JP2002337210A

JP2002337210A - 内表面処理プラスチックチューブ製造装置、及び該装置を用いた内表面処理プラスチックチューブの製造方法

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Publication number: JP2002337210A
Application number: JP2001150345A
Authority: JP
Inventors: Hideomi Koinuma; 秀臣鯉沼; Kyoichi Shikama; 共一鹿間; Yoshifumi Suzaki; 嘉文須崎; Takahiro Kajitani; 孝啓梶谷; Osamu Tanaka; 治田中; Yoshihiro Tange; 善弘丹下; Hideaki Matsuda; ▲ひで▼明松田
Original assignee: Okura Industrial Co Ltd
Current assignee: Okura Industrial Co Ltd
Priority date: 2001-05-21
Filing date: 2001-05-21
Publication date: 2002-11-27
Anticipated expiration: 2021-05-21
Also published as: JP4570277B2

Abstract

(57)【要約】【課題】大気圧グロー放電プラズマを利用してプラスチ
ックチューブ内表面を処理するにあたり、安定な大気圧
グロー放電プラズマを発生させることにより、均一で安
定的な処理が実施できるプラスチックチューブ製造装置
を提供すること。さらに、同装置を用いたプラスチック
チューブの製造方法を提供すること。【解決手段】環状ダイスを備えた押出機２、環状ダイス
から押し出され冷却固化されるプラスチックチューブを
所定の速度で引き取るための引き取り手段３、高圧側電
極４、接地側電極５、高圧側電極４、接地側電極５間に
電圧を印可するための電源６、ガス供給ライン７、ガス
吹き出し装置８、を備え、高圧側電極４、接地側電極５
間に電源６から電圧を印可することによりプラスチック
チューブ内に大気圧グロー放電プラズマを発生させるこ
とができ、ガス吹き出し装置８の外周表面には、ガスを
プラスチックチューブ内表面に向けて吹き出すための孔
が概ね均一に設置されていることを特徴とする内表面処
理プラスチックチューブ製造装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、大気圧グロー放電
プラズマにより内表面が均一に処理されたプラスチック
チューブを安定して製造できる装置、ならびに同装置を
用いた内表面が均一に処理されたプラスチックチューブ
の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、大気圧下でグロー放電プラズマを
発生させる技術が開発され、様々な用途で利用されてい
る。この技術は、一定の間隔を以て対向する高圧側電極
と接地側電極間に形成される放電部に、ヘリウム、アル
ゴン、窒素のような大気圧グロー放電プラズマ発生用ガ
スを大気圧もしくは大気圧近傍圧力下で導入すると共
に、前記電極間に高圧交流電圧を印可することにより前
記放電部に大気圧グロー放電プラズマを発生させるもの
である。

【０００３】このような大気圧グロー放電プラズマを用
いて表面改質や薄膜形成等の表面処理を行なう方法は、
従来行われてきた真空下でのプラズマ処理と比べ、低圧
雰囲気の形成や圧力制御用の装備を必要としない。この
ため、フィルムやシートのような大面積の処理を連続的
に行なう必要がある分野において好適に用いられてい
る。このような処理を行なう場合の大気圧グロー放電プ
ラズマ発生領域を形成する方法として、電極に多数の通
気孔を設け、この通気孔より大気圧グロー放電プラズマ
発生用ガスを供給したり、被処理材料を導入・搬出する
ための最低限の開口部を有するチャンバーで処理領域を
囲い、その領域へ大気圧グロー放電プラズマ発生用ガス
を連続的に供給することが提案されている。

【０００４】しかし、このような方法では、ヘリウム等
の高価な大気圧グロー放電プラズマ発生用ガスを常時導
入し続けなければならず、コストが高くつくため、汎用
のプラスチックフィルム等の表面処理には利用されてい
ないのが現状である。このため、より簡便で、コストが
低く、応用範囲の広い大気圧グロー放電プラズマ表面処
理法の開発が望まれてきた。

【０００５】一方、大気圧グロー放電プラズマによるプ
ラスチックチューブ内表面の連続処理技術として、特開
平５−２０２４８１号公報あるいは特開平８−５７０３
８号公報には、プラスチックチューブ内にその一端部か
ら大気圧近傍の圧力下において、大気圧グロー放電プラ
ズマ発生用ガスと、処理ガスとの混合ガスを連続的に導
入しつつ、高圧側電極と接地側電極間に高圧交流電圧を
印可し大気圧グロー放電プラズマ処理を行なう方法が開
示されている。しかしながら、これらの方法では、少し
でもプラスチックチューブの揺れがあると、大気圧グロ
ー放電プラズマ発生領域におけるガスの流れや圧力の偏
りをもたらし、その結果として、プラスチックチューブ
内部での均一で安定な大気圧グロー放電プラズマの発生
が妨げられ、処理に斑が生じてしまうという問題があっ
た。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
問題点を解決するためになされたもので、大気圧グロー
放電プラズマを利用してプラスチックチューブ内表面を
処理するにあたり、プラスチックチューブの揺れが多少
あっても、大気圧グロー放電プラズマ発生領域における
ガスの流れや圧力の偏りを発生することなく、プラスチ
ックチューブ内部で均一で安定的な大気圧グロー放電プ
ラズマを発生させることにより、均一で安定な処理が実
施できるプラスチックチューブ製造装置を提供すること
を目的とする。さらに、同装置を用いたプラスチックチ
ューブの製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
行った。この結果、運転時においてプラスチックチュー
ブ内に位置し、その外周表面からプラスチックチューブ
内表面に前記ガス供給ライン（７）から供給される混合
ガスを外周方向に対し均一に吹き出すための孔が均一に
設置されたガス吹き出し装置（８）を装備し、しかも、
運転時プラスチックチューブが、ガス吹き出し装置
（８）表面から略均一に隔てられつつ移動する構造とな
っており、しかも、ガス吹き出し装置（８）からプラス
チックチューブ内表面に向かって均一にガスを供給でき
る構造となっている装置が上記課題を解決するにあたり
好適なものであることを見いだし本発明を完成するに至
った。すなわち本発明は、［１］・環状ダイスを備えた押出機（２）、・環状ダイスから押し出され冷却固化されるプラスチッ
クチューブを所定の速度で引き取るための引き取り手段
（３）、・高圧側電極（４）、・接地側電極（５）、・高圧側電極（４）、接地側電極（５）間に電圧を印可
するための電源（６）、・運転時、環状ダイスから押し出され冷却固化されるプ
ラスチックチューブ内に大気圧グロー放電プラズマ発生
用ガスあるいは該ガスと処理ガスとの混合ガスを供給す
るためのガス供給ライン（７）、・運転時において、プラスチックチューブ内に、該プラ
スチックチューブ内表面と所定の間隔を以て位置するよ
うにして取り付けられる、概ね円筒形状を有するガス吹
き出し装置（８）、を備え、高圧側電極（４）、接地側
電極（５）間に電源（６）から電圧を印可することによ
りプラスチックチューブ内に大気圧グロー放電プラズマ
を発生させることができる装置であって、ガス吹き出し
装置（８）の外周表面には、ガス供給ライン（７）から
供給されるガスをプラスチックチューブ内表面に向けて
吹き出すための孔が概ね均一に設置されていることを特
徴とする内表面処理プラスチックチューブ製造装置を提
供するものである。

【０００８】［２］高圧側電極（４）あるいは接地側電
極（５）のいずれか一方がガス吹き出し装置（８）を兼
ねることを特徴とする［１］に記載の内表面処理プラス
チックチューブ製造装置を提供するものである。

【０００９】［３］さらに好ましくは、多孔板からなる
概ね円筒状のプラスチックチューブガイド（４２）が、
ガス吹き出し装置（８）の外周を同心状に取り囲んでお
り、運転時においてプラスチックチューブガイド（４
２）とガス吹き出し装置（８）はともにプラスチックチ
ューブ内に位置するようにして取り付けられていること
を特徴とする［１］に記載の内表面処理プラスチックチ
ューブ安定製造装置を提供するものである。

【００１０】［４］さらに、ガス吹き出し装置（８）及
びプラスチックチューブガイド（９）が、それぞれ高圧
側電極（４）あるいは接地側電極（５）を兼ねることを
特徴とする［３］に記載の内表面処理プラスチックチュ
ーブ安定製造装置を提供するものである。

【００１１】［５］さらに、運転時、環状ダイスから押
し出され冷却固化されるプラスチックチューブ内に、ガ
ス供給ライン（７）を通じて供給されるガスを排出する
ためのガス排出ライン（１０）を更に備えていることを
特徴とする［１］〜［４］のいずれかに記載の内表面処
理プラスチックチューブ製造装置を提供するものであ
る。

【００１２】［６］さらに、引き取り手段（３）が、ニ
ップロールであることを特徴とする［１］〜［５］いず
れかに記載の内表面処理プラスチックチューブ製造装置
を提供するものである。

【００１３】［７］また、［１］〜［６］のいずれかに
記載のプラスチックチューブ製造装置を用いて、環状ダ
イスから押し出されるプラスチックチューブ内に大気圧
グロー放電プラズマ発生用ガスあるいは該ガスと処理ガ
スとの混合ガスを供給し、高圧側電極（４）と接地側電
極（５）間に電圧を印可し、プラスチックチューブ内に
大気圧グロー放電プラズマを発生させ、プラスチックチ
ューブの内表面を処理することを特徴とする内表面処理
プラスチックチューブの製造方法を提供するものであ
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明における大気圧グロー放電
プラズマ処理（以下、大気圧グロー放電プラズマ処理を
単にプラズマ処理と、大気圧グロー放電プラズマを単に
プラズマと称することがある）とは、大気圧グロー放電
プラズマ発生用ガスのみにより発生させたプラズマによ
る表面の物理的及び化学的改質、大気圧グロー放電プラ
ズマ発生用ガスに目的に応じた処理ガスを少量添加する
ことにより発生させたプラズマによる表面の物理的及び
化学的改質等の各プラズマ処理、及びプラズマＣＶＤ、
プラズマグラフト重合等による表面への薄膜形成を意味
しており、一つに限定されるものではない。また、本発
明のプラズマ処理によりプラスチックチューブ内表面上
に発生させたラジカルやイオン等の化学的活性種を基点
とした反応性モノマー等よるグラフト化等の表面化学修
飾を、プラズマ処理の後工程として実施することも可能
である。なお、本発明でいう大気圧という文言は、厳密
な意味での大気圧を指すものではなく、環状ダイスから
押し出されて冷却固化されるプラスチックチューブの内
部が到達する常識の範囲内の圧力と解されるべきであ
る。さらに以下、大気圧グロー放電プラズマ発生用ガス
を単にプラズマ発生用ガスと、大気圧グロー放電プラズ
マ発生用ガスと処理ガスとの混合ガスを単に混合ガスと
称することがある。

【００１５】本発明のプラスチックチューブ製造装置
は、通常の環状ダイスを備えた押出機（２）、環状ダイ
スから押し出され冷却固化されるプラスチックチューブ
を所定の速度で引き取るための引き取り手段（３）、高
圧側電極（４）、接地側電極（５）、電源（６）、ガス
供給ライン（７）、ガス吹き出し装置（８）、を備えて
おり、また好ましくはガス排出ライン（１０）を備えて
いる。さらに他の実施形態では、プラスチックチューブ
ガイド（９）を備えている。

【００１６】このうち押出機（２）は、通常のインフレ
ーション式フィルム成形、パイプ・プラスチックチュー
ブ成形において用いられているものが制限なく使用可能
である。

【００１７】また、引き取り手段（３）は成形されたプ
ラスチックチューブを連続的に移動させることができる
装置を意味するものであり、例えば、インフレーション
式フィルム成形において通常用いられる駆動手段の講じ
られたニップロール、あるいは、ベルトコンベア、駆動
ロール、リール式巻き取り装置等が挙げられる。

【００１８】また、高圧側電極（４）と、接地側電極
（５）とは対をなすものであり両電極間に電源（６）か
ら、電圧を印可することにより、運転時プラスチックチ
ューブ内にプラズマを発生させることができる。高圧側
電極（４）と接地側電極（５）は、運転時、その一方が
プラスチックチューブ内に配されるように、他方がプラ
スチックチューブ外に配されるようになっていても良い
し、両者がプラスチックチューブ内または外に配される
ようになっていても良い。運転時、一方の電極がプラス
チックチューブ内に配されるよう場合には、該電極がガ
ス吹き出し装置（８）を兼ねることが好ましい。また、
運転時、高圧側電極（４）と接地側電極（５）の両者が
プラスチックチューブ内に配されるようになる場合、一
方がガス吹き出し装置（８）を兼ね、他方は前記ガス吹
き出し装置（８）に対し一定の間隔を以って同心状に互
いに対向するように配される多孔板からなるプラスチッ
クチューブガイド（４２）を兼ねるものである。そし
て、これらは通常、円筒状の形状を有し同心状に互いに
対向するように配される。また、特開平８−５７０３８
号公報に示されたごとく、プラスチック、セラミックス
等の絶縁体よりなる円筒状の縁体に接地側電極と高圧側
電極とを二重らせん状に装着したものを運転時プラスチ
ックチューブの外周に配するようにしてもプラスチック
チューブ内にプラズマを発生させることができ、プラズ
マによるプラスチックチューブ内表面のプラズマ処理が
可能である。この場合にはガス吹き出し装置（８）を電
極とは別個に設ける必用がある。そして、運転時これら
がプラスチックチューブ内に配される構造とする。

【００１９】高圧側電極（４）及び接地側電極（５）の
材質は、導電材料であれば特に限定されず、金属の場
合、ステンレス系鋼、真鍮、炭素鋼、超鋼等の合金や、
銅、アルミニウム等が挙げられ、これらを単体もしくは
適宜組み合わせて使用することができる。または非導電
性のプラスチック、セラミック等の表面に銅、金、金属
酸化物透明導電材料等をコーティングし導電化処理した
もの等を使用することもできる。

【００２０】なお、高圧側電極（４）及び接地側電極
（５）のお互い対向する面の少なくとも一方は固体誘電
体で被覆されていることが望ましい。固体誘電体の材質
としては、ガラス、セラミックス、耐熱プラスチック等
のものを例示することができる。また電極表面の被覆形
態として、電極の金属表面を酸化することによる金属酸
化物被膜の形成も好適である。

【００２１】電源（６）から供給される電圧としてはｓ
ｉｎ波形の高周波交流電圧あるいは任意波形のパルス電
圧が用いられる。パルス電圧の場合その波形は特に限定
されないが、インパルス型、方形波、あるいはこれらを
変調したものが例示される。パルス電圧の極性は正負の
繰り返しでも良いし、正または負のいずれかの極性側に
電圧を印可する片波状の波形でも良い。本発明において
プラズマを発生させるための電源の周波数は特に限定は
されないが、１ｋＨｚ〜１００ＭＨｚが好ましい。ま
た、前記高周波交流電圧及びパルス電圧に直流を重畳し
て用いても構わない。高周波交流電圧の周波数の例とし
ては、工業的によく用いられる１３．５６ＭＨｚのもの
を使用することができる。プラズマの発生は、電圧を電
極に印加することによってなされるが、適当な電圧強度
は、使用する電極の材質、形状、大きさ等により変化す
るため、これらを考慮して適宜選定できる。電圧強度が
低すぎると、プラズマを発生させることができず、反対
に、電圧強度が高すぎるとプラズマがアーク放電に移行
してしまう。

【００２２】ガス供給ライン（７）は、環状ダイス内を
通過し、環状ダイスのダイスリップで囲まれた領域か
ら、ガス吹き出し装置（８）にプラズマを発生させるた
めに必要なプラズマ発生用ガスあるいは混合ガスを供給
するためのガス流路を意味する。これは、通常インフレ
ーション成形において用いられる環状ダイスが備えてい
るブローアップ用エアー供給ラインに類するものであ
る。なお、ガス供給ライン（７）を通して混合ガスを供
給する場合において、混合ガス中の処理ガスが熱に敏感
なものである場合には、該ガス供給ライン（７）に断熱
あるいは冷却手段を講じるようにしてもよい。

【００２３】次いでガス吹き出し装置（８）について説
明する。本発明で用いられるガス吹き出し装置（８）は
円筒の両方の開口部を閉塞した形状、すなわち概ね中空
円柱状であり、ガス供給ライン（７）から供給されたガ
スをプラズマ発生領域におけるプラスチックチューブ内
表面に外周方向に対し均一に吹き出すことができるよう
にガス吹き出し孔（８２）が外周上に均一に多数設けら
れている。

【００２４】プラスチックチューブの内表面に均一で安
定な処理を実施するためには、運転時多少チューブの揺
れがあっても大気圧グロー放電プラズマ発生領域におけ
るガスの流れや圧力の偏りを生せず、均一で安定な大気
圧グロー放電プラズマを発生させることが必要である。
本発明の装置によれば、運転時プラスチックチューブと
ガス吹き出し装置（８）間に形成される大気圧グロー放
電プラズマ発生領域へのガスの供給は、前記ガス吹き出
し装置（８）の外周上に多数設置されたガス吹き出し孔
（８２）からなされる。このため、運転中多少チューブ
の揺れがあっても、プラスチックチューブ内表面に対し
て均一なガスの供給がなされる。この結果均一な大気圧
グロー放電プラズマが形成される。さらに、ガス吹き出
し装置（８）外周表面から吹き出されるガスの圧力の作
用によりプラスチックチューブの揺れ自体を緩和する効
果もある。これらの効果をより顕著なものとするために
は、ガス吹き出し装置（８）外周上に設置されるガス吹
き出し孔（８２）の孔径をより小さくし、より多数でき
るだけ均一に設置するのが好ましい。また、ガス吹き出
し装置（８）の外周直径は、ガスの供給量、ガス吹き出
し孔の孔径や数等により変化するが、直径が小さすぎる
と大気圧グロー放電プラズマ発生領域におけるガスの流
れや圧力の偏りを無くすという効果が薄れ、直径がチュ
ーブ内径に近接しすぎるとプラズマ発生領域を確保する
ことができなくなる傾向がある。このような意味合いか
ら、ガス吹き出し装置（８）の直径とプラスチックチュ
ーブ内径の差は０．２〜２０ｍｍ、さらには０．２〜１
０ｍｍであることが好ましい。

【００２５】ガス吹き出し装置（８）の材質は、高圧側
電極（４）あるいは接地側電極（５）がこれを兼ねる場
合には導電性材料であり、そうでない場合には絶縁体で
あることが望ましい。

【００２６】次いでプラスチックチューブガイド（９）
について説明する。プラスチックチューブガイド（９）
は多孔板からなるものである。多孔板としては特に限定
されないが、例えば薄板に小さい穴を多数配置したり、
巾の狭いスリット状の孔を複数配置した薄板を使用する
ことができる。また、多孔質体や繊維集合体から構成さ
れる薄板を使用しても良いが、最も好ましいの金網であ
る。またプラスチックチューブガイド（９）は運転時大
気圧グロー放電プラズマ発生領域におけるガスの流れを
確保できる状態でプラスチックチューブ内表面に概ね沿
うように、しかもガス吹き出し装置（８）に対し同心状
に互いに対向するように設置される。運転時プラスチッ
クチューブはプラスチックチューブガイドの外周に沿い
ながら移動するため、プラスチックチューブの揺れを抑
える作用を奏する。電極間で発生した大気圧グロー放電
プラズマはプラスチックチューブガイドに配置された孔
を通じてプラスチックチューブ内表面に接触するため十
分な処理効果も得られるものである。またプラスチック
チューブガイドは、高圧側電極、あるいは接地側電極を
兼ねてもよい。この場合、電極を兼ねるプラスチックチ
ューブガイドと対をなす電極は、運転時においてプラス
チックチューブの内側に配するようにする。プラスチッ
クチューブガイドが電極を兼ねる場合には、その材質は
導電性のものから選ばれるが、プラスチックチューブガ
イドが電極を兼ねない場合、その材質は、絶縁材料とす
ることが望ましい。

【００２７】また、本発明のプラスチックチューブ製造
装置は、ガス排出ライン（１０）を備えていることが好
ましい。ガス排出ライン（１０）は、前記したガス供給
ライン（７）からプラスチックチューブに供給されるプ
ラズマ発生用ガス、あるいは混合ガスをプラスチックチ
ューブ内から排出するというものである。ガス排出ライ
ン（１０）が設けられていることにより、運転時、プラ
ズマ発生領域を通過するプラズマ発生用ガス、あるいは
混合ガスの流速の制御を行いやすくなる。また、プラス
チックチューブ製造装置が、運転時においてプラスチッ
クチューブがニップロールなどにより閉じられ、プラズ
マ処理がこの閉鎖された空間内で行われるような構造の
ものである場合には、プラスチックチューブのサイズの
微調整に便利であるし、また、排出したプラズマ発生用
ガス、あるいは混合ガスの再循環も可能である。

【００２８】ガス排出ライン（１０）は、プラスチック
チューブ製造装置の構造が、製造されるプラスチックチ
ューブの最も下流側が開放されているようなものである
場合には、この開放部に設けることもできる。しかし、
最も有利な構造は、ガス供給ライン（７）で述べたと同
じく、環状ダイスのダイリップで囲まれた領域を通過し
プラスチックチューブ（１２）内部に吸入口が配置され
ているというものである。なお、前記ガス排出ライン
（７）のガス吸入口は前記ガス吹き出し装置（８）より
ダイス側でも引き取り手段側でもよい。

【００２９】また、プラスチックチューブ製造装置の引
き取り手段（３）を、ニップロールとすることが望まし
い。引き取り手段（３）を、ニップロールとすると、運
転時においてプラスチックチューブがニップロールによ
り閉じられ、プラズマ処理がこの閉鎖された空間内で行
われるようになり、プラズマ発生用ガス、あるいは混合
ガスの開放系への散失を防止できる。これは製造する内
表面処理プラスチックチューブが薄物の時に特に有効で
ある。

【００３０】以下、本発明の内表面処理プラスチックチ
ューブ製造装置を、図面を参照しつつより具体的に説明
する。図１は、本発明の内表面処理プラスチックチュー
ブ製造装置の一実施形態を示す模式図である。また、図
２は図１で用いている接地側電極を兼ねたガス吹き出し
装置の斜視図である（なお、図１では理解を助けるため
に、プラスチックチューブの径をより大きく強調して示
した）。この実施形態においてプラスチックチューブ製
造装置（１）は、環状ダイス（２２）を装着した押出機
（２）、プラスチックチューブ冷却器、引き取り手段
（３）としてのプラスチックチューブ巻き取り機等から
構成される通常のパイプ製造装置が基本となっている。
そしてこの装置に、環状ダイス内を通過し、環状ダイス
のダイスリップで囲まれた領域からガス吹き出し装置
（８）にプラズマを発生させるために必要なプラズマ発
生用ガスあるいは混合ガスを供給するためのガス供給ラ
イン（７）（プラズマ発生用ガス導入ライン（７２）、
処理ガス導入ライン（７１））が設けられている。この
ような構造となっていることにより、運転時、ガス吹き
出し装置（８）に設けられたガス吹き出し孔（８２）よ
りプラスチックチューブ内にプラズマ発生用ガス、ある
いは混合ガスを供給できる。なお、処理ガスによる表面
処理を行わず単にプラズマによる表面処理を行う場合に
は、ガス供給ライン（７）のうち処理ガス導入ライン
（７１）を設ける必要はない。

【００３１】また、本発明のプラスチックチューブ製造
装置には、プラズマを発生させるための接地された接地
側電極（５）、及び高周波電源（６）に接続された高圧
側電極（４）が装備されている。そして接地側電極
（５）と高圧側電極（４）間に高圧交流電圧を印可する
ことができる構造となっている。なお、本図では接地側
電極（５）が兼ねたガス吹き出し装置（８）がプラスチ
ックチューブ内に配された例を示したが、高圧側電極
（４）が兼ねたガス吹き出し装置（８）がプラスチック
チューブ内に配されるようにしてもよい（後述する形態
においても同様）。

【００３２】そして図２に示すように、ガス吹き出し装
置（８）は概ね中空円柱形状である。該ガス吹き出し装
置（８）には、ガス供給ライン（７）から供給されるプ
ラズマ発生用ガスあるいは混合ガスをプラズマ発生領域
におけるプラスチックチューブ内表面に均一に吹き出す
ことができるガス吹き出し孔（８２）が外周上に多数設
置されている。

【００３３】図３は、本発明の内表面処理プラスチック
チューブ製造装置の他の実施形態を示す模式図である。
また、図４は図３のＡ−Ａ’線での模式断面図である。
この実施形態において、プラスチックチューブ製造装置
（１）は、環状ダイス（２２）を装着した押出機
（２）、エアーリング（１１）、安定板（３２）、引き
取り手段（３）としてのニップロール、及び巻き取りロ
ール（３３）等から構成される通常のインフレーション
式プラスチックフィルム成形装置が基本となっている。
そしてこの装置に、環状ダイス内部を通過し、環状ダイ
スのダイリップで取り囲まれた領域から接地側電極を兼
ねたガス吹き出し装置（８）へガスを供給するガス供給
ライン（７）（プラズマ発生用ガス導入ライン（７
２）、処理ガス導入ライン（７１））と、ガス排出ライ
ン（１０）が装備されている。このような構造となって
いることにより、運転時、プラスチックチューブ内にガ
スを供給できるとともに、適宜これらのガスを排出する
ことによりプラスチックチューブ内のガス濃度および圧
力を所定の値に保つことができる。また、プラスチック
チューブのサイズの微調整に便利である。さらに本例で
はガス排出ラインのガス吸入口（１０１）はガス吹き出
し装置（８）よりニップロール側に設置されているが、
ダイス側でも構わない。なお、処理ガスによる表面処理
を行わず単にプラスチックチューブ内に発生するプラズ
マによる表面処理を行う場合には、ガス供給ライン
（７）のうち処理ガス導入ライン（７１）を設ける必要
はない。また、本発明のプラスチックチューブ製造装置
にはプラズマを発生させるための接地された接地側電極
（５）、及び高周波電源（６）に接続された高圧側電極
（４）が装備されている。そして接地側電極（５）と高
圧側電極（４）間に高圧交流電圧を印可することができ
る構造となっている。ここで接地側電極（５）、高圧側
電極（４）、及び環状ダイスのダイスリップ、さらに運
転時に形成されるプラスチックチューブは同心位置関係
となるように配置されている。そして、接地側電極
（５）を兼ねたガス吹き出し装置（８）は図２にその概
要を示したものと同様のものを用いている。このような
接地側電極（５）を兼ねたガス吹き出し装置（８）を用
いることで、運転中多少チューブの揺れがあっても、大
気圧グロー放電プラズマ発生領域への外周方向に対して
均一なガスの供給が必ず確保される。さらに、ガス吹き
出し装置（８）外周表面から吹き出されるガスの圧力の
作用によりプラスチックチューブの揺れ自体を緩和する
効果もある。

【００３４】図５は、本発明の内表面処理プラスチック
チューブ製造装置の他の実施形態を示す模式図である。
また、図６は図５のＡ−Ａ’線での模式断面図である。
この実施形態は、図３に示した実施形態においてプラス
チックチューブの外部に配されていた高圧側電極（４）
を、接地側電極を兼ねたガス吹き出し装置（８）と同心
円状にしかも運転時プラスチックチューブ内表面に概ね
沿うように配し、しかも、メッシュ状とし、プラスチッ
クチューブガイド（９）を兼ねるように構成している。
またガス排出ラインのガス吸入口（１０１）をガス吹き
出し装置（８）よりダイス側に設置されている。メッシ
ュ状で円筒状の高圧側電極（４）を兼ねるプラスチック
チューブガイド（９）は、環状ダイスのダイリップで取
り囲まれた領域から環状ダイス内部を絶縁状態で通過す
る導線により、高周波電源（６）と接続されている。こ
のような電極構造とすることで、運転時プラスチックチ
ューブが、高圧側電極（４）を兼ねるプラスチックチュ
ーブガイド（９）の表面と概ね接触し、しかもガス吹き
出し装置（８）外周表面から吹き出される混合ガスの圧
力の作用によりガス吹き出し装置（８）表面から均一に
隔てられつつ移動するため、プラスチックチューブとガ
ス吹き出し装置（８）間に大気圧グロー放電プラズマ発
生領域を安定して均一に確保できる構造となっている。
また、電極間で発生した大気圧グロー放電プラズマはメ
ッシュ間隔を通じてプラスチックチューブ内部表面に接
触するため十分な処理効果も得られるものである。

【００３５】以上、本発明のプラスチックチューブ製造
装置につき代表的な実施形態を例に取り説明してきたが
これらはあくまで例示であり、限定ではない。よって当
業者によるこれらの例の変形は本発明の特許請求の範囲
に示された思想範囲内にある限り、本発明の一部に含ま
れるものと考えられる。

【００３６】次いで本発明のプラスチックチューブの製
造方法について説明する。本発明のプラスチックチュー
ブ製造方法は、前記したごとくの本発明のプラスチック
チューブ製造装置を用いて、環状ダイスから押し出され
るプラスチックチューブ内にプラズマ発生用ガスあるい
は該ガスと処理ガスとの混合ガスを供給し、電源（６）
により高圧側電極（４）と接地側電極（５）間に電圧を
印可し、プラスチックチューブ内にプラズマを発生させ
プラスチックチューブの内表面を処理するというもので
ある。以下その詳細を説明する。

【００３７】本発明で使用されるプラズマ発生用ガス
は、プラズマを発生させるためのガスであり、希ガスあ
るいは窒素ガスが使用可能である。そしてプラズマ発生
用ガスの中で最も好ましいのはヘリウムであり、アルゴ
ンも好適に用いることができる。

【００３８】一方、処理効果を向上させるために前記プ
ラズマ発生用ガスに添加する処理ガスは、表面処理の目
的に応じて適宜選択される。例えば、シート状物に撥水
性を付与するためには、４弗化エチレン、６弗化プロピ
レン等のフッ化エチレン列炭化水素化合物、４弗化メタ
ン、６弗化エタン等のフッ素化メタン列炭化水素化合
物、またはフッ素原子を含む側鎖のついた鎖状炭化水
素、あるいはフッ素化芳香族炭化水素などの官能基を有
する有機化合物を用いることができる。

【００３９】また、処理ガスとして以下のような酸素元
素含有化合物、窒素元素含有化合物、硫黄元素含有化合
物を用いて、基材表面にカルボニル基、水酸基、アミノ
基等の親水性官能基を形成させて表面エネルギーを高く
し、親水性表面を得ることが出来る。

【００４０】前記酸素元素含有化合物としては、酸素、
オゾン、水（水蒸気）、一酸化炭素、二酸化炭素、一酸
化窒素、二酸化窒素の他、メタノール、エタノール等の
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類、メタナール、エタナール等のアルデヒド類等の酸
素元素を含有する有機化合物等が挙げられる。前記酸素
元素含有化合物と水素を混合して用いてもよい。さら
に、前記酸素元素含有化合物と、メタン、エタン等の炭
化水素化合物のガスを混合して用いてもよい。又、前記
酸素元素含有化合物に５０体積％以下でフッ素元素含有
化合物を添加することにより親水化が促進される。フッ
素元素含有化合物としては前記例示と同様のものを用い
ればよい。

【００４１】前記窒素元素含有化合物としては、窒素、
アンモニア等が挙げられる。また、前記硫黄元素含有化
合物としては、二酸化硫黄、三酸化硫黄等が挙げられ
る。また、硫酸を気化させて用いることも出来る。

【００４２】また、分子内に親水性基と重合性不飽和結
合を有するモノマーを処理ガスとして用いることによ
り、親水性の重合膜を堆積させることも出来る。前記親
水性基としては、水酸基、スルホン酸基、スルホン酸塩
基、１級若しくは２級又は３級アミノ基、アミド基、４
級アンモニウム塩基、カルボン酸基、カルボン酸塩基等
の親水性基等が挙げられる。又、ポリエチレングリコー
ル鎖を有するモノマーを用いても同様に親水性重合膜の
堆積が可能である。

【００４３】前記モノマーとしては、アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアクリルアミド、アクリル酸ナトリウム、メ
タクリル酸ナトリウム、アクリル酸カリウム、メタクリ
ル酸カリウム、スチレンスルホン酸ナトリウム、アリル
アルコール、アリルアミン、ポリエチレングリコールジ
メタクリル酸エステル、ポリエチレングリコールジアク
リル酸エステル等が挙げられる。

【００４４】前記親水性モノマーのうち固体のものは、
そのままあるいは溶媒に溶解させたものを減圧等の手段
により気化させて用いる。

【００４５】又、処理ガスとして、金属含有化合物が好
適に使用できる。金属としては、例えば、Ａｌ、Ａｓ、
Ｂｉ、Ｂ、Ｃａ、Ｃｄ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｇ
ｅ、Ａｕ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｈｆ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｌｉ、Ｎ
ａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｐ、Ｐｔ、Ｐｏ、
Ｒｈ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｔｉ、
Ｖ、Ｗ、Ｙ、Ｚｎ、Ｚｒ等の金属が挙げられ、該金属を
含有する化合物としては、金属有機化合物、金属−ハロ
ゲン化合物、金属−水素化合物、金属アルコキシド等の
処理ガスが挙げられる。

【００４６】具体的に金属がＳｉである場合を例にとっ
て説明すると、テトラメチルシラン〔Ｓｉ（Ｃ
Ｈ₃)₄〕、ジメチルシラン〔Ｓｉ（ＣＨ₃)₂ Ｈ₂〕、テト
ラエチルシラン〔Ｓｉ（Ｃ₂Ｈ₅)₄〕等の有機金属化合
物；４フッ化珪素（ＳｉＦ₄)、４塩化珪素（ＳｉＣ
ｌ₄)、２塩化珪素（ＳｉＨ₂Ｃｌ₂)等の金属ハロゲン化
合物；モノシラン（ＳｉＨ₄)、ジシラン（ＳｉＨ₃Ｓｉ
Ｈ₃)、トリシラン（ＳｉＨ₃ＳｉＨ₂ＳｉＨ₃)等の金属水
素化合物；テトラメトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃)₄〕、テトラエトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅)₄〕
等の金属アルコキシド等が挙げられる。

【００４７】前記の金属含有化合物が常温で気体であれ
ば、放電空間にそのまま導入することができるが、液
体、固体状であれば、気化装置を経て放電空間に導入す
ればよい。このような処理ガスを用いることによりＳｉ
Ｏ₂、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ等の金属酸化物薄膜を
形成させ、基材表面に電気的、光学的機能を付与するこ
とが出来る。

【００４８】なお、前記した処理ガスとして用いる化合
物は、単独で用いてもよく、その目的によっては２種以
上を併用してもよい。また、前記処理ガスとプラズマ発
生用ガス（希ガス）を混合して用いる場合の混合割合
は、使用するプラズマ発生用ガスと処理ガスの種類によ
って適宜決定されるが、処理ガスの濃度が１０体積％を
超えると、高圧交流電圧を印可しても均一な放電プラズ
マの発生が難しくなることから、０．０１〜１０体積％
が好ましく、より好ましくは０．０１〜５体積％であ
る。

【００４９】また、本発明において処理が可能なプラス
チックチューブの材質としては、押出成形が可能なもの
であれば特に限定されず、例えば、ポリエチレン（Ｐ
Ｅ）やポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン系樹
脂、ノルボルネンとエチレンのコポリマー等のポリシク
ロオレフィン系樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重
合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−テト
ラフルオロエチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリウレタン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリカーボ
ネート、ポリアセタール、ポリエステル、シリコン樹
脂、アクリル樹脂、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリメチルメタクリレート、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ポリスチレ
ン、ポリスルフォン、ポリエチレンオキサイド、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルフォン等が上
げられるが、これに限定されるものではない。

【００５０】次に、本発明のプラスチックチューブの製
造方法を、図１、３を参照しつつ説明する。なお、図
１、３で示された装置の概要は前述したとおりである。
図１で示す装置を使用した場合、まず通常のプラスチッ
クチューブ（パイプ）製造プロセスでのプラスチックチ
ューブの連続製造を開始したのちに、プラズマ発生用ガ
ス導入ライン（７２）を利用し、プラスチックチューブ
内部にヘリウム等のプラズマ発生用ガスを導入する。そ
の後、プラズマ発生用ガス導入ライン（７２）からプラ
ズマ発生用ガスあるいは混合ガスを連続的に導入し、高
圧側電極（４）に電源（６）から電圧を印可してプラズ
マ発生領域を形成し処理を行う。ここにおいて、プラズ
マ発生用ガスあるいは混合ガスのプラズマ発生領域への
供給は、ガス吹き出し装置（８）の外周表面に均一に設
置された吹き出し孔から行われる。このため、運転中多
少チューブの揺れがあっても、大気圧グロー放電プラズ
マ発生領域へのガスの供給は均一なものであり、該領域
でのガスの流れや圧力の偏りは極めて少ないものとな
る。さらに、ガス吹き出し装置（８）外周表面から吹き
出されるガスの圧力の作用によりプラスチックチューブ
の揺れ自体を緩和する効果もある。これらの相乗的な効
果により大気圧グロー放電プラズマ発生領域を安定して
確保でき、均一で安定的なプラスチックチューブの内表
面処理が行えるのである。

【００５１】次いで、図３で示す装置を使用した場合、
まず通常のプラスチックチューブ製造プロセスでのプラ
スチックチューブの連続製造を開始したのちに、プラズ
マ発生用ガス導入ライン（７２）及び排気ライン（１
０）を利用し、プラスチックチューブ内圧を保持しなが
らプラスチックチューブ内部をヘリウム等のプラズマ発
生用ガスに置換する。その後、前記プラスチックチュー
ブ内の圧力を保持するように、排気ライン（１０）から
プラスチックチューブ内のガスを排出しながらプラズマ
発生用ガス導入ライン（７）からプラズマ発生用ガスあ
るいは該ガスと処理ガスとの混合ガスを連続的に導入
し、高圧側電極（４）に電源（６）から電圧を印可して
プラズマ発生領域を形成し処理を行う。ここにおいて
も、前述したと同様の効果により、均一で安定的なプラ
スチックチューブの内表面処理が行える。

【００５２】接地電極（５）及び高圧側電極（４）は、
運転時においてプラスチックチューブ（１２）が冷却固
化し径が固定される線、所謂フロストラインよりもニッ
プロール側の領域に、同軸中心の状態で間にプラスチッ
クチューブ（１２）を介して対向するかたちで配置され
ることが望ましい。

【００５３】

【実施例】以下本発明を、実施例を用いてより詳細に説
明する。

【００５４】[実施例１]図３に概略を示したプラスチッ
クチューブ連続製造装置を製作した。製造装置の基本と
なるインフレーションプラスチックチューブ製造装置と
しては、東洋精機株式会社製「ラボプラストミル５０Ｍ
Ｒ」一軸押出機（２０ｍｍ径、Ｌ／Ｄ２５のフルフライ
トスクリュー）を用いた。これにガス導入ライン及び排
気ラインを設けたダイリップ径２５ｍｍの環状ダイス、
およびエアーリングを取り付け、安定板、ニップロー
ル、及び巻き取り機等の付属機器を装備した。なお、ダ
イス上面からニップロールまでの距離は約７００ｍｍで
あった。そして、図２に概略を示したように外周上に直
径約１ｍｍのガス吹き出し孔を２８８箇所設けた外径４
０ｍｍ高さ５０ｍｍでアルミニウム製の中空円柱形状を
有する接地電極兼プラスチックチューブ安定部材を、そ
の下端がダイス上面から約３００ｍｍの位置になるよう
に、また、ダイスリップと同心状となるように環状ダイ
スのダイリップに取り囲まれた領域に取り付けられた支
持具により取り付けた。さらに図３に示すごとく、前記
接地電極と同心円状二分割された内径４６ｍｍ厚み４ｍ
ｍ高さ４０ｍｍのアルミニウム製の円筒形状を有する高
圧側電極を、プラスチックチューブ内の内部電極と同心
円で対向する位置に設置した。なお、二分割された高圧
側電極はいずれもスライド式に後退できる構造とし、製
造スタート時の作業性の向上を図った。さらに、１３．
５６ＭＨｚの高圧交流電圧を印可できる電源を高圧側電
極に接続した。また環状ダイスにはガス供給ラインとガ
ス排出ラインを設けこれらがダイスリップで囲まれた領
域に出現する構造とした。そしてガス供給ラインは前記
接地電極兼ガス吹き出し装置へ接続し、ガス排出ライン
のガス吸入口を接地電極兼ガス吹き出し装置より上側と
なるようにした。このようにして本発明のプラスチック
チューブ製造装置を製作した。

【００５５】上記した装置を用いて、住友化学工業株式
会社製低密度ポリエチレンＦ２０８−０を原料とし、ニ
ップロールの引取り速度１．５ｍ／ｍｉｎでプラスチッ
クチューブ外径約４５ｍｍ厚み約１００μｍのプラスチ
ックチューブの製造を開始した。次にガス導入ラインお
よび排気ラインを操作することでプラスチックチューブ
内のガス圧、ならびにプラスチックチューブの外径寸法
を保持したままでプラスチックチューブ内をヘリウムに
置換した。さらに、この状態で、ガス導入ラインおよび
排気ラインを操作することで２Ｌ／ｍｉｎのヘリウムに
加え酸素ガス５ｍＬ／ｍｉｎを連続導入した。これによ
り、導入ガスは接地電極兼ガス吹き出し装置の外周に均
等に設置されたガス吹き出し孔からチューブ内表面に向
かって吹き出し、そのガスの圧力の作用により接地電極
兼ガス吹き出し装置とチューブは概ね同心位置となり、
チューブの揺れはほとんどなかった。次いで、二分割さ
れスライド式に後退させていた高圧側電極を元の位置に
戻し、プラスチックチューブ内の接地電極と同心円で対
向する位置に設置した。このとき、プラスチックチュー
ブと接地電極兼ガス吹き出し装置及び高圧側電極との間
隔はそれぞれ約２ｍｍであった。次いで、高周波電源よ
り高圧側電極に１３．５６ＭＨｚの高圧交流電圧を印可
するとプラスチックチューブと接地電極兼ガス吹き出し
装置の間の領域にプラズマが発生した。発生したプラズ
マは、非常に安定でチューブの円周方向にわたって均一
なものであった。このようにして内表面処理ポリエチレ
ンチューブを得た。処理前のポリエチレンチューブ内表
面の水に対する接触角が９８．５°であったのに対し、
処理後のポリエチレンチューブ内表面のそれは６９．４
°であり明らかに処理効果が認められた。

【００５６】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、大
気圧グロー放電プラズマを利用してプラスチックチュー
ブ内表面を処理するにあたり、大口径のプラスチックチ
ューブの内表面処理を実施する場合でもプラスチックチ
ューブ内部での安定なプラズマ発生領域を確保すること
ができるプラスチックチューブ製造装置が提供される。
さらに、同装置を用いたプラスチックチューブの製造方
法が提供される。本発明のプラスチックチューブ製造装
置および、プラスチックチューブの製造方法により製造
できる内表面が処理されたプラスチックチューブは従来
のものに比べコスト的に有利なものであり、各用途にお
いて有用に用いられるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の内表面処理プラスチックチューブ安
定製造装置の一実施形態を示す模式図である。

【図２】プラスチックチューブ安定部材の斜視図であ
る。

【図３】本発明のプラスチックチューブ製造装置の他
の実施形態を示す模式図である。

【図４】図３のＡ−Ａ’線での模式断面図である。

【図５】本発明のプラスチックチューブ製造装置の他
の実施形態を示す模式図である。

【図６】図５のＡ−Ａ’線での模式断面図である。

【符号の説明】

１．プラスチックチューブ製造装置２．押出機２２．環状ダイス３．引き取り手段３２．安定板３３．巻取りロール４．高圧側電極５．接地側電極６．高周波電源７．ガス供給ライン７１．処理ガス導入ライン７２．プラズマ発生用ガス導入ライン７３．ガス噴き出し口８．ガス吹き出し装置８２．ガス吹き出し９．プラスチックチューブガイド１０．排気ライン１０１．ガス吸入口１１．エアーリング１２プラスチックチューブ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考） // Ｂ２９Ｌ 23:00 Ｂ２９Ｌ 23:00 Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｃ０８Ｌ 101:00 (72)発明者梶谷孝啓香川県丸亀市中津町1515番地大倉工業株式会社内 (72)発明者田中治香川県丸亀市中津町1515番地大倉工業株式会社内 (72)発明者丹下善弘香川県丸亀市中津町1515番地大倉工業株式会社内 (72)発明者松田 ▲ひで▼明香川県丸亀市中津町1515番地大倉工業株式会社内Ｆターム(参考） 4F073 AA01 AA02 BA06 BA07 BA11 BA13 BA14 BA15 BA16 BA17 BA18 BA19 BA23 BA24 BA26 BA27 BA28 BA29 BA32 BA33 BA34 BB03 CA01 CA02 CA04 CA05 CA07 CA08 CA09 CA61 CA64 CA68 CA70 CA71 FA03 FA05 4F207 AA07 AG08 AG25 KA01 KK52 KM30 KW50 4G075 AA29 AA70 CA16 CA47 DA01 EC21

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】・環状ダイスを備えた押出機（２）、・環状ダイスから押し出され冷却固化されるプラスチッ
クチューブを所定の速度で引き取るための引き取り手段
（３）、・高圧側電極（４）、・接地側電極（５）、・高圧側電極（４）、接地側電極（５）間に電圧を印可
するための電源（６）、・運転時、環状ダイスから押し出され冷却固化されるプ
ラスチックチューブ内に大気圧グロー放電プラズマ発生
用ガスあるいは該ガスと処理ガスとの混合ガスを供給す
るためのガス供給ライン（７）、・運転時において、プラスチックチューブ内に、該プラ
スチックチューブ内表面と所定の間隔を以て位置するよ
うにして取り付けられる、概ね円筒形状を有するガス吹
き出し装置（８）、を備え、高圧側電極（４）、接地側
電極（５）間に電源（６）から電圧を印可することによ
りプラスチックチューブ内に大気圧グロー放電プラズマ
を発生させることができる装置であって、ガス吹き出し
装置（８）の外周表面には、ガス供給ライン（７）から
供給されるガスをプラスチックチューブ内表面に向けて
吹き出すための孔が概ね均一に設置されていることを特
徴とする内表面処理プラスチックチューブ製造装置。
【請求項２】高圧側電極（４）あるいは接地側電極
（５）のいずれか一方がガス吹き出し装置（８）を兼ね
ることを特徴とする請求項１に記載の内表面処理プラス
チックチューブ製造装置。
【請求項３】多孔板からなる概ね円筒状のプラスチッ
クチューブガイド（４２）が、ガス吹き出し装置（８）
の外周を同心状に取り囲んでおり、運転時においてプラ
スチックチューブガイド（４２）とガス吹き出し装置
（８）はともにプラスチックチューブ内に位置するよう
にして取り付けられていることを特徴とする請求項１に
記載の内表面処理プラスチックチューブ安定製造装置。
【請求項４】ガス吹き出し装置（８）及びプラスチッ
クチューブガイド（９）が、それぞれ高圧側電極（４）
あるいは接地側電極（５）を兼ねることを特徴とする請
求項３に記載の内表面処理プラスチックチューブ安定製
造装置。
【請求項５】運転時、環状ダイスから押し出され冷却
固化されるプラスチックチューブ内に、ガス供給ライン
（７）を通じて供給されるガスを排出するためのガス排
出ライン（１０）を更に備えていることを特徴とする請
求項１乃至４のいずれかに記載の内表面処理プラスチッ
クチューブ製造装置。
【請求項６】引き取り手段（３）が、ニップロールで
あることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載
の内表面処理プラスチックチューブ製造装置。
【請求項７】請求項１乃至６のいずれかに記載のプラ
スチックチューブ製造装置を用いて、環状ダイスから押
し出されるプラスチックチューブ内に大気圧グロー放電
プラズマ発生用ガスあるいは該ガスと処理ガスとの混合
ガスを供給し、高圧側電極（４）と接地側電極（５）間
に電圧を印可し、プラスチックチューブ内に大気圧グロ
ー放電プラズマを発生させ、プラスチックチューブの内
表面を処理することを特徴とする内表面処理プラスチッ
クチューブの製造方法。