JP4736267B2 - 可視光域でも触媒活性を有する光触媒 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は酸化物複合体により構成される光触媒に係り、特に、可視光域でも触媒活性を有する光触媒に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、光触媒が発揮する高い酸化力と還元力を積極的に利用して、汚染大気・汚染水の清浄化などグローバルな環境浄化から、消臭・防汚・抗菌などの生活環境浄化に至るまで、さまざまな分野で光触媒の実用化に向けた研究開発が進められている。そして、多くの場合は光触媒作用を有する化合物の研究であり、反応を促進する助触媒あるいは担体を併せて用いる場合には、従来の触媒の研究を基にPt、Rhなどの貴金属、NiO等の遷移金属酸化物が使用されてきた。
【0003】
以下、具体的に述べると光触媒作用を有する最も代表的な酸化物として、例えば、アナターゼ型酸化チタンが知られており、脱臭・抗菌・防汚材として既に実用化されている。但し、酸化チタンが光触媒としての性能を発揮するのは、太陽光線のうち4%程度にすぎない紫外線に対してのみである。このため、屋外における酸化チタンの高機能化・可視光域での応答性を目指してさまざまな改良が試みられている。例えば、酸化チタン上に色素を吸着させ可視光を吸収して生じた吸着色素の励起状態から酸化チタンへ電子を注入する方法、Cr、V、Mn、Fe、Niなどの金属イオンを化学的に注入する方法、プラズマ照射によって酸素欠陥を導入する方法、異種イオンを導入する方法などさまざまな試みが国内外で行われてきている。しかしながら、いずれの方法も均一分散が難しい、電子と正孔の再結合による光触媒活性が低下する、調整コストが高いなどの問題があるため、未だ工業化には至っていない。
【0004】
他方、高い触媒活性を有するとしてペロブスカイト型酸化物が最近注目されている。例えば、特開平7−24329号公報においては、一般式A3+B3+O3で表されるLaFeO3および一般式A2+B3+Oxで表されるSrMnOxなどが提案されているが、現実には高い触媒活性は得られていない。
【0005】
また、層状ペロブスカイト型酸化物の研究も盛んに行われている。例えば、特開平10−244164号公報には層状ペロブスカイト型のABCO4が提案され、特開平8ー196912号公報にはKLaCa2Nb3O10系複合酸化物が提案され、また、特開平11−139826号公報には、KCa2Nb3O10が提案されている。但し、これらの原理および製法は複雑であり、また、得られた酸化物の化学的安定性にも問題があるため未だ工業化には至っていない。
【0006】
また、これ等の光触媒活性を有する酸化物の粒子表面で起きる光触媒反応を促進させるため、上述したようにPt、Rhなどの貴金属、および、NiO、RuO2等の遷移金属酸化物を助触媒として添加することも一般的に行われている。しかし、これ等助触媒は光触媒活性を持つわけではなく、光触媒作用を有する化合物自体が応答する光の波長領域に影響は与えない。また、NiOの場合には還元、その後酸化して用いるなど使用条件が複雑である問題を有している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこのような問題点に着目してなされたもので、その課題とするところは、可視光域においてシンプルな新しい機構に基づいて光触媒活性を発揮する安価な光触媒を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明者らは上記課題を解決するために光触媒の性能について鋭意研究を重ねたところ、Bイオンサイトにアクセプターとして上記Bイオンよりも低価数の陽イオンCをドープすることで生じた正孔を介し水素を水素イオンとして溶解保持する能力を有する一般式A2+B4+ 1-xC3+ xO3-δ(但し、0<X≦0.5、かつ、0<δ<0.5)で表されるp型酸化物半導体であるペロブスカイト型酸化物においては、エネルギーバンドギャップは上記陽イオンのドープ前と変わらず一定でも、陽イオンをドープしたことで生成したアクセプター準位、および、陽イオンのドープにより生成が促進された外部雰囲気に起因した不純物準位を利用することにより光触媒として作用する光の波長領域が制御され、可視光領域においても有効に触媒活性を持たせられることを見出した。
【0009】
また、従来から報告されている近紫外線で作用するn型酸化物半導体である酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、あるいはチタン酸ストロンチウム等の粒子にペロブスカイト型酸化物を付着、接合させてヘテロpn接合を形成すると、pn接合部分におけるp型酸化物半導体からn型酸化物半導体への電子の流れとn型酸化物半導体からp型酸化物半導体への正孔の流れが生じて電子と正孔を空間的に分離することができ、これによって電子と正孔の再結合を抑制できること、更にそれら電子と正孔の関与する光触媒反応の反応位置を空間的に分離することができるため、これ等相乗作用により可視光域まで高い触媒活性をもつ光触媒になることを見出すに至った。
【0010】
また、p型酸化物半導体中で光励起された電子はp型酸化物半導体表面へと移動し、このp型酸化物半導体表面に光触媒反応に関わる分子およびイオンが吸着することを促進し、その後、光触媒反応に関わる分子およびイオンがpn接合部近くのn型酸化物半導体表面に崩れ広がっていくことも高い触媒活性の重要因子であることを見出した。
【0011】
また、光触媒効果とヘテロpn接合の関係およびpn接合部における電子と正孔の流れについて更なる検討をした結果、相乗的に触媒活性が高くなる現象は、可視光域において光触媒特性を持つn型酸化物半導体と、より短波長域の光において光触媒特性を持つp型酸化物半導体から成るヘテロpn接合を有する酸化物複合体においても生ずることを見出した。
【0012】
更に、本発明者等は、pn接合を含む広概念の接合部を有する広義の酸化物複合体、すなわち、真空準位を基準としたエネルギーバンド構造における伝導帯底部の電子のエネルギーレベルと価電子帯頂上の電子のエネルギーレベルがそれぞれ異なる酸化物半導体(I)と(II)による接合部を有する酸化物複合体においても上述したヘテロpn接合を有する酸化物複合体と同様に機能することを見出しており、本出願と同日付けの別出願において提案している。
【0013】
尚、真空準位を基準としたエネルギーバンド構造における伝導帯底部の電子のエネルギーレベルと価電子帯頂上の電子のエネルギーレベルがそれぞれ異なる2種類の光触媒作用を有する化合物半導体を複合化させて光触媒性能を相乗作用的に向上させるような研究は今までなされておらず、ましてやpn接合部の電子と正孔の流れを活用して高性能の光触媒を調製するなどの研究は全く行われていない。本発明は上述した技術的発見に基づき完成されたものである。
【0014】
すなわち、請求項1に係る発明は、
互いに光触媒特性を持ち、かつ、真空準位を基準としたエネルギーバンド構造における伝導帯底部の電子のエネルギーレベルと価電子帯頂上の電子のエネルギーレベルがそれぞれ異なる酸化物半導体(I)と(II)による接合部を有する酸化物複合体により構成され、この酸化物複合体が、可視光域でも光触媒特性を持つp型酸化物半導体とn型酸化物半導体から成るヘテロ接合を有する酸化物複合体で構成された可視光域でも触媒活性を有する光触媒を前提とし、
可視光域でも光触媒特性を持つ上記p型酸化物半導体が、アクセプターをドープすることで生じた正孔を介し水素を水素イオンとして溶解保持することのできるペロブスカイト型酸化物で構成され、上記n型酸化物半導体が、ルチル型若しくはアナターゼ型またはこれ等2つの型が混ざった酸化チタンで構成されると共に、上記ペロブスカイト型酸化物が、Bイオンよりも低価数の陽イオンCが最大50モル%の範囲でドープされた一般式A 2+ B 4+ 1-x C 3+ x O 3- δ (但し、0<X≦0.5、かつ、0<δ<0.5)で表され、上記一般式中、Aイオンはアルカリ土類金属元素から選択された1種以上の元素、Bイオンはランタノイド、IVa族元素から選択された1種以上の元素、Cイオンはランタノイド、IIIa族元素、IIIb族元素から選択された1種以上の元素であることを特徴とするものである。
【0016】
また、請求項2に係る発明は、
請求項1記載の可視光域でも触媒活性を有する光触媒を前提とし、
上記ヘテロ接合を有する酸化物複合体が、p型酸化物半導体とn型酸化物半導体を重量比でZ:(1−Z)[但し、0<Z<1]となるように調合して300〜1200℃の条件で焼成処理して得られていることを特徴とする。
【0017】
次に、請求項3に係る発明は、
請求項1記載の可視光域でも触媒活性を有する光触媒を前提とし、
上記一般式A2+B4+ 1-xC3+ xO3-δにおいて、AイオンはCa、Sr、Baから選択された1種以上の元素、BイオンはZr、Ceから選択された1種以上の元素、CイオンはY、Er、Ga、Inから選択された1種以上の元素であることを特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【0019】
まず、本発明に係る光触媒は、互いに光触媒特性を持ちかつ少なくとも一方が可視光域でも光触媒特性を持つp型酸化物半導体とn型酸化物半導体から成るヘテロ接合を有する酸化物複合体で構成されることを特徴としている。
【0020】
そして、酸化物複合体の一方を構成する可視光域でも光触媒特性を持つp型酸化物半導体としては、Bイオンよりも低価数の陽イオンCが最大50モル%の範囲でドープされた一般式A2+B4+ 1-xC3+ xO3-δ(但し、0<X≦0.5、かつ、0<δ<0.5)で表されると共に、一般式中、Aイオンはアルカリ土類金属元素から選択された1種以上の元素、Bイオンはランタノイド、IVa族元素から選択された1種以上の元素、Cイオンはランタノイド、IIIa族元素、IIIb族元素から選択された1種以上の元素である水素を水素イオンとして溶解保持することのできるペロブスカイト型酸化物が挙げられる。
【0021】
アルカリ土類元素を含む上記一般式A2+B4+ 1-xC3+ xO3-δで表されるペロブスカイト型酸化物においては、Bイオンサイトにより低価数の陽イオンCをドープすると、生じた正孔を介して水素が水素イオンとして溶解するため600℃以上では高温プロトン(水素イオン)伝導体となることが知られている。本発明者等は、このような酸化物を光触媒に用いた場合、水素イオンの溶解サイトは無数にあり活性であるため、飛躍的に光触媒活性が増大することを見出した。また、陽イオンCのドープによりエネルギーバンドギャップ内に形成されたアクセプター準位、および、陽イオンCのドープにより生成が促進された外部雰囲気に起因した不純物準位を介した電子の励起が可能になるため、エネルギーバンドギャップよりも低いエネルギーの可視光に対して有効に光触媒作用を有する材料となることを見出している。
【0022】
ここで、一般式ABO3で表されるペロブスカイト構造の酸化物(ペロブスカイト酸化物)はよく知られているが、上記ペロブスカイト構造とは、厳密には立方単位格子を有し空間群Pm3mに属する構造であり、この構造をとる酸化物はそれ程多くない。多くのペロブスカイト酸化物においては、単位格子は歪んで立方単位格子からずれているため、ペロブスカイト型酸化物と称される。
【0023】
一方、p型酸化物半導体としてペロブスカイト型酸化物が適用された場合のn型酸化物半導体としては、ルチル型若しくはアナターゼ型またはこれ等2つの型が混ざった酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、チタン酸ストロンチウム、一般式A2-XB2+XO8-2δ(但し、−0.4<X<+0.6、かつ、−0.5<2δ<+0.5)で表され、かつ複数の価数を取り得るAイオンとBイオンがそれぞれ規則配列をした一般式A2-X 3+B2+X 4+O7+(X/2)+Y(但し、−0.4<X<+0.6、かつ、−0.2<Y<+0.2)のパイロクロア型酸化物の蛍石型構造から見た酸素欠損位置または侵入型位置の少なくとも一方に酸素イオンが挿入されたパイロクロア関連構造酸化物等を例示できるが、上記ルチル型若しくはアナターゼ型またはこれ等2つの型が混ざった酸化チタンであることが望ましい。
【0024】
そして、上記p型酸化物半導体として一般式A2+B4+ 1-xC3+ xO3-δ(但し、0<X≦0.5、かつ、0<δ<0.5)で表されるペロブスカイト型酸化物粉末を用い、かつ、上記n型酸化物半導体としてアナターゼ型酸化チタン粉末を用いた以下に述べる実施例から次のことが確認されている。すなわち、上記ペロブスカイト型酸化物粉末とアナターゼ型酸化チタン粉末を重量比でZ:(1−Z)[但し、0<Z<1]となるように混合し、かつ、700℃で1時間焼成処理した後、乳鉢で粉砕して各実施例に係る粉末(光触媒)を先ず調製した。
【0025】
得られた各実施例に係る粉末(光触媒)をメチレンブルー溶液に分散させると共に、光照射によるメチレンブルーの脱色(ブリーチング)試験を行った。
【0026】
そして、各実施例に係る粉末(光触媒)の光触媒特性は、焼成処理によるヘテロpn接合の出現のため大幅に向上していることが確認されている。
【0027】
すなわち、ブリーチング途中における粉末試料(各実施例に係る粉末)の色は上記酸化チタンと各実施例に係るp型酸化物半導体との酸化物複合体にすることによって青みが深くなり、ブリーチング完了時には試料の青みは消えた。
【0028】
他方、Z=0である酸化チタン粉末のみ(比較例)の場合には、ブリーチングの途中および完了時とも常に試料の色は白かった。また、Z=1のペロブスカイト型酸化物[Ca(Zr0.95Y0.05)O3-δ]粉末のみの場合には、ブリーチングの途中では試料の色は少し青みを帯び、完了時には青みは消えた。
【0029】
そして、これ等の現象から、ヘテロpn接合が存在することによってペロブスカイト型酸化物へのメチレンブルーの吸着が促進されることが分かった。
【0030】
ヘテロpn接合ではp型酸化物半導体からn型酸化物半導体へと電子が流れ、n型酸化物半導体からp型酸化物半導体へと正孔が流れることが知られている。このとき、光励起された電子はp型酸化物半導体表面へと移動し、これによりp型酸化物半導体表面に光触媒反応に関わる分子及びイオンが吸着することを促進し、その後、光触媒反応に関わる分子及びイオンがpn接合部近くのn型酸化物半導体表面に崩れ広がっていき、、この結果、光励起された電子はpn接合部の表面(外界と接する側)を流れ、光励起された正孔はpn接合部の中心を流れることになり、電子と正孔が空間的に分離されることになって電子と正孔の再結合は起こり難くなる。
【0031】
また、光触媒反応に関わる分子及びイオンのp型酸化物半導体表面への吸着が促進されると、n型酸化物半導体中で光励起された電子もヘテロpn接合表面へ引き寄せられ、電子と正孔の空間的分離は一層進行する。p型酸化物半導体中の可視光で励起された電子はn型酸化物半導体である酸化チタンへと流れて光触媒に寄与するため、可視光のエネルギーも有効に利用することができる。
【0032】
更に、電子がpn接合部において光触媒反応を起こすことができるため、反応に関与する電子のエネルギーは酸化チタン中の電子のエネルギーより高くなる等、ヘテロpn接合を有する酸化物複合体の光触媒作用には種々の利点がある。例えば、水の分解にも有利に働く可能性を有している。
【0033】
同様の現象は、n型酸化物半導体が可視光域において光触媒特性を持ち、p型酸化物半導体がより短波長域において光触媒特性を持つヘテロpn接合を有する酸化物複合体においても出現する。
【0034】
次に、ヘテロpn接合を有する上記酸化物複合体におけるヘテロpn接合部分を介した電子の流れと正孔の流れの機構についてその一例を図1に模式的に示す。尚、図1は定性的に示した一例であり、p型酸化物半導体とn型酸化物半導体の光吸収特性の違い、および、光触媒反応に関わる分子及びイオンの吸着特性の違いによって電子と正孔の流れは違ってくるものと推定される。但し、p型酸化物半導体とn型酸化物半導体の光吸収特性が少しでも異なればヘテロpn接合部における電子と正孔の流れの空間的な分離は起きる。
【0035】
ここで、本発明においてp型酸化物半導体として適用される一般式A2+B4+ 1-xC3+ xO3-δ(但し、0<X≦0.5、かつ、0<δ<0.5)で表されるペロブスカイト型酸化物粉末は、通常の固相法、すなわち原料となる各金属成分の酸化物又は炭酸塩や硝酸塩等の塩類を目的組成比で混合し、焼成することで合成できるが、それ以外の湿式法あるいは気相法で合成してもよい。
【0036】
Bサイトにアクセプタ−としてドープされるBイオンよりも低価数の陽イオンCのドープ量については0<X≦0.5であることを要する。Xの値が0.5を越えた場合、異相の析出量が増えてしまうため光触媒性能が低下してしまうからである。
【0037】
ここで、現在、入手可能な例えばZrO2には不可避的に0.9〜2.0モル%程度のHfO2が含まれており、HfO2を含んだ状態でZrO2の秤量が行われているが、最終的に調製された化合物の光触媒特性を悪化させてはいない。
【0038】
上記ペロブスカイト型酸化物の出発試料粉末は、混合後、恒温槽で100〜140℃で乾燥し、空気などの酸素含有ガス中、1350〜1450℃で10〜50時間仮焼される。仮焼後、乳鉢等で粉砕し、遊星回転ミル等で混合する。その後、200〜300MPaの圧力で圧粉成形し、空気などの酸素含有ガス中、1450〜1650℃で50〜60時間焼成することにより得られる。
【0039】
得られたp型酸化物半導体としてのペロブスカイト型酸化物を乳鉢などで粉砕して粉状にし、以下の比較例で示す通常の方法で得られたアナターゼ型酸化チタンの粉末と重量比でZ:(1−Z)[但し、0<Z<1]の割合となるように計り取り、乳鉢あるいはボールミル等を用いて混合する。
【0040】
混合した試料を300〜1200℃で5分から2時間程度焼成して、ヘテロpn接合を有する酸化物複合体を調製する。焼成温度が300℃より低くなると良好なpn接合が得られない場合があり、1200℃より高くなると異種の反応相が生成することがあり、光触媒性能が低下してしまう場合がある。
【0041】
尚、ヘテロpn接合を有する上記酸化物複合体を得る方法としては、上述した方法以外に以下の方法も例示できる。すなわち、p型酸化物半導体であるペロブスカイト型酸化物微細粉体の表面に、例えば、水酸化チタン、水酸化亜鉛、水酸化錫、水酸化ジルコニウム、オキシ水酸化チタン、オキシ水酸化亜鉛、オキシ水酸化錫、オキシ水酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、チタン酸ストロンチウム等を化学的に析出させる方法である。この場合、当然のことながら300〜1200℃の熱処理を必要とする。
【0042】
次に、本発明に係るヘテロpn接合を有する光触媒の形状は、光を有効に利用するために比表面積の大きい粒子からなることが望ましく、一般には各粒子の大きさは0.1〜10μm、より好ましくは0.1〜1μmが適当である。このような粒径のヘテロpn接合を有する酸化物複合体粉末を得る慣用的な手段としては、乳鉢を用いた手粉砕、あるいはボールミル、遊星回転ボールミルを用いて、p型酸化物半導体であるペロブスカイト型酸化物の粉砕、および、n型酸化物半導体である酸化チタンの粉砕を先ず行い、得られた2種類の粉末を秤量、混合、焼成して上記ヘテロpn接合を有する酸化物複合体を得た後、再度粉砕を行って最終的な試料粉末を得る。
【0043】
【実施例】
次に、本発明の実施例について具体的に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【0044】
[実施例1]
試料調製
[Ca(Zr0.95Y0.05)O3-δの調製]
(原料) CaCO3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.99%、ig.-loss0.04%):5.2126g、
ZrO2粉末(三徳金属工業株式会社製、ZrO2+HfO2の純度度99.60%、ig.-loss0.51%):6.1693g
Y2O3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.9%、ig.-loss2.07%):0.3001g
尚、上記「ig.-loss」は、水分、吸収物等によるロスを示している。
【0045】
(混合処理)1:秤量後の各粉末試料をジルコニア製乳鉢を用い、エタノールを加え1.5時間混合した。
【0046】
2:混合後の試料を乾燥後、ジルコニア製ポットに入れ、遊星回転ボールミルを用いて40分間粉砕した。
【0047】
(乾燥処理) 粉砕後の試料を恒温槽で120℃で30分以上乾燥させた。
【0048】
(仮焼処理) 乾燥後の試料を、ロジウム/白金製るつぼに入れ、大気中、1350℃で10時間仮焼した。
【0049】
(再粉砕・混合・乾燥処理) 仮焼後、乳鉢で再粉砕し、遊星回転ミルで混合した。その後、先の乾燥と同条件で乾燥した。
【0050】
(成形処理) 265MPaの圧力で17mmφの円盤状に成形した。
【0051】
(焼成処理) 成形後の試料をロジウム/白金製るつぼに入れ、大気中、1650℃で50時間焼成した。
【0052】
(粉砕処理) 焼成後、ジルコニア乳鉢で1時間粉砕して試料粉末を得た。
【0053】
(水素溶解) このようにして調製された焼成物には水素がイオンとして溶解していた。また、焼成物の組成は、Ca(Zr0.95Y0.05)O3-δ(δの値は、0<δ<0.5内の数値である。以下、同様)であった。
【0054】
(アナターゼ型酸化チタンの製造)
硫酸チタン溶液を用い、アンモニアをアルカリ処理溶液として水酸化物の沈殿を生成させ、かつ、この沈殿物を、大気中、650℃で1時間の条件で焼成処理してアナターゼ型の酸化チタン(n型酸化物半導体)を得た。
【0055】
(pn接合を有する酸化物複合体の製造)
(混合処理) 上記方法で調製されたアナターゼ型の酸化チタン(n型酸化物半導体)とCa(Zr0.95Y0.05)O3-δ(p型酸化物半導体)を次の重量比で採取し、ジルコニア乳鉢を用いて乾式で30分間混合した。
(焼成処理) 混合後の試料をそれぞれロジウム/白金製のるつぼに入れ、大気中、700℃の条件で1時間焼成した。
【0056】
(粉砕処理) 得られた焼成物をジルコニア乳鉢を用いて乾式で30分間粉砕して試料粉末を得た。
【0057】
[実施例2]
[Ca(Zr0.95Ga0.05)O3-δの調製]
(原料) CaCO3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.99%、ig.-loss0.04%):3.9670g、
ZrO2粉末(三徳金属工業株式会社製、ZrO2+HfO2の純度度99.60%、ig.-loss0.51%):4.6616g
Ga2O3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.99%、ig.-loss0.03%):0.3714g
とした以外は実施例1と同様にしてCa(Zr0.95Ga0.05)O3-δを調製した。
【0058】
(pn接合を有する酸化物複合体の製造)
実施例1と同一の方法で調製されたアナターゼ型のTiO2(n型酸化物半導体)とCa(Zr0.95Ga0.05)O3-δ(p型酸化物半導体)を次の重量比で採取し、ジルコニア乳鉢を用いて乾式で30分間混合した後、以下、実施例1と同様にして試料粉末を得た。
[実施例3]
[Sr(Zr0.95Y0.05)O3-δの調製]
(原料) SrCO3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.99%、ig.-loss0.05%):4.8139g、
ZrO2粉末(三徳金属工業株式会社製、ZrO2+HfO2の純度度99.60%、ig.-loss0.51%):3.8348g
Y2O3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.9%、ig.-loss2.07%):0.1879g
とした以外は実施例1と同様にしてSr(Zr0.95Y0.05)O3-δを調製した。
【0059】
(pn接合を有する酸化物複合体の製造)
実施例1と同一の方法で調製されたアナターゼ型のTiO2(n型酸化物半導体)とSr(Zr0.95Y0.05)O3-δ(p型酸化物半導体)を次の重量比で採取し、ジルコニア乳鉢を用いて乾式で30分間混合した後、以下、実施例1と同様にして試料粉末を得た。
[実施例4]
[Sr(Ce0.95Y0.05)O3-δの調製]
(原料) SrCO3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.99%、ig.-loss0.05%):4.3875g、
CeO2粉末(三徳金属工業株式会社製、ZrO2+HfO2の純度度99.60%、ig.-loss0.51%):5.0463g
Y2O3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.9%、ig.-loss2.07%):0.1712g
とし、かつ、
(仮焼処理) 乾燥後の試料を、ロジウム/白金製るつぼに入れ、大気中、1400℃で10時間仮焼した。
【0060】
(焼成処理) 成形後の試料をロジウム/白金製るつぼに入れ、大気中、1500℃で50時間焼成した。
以外は実施例1と同様にしてSr(Ce0.95Y0.05)O3-δを調製した。
【0061】
(pn接合を有する酸化物複合体の製造)
実施例1と同一の方法で調製されたアナターゼ型のTiO2(n型酸化物半導体)とSr(Ce0.95Y0.05)O3-δ(p型酸化物半導体)を次の重量比で採取し、ジルコニア乳鉢を用いて乾式で30分間混合した後、以下、実施例1と同様にして試料粉末を得た。
[実施例5]
[Ca(Zr0.95Er0.05)O3-δの調製]
(原料) CaCO3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.99%、ig.-loss0.04%):5.4806g、
ZrO2粉末(三徳金属工業株式会社製、ZrO2+HfO2の純度度99.60%、ig.-loss0.51%):6.4862g
Er2O3粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.9%、ig.-loss0.11%):0.5240g
とした以外は実施例1と同様にしてCa(Zr0.95Er0.05)O3-δを調製した。
【0062】
(pn接合を有する酸化物複合体の製造)
実施例1と同一の方法で調製されたアナターゼ型のTiO2(n型酸化物半導体)とCa(Zr0.95Er0.05)O3-δ(p型酸化物半導体)を次の重量比で採取し、ジルコニア乳鉢を用いて乾式で30分間混合した後、以下、実施例1と同様にして試料粉末を得た。
[比較例]
硫酸チタン溶液を用い、アンモニアをアルカリ処理溶液として水酸化物の沈殿を生成させ、かつ、この沈殿物を、大気中、650℃で1時間の条件で焼成処理してアナターゼ型の酸化チタン(従来例に係る光触媒)を得た。
【0063】
[光触媒作用の評価]
実施例1〜5と比較例に係る光触媒の触媒活性評価は、メチレンブルー(MB)水溶液の光ブリーチング法を用いて行った。
【0064】
これは、メチレンブルー水溶液と測定試料(実施例1〜5と比較例に係る光触媒)を同一容器に入れ、光を照射し、光触媒効果によるメチレンブルーの分解の程度を分光光度計で調べる方法である。
【0065】
(メチレンブルー水溶液の調製)
メチレンブルー(関東化学株式会社製、試薬特級)
超純水(比抵抗18.2MΩcm以上)
上記メチレンブルー7.48mgを精秤し、全量をメスフラスコを用いて1リットルの超純水に溶解し、2.0×10-5mol/リットル(mol・dm-3)の水溶液を作製した。
【0066】
(光照射)
A 実験装置 装置概略は図2に示す。
【0067】
光源:下方照射型500WのXeランプ
フィルター:U340フィルター(UV透過し可視光を吸収する)
分光光度計:日立製作所製、U4000分光光度計
B 試料溶液
実施例1〜5と比較例に係る光触媒(試料)0.20gを、メチレンブルー水溶液200cm3中にマグネチックスターラーを用いてそれぞれ分散させた。
【0068】
各試料をそれぞれ分散させたメチレンブルー水溶液を石英セルに各々採取し、透過スペクトルを分光光度計を用いそれぞれ測定した。尚、各実施例と比較例については上記フィルターを使わずに(すなわち、可視光と紫外光を含む)光照射して試験を行っている。また、合わせて実施例1と比較例については上記フィルターを使用(すなわち、可視光を含まない紫外光のみ)して光照射した試験も行っている(図3においてU340filterと表記している)。
【0069】
測定した試料を元に戻し、撹拌と光照射を繰り返し、時間経過毎に、透過スペクトルを測定し、吸光度を求めた。
【0070】
吸光度が1.0から0.1へと変化する時間の逆数によってブリーチングの速さを評価した。
【0071】
この結果を表1と図3のグラフ図に示す。
【0072】
【表1】
[確認]
1.表1と図3のグラフ図から理解されるように、各実施例に係る光触媒(試料)を使用した場合、比較例に係る光触媒(試料)と比較して吸光度が1.0から0.1へとブリーチングするのに要した時間が短いことから、比較例に比べて各実施例に係る光触媒(試料)の触媒活性が優れていることが確認される。
【0073】
2.また、図3のU340filterと表記された曲線(可視光を含まない紫外光のみを照射した場合)とU340filterの表記がない曲線(可視光と紫外光を含んだ光を照射した場合)との比較から、実施例1と比較例とも、可視光と紫外光を含んだ光を照射した場合の方がブリーチングするのに要した時間が短いことが確認される。但し、ここで使用しているU340filterの透過波長は260〜390nmであり、最高透過率は78%であることから、TiO2(比較例)では、換算し直すと略同程度の減少となっている。一方、実施例1では、上記換算を行なっても、可視光と紫外光を含んだ光を照射した場合には吸光度の減少は大きく、分解速度が速くなっていることが確認される。
【0074】
【発明の効果】
請求項1〜3記載の発明に係る光触媒によれば、
互いに光触媒特性を持ちかつ少なくとも一方が可視光域でも光触媒特性を持つp型酸化物半導体とn型酸化物半導体から成るヘテロ接合を有する酸化物複合体で構成されることから、可視光領域で高い触媒機能を発揮させることが可能となるため、環境汚染物質の分解・処理や脱臭、防汚、抗菌、防曇などへの用途に提供できる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光触媒のヘテロpn接合を介した電子と正孔の流れ機構を模式的に示した概念説明図。
【図2】実施例1〜5と比較例に係る光触媒の触媒活性評価を行うための光照射実験装置における構成説明図。
【図3】光ブリーチング法による照射時間と吸光度との関係を示すグラフ図。
Claims (3)
- 互いに光触媒特性を持ち、かつ、真空準位を基準としたエネルギーバンド構造における伝導帯底部の電子のエネルギーレベルと価電子帯頂上の電子のエネルギーレベルがそれぞれ異なる酸化物半導体(I)と(II)による接合部を有する酸化物複合体により構成され、この酸化物複合体が、可視光域でも光触媒特性を持つp型酸化物半導体とn型酸化物半導体から成るヘテロ接合を有する酸化物複合体で構成された可視光域でも触媒活性を有する光触媒において、
可視光域でも光触媒特性を持つ上記p型酸化物半導体が、アクセプターをドープすることで生じた正孔を介し水素を水素イオンとして溶解保持することのできるペロブスカイト型酸化物で構成され、上記n型酸化物半導体が、ルチル型若しくはアナターゼ型またはこれ等2つの型が混ざった酸化チタンで構成されると共に、上記ペロブスカイト型酸化物が、Bイオンよりも低価数の陽イオンCが最大50モル%の範囲でドープされた一般式A 2+ B 4+ 1-x C 3+ x O 3- δ (但し、0<X≦0.5、かつ、0<δ<0.5)で表され、上記一般式中、Aイオンはアルカリ土類金属元素から選択された1種以上の元素、Bイオンはランタノイド、IVa族元素から選択された1種以上の元素、Cイオンはランタノイド、IIIa族元素、IIIb族元素から選択された1種以上の元素であることを特徴とする可視光域でも触媒活性を有する光触媒。 - 上記ヘテロ接合を有する酸化物複合体が、p型酸化物半導体とn型酸化物半導体を重量比でZ:(1−Z)[但し、0<Z<1]となるように調合して300〜1200℃の条件で焼成処理して得られていることを特徴とする請求項1記載の可視光域でも触媒活性を有する光触媒。
- 上記一般式A2+B4+ 1-xC3+ xO3-δにおいて、AイオンはCa、Sr、Baから選択された1種以上の元素、BイオンはZr、Ceから選択された1種以上の元素、CイオンはY、Er、Ga、Inから選択された1種以上の元素であることを特徴とする請求項1記載の可視光域でも触媒活性を有する光触媒。
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