JPS60225150A - 紫外線硬化樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （ａ）発明のＦＪ的 Ｃｒ１ｆ、業にの利用分野〕 本発明は、土として、プリント配線板製】ｈに係るパタ
ー／形成相の、紫外線で硬化するエツチングレジストイ
ンキとしての用途を４１する感光に１樹脂組成物に関す
る。

〔従来の技術及びその問題点〕

従来より、プリント配線板の製造における回路形成のた
めに工、チングレシストインキ、フォトレゾスト、トラ
イフィルムなとか使用され、パター／形成が行なわれて
いる。面して、銅張積層板の銅箔上にエツチングレジス
トインキを所望のパターン状トこ印刷した後、乾燥硬化
或いは紫外線硬化させ、次いでこれをエンチング液に侵
清し、不要部の銅箔を溶解除去してパターン形成させ、
さらにそのレジスト皮膜をアルカリ水溶液又は溶剤にて
剥離除去し、レジストパターンに対応した銅回路を形成
する方法が多用されている。

上記において、エラチンブレシストインキラ印刷する方
法としては、一般にスクリーン印刷又はオフセット印刷
などがあり、またエツチング液としては塩化第二鉄水溶
液、塩化第二銅水溶液、過酸化水素とＭ酩の混合水溶液
、過硫酸塩水溶液などが多用されている。

従来、溶剤型エツチングレジストインキをプリント配線
板の製造に使用する場合は、それを銅張積層板の銅箔上
にパターン状にスクリーン印刷し、次いで加熱により溶
剤を揮発させてレジストパターン皮膜を形成させ、続い
て不要部の銅箔をエツチング液にて溶解除去し、さらに
溶剤又はア− ルカリ水溶液にてレジスト皮膜を剥離除去することによ
ってレジストパターンに対応した銅回路を形成させ、所
望のプリント配線板を製造している。

しかし、そのような溶剤型エンチングレジストインキは
、印刷工程中や印刷の中断時にしばしばスクリーン印刷
版の目詰りによるトラブルを起すことがあり、また加熱
乾燥にかなりの時間と多量の熱エネルギーを必要とし、
さらに溶剤揮発による環境汚染や引火の危険性などの問
題を含んでいる。

上記のような溶剤型エツチングレジストインキにみられ
る欠点を改良するために、種々の紫Ｍ線硬化型エツチン
グレジストインキが提案されている。即ち、紫外線硬化
型エッチングレジストインキを使用する場合は、それを
用いて銅張積層板の銅箔−にに所定のパターンをスクリ
ーン印刷又はオフセット印刷し、次いで加熱乾燥するこ
となく紫外線を照射し、レジストインキを硬化させてレ
ノストパターン皮膜を形成させ、続いてエツチング液に
てレジストパターン以外の不要の銅箔をエンチング除去
し、レジストパターンに対応した銅回路を形成させ、さ
らにアルカリ水溶液又は溶？Ｉ　ｉごてレジスト皮）１
ｔ２を剥離除去することによってプリント配線板を得る
ことができる。

紫外線硬化型エッチングレジストインキの公知例として
は、例えば特開昭５１−００２５０３号公報に記載のよ
うに、ポリエステル結合剤、ヒドロキシアルキルアクリ
レート、光重合性中ψ体、カルシボッ酪、及び光重合開
始剤を含む組成物でのインキ化が試みられている。しか
し、この組成物の場合は、アルカリ剥離においては膨潤
剥離であり、アルカリ剥離に要する時間は従来の溶剤型
ニー、チンブレシストインキの場合に比較して５〜１０
倍も長くかかる、またその剥離時間を短縮するためにカ
ルボン酎の添加量を増加させるとＷＩＢ９の硬度が低下
するなど実用上の難点があった。

また、他の公知例として、特開昭５７−０１３４４４号
公報に記載のように、ポリエステル、多塩基酸（又はそ
の無水物）のヒドロキシアルキルアクリレート　（又は
メタクリレート）半エステル化物、エチレン性不飽和結
合を有するヒニルモノマー、及び光重合開始剤を含む感
光性樹脂組成物での試みがある。しかし、この組成物の
場合は、塗膜のＦ＄！度が十分でなく、エツチング液中
での塗膜の軟化を生じ、工程中の移送ロールとの接触に
よるレジスト面の損傷か予想され、これも実用上の問題
を残していた。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来公知の紫外線硬化樹脂組成物は、既述のように、ｆ
、　？な物性であるレジスト１に膜の硬度、耐エツチン
グ液性、或いはその剥離除去性などについて実用上の難
点を有していたか、木９１明の技術的課題は、硬化性、
皮膜硬度及び耐工、チング靜性に慎れ、しかもアルカリ
水溶液での２ＩＩｆＩａ除去刊に優れた紫外線硬化樹脂
組成物を提供することにある。

（ｂ）発明の構成 〔課題を解決するための手段〕 」−２の技術的課題を解決するために、本発明名らは次
のような組成物か有効であることを見り・出し、本発明
を完成するｔこ至った。即ち、その組成物とは、多ル基
酸事水物のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと
の゛ゼエステル化物　（■）。

酸価が５０〜３００のロジン系化合物（１１）。

一般式 ％式％ （式中、凡は水素原子又はメチル基、ルは木素原ｆ−又
はメチル基、亀は水素原子、メチル基。

メチロール基、タイアセトンアルキル基、又は炭素数　
１〜４のアルコオキシメチル基である）で表わされる化
合物（ｍ）、光重合性モノマー（■）、及び光屯合開始
剤（Ｖ）を含むことを特徴とする紫外線硬化樹脂組成物
である。

なお、本す１ｍ害において（メタ）アクリレートとはア
クリレート及びメタクリレートを総称し、また同様に　
（メタ）アクリルとはアクリル及びメタクリルを、　（
メタ）アクリロイルとはアクリロイル及びメタクリロイ
ルをそれぞれ総称するものとする。

本発明に使用される多塩基酸無水物のヒドロキシアルキ
ル　（メタ）アクリレートとの半エステル化物（Ｉ）に
ついては既に特公昭５２−０２５４３８号公報等にも記
載されているが、多塩基酸無水物としては製水フタル酸
、無水テトラヒドロフタル酸、３−メチル無水テトラヒ
ドロフタル酸、　４−メチル無水テトラヒドロフタル酸
、無水へキサヒドロフタル酸、　３−メチル無水へキサ
ヒドロフタル触、　４−メチル無水へキサヒドロフタル
酸、無水ハイミンク酸、無水トデセこルコハク酸、無水
トリメリント酸、無水コハク醜、無水マレイン酸、無水
ピロメリット酸、ヘンンフェノンテトラカルポン酩無水
物などがあり、またヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
レートとしては２−ヒドロキシエチル　（メタ）アクリ
レート、　２−ヒドロキシプロピル　（メタ）アクリレ
ート、ジエチレングリコールモノ　（メタ）アクリレー
ト、１．４−ブタンジオールモノ　（メタ）アクリレー
ト、１．６−ヘキサンジオールモノ　（メタ）アクリレ
ートなとがあげられる。

本発明に使用される半エステル化物（Ｉ）は、上記のよ
うな多塩基酸無水物とヒドロキシアルキル（メタ）アク
リレートから、次の合成例に示すように通常のエステル
化反応により得ることかできる。

合成例　ｌ 攪拌機及びコンデンサーを備えた三つロフラスコに無本
フタル酸１４８　ｇ　（ｌ　ｍｏｌ）及び２−ヒドロキ
シエチルアクリレート１１８ｇ　（ｌ　ｍｏｌ）を仕込
み、ハイドロキノンＯ１ｇを添加し、酸素気流中におい
て、　１００°Ｃで６待間反応させ、反応生成物フタル
酸モノアクリロイルヒドロキシエチルエステルを得た。

合成例２ 合成例　ｌと同様に無水へキサヒドロキシフタル酸１５
４ｇＣｌ量ｏｆ）、　２−ヒドロキシエチルアクリレ−
）　１１６ｇ　（１ｍｏｌ）　、及びハイドロキノンモ
ノメチルエーテルＯ１ｇから反応生成物へキサヒドロキ
シフタル酸七ノアクリロイルヒドロキシエチルエステル
をイ１また。

合成例３ 合成例　１と同様に　４−メチルへキサヒドロキシ無水
フタル％　１６８ｇ　（ｌ　ｍｏｌ）、　２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート　１３０ｇ　（ｌ　ｍｏｌ）　
、及びパイトコキノン０．１ｇから反応生成物４−メチ
ルへキサヒドロキシフタル醜モノメタクリロイルヒドロ
キシエチルエステルを得た。

合成例　４ 合成例１と同様に４−メチルテトラヒドロキシ無水フタ
ル酸ｌｆｔ８ｇ　（ｌ　ｍａｔ）、２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート　１３０　ｇ　（ｌ　ｍｏｌ）　、及
びハイドロキノンモノメチルエーテル０１ｇから反応生
ａ物４−メチルテトラヒドロキシフタル酸モノメタクリ
ロイルヒドロキシエチルエステルを得た。

合成例５ 合成例　１と同様に無水コハクｍ　ｌ００ｇ　（Ｉ　ｍ
ｏｌ）。

２−ヒドロキシプロピルアクリレート　１３１ｇ（ｌ　
ｍｏｌ）　、　及びハイドロキノンモノメチルエーテル
Ｏ，１ｇから反応生成物コハク醇モノアクリロイルヒ］
・ロキシブロビルエステルを得た。

このようにして得られた半エステル化物ＣＩ）は、　１
種又は　２種以！−を任意の割合で混合して使用するこ
とかでき、その使用蓼は、本発明に係る紫外線硬化樹脂
組成物に対して５〜９０重量％であることが好ましい。

次に、本発明に使用されるロジン系化合物（ＩＩ）とし
ては、例えばロジン変性マレイン酸樹脂、ロンン変性フ
ェノール樹脂、重合ロジン、水添ロジンなどがあげられ
る。それらのロジン系化合物（ＩＩ）の酸価は５０〜３
００であることを要するが、特に　１００〜２５０であ
ることが好ましく、これが５０未猫の場合はアルカリ水
溶液による除去性か低ドする。

Ｌ記のようなロジン系化合物（ＩＩ）の使用量は、本発
明に係る紫外線硬化樹脂組成物に対して１〜３０重量％
であることか好ましく、これが１セ量％未尚の場合はア
ルカリ除去性が低下し、またこれが３０重竜％を越える
と皮膜がもろくなって工程中でクラック剥離によるトラ
ブルを生じ易くなる。

本発明において上記のようなロジン系化合物（ＩＩ）を
他の成分と共に使用する利点は、銅箔エンチング後の紫
外線硬化皮膜のアルカリ除去性が非常に向ｔし、銅箔上
への紫外線硬化皮膜の残留がなくなること、アルカリ剥
離の工程ラインが短くなり、またアルカリ水溶液の温度
が低い場合でも十分に剥離ができるためにアルカリ水溶
液による銅張ｌＪ！１層板の変色がないことなどである
。

さらに、本発明に使用される。

一般式 （式中、凡は水素原子又はメチル基、ルは水素原子又は
メチル基、几は水素原子、メチル基、メチロール基、ダ
イアセトンアルキル基、又は炭素ｆｉ１〜４のアルコオ
キシメチル基である）で表わされる化合物（ＩＩＩ）と
しては、例えば　（メタ）アクリルアマイド、トメチル
（ツタ）アクリルアマイド、　Ｎ−エチＪｌ／　（ツタ
）アクリルアマイド、ジメチル　（メタ）アクリルアマ
イド、Ｎ−メチロール　（メタ）アクリルアマイド、ダ
イア七トン　（メタ）アクリルアマイド、　Ｎ−ノトキ
ンメ■ チル　（メタ）アクリルアマイド、　Ｎ−エトキンノチ
ル　（メタ）アクリルアマイド、Ｎ−ｎ−プロポキシメ
チル　（メタ）アクリルアマイド、　Ｎ　−ｎ　−ブト
キシメチル（メタ）アクリルアマイドなどがある。

にＬ記のような化合物（ｍ）の使用量は、本発明に係る
紫外線硬化樹脂組成物に対して　１〜３０重量％である
ことが好ましく、これが３０重量％を越えるとレジスト
インキとしてのインキ適性に欠けた流動性を呈し易い。

本発明においてにＬ記のような化合物（Ｉｌｌ）を他の
成分と共に使用する最大の利点は、紫外線硬化皮１模の
１ｉｌｌ！度が高くなることである。このように硬度の
高い紫外線硬化皮膜が得られれば、レジスト皮膜が工程
中のロールなどとの接触により損傷することがなく、片
面のみならず両面基板を製造する上で非常に有利である
ことは言うまでもない。

また、本発明に使用される光重合性モノマー（ＩＶ）と
しては耗釈的効果の大きい、低粘度のモノマーが望まし
い、そのような光重合性モノマー（ＴＶ）の例として、
　（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、
エチル　（メタ）アクリレート、　ｎ−プロピル　（メ
タ）アクリレート、１ｓｏ−プロピル　（メタ）アクリ
レート、　ｎ−ブチル　（メタ）アクリレート、　２−
エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ
）アクリレート、ステアリル　（メタ）アクリレート、
シクロヘキシル　（メタ）アクリレート、フェノキンエ
チル（メタ）アクリレート、２−工）・キシエチル（メ
タ）アクリレート、　２−ブトキノエチル　（メタ）ア
クリレート、グリシジル　（メタ）アクリレート、　２
−ヒドロキシエチル　（メタ）アクリレート、　２−ヒ
ドロキシプロピル（ツタ）アクリレート、ヘンシル　（
メタ）アクリレート、　２−ヒドロキシエチル　（メタ
）アクリロイルフォスフェート、テトラヒドロキシフル
フリル　（メタ）アクリレート、エチレングリコールモ
ノ　（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモ
ノ　（メタ）アクリレート、エチルカルピトール　（メ
タ）アクリレート、エチレングリコールン　（メタ）ア
クリレート、ポリエチレングリコールシ　（メタ）アク
リレート、１．４−ブタンジオールン　（メタ）アクリ
レート、１，６−ヘキサンシオールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート
、トリメチロールプロパントリ　（メタ）アクリレート
、ヒドロキシピパリン酸エステルネオペンチルグリコー
ルジ　（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ　（メタ）アクリレートなどがあげられる。

このような光重合性モノマー（ＩＶ）は、　１ｇ又は２
種型ｌ−を任意の割合で混合して使用することができ、
またその使用量は、本発明に係る紫外線硬化樹脂組成物
シこ対して２〜４０重量％であることが好ましく、これ
が４０重量％を越えるとアルカリ剥離性が著しく低下す
る。

さらに、本発明に使用される光重合開始剤（Ｖ）として
は、公知の光重合開始剤を使用することができるが、紫
外線硬化樹脂組成物としての貯蔵安定性のよいものが望
ましい。それらの例として、ヘンツイン、ベンジル、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾイン−ｎへプロピルエーテル、ペンツインーｉｓ
ｏ　−プロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエー
テル、ペンツイン−ＩＳＯ−ブチルエーテル、ペンツフ
ェノン、ジアセチル、アセトフェノンアン）・ラキノン
、　２−エチルアントラキノン、　２−クロロアントラ
キノン、ヘンシルジメチルケタール、チオキサントン、
　２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサント
ン、１．４−１ｓｏ−プロビルフェこルー　２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロパン−１−オン、　２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンなど
があげられ、単独又は併用で使用される。

なお、必要に応じてｎ−ブチルアミン、ｌ５Ｏ−ブチル
アミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、ミヒラーケトン、ナトリウムジエチルチオ
フォスフェートなどを有効な増感剤として併用すること
ができる。

本発明において、貯蔵安定性を改良するために、熱重合
禁止剤としてハイドロキノン、／＼イ］・ロキノン七ツ
メチルエーテル、カテコール、　ｐ−ｔ−ブチルカテコ
ール、トリフェニルフォスフェートなどを添加すること
ができる。これらの熱重合禁止剤は光重合反応を拘制す
ることなく、熱重合のみを防止するものである。

また、エンチングレジストインキとして使用するに際し
ては、印刷適性を向上させるために消泡剤、充填剤とし
ての体質顔料１着色顔料、レベリング剤、チクントロビ
ンク付与剤などを添加することができる。

上記において、消泡剤としては例えばシリコン系化合物
、フッ素系化合物、アクリル系化合物などを、また充填
剤としての体質顔料としては沈降性硫醸へリウム、タル
ク、カオリン、炭醜カルシウム、ケイ酸アルミニウド、
ホワイトカーボンなどを、また着色顔料としてはメチレ
ンブルー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリ
ーン、カーボンブランクなと゛を、そしてレベリング剤
としてはシリコン系オリゴマー、アクリル系オリゴマー
などを、さらにチクソトロピンク付与剤としては有機化
ベントナイト、微粉末シリカなどをそれぞれ使用するこ
とができる。

本発明に係る紫外線硬化樹脂組成物を硬化させる際に使
用される紫外線は、　１５０〜５００　ｎｓの波長、特
に３００〜４５０ｎ−の波長領域のものが有効であり、
使用される光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、カーホンアーク灯、メタルハライドランプ
などが望ましい。

また、本発明に係る、エツチングレジストインキとして
の紫外線硬化樹脂組成物は、それを構成する上記各成分
を三木ロールなどを用いて均一に混練して作成すればよ
い。

〔実施例及び比較例〕

次に、前記の合成例で得られた各種の半エステル化物（
Ｉ）を用いた実施例及び比較例を示して１本発明を具体
的に説明する。

実施例　１ 合成例　１で得られたフタル酸モノアクリロイルヒドロ
キシエチルエステル４０重量部、合成例２で得られたヘ
キサヒドロキシフタル酩モノアクリロイルヒドロキシエ
チルエステル３０重量部、ロジン変性マレイン酩樹脂（
酩価２００、軟化点　１１０℃）１０重量部、アクリル
アマイド５重量部、エチルカルビトールアクリレートＩ
Ｉ重湯部、光重合開始剤としてヘンツイン−１ｓｏ−ブ
チルエーテル４重量部を配合してエンチングレジストイ
ンキ用の樹脂組成物を得た。

次いで、１−記の樹脂組成物に、スクリーン印刷適性を
得るために硫酸バリウム３０重４）部、タルク２０　重
−Ｉｎ　部、フタロシアニンブルー１重量部、アエロジ
ル＃　２００　（ＩＪ本アエロジル製）　２　上置ＲＢ
、消泡剤として５Ｈ−２１ＰＡ　（東しシリコン製）０
．１重埴部、レベリング剤としてモツプロー　（モンサ
ンド社製）　１重量部を混合し、その混合物を三本ロー
ル（弁上製作所製）を用いて均一に混練してエンチング
レジストインキを作成した。

上記のエンチングレジストインキを　２００メンシユテ
トロン製スクリーンにて銅張積層板上に０．１．０．１
５、０．２．０．２５、０．３．　０．４、０．５＋ｎ
ｍの線間線巾を１０本ずつ有するパターンを印刷し、高
圧水銀灯８０Ｗ／ａｍ、照射距Ｍ１５ｃｍ、照射時間２
０秒で紫外線硬化させ、得られたレジスト皮膜は膜厚１
５鉢、硬度　（鉛筆硬度）４重１密着性ｔｏｏ／　＋０
０のちのであった。

上記の積層板を４０℃の４０％塩化第二鉄水溶液で３分
間エツチングしたが、レジスト皮膜のハガレは生じなか
った。続いて、その積層板を２５℃の３％水水化化ナト
リウム水溶液処理したところ、レジスト皮膜は８秒で完
全に剥離し、断線、ピンホールなどのないプリント配線
板を得た。

比較例　ｌ 攪拌機及びコンデンサー付水分離器、温度計を備えた三
つ［Ｊフラスコにプロピレングリコール７６ｇ　（ｌ　
ｍａｔ）　、イソフタル酸２５ｇ　（０，１５ｍｏｌ）
　、無水マレイン酸９９　ｇ　（０，８５ｍｏｌ）を仕
込み、酢酸カルシウム　０．１ｇを添加し、窒素カス気
流中において１７０°Ｃで８時間重縮合反応させて得ら
れたポリエステル３５重量部、合成例２で得られたヘキ
サヒドロキシフタル酩千ノアクリロイルヒドロキシエチ
ルエステル４０重量部、フェノキシエチルアクリレート
２０重量部、光重合開始剤としてヘンジルジメチルケタ
ール５重量部を配合してエツチングレジストインキ用の
樹脂組成物を得た。

次いで、上記の樹脂組成物に、スクリーン印刷適性を得
るために硫酸バリウム３０重量部、タルク２０重量部、
フタロシアニンブルー１重％　部、アエロジル＃２００
　（日本アエロジル酸）２重量部、消泡剤としてＳＨ−
２１ＰＡ　（東しシリコン製）０．１重量部、レベリン
グ剤としてモダフロー　（モンサンド社製）　１重埴部
を混合し、その混合物を三本ロール（月１．製作所製）
を用いて均一に混練してエツチングレジストインキを作
成した。

上記のエンチングレジストインキを実施例　１と同様に
銅張積層板上にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ、得
られたレジスト皮膜は膜厚１５ＪＬ、硬度（鉛筆硬度）
　Ｈ１密看性１００／１００のものであった。

上記のａ層板を４０°Ｃの４０％塩化第二鉄水溶液で３
分間エツチングしたが、レジスト皮膜が０．１．０．１
５ｍｍの線間線巾の部分にハガレを生じ、銅箔が部分的
に過剰エツチングされていた。続いて、その積層板を４
０℃の３％水水化化ナトリウム水溶液処理したところ、
レジスト皮膜を完全に剥離するのに３０秒を要した。

実施例２ 合成例２で得られたヘキサヒドロキシフタル酩モノアク
リロイルヒドロキシエチルエステル６０東量部、ロジン
変性マレイン酸樹脂（酩価１６０．軟化点９５℃）　５
重重部、メタクリルアマイド１５重に部、フェノキシエ
チルアクリレートｌｏ重ｙｉ＋ｊ部、トリノチロールプ
ロバ／トリアクリレート　５屯ニ一１部、ヘンシルジメ
チルケタール５毛早部を配合してエンチングレジストイ
ンキ用の樹脂Ｍｌ物とし、さらにこれに硫酸バリウム４
０重％１部、カオリン２０屯に部、フタロシアニンブル
ー　１主星部、アエロジル＃　３８０　（１」本アエロ
ジル製）２１［、消泡剤５）Ｉ−３０ＰＡ　（東しシリ
コン製）０゜１重ｚｆｒ部、レヘリング剤ポリフローＮ
ｏ９０（共栄社油脂製）　１重量部を混合し、その混合
物を三本ロール　（井り製作剛製）を用いて均一に混練
してエツチングレジストインキを作成した。

上記のエツチングレジストインキを実施例　１と同様に
銅張積層板上にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ、得
られたレジスト皮膜は膜厚１５川、硬度（鉛筆硬度）３
■１密着性＋００／＋００のものであった。

Ｌ記の積層板を４０℃の３０％塩化第二銅水溶液で３分
間エツチングしたが、レジスト皮膜のハカレは生じなか
った。続いて、その積層板を４０℃の３％水酸化カリウ
１、水溶液で処理したところ、レジスト皮膜は４秒で完
全に剥離し、断線、ピンホールなどのないプリント配線
板を得た。

実施例３ 合成例３で得られた４−メチルへキサヒドロキシフタル
酩モノメタクリロイルヒドロキシエチルエステル３０重
、ｌ１ｌ一部、合成例４で得られた　４−メチルテトラ
ヒドロキンフタル酸モノメタクリロイルヒドロキシエチ
ルエステル４０　用量ｍ、重合ロジン（Ｓ価１４０、軟
化点９５℃）８重湯部、メタクリル７１４１１０重量部
、テトラヒドロキシフルフリルアクリレート　８重量部
、ヘンツインエチルエーテル４重量部を配合してエツチ
ングレジストインキ用の樹脂組成物とし、さらにこれに
タルクｌＯ重量部、ケイ酩アルミニウム３０ｆｉｉ部、
フタロシアニングリーン　１重量部、消泡剤５）Ｉ−２
１ＰＡ　（東しンリ、：１７５１　）０．２．％　Ｆｌ
　ｊＪ、レベリング剤モタフロー　（モノサンド社製）
２用量部を混合し、その程合物を三木ロール　（弁上製
作所製）を用いて均・に混練してニー７チングレジスト
インキを作成した。

」−記のエンチングレジストインキを実施例　１と同様
に銅張積層板上にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ、
得られたレジスト皮膜は膜厚１８μ、硬度（鉛筆硬度）
　３■１富着性＋００／ｌｏｏのものであった。

ｌ−記の積層板を４０°Ｃの３０％塩化第乙鉄水溶液で
３分間エツチングしたが、レジスト皮膜のハガレはなく
、耐エツチング液性は良好であった。続いて、そのＩＡ
層板を３０℃の３％水酸化ナトリウム水溶液で処理した
ところ、レジスト皮膜は５秒で完全に剥離し、断線、ピ
ンホールなどのないプリント配線板を得た。

比較例２ 合成例２で得られたヘキサヒドロキシフタル酸モノアク
リロイルヒドロキシエチルエステル４０重Ｓ１１部、合
成例３で得られた４−メチルへキサヒドロキシフタル酪
モノメタクリロイルヒドロキシエチルエステル３０重に
部、重合ロジン（酸価１４０、軟化点９５℃）１０重積
部、２−ヒドロキシエチルアクリレート１６　ｉ　％ｉ
部、ペンシルジメチルケタール４Φ、−７，を部を配合
してエツチングレジストインキ用の樹脂組成物とし、さ
らにこれに炭酸カルシウム３０　Ｘ　；＋５部、ｌＩｋ
酩バリウム２０重量部、フタロシアニンブルー　１屯量
部、アエロジル＃　２００　（日本アエロジル製）　１
重量部、消泡剤５Ｈ−３０ＰＡ　（東しシリコン％）０
．１重量部、レベリング剤ポリフローＮｏ９０（バ栄社
油脂製）１重量部を混合し、その混合物を三木ロール　
（井上製作所製）を用いて均一に混練してエツチングレ
ジストインキを作成した。

ｌ−記のエツチングレジストインキを実施例　１と同様
に銅張積層板」二にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ
、得られたレジスト皮膜は膜厚１５．、硬度（鉛筆硬度
）ＨＢ、密着性１００／１００のものであった。

上記の積層板を４０℃の４０％塩化第゛−鉄水溶液で３
分間エツチングしたが、レジスト皮膜が０．１゜０．１
５、０．２■の線間線巾の部分にハカレを生し、銅箔が
部分的に過剰エンチングされていた。続いて、その積層
板を３０°Ｃの３％水酩化ナトリウト水溶液で処理した
ところ、レジスト皮１１！ｌ！を完全に剥離するのに　
８秒を貧した。

実施例４ 合成例２で得られたヘキサヒドロキシフタル酸七ノモノ
リロイルヒドロキシエチルエステル３０千ｒ一部、合成
例３で得られた４−メチルへキサヒドロキシフタル酩モ
ノメタクリロイルヒドロキシエチルエステル３０重早部
、ロジン変性マレイン酸樹脂（酸価２５０、軟化点１３
０℃）１０東φ部、メタクリルアマイド１０重量部、　
２−ヒドロキシエチルアクリレート１５重ｆ部、ベンフ
ィン−１ｓｏ−ブチルエーテル５重に部を配合してエラ
チンブレジス）・インキ用の樹脂組成物とし、さらにこ
れにタルク２０重量部、ホワイトカーボン２０重量部、
カーボンブラック　１重量部、消泡剤５Ｈ−２１ＰＡ　
（東レシリコン製）　０．１ｆｆｉｆａ部、レベリング
剤モダフロー　（モノサント社製）２重量部、熱重合禁
止剤／％イトロキノン０．１−ｍｆｆ１部を混合し、そ
の混合物を三本ロール（井１−製作所５ｆｌ）を用いて
均一・に混練してエツチングレジストインキを作成した
。

）Ｚ　記（７）エツチングレジストインキを実施例　１
と同様に銅張積層板りにスクリーン印刷し、紫外線硬化
させ、得られたレジスト皮膜は膜厚１５μ、硬度（鉛筆
硬度）３Ｈ，密着性１００／１００のものであった。

Ｅ記の積層板を４０℃の４０％塩化第二鉄水溶液で３分
間エツチングしたが、レジスト皮膜のハガレはなく、耐
エツチング液性は良好であった。続いて、その積層板を
２０℃の３％水水化化カリウム水溶液処理したところ、
レジスト皮膜は５秒で完全に剥離し、断線、ピンホール
などのないプリント配線板を得た。

（Ｃ）発明の゛効果 本発明に係る紫外線硬化樹脂組成物は、硬化性、皮膜硬
度及び耐エツチング液性に優れ、しかで、プリント配線
板製造のためのエラチングレンストインキ用として好適
のものである。

以Ｉ４ 代理人　弁理士　安　＃　惇　逸

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）多’Ｈ２に酸無水物のヒドロキシアルキル（メタ
   ）アクリレートとの半エステル化物　（Ｉ）酸価が５０
   〜３００のロジン系化合物（ＩＩ）、般式 （式中、凡は水素原子又はメチル基、ルは水素ｂ；＜−
   ｒ又はメチルノ、シ丸は水素原子、メチル基。 メチロール基、タイ７セトンアルキル基、又は炭素数　
   １〜４のアルコオキシメチル基である）で表わされる化
   合物（■）、光重合性七ツマ−（■）、及び光重合開始
   剤（Ｖ）を含むことを特徴とする紫外線硬化樹脂組成物
   。