RU2008114322A - Способ и устройство для плазменной обработки пористого тела - Google Patents

Способ и устройство для плазменной обработки пористого тела Download PDF

Info

Publication number
RU2008114322A
RU2008114322A RU2008114322/15A RU2008114322A RU2008114322A RU 2008114322 A RU2008114322 A RU 2008114322A RU 2008114322/15 A RU2008114322/15 A RU 2008114322/15A RU 2008114322 A RU2008114322 A RU 2008114322A RU 2008114322 A RU2008114322 A RU 2008114322A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plasma
porous
porous body
gas
generating means
Prior art date
Application number
RU2008114322/15A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2402374C2 (ru
Inventor
Коити КОНО (JP)
Коити КОНО
Котаро КИМИСИМА (JP)
Котаро КИМИСИМА
Казуки КИСО (JP)
Казуки КИСО
Original Assignee
Тонен Кемикал Корпорейшн (Jp)
Тонен Кемикал Корпорейшн
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Тонен Кемикал Корпорейшн (Jp), Тонен Кемикал Корпорейшн filed Critical Тонен Кемикал Корпорейшн (Jp)
Publication of RU2008114322A publication Critical patent/RU2008114322A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2402374C2 publication Critical patent/RU2402374C2/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/06—Organic material
    • B01D71/26—Polyalkenes
    • B01D71/261—Polyethylene
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/06—Organic material
    • B01D71/26—Polyalkenes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
    • B01D67/009—After-treatment of organic or inorganic membranes with wave-energy, particle-radiation or plasma
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M10/00—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
    • D06M10/02—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements ultrasonic or sonic; Corona discharge
    • D06M10/025—Corona discharge or low temperature plasma
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M14/00—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials
    • D06M14/18—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation
    • D06M14/26—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation on to materials of synthetic origin
    • D06M14/28—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation on to materials of synthetic origin of macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
    • B01D2323/26—Spraying processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
    • B01D2323/34—Use of radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
    • B01D2323/42—Details of membrane preparation apparatus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/62—Plasma-deposition of organic layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

1. Способ плазменной обработки пористого тела, включающий стадии, на которых генерируют плазму с использованием инертного газа или газовой смеси, состоящей из инертного газа и химически активного газа, (а) подают полученную плазму к пористому телу с расходом, отнесенным к единице площади поверхности пористого тела, составляющим от 0,002 до 2 л/мин/см2, (b) просасывают пористое тело в атмосфере плазмы, или (с) просасывают пористое тело при подаче к пористому телу плазмы с указанной величиной расхода, вызывая прохождение плазмы через пористое тело. ! 2. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее средство для генерирования плазмы, трубопровод для подачи плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую из инертного газа и химически активного газа, к средству генерирования плазмы, и пористую подложку, размещенную в камере, при этом пористая подложка размещена в таком месте, что она воспринимает давление потока плазмы, подводимой от средства генерирования плазмы, при этом указанное давление потока плазмы приложено к пористому телу или пористой подложке, контактирующей с пористым телом. ! 3. Устройство для плазменной обработки по п.2, содержащее дополнительно средство для просасывания пористого тела или пористой подложки, при этом пористое тело или пористая положка просасывается при нахождении пористого тела в контакте с пористой подложкой. ! 4. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее средство генерирования плазмы, трубопровод подачи плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую

Claims (6)

1. Способ плазменной обработки пористого тела, включающий стадии, на которых генерируют плазму с использованием инертного газа или газовой смеси, состоящей из инертного газа и химически активного газа, (а) подают полученную плазму к пористому телу с расходом, отнесенным к единице площади поверхности пористого тела, составляющим от 0,002 до 2 л/мин/см2, (b) просасывают пористое тело в атмосфере плазмы, или (с) просасывают пористое тело при подаче к пористому телу плазмы с указанной величиной расхода, вызывая прохождение плазмы через пористое тело.
2. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее средство для генерирования плазмы, трубопровод для подачи плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую из инертного газа и химически активного газа, к средству генерирования плазмы, и пористую подложку, размещенную в камере, при этом пористая подложка размещена в таком месте, что она воспринимает давление потока плазмы, подводимой от средства генерирования плазмы, при этом указанное давление потока плазмы приложено к пористому телу или пористой подложке, контактирующей с пористым телом.
3. Устройство для плазменной обработки по п.2, содержащее дополнительно средство для просасывания пористого тела или пористой подложки, при этом пористое тело или пористая положка просасывается при нахождении пористого тела в контакте с пористой подложкой.
4. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее средство генерирования плазмы, трубопровод подачи плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую из инертного газа и химически активного газа, к средству генерирования плазмы, средство вакуумирования, при этом средство генерирования плазмы включает высоковольтный электрод и пористый заземляющий электрод, причем пористый заземляющий электрод служит в качестве подложки для пористого тела, выполнен из пористого металла и покрыт или не покрыт пористым диэлектрическим телом, при этом средство генерирования генерирует плазму при нахождении пористого заземляющего электрода в контакте с пористым телом, которое просасывается с помощью указанного средства вакуумирования.
5. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее средство генерирования плазмы, трубопровод подачи плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую из инертного газа и химически активного газа, к средству генерирования плазмы, при этом средство генерирования плазмы включает высоковольтный электрод и пористый заземляющий электрод, причем пористый заземляющий электрод служит в качестве подложки для пористого тела, выполнен из пористого металла и покрыт или не покрыт пористым диэлектрическим телом, при этом средство генерирования генерирует плазму, и в то же время плазмообразующий газ подают к пористому заземляющему электроду, находящемуся в контакте с пористым телом.
6. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее первое и второе средства генерирования плазмы и трубопровод подачи к каждому из средств генерирования плазмы плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую из инертного газа и химически активного газа, при этом первое средство генерирования плазмы включает высоковольтный электрод и пористый заземляющий электрод, причем пористый заземляющий электрод служит в качестве подложки для пористого тела, выполнен из пористого металла и покрыт или не покрыт пористым диэлектрическим телом, при этом первое средство генерирования генерирует плазму, и в то же время второе средство генерирования плазмы направляет плазму к пористому заземляющему электроду, находящемуся в контакте с пористым телом.
RU2008114322/05A 2005-09-12 2006-09-11 Способ и устройство для плазменной обработки пористого тела RU2402374C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005264269A JP4930913B2 (ja) 2005-09-12 2005-09-12 多孔性素材のプラズマ処理方法及び処理装置
JP2005-264269 2005-09-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008114322A true RU2008114322A (ru) 2009-10-20
RU2402374C2 RU2402374C2 (ru) 2010-10-27

Family

ID=37864914

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008114322/05A RU2402374C2 (ru) 2005-09-12 2006-09-11 Способ и устройство для плазменной обработки пористого тела

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8475724B2 (ru)
EP (1) EP1933608A4 (ru)
JP (1) JP4930913B2 (ru)
KR (1) KR20080044325A (ru)
CN (1) CN101263749A (ru)
CA (1) CA2622229A1 (ru)
RU (1) RU2402374C2 (ru)
TW (1) TWI418258B (ru)
WO (1) WO2007032321A1 (ru)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0919274D0 (en) * 2009-11-03 2009-12-16 Univ The Glasgow Plasma generation apparatus and use of plasma generation apparatus
JP2011222404A (ja) * 2010-04-13 2011-11-04 Akitoshi Okino プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置ならびにプラズマ処理された処理対象物
US8723423B2 (en) * 2011-01-25 2014-05-13 Advanced Energy Industries, Inc. Electrostatic remote plasma source
WO2012172784A1 (ja) * 2011-06-13 2012-12-20 日東電工株式会社 非水電解質蓄電デバイス用セパレータの製造方法および非水電解質蓄電デバイスの製造方法
CN103748150B (zh) * 2011-10-20 2016-03-30 东丽电池隔膜株式会社 多孔膜的制备方法以及该多孔膜、电池用隔膜及电池
EP2586322A1 (en) * 2011-10-27 2013-05-01 Creepservice S.à.r.l. Filter and method of making same
GB201215098D0 (en) * 2012-08-24 2012-10-10 Fujifilm Mfg Europe Bv Method of treating a porous substrate and manufacture of a membrane
US11326255B2 (en) * 2013-02-07 2022-05-10 Uchicago Argonne, Llc ALD reactor for coating porous substrates
JP6020483B2 (ja) 2014-02-14 2016-11-02 トヨタ自動車株式会社 表面処理装置と表面処理方法
EP2937890B1 (en) * 2014-04-22 2020-06-03 Europlasma nv Plasma coating apparatus with a plasma diffuser and method preventing discolouration of a substrate
TWI673154B (zh) * 2014-06-20 2019-10-01 日商東京應化工業股份有限公司 多孔性之醯亞胺系樹脂膜製造系統、分隔膜及多孔性之醯亞胺系樹脂膜製造方法
TWI701292B (zh) * 2014-06-20 2020-08-11 日商東京應化工業股份有限公司 醯亞胺系樹脂膜製造系統及醯亞胺系樹脂膜製造方法
JP2016083658A (ja) 2014-10-24 2016-05-19 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 プラズマ生成装置
WO2016158054A1 (ja) 2015-03-30 2016-10-06 東京エレクトロン株式会社 処理装置および処理方法、ならびにガスクラスター発生装置および発生方法
JP6545053B2 (ja) * 2015-03-30 2019-07-17 東京エレクトロン株式会社 処理装置および処理方法、ならびにガスクラスター発生装置および発生方法
JP6779300B2 (ja) * 2016-08-22 2020-11-04 株式会社Ｆｕｊｉ プラズマ照射装置、および、プラズマ照射方法
JP6988522B2 (ja) * 2018-01-30 2022-01-05 トヨタ自動車株式会社 光照射装置
KR102243998B1 (ko) * 2019-06-06 2021-04-23 박봄이 유수 분리 기재의 표면 처리 장치
WO2021020427A1 (ja) * 2019-07-31 2021-02-04 株式会社ユポ・コーポレーション エネルギー変換フィルム、エネルギー変換素子及びエネルギー変換フィルムの製造方法
EP4045578A4 (en) * 2019-10-16 2023-10-11 Lifehouse Australia As Trustee For The Lifehouse Australia Trust PLASMA ION PROCESSING OF SUBSTRATES
CN114585454A (zh) * 2019-11-01 2022-06-03 东京毅力科创株式会社 基片清洗装置和基片清洗方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5254688A (en) * 1975-10-30 1977-05-04 Sumitomo Chem Co Ltd Method of producing semipermeable memebrane
DE3337763A1 (de) * 1983-10-18 1985-05-02 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenmodifizierung der poreninnenwaende von membranen
JPH02132327A (ja) 1988-11-14 1990-05-21 Toshiba Corp 高温用超音波センサー
JPH0663099B2 (ja) * 1989-03-06 1994-08-17 善八 小久見 薄膜の製造方法
JP3286816B2 (ja) 1992-12-24 2002-05-27 イーシー化学株式会社 大気圧グロ−放電プラズマ処理法
EP0700577A4 (en) * 1993-05-28 1996-12-27 Univ Tennessee Res Corp METHOD AND APPARATUS FOR LUMINESCENT DISCHARGE PLASMA TREATMENT OF ATMOSPHERIC PRESSURE POLYMERIC MATERIALS
US5403453A (en) 1993-05-28 1995-04-04 The University Of Tennessee Research Corporation Method and apparatus for glow discharge plasma treatment of polymer materials at atmospheric pressure
DE4432919C2 (de) * 1994-07-22 1997-10-23 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zur Plasmamodifizierung von flächigen porösen Gegenständen
JP2805002B2 (ja) 1995-04-12 1998-09-30 三洋化成工業株式会社 水性接着剤組成物
JP3455611B2 (ja) * 1995-06-09 2003-10-14 森 勇蔵 多孔体の改質処理方法およびその装置
JP3455610B2 (ja) * 1995-06-09 2003-10-14 森 勇蔵 多孔体の改質処理方法およびその装置
JPH0931226A (ja) 1995-07-20 1997-02-04 Tonen Chem Corp 親水性ポリエチレン微多孔膜、その製造方法及びそれを用いた電池用セパレータ
JPH11128634A (ja) 1997-11-04 1999-05-18 Nippon Millipore Kk 不織布フィルタおよびその製造方法並びに不織布フィルタカートリッジ
TW429280B (en) * 1998-06-05 2001-04-11 Ind Tech Res Inst A method of surface treatment and modification on fibrous products and making the same
JP2000208124A (ja) * 1999-01-11 2000-07-28 Sekisui Chem Co Ltd ２次電池用セパレ―タ及びその製造方法
US6149985A (en) 1999-07-07 2000-11-21 Eastman Kodak Company High-efficiency plasma treatment of imaging supports
BR0016773A (pt) * 1999-12-15 2002-09-03 Stevens Inst Technology Aparelho de plasma não térmico de descarga capilar em eletrodo segmentado e processo para promover reações quìmicas.
US6955794B2 (en) 1999-12-15 2005-10-18 Plasmasol Corporation Slot discharge non-thermal plasma apparatus and process for promoting chemical reaction
JP2003007497A (ja) 2001-06-19 2003-01-10 Pearl Kogyo Kk 大気圧プラズマ処理装置
EP1430501A2 (en) * 2001-07-02 2004-06-23 Plasmasol Corporation A novel electrode for use with atmospheric pressure plasma emitter apparatus and method for using the same
JP3824302B2 (ja) * 2001-11-02 2006-09-20 シャープ株式会社 プラズマ処理装置
WO2004099490A1 (en) * 2003-05-05 2004-11-18 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Plasma treatment apparatus and method
JP2005203166A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Pioneer Electronic Corp プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007032321A1 (ja) 2007-03-22
RU2402374C2 (ru) 2010-10-27
US20090277776A1 (en) 2009-11-12
JP4930913B2 (ja) 2012-05-16
TW200718291A (en) 2007-05-01
EP1933608A4 (en) 2011-02-16
CA2622229A1 (en) 2007-03-22
CN101263749A (zh) 2008-09-10
KR20080044325A (ko) 2008-05-20
TWI418258B (zh) 2013-12-01
US8475724B2 (en) 2013-07-02
JP2007080588A (ja) 2007-03-29
EP1933608A1 (en) 2008-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008114322A (ru) Способ и устройство для плазменной обработки пористого тела
TW469534B (en) Plasma processing method and apparatus
KR102539151B1 (ko) 기판 처리 방법
TW200614368A (en) Plasma processing device amd method
EP1286382A3 (en) Atmospheric pressure plasma treatment apparatus and method
EA200701008A1 (ru) Плазменная система
JP2019216140A (ja) 成膜装置及び成膜装置におけるクリーニング方法
ATE256763T1 (de) Verfahren und vorrichtung zum beschichten mittels bogenentladung
JP2018517263A5 (ja) イオン注入システム及びその場（ｉｎ ｓｉｔｕ）プラズマクリーニング方法
KR20150131093A (ko) 프로세싱 챔버에서 튜닝 전극을 사용하여 플라즈마 프로파일을 튜닝하기 위한 장치 및 방법
JP2003318158A (ja) プラズマ処理システム
TW200746295A (en) Etching apparatus and etching method for substrate bevel
WO2003010809A1 (fr) Dispositif de traitement au plasma et table de montage de substrat
JP2006270017A5 (ru)
CN110054181B (zh) 一种氧化石墨烯表面改性的方法和装置
CN102446791A (zh) 基板处理装置的清洗方法
KR20150131095A (ko) 프로세싱 챔버에서 튜닝 링을 사용하여 플라즈마 프로파일을 튜닝하기 위한 장치 및 방법
KR102264575B1 (ko) 기판 보유 지지 기구 및 성막 장치
JP2004047695A5 (ru)
JP4519808B2 (ja) 薄膜成膜方法および薄膜成膜装置
RU2010122060A (ru) Способ изготовления обработанной поверхности и вакуумные источники плазмы
KR101980840B1 (ko) 오염 물질 제거율 향상을 위한 저압 플라즈마 반응기
KR20160074397A (ko) 플라즈마 에칭 방법
JP2011108615A (ja) プラズマ処理装置
KR101049971B1 (ko) 살균 및 세정능을 갖춘 대기압 플라즈마 표면처리장치

Legal Events

Date Code Title Description
PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20110630

PD4A Correction of name of patent owner
PC43 Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions

Effective date: 20171127