
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- JP2651671B2 JP2651671B2 JP9920987A JP9920987A JP2651671B2 JP 2651671 B2 JP2651671 B2 JP 2651671B2 JP 9920987 A JP9920987 A JP 9920987A JP 9920987 A JP9920987 A JP 9920987A JP 2651671 B2 JP2651671 B2 JP 2651671B2
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- ink composition
- acrylate
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は紫外線硬化型インキ組成物に関するものであ
り、さらに詳しくはプリント配線板加工工程においてパ
ターン形成に使用されるアルカリ可溶性紫外線硬化型エ
ツチング・レジスト・インキ組成物に関するものであ
る。
り、さらに詳しくはプリント配線板加工工程においてパ
ターン形成に使用されるアルカリ可溶性紫外線硬化型エ
ツチング・レジスト・インキ組成物に関するものであ
る。
（従来の技術） 近年、家電製品、コンピユーター、通信機等に代表さ
れる電子機器の小型化、軽量化に伴い、プリント配線板
もフアインパターン化、高密度化へと急速な対応を迫ら
れてきている。こうした加工度の高度化に対応するた
め、プリント配線板加工工程におけるパターン形成法の
一つであるスクリーン印刷の技術も向上している一方、
それに使用されるエツチング・レジスト・インキの性能
の向上が強く要望されてきている。
れる電子機器の小型化、軽量化に伴い、プリント配線板
もフアインパターン化、高密度化へと急速な対応を迫ら
れてきている。こうした加工度の高度化に対応するた
め、プリント配線板加工工程におけるパターン形成法の
一つであるスクリーン印刷の技術も向上している一方、
それに使用されるエツチング・レジスト・インキの性能
の向上が強く要望されてきている。
従来、スクリーン印刷法によるパターン形成用に使用
されるエツチング・レジスト・インキは溶剤型のインキ
が主流であつたが、最近では紫外線硬化型へ変わりつつ
ある。
されるエツチング・レジスト・インキは溶剤型のインキ
が主流であつたが、最近では紫外線硬化型へ変わりつつ
ある。
従来の溶液型エツチング・レジスト・インキから紫外
線硬化型エツチング・レジスト・インキへの指向は、と
りもなおさず、高生産性、速硬化性、自動化、省資源、
省エネルギーへの対応であり、さらにエレクトロニクス
業界の技術革新すなわち高密度化、微細化、高信頼性、
高精度への対応を意図したものである。
線硬化型エツチング・レジスト・インキへの指向は、と
りもなおさず、高生産性、速硬化性、自動化、省資源、
省エネルギーへの対応であり、さらにエレクトロニクス
業界の技術革新すなわち高密度化、微細化、高信頼性、
高精度への対応を意図したものである。
このような背景から、アルカリ可溶性紫外線硬化型エ
ツチング・レジスト・インキに関して既にいくつかの提
案がなされている。
ツチング・レジスト・インキに関して既にいくつかの提
案がなされている。
例えば特公昭61−55550号公報においては、カルボキ
シル基又はカルボン酸無水物基を有するバインダー用重
合体および光増感剤としてベンゾイン又はベンゾインエ
ーテル類を含有するアルカル可溶性のスクリーン印刷用
樹脂組成物が提案されている。しかし、この提案によれ
ば前記バインダー用重合体として例えばスチレン／無水
マレイン酸重合体のハーフエステル化合物を使用せねば
ならず、インキの製造面から高コストとなりがちであ
り、また光増感剤としても熱安定性の悪いベンゾインや
ベンゾインエーテル類を使用しなければならない。
シル基又はカルボン酸無水物基を有するバインダー用重
合体および光増感剤としてベンゾイン又はベンゾインエ
ーテル類を含有するアルカル可溶性のスクリーン印刷用
樹脂組成物が提案されている。しかし、この提案によれ
ば前記バインダー用重合体として例えばスチレン／無水
マレイン酸重合体のハーフエステル化合物を使用せねば
ならず、インキの製造面から高コストとなりがちであ
り、また光増感剤としても熱安定性の悪いベンゾインや
ベンゾインエーテル類を使用しなければならない。
この欠点を解消するために特開昭58−49711号公報に
おいて桐油と無水マレイン酸を反応させて得られた反応
生成物に、エチレン性不飽和結合を分子内に有るアルコ
ールをさらに反応させることによつて得られる化合物を
必須成分とする紫外線硬化樹脂組成物が提案されてい
る。
おいて桐油と無水マレイン酸を反応させて得られた反応
生成物に、エチレン性不飽和結合を分子内に有るアルコ
ールをさらに反応させることによつて得られる化合物を
必須成分とする紫外線硬化樹脂組成物が提案されてい
る。
この提案によれば、天然に存在する桐油を使用すると
いう点では石油資源に依存せず好ましく思われるが、こ
れとてもDiels−Alder反応の複雑な工程を経た特殊な化
合物を必須成分としなければならず、コストの上昇はま
ぬがれない。
いう点では石油資源に依存せず好ましく思われるが、こ
れとてもDiels−Alder反応の複雑な工程を経た特殊な化
合物を必須成分としなければならず、コストの上昇はま
ぬがれない。
さらに特開昭59−29246号公報、同59−31947号公報に
おいて紫外線硬化パターン形成用組成物が提案されてい
る。これはジシクロペンテニルオキシアルキル（メタ）
アクリレートを配合することによりエツチング液中での
硬化塗膜の硬度を改良を試みられているが、必ずしもア
ルカリ可溶型エツチング・レジスト・インキとはなり得
ない。
おいて紫外線硬化パターン形成用組成物が提案されてい
る。これはジシクロペンテニルオキシアルキル（メタ）
アクリレートを配合することによりエツチング液中での
硬化塗膜の硬度を改良を試みられているが、必ずしもア
ルカリ可溶型エツチング・レジスト・インキとはなり得
ない。
（発明の解決しようとする問題点） 上記した如く、プリント配線板業界の技術革新に対応
すべきアルカリ可溶性紫外線硬化型エツチング・レジス
ト・インキとして、安価で、耐エツチヤント性に優れ、
且つ高密度、高精度に適応可能な組成物は今なお見出さ
れていない。
すべきアルカリ可溶性紫外線硬化型エツチング・レジス
ト・インキとして、安価で、耐エツチヤント性に優れ、
且つ高密度、高精度に適応可能な組成物は今なお見出さ
れていない。
（問題点を解決するための手段） 本発明者らは上記問題点、すなわち安価で耐エツチヤ
ント性に優れ、且つ高密度、高精度印刷に対応可能にア
ルカリ可溶性紫外線硬化型エツチング・レジスト・イン
キ組成物を得るべく鋭意研究を重ねた結果、驚くべきこ
とに（メタ）アクリルアミドおよび特定の酸無水物と一
分子中に少なくとも一個のヒドロキシル基および少なく
とも一個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物との
モノエステル化光重合性化合物とを配合した組成物が、
上記諸問題を一挙に解決することを見出し本発明に到達
した。すなわち、本発明は（メタ）アクリルアミド
（Ａ）、一般式（Ｉ）で示される酸無水物と一分子中に
少なくとも一個のヒドロキシル基および少なくとも一個
の（メタ）アクリロイル基を有する化合物とのモノエス
テル化光重合性化合物（Ｂ）のうちのメタアクリロイル
基含有化合物とアクリロイル基含有化合物および２−ア
ミルアントラキノン系光増感剤（Ｃ）と配合してなる紫
外線硬化型エッチング・レジスト・インキ組成物であ
る。
ント性に優れ、且つ高密度、高精度印刷に対応可能にア
ルカリ可溶性紫外線硬化型エツチング・レジスト・イン
キ組成物を得るべく鋭意研究を重ねた結果、驚くべきこ
とに（メタ）アクリルアミドおよび特定の酸無水物と一
分子中に少なくとも一個のヒドロキシル基および少なく
とも一個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物との
モノエステル化光重合性化合物とを配合した組成物が、
上記諸問題を一挙に解決することを見出し本発明に到達
した。すなわち、本発明は（メタ）アクリルアミド
（Ａ）、一般式（Ｉ）で示される酸無水物と一分子中に
少なくとも一個のヒドロキシル基および少なくとも一個
の（メタ）アクリロイル基を有する化合物とのモノエス
テル化光重合性化合物（Ｂ）のうちのメタアクリロイル
基含有化合物とアクリロイル基含有化合物および２−ア
ミルアントラキノン系光増感剤（Ｃ）と配合してなる紫
外線硬化型エッチング・レジスト・インキ組成物であ
る。
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ
組成物において（メタ）アクリルアミド（Ａ）は必須成
分である。（メタ）アクリルアミド（Ａ）の配合により
硬化塗膜の硬度の向上が認められ、しかもアルカリ可溶
性および耐エツチヤント性にバランスのとれた組成物が
得られ、従来の紫外線硬化型エツチング・レジスト・イ
ンキ組成物のように光増感剤としてベンゾイン系化合物
に特定されることもない。
組成物において（メタ）アクリルアミド（Ａ）は必須成
分である。（メタ）アクリルアミド（Ａ）の配合により
硬化塗膜の硬度の向上が認められ、しかもアルカリ可溶
性および耐エツチヤント性にバランスのとれた組成物が
得られ、従来の紫外線硬化型エツチング・レジスト・イ
ンキ組成物のように光増感剤としてベンゾイン系化合物
に特定されることもない。
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ
組成物において、もう一つの必須成分として一般式
（Ｉ）で示される酸無水物と一分子中に少なくとも一個
のヒドロキシル基および少なくとも一個の（メタ）アク
リロイル基を有す化合物とのモノエステル化光重合性化
合物（Ｂ）とを使用する。
組成物において、もう一つの必須成分として一般式
（Ｉ）で示される酸無水物と一分子中に少なくとも一個
のヒドロキシル基および少なくとも一個の（メタ）アク
リロイル基を有す化合物とのモノエステル化光重合性化
合物（Ｂ）とを使用する。
（但し、Ｒは水素または炭素数４以下のアルキル基を表
わす。） 例えば、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチルヘキ
サヒドロ無水フタル酸、４−メチルヘキサヒドロ無水フ
タル酸、３−エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４−エ
チルヘキサヒドロ無水フタル酸、３−プロピルヘキサヒ
ドロ無水フタル酸、３−イソプロピルヘキサヒドロ無水
フタル酸、４−プロピルヘキサヒドロ無水フタル酸、３
−ブチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４−ブチルヘキサ
ヒドロ無水フタル酸などの酸無水物と、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）
アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アク
リレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート等のヒドロキシル基含有光重合性化合物とを反応さ
せて得られるモノエステル化化合物であり、これらのう
ち、メタアクリロイル基含有化合物とアクリロイル基含
有化合物とを１種以上配合して使用される。
わす。） 例えば、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチルヘキ
サヒドロ無水フタル酸、４−メチルヘキサヒドロ無水フ
タル酸、３−エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４−エ
チルヘキサヒドロ無水フタル酸、３−プロピルヘキサヒ
ドロ無水フタル酸、３−イソプロピルヘキサヒドロ無水
フタル酸、４−プロピルヘキサヒドロ無水フタル酸、３
−ブチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４−ブチルヘキサ
ヒドロ無水フタル酸などの酸無水物と、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）
アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アク
リレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート等のヒドロキシル基含有光重合性化合物とを反応さ
せて得られるモノエステル化化合物であり、これらのう
ち、メタアクリロイル基含有化合物とアクリロイル基含
有化合物とを１種以上配合して使用される。
本発明で使用される必須成分（Ａ）と（Ｂ）の配合割
合は、（Ａ）：（Ｂ）＝2:98〜50:50重量％、好ましく
は、5:95〜30:70重量％である。（Ａ）の配合量が、
（Ａ）＋（Ｂ）の総量に対し２重量％未満であると、い
わゆるアルカリ可溶性が低下し、また50重量％を起える
と、アルカリ可溶性に対する効果は予想されるほど認め
られず、むしろ耐エツチヤント性、銅箔上への密着性が
低下するので好ましくない。
合は、（Ａ）：（Ｂ）＝2:98〜50:50重量％、好ましく
は、5:95〜30:70重量％である。（Ａ）の配合量が、
（Ａ）＋（Ｂ）の総量に対し２重量％未満であると、い
わゆるアルカリ可溶性が低下し、また50重量％を起える
と、アルカリ可溶性に対する効果は予想されるほど認め
られず、むしろ耐エツチヤント性、銅箔上への密着性が
低下するので好ましくない。
本発明の紫外線硬化型エッチング・レジスト・インキ
組成物に必須成分として使用される光増感剤は、２−ア
ミルアントラキノンであるが、併用できる他の光増感剤
としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾイン−１−プロピルエーテルなどの
ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジル、ベンジルエ
チルケタールなどのベンジルおよびその誘導体、アトラ
キノン、２−エチレアントラキノン、１−クロロアント
ラキノン、２−クロロアントラキノンなどのアントラキ
ノン類、チオキサントン、エチルチオキサントン、クロ
ロチオキサントンなどのチオキサントン類、2,2−ジエ
トキシアセトフェノン、４′−フェノキシ−2,2−ジク
ロロアセトフェノンなどのアセトンフェノン類、２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなどのプロピオ
フェノン類、ベンゾフェノン、ｐ−クロロベンゾフェノ
ン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフ
ェノン類などが挙げられる。
組成物に必須成分として使用される光増感剤は、２−ア
ミルアントラキノンであるが、併用できる他の光増感剤
としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾイン−１−プロピルエーテルなどの
ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジル、ベンジルエ
チルケタールなどのベンジルおよびその誘導体、アトラ
キノン、２−エチレアントラキノン、１−クロロアント
ラキノン、２−クロロアントラキノンなどのアントラキ
ノン類、チオキサントン、エチルチオキサントン、クロ
ロチオキサントンなどのチオキサントン類、2,2−ジエ
トキシアセトフェノン、４′−フェノキシ−2,2−ジク
ロロアセトフェノンなどのアセトンフェノン類、２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなどのプロピオ
フェノン類、ベンゾフェノン、ｐ−クロロベンゾフェノ
ン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフ
ェノン類などが挙げられる。
光増感剤として２−アミルアントラキノンを用いる
と、インキ組成物の保存安定性に優れ、かつ硬化塗膜の
硬度が高く、耐エッチャント性にも優れた塗膜を形成す
ることができる。
と、インキ組成物の保存安定性に優れ、かつ硬化塗膜の
硬度が高く、耐エッチャント性にも優れた塗膜を形成す
ることができる。
上記の光増感剤（Ｃ）の配合量は本拝命の紫外線硬化
型エツチング・レジスト・インキ組成物の１〜15重量
％、好ましくは、２〜10重量％である。また光増感剤
（Ｃ）の光重合反応促進作用を増大させるために、光増
感助剤としてトリエタノールアミン、トリエチルアミン
などのアミン類、トリフエニルホスフインなどのリン化
合物類を併用することも可能である。
型エツチング・レジスト・インキ組成物の１〜15重量
％、好ましくは、２〜10重量％である。また光増感剤
（Ｃ）の光重合反応促進作用を増大させるために、光増
感助剤としてトリエタノールアミン、トリエチルアミン
などのアミン類、トリフエニルホスフインなどのリン化
合物類を併用することも可能である。
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ
組成物には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止す
るために、ハンドロキノン、ハイドロキノンモノメチル
エーテル、ｔ−ブチルカテコール、ｐ−ベンゾキノン、
2,5−ｔ−ブチルハイドロキノン、フエノチアジンなど
の公知の熱重合防止剤を配合するのが望ましい。その配
合量は全組成物総量に対し、0.0001〜0.1重量％、好ま
しくは、0.001〜0.05重量％である。
組成物には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止す
るために、ハンドロキノン、ハイドロキノンモノメチル
エーテル、ｔ−ブチルカテコール、ｐ−ベンゾキノン、
2,5−ｔ−ブチルハイドロキノン、フエノチアジンなど
の公知の熱重合防止剤を配合するのが望ましい。その配
合量は全組成物総量に対し、0.0001〜0.1重量％、好ま
しくは、0.001〜0.05重量％である。
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ
組成物には、本発明の目的を損わない範囲において、前
記の（Ａ）および（Ｂ）の化合物以外の公知の光重合性
化合物を配合することができる。このような化合物の代
表例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル
（メタ）アクリレート、ｎ−および１−プロピルメタク
リレート、ｎ−sec−および−ｔ−ブチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、
ラウリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、
ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、フエ
ノキシエチル（メタ）アクリレートシクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレートなどが挙げられ、この配合量は
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ組
成物に対し、30重量％以下が好ましい。
組成物には、本発明の目的を損わない範囲において、前
記の（Ａ）および（Ｂ）の化合物以外の公知の光重合性
化合物を配合することができる。このような化合物の代
表例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル
（メタ）アクリレート、ｎ−および１−プロピルメタク
リレート、ｎ−sec−および−ｔ−ブチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、
ラウリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、
ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、フエ
ノキシエチル（メタ）アクリレートシクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレートなどが挙げられ、この配合量は
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ組
成物に対し、30重量％以下が好ましい。
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ
組成物には、印刷適正の付与、着色などのを目的とし
て、炭酸カルシユウム、硫酸バリウム、クレイ、アルミ
ナ、タルク、シリカなどの体質顔料、二酸化チタン、亜
鉛華などの白顔料、カーボンブラツク、松煙、黒鉛など
の黒顔料、黄鉛、淡口黄鉛などの黄顔料、紺青、コバル
ト青などの青顔料、クロム緑などの緑顔料、ハンザイエ
ロー10G、トルイジンレツドなどのアゾ系有機顔料、フ
タロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどのフ
タロシアニン系有機顔料、ガラス粉、ガラスビーズなど
を配合できる。
組成物には、印刷適正の付与、着色などのを目的とし
て、炭酸カルシユウム、硫酸バリウム、クレイ、アルミ
ナ、タルク、シリカなどの体質顔料、二酸化チタン、亜
鉛華などの白顔料、カーボンブラツク、松煙、黒鉛など
の黒顔料、黄鉛、淡口黄鉛などの黄顔料、紺青、コバル
ト青などの青顔料、クロム緑などの緑顔料、ハンザイエ
ロー10G、トルイジンレツドなどのアゾ系有機顔料、フ
タロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどのフ
タロシアニン系有機顔料、ガラス粉、ガラスビーズなど
を配合できる。
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ
組成物には、上記顔料添加剤の他に、公知の揺変剤、表
面平滑剤、分散剤、消泡剤などを配合することができ
る。
組成物には、上記顔料添加剤の他に、公知の揺変剤、表
面平滑剤、分散剤、消泡剤などを配合することができ
る。
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ
組成物は、通常の塗布方法もしくは印刷方法を用いて、
銅、アルミニウム、鉄、あるいはITO透明導電膜などの
被エツチング基材上にパターンを形成した後、紫外線を
照射して硬化させる。この紫外線照射に用いられる光源
としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、
メタルハライドランプなどが用いられ、その照射量は通
常50mJ/cm2〜5000mJ/cm2である。
組成物は、通常の塗布方法もしくは印刷方法を用いて、
銅、アルミニウム、鉄、あるいはITO透明導電膜などの
被エツチング基材上にパターンを形成した後、紫外線を
照射して硬化させる。この紫外線照射に用いられる光源
としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、
メタルハライドランプなどが用いられ、その照射量は通
常50mJ/cm2〜5000mJ/cm2である。
パターン形成された被エツチング基材は次いで、塩化
第２鉄、塩化第２銅、塩酸、フツ化水素酸などのエツチ
ング液で、露出部をエツチング除去した後、本発明の紫
外線硬化型エツチング・レジスト・インキ硬化塗膜は希
アルカリ水溶液によつて溶解除去される。このような方
法によるパターン形成方法は、例えばプリント配線板の
導体回路の形成やLOD表示体、エレクトロフオーミング
の業界で多用されている。
第２鉄、塩化第２銅、塩酸、フツ化水素酸などのエツチ
ング液で、露出部をエツチング除去した後、本発明の紫
外線硬化型エツチング・レジスト・インキ硬化塗膜は希
アルカリ水溶液によつて溶解除去される。このような方
法によるパターン形成方法は、例えばプリント配線板の
導体回路の形成やLOD表示体、エレクトロフオーミング
の業界で多用されている。
本発明をさらに詳細に説明するために以下実施例を挙
げるが、勿論本発明は実施例によつて何ら制限をうける
ものではない。
げるが、勿論本発明は実施例によつて何ら制限をうける
ものではない。
（実施例） 実施例においては特に断りのないかぎり下記の方法お
よび化合物を用いた。
よび化合物を用いた。
（１） インキの調製 所定量の原料化合物を計量し、デイゾルバーでよく攪
拌した後、５インチチルド三本ロール（井上製作所
（株）製）を用いて３回混練を繰返してインキ組成物を
調製した。
拌した後、５インチチルド三本ロール（井上製作所
（株）製）を用いて３回混練を繰返してインキ組成物を
調製した。
（２） 粘度の測定 調製したインキ組成物を25℃恒温水槽にて調温した
後、東京計器（株）製BH型粘度計を用いて、回転数20回
転にて測定した。
後、東京計器（株）製BH型粘度計を用いて、回転数20回
転にて測定した。
（３） 印 刷 300メツシユバイヤス張りがポリエステルスクリーン
版を用い、スキージ硬度70゜、スキージ角度70゜、印刷
速度300mm/sec条件にて35μ銅張フエノール基板上に、
約15μｍ厚みの塗膜を印刷した。印刷機はEKRA社製EKRA
MAT−Ｓを使用した。
版を用い、スキージ硬度70゜、スキージ角度70゜、印刷
速度300mm/sec条件にて35μ銅張フエノール基板上に、
約15μｍ厚みの塗膜を印刷した。印刷機はEKRA社製EKRA
MAT−Ｓを使用した。
（４） 塗膜の硬化 印刷塗膜の硬化には80W/cm高圧水銀灯３灯空冷式紫外
線照射装置を用いて、1000mJ/cm2の照射を行い諸特性の
評価を行なつた。
線照射装置を用いて、1000mJ/cm2の照射を行い諸特性の
評価を行なつた。
（５） 硬化塗膜の評価 １） 接着性:JIS D 2020の方法に準じてクロスカツト
・セロフアンテープ剥離試験を評価した。
・セロフアンテープ剥離試験を評価した。
２） 硬 度:JIS K 5400の鉛筆硬度試験法を用いた。
３） エツチング 40℃、40゜Ｂ塩化第２鉄水溶液を用いてスプレー圧
1.5kg/cm2で６分間シヤワーリングを行いエツチングし
た。
1.5kg/cm2で６分間シヤワーリングを行いエツチングし
た。
４） サイドエツヂ幅（μｍ） 前記の印刷法で300μｍ、線巾のパターンを印刷し、
パターン印刷幅（μｍ）−エツチング剥離後のパターン
幅（μｍ）で示した。
パターン印刷幅（μｍ）−エツチング剥離後のパターン
幅（μｍ）で示した。
５） アルカリ剥離性の評価 40℃、３重量％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し剥離
状態の観察および剥離時間を測定した。
状態の観察および剥離時間を測定した。
（６） 原料化合物 実施例中下記の略記号を用いて表示する。
HO−HH;ヘキサヒドロ無水フタル酸と２−ヒドロキシエ
チルメタクリレートから得られるモノエステル化化合物
（商品名；ライトエステルHO−HH、共栄社油脂化学工業
（株）製） HOA−HH;ヘキサヒドロ無水フタル酸と２−ヒドロキシエ
チルアクリレートから得られるモノエステル化化合物
（商品名；ライトエステルHOA−HH、共栄社油脂化学工
業（株）製） HO;ヒドロキシエチルメタクリレート HOA;ヒドロキシエチルアクリレート MA;メタクリルアミド POA;フエノキシエチルアクリレート POP−A;ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート タンク；富士タンク工業（株）製LMS＃100 硫酸バリウム；堺化学工業（株）製BaSO4 ＃300 着色顔料；日本チバ・ガイギー（株）製、イルガライト
ブルーRL 実施例 １および比較例１ ヘキサヒドロ無水フタル酸と２−ヒドロキシエチルメ
タクリレートから得られるモノエステル化化合物（商品
名；ライトエステルHO−HH、共栄社油脂化学工業（株）
製）24.8重量部、ヘキサヒドロ無水フタル酸と２−ヒド
ロキシエチルアクリレートから得られるモノエステル化
化合物（商品名；ライトエステルHOA−HH、共栄社油脂
化学工業（株）製）23.6重量部、メタクリルアミド（M
A）3.7重量部、光増感剤として２−エチルアントラキノ
ン２重量部（比較例１）または２−アミルアントラキノ
ン２重量部（実施例１）、表面平滑剤としてMKコンク
（商品名；共栄社油脂化学工業（株）製）2.0重量部、
着色顔料としてフタロシアニン系青（商品名；イルガラ
イトブルーRL、日本チバガイギー（株）製）0.65重量
部、体質顔料として硫酸バリウム（商品名；硫酸バリウ
ム＃300;堺化学工業（株）製）44.0重量部を秤量し、デ
イゾルバーで十分に攪拌したのち、三本ロールにて３回
混練し、本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・
インキ組成物を得た。得られたインキ組成物の特性を第
１表に示した。
チルメタクリレートから得られるモノエステル化化合物
（商品名；ライトエステルHO−HH、共栄社油脂化学工業
（株）製） HOA−HH;ヘキサヒドロ無水フタル酸と２−ヒドロキシエ
チルアクリレートから得られるモノエステル化化合物
（商品名；ライトエステルHOA−HH、共栄社油脂化学工
業（株）製） HO;ヒドロキシエチルメタクリレート HOA;ヒドロキシエチルアクリレート MA;メタクリルアミド POA;フエノキシエチルアクリレート POP−A;ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート タンク；富士タンク工業（株）製LMS＃100 硫酸バリウム；堺化学工業（株）製BaSO4 ＃300 着色顔料；日本チバ・ガイギー（株）製、イルガライト
ブルーRL 実施例 １および比較例１ ヘキサヒドロ無水フタル酸と２−ヒドロキシエチルメ
タクリレートから得られるモノエステル化化合物（商品
名；ライトエステルHO−HH、共栄社油脂化学工業（株）
製）24.8重量部、ヘキサヒドロ無水フタル酸と２−ヒド
ロキシエチルアクリレートから得られるモノエステル化
化合物（商品名；ライトエステルHOA−HH、共栄社油脂
化学工業（株）製）23.6重量部、メタクリルアミド（M
A）3.7重量部、光増感剤として２−エチルアントラキノ
ン２重量部（比較例１）または２−アミルアントラキノ
ン２重量部（実施例１）、表面平滑剤としてMKコンク
（商品名；共栄社油脂化学工業（株）製）2.0重量部、
着色顔料としてフタロシアニン系青（商品名；イルガラ
イトブルーRL、日本チバガイギー（株）製）0.65重量
部、体質顔料として硫酸バリウム（商品名；硫酸バリウ
ム＃300;堺化学工業（株）製）44.0重量部を秤量し、デ
イゾルバーで十分に攪拌したのち、三本ロールにて３回
混練し、本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・
インキ組成物を得た。得られたインキ組成物の特性を第
１表に示した。
第１表に示した通り、本発明の光増感剤として２−ア
ミルアントラキノンを配合した組成物は、希アルカリ水
溶液に溶解剥離し、しかも硬化塗膜性能が優れているの
みならず、インキ組成物は、低温での粘度安定性が良
く、保存安定性に優れている。ことが明らかである。
ミルアントラキノンを配合した組成物は、希アルカリ水
溶液に溶解剥離し、しかも硬化塗膜性能が優れているの
みならず、インキ組成物は、低温での粘度安定性が良
く、保存安定性に優れている。ことが明らかである。
実施例２〜３および比較例２〜３ 第２表に示した原料化合物、配合量に従つた以外は実
施例１と同様の方法を用いて、紫外線硬化型エツチング
・レジスト・インキ組成物を得た。得られたインキ組成
物の特性を第２表に示した。
施例１と同様の方法を用いて、紫外線硬化型エツチング
・レジスト・インキ組成物を得た。得られたインキ組成
物の特性を第２表に示した。
第２表に示したように、本発明で得られる紫外線硬化
型エツチング・レジスト・インキ組成物は、アルカリ溶
解性に優れ、加熱状態での硬度、エツチング後の硬度が
高く、サイドエツヂ幅が非常に小さいため、高精度なエ
ツチング加工に適しているのみならず、インキ組成物と
して、粘度安定性が良く、特に冬期において固化するこ
とがなく、保存安定性に優れていることが明らかであ
る。
型エツチング・レジスト・インキ組成物は、アルカリ溶
解性に優れ、加熱状態での硬度、エツチング後の硬度が
高く、サイドエツヂ幅が非常に小さいため、高精度なエ
ツチング加工に適しているのみならず、インキ組成物と
して、粘度安定性が良く、特に冬期において固化するこ
とがなく、保存安定性に優れていることが明らかであ
る。
（発明の効果） 本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ
組成物は、（メタ）アクリルアミド（Ａ）、一般式
（Ｉ）で示される酸無水物と一分子中に少なくとも一個
のヒドロキシル基および少なくとも一個の（メタ）アク
リロイル基を有する化合物のモノエステル化光重合性化
合物（Ｂ）とを含有しているために、 （１） 硬化塗膜の硬度が高く、紫外線硬化直後の加熱
状態でも硬度が高く、加工工程や搬送時の傷付きが起り
難い。
組成物は、（メタ）アクリルアミド（Ａ）、一般式
（Ｉ）で示される酸無水物と一分子中に少なくとも一個
のヒドロキシル基および少なくとも一個の（メタ）アク
リロイル基を有する化合物のモノエステル化光重合性化
合物（Ｂ）とを含有しているために、 （１） 硬化塗膜の硬度が高く、紫外線硬化直後の加熱
状態でも硬度が高く、加工工程や搬送時の傷付きが起り
難い。
（２） 耐エツチヤント性に優れており、パターンのサ
イドエツヂを起しにくい。またエツチング液中での硬度
の低下は全く起さない。
イドエツヂを起しにくい。またエツチング液中での硬度
の低下は全く起さない。
（３） アルカリ可溶速度が速い。
（４） 特殊な重合体やモノマーを使用する必要がな
い。
い。
などの優れた特徴があり、エレクトロニクス業界の要望
すなわち高精度、高密度、微細線化、低コストなどに対
応する画期的な組成物と言える。
すなわち高精度、高密度、微細線化、低コストなどに対
応する画期的な組成物と言える。
本発明の紫外線硬化型エツチング・レジスト・インキ
組成物はこのような特徴を生かして、エツチング・レジ
スト・インキとしてはもとより、メツキ・レジスト・イ
ンキの他、塗料、コーテイング剤その他の被覆用組成物
としても使用可能であることは言うまでもない。
組成物はこのような特徴を生かして、エツチング・レジ
スト・インキとしてはもとより、メツキ・レジスト・イ
ンキの他、塗料、コーテイング剤その他の被覆用組成物
としても使用可能であることは言うまでもない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−225150（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−197605（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】（メタ）アクリルアミド（Ａ）、一般式
（Ｉ）で示される酸無水物と一分子中に少なくとも一個
のヒドロキシル基および少なくとも一個の（メタ）アク
リロイル基を有する化合物とのモノエステル化光重合性
化合物（Ｂ）のうちのメタアクリロイル基含有化合物と
アクリロイル基含有化合物および２−アミルアントラキ
ノン系光増感剤（Ｃ）とを配合してなる紫外線硬化型イ
ンキ組成物 （但し、Ｒは水素または炭素数４以下のアルキル基を表
わす。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9920987A JP2651671B2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | 紫外線硬化型インキ組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9920987A JP2651671B2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | 紫外線硬化型インキ組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63265980A JPS63265980A (ja) | 1988-11-02 |
| JP2651671B2 true JP2651671B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=14241261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9920987A Expired - Fee Related JP2651671B2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | 紫外線硬化型インキ組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2651671B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104151895B (zh) * | 2014-08-28 | 2016-06-15 | 苏州洛特兰新材料科技有限公司 | 一种陶瓷用聚丙烯酸酯涂料 |
| EP3000853B1 (en) * | 2014-09-29 | 2020-04-08 | Agfa-Gevaert | Etch-resistant inkjet inks for manufacturing conductive patterns |
| JP6524579B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-06-05 | 互応化学工業株式会社 | インクジェットエッチングレジスト用紫外線硬化性組成物 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60225150A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-09 | Goou Kagaku Kogyo Kk | 紫外線硬化樹脂組成物 |
| JPS61197605A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-09-01 | Osaka Yuki Kagaku Kogyo Kk | アルカリ溶解型光硬化性組成物 |
-
1987
- 1987-04-22 JP JP9920987A patent/JP2651671B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63265980A (ja) | 1988-11-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |