JPH02153902A

JPH02153902A - 硬化性組成物

Info

Publication number: JPH02153902A
Application number: JP30696888A
Authority: JP
Inventors: Naoki Kanda; 直樹神田; Hitoshi Kato; 仁加藤; Tetsuji Jitsumatsu; 実松　徹司
Original assignee: Toagosei Co Ltd
Current assignee: Toagosei Co Ltd
Priority date: 1988-12-06
Filing date: 1988-12-06
Publication date: 1990-06-13
Anticipated expiration: 2011-10-23
Also published as: JP2546362B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（イ）発明の目的〔産業上の利用分野〕本発明は紫外線等の照射により容品に硬化する組成物で
あり、例えばプリント配線板などの製造に際して使用さ
れるフォトレジスト、特にソルダーレジスト用組成物と
して好適な硬化性組成物に関するものである。

〔従来の技術〕

プリント配線板にレジストを設けるには、スクリーン印
刷法により塗布する方法及び写真法を用いる方法がある
が、スクリーン印刷法により塗布すると、多くの場合、
印刷時のにじみ或いは工ンヂ切れ（配線回路間にきちん
とインキが埋設されないという一種の塗布欠陥現象）が
発生し、これがために最近のプリント配線板の高密度化
に対応しきれなくなっている。

一方、写真法によればこうした問題点を解決することが
でき、ドライフィルム型のフォトレジストや液状フォト
レジスト等の技術が開発されている。感光層を基板に設
けるには、ドライフイルム型のフォトレジストにおいて
は、シート状の感光性フォトレジストを基板に熱圧着す
るのに対し、液状フォトレジストにおいては、硬化性樹
脂を基板に塗布するという工程上の相違から、感光層と
基板との密着性においてドライフィルムより液状フォト
レジストの方が優れており、ソルダーレジストについて
は液状フォトレジストの方が、ドライフィルム型のフォ
トレジストより活発に開発が行われている。

しかし、従来の液状フォトレジストにおいては、現像液
として主に有機溶剤が使用されており、現像作業性、作
業環境の安全衛生性、経済性、大気汚染等の公害防止な
どにおいて問題が多い、また、有機溶剤を使用した現像
液は、水性現像液にくらべ高価であるため水性現像液で
現像可能な組成物の開発が望まれている。

〔本発明が解決しようとする課題〕

水性現像液で現像可能なソルダーレジストとしては以下
の特性が要求される。

ハンダ耐熱性：硬化塗膜をハンダ浴中へ浸漬したときの
耐熱性。

硬化性：光の照射により速やかに硬化する特性。

密着性：基板と感光層との密着性。

耐熱性：ｔｏｏ’ｃ以下の温度で長時間硬化塗膜を保持
したときの耐熱性。

耐メツキ性；メツキ処理浴へ硬化塗膜を浸漬したときの
耐性。

電気特性：主に、絶縁性。

硬度；硬化塗膜の硬度。

解像度：狭い線幅を有するハンダパターンを形成できる
度合い。

しかし、上記の特性を全て満足するソルダーレジスト組
成物は、未だ開発されていない。

上記の現状に鑑み、本発明は水性現像液の使用が可能で
上記特性を全て満足し、ソルダーレジストを始め、プリ
ント配線板用の種々のフォトレジストとして有用な硬化
性組成物を提供しようとするものである。

（ロ）発明の構成〔課題を解決するだめの手段〕本発明者らは上述されたごとき従来技術における種々の
問題点について鋭意研究した結果、特定の硬化性成分か
らなる液状レジス）＆ｌｌ成物に、さらにベンゾトリア
ゾールカルボン酸その他の限定された種類の化合物を配
合することにより、水性現像液で現像可能なソルダーレ
ジストとして要求される種々の特性を、著しく改善でき
ることを新たに見出し、本発明を完成するに到った。

即ち、本発明は下記（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）及び（ｄ）
を含有することを特徴とする硬化性組成物である。

（ａ）エポキシ（メタ）アクリレートと無水多塩基酸と
の反応生成物。

（ｂ）一分子中に（メタ）アクリロイル基を少なくとも
２個有するリン酸エステル。

（ｃ）光重合開始剤。

（ｄ）下記（＋）式で表される化合物。

（式中Ｒ’は水素、アルカリ金属、炭素数が１ないし６
であるアルキル基または四級アンモニウム塩である。）なお本明細書においてはアクリレート及び／又はメタク
リレートを（メタ）アクリレートと、またアクリロイル
基及び／又はメタクリロイル基を（メタ）アクリロイル
基と称する。

以下に、本発明の組成物を構成する各成分について説明
する。

成分（ａ）は、エポキシ（メタ）アクリレートと無水多
塩基酸の反応生成物であり、その中でも室温で固体のも
のが、本発明組成物の塗膜表面をタックフリーにできる
点で適している。

かかる室温で固体の成分（ａ）の中でも、軟化点が好ま
しくは２ＯＡ−１２０’Ｃ，より好ましくは４０〜１０
０°Ｃの範囲内にあるものが通している。

成分（ａ）の−原料であるエポキシ（メタ）アクリレー
トについては種々知られており（例えば特開昭６０−２
０８３７７号公報など）それらのいずれも使用できる。

エポキシ（メタ）アクリレートは一般に、一分子中にエ
ポキシ基を少なくとも１個有するエポキシ化合物と、一
分子中に（メタ）アクリロイル基およびカルボキシル基
を有する化合物とを反応させることにより製造され、（
メタ）アクリロイル基とヒドロキシル基を分子内に有す
る化合物であり、本発明における成分（ａ）としては、
実質的に未反応エポキシ基を含まず、かつ（メタ）アク
リロイル基を２個以上含むエポキシ（メタ）アクリレー
トを合成原料としたものが好適である。未反応エポキシ
基を含むエポキシ（メタ）アクリレートを原料とした場
合は、そのヒドロキシル基を無水多塩基酸と反応させる
ときに、エポキシ基との反応を併発してゲル化する可能
性が高くなり、また、保存中においてもゲル化する可能
性が高くなる。（メタ）アクリロイル基を１個だけしか
含まないものは露光により得られる塗膜の機械的強度が
弱く、現像時に硬化物が剥離或いは蛇行することがある
。

エポキシ（メタ）アクリレートの一原料であるエポキシ
化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エ
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、タ
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、テトラグリシジル
ジアミノジフェニルメタンなどのグリシジルアミン型エ
ポキシ樹脂または脂環式エポキシ樹脂等を使用できる。

これと反応させるべき（メタ）アクリロイル基およびカ
ルボキシル基を有する化合物としては、アクリル酸、メ
タクリル酸の他、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタ
ル酸又は無水コハク酸などの酸無水物とヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート又はペンタエリスリトールトリ
　（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリ
レートとの反応生成物及びアクリル酸ダイマー等がある
。ｎ売時の硬化性、最終塗膜の耐熱性等の点から、エポ
キシ化合物としてフェノールノボラック型エポキシ樹脂
あるいはクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を用い、
（メタ）アクリロイル基およびカルボキシル基を有する
化合物としてアクリル酸あるいはメタクリル酸を使用す
ることが好ましい。

エポキシ（メタ）アクリレートの製造条件などは、上記
特許公報などに記載されている従来法に従えばよい、現
在これらエポキシ（メタ）アクリレートには市販されて
いるものもあり、これを使用することもできる。

エポキシ（メタ）アクリレートと無水多塩基酸との反応
には、水酸基を有する化合物と無水多塩基酸との反応に
関して既に知られている条件を適用でき、エポキシ（メ
タ）アクリレートのヒドロキシル基１モルに対し、無水
多塩基酸を好ましくは０．１モル以上１．０モル以下さ
らに好ましくは０．２モル以上０．９モル以下の割合で
反応させる。

無水多塩基酸０．１モル未満の場合には、本発明組成物
のアルカリ性の水性液による現像性が低下する。一方、
１．０モルを越える量の無水多塩基酸を反応させると、
成分（ａ）中に未反応の無水多塩基酸が残ることになり
、未反応の無水多塩基酸の結晶化或い多くの場合成分（
ａ）中に残留する水酸基と未反応の無水多塩基酸の反応
が保存中に起こるため、本発明組成物の保存安定性が低
下する。

成分（ａ）の製造に用いられる無水多塩基酸としては無
水マレイン酸、無水フタル酸、無水コハク酸、無水イタ
コン酸、無水シトラコン酸、無水テトラヒドロフタル酸
、無水へキサヒドロフタル酸、無水２．６−ニンドメチ
レンテトラヒドロフタル酸、無水ドデシルコハク酸、無
水ノニールコハク酸及び無水トリメリット酸などがある
。

エポキシ（メタ）アクリレートと無水多塩基酸は好まし
くは５０〜１５０℃、さらに好ましくは８０〜１２０°
Ｃの温度において、通常０．１〜１０時間、好ましくは
０．５〜５時間反応させれば良い。また、この反応には
好ましくは三級アミン類、四級アンモニウム塩、その他
トリエチルアミン、テトラブチルアンモニウムブロマイ
ド等の公知の触媒を用いることもできる。

本発明組成物における成分（ｂ）は、一分子中に（メタ
）アクリロイル基を２個以上有するリン酸エステルであ
り、紫外線等の照射により前記成分（ａ）とラジカル共
重合し、強固な塗膜を与える成分である。（メタ）アク
リロイル基を１個有したリン酸エステルでは、紫外線等
の照射による架橋が充分でなく、アルカリ現像時におけ
る塗膜強度、耐溶剤性、ハンダ耐熱性が低下する。

成分（ｂ）の具体例としては、例えば、ビスアクリロイ
ルオキシエチルフォスフェート（例えば、大へ化学■製
市販品ＡＲ−２００）、トリスアクリロイルオキシエチ
ルフォスフェート（例えば、大阪有機■製市販品ビスコ
ート＃３　ＰＡ）、ビス−メタクリロイルオキシエチル
フォスフェート（例えば、大へ化学■製市販品ＭＲ−２
００）等があり、これらを１種又は２種以上の混合物を
用いることができる。

成分（ｂ）の好ましい配合量は、成分（ａ）１００重量
部（以下部と記す）に対して１〜５０部、より好ましく
は５〜２０部である。成分（ｂ）が１部より少ないと紫
外線等の照射による架橋が充分でな（、耐溶剤性及びハ
ンダ耐熱性が低下し、５０部を超えると組成物の粘度が
下がり過ぎ、印刷適性が低下したり、予備乾燥時の乾燥
性を低下させることがある。

本発明組成物における成分（ｃ）光重合開始剤は、紫外
線等の照射によりラジカル重合を開始させることが知ら
れているものであり、具体例としては、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテルのごときベンゾインと
ベンゾインアルキルエーテル類；アセトフェノン、２．
２−ジメトキシ−２−アセトフェノン、２，２−ジェト
キシ−２−アセトフェノン、ｌ、　　１−ジクロロアセ
トフェノンのごときアセトフェノン類；２−メチルアン
トラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャ
リ−ブチルアントラキノン、ｌ−クロロアントラキノン
、２−アミルアントラキノンのごときアントラキノン１
１ｉ２，４−ジメチルチオキサントン、２．４−ジエチ
ルチオキサントン、１−クロロチオキサントン、２，４
−ジイソプロピルチオキサントンのごときチオキサント
ン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメ
チルケタールのごときケダール類；ベンゾフェノンのご
ときベンゾフェノン類またはキサントン、２−メチル−
（４−（メチルチオ）フェニル〕−２モリフォリノー１
−プロパノン等のカルボニル化合物類がある。成分（ｃ
）の好ましい配合量は、前記成分（ａ）及び成分（ｂ）
を合算した樹脂分１００部に対して０．２〜５０部、さ
らに好ましくは２〜２０部である。０．２部未満である
と露光により得られる塗膜の機械的強度が弱く、現像時
に硬化物が剥離或いは蛇行する恐れがあり、一方、５０
部を越えると露光時に使われなかった光重合開始剤が多
量に塗膜に残り、塗膜の耐熱性等の物性を低下させるこ
とがある。上記成分（Ｃ）は、安息香酸系または第三級
アミン系などの公知の光重合促進剤の１種または２種以
上と組み合わせて用いることもできる。

本発明組成物における成分（ｄ）は、前記〔Ｉ〕式で表
される化合物である０式〔Ｉ〕においてＲを構成するア
ルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム又はカリウ
ム等の金属が、アルキル基としては、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル又はヘキシル基等の１〜６
個の炭素数を有する直鎖状又は分枝状のアルキル基が、
また第４級アンモニウム基としては、テトラメチルアン
モニウム基、テトラエチルアンモニウム基、トリメチル
フェニルアンモニウム基及びＮ、Ｎ−ジメチルピペリジ
ニウム塩等があり、本発明の成分（ｄ）として使用でき
る化合物の具体例としては、４ベンゾトリアゾールカル
ボン酸、４−ベンゾトリアゾールカルボン酸ナトリウム
、４−ベンゾトリアゾールカルボン酸メチルエステル、
５−ベンゾトリアゾールカルボン酸エチルエステル等が
ある。

上記〔Ｉ〕式に該当する化合物は市販されている０例え
ば、〔Ｉ〕式におけるＲが水素原子で官能基の置換位置
が異なる４−ベンゾトリアゾールカルボン酸と５−ベン
ゾトリアゾールカルボン酸の混合物が、ピーエムシー　
スペシャリティズグループ（株）　　（ＰＭＣ５ｐｅｃ
ｉａｌｔｉｅｓ　Ｇｒｏｕｐ、　　Ｉｎｃ、）から商品
名「コブラテック（ＣＯＢＲＡＴＥＣ）　　ＣＢＴＪと
して市販されており、これをそのまま本発明の成分（ｄ
）として使用できる。

成分（ｄ）の好ましい配合量は、前記成分（ａ）及び成
分（ｂ）を合算した樹脂分１００部に対して０．２〜５
０部、さらに好ましくは２〜２０部である。

０．２部未満であると添加による効果が不十分であり、
ハンダ耐熱性が低下することがあり、一方、５０部を越
え、ると塗膜の耐熱性等の物性を低下させることがある
。

本発明の組成物中に含まれる成分（ｄ）は、本発明の組
成物中の成分（ｂ）との相乗作用により、銅製の基板面
上に形成されたレジストパターンとの密着性及びハンダ
耐熱性を著しく向上させ、かつアルカリ性の水性液によ
る現像性を損なわず、むしろこれを向上させ得ることに
大きな特長がある０本発明組成物においては、成分（ｄ
）のこのような特異な作用により、耐熱性、電気特性、
硬度等に優れた塗膜になるものと考えられる。

以上の成分によって構成される本発明組成物には、組成
物の粘度を調整するため、又は紫外線の照射による硬化
性を増加させるために、（メタ）アクリロイルを１個以
上有する化合物を加えてもよい。

（メタ）アクリロイルを１個以上有する化合物の具体例
としては、β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
、β−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリ
シジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（
メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）ア
クリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ト
リエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ　
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ
）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ
）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ
）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ
、）アクリレート、トリス−２−アクリロイルオキシエ
チルイソシアヌレート又は多塩基酸とヒドロキシルアル
キル（メタ）アクリレートからなり、縮合度が１以上の
ポリエステル、あるいは分子内に（メタ）アクリロイル
基を１個以上有するエポキシ（メタ）アクリレート及び
ウレタン（メタ）アクリレート等がある。

又本発明組成物を印刷に遺した粘度にするために、本発
明組成物に一般的な有機溶剤を添加してもよい。

有機溶剤の具体例としては、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノンのごときケトン類；トルエン、キシレンの
ごとき芳香族炭化水素類：セロソルブ、ブチルセロソル
ブのごときセロソルブ類；カルピトール、ブチルカルピ
トールのごときカルヒトール類；酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテー
ト、カルピトールアセテート、ブチルカルピトールアセ
テートのごとき酢酸エステル類があり、これらの溶剤を
１種または２種以上の混合物として用いることができる
。

本発明組成物にはさらに必要に応じて、この種の組成物
に従来広く使用されている種々の添加剤、即ち硫酸バリ
ウム、酸化珪素、タルク、炭酸カルシウムのごとき充填
剤；フタロシアニン・グリーン、フタロシアニン・ブル
ー、酸化チタン、カーボンブラックのごとき着色顔料；
染料；消泡剤；密着性付与剤またはレベリング剤などの
各種添加剤；及びハイドロキノン、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル、ピロガロール、ターシャリ−ブチルカ
テコール、フェノチアジンのごとき重合禁止剤を加えて
もよい。

本発明の硬化性組成物をソルダーレジストとして用いる
場合、プリント配線板の全面にスクリーン印刷法、ロー
ルコータ−法またはカーテンコーター法などにより塗布
し、塗膜表面をフォトマスクで覆い、紫外線を照射して
ラジカル重合により塗膜を硬化させる。

なお、本発明組成物に希釈剤として有機溶剤を使用した
場合、紫外線を照射する前に予備乾燥を行って溶剤を除
去することが望ましい、予備乾燥により、塗膜表面がタ
ックフリーになった場合は、フォトマスクを塗膜表面に
密着させて紫外線を照射する。一方、塗膜表面がタック
フリーにならない場合または有機溶剤を使用しない場合
には、フォトマスクを塗膜表面に密着させずに透明な支
持体に保持して、紫外線を照射する。

紫外線の照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプまたはメタ
ルハライドランフ゛が適当であり、照射条件は常法に従
えば良い。

上記の様にして紫外線を照射した後、現像液として炭酸
ナトリウム、水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液を
用いることにより、紫外線で露光されずに未硬化の状態
にある組成物は容易に溶解除去することができる。

その後、必要に応じ加熱により組成物中の硬化反応を完
全なものとして、レジストパターンを形成せしめる。か
かる加熱硬化の好ましい条件としては、温度は１００℃
ないし２００°Ｃ１更に好ましくは１２０°Ｃないし１
８０″Ｃで、加熱時間は１０分ないし２時間である。

〔実施例等〕

次に本発明を参考例及び実施例によりさらに具体的に説
明する。

参考例１：成分（ａ　−１）の製造温度計、撹拌機および冷却器を具備した四ロフラスコに
、東部化成■製フェノールノボラック型エポキシ樹脂Ｙ
ＤＰＮ−７０４を８５９　ｇ　（４，０８エポキシ当量
）と溶剤であるブチルセロソルブアセテート６２４ｇと
を入れ、１１０″Ｃに加熱して、均一な溶液を得た。こ
の溶液に重合禁止剤としてフェノチアジン０．５２ｇ、
触媒としてテトラブチルアンモニウムブロマイド１０．
４　ｇおよびアクリル酸２９４　ｇ　（４，０８カルボ
キシル当ｊ１）をそれぞれ加え、空気を吹き込みなから
１１０’Ｃで反応させ、エポキシアクリレートを製造し
た０反応液の酸価を測定することによりアクリル酸の消
費率を測定したところ、約９時間で酸価の減少がなくな
り、また、酸価から計算されるアクリル酸の消費率がほ
ぼ１００％となった。上記で得たエポキシアクリレート
の溶液に、さらに無水フタル酸３０２　ｇ　（２，０４
モル）を加え１１０°Ｃで反応を行った０反応液に無水
フタル酸が完全に溶解した後さらに３時間反応させた。

この溶液にブチルセロソルブアセテート１５９　ｇを加
え、エポキシアクリレートと無水多塩基酸との反応生成
物の固形分６５％の溶液として成分（ａ−１）を得た。

参考例２：成分（ａ−２）の製造温度計、攪拌機および冷却器を具備した四ロフラスコに
、フェノールノボラック型エポキシ樹脂（大日本インキ
化学工業■製エピクロンＮ−７７０）を５９５　ｇ　（
３，２０エポキシ当量）とフ゛チルセロソルブアセテー
ト均一な溶液を得た．この溶液に重合禁止剤としてフェノ
チアジン０．４１　ｇ、触媒としてテトラブチルアンモ
ニウムブロマイド８．３ｇおよびアクリル酸２３０　ｇ
　（３．２０カルボキシル当量）をそれぞれ加え、空気
を吹き込みなから１１０°Ｃで反応させ、エポキシアク
リレートを製造した。反応液の酸価を測定することによ
りアクリル酸の消費率を測定したところ、約９時間で酸
価の減少がなくなり、また、酸価から計算されるアクリ
ル酸の消費率がほぼ１００％となった．上記で得たエポ
キシアクリレートの溶液に、さらに無水フタル酸３３２
ｇ　（２．２４酸無水基当ｉｔ）を加え１１０°Ｃで反
応を行った．反応液に無水フタル酸が完全に溶解した後
さらに３時間反応させた．この溶液にブチルセロソルブ
アセテート１２７ｇを加え、エポキシアクリレートと無
水多塩基酸との反応生成物の固形分６０％の溶液として
成分（ａ−２）を得た。

実施例　１〜３成分（ａ）〜成分（ｄ）及びその他の成分として以下の
ものをそれぞれ第１表に示す配合比率に従って使用し、
これらを三本ロールで練ることにより、固形分６６％の
硬化性組成物を調製した。

成分（ａ）：各参考例で得た成分（ａ−１）又は成分（
ａ−２）成分（ｂ１）リス−アクリロイルオキシエチルフォスフ
ェート（大阪有機■製画品名［ビスコート＃３ＰＡＪ）
、ビス−アクリロイルオキシエチルフォスフェート〔大
へ化学■製商品名Ａ　Ｒ−２００）　）成分（Ｃ）（光重合開始剤）：２−メチル−〔４−（メ
チルチオ）フェニルツー２−モリフオリノ−１−プロパ
ノン（チバガイギー社製商品名「イルガキュア（Ｉｒｇ
ａｃｕｒｅ）　９０７　Ｊ　）　５部及び２．４−ジエ
チルチオキサントン〔日本化薬■製商品名「カヤキュア
（ＭＡＹＡＣＵＲＩ）ＤＥＴＸＪ　）　２部成分（ｄ）：前記のコプラテック（ＣＯＢＲＡＴＥＣ）
　ＣＲＴ〔ピーエムシースペシャリティズグループ（株
）　　（ＰＭＣ５ｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ　Ｇｒｏｕｐ、
Ｉｎｃ、）製商品名）その他の成分光重合促進剤：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル〔日
本化薬■製商品名「カヤキュア（ＭＡＹＡＣＵＲＩり　
［！ＰＡ　Ｊ　）　２部レベリング剤：楠本化成■製商
晶名「ディスバロン１１９７０　Ｊ　８部消泡剤：橋本化成■製商品名「ディスパロン０Ｘ−７２
０４８部着色顔料：フタロシアニン・グリーン１．０部充填剤：
タルク１５部溶剤ニブチルセロソルブアセテートこの硬化性組成物を銅スルーホールプリント配線板にス
クリーン印刷法によって、厚さ２０〜３０μｍで塗布し
、塗膜を７５℃で３０分間乾燥した。このようにして作
製した塗膜にフォトマスクを当て、■ハイチック製のフ
ォトソルダー両面焼付機ｒｉＴＥ−１０６ＳＭ　Ｊによ
り５００ｍＪ／ｃｊの光量で露光した。

ついで、（有）キムラ・エツチング研究所型ＰＣＢ用Ｄ
Ｆ自動現像機により、液温が３０°Ｃで濃度１重量％の
炭酸ナトリウム水溶液を、１．５Ｋｇ／ｃｍ″の圧力で
６０秒間スプレーし、塗膜の未露光部を除去することに
より、アルカリ現像を行った。その後、熱風乾燥機によ
り１５０℃で３０分間加熱して、充分に硬化させ、それ
ぞれの供試体を作製した。

比較例　１成分（ａ）の代わりにビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
のアクリレート〔昭和高分子■製画品名［リポキシＶＲ
−８０１）を使用した以外は実施例３と全く同様にして
供試体を作製した。

比較例　２成分（ａ）として参考例１で得た（ａ−１）成分を用い
、成分（ｂ）の代わりにアクリロイルオキシエチルフォ
スフェート（共栄社油脂化学工業■製商品名ライトエス
テルＰＡ）を使用した以外は実施例３と全く同様にして
供試体を作製した。

比較例　３成分（ｂ、）を使用しないこと以外は実施例１と全く同
様にして供試体を作製した。

比較例　４成分（ａ）として参考例１で得た（ａ　−１）成分を用
い、成分（ｄ）を使用しないこと以外は実施例３と全く
同様にして、供試体を作成した。

上記の様にして作成した供試体について各種の性能試験
を行った結果を第２表に示す。

なお、第２表中に示す各種の性能試験は、次の試験法に
より行ったものである。

〔アルカリ現像性〕

上記の方法によるアルカリ現像後に、未露光部の状態に
ついて判定した。その判定基準は次の通りである。

○・・・・・・現像残り無し ×・・・・・・現像残り有り【ハンダ耐熱性〕供試体をロジン系フランクスに浸漬した後、浴温か２６
０℃で錫濃度６０％の溶融ハンダ浴に２０秒間浸１し、
トリクロルエチレンで急冷した後、硬化塗膜の状態につ
いて判定した。浸漬試験は５回行った。第２表には、ふ
くれ、溶融又は剥離等の異常を生じない浸漬回数を示し
た。

【解像度〕

８０ｕｍ、１００　ｐｍおよび１２０μｍのライン幅の
パターンを持つフォトマスクを用いて作成した供試体を
それぞれ顕微鏡で観察し、塗膜の状態について判定した
。その判定基準は次の通りである。

Ｏ・・・・・・異常なし ×・・・・・・剥離、蛇行などの異常有り〔鉛筆硬度〕ＪＩＳ　Ｄ　０２０２に従い、種々の硬度の鉛筆を用い
、塗膜が傷つかない最も硬い鉛筆の硬度を求めた。

〔密着性〕

ＪＩＳ　Ｄ　０２０２に従い、１−一角の刻みを基盤目
状にｌＯＯ個入個人塗膜に、セロハンテープを密着後剥
離して、後に残った基盤目の数を求めた。

第＊７；共聡和血批字１羽場割宙名表第表（ハ）発明の効果本発明組成物は、紫外線等の照射による硬化性に優れ、
かつその硬化物はアルカリ水溶液による現像性、ハンダ
耐熱性、密着性、耐熱性、耐メツキ性、電気特性、硬度
及び解像度等に優れ、プリント配線板などの製造に用い
られるフォトレジスト、特にソルダーレジストとしての
用途において従来品の特性を大幅に改善したものである
。

Claims

【特許請求の範囲】１）下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）を含有する
ことを特徴とする硬化性組成物。（ａ）エポキシ（メタ）アクリレートと無水多塩基酸と
の反応生成物。（ｂ）一分子中に（メタ）アクリロイル基を少なくとも
２個有するリン酸エステル。（ｃ）光重合開始剤。（ｄ）下記〔 I 〕式で表される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕（式中Ｒ＾１は水素、アルカリ金属、炭素数が１ないし
６であるアルキル基または四級アンモニウム塩である。）