JP2007080588A - 多孔性素材のプラズマ処理方法及び処理装置 - Google Patents
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- 239000011148 porous material Substances 0.000 title claims abstract description 193
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title abstract description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 170
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 60
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 21
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 17
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- 239000012982 microporous membrane Substances 0.000 description 50
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 47
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 47
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 28
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 12
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 6
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 4
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920005830 Polyurethane Foam Polymers 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011496 polyurethane foam Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004699 Ultra-high molecular weight polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N methanol;hydrate Chemical compound O.OC GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000785 ultra high molecular weight polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
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- B01D67/009—After-treatment of organic or inorganic membranes with wave-energy, particle-radiation or plasma
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/26—Polyalkenes
- B01D71/261—Polyethylene
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- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M10/00—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
- D06M10/02—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements ultrasonic or sonic; Corona discharge
- D06M10/025—Corona discharge or low temperature plasma
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- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M14/00—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials
- D06M14/18—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation
- D06M14/26—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation on to materials of synthetic origin
- D06M14/28—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation on to materials of synthetic origin of macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
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- Analytical Chemistry (AREA)
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Abstract
【解決手段】 (a) プラズマガスを多孔性素材に接触させた状態で多孔性素材を吸引することにより、多孔性素材に前記プラズマガスを通過させるか、(b) プラズマガスを所定の流量で多孔性素材に吹き付けてプラズマガスを通過させる方法。多孔性素材を載置、固定又は搬送する多孔性支持体を有するプラズマ処理装置。
【選択図】 図1
Description
(1) 多孔性素材を吸引する圧力を1〜100 Paとする。
(2) 多孔性素材に通過させるプラズマガスの量を、多孔性素材の単位面積1cm2当たり0.002〜2L/minとする。
(3) 多孔性素材を多孔性の支持体に接触させた状態で、(a) 多孔性支持体を吸引するか、(b) 多孔性素材にプラズマガスを吹き付けるか、(c) 多孔性支持体にプラズマガスを吹き付けながら多孔性素材を吸引することにより、多孔性素材にプラズマガスを通過させる。
(4) 上記(3)に記載の多孔性支持体の空孔率を20〜80%にする。
(5) 上記(3)又は(4)に記載の多孔性支持体は板状又はロール状である。
(6) 上記(5)に記載の板状多孔性支持体を用いて多孔性素材をバッチ式にプラズマ処理するか、上記(5)に記載のロール状多孔性支持体を用いて多孔性素材を搬送しながら連続式にプラズマ処理する。
(7) 上記(3)〜(6)のいずれかに記載の多孔性支持体として多孔質誘電体により表面を被覆した多孔性金属又は多孔性金属からなるものを用い、この多孔性支持体を、高圧電極及び接地電極を有するプラズマガス発生装置の接地電極としても用い、この多孔性接地電極に多孔性素材を載置又は固定するか、この多孔性接地電極で搬送しながら、プラズマガス発生領域内で処理する。
(8) プラズマガス発生領域外に多孔性素材及び上記(3)〜(6)のいずれかに記載の多孔性支持体を配置し、多孔性素材及び/又は多孔性支持体を吸引するか、プラズマガスを多孔性素材に吹き付けるか、プラズマガスを多孔性支持体に吹き付けながら多孔性素材を吸引する。
(9) プラズマガス発生装置を2つ用い、一方の発生装置のプラズマガス発生領域内で多孔性素材を処理するとともに、他方の発生装置から上記(3)〜(6)のいずれかに記載の多孔性支持体にプラズマガスを吹き付け、かつ多孔性素材を吸引する。
(10) 多孔性支持体は板状又はロール状である。
(11) 多孔性素材及び/又は多孔性支持体を吸引する減圧手段を具備する。
(12) 多孔性接地電極は板状又はロール状である。
(13) 多孔性接地電極を吸引する減圧手段を具備する。
(14) 上記プラズマガス発生装置の他に、プラズマガスを吹き付ける手段を有するもう一つの発生装置を有し、プラズマガス吹き付け手段を有する発生装置により、プラズマガスを多孔性接地電極に吹き付ける。
本発明のプラズマ処理方法を適用できる多孔性素材の材質は特に制限されず、例えば各々多孔性を有するプラスチック、ガラス、セラミックス、金属、半導体等が挙げられる。多孔性素材の形状も特に制限されないが、フィルム状又は板状であるのが好ましい。中でも多孔性プラスチックフィルムが好ましい。多孔性プラスチックフィルムとしては、熱可塑性樹脂微多孔膜、熱可塑性樹脂不織布等が挙げられる。これら微多孔膜又は不織布を構成する熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン(PO)、ポリエステル、ポリアミド、ポリアリーレンエーテル、ポリアリーレンスルフィド等が挙げられ、中でもPOが好ましい。
本発明の方法では、(a) プラズマガスを多孔性素材に接触させた状態で多孔性素材を吸引することにより、多孔性素材にプラズマガスを通過させるか、(b) プラズマガスを、多孔性素材の単位面積1cm2当たり0.002〜2L/minの流量で、多孔性素材に吹き付けて多孔性素材にプラズマガスを通過させ、もって多孔性素材の表面及び細孔内をプラズマ処理する。
多孔性素材1がプラスチック材である場合、プラズマ処理した後、さらにモノマーグラフト処理してもよく、これにより親水性が一層向上する。多孔性素材1がPO微多孔膜である場合、モノマーとしてはアクリル系モノマーが好ましい。プラズマ処理したPO微多孔膜をモノマーグラフト処理する方法として、例えば特開平9-31226号に記載の方法が挙げられる。特開平9-31226号に記載の方法に従えば、プラズマ処理したPO微多孔膜に、アクリル系モノマー(例えばメタクリレート等)を接触させ、アクリル系モノマーをグラフト重合すればよい。このようなモノマーグラフト処理により、PO微多孔膜の親水性のみならず、各種有機溶媒に対する親和性が一層向上する。そのため本発明のプラズマ処理及びモノマーグラフト処理を施したPO微多孔膜は、電池用セパレータ、各種フィルタ、各種機能性素材の担体等として用いると、優れた特性が得られる。
図1に示すバッチ式装置を用いて、大気圧下でポリエチレン(PE)微多孔膜[商品名:セティーラ、東燃化学(株)製、縦5cm×横5cm、厚さ:30μm、空孔率:63%、透気度:80秒/100 ml(Gurey値)]をプラズマ処理した。チャンバー3内底部の試料台31上に載置した多孔性支持体(上面を多孔質としたアルミニウム製ブロック。多孔質部分の空孔率:50%)32の上に、PE微多孔膜1を固定した。高圧電極20と接地電極21の間にヘリウムを3,000 ml/minの流量で供給しながら13.56 MHzの高周波電圧を500 Wの出力で印加し、発生したプラズマガス(3L/min)をPE微多孔膜1の1mm上方から供給した。支持体32に接続したアスピレータ34で吸引しながら(吸引圧力:28 Pa、微多孔膜1に通過させたプラズマガス量:3L/min)、試料台31を3mm/secの速度で移動させた。
PE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例1と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では30°であり、下面では80°であった。さらにプラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、両面に主としてカルボン酸基が導入されていることが確認され、下面まで効果的にプラズマ処理されていることが分かった。
支持体として非多孔質のアルミ製ブロックを用い、かつPE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例1と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では36°であったが、下面では123°であった。プラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、上面には主としてカルボン酸基が導入されていたものの、下面ではポリエチレン以外の化学種を示すピークが確認されず、下面までプラズマ処理されていないことが分かった。
プラズマ発生用ガスを、ヘリウム(流量:3,000 ml/min)及び酸素(流量:10 ml/min)の混合ガスとし、支持体として非多孔質のアルミ製ブロックを用い、かつPE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例1と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では52°であったが、下面では127°であった。プラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、上面には主としてカルボン酸基が導入されていたものの、下面ではポリエチレン以外の化学種を示すピークが確認されず、下面までプラズマ処理されていないことが分かった。
プラズマ発生用ガスをヘリウム(流量:2,500 ml/min)及びアルゴン(流量:500 ml/min)の混合ガスとし、支持体として非多孔質のアルミ製ブロックを用い、かつPE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例1と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では30°であったが、下面では129°であった。プラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、上面には主としてカルボン酸基が導入されていたものの、下面ではポリエチレン以外の化学種を示すピークが確認されず、下面までプラズマ処理されていないことが分かった。
図4に示すバッチ式装置を用いて、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。実施例1と同じ多孔性支持体(上面を多孔質としたアルミニウム製ブロック。多孔質部分の空孔率:50%)32の上面をポリウレタン製発泡シートにより全面的に被覆した。多孔性支持体32の被覆面上に実施例1と同じPE微多孔膜1を固定した。多孔性支持体32が接地電極21となるように、これを装置内底部の試料台31上に設置した。高圧電極20とPE微多孔膜1の間にヘリウムを3,000 ml/minの流量で供給しながら、高圧電極20とアルミニウム製多孔性支持体32の間に13.56 MHzの高周波電圧を500 Wの出力で印加してプラズマガスを発生させた。支持体32に接続したアスピレータ34で吸引しながら(吸引圧力:28 Pa、微多孔膜に通過させたプラズマガス量:3 L/min)、試料台31を3mm/secの速度で移動させた。
実施例3で得られた大気圧プラズマ処理したPE微多孔膜を、直ちに1容量%のメタクリレートの水―メタノール[50:50(容量)]溶液に50℃の温度で30分間浸漬した後、水洗した。乾燥後に得られたPE微多孔膜のFT-IR測定からポリメチルアクリレートがグラフト重合していることを確認した。グラフト重合されたPE微多孔膜の質量増から計算されるグラフト量は11質量%であった。グラフト処理したPE微多孔膜の両面について、水接触角を測定したところ、上面では25°であり、下面では28°であった。
支持体として非多孔質のアルミ製ブロックを用い、かつPE微多孔膜を吸引しなかった以外実施例3と同様にして、大気圧下でPE微多孔膜をプラズマ処理した。得られたPE微多孔膜の両面の水接触角を測定したところ、上面では31°であったが、下面では114°であった。プラズマ処理したPE微多孔膜の両面についてFT-IR測定を行ったところ、上面には主としてカルボン酸基が導入されていたものの、下面ではポリエチレン以外の化学種を示すピークが確認されず、下面までプラズマ処理されていないことが分かった。
10,11・・・リール
2・・・プラズマガス発生装置
20・・・高圧電極
21・・・接地電極
22・・・高周波電源
23・・・アース
24・・・ガス通路
25・・・ノズル
3・・・チャンバ
30・・・プラズマ発生用ガス導入管
31・・・試料台
32・・・多孔性支持体(軸本体)
33・・・配管
34・・・減圧手段
35、35'・・・マスフロー
36・・・多孔質ロール
37・・・ガイドロール
38・・・フード
320・・・空洞部
321・・・側板
322・・・軸受け部
323・・・台
Claims (3)
- 多孔性素材をプラズマ処理する方法において、(a) 不活性ガス又は前記不活性ガスと反応性ガスとの混合ガスを、前記多孔性素材に接触させた状態でプラズマを発生させ、前記多孔性素材を吸引することにより、前記多孔性素材にプラズマガスを通過させるか、(b) プラズマガスを、前記多孔性素材の単位面積1cm2当たり0.002〜2L/minの流量で、前記多孔性素材に吹き付けて前記プラズマガスを通過させ、もって前記多孔性素材の表面及び細孔内をプラズマ処理することを特徴とする方法。
- プラズマガス生成用の不活性ガス又は前記不活性ガスと反応性ガスとの混合ガスを供給する管と、プラズマガス発生装置とを有し、チャンバ内で多孔性素材をプラズマ処理する装置であって、前記多孔性素材を載置、固定又は搬送する多孔性支持体と、前記発生装置で生成したプラズマガスを前記多孔性素材又は前記多孔性支持体に吹き付ける手段とを具備することを特徴とするプラズマ処理装置。
- プラズマガス生成用の不活性ガス又は前記不活性ガスと反応性ガスとの混合ガスを供給する管と、プラズマガス発生装置とを有し、チャンバ内で多孔性素材をプラズマ処理する装置であって、前記プラズマガス発生装置は高圧電極と、多孔性材料からなる接地電極とを有し、前記多孔性接地電極は多孔質誘電体により表面を被覆した多孔性金属又は多孔性金属からなり、かつ前記多孔性素材を載置、固定又は搬送する支持体を兼ねていることを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005264269A JP4930913B2 (ja) | 2005-09-12 | 2005-09-12 | 多孔性素材のプラズマ処理方法及び処理装置 |
CA002622229A CA2622229A1 (en) | 2005-09-12 | 2006-09-11 | Method and apparatus for plasma-treating porous body |
KR1020087008063A KR20080044325A (ko) | 2005-09-12 | 2006-09-11 | 다공성 소재를 플라즈마 처리하는 방법 및 장치 |
PCT/JP2006/318004 WO2007032321A1 (ja) | 2005-09-12 | 2006-09-11 | 多孔性素材をプラズマ処理する方法及び装置 |
CNA2006800333234A CN101263749A (zh) | 2005-09-12 | 2006-09-11 | 等离子处理多孔性原材料的方法及装置 |
US12/066,447 US8475724B2 (en) | 2005-09-12 | 2006-09-11 | Method and apparatus for plasma-treating porous body |
RU2008114322/05A RU2402374C2 (ru) | 2005-09-12 | 2006-09-11 | Способ и устройство для плазменной обработки пористого тела |
EP06797811A EP1933608A4 (en) | 2005-09-12 | 2006-09-11 | METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING OF POROUS MATERIAL |
TW095133620A TWI418258B (zh) | 2005-09-12 | 2006-09-12 | 以電漿處理多孔性原材的方法及裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005264269A JP4930913B2 (ja) | 2005-09-12 | 2005-09-12 | 多孔性素材のプラズマ処理方法及び処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007080588A true JP2007080588A (ja) | 2007-03-29 |
JP4930913B2 JP4930913B2 (ja) | 2012-05-16 |
Family
ID=37864914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005264269A Active JP4930913B2 (ja) | 2005-09-12 | 2005-09-12 | 多孔性素材のプラズマ処理方法及び処理装置 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8475724B2 (ja) |
EP (1) | EP1933608A4 (ja) |
JP (1) | JP4930913B2 (ja) |
KR (1) | KR20080044325A (ja) |
CN (1) | CN101263749A (ja) |
CA (1) | CA2622229A1 (ja) |
RU (1) | RU2402374C2 (ja) |
TW (1) | TWI418258B (ja) |
WO (1) | WO2007032321A1 (ja) |
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- 2006-09-11 RU RU2008114322/05A patent/RU2402374C2/ru active
- 2006-09-11 CN CNA2006800333234A patent/CN101263749A/zh active Pending
- 2006-09-11 US US12/066,447 patent/US8475724B2/en active Active
- 2006-09-11 CA CA002622229A patent/CA2622229A1/en not_active Abandoned
- 2006-09-11 EP EP06797811A patent/EP1933608A4/en not_active Withdrawn
- 2006-09-11 KR KR1020087008063A patent/KR20080044325A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-09-11 WO PCT/JP2006/318004 patent/WO2007032321A1/ja active Application Filing
- 2006-09-12 TW TW095133620A patent/TWI418258B/zh not_active IP Right Cessation
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EP1933608A1 (en) | 2008-06-18 |
EP1933608A4 (en) | 2011-02-16 |
KR20080044325A (ko) | 2008-05-20 |
TWI418258B (zh) | 2013-12-01 |
RU2402374C2 (ru) | 2010-10-27 |
TW200718291A (en) | 2007-05-01 |
WO2007032321A1 (ja) | 2007-03-22 |
US8475724B2 (en) | 2013-07-02 |
JP4930913B2 (ja) | 2012-05-16 |
CN101263749A (zh) | 2008-09-10 |
CA2622229A1 (en) | 2007-03-22 |
RU2008114322A (ru) | 2009-10-20 |
US20090277776A1 (en) | 2009-11-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080912 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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