JP4930913B2 - 多孔性素材のプラズマ処理方法及び処理装置 - Google Patents
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Description
(1) 多孔性素材を吸引する圧力を1〜100 Paとする。
(2) 多孔性素材に通過させるプラズマの量を、多孔性素材の単位面積1cm2当たり0.002〜2L/minとする。
(3) 多孔性素材を多孔性の支持体に接触させた状態で、(a) 多孔性支持体を吸引するか、(b) 多孔性素材にプラズマを吹き付けるか、(c) 多孔性支持体にプラズマを吹き付けながら多孔性素材を吸引することにより、多孔性素材にプラズマを通過させる。
(4) 上記(3)に記載の多孔性支持体の空孔率を20〜80%にする。
(5) 上記(3)又は(4)に記載の多孔性支持体は板状又はロール状である。
(6) 上記(5)に記載の板状多孔性支持体を用いて多孔性素材をバッチ式にプラズマ処理するか、上記(5)に記載のロール状多孔性支持体を用いて多孔性素材を搬送しながら連続式にプラズマ処理する。
(7) プラズマ発生領域外に多孔性素材及び上記(3)〜(6)のいずれかに記載の多孔性支持体を配置し、多孔性素材及び/又は多孔性支持体を吸引するか、プラズマを多孔性素材に吹き付けるか、プラズマを多孔性支持体に吹き付けながら多孔性素材を吸引する。
(8) 多孔性支持体は板状又はロール状である。
(9) 多孔性素材及び/又は多孔性支持体を吸引する減圧手段を具備する。
本発明のプラズマ処理方法を適用できる多孔性素材の材質は特に制限されず、例えば各々多孔性を有するプラスチック、ガラス、セラミックス、金属、半導体等が挙げられる。多孔性素材の形状も特に制限されないが、フィルム状又は板状であるのが好ましい。中でも多孔性プラスチックフィルムが好ましい。多孔性プラスチックフィルムとしては、熱可塑性樹脂微多孔膜、熱可塑性樹脂不織布等が挙げられる。これら微多孔膜又は不織布を構成する熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン(PO)、ポリエステル、ポリアミド、ポリアリーレンエーテル、ポリアリーレンスルフィド等が挙げられ、中でもPOが好ましい。
本発明の方法では、(a) プラズマを多孔性素材に接触させた状態で多孔性素材を吸引することにより、多孔性素材にプラズマを通過させるか、(b) プラズマを、多孔性素材の単位面積1cm2当たり0.002〜2L/minの流量で、多孔性素材に吹き付けて多孔性素材にプラズマを通過させ、もって多孔性素材の表面及び細孔内をプラズマ処理する。
多孔性素材1がプラスチック材である場合、プラズマ処理した後、さらにモノマーグラフト処理してもよく、これにより親水性が一層向上する。多孔性素材1がPO微多孔膜である場合、モノマーとしてはアクリル系モノマーが好ましい。プラズマ処理したPO微多孔膜をモノマーグラフト処理する方法として、例えば特開平9-31226号に記載の方法が挙げられる。特開平9-31226号に記載の方法に従えば、プラズマ処理したPO微多孔膜に、アクリル系モノマー(例えばメタクリレート等)を接触させ、アクリル系モノマーをグラフト重合すればよい。このようなモノマーグラフト処理により、PO微多孔膜の親水性のみならず、各種有機溶媒に対する親和性が一層向上する。そのため本発明のプラズマ処理及びモノマーグラフト処理を施したPO微多孔膜は、電池用セパレータ、各種フィルタ、各種機能性素材の担体等として用いると、優れた特性が得られる。
図1に示すバッチ式装置を用いて、大気圧下でポリエチレン(PE)微多孔膜[商品名:セティーラ、東燃化学(株)製、縦5cm×横5cm、厚さ:30μm、空孔率:63%、透気度:80秒/100 ml(Gurey値)]をプラズマ処理した。チャンバー3内底部の試料台31上に載置した多孔性支持体(上面を多孔質としたアルミニウム製ブロック。多孔質部分の空孔率:50%)32の上に、PE微多孔膜1を固定した。高圧電極20と接地電極21の間にヘリウムを3,000 ml/minの流量で供給しながら13.56 MHzの高周波電圧を500 Wの出力で印加し、発生したプラズマ(3L/min)をPE微多孔膜1の1mm上方から供給した。支持体32に接続したアスピレータ34で吸引しながら(吸引圧力:28 Pa、微多孔膜1に通過させたプラズマ量:3L/min)、試料台31を3mm/secの速度で移動させた。
PE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例1と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では30°であり、下面では80°であった。さらにプラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、両面に主としてカルボン酸基が導入されていることが確認され、下面まで効果的にプラズマ処理されていることが分かった。
支持体として非多孔質のアルミ製ブロックを用い、かつPE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例1と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では36°であったが、下面では123°であった。プラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、上面には主としてカルボン酸基が導入されていたものの、下面ではポリエチレン以外の化学種を示すピークが確認されず、下面までプラズマ処理されていないことが分かった。
プラズマ発生用ガスを、ヘリウム(流量:3,000 ml/min)及び酸素(流量:10 ml/min)の混合ガスとし、支持体として非多孔質のアルミ製ブロックを用い、かつPE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例1と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では52°であったが、下面では127°であった。プラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、上面には主としてカルボン酸基が導入されていたものの、下面ではポリエチレン以外の化学種を示すピークが確認されず、下面までプラズマ処理されていないことが分かった。
プラズマ発生用ガスをヘリウム(流量:2,500 ml/min)及びアルゴン(流量:500 ml/min)の混合ガスとし、支持体として非多孔質のアルミ製ブロックを用い、かつPE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例1と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では30°であったが、下面では129°であった。プラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、上面には主としてカルボン酸基が導入されていたものの、下面ではポリエチレン以外の化学種を示すピークが確認されず、下面までプラズマ処理されていないことが分かった。
図4に示すバッチ式装置を用いて、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。実施例1と同じ多孔性支持体(上面を多孔質としたアルミニウム製ブロック。多孔質部分の空孔率:50%)32の上面をポリウレタン製発泡シートにより全面的に被覆した。多孔性支持体32の被覆面上に実施例1と同じPE微多孔膜1を固定した。多孔性支持体32が接地電極21となるように、これを装置内底部の試料台31上に設置した。高圧電極20とPE微多孔膜1の間にヘリウムを3,000 ml/minの流量で供給しながら、高圧電極20とアルミニウム製多孔性支持体32の間に13.56 MHzの高周波電圧を500 Wの出力で印加してプラズマを発生させた。支持体32に接続したアスピレータ34で吸引しながら(吸引圧力:28 Pa、微多孔膜に通過させたプラズマ量:3 L/min)、試料台31を3mm/secの速度で移動させた。
実施例3で得られた大気圧プラズマ処理したPE微多孔膜を、直ちに1容量%のメタクリレートの水―メタノール[50:50(容量)]溶液に50℃の温度で30分間浸漬した後、水洗した。乾燥後に得られたPE微多孔膜のFT-IR測定からポリメチルアクリレートがグラフト重合していることを確認した。グラフト重合されたPE微多孔膜の質量増から計算されるグラフト量は11質量%であった。グラフト処理したPE微多孔膜の両面について、水接触角を測定したところ、上面では25°であり、下面では28°であった。
支持体として非多孔質のアルミ製ブロックを用い、かつPE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例3と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では31°であったが、下面では114°であった。プラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、上面には主としてカルボン酸基が導入されていたものの、下面ではポリエチレン以外の化学種を示すピークが確認されず、下面までプラズマ処理されていないことが分かった。
10,11・・・リール
2・・・プラズマ発生装置
20・・・高圧電極
21・・・接地電極
22・・・高周波電源
23・・・アース
24・・・ガス通路
25・・・ノズル
3・・・チャンバ
30・・・プラズマ発生用ガス導入管
31・・・試料台
32・・・多孔性支持体(軸本体)
33・・・配管
34・・・減圧手段
35、35'・・・マスフロー
36・・・多孔質ロール
37・・・ガイドロール
38・・・フード
320・・・空洞部
321・・・側板
322・・・軸受け部
323・・・台
Claims (3)
- 一対の高圧電極及び接地電極間でグロー放電を起こすことによりプラズマを発生させる装置を備えたチャンバ内で多孔性素材をプラズマ処理する方法において、
前記両電極間のプラズマ発生領域外に前記多孔性素材を配置し、
(a) 前記プラズマを前記多孔性素材に接触させた状態で前記多孔性素材を吸引することにより、前記多孔性素材にプラズマを通過させる、又は
(b) 前記プラズマを、前記多孔性素材の単位面積1cm2当たり0.002〜2L/minの流量で、前記多孔性素材に吹き付けて前記多孔性素材に前記プラズマを通過させることにより、
前記多孔性素材の表面及び細孔内をプラズマ処理することを特徴とする方法。 - プラズマ生成用の希ガス又は前記希ガスと反応性ガスとの混合ガスを供給する管と、一対の高圧電極及び接地電極を有するプラズマ発生装置とを有し、チャンバ内で多孔性素材をプラズマ処理する装置であって、前記両電極間のプラズマ発生領域外に前記多孔性素材を載置、固定又は搬送する多孔性支持体と、前記発生装置で生成したプラズマを前記多孔性素材又は前記多孔性支持体に吹き付ける手段とを具備することを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項2に記載のプラズマ処理装置において、チャンバ内を減圧にする真空ポンプを具備することを特徴とするプラズマ処理装置。
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