JPH04170481A - 液状レジストインク組成物 - Google Patents

液状レジストインク組成物

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JPH04170481A
JPH04170481A JP2298129A JP29812990A JPH04170481A JP H04170481 A JPH04170481 A JP H04170481A JP 2298129 A JP2298129 A JP 2298129A JP 29812990 A JP29812990 A JP 29812990A JP H04170481 A JPH04170481 A JP H04170481A
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宮山 聡
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得山 三宅
Toshiaki Nishimura
西村 俊章
Toshikazu Oda
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 未発明は、プリント配線基板の製造に適した、希アルカ
リ水溶液で現像可能な液状レジストインク組成物に関す
る。
【従来の技術〕
従来よD.民生用及び産業用の各種プリント配線基板の
レジストパターン形成法には、スクリーン印刷法が多く
用いられているが、この方法は解像度が低く、印刷時の
インクのにじみ及び線間へのインクの埋り不良が発生す
るので、最近の高密度化に対応しきれなくなっている。
このような問題を解決するために、ドライフィルムや液
状の現像可能なレジストインクが開発され、その中でも
特に希アルカリ水溶液で現像可能なものが注目されてい
る。
このような液状レジストインク組成物として、特公昭5
6−40329号及び特公昭57−45785号公報に
、エポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応させると
共に多塩基酸無水物を付加してなる反応生成物を必須成
分とする組成物が示されている。
また、特開昭61−243869号公報に、ノボラック
型エポキシアクリレートに酸無水物を付加してなる希ア
ルカリ水溶液に可溶な樹脂、光重合開始剤、希釈剤及び
エポキシ化合物からなる熱硬化性成分を含有する弱アル
カリ現像型の液状レジストインク用感光性樹脂組成物が
開示されている。
(発明が解決しようとする課題) 本発明の課題は、エポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸
を反応させると共に多塩基酸無水物を付加したD.ノボ
ラック型エポキシアクリレートに酸無水物を付加する前
記従来方法による樹脂生成物を使用せずに、前記従来技
術以上に優れた計時性を有し、解像性、光硬化性及び熱
硬化性に優れると共に硬化塗膜についても密着性、耐熱
性、硬度、耐溶剤性、耐酸性、電気特性及び耐メツキ性
等に優れた液状レジストインク組成物を提供することに
ある。
(31題を解決するための手段及び作用〕本発明に係る
希アルカリ水溶液で現像可能な液状レジストインク組成
物は、 A、三塩基酸以上の酸無水物と2−ヒドロキシエチル(
メタ)アクリレートとの反応生成物単独又はそれと(メ
タ)アクリル酸との混合物を、エポキシ樹脂又はエポキ
シ(メタ)アクリレートと反応させてなる紫外線硬化性
樹脂、 B、光重合開始剤、 C0希釈剤及び D.熱硬化性エポキシ化合物 を含有するものである。
〈紫外線硬化性樹脂Aについて〉 三塩基酸以上の酸無水物として、例えば、無水トリメリ
ット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカ
ルポン酸無水物等の芳香族多価カルボン酸無水物を挙げ
ることができる。
前記酸無水物と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ートとの反応に際しては、前者の無水部1モルに対して
後者を1モル以上反応させる。例えば、無水トリメリッ
ト酸1モルに対しては、2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレートを1モル以上反応させればよい。これは、
前記反応生成物に無水部が残存すると、これとエポキシ
樹脂等との反応に際してゲル化が進み、目的とする紫外
線硬化性樹脂が良好に得られないからである。前記反応
生成物には、必要に応じて、樹脂の溶解性の調整等のた
めに(メタ)アクリル酸が併用される。
前記反応生成物と反応させるエポキシ樹脂等としては、
ビスフェノールA型、フェノールノボラック型、−クレ
ゾールノボラック型等のエポキシ樹脂及びそれらに対応
する各エポキシ(メタ)アクリレートを挙げることがで
きる。
前記エポキシ(メタ)アクリレートは、前記のようなエ
ポキシ樹脂をそのエポキシ基1モルに対して1モル未満
、好ましくは0.6モル以下のアクリル酸又はメタクリ
ル酸と常法により反応させて得られる。
本発明に使用する紫外線硬化性樹脂は、前記反応生成物
等とエポキシ樹脂等との反応により得られる。−得−ら
れた紫外線硬化性樹脂の酸価は、好ましくは45〜16
0mgKOH/g、特に好ましくは60〜150mgK
OH/gであD.その酸価が45より小さい場合はアル
カリ溶解性が悪くなD.逆に160より大きい場合は硬
化膜における耐アルカリ性、電気特性等のレジストとし
ての特性を低下させる要因となる。
紫外線硬化性樹脂の一分子中に含まれるエチレン性不飽
和結合の存在数は、必要な光硬化速度を確保し、レジス
トとしての前記特性が十分得られるように選択される。
く光重合開始剤Bについて〉 光重合開始剤として、例えば、ベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンイソプロピルエーテル等のベンゾインとそのアルキル
エーテル類; アセトフェノン、2.2−ジメトキ、シ
ー2−フェニルアセトフェノン、2.2−ジェトキシ−
2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセト
フェノン、l−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケト
ン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン等のアセトフ
ェノン類; 2−メチルアントラキノン、2−アミルア
ントラキノン等のアントラキノン類= 2.4−ジメチ
ルチオキサントン、2.4−ジエチルチオキサントン、
2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチ
オキサントン等のチオキサントン類; アセトフェノン
ジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタ
ール類; ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類又はキ
サントン類を挙げることができ、これらは安息香酸系又
は第三級アミン系等の公知の光重合促進剤と併用しても
よい。
前記光重合開始剤は、前屈紫外線硬化性樹脂1・00重
量部に対して好ましくは0.1〜30重量部、特に好ま
しくは1〜25重量部配合される。
(希釈剤Cについて〉 希釈剤として、光重合性モノマー及び/又は有機溶剤を
使用することができる。前記光重合性子ツマ−として、
例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、N−ビニルピロリドン、
アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレンダ
リコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコー
ルアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、N、N−ジメチルアクリルアミド、N−メチロール
アクリルアミド、N、N−ジメチルアミノプロピルアク
リルアミド、N、N−ジメチルアミノエチルアクリレー
ト、N、N−ジメチルアミノプロピルアクリレート、メ
ラミンアクリレート及び前記アクリレートに対応する各
メタクリレート等の水溶性子ツマ−; 及びジエチレン
グリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジ
アクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、フェノキシ
エチルアクリ王ニドテトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、トリメチロールブロ
ノ\ンジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリト
ールへキサアクリレート、イソボニルアクリレート、シ
クロペンタニル(モノ又はジ)アクリレート、シクロペ
ンテニル(モノ又はジ)アクリレート、又は前記アクリ
レートに対応する各メタクリレート類、多塩基酸とヒド
ロキシアルキル(メタ)アクリレートとのモノ−、ジー
、トリー又はそれ以上のポリエステル等の非水溶性子ツ
マ−; さらにポリエステルアクリレート、ウレタンア
クリレート、ビスフェノールA型エポキシアクリレート
、フェノールノボラック型エポキシアクリレート、タレ
ゾールノボラック型エポキシアクリレート等の高分子量
アクリレートモノマー等を挙げることができる。
また、前記有機溶剤としては、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類: トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類: セロソルブ、ブチルセロソルブ
等のセロソルブ類; カルピトール、ブチルカルピトー
ル等のカルピトール類: 酢酸エチル、酢酸ブチル、セ
ロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブ
チルカルピトールアセテート等の酢酸エステル類等を挙
げることができる。
前記水溶性モノマー、非水溶性子ツマ−及び高分子量ア
クリレートモノマーは、前記紫外線硬化性樹脂を希釈し
、塗布し易い状態にすると共に酸価を調整し、光重合性
を与える。水溶性モノマーの配合比率が多くなると、ア
ルカリ水溶液への溶解性は向上するが、多用すると完全
硬化したレジスト材の耐水性が低下するので、水溶性子
ツマ−に非水溶性モノマーや高分子量アクリレートモノ
マーを、レジスト材がアルカリ水溶液に難溶とならない
程度に、好ましくは前記紫外線硬化性樹脂の100重鳳
%以下の範囲で適宜併用すればよい。前記有機溶剤は、
前記紫外線硬化性樹脂を溶解、希釈し、液状として塗布
可能にすると共に乾燥により造膜させる。
前記希釈剤は、単独又は2種以上の混合物として、前記
紫外線硬化性樹脂100重量部に対して好ましくは30
〜350重量部、特に好ましくは50〜250重量部配
合される。
〈熱硬化性エポキシ化合物りについて)熱硬化性エポキ
シ化合物として、例えばビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、N−グリシジル型エポキシ樹脂
又は脂環式エポキシ樹脂等の一分子中に2個以上のエポ
キシ基を有するものを挙げることができ、これらは前記
紫外線硬化性樹脂100重量部に対して好ましくは10
〜150重量部、特に好ましくは30〜100重量部配
合される。
前記のようにして得られた液状レジストインク組成物に
は、必要に応じて、硫酸バリウム、酸化珪素、タルク、
クレー、炭酸カルシウム等の公知の充填剤: フタ−シ
アニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、酸化チタ
ン、カーボンブラック等の公知の着色用顔料; 消泡剤
、密着性付与剤又はレベリング剤等の各種添加剤、或は
ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、
ピロガロール、ターシャリブチルカテコール、フェノチ
アジン等の公知の重合禁止剤等を加えてもよい。
本発明に係る液状レジストインク組成物の使用方法とし
て、例えば、プリント配線基板にスプレー、ロールコー
タ−又はスクリーン印刷等により塗布した後、溶剤を揮
発させるために70〜90℃でプリキュアを行ない、そ
の後、パターンを描いたマスクを乾燥したインク表面に
当てがい、ケミカルランプ、定圧水銀灯、中圧水銀灯、
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハ
ライドランプ等を用いて200〜1500 m jの紫
外線を照射することによりパターンを形成し、現像後、
後加熱することによD.目的とするレジスト皮膜を形成
させることができる。また、この組成物は、ソルダーレ
ジストとしてのみならず、熱による後硬化を加えないこ
とによりエツチングレジストとしてもイ吏用することか
できる。
〔実施例〕
以下に、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説
明するが、本発明はそれらの実施例に限定されるもので
はない。なお、以下に使用される「部」及び「%」は、
全て重量基準である。
〈実施例1〉 無水トリメリット酸1モルに対し2−ヒドロキシエチル
アクリレート1モルを付加して得られた反応生成物1モ
ルに、「エピコート154」 (エポキシ当量178の
油化シェルエポキシ社製フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂)の1工ポキシ当量分を、カルピトールアセテー
トを溶媒として常法により反応させた。この樹脂生成物
は、カルピトールアセテートを30%含む粘稠な液体で
あD.混合物として81mgKOH/gの酸価を示した
。以下、前記樹脂生成物を樹脂(A−1)と記載する。
[配合成分] 樹脂(A−t)40   部 「エピコート1544        18   部ベ
ンジルジメチルケタール     3  部「モダフロ
ー」 (モノサント社製レベリング剤)1部 シリカ(平均粒径1μ)     25  部フタロシ
アニン・グリーン     0.5部「スワゾール1ら
OO」 (丸善石油化学社製芳香族系溶剤)     
      12  部ジシアンジアミド      
   O,S部前記組成の配合成分を三段ロールで混練
し、弱アルカリ現像型の液状レジストインクを調製した
後、このインクを、銅箔35μのガラスエポキシ基材か
らなる銅張積層板及びこれを予めエツチングしてパター
ンを形成しておいたプリント配線基板の全面にスクリー
ン印刷により塗布し、溶剤を揮発させるために90℃で
プリキュアを20分行ない、膜厚20μの乾燥塗膜を得
た。その後、パターンを描いたマスクを塗膜面に直接当
てかい、500 m jの紫外線を照射することにより
パターンを形成し、現像してテストと−スを作成した。
〈実施例2〉 無水トリメリット酸1モルに対し2−ヒドロキシエチル
アクリレート1モルを付加して得られた反応生成物0.
8モルとアクリル酸0.2モルとの混合物に、「エビク
ロンN−730AJ  (エポキシ当量176の大日本
インキ化学社製フェノールノボラック型エポキシ樹脂)
の1工ポキシ当量分を、カルピトールアセテートを溶媒
として常法により反応させた。この樹脂生成物は、カル
ピトールアセテートを30%含む粘稠な液体であD.混
合物として72 m gにOH7gの酸価を示した。以
下、前記樹脂生成物を樹脂(A−2)と記載する。
[配合成分] 樹脂(A−2)          40   部rT
EP1cJ  (エポキシ当量100の白滝化学社製エ
ポキシ樹脂)        10  部ヒドロキシエ
チルアクリレート   2  部「イルガキュアー90
7J  (チバ方イギー社製光重合開始剤)     
       2  部シリコーンレベリング剤   
   0.5部タルク(平均粒径3μ)      1
5  部フタロシアニン・グリーン     0.5部
酢酸ブチル           29.5部2−メチ
ルイミダゾール      0.5部前記組成の配合成
分を実施例1と同じ方法で混練して液状レジストインク
を調製した後、このインクを、実施例1と同じ方法で、
銅箔35μのガラスエポキシ基材からなる銅張積層板及
びこれを予めエツチングしてパターンを形成しておいた
プリント配線基板の全面にスプレ一方式により塗布し、
テストピースを作成した。
く比較例1〉 「エピコート154」の1工ポキシ当量分にアクリル酸
1.05モルを反応させて得られたエポキシアクリレー
トに、無水フタル酸0.8モルを、セロソルブアセテー
トを溶媒として常法により反応させた。この樹脂生成物
は、セロソルブアセテートを30%含む粘稠な液体であ
D.混合物として85 m g K OH/ gの酸価
を示した。
樹脂(A−2)を前記樹脂生成物の樹脂と置き換えた以
外は実施例2と同じ組成の配合成分を、実施例1と同じ
方法で混練して液状レジストインクを潤製した後、この
インクを、実施例1と同じ方法で、銅箔35μのガラス
エポキシ基材からなる銅張積層板及びこれを予めエツチ
ングしてパターンを形成しておいたプリント配線基板の
全面にスクリーン印刷により塗布し、テストピースを作
成した。
く試験結果〉 前記実施例及び比較例で得られた液状レジストインクの
テストピースに関する諸物性試験結果を表1に示す。
(以下、本頁余白) 表1 〔発明の効果〕 以上のように、本発明に係る液状レジストインク組成物
は、希アルカリ水溶液で容易に現像でき、解像性、光硬
化性、熱硬化性に優れ、またそれに配合される紫外線硬
化性樹脂の製造に際して反応時間を容易に短縮すること
が可能である。また、この液状レジストインク組成物に
よる硬化塗膜も、優れた密着性、耐熱性、硬度、耐溶剤
性、耐酸性、電気特性、耐メツキ性等を備える。
従って、この液状レジストインク組成物は、前記効果に
よD.ソルダーレジストインクやエツチングレジストイ
ンクとして特に民生用や産業用のプリント配線基板の製
造に好適に使用することができる。
以上 特許出願人 互応化学工業株式会社 代理人 弁理士  安 藤 惇 逸 手続補正書 平成04年01月30日 平成02年特許願 第298129号 2、発明の名称 液状レジストインク組成物 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住 所  京都府宇治市伊勢田町井尻58番地名 称 
 互応化学工業株式会社 代表取締役 三上 圧勝 4、代理人 〒603 6、補正の対象  明細書の「発明の詳細な説明」の欄
7、補正の内容

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)A.三塩基酸以上の酸無水物と2−ヒドロキシエ
    チル(メタ)アクリレートとの反応生成物単独又はそれ
    と(メタ)アクリル酸との混合物を、エポキシ樹脂又は
    エポキシ(メタ)アクリレートと反応させてなる紫外線
    硬化性樹脂、 B.光重合開始剤、 C.希釈剤及び D.熱硬化性エポキシ化合物 を含有してなる希アルカリ水溶液で現像可能な液状レジ
    ストインク組成物。
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