JP2818143B2 - 農業用殺菌剤の合成中間体とその製法 - Google Patents

農業用殺菌剤の合成中間体とその製法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は農業用殺菌剤の合成
中間体とその製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジアリールエーテル基を有するオキシイ
ミノ酢酸誘導体のうちある種のものは公知であり、その
うちいくつかについては、殺菌剤および除草剤などの用
途も公知である。例えば、誘導体部分がエステルである
フェノキシフェニルオキシイミノ酢酸化合物およびその
殺菌剤としての用途は特開昭６３−３０４６３号、特開
昭６３−２３８５２号に記載され、エーテル基と酢酸基
が互いにメタ位の関係にあり、エーテル基が必ず置換
(ハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、ＣＦ3)されているフェノキシ
フェニルオキシイミノ酢酸アミドは、除草作用を有する
ものとして特開昭５６−２９５６０号に記載され、エー
テル基と酢酸基がパラ位の関係にあるフェノキシフェニ
ルオキシイミノ酢酸アミドは除草作用を有するものとし
て特開昭５５−３５００６号に記載されている。また、
ジフェニルエーテル基ではなくピリジルフェニルエーテ
ル基を有するオキシイミノ酢酸アミドは、除草作用を有
するものとして、特開昭５６−５５３６８号に記載され
ている。しかし、化学構造と生物活性の関係は完全に解
明されていないので新規化合物の生物活性は予知できる
ものではなく、また殺菌作用と除草作用は互いに類推で
きる関係にない。本発明者らは、新規化合物である式
(Ｉ)の２−フェノキシフェニルオキシイミノ酢酸アミド
誘導体(Ｉ)が、植物性病原菌に広い抗菌スペクトルを有
し、活性も強いことを見出だした。本発明の合成中間体
の最終化合物である殺菌剤はこのような知見に基づくも
のである。
【０００３】
【発明の構成】一般式
【化１７】 [式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、水素、低級アルキ
ルまたはシクロ(低級)アルキル; Ｒ3は、低級アルキルまたはシクロ(低級)アルキル; Ｒ4およびＲ5は、それぞれ水素、低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ハロゲン化低級アルキル、低級アルキルシリ
ル、ハロゲンまたはニトロ; Ａは、不飽和炭化水素、ハロゲン化不飽和炭化水素、ま
たは３個以下の低級アルキル、低級アルカノイル、低級
アルキルシリル、ハロゲン化アルキル、ジ(低級)アルキ
ルアミノ、フェニル、フェニル(低級)アルキル、フェニ
ル(低級)アルケニル、フリル(低級)アルキル、フリル
(低級)アルケニル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−ＯＲ
6(式中、Ｒ6は、水素、低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキニル、低級アルカノイル、フェニル、低
級アルコキシフェニル、ニトロフェニル、フェニル(低
級)アルキル、シアノフェニル(低級)アルキル、ベンゾ
イル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、トリフルオロ
メチルピリジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、キ
ノリル、ベンゾイル(低級)アルキル、ベンゼンスルホニ
ル、または低級アルキルベンゼンスルホニル)、および
−ＣＨ2−Ｚ'−Ｒ7{式中、Ｚ'は、−Ｏ−、−Ｓ−、ま
たは−ＮＲ−(式中、Ｒは、水素または低級アルキル)で
あり、Ｒ7は、フェニル、ハロフェニル、低級アルコキ
シフェニル、ピリジル、またはピリミジニルである}か
らなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいフ
ェニルもしくはヘテロ環基;Ｚは、−ＣＨ2−、−ＣＨ
(ＯＨ)−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−Ｎ
Ｒ−(Ｒは、水素または低級アルキル)、−ＣＨ2ＣＨ
2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、
【化２】 −ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2Ｓ−、−ＣＨ2ＳＯ−、−ＯＣＨ2
−、−ＳＣＨ2−、または−ＳＯＣＨ2−を表す]を有す
る化合物およびその立体異性体およびこれらの化合物を
有効成分として含む農業用殺菌剤の合成中間体およびそ
の製法を提供するものである。
【０００４】一般式の定義において、「低級」の語は別に
定めのない限り、炭素数８個以下、好ましくは６個以
下、より好ましくは４個以下の基を表すために用いる。
具体的に「低級アルキル」は、炭素数６個以下、好ましく
は４個以下のアルキル基をいい、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
３級ブチル等である。「シクロ(低級)アルキル」として
は、炭素数３〜８個、好ましくは３〜６個を有するシク
ロアルキル基をいい、例えば、シクロプロピル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル基をいう。「低級アルコキシ」
としては、炭素数６個以下、好ましくは４個以下のアル
コキシ基をいい、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシなどが
含まれる。「低級アルケニル」基としては、一般に、炭素
数２ないし８個、好ましくは、３〜６個のアルケニル基
をいい、例えばアリル、プロペニル、イソプロペニル、
ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘ
キサジエニル等が含まれる。「ハロゲン」には、ふっ素、
塩素、臭素、沃素が含まれる。「ハロゲン置換」、および
「低級アルキル置換」とは３個以下のハロゲン原子または
低級アルキル基により置換された基をいう。
【０００５】Ａが、不飽和炭化水素を表す場合は、炭素
数２〜１２個のアルケニル基またはアルカジエニル基を
いう。Ａがヘテロ環基を表す場合は、５員〜７員の、３
個以下の環員窒素を含むヘテロ単環基、具体的には、ピ
リジン、ピリミジン、ピリダジン等である。上記のフェ
ニル基またはヘテロ環基の置換基としては、低級アルキ
ル、低級アルカノイル、低級アルキルシリル、ハロゲン
化アルキル、ジ(低級)アルキルアミノ、フェニル、フェ
ニル(低級)アルキル、フェニル(低級)アルケニル、フリ
ル(低級)アルキル、フリル(低級)アルケニル、ハロゲ
ン、ニトロ、シアノ、−ＯＲ6(式中、Ｒ6は、水素、低
級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級ア
ルカノイル、フェニル、低級アルコキシフェニル、ニト
ロフェニル、フェニル(低級)アルキル、シアノフェニル
(低級)アルキル、ベンゾイル、テトラヒドロピラニル、
ピリジル、トリフルオロメチルピリジル、ピリミジニ
ル、ベンゾチアゾリル、キノリル、ベンゾイル(低級)ア
ルキル、ベンゼンスルホニル、または低級アルキルベン
ゼンスルホニル)、および−ＣＨ2−Ｚ'−Ｒ7{式中、Ｚ'
は、−Ｏ−、−Ｓ−、または−ＮＲ−(式中、Ｒは、水
素または低級アルキル)であり、Ｒ7は、フェニル、ハロ
フェニル、低級アルコキシフェニル、ピリジル、または
ピリミジニルである}からなる群から選ばれる１〜３個
の基が挙げられる。
【０００６】本発明の目的は、一般式(Ｉ)を有する新規
な化合物である、アルコキシイミノ酢酸アミドを提供す
ることである。本発明のもう１つの目的は、殺菌剤、特
に農業用殺菌剤として有用なアルコキシイミノ酢酸アミ
ドを提供することである。本発明はさらに有効成分とし
て少なくとも１種のアルコキシイミノ酢酸アミドを含む
殺菌剤組成物を提供するものである。また、本発明は、
アルコキシイミノ酢酸アミドの製造法を提供する。本発
明のこれらのおよび他の目的は既述の、または以下の記
載により当業者に明らかである。一般式(Ｉ)には、下記
の式を有するアルコキシイミノ酢酸アミドが含まれる：
【化１９】
【化２０】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、水素、低級アルキ
ル(具体的には、メチル); Ｒ3は、低級アルキル(具体
的には、メチル);Ｒ4およびＲ5は、それぞれ水素、低級
アルキル(具体的には、メチル)、低級アルコキシ(具体
的には、メトキシ)、ハロゲン化低級アルキル(具体的に
は、トリフルオロメチル)、低級アルキルシリル(具体的
には、トリメチルシリル)、ハロゲン(具体的には、塩
素、よう素、ふっ素)またはニトロ、およびＸ1、Ｘ2お
よびＸ3は、それぞれ、水素、低級アルキル(具体的に
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第３級ブチル)、低級アルコキシ(具体
的には、メトキシ)、低級アルカノイル(具体的には、ア
セチル)、ハロゲン化低級アルキル(具体的には、トリフ
ルオロメチル)、低級アルキルシリル(具体的には、トリ
メチルシリル)、ハロゲン(具体的には、塩素、臭素、ふ
っ素)、ニトロ、ジ(低級)アルキルアミノ(具体的には、
ジメチルアミノ)、フェニル、フェニル(低級)アルケニ
ル(具体的には、フェニルエテニル)、フリル(低級)アル
ケニル、(具体的には、フリルエテニル)、ヒドロキシ、
低級アルキニルオキシ(具体的には、２−プロピニルオ
キシ)、低級アルカノイルオキシ(具体的には、アセトキ
シ)、ベンゾイルオキシ、フェノキシ、低級アルコキシ
フェノキシ(具体的には、メトキシフェノキシ)、ニトロ
フェノキシ、ベンジルオキシ、シアノベンジルオキシ、
テトラヒドロピラニルオキシ、ピリミジニルオキシ、ピ
リジルオキシ、トリフルオロメチルピリジルオキシ、ベ
ンゾチアゾリルオキシ、キノリルオキシ、ベンゾイル
(低級)アルコキシ(具体的には、ベンゾイルメトキシ)、
ベンゼンスルホニルオキシ、または低級アルキルベンゼ
ンスルホニルオキシ(具体的には、トルエンスルホニル
オキシ)を表す]を有する化合物である。
【０００７】さらに、上記のアルコキシイミノ酢酸アミ
ドの他に下記の化合物も含まれる。
【化２１】 [式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、水素、低級アルキ
ル(具体的には、メチル);Ｒ3は、低級アルキル(具体的
には、メチル);Ｒ4およびＲ5は、それぞれ水素、低級ア
ルキル(具体的には、メチル)、低級アルコキシ(具体的
には、メトキシ)、ハロゲン化低級アルキル(具体的に
は、トリフルオロメチル)、低級アルキルシリル(具体的
には、トリメチルシリル)、ハロゲン(具体的には、塩
素、よう素、ふっ素)またはニトロ、Ｚ'は、−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＳＯ−または−ＮＲ−(式中、Ｒは、水素また
は低級アルキル、具体的には、メチル)であり、Ｒ7は、
フェニル、低級アルコキシフェニル(具体的には、メト
キシフェニル)、ハロフェニル(具体的には、ブロモフェ
ニル)、ピリジル、またはピリミジニルである]を有する
化合物;
【化２２】 [式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一または異なって
水素、低級アルキル(具体的には、メチル);R3は、低級
アルキル(具体的には、メチル);Ａ'−は、ピリジル、ピ
リミジニル、Ｚは、−Ｏ−、−ＯＣＨ2−、または−Ｃ
Ｈ2Ｏ−、およびＸ1は、水素、またはトリフルオロメチ
ル]を有する化合物;
【化２３】 [式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、水素、低級アルキ
ル(具体的には、メチル);Ｒ3は、低級アルキル(具体的
には、メチル);Ｚは、−ＣＨＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ
−、
【化２４】 −ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ(ＯＨ)−、または−ＣＯ−を表
す]を有する化合物;および
【化２５】 [式中、Ｒ1およびＲ2は、水素、低級アルキル(具体的に
は、メチル);Ｒ3は、低級アルキル(具体的には、メチ
ル);およびＡは、３個以下のハロゲン（具体的には、塩
素)で置換されていてもよい炭素数３〜１０個のアルケ
ニル、または３個以下のハロゲン(具体的には、塩素)で
置換されていてもよい炭素数３〜１０個のアルカジエニ
ルを表す]を有する化合物。
【０００８】式Ｉの化合物は塩を形成する場合があり、
例えば、塩基性の場合は酸付加塩となる。これらの化合
物は本発明の技術的範囲に含まれるものである。アルコ
キシイミノ酢酸アミド(Ｉ)は種々の方法により製造する
ことができ、これらのうち、典型的な方法は、対応す
る、式、
【化２６】 [式中、ＡおよびＺは、それぞれ、上記と同じ意味を表
す]を有するオキソカルボン酸から出発し、実質的に
は、アミド化とアルコキシム化(アルコキシム形成)を含
み、いずれが先であってもよい。以下反応式Ａに、この
方法の主な部分を示す。
【化２７】 [式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、ＡおよびＺは上記と
おなじ意味を表す]。
【０００９】反応式Ａを説明すると、オキソカルボン酸
(II)またはそのカルボキシル基における反応性誘導体
に、式、 ＮＨＲ1Ｒ2 (a) [式中、Ｒ1およびＲ2は上記と同じ意味を表す]を有する
アミンを反応させ、得られたオキソカルボン酸アミド(I
II)を式、 Ｈ2ＮＯＲ3 (b) [式中、Ｒ3は、上記と同じ意味を表す]を有するアルコ
キシアミンと反応させ(アルコキシム化)、目的化合物で
あるアルコキシイミノ酢酸アミド(Ｉ)を得る。アミンの
Ｒ1が水素の場合は、反応はカルボキシル基だけでな
く、オキソカルボン酸(II)またはカルボキシル基の反応
性誘導体のカルボニル基にも生じるので、下記の式、
【化２８】 [式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、ＡおよびＺは上記とおな
じ意味を表す]を有するイミノカルボン酸アミドが副生
する。特に、上記アミン(a)をオキソカルボン酸(II)ま
たはその反応性誘導体の１モルに対し、２モルまたはそ
れ以上を用いると、主生成物としてイミノカルボン酸ア
ミド(III')が得られる。アルコキシアミンと反応させる
と、オキソカルボン酸アミド(III)およびイミノカルボ
ン酸アミドは目的化合物である、アルコキシイミノ酢酸
アミドにすることができる。
【００１０】所望により、アルコキシム化は２段階、す
なわち、オキソカルボン酸アミド(III)またはイミノカ
ルボン酸アミド(III')とヒドロキシルアミンの反応、お
よび得られたヒドロキシイミノ酢酸アミドと、式、 Ｒ3Ｘ (c) [式中、Ｘは、ハロゲン原子(例えば、塩素、臭素)、ま
たはスルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオ
キシ、エタンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオ
キシ基)のような酸残基である]を有するアルキル化剤と
の反応で行なうことができる。
【００１１】別法として、オキソカルボン酸(II)または
カルボキシル基の反応性誘導体をアルコキシアミン(b)
と反応させ(アルコキシム化)、ついで得られたアルコキ
シイミノカルボン酸(Ｖ)またはカルボキシル基の反応性
誘導体を、アミン(a)と反応させて(アミド化)、目的化
合物であるアルコキシイミノ酢酸アミド(Ｉ)を得る。所
望により、アルコキシム化は、２段階、すなわち、オキ
ソカルボン酸(II)またはカルボキシル基の反応性誘導体
とヒドロキシルアミンとの反応、および得られたヒドロ
キシイミノカルボン酸アミド(VI)またはカルボキシル基
の反応性誘導体とアルキル化剤(c)の反応によりおこな
うことができる。
【００１２】このようにして生成したアルコキシイミノ
カルボン酸(Ｖ)またはそのカルボキシル基の反応性誘導
体を、つぎにアミン(a)と反応させ、目的化合物である
アルコキシイミノ酢酸アミド(Ｉ)を得る。上記から理解
できるように、上述の方法の出発物質のオキソカルボン
酸(II)として、遊離の酸またはその誘導体を用いること
ができる。反応性誘導体の例としては、エステル、酸無
水物、酸ハロゲン化物などが含まれる。
【００１３】アミド化(アミン(a)との反応)、アルコキ
シム化(アルコキシアミン(b)との反応)、オキシム化(ヒ
ドロキシルアミンとの反応)およびアルキル化(アルキル
化剤(c)との反応)などの上述の方法に含まれる反応はい
ずれも、それ自体は公知であり、当業者にとって周知の
方法で行うことができる。一般にこれらの反応は溶媒中
で、好ましくは、反応の進行を容易にし、または促進す
る条件である、室温ないしは反応混合物の還流温度、例
えば１０〜２００℃で行う。反応を容易にし、または促
進する条件として、反応物質の種類、または反応生成物
から除去すべき副生物の種類を考慮に入れることができ
る。例えば、アミド化は、カルボン酸、酸のエステル
(例えば、メチルエステル、エチルエステル、シアノメ
チルエステル、p−ニトロフェニルエステル)、酸無水物
(例えば、トリクロロ酢酸との混合酸無水物)、酸ハロゲ
ン化物(例えば、酸クロリド、酸ブロミド)のようなカル
ボキシル基における反応性誘導体とアミン(a)の間で行
い、水、アルコール、酸などを副生しつつ、カルボン酸
アミドが得られる。これらの副生物を除くために、縮合
剤(例えば、１,３−ジシクロヘキシルカルボジイミド
(ＤＣＣ)、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ'−モルホリノエチ
ルカルボジイミド、１,３−ジイソプロピルカルボジイ
ミド、クロロ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エチル)、脱水剤
(塩化チオニル、塩化スルフリル、オキシ塩化りん、三
臭化りん、五塩化りん、ポリりん酸)、酸除去剤(ピリジ
ン、トリエチルアミン、ナトリウムメトキシド、水酸化
ナトリウム、蟻酸ナトリウム)などを使用することがで
きる。さらに、例えば、アルコキシム化は、ケトンと、
アルコキシアミン(b)との間で行なわれ、水を副生して
アルコキシムを生成する。通常は、水酸化ナトリウム、
酢酸ナトリウムまたはピリジンのような塩基を反応系に
共存させる。
【００１４】反応は一般に、その種類により、ジオキサ
ン、メチレンクロリド、クロロホルム、エーテル、テト
ラヒドロフラン(ＴＨＦ)、アセトン、ジメチルホルムア
ミド(ＤＭＦ)、ジメチルスルホキシド(ＤＭＳＯ)、ピリ
ジン、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キシレン
等から適当に選択される不活性溶媒中でおこなう。上述
のように、反応式Ａは、典型的な常套手段の主な部分を
示すにすぎず、当然ではあるが、オキソカルボン酸アミ
ド(III)、またはアルコキシイミノカルボン酸アミド
(Ｖ)をオキソカルボン酸(II)を経過しない別の公知方法
により製造することが可能である。また、ひとたび生成
したアルコキシイミノ酢酸アミド(Ｉ)を、ベンゼン環上
にＲ4、Ｒ5または−Ｚ−Ａで表される置換基を有する誘
導体に変換することが可能である。
【００１５】つぎに述べる反応式１〜１１は、アルコキ
シイミノ酢酸アミドの製造の具体的な工程を詳細に説明
するものである。反応式１〜１１において、Ｍeは、メ
チル、Ｈalは、ハロゲン、Ｘは、ハロゲンのような酸残
基、Ｚ"は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−(Ｒは、低級アル
キル)、およびＲ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3
はそれぞれ、上記とおなじ意味を表す。
【化２９】
【化３０】
【化３１】
【化３２】
【化３３】
【化３４】
【化３５】
【化３６】
【００１６】反応式１は出発物質であるジフェニルエー
テルを、ブチルリチウムと反応させて、ベンゼン環の２
−位にリチウムを導入し、ついで、例えばシュウ酸ジメ
チルと反応させ、オキソカルボン酸(II)誘導体の１種で
ある、ケト酸エステルに導き、ついで、これをメトキシ
アミンと反応させて、メトキシイミノ酢酸エステルを得
る。これはアルコキシイミノカルボン酸(Ｖ)の１種であ
る。
【００１７】反応式２については、出発原料のフェノー
ルにハロゲン化ニトロベンゼンをナトリウムアミド、炭
酸カリウムなどの塩基の存在下ＤＭＳＯ、ＤＭＦなどの
不活性溶媒中で反応させてジフェニルエーテルを合成
し、このジフェニルエーテルのニトロ基を還元、得られ
たアミノ基をサンドマイヤー法によりハロゲンとし、ハ
ロゲン化した化合物を、ブチルリチウムと反応させ、シ
ュウ酸ジメチルと縮合してケト酸エステルとする。これ
はオキソカルボン酸(II)の反応性誘導体の１種である。
【００１８】反応式３は、出発物質であるフェノールを
塩化ベンジルと、塩基(例えば、ナトリウムアミド、ト
リエチルアミン、水酸化ナトリウム、酸化バリウム、酸
化銀、水素化ナトリウム)の存在下、不活性溶媒(例え
ば、エーテル、ＤＭＳＯ、ＤＭＦ、ＴＨＦ)中にて反応
させ、ベンジルフェニルエーテルを得る。これは、アル
コキシイミノカルボン酸(Ｖ)の１種である。
【００１９】反応式４は、出発物質であるハロゲン化ベ
ンジルを、対応するトリル化合物とハロゲン化剤(塩
素、臭素、次亜ハロゲン酸t−ブチル、Ｎ−ハロゲノス
クシンイミド、塩化トリクロロメタンスルホニル)と
を、高温、光、過酸化物などの存在下に作用させて得た
後、反応式３と同様にしてフェノールと反応させ、フェ
ニルベンジルエーテルを得る。これは、アルコキシイミ
ノカルボン酸(Ｖ)の１種である。
【００２０】反応式５は、２−トリル酢酸メチルをＳe
Ｏ2で酸化するか、２−ハロゲノトルエンを、ブチルリ
チウムまたはＭgと反応させ、ついでシュウ酸ジメチル
と縮合させて、ケトエステルを得る。ついで、ケトエス
テルをメトキシアミン塩酸塩と反応させ、メトキシム体
を得るか、またはケトエステルを初めにヒドロキシルア
ミン塩酸塩と反応させ、ついで得られたオキシムを塩基
の存在下、ジメチル硫酸と反応させ、メトキシムを得る
こともできる。かくして得られたメトキシムのベンゼン
環のメチル基をハロゲン化し、ハロメチル基とする。つ
いで得られたベンジルハロゲン化物を式:Ａ−Ｚ"−Ｈ
[式中、Ｚ"は、−Ｏ−、−Ｓ−、または−ＮＲ−(式
中、Ｒは、低級アルキル)]を有する反応性化合物を塩基
の存在下に反応させ、メトキシイミノ酢酸エステルを得
る。これは、アルコキシイミノカルボン酸(Ｖ)の１種で
ある。
【００２１】反応式６は、例えば２−テトラヒドロピラ
ニルオキシフェニルハロゲン化物をブチルリチウムと反
応させ、ついでシュウ酸ジメチルと反応させ、ケトエス
テルとする。つぎに、このケトエステルをメトキシアミ
ン塩酸塩と反応させるか、またはヒドロキシルアミン塩
酸塩とジメチル硫酸と反応させて、テトラヒドロピラニ
ルフェニルエーテルを得る。これはアルコキシイミノカ
ルボン酸(Ｖ)の１種である。ついで、テトラヒドロピラ
ニルフェニルエーテルをメチルアミンで処理し、カルボ
ン酸エステルからテトラヒドロピラニル基をはずすとと
もにカルボンアミドに変換する。得られたフェノールを
アルケニルまたはアルカジエニルハロゲン化物と塩基の
存在下に反応させ、アルケニル、またはアルカジエニル
フェニルエーテルを得る。これはアルコキシイミノ酢酸
アミド(Ｉ)の例である。
【００２２】反応式７は、出発物質であるヒドロキシフ
ェニル塩化物をアリールハロゲン化物(例えば、フェニ
ルブロミド、ピリジルブロミド)と反応させ、アリール
オキシフェニルハロゲン化物を得る。このアリールオキ
シフェニルハロゲン化物を反応式６と同様に、すなわ
ち、ブチルリチウムまたはマグネシウムと反応させ、つ
いでシュウ酸ジメチルで処理し、メトキシアミン塩酸塩
と反応させるか、またはヒドロキシルアミン塩酸塩とジ
メチル硫酸と反応させる。このアリールフェニルエーテ
ルはアルコキシイミノカルボン酸(Ｖ)の１種である。反
応式８では、出発物質であるイミノ酢酸エステルを酢酸
アルカリ金属塩とメチルアミンを作用させて、エステル
基をカルボン酸アミド基に変換し、ハロメチル基をヒド
ロキシメチル基に変換する。得られたヒドロキシフェニ
ルカルボン酸アミドをアリールハロゲン化物(例えば、
フェニルハロゲン化物、ピリミジニルハロゲン化物)
と、塩基の存在下反応させ、アリールベンジルエーテル
を得る。これは、アルコキシイミノ酢酸アミド(Ｉ)の１
種である。
【００２３】反応式９は、出発物質であるジヒドロキシ
ベンゼンに２−ハロニトロベンゼンを塩基の存在下に反
応させて、得られたニトロジフェニルエーテルを還元
後、サンドマイヤー反応に付し、２−(ヒドロキシフェ
ノキシ)フェニルハロゲン化物を得、ついでこれを、硫
酸、塩酸、三ふっ化ほう素などの酸性触媒の存在下、ジ
ヒドロピランと反応させる。得られたテトラヒドロピラ
ニルオキシフェノキシフェニルハロゲン化物をブチルリ
チウムまたはマグネシウムと反応させ、ついでシュウ酸
ジメチルと反応させて、オキシカルボン酸(II)誘導体の
１種であるケトエステルを得る。このケトエステルをメ
トキシアミン塩酸塩と反応させ、アルコキシイミノカル
ボン酸(Ｖ)誘導体の１種であるメトキシム体を得る。そ
の後、このメトキシム体をＲ6Ｘ(式中、Ｒ6およびＸは
上記と同じ意味を表す)(例えば、ハロゲン化フェニル、
ハロゲン化ピリジル、ハロゲン化ピリミジニル、ハロゲ
ン化キノリル、ハロゲン化ベンゾチアゾリル、ハロゲン
化フェナシル、ハロゲン化トシル、ハロゲン化アセチ
ル、ハロゲン化ベンゾイル、ハロゲン化ベンジル、ハロ
ゲン化プロパルジル、ハロゲン化スチリル)と反応さ
せ、ヒドロキシ基をＲ6Ｏ−基に変換する。
【００２４】反応式１０は出発原料であるメトキシム体
をハロゲン化し、対応するハロメチル化合物とし、つい
で、これを酢酸アルカリ金属塩とメチルアミンで処理
し、アルコキシイミノ酢酸アミド(Ｉ)の１種であるメト
キシイミノカルボン酸アミドを得る。このメトキシイミ
ノカルボン酸アミドを式:Ｒ7Ｘ基導入剤と塩基の存在下
反応させ、ヒドロキシ基を−ＯＲ7に変える。別法とし
て、上記ハロメチル体を、式:Ｒ7−Ｚ'−Ｈ(式中、Ｒ７
およびＺ'は上記と同じ意味である)を有する試剤および
メチルアミンと反応させて、アルコキシイミノ酢酸アミ
ドの別の例であるメトキシイミノカルボン酸アミドを得
る。
【００２５】反応式１１は、出発原料であるハロゲン化
フェニルをブチルリチウムまたはマグネシウムと反応さ
せ、ついでシュウ酸ジメチル反応させて、オキソカルボ
ン酸(II)の誘導体の１種であるケトエステルを得る。こ
のケトエステルをメトキシアミン塩酸塩と反応させる
か、ヒドロキシルアミンおよび硫酸ジメチルと反応させ
るかして、アルコキシイミノカルボン酸(Ｖ)の１種であ
るメトキシム体を得る。
【００２６】なお、本発明の化合物を合成すると、Ｅお
よびＺ体を含み、これは分離精製してＥおよびＺ体に単
離することができる。従って本発明の化合物はＥ体、Ｚ
体、およびＥ体とＺ体の混合物を含む。
【００２７】本発明による化合物またはその異性体およ
びその混合物は、栽培植物またはその種、例えば稲、コ
ムギ、オオムギ、ライムギ、トウモロコシ、キビ、ア
ワ、ソバ、大豆、小豆、落花生等あるいは果樹、例え
ば、かんきつ類、ブドウ、リンゴ、ナシ、桃、もしくは
野菜、例えば、キュウリ、ナス、トマト、カボチャ、ま
たはインゲンを犯す病原菌(真菌)および他の土壌に由来
する病原菌、特に、稲イモチ病菌(Pyricularia oryzae
)、稲紋枯病菌(Rhizoctonia solani )、麦うどんこ病菌
(Erysiphe graminis )、キュウリうどんこ病菌(Sphaero
theca fuliginea)、タバコうどんこ病菌(Erysiphe cicho
racearum)、 バレイショ疫病菌(Phytophthora infestan
s)キュウリべと病菌(Pseudoperonospora cubensis)、大
豆べと病菌(Peronospora manshurica)、ブドウべと病菌
(Plasmopara viticola)、あるいは野菜類、ブドウ等の灰
色かび病菌(Botrytis cinerea)、キュウリ苗立枯病菌(P
ythiumaphanidermatum)、そば、 大豆、 なたね等の菌核病
菌(Sclerotinia sclerotiorum)、大豆、 小豆、 ばれいし
ょ、 落花生等の白絹病菌(Corticium rolfsii)等に対し
て強力な抗菌活性を示す。それ故、本発明の化合物は農
業用殺菌剤として有用である。
【００２８】本発明による化合物は植物に有効物質を、
噴霧、散布、塗布等して処理するか、または植物の種
子、または植物の周囲の土壌、あるいは種子を播種する
土壌、水田、水耕栽培の水を有効物質で処理することに
より適用することができる。適用は植物が病原菌に感染
する前または感染後に行うことができる。
【００２９】本化合物は通常の製剤の態様、例えば、液
剤、水和剤、乳化剤、懸濁剤、液状濃縮剤、錠剤、顆粒
剤、エアロゾル、粉末剤、ペースト剤、燻煙剤などのよ
うな農業用殺菌剤に適する薬剤として使用することがで
きる。このような態様は、少なくとも１種の本発明の化
合物と適当な固体または液体の担体類、および所望によ
り、有効物質の分散性や、他の性質の改善のために適当
な補助剤(例えば、界面活性剤、展着剤、分散剤、安定
剤)とともに混合する通常の方法によって得ることがで
きる。
【００３０】固体の担体、または希釈剤の例としては、
植物性物質(例えば、穀物粉、タバコ茎粉、大豆粉、ク
ルミ殻粉、野菜粉、カンナ屑、ぬか、樹皮粉、繊維素
粉、野菜抽出残渣)、繊維状物質(例えば、紙、ダンボー
ル紙、ぼろ布)、人工の可塑性粉末、粘土(例えば、カオ
リン、ベントナイト、白土)、タルクおよび無機物質(葉
ろう石、絹雲母、軽石、硫黄粉、活性炭)、化学肥料(例
えば、硫安、りん酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、
尿素、塩化アンモニウム)などがある。
【００３１】液体担体および希釈剤としては、水、アル
コール類(例えば、メタノール、エタノール)、ケトン類
(例えば、アセトン、メチルエチルケトン)、エーテル類
(例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、セロソル
ブ、テトラヒドロフラン)、芳香族炭化水素(例えば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、メチルナフタレン)、脂
肪族炭化水素(例えば、ガソリン、ケロシン、灯油)、エ
ステル類、ニトリル類、酸アミド(例えば、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド)、ハロゲン化炭化
水素(例えば、ジクロロエタン、四塩化炭素)などがあ
る。
【００３２】界面活性剤の例としては、アルキル硫酸エ
ステル、スルホン酸アルキル、スルホン酸アルキルアリ
ール、ポリエチレングリコールエーテル、多価アルコー
ルエステル類などがある。展着剤または分散剤の例に
は、カゼイン、ゼラチン、デンプン粉、カルボキシメチ
ルセルローズ、アラビアゴム、アルギン酸、リグニン、
ベントナイト、糖蜜、ポリビニルアルコール、パイン油
および寒天などが挙げられる。安定剤として、ＰＡＰ
(イソプロピルリン酸塩混合物)、りん酸トリクレジル
(ＴＣＰ)、トルー油、エポキシ油、界面活性剤類、脂肪
酸類およびそのエステル類が挙げられる。上記の成分に
加えて、本発明の製剤は他の殺菌剤、殺虫剤、除草剤、
または肥料と混合して使用することができる。
【００３３】一般に、上記の製剤は、少なくとも１種の
本発明の化合物を、１〜９５重量％、好ましくは、２.
０〜８０重量％含む。これらの製剤は単独で、または希
釈して使用することができ、本発明の化合物、約１.０g
〜５kg／ヘクタール、好ましくは、約２〜１００g／ヘ
クヘールを、通常は、約１〜５０,０００ppm、好ましく
は、約１００〜５,０００ppmの濃度で使用する。
【００３４】次に具体的な実施例を揚げて本発明の化合
物の製造方法を説明する。 実施例１ ２−(２−フェノキシフェニル)−２−メトキシイミノ酢
酸アミド(化合物番号１)の製造 (２−フェノキシフェニル)−２−オキソ酢酸メチル(０.
７０g)をメタノール(１０ml)に溶解し、２８％アンモニ
ア水(２.０ml)を加えた後、一夜撹拌を継続する。減圧
下で溶媒を留去した後、残渣にジエチルエーテル(１５
０ml)と水(５０ml)を添加し、撹拌しつつ、溶解する。
静置後有機層を分離し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。濾過後、濾液を減圧下で濃縮し、黄色結晶性
の残渣を得る。結晶性残渣にメタノール(１０ml)とＯ−
メチルヒドロキシルアミン塩酸塩(１.４９g)を添加し、
撹拌しつつ、６時間還流する。反応混合物に水(５０ml)
を加え、ジエチルエーテルにより抽出する。有機層を水
洗し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥する。濾過後、濾液
を減圧下濃縮し、油状残渣を得る。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶媒:ベンゼン)により精製し、目的
物(０.３６g)を得る。 nＤ23・3＝１.５９７８ 元素分析値(％) 理論値(Ｃ15Ｈ14Ｎ2Ｏ3・1/2Ｈ2０として): Ｃ,６４.５０;Ｈ,５.４１;Ｎ,１０.０３ 測定値 Ｃ,６４.６３;Ｈ,５.１３;Ｎ,９.８９
【００３５】実施例２ Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２−メト
キシイミノ酢酸アミド(化合物番号３)とその異性体(化
合物番号４)の合成 ２−フェノキシフェニル−２−オキソ酢酸メチル(０.７
０g)をメタノール(１０ml)に溶解し、２５％メチルアミ
ン水溶液(３.４ml)を加えた後、一夜撹拌する。減圧下
で溶媒を留去した後、残渣にジエチルエーテル(１５０m
l)と水(５０ml)を流入し、撹拌溶解する。静置分液後、
有機層を分液し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。濾過
後、濾液を減圧下で濃縮し、得られた油状残渣(０.６７
g)をシリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ベンゼン／酢
酸エチル＝１００:５)により精製し、極性の高い溶出分
を減圧下で濃縮して、油状残渣(０.５５g)を得る。油状
残渣にメタノール(１０ml)とＯ−メチルヒドロキシルア
ミン塩酸塩(０.４０g)を入れ、撹拌しながら７時間還流
する。反応混合物に水(５０ml)を入れ、ジエチルエーテ
ル(１５０ml)で抽出する。抽出液を水洗し、乾燥し、減
圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶媒:ベンゼン／酢酸エチル＝１００:５)にかけ、
最初に溶出した異性体(化合物番号３)を白色結晶(０.２
５g;mp６３−６４.５℃)として、後に溶出した異性体
(化合物番号４)を白色結晶(０.１５g;mp４８−５１℃)
として得る。 元素分析値(％) 理論値(Ｃ16Ｈ16Ｎ2Ｏ3・1/5Ｈ2Ｏとして): Ｃ,６６.７４;Ｈ,５.７４;Ｎ,９.７３ 化合物番号３ 測定値: C,６６.７５;Ｈ,５.６８;Ｎ,９.７１ 化合物番号４ 測定値: Ｃ,６６.８５;Ｈ,５.９０;Ｎ,９.６６
【００３６】実施例３ Ｎ,Ｎ−ジメチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２
−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号２)の合成 ２−(２−フェノキシフェニル)−２−オキソ−酢酸メチ
ル(０.７０g)をメタノール(１０ml)に溶解し、５０％ジ
メチルアミン水溶液(２.５ml)を加えた後、一夜撹拌す
る。実施例1と同様に処理して油状残渣(０.５０g)を得
る。油状残渣にメタノール(１０ml)とＯ−メチルヒドロ
キシルアミン塩酸塩(０.３４g)を入れ、７時間撹拌す
る。実施例２と同様に処理して目的物を白色結晶(０.２
６g;mp６３−６４℃)として得る。 元素分析値(％) 理論値(Ｃ17Ｈ18Ｎ2Ｏ3として): Ｃ,６８.４４;Ｈ,６.０８;Ｎ,９.３８ 測定値: Ｃ,６８.４４;Ｈ,６.２１;Ｎ,９.４８
【００３７】実施例４ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２
−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号３)の合成 Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２−オキ
ソ酢酸アミド(１.５０g)とヒドロキシルアミン塩酸塩
(０.６９g)をメタノール(１０ml)に溶解し、撹拌しなが
ら３時間４０分還流する。反応混合物に水(７５ml)を流
入し、ジクロロメタン(１５０,１００ml)により抽出す
る。有機層を水(７５ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥する。濾過後、濾液を減圧下で濃縮し、結晶性残
渣を得る。結晶性残渣にＤＭＦ(７ml)、炭酸カリウム
(１.６g)およびジメチル硫酸(０.５８ml)を入れ、室温
下で一夜撹拌する。実施例２と同様に処理して目的化合
物(０.８０g)を得る。実施例１〜４で得た化合物を第１
表に示す。
【００３８】実施例５ (Ｚ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−トリルオキシ)フェ
ニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号５) １) メチル ２−[２−(３−トリルオキシ)フェニル]
−２−オキソアセタート３−フェノキシトルエン(２.０
０g)をジエチルエーテル(３０ml)に溶解し、ブチルリチ
ウム−ヘキサン溶液(１４.１ミリモル)を０℃で加え、
室温で１２時間撹拌した。これを、シュウ酸ジメチル
(２.５７g)のジエチルエーテル溶液(３０ml)に０℃で滴
下した。５時間撹拌後、１Ｎ塩酸により中和しジエチル
エーテルで抽出した。溶媒を乾燥、留去後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチルで溶
出)により精製し２種の生成物を得た。 化合物(Ａ) メチル ２−[２−(３−トリルオキシ)フェニル]−２−
オキソアセタート(収量９６５mg)1 Ｈ−ＮＭＲ:２.３５(３Ｈ,s),３.７２(３Ｈ,s),６.８
６(１Ｈ,d,Ｊ＝７.８),６.８８(１Ｈ,s),７.００(１Ｈ,
d,Ｊ＝７.８),７.１７−７.２８(３Ｈ,m),７.５１(１
Ｈ,td,Ｊ＝７.８,２.０),７.９６(１Ｈ,dd,Ｊ＝７.８,
２.０);および 化合物(Ｂ) メチル ２−(４−メチル−２−フェノキシフェニル)−
２−オキソアセタート(収量２６０mg)1 Ｈ−ＮＭＲ:２.３２(３Ｈ,s),３.６９(３Ｈ,s),６.６
５(１Ｈ,s),７.０３−７.１１(２Ｈ,m)、７.１４−７.
１９(２Ｈ,m),７.３４−７.３８(２Ｈ,m),７.８８(１
Ｈ,d,Ｊ＝７.８)。 ２)メチル ２−[２−(３−トリルオキシ)フェニル]−
２−オキソアセタート(化合物Ａ)(９６５mg)と、０−メ
チルヒドロキシルアミン塩酸塩(５９７mg)とをメタノー
ル(２ml)に溶解させ、５時間加熱還流した。反応混合物
を室温に冷却後メタノールを留去し、水で希釈しジエチ
ルエーテルで抽出した。溶媒を乾燥、留去後２種の生成
物を得た。 化合物(Ａ') メチル (Ｚ)−２−[２−(３−トリルオキシ)フェニル]
−２−メトキシイミノアセタート(収量２８６mg)1 Ｈ−ＮＭＲ:２.３２(３Ｈ,s),３.６５(３Ｈ,s),４.０
３(３Ｈ,s),６.７５−６.９４(３Ｈ,m),７.１２−７.３
６(４Ｈ,m),７.８３(１Ｈ,d,Ｊ＝７.８);および 化合物(Ｂ') メチル (Ｅ)−２−[２−(３−トリルオキシ)フェニル]
−２−メトキシイミノアセタート(収量７３９mg)1 Ｈ−ＮＭＲ:２.３１(３Ｈ,s),３.７８(３Ｈ,s),４.０
３(３Ｈ,s),６.７７−６.９２(３Ｈ,m),７.１１−７.３
８(５Ｈ,m)。 ４)メチル (Ｚ)−２−[２−(３−トリルオキシ)フェニ
ル]−２−メトキシイミノアセタート(２８６mg)(化合物
Ａ')に、３０％メチルアミン−メタノール溶液(１９７m
g)を加え室温で１２時間撹拌した。過剰のアミンとメタ
ノールを留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン−酢酸エチル)に付し、(Ｚ)−Ｎ−メチル−２
−[２−(３−トリルオキシ)フェニル]−２−メトキシイ
ミノ酢酸アミド(化合物番号５)を２０１mg得た。
【００３９】実施例６ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−トリルオキシ)フェ
ニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号６) 実施例５と同様の方法によりメチル (Ｅ)−２−[２−
(３−トリルオキシ)フェニル]−２−メトキシイミノア
セタート(化合物Ｂ')より得た。
【００４０】実施例７ (Ｚ)−Ｎ−メチル−２−(４−メチル−２−フェノキシ
フェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号
７) 1)前記実施例５(２)の記載方法と同様の方法でメチル−
２−(４−メチル−２−フェノキシフェニル)−２−オキ
ソアセタート(化合物Ｂ)より２種の生成物を得た。 化合物Ｃ' メチル (Ｚ)−２−(４−メチル−２−フェノキシフェ
ニル)−２−メトキシイミノアセタート 化合物Ｄ' メチル (Ｅ)−２−(４−メチル−２−フェノキシフェ
ニル)−２−メトキシイミノアセタート ２)実施例５(３)と同様の方法によりメチル (Ｚ)−２
−(４−メチル−２−フェノキシフェニル)−２−メトキ
シイミノアセタート(化合物Ｃ')より(Ｚ)−Ｎ−メチル
−２−(４−メチル−２−フェノキシフェニル)−２−メ
トキシイミノ酢酸アミド(化合物番号７)を得た。
【００４１】実施例８ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(４−メチル−２−フェノキシ
フェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号
８) 実施例５(３)と同様の方法によりメチル (Ｅ)−２−
(４−メチル−２−フェノキシフェニル)２−メトキシイ
ミノアセタート(化合物Ｄ')より得た。
【００４２】実施例９ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(６−メトキシ−２−フェノキ
シフェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番
号９) 実施例５と同様の方法により３−メトキシジフェニルエ
ーテルより得た。
【００４３】実施例１０ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(５−ニトロ−２−フェノキシ
フェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号
１０) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２
−メトキシイミノ酢酸アミド(５００mg)を無水酢酸(１m
l)に溶解させ、０℃に冷却し発煙硝酸(３０１mg)を加え
た。同温度で３０分撹拌し、過剰量のメチルアミン−メ
タノール溶液を加え、さらに１２時間撹拌した。水で希
釈しジエチルエーテルで抽出した。溶媒を乾燥、留去
後、ＨＰＬＣを用い精製し、標記化合物を８６mgを得
た。同様にして下記の化合物を得た。 (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−ニトロフェノキシ)
フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号
１１)、１６７mg (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(２−ニトロフェノキシ)
フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号
１２)、４５mg (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシ−３−ニトロ
フェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号
１３)、４３mg
【００４４】実施例１１ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−クロロフェノキシ)
フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号
１６) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２
−メトキシイミノ酢酸アミド(５００mg)をジクロロメタ
ンに溶解し、０℃に冷却し塩化スルフリル(２８５mg)を
滴下した。同温度で２時間撹拌し、水で希釈しジエチル
エーテルで抽出した。溶媒を乾燥留去後、ＨＰＬＣ(ヘ
キサン−酢酸エチル)により精製し標記化合物を３８２m
g得た。
【００４５】実施例１２ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−ブロモフェノキシ)
フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号
１７) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２
−メトキシイミノ酢酸アミド(５００mg)を四塩化炭素
(３ml)に溶解し、０℃に冷却し臭素の四塩化炭素溶液
(１.２７ミリモル)を滴下した。同温度で１時間撹拌
後、飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄しジクロロメタン
で抽出した。溶媒を乾燥、留去後、ＨＰＬＣ(ヘキサン
−酢酸エチル)により精製し、標記化合物を２００mg得
た。
【００４６】実施例１３ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(５−フルオロ−２−フェノキ
シフェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番
号１８) 実施例５と同様の方法により４−フルオロジフェニルエ
ーテルより得た。
【００４７】実施例１４ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−t−ブチルフェノキ
シ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物
番号１９) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２
−メトキシイミノ酢酸アミド(３００mg)をニトロメタン
(３ml)に溶解し、塩化アルミニウム(４２３mg)と塩化t
−ブチル(１４７mg)を加え室温で１時間撹拌した。水で
希釈しジエチルエーテルで抽出した。溶媒を乾燥留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより(ヘキ
サン−酢酸エチル)精製し標記化合物を３７５mg得た。
【００４８】実施例１５ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−メトキシフェノキ
シ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物
番号２２) １) ４−メトキシ−２'−ニトロジフェニルエーテル ４−メトキシフェノール(１.５０g)と２−クロロニトロ
ベンゼン(１.９１g)をＤＭＦ(１０ml)中、無水炭酸カリ
ウム(３.３４g)と１２時間、１２０℃で撹拌した。反応
混合物を室温にまで冷却し水で希釈しジエチルエーテル
で抽出した。溶媒を乾燥、留去後、標記化合物を２.６
１g得た。1 Ｈ−ＮＭＲ:３.８２(３Ｈ,s),６.９１(２Ｈ,d,Ｊ＝９.
１),７.０２(２Ｈ,d,Ｊ＝９.１),７.１２(１Ｈ,t,Ｊ＝
８.０),７.４５(１Ｈ,ddd,Ｊ＝９.１,８.０,１.７),７.
９２(１Ｈ,dd,Ｊ＝８.０,１.７) ２) ２−(４−メトキシフェノキシ)アニリン ４−メトキシ−２'−ニトロジフェニルエーテル(２.６
１g)を水(３０ml)、トルエン(３０ml)に溶解し塩化アン
モニウム(５.１g)、鉄粉(１.７９g)を加え、４時間加熱
還流下激しく撹拌した。室温に冷却後、不溶物を濾別し
ジエチルエーテルで抽出した。溶媒を乾燥、留去後、標
記化合物を２.３１g得た。1 Ｈ−ＮＭＲ:３.７８(３Ｈ,s),３.８０(２Ｈ,brs),６.
６５−６.９５(８Ｈ,m)３) ４−メトキシ−２'−ブロ
モジフェニルエーテル ２−(４−メトキシフェノキシ)アニリン(２.３１g)を酢
酸(３ml)に溶解し、濃臭化水素酸(３ml)を加えた。０℃
に冷却し亜硝酸ナトリウム(７４１mg)、水溶液(１ml)を
加えジアゾニウム塩に導いた。単離することなく別の反
応容器に臭化銅(I)(９１８mg)を濃臭化水素酸(２ml)に
溶解させたところへ滴下した。２時間１００℃で撹拌し
室温に冷却後水で希釈し、ジエチルエーテルで抽出し
た。飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄し溶媒を乾燥、留
去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン−酢酸エチル)により精製し標記化合物を１.８９g得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ:３.８０(３Ｈ,s),６.８１−６.９８(６Ｈ,
m),７.２１(１Ｈ,t,Ｊ＝７.３),７.６０(１Ｈ,dd,Ｊ＝
７.９,１.６) ４) メチル−２−[２−(４−メトキシフェノキシ)フェ
ニル]−２−オキソアセタート ４−メトキシ−２'−ブロモジフェニルエーテル(１.１
９g)をＴＨＦ(２０ml)に溶解し−７８℃に冷却した。ブ
チルリチウム−ヘキサン溶液(５.１２ミリモル)を滴下
し、同温度で１時間撹拌後、シュウ酸ジメチル(１.０１
g)のＴＨＦ溶液を加え、さらに室温で２時間撹拌した。
飽和塩化アンモニウム水で希釈し、ジエチルエーテルで
抽出した。溶媒を乾燥留去後シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(ヘキサン−酢酸エチル)により精製し標記化
合物７２３mgを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ:３.７５(３Ｈ,s),３.８２(３Ｈ,s),６.８
０(１Ｈ,d,Ｊ＝８.３),６.９１(２Ｈ,d,Ｊ＝９.０),７.
０２(２Ｈ,d,Ｊ＝９.０),７.１６(１Ｈ,t,Ｊ＝７.８),
７.５０(１Ｈ,ddd,Ｊ＝８.３,７.８,１.７),７.９４(１
Ｈ,dd,Ｊ＝７.８,１.７) ５) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−メトキシフェ
ノキシ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化
合物番号２２) 実施例５と同様の方法によりメチル ２−[２(４−メト
キシフェノキシ)フェニル]−２−オキソアセタートより
得た。
【００４９】実施例１６ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−トリメチルシリルフ
ェノキシ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド
(化合物番号２８) 実施例５と同様の方法で４−トリメチルシリルジフェニ
ルエーテルより得た。
【００５０】実施例１７ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−ヨードフェノキシ)
フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号
２９) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２
−メトキシイミノ酢酸アミド(３００mg)を四塩化炭素
(１０ml)に溶解させ０℃で一塩化ヨウ素(２０５mg)の四
塩化炭素溶液(１ml)を加えた。室温で３０分撹拌し水で
希釈しジエチルエーテルで抽出した。溶媒を乾燥留去
後、ＨＰＬＣに付し(ヘキサン−酢酸エチル)標記化合物
を２６９mg得た。
【００５１】実施例１８ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−クロロ−３−メチル
フェノキシ)フェニル]−メトキシイミノ酢酸アミド(化
合物番号３１) 実施例１１と同様の方法で(Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２
−(３−トリルオキシ)フェニル]−２−メトキシイミノ
酢酸アミドより得た。
【００５２】実施例１９ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(２−トリルオキシ)フェ
ニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号３
２) 実施例５と同様の方法により２−フェノキシトルエンよ
り得た。
【００５３】実施例２０ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−トリルオキシ)フェ
ニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号３
４） 実施例５と同様の方法により４−フェノキシトルエンよ
り得た。
【００５４】実施例２１ （Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−イソプロピルフェ
ノキシ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化
合物番号３６) 実施例１４と同様の方法により２−塩化プロピルと、
(Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシフェニル)−２
−メトキシイミノ酢酸アミドより得た。
【００５５】実施例２２ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３,４−ジクロロフェノ
キシ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合
物番号３８) 実施例１５(１)と同様の方法により３,４−ジクロロ−
２'−ブロモジフェニルエーテルより得た。
【００５６】実施例２３ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−ベンジルオキシフェ
ノキシ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化
合物番号３９) 実施例１５(１)と同様の方法により３−ベンジルオキシ
−２'−ブロモ−ジフェニルエーテルより得た。
【００５７】実施例２４ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−フェノキシフェノキ
シ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物
番号４１) 実施例１５(１)と同様の方法により２−ブロモ−(３−
フェノキシフェノキシ)ベンゼンより得た。
【００５８】実施例２５ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(４−フェノキシフェノキ
シ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物
番号４２） 実施例１５（１)と同様の方法により２−ブロモ−(４−
フェノキシフェノキシ)ベンゼンより得た。
【００５９】実施例２６ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−ベンジルオキシフェニル)
−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号４５) １) メチル ２−(２−テトラヒドロピラン−２−イル
オキシフェニル)−２−オキソアセタート テトラヒドロピラン−２−イル−フェニルエーテル(４.
１９g)のＴＨＦ溶液(６０ml)に０℃でブチルリチウム−
ヘキサン溶液(２８.２ミリモル)を加え、２時間同温度
で撹拌した。これをシュウ酸ジメチル(５.５５g)のＴＨ
Ｆ溶液(４０ml)に加え１２時間撹拌した。１Ｎ−塩酸で
中和後ジエチルエーテルで抽出した。溶媒を乾燥、留去
後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し標
記化合物を３.４１g得た。1 Ｈ−ＮＭＲ:１.６５−１.８６(６Ｈ,m),３.６３−３.
７５(１Ｈ,m),３.７９−３.９２(１Ｈ,m),３.９２(３
Ｈ,s),５.５１(１Ｈ,brs),７.０９(１Ｈ,t,Ｊ＝８.０),
７.２７(１Ｈ,d,Ｊ＝８.０),７.５５(１Ｈ,ddd,Ｊ＝８.
０,８.０,１.８),７.８４(１Ｈ,dd,Ｊ＝８.０,１.８) ２) メチル (Ｚ)−２−(２−ベンジルオキシフェニ
ル)−２−メトキシイミノアセタート メチル ２−(２−テトラヒドロピラン−２−イルオキ
シフェニル)−２−オキソアセタート(２.６０g)をメタ
ノール(５ml)に溶解し、０−メチルヒドロキシルアミン
塩酸塩(１.７０g)を加え、１２時間加熱還流した。溶媒
を留去し、水で希釈しジエチルエーテルで抽出した。溶
媒を乾燥留去しメチル ２−(２−ヒドロキシフェニル)
−２−メトキシイミノアセタートの幾何異性体混合物を
得た。これをＤＭＦに溶解し(５ml)、無水炭酸カリウム
(５.２６g)を加え、さらに臭化ベンジル(４.３４g)を加
えた。室温で１２時間撹拌後水で希釈しジエチルエーテ
ルで抽出した。溶媒を乾燥、留去後シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し(ヘキサン−酢酸エチル)標記化
合物を８３５mg得た。この化合物はＸ線結晶解析により
構造を確認した。1 Ｈ−ＮＭＲ:３.３６(３Ｈ,s),４.００(３Ｈ,s),５.０
３(２Ｈ,s),６.９４−７.０１(２Ｈ,m),７.３３−７.４
２(６Ｈ,m),７.７３(１Ｈ,dd,Ｊ＝７.８,１.９) ３) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−ベンジルオキシフェ
ニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号４
５) 実施例１と同様の方法によりメチル (Ｅ)−２−(２−
ベンジルオキシフェニル)−２−メトキシイミノアセタ
ートより得た。
【００６０】実施例２７ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシメチルフェニ
ル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号４６) １) メチル (Ｅ)−２−(２−ブロモメチルフェニル)
−２−メトキシイミノアセタート メチル (Ｅ)−２−(２−トリル)−２−メトキシイミノ
アセタート(４.７４g)を、四塩化炭素(１００ml)に溶解
し、Ｎ−ブロモスクシンイミド(４.８９g)、ベンゾイル
ペルオキシド(５５４mg)を加え、１時間加熱還流した。
室温に冷却後不溶物を濾別し溶媒を濃縮してシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル)によ
り精製し、標記化合物を６.９８g得た。1 Ｈ−ＮＭＲ:３.８９(３Ｈ,s),４.０７(３Ｈ,s),４.３
４(２Ｈ,s)、７.１３−７.１７(１Ｈ,m),７.３４−７.
４７(３Ｈ,m) ２) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシメチルフ
ェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド フェノール(１０８mg)をＴＨＦ(２ml)に溶解し、６０％
水素化ナトリウム(４６mg)を加えた。さらにメチル
(Ｅ)−２−(２−ブロモメチルフェニル)−２−メトキシ
イミノアセタートを加え、８時間加熱還流した。室温に
冷却後、過剰量のメチルアミン−メタノール溶液を加え
室温で１２時間撹拌した。水で希釈しジエチルエーテル
で抽出した。溶媒を乾燥、留去後シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し(ヘキサン−酢酸エチル)標記化合
物を１３７mg得た。
【００６１】実施例２８ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−フェノキシフェノキ
シメチル)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド
(化合物番号４７) 実施例２３と同様の方法で３−フェノキシフェノールと
メチル (Ｅ)−２−(２−ブロモメチルフェニル)−２−
メトキシイミノアセタートとから標記化合物を得た。第
１表、第２表および第３表に化合物の置換基の位置、立
体配置、mp.およびＮＭＲデータを記載する。1Ｈ−ＮＭ
Ｒは２７０ＭＨzで測定しクロロホルムd1中テトラメチ
ルシランを内部標準にδ値(ppm)で表わした。結合定数
(Ｊ)はＨzで表記した。 s:一重線 d:二重線 t:三重線 q:四重線 sept:七重線 brs:はばの広い一重線 brd:はばの広い二重線 m:多重線 を意味する。
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【表５】
【表６】
【表７】
【表８】
【表９】
【表１０】
【表１１】
【表１２】
【００６２】実施例２９ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−クロロフェノキシメ
チル)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合
物番号５０) 実施例２７記載の化合物であるメチル (Ｅ)−２−(ブ
ロモメチルフェニル)−２−メトキシイミノアセタート
(２５０mg)と、３−クロロフェノール(２２５mg)と炭酸
カリウム(４８２mg)をＤＭＦに溶解し、室温で１０時間
かくはんした。さらにメチルアミン(３０％ＭeＯＨ溶
液)(６７７mg)を加え、さらに１０時間かくはんした。
希塩酸で中和後、エーテルで抽出し、溶媒を乾燥、留去
後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
標題化合物２６５mgを得た。第４表の化合物番号５０〜
７０の化合物も同様の方法で合成した。
【表１３】
【表１４】
【表１５】
【表１６】
【表１７】
【００６３】実施例３０ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−メチル−２−ブテニ
ルオキシノフェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド
(化合物番号７１) １) ２−ブロモフェノール(１０.０g)とジヒドロピラ
ン(７.２８g),p−トルエンスルホン酸ピリジニウム(Ｐ
ＰＴＳ)(７２５mg)のジクロロメタン溶液を室温で１０
時間かくはんした。溶媒と過剰のジヒドロピランを留去
し、ＴＨＦ(１５０mｌ)で希釈した。−７８℃に冷却
し、n−ブチルリチウム(１.６Ｍ)(４７mｌ)を滴下し３
０分かくはんした。同温度でシュウ酸ジメチル(１３.６
g)を加え、さらに２時間かくはんした。水で希釈し、エ
ーテルで抽出した。溶媒を乾燥,留去後、残渣をメタノ
ール(１００mｌ)に溶解し、Ｏ−メチルヒドロキシルア
ミン塩酸塩(７.２４g)を加え、４時間加熱還流した。室
温に冷却後、メタノールを留去し、水で希釈後酢酸エチ
ルで抽出した。溶媒を乾燥留去後、残渣にメチルアミン
(３０％ＭeＯＨ溶液)(２３g)を加え１０時間かくはんし
た。メチルアミンを留去後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、Ｎ−メチル−２−(２−ヒドロキシ
ルフェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミドのＥ体を
３.２３g、Ｚ体を６.８７g得た。 Ｅ体:1Ｈ−ＮＭＲ:３.９０(３Ｈ,s),４.１５(３Ｈ,s),
６.１４(１Ｈ,brs),６.９６−７.０１(２Ｈ,m),７.２４
(１Ｈ,dd,Ｊ＝８.３,１.７),７.３５(１Ｈ,brt,Ｊ＝８.
３)． ２) 前述のＥ体(２００mg)、臭化プレニル(２８６m
g)、炭酸カリウム(２６５mg)を含むＤＭＦ溶液を２時間
室温でかくはんした。希塩酸で中和後、酢酸エチルで抽
出し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し精製
し、標題化合物２８６mgを得た。第５表の化合物番号７
１〜７４も上記と同様の方法で合成した。
【表１８】
【表１９】
【００６４】実施例３１ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(ピリミジン−２−イル−
オキシメチル)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミ
ド(化合物番号７９) １) メチル ２−(２−ブロモメチルフェニル)−２−
メトキシイミノアセタート(２.００g)、酢酸カリウム
(１.３７g)をＴＨＦにけんだくさせ、３時間加熱還流下
にかくはんた。室温に冷却後、メチルアミンのメタノー
ル溶液(３０％)(５.４１g)を加え、さらに１０時間かく
はんした。水で希釈し、中和後酢酸エチルで抽出した。
溶媒を乾燥留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し精製し、(Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−
ヒドロキシメチルフェニル)−２−メトキシイミノ酢酸
アミドを１.０５g得た。1 Ｈ−ＮＭＲ:２.９２(３Ｈ,d,Ｊ＝４.９),３.２２(１
Ｈ,t,Ｊ＝４.９),３.９５(３Ｈ,s),４.３９(２Ｈ,d,Ｊ
＝４.９),６.９７(１Ｈ,brs),７.１３(１Ｈ,brd,Ｊ＝
７.６),７.３５(１Ｈ,td,Ｊ＝７.６,１.５),７.４２(１
Ｈ,td,Ｊ＝７.６,１.５),７.５２(１Ｈ,brd,Ｊ＝７.
６)． ２) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−ヒドロキシメチルフ
ェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(３００mg)、
２−クロロピリミジン(２３３mg)、水素化ナトリウム
(４０％、１３５mg)をＤＭＦに溶解し、６時間１００℃
にてかくはんした。中和後、水で希釈しジクロロメタン
で抽出した。溶媒を乾燥、留去後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し精製して標題化合物を７
０mg得た。
【００６５】実施例３２ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェノキシチオフェニル)
−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号８２) 実施例５と同様の方法でフェニルスルフィドより合成し
た。
【００６６】実施例３３ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェニルスルフィニルメ
チルフェニル)−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物
番号６８） 標題化合物は、化合物番号６７をメタ過ヨウ素酸ナトリ
ウムを用いて酸化により合成した。
【００６７】実施例３４ （Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(５−トリフルオロメチルピリ
ジル−２−オキシフェニル)−２−メトキシイミノ酢酸
アミド(化合物番号７５) １)２−ブロモフェノール３.４６gをＤＭＦ１０mlに添
加し、炭酸カリウム５.５３g,２−クロロ−５−トリフ
ルオロメチルピリジン７.２６gを加え、６０℃にて１時
間撹拌する。冷後水を加え、ジクロロメタンにて抽出
後、無水硫酸ナトリウム にて乾燥し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、２.７０gの目的物を
得た。 ２)メチル ２−(５−トリフルオロメチルピリジル−２
−オキシフェニル)−２−オキソアセタート ２−(５−トリフルオロメチルピリジル−２−オキシ)ブ
ロムベンゼン２.６２gをＴＨＦ２０mlに溶かし、アルゴ
ン気流中、−７８℃で６.２mlのブチルリチウム(１.６
Ｍヘキサン溶液)を２分で滴下し更に５分間撹拌を続け
る。ここに、シュウ酸ジメチル１.９５gをＴＨＦ２０ml
に溶かしたものを一度に加える。室温に戻し、２０分間
撹拌後、塩化アンモニウム水溶液を加え、ＴＨＦを留去
し、ジクロロメタンにて抽出、水洗後、無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥し、溶媒を留去して、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにて精製し、１.６８gの目的物を得
た。 ３)メチル ２−(５−トリフルオロメチルピリジル２−
オキシフェニル)−２−メトキシイミノアセタート ２)で得た化合物１.２１gをメタノール１０mlに溶か
し、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩０.７４gを加
え、還流を２時間継続後、メタノールを留去し、水を加
え、ジクロロメタンにて抽出後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製、目的物０.２gのＺ体と０.６０gのＥ体
を得た。 ４)(Ｅ)Ｎ−メチル−２−(５−トリフルオロメチルピリ
ジル−２−オキシフェニル)−２−メトキシイミノ酢酸
アミド(化合物番号７５) 3)で得られた化合物(Ｅ体)０.６０gをメタノール(１０m
l)に溶かし、メチルアミン(３０％メタノール溶液)、
０.３５gを滴下、還流を２０分間継続し、メタノールを
留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製、n−ヘキサンにて再結晶し、０.５０gの目的物を得
た。同様にして合成した化合物番号７５〜７７を第６表
に記載する。
【表２０】
【００６８】実施例３５ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(５−トリフルオロメチルピリ
ジル−２−オキシメチルフェニル)−２−メトキシイミ
ノ酢酸アミド(化合物番号７８) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(ヒドロキシメチルフェニル)−
２−メトキシイミノ酢酸アミド０.１０gをＴＨＦ１０ml
に溶かし、水素化ナトリウム(６０％油状懸濁物)０.０
２gを加え、室温にて撹拌後、２−クロロ−５−トリフ
ルオロメチルピリジン０.１０g(０.５４ミリモル)を加
え、６０℃にて撹拌し、冷後水を加え、ジクロロメタン
にて抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製後、
n−ヘキサンにて再結晶し、０．１１gの目的物を得た。
第７表記載の化合物番号７８〜８１を上記と同様にして
合成した。
【表２１】
【表２２】
【００６９】実施例３６ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物
番号８３) １) ３−(２−ブロモフェノキシ)フェノール 実施例１５と同様の方法により、レゾルシノールと２−
クロロニトロベンゼンより標記化合物を得た。 ２) ３−(２−ブロモフェノキシ)フェノール、テトラ
ヒドロピラニルエーテル ３−(２−ブロモフェノキシ)フェノール(６.１２g)をジ
クロロメタン１２０mlに溶解し、ジヒドロピラン(３.１
６ml)、ＰＰＴＳ(０.１g)を加え、室温で１時間撹拌し
た。ジクロロメタンで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液で洗浄し、溶媒を乾燥、留去した。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、標記化合物を
７.１８g得た。 ３) メチル ２−[２−(３−ヒドロキシフェノキシ)フ
ェニル]−２−メトキシイミノアセタート ３−(２−ブロモフェノキシ)フェニルテトラヒドロピラ
ニルエーテル(７.１８g)をＴＨＦ(１２０ml)に溶解し、
−７８℃に冷却した。ブチルリチウム−ヘキサン溶液
(１.６Ｍ,１２.８ml)を滴下し、同温度で３０分撹拌し
た後、シュウ酸ジメチル(４.８６g)のＴＨＦ(４０ml)溶
液を加え、さらに室温で２時間かくはんした。水で希釈
した後、エーテルで抽出した。溶媒を乾燥し、留去後、
残渣をメタノール(１００ml)に溶解し、Ｏ−メチルヒド
ロキシルアミン塩酸塩(２.５８g)加え、３時間、還流し
た。室温に冷却後、メタノールを留去し、水で希釈後、
酢酸エチルで抽出した。溶媒を乾燥、留去後残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィーで精製し、標記化合物の(Ｚ)
体を１.４８g、(Ｅ)体を２.５７g得た。 ４) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−ヒドロキシフ
ェノキシ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド
(化合物番号８３) メチル ２−[２−(３−ヒドロキシフェノキシ)フェニ
ル]−２−メトキシイミノアセタートより 実施例５
(３)と同様の方法により得た。
【００７０】実施例３７ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−テトラヒドロピラニ
ルオキシフェノキシ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢
酸アミド(化合物番号８４) メチル ２−[２−(３−ヒドロキシフェノキシ)フェニ
ル]−２−メトキシイミノアセタート(０.２５g)をジク
ロロメタン(１０ml)に溶解し、ジヒドロピラン(０.３m
l)、ＰＰＴＳ(２０mg)加え、室温で２時間撹拌した。ジ
クロロメタンで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
で洗浄後、溶媒を乾燥、留去した。残渣をメタノール
(３ml)に溶解し、メチルアミン(４０％ＭeＯＨ溶液)
(０.５ml)を加え、室温で１５時間撹拌した。溶媒と過
剰のメチルアミンを留去後、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーで精製し、標記化合物０.２７gを得た。
【００７１】実施例３８ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−{２−[３−(１,３−ベンゾチア
ゾール−２−イル−オキシ)フェノキシ]フェニル}−２
−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物９０) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(０.２１
g)をＤＭＦ(３ml)に溶解させ、水素化ナトリウム(３４m
g)および２−クロロ−１,３−ベンゾチアゾール(０.１
８g)加え、さらに６０℃で１時間撹拌した。室温に冷却
後、水で希釈し、エーテルで抽出した。溶媒を乾燥、留
去後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、
標記化合物０.２７gを得た。
【００７２】実施例３９ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−ベンゾイルオキシフ
ェノキシ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド
(化合物番号９４) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル]−２−メトキシイミノ酢酸アミド(０.２１
g)をジクロロメタン(５ml)に溶解し、ベンゾイルクロリ
ド(０.１２g)、トリエチルアミン(０.２０ml)を加え、
室温で３０分撹拌した。エーテルで希釈後、希塩酸、飽
和ＮaＨＣＯ3水溶液で洗浄し、溶媒を乾燥留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、標記化合
物０.２７gを得た。
【００７３】実施例４０ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−{２−[３−(３−メトキシフェ
ノキシ)フェノキシ]フェニル}−２−メトキシイミノ酢
酸アミド(化合物番号８７) 実施例１５と同様の方法により、３−(３−メトキシフ
ェノキシ)フェノールと２−クロロニトロベンゼンより
標記化合物を得た。上記と同様にして第８表記載の化合
物番号８２〜１０２を得た。
【表２３】
【表２４】
【表２５】
【表２６】
【表２７】
【表２８】
【００７４】実施例４１ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−Ｎ−メチルアニリノ
メチル)フェノキシフェニル]−２−メトキシイミノ酢酸
アミド(化合物番号１０４) １) (Ｅ)−メチル−２−[２−(３−ブロモメチルフェ
ノキシ)フェニル]−２−メトキシイミノアセタート (Ｅ)−メチル−２−[２−(３−メチルフェノキシ)フェ
ニル]−２−メトキシイミノアセタート(４.６０g)をベ
ンゼン(１２０ml)に溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド
(２.８８g)、ベンゾイルペルオキシド(０.３７g)を加
え、１時間加熱還流した。室温に冷却後、不溶物をろ別
し、溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、標記化合物４.６０gを得た。 ２) (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−Ｎ−メチルア
ニリノメチル)フェノキシフェニル]−２−メトキシイミ
ノ酢酸アミド(化合物番号１０４) (Ｅ)−メチル−２−
[２−(３−ブロモメチルフェノキシ)フェニル]−２−メ
トキシイミノアセタート(０.３０g)をＤＭＦ(４ml)に溶
解し、Ｎ−メチルアニリン(０.１３ml)、炭酸カリウム
(０.１６g)を加え、室温で４時間撹拌した。水で希釈
後、エーテルで抽出し、溶媒を乾燥、留去後、残渣にメ
チルアミン(４０％ ＭeＯＨ溶液)１mlを加え、室温で３
時間撹拌した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、標記化合物０.３１gを得た。
【００７５】実施例４２ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−{２−[３−(２−ピリジルオキ
シメチル)フェノキシ]フェニル}−２−メトキシイミノ
酢酸アミド(化合物番号１０５) (Ｅ)−メチル−２−[２−(３−ブロモメチルフェノキ
シ)フェニル]−２−メトキシイミノアセタート(０.５０
g)と、２−ヒドロキシピリジン(０.１５g)、炭酸銀(０.
２２g)のヘキサン溶液(１０mlを４時間、加熱還流し
た。ヘキサンを留去後、ジクロロメタンで希釈し、不溶
物をろ別した。溶媒を留去後、残渣をメチルアミン(２m
l、４０％ＭeＯＨ溶液)に溶解し、室温で４時間撹拌し
た。メチルアミンを留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーにより精製し、標記化合物０.３８gを得た。
【００７６】実施例４３ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−[２−(３−ピリミジン−２−イ
ルオキシメチル)フェノキシフェニル]−２−メトキシイ
ミノ酢酸アミド(化合物番号１０６) 実施例３１と同様の方法で、(Ｅ)−メチル−２−[２−
(３−ブロモメチルフェノキシ)フェニル]−２−メトキ
シイミノアセタートより得た。上記と同様の方法にて第
９表記載の化合物番号１０３〜１１２を得た。
【表２９】
【表３０】
【表３１】
【００７７】実施例４４ Ｎ−メチル−２−(２−(Ｚ)スチリルフェニル)−２−
(Ｅ)−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号１１３) １) メチル ２−(２−スチリルフェニル)−２−(Ｅ)
−メトキシイミノアセタート 実施例１５と同様の方法により、２−ブロモスチルベン
(シス、トランス 混合物)より得た。 ２) Ｎ−メチル−２−(２−(Ｚ)スチリルフェニル)−
２−(Ｅ)−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号１１
３) メチル ２−(２−スチリルフェニル)−２−(Ｅ)−メト
キシイミノアセタート(０.７０g)をメタノール(２ml)に
溶解し、メチルアミン(４０％ ＭeＯＨ溶液)(３ml)加
え、室温で４時間撹拌した。溶媒を留去後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し、標記化合物を
０.２６g、標記化合物とその異性体Ｎ−メチル−２−
(２−(Ｅ)−スチリルフェニル)−２−(Ｅ)−メトキシイ
ミノ酢酸アミドの混合物０.４５gを得た。
【００７８】実施例４５ Ｎ−メチル−２−(２−(Ｅ)−スチリルフェニル)−２−
(Ｅ)−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号１１４) Ｎ−メチル−２−(２−(ＺおよびＥ)−スチリルフェニ
ル−２−(Ｅ)−メトキシイミノ酢酸アミド(０.１９g)を
トルエン(３ml)に溶解し、ヨウ素(２０mg)加え、２０時
間加熱還流した。溶媒を留去後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、標記化合物０.１９gを得た。
【００７９】実施例４６ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−{２'−[(１"Ｓ＊,２"Ｒ＊)−
１",２"−エポキシ−２"−フェニルエチル]フェニル}−
２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号１１５) N-メチル-2-[２−(Ｚ)−スチリルフェニル]−２−(Ｅ)−メ
トキシイミノ酢酸アミド(０.２６g)をジクロロメタン
(５ml)に溶解し、m−クロロ過安息香酸(０.２２g)を加
え、室温で３時間撹拌した。エーテルで希釈し、チオ硫
酸ナトリウム水溶液で洗浄後、溶媒を乾燥、留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、標記化合物０.２２gを得た。
【００８０】実施例４７ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−{２'−[(１"Ｒ＊,２"Ｒ＊)−
１",２"−エポキシ−２"−フェニルエチル]フェニル}−
２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号１１６) 実施例４６と同様の方法により、Ｎ−メチル−[２−
(Ｅ)−スチリルフェニル]−２−(Ｅ)−メトキシイミノ
酢酸アミドより得た。
【００８１】実施例４８ (Ｅ)−Ｎ−メチル−２−(２−フェニルエチルフェニル)
−２−メトキシイミノ酢酸アミド(化合物番号１１７) Ｎ−メチル−２−[２−(ＥおよびＺ)−スチリルフェニ
ル]−２−(Ｅ)−メトキシイミノ酢酸アミド(０.３０g)
をＴＨＦ(５ml)に溶解させ、１０％パラジウム−炭素
(０.０３g)加え、水素気流中室温で１時間撹拌した。ろ
過後、溶媒を留去し、残渣を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、標記化合物０.２
９gを得た。同様にして、第１０表記載の化合物番号１
１３〜１１９を合成した。
【表３２】
【表３３】 以下は本発明の化合物から製剤し得る農業用殺菌剤の組
成物の実施例である。
【００８２】実施例４９ 化合物番号３(実施例２で製造した化合物)２重量部、タ
ルク９８重量部の混合物を粉砕し、粉剤に製剤する。
【００８３】実施例５０ 化合物番号３を４０重量部、リグニンスルホン酸ナトリ
ウム１０重量部、水５０重量部を混合し、懸濁剤とす
る。
【００８４】実施例５１ 化合物番号３を１０重量部、ツイン２０(商標)１重量
部、イソプロピルアルコール８９重量部を混合して液剤
とする。
【００８５】実施例５２ 化合物番号４(実施例２で製造した化合物)５０重量部、
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム６重量部、リグ
ニンスルホン酸ナトリウム４重量部およびクレー４０重
量部を混合粉砕し、水和剤とする。
【００８６】実施例５３ 化合物番号３を５重量部、ベントナイトおよびタルクの
等量混合物９０重量部およびアルキルベンゼンスルホン
酸ナトリウム５重量部を混合粉砕し、粒剤に成型する。
【００８７】実施例５４ 化合物番号１(実施例１で製造した化合物)２５重量部、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル８重量
部、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム２重量部お
よびキシレン６５重量部を混合溶解し、乳剤とする。
【００８８】次に本発明の殺菌剤の効果を試験例により
説明する。 [I．茎葉散布による各種植物病害防除試験(ポット試
験)]試験方法 特に述べないかぎり、予防効果試験は被検液を検定植物
に噴霧処理し、２４時間後病原菌を接種した。治療効果
試験は予め病原菌を検定植物に接種し、わずかに病徴が
認められた時(接種２４〜４８時間後)被検液を噴霧処理
することによって効果を判定した。また、被検液は化合
物を少量のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し展着
剤を含む蒸留水で所定濃度に希釈することによって調整
した。公知化合物として用いたものは、２−(フェノキ
シ−フェニル)−２−メトキシイミノ−酢酸メチル(特開
昭６３−２３８５２、ヨーロッパ特許第２５４４２６
号)である。防除率は下式(１)により求めた。
【００８９】試験例１．イネいもち病防除効果試験 播種２週間後のイネ(品種;愛知旭)苗を直径９cmのプラ
スチックカップに移植しさらに２週間育苗後、化合物溶
液または懸濁液を茎葉部に散布処理した。病原菌の接種
は、オートミール培地で培養したイネいもち病菌(Pyric
ularia oryzae)の分生胞子懸濁液を噴霧することによっ
て行ない、接種後は湿室(２８℃,１００％Ｒ.Ｈ.)に２
４時間保ち、さらに温室で５日間育苗した。接種６日後
接種葉に現われた病斑数を測定し防除率を求めた。結果
を第１１表に示す。
【表３４】
【００９０】試験例２．イネ紋枯病防除効果試験 播種２週間後のイネ(品種;愛知旭)苗を直径９cmのプラ
スチックカップに移植しさらに２週間育苗後、化合物溶
液または懸濁液を茎葉部に散布処理した。病原菌の接種
は、予め籾穀培地で培養したイネ紋枯病菌(Rhizoctonia
solani)の菌糸を籾穀培地とともにイネ苗の地際部に置
くことによって行ない、接種後は湿室(２８℃,１００％
Ｒ.Ｈ.)でさらに５日間育苗した。調査はイネ葉鞘部に
伸長した菌糸高を測定することにより行ない防除率を求
めた。結果を第１２表に示す。
【表３５】
【００９１】試験例３．キュウリうどんこ病防除効果試
験 直径９cmのプラスチックカップに播種し２〜３週間育苗
後のキュウリ(品種;筑波白いぼ)苗の第１本葉表面に化
合物溶液または懸濁液を散布処理した。病原菌の接種
は、キュウリ葉上で培養したキュウリうどんこ病菌(Sph
aerotheca fuliginea)の分生胞子懸濁液を噴霧すること
によって行なった。接種後は２０℃の温室に１０日間保
った後接種葉に現われた病斑の占有面積程度を調査し防
除率を求めた。結果を第１３表に示す。
【表３６】
【００９２】試験例４．キュウリべと病防除効果試験 直径９cmのプラスチックカップに播種し２〜３週間育苗
後のキュウリ(品種;筑波白いぼ)苗の第１本葉表面に化
合物溶液または懸濁液を散布処理した。病原菌の接種
は、キュウリ葉上で培養したキュウリべと病菌(Pseudop
eronospora cubensis)の遊走子嚢懸濁液をキュウリ葉裏
面(薬剤非処理面)に滴下することによって行なった。接
種後は２０℃の湿室に１０日間保った後接種部周辺の病
斑進展程度を調査し防除率を求めた。結果を第１４表に
示す。
【表３７】
【００９３】試験例５．キュウリ灰色かび病防除効果試
験 直径９cmのプラスチックカップに播種し２〜３週間育苗
後のキュウリ(品種;筑波白いぼ)苗の第１本葉表面に化
合物溶液または懸濁液を散布処理した。病原菌の接種
は、しょ糖加用馬鈴薯煎汁寒天培地で培養した灰色かび
病菌(Botrytis cinerea)の菌糸ディスク(φ４mm)をキュ
ウリ葉表面に置くことにより行なった。接種後は２０℃
の湿室に２日間保った後病斑直径を測定し防除率を求め
た。結果を第１５表に示す。
【表３８】 試験結果 化合物番号３およびその異性体である化合物番号４は試
験したいずれの病害に対しても対照薬剤と同等またはそ
れ以上の極めて高い防除効果を示し、公知化合物より明
らかに活性が高くスペクトラムも広いことが認められ
た。現在使用されている農園芸用殺菌剤で広いスペクト
ラムを有し、多くの植物病害に有効な殺菌剤、例えばキ
ャプタン、ダイセン系薬剤等は保護殺菌剤と呼ばれいず
れも感染前に植物に処理した場合のみ効果を示すが浸透
移行性がなく、治療効果に劣ることが知られている。一
方、本発明化合物はその活性範囲が極めて広いばかりで
なく、浸透移行性が高く、予防効果も治療効果も優れて
いる。 [II．水面施用によるイネいもち病防除効果試験(ポット
試験)]
【００９４】試験例６．試験方法 ９cmのプラスチックカップにイネ(品種;愛知旭)を播種
し、２８℃の温室で９日間育苗した苗を実験に供試し
た。薬剤の処理は化合物を少量のアセトンに溶解し、イ
ネ苗を育成したカップの水面に滴下することによって行
なった。処理薬量は田面水中の有効成分濃度として１０
ppmとなるよう調整した。薬剤処理したイネ苗はさらに
７日間温室で育苗した後病原菌を接種した。接種はオー
トミール寒天培地で培養したイネいもち病菌(Ｐyricula
ria oryzae)の分生胞子懸濁液をイネ苗の茎葉部に噴霧
することによって行ない、接種後は湿室(２８℃,１００
％Ｒ.Ｈ.)に２４時間保ち、さらに５日間温室で育苗後
病斑数を測定し防除率を求めた。結果を第１６表に示
す。試験結果 発明化合物の水面施用によるイネいもち病防除効果を第
６表に示した。化合物番号１、２、３および４はいずれ
も本病に対して優れた防除効果を示し、対照薬剤とほぼ
同等の活性を示した。第１１表にも示したように本発明
化合物は茎葉散布でイネいもち病に優れた効果を示した
が、水面施用でも高い防除効果を示し、根部からも有効
成分が吸収移行することが確認された。
【表３９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 213/64 Ｃ０７Ｄ 213/64 239/34 239/34 277/34 277/34 303/46 303/46 (72)発明者 谷本 憲彦 滋賀県甲賀郡甲西町中央４−36 (72)発明者 益子 道生 滋賀県甲賀郡水口町大字水口614−18 (72)発明者 高橋 俊夫 兵庫県西宮市熊野町９−21−306 (56)参考文献 特開 昭51−125276（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−23852（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式(III) 【化１】 [式中、 Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、水素、低級アルキル、また
    はシクロ(低級)アルキル; Ｒ4およびＲ5は、それぞれ水素、低級アルキル、低級ア
    ルコキシ、ハロゲン化低級アルキル、低級アルキル化シ
    リル、ハロゲン、またはニトロ; Ａは、不飽和炭化水素、ハロゲン化不飽和炭化水素、ま
    たは３個以下の低級アルキル、低級アルカノイル、低級
    アルキルシリル、ハロゲン化アルキル、ジ(低級)アルキ
    ルアミノ、フェニル、フェニル(低級)アルキル、フェニ
    ル(低級)アルケニル、フリル(低級)アルキル、フリル
    (低級)アルケニル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−ＯＲ
    6(式中、Ｒ6は、水素、低級アルキル、低級アルケニ
    ル、低級アルキニル、低級アルカノイル、フェニル、低
    級アルコキシフェニル、ニトロフェニル、フェニル(低
    級)アルキル、シアノフェニル(低級)アルキル、ベンゾ
    イル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、トリフルオロ
    メチルピリジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、キ
    ノリル、ベンゾイル(低級)アルキル、ベンゼンスルホニ
    ル、または低級アルキルベンゼンスルホニル)、および
    −ＣＨ2−Ｚ'−Ｒ7{式中、Ｚ'は、−Ｏ−、−Ｓ−、ま
    たは−ＮＲ−(式中、Ｒは、水素または低級アルキル)で
    あり、Ｒ7は、フェニル、ハロフェニル、低級アルコキ
    シフェニル、ピリジル、またはピリミジニルである}か
    らなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいフ
    ェニルもしくはヘテロ環基; Ｚは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＨ
    2−、または−ＳＣＨ2−を表す]を有する化合物。
  2. 【請求項２】 一般式(IV) 【化３】 [式中、 Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、水素、低級アルキル、また
    はシクロ(低級)アルキル; Ｒ4およびＲ5は、それぞれ水素、低級アルキル、低級ア
    ルコキシ、ハロゲン化低級アルキル、低級アルキルシリ
    ル、ハロゲン、またはニトロ; Ａは、不飽和炭化水素、ハロゲン化不飽和炭化水素、ま
    たは３個以下の低級アルキル、低級アルカノイル、低級
    アルキルシリル、ハロゲン化アルキル、ジ(低級)アルキ
    ルアミノ、フェニル、フェニル(低級)アルキル、フェニ
    ル(低級)アルケニル、フリル(低級)アルキル、フリル
    (低級)アルケニル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−ＯＲ
    6(式中、Ｒ6は、水素、低級アルキル、低級アルケニ
    ル、低級アルキニル、低級アルカノイル、フェニル、低
    級アルコキシフェニル、ニトロフェニル、フェニル(低
    級)アルキル、シアノフェニル(低級)アルキル、ベンゾ
    イル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、トリフルオロ
    メチルピリジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、キ
    ノリル、ベンゾイル(低級)アルキル、ベンゼンスルホニ
    ル、または低級アルキルベンゼンスルホニル)、および
    −ＣＨ2−Ｚ'−Ｒ7{式中、Ｚ'は、−Ｏ−、−Ｓ−、ま
    たは−ＮＲ−(式中、Ｒは、水素または低級アルキル)で
    あり、Ｒ7は、フェニル、ハロフェニル、低級アルコキ
    シフェニル、ピリジル、またはピリミジニルである}か
    らなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいフ
    ェニルもしくはヘテロ環基; Ｚは、−ＣＨ2−、−ＣＨ(ＯＨ)−、−ＣＯ−、−Ｏ
    −、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＮＲ−(Ｒは、水素または低
    級アルキル)、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、 【化４】 −ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2Ｓ−、−ＣＨ2ＳＯ−、−ＯＣＨ2
    −、−ＳＣＨ2−、または−ＳＯＣＨ2−を表す]を有す
    る化合物。
  3. 【請求項３】 一般式(Ｖ) 【化５】 [式中、 Ｒ3は、低級アルキルまたはシクロ(低級)アルキル; Ｒ4およびＲ5は、それぞれ水素、低級アルキル、低級ア
    ルコキシ、ハロゲン化低級アルキル、低級アルキルシリ
    ル、ハロゲン、またはニトロ; Ａは、不飽和炭化水素、ハロゲン化不飽和炭化水素、ま
    たは３個以下の低級アルキル、低級アルカノイル、低級
    アルキルシリル、ハロゲン化アルキル、ジ(低級)アルキ
    ルアミノ、フェニル、フェニル(低級)アルキル、フェニ
    ル(低級)アルケニル、フリル(低級)アルキル、フリル
    (低級)アルケニル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−ＯＲ
    6(式中、Ｒ6は、水素、低級アルキル、低級アルケニ
    ル、低級アルキニル、低級アルカノイル、フェニル、低
    級アルコキシフェニル、ニトロフェニル、フェニル(低
    級)アルキル、シアノフェニル(低級)アルキル、ベンゾ
    イル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、トリフルオロ
    メチルピリジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、キ
    ノリル、ベンゾイル(低級)アルキル、ベンゼンスルホニ
    ル、または低級アルキルベンゼンスルホニル)、および
    −ＣＨ2−Ｚ'−Ｒ7{式中、Ｚ'は、−Ｏ−、−Ｓ−、ま
    たは−ＮＲ−(式中、Ｒは、水素または低級アルキル)で
    あり、Ｒ7は、フェニル、ハロフェニル、低級アルコキ
    シフェニル、ピリジル、またはピリミジニルである}か
    らなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいヘ
    テロ環基; Ｚは、−ＣＨ2−、−ＣＨ(ＯＨ)−、−ＣＯ−、−Ｏ
    −、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＮＲ−(Ｒは、水素または低
    級アルキル)、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、 【化６】 −ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2Ｓ−、−ＣＨ2ＳＯ−、−ＯＣＨ2
    −、−ＳＣＨ2−、または−ＳＯＣＨ2−を表す]を有す
    る化合物。
  4. 【請求項４】 一般式 【化３７】 で示される化合物。
  5. 【請求項５】 一般式(III) 【化８】 で示される化合物をアルコキシム化して一般式(Ｉ) 【化１０】 で示される化合物を得ることを特徴とする、アルコキシ
    イミド酢酸アミド化合物の製造法[式中、 Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、水素、低級アルキル、また
    はシクロ(低級)アルキル; Ｒ3は、低級アルキルまたはシクロ(低級)アルキル; Ｒ4およびＲ5は、それぞれ水素、低級アルキル、低級ア
    ルコキシ、ハロゲン化低級アルキル、低級アルキルシリ
    ル、ハロゲン、またはニトロ; Ａは、不飽和炭化水素、ハロゲン化不飽和炭化水素、ま
    たは３個以下の低級アルキル、低級アルカノイル、低級
    アルキルシリル、ハロゲン化アルキル、ジ(低級)アルキ
    ルアミノ、フェニル、フェニル(低級)アルキル、フェニ
    ル(低級)アルケニル、フリル(低級)アルキル、フリル
    (低級)アルケニル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−ＯＲ
    6(式中、Ｒ6は、水素、低級アルキル、低級アルケニ
    ル、低級アルキニル、低級アルカノイル、フェニル、低
    級アルコキシフェニル、ニトロフェニル、フェニル(低
    級)アルキル、シアノフェニル(低級)アルキル、ベンゾ
    イル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、トリフルオロ
    メチルピリジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、キ
    ノリル、ベンゾイル(低級)アルキル、ベンゼンスルホニ
    ル、または低級アルキルベンゼンスルホニル)、および
    −ＣＨ2−Ｚ'−Ｒ7{式中、Ｚ'は、−Ｏ−、−Ｓ−、ま
    たは−ＮＲ−(式中、Ｒは、水素または低級アルキル)で
    あり、Ｒ7は、フェニル、ハロフェニル、低級アルコキ
    シフェニル、ピリジル、またはピリミジニルである}か
    らなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいフ
    ェニルもしくはヘテロ環基; Ｚは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＨ
    2−、または−ＳＣＨ2−を表す]。
  6. 【請求項６】 アルコキシム化を、反応試剤としてアル
    コキシアミンを使用して１工程で行う、請求項５の製造
    法。
  7. 【請求項７】 アルコキシム化を、反応試剤としてまず
    ヒドロキシルアミンを使用し、次いでアルキル化剤を使
    用して２工程で行う、請求項５の製造法。
  8. 【請求項８】 一般式(II) 【化１２】 または(Ｖ) 【化１３】 で示される化合物をアミド化して一般式(III) 【化１４】 または(Ｉ) 【化１５】 で示される化合物を得ることを特徴とする、アルコキシ
    イミノ酢酸アミド化合物の製造法[式中、 Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、水素、低級アルキル、また
    はシクロ(低級)アルキル; Ｒ3は、低級アルキルまたはシクロ(低級)アルキル; Ｒ4およびＲ5は、それぞれ水素、低級アルキル、低級ア
    ルコキシ、ハロゲン化低級アルキル、低級アルキルシリ
    ル、ハロゲン、またはニトロ; Ａは、不飽和炭化水素、ハロゲン化不飽和炭化水素、ま
    たは３個以下の低級アルキル、低級アルカノイル、低級
    アルキルシリル、ハロゲン化アルキル、ジ(低級)アルキ
    ルアミノ、フェニル、フェニル(低級)アルキル、フェニ
    ル(低級)アルケニル、フリル(低級)アルキル、フリル
    (低級)アルケニル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−ＯＲ
    6(式中、Ｒ6は、水素、低級アルキル、低級アルケニ
    ル、低級アルキニル、低級アルカノイル、フェニル、低
    級アルコキシフェニル、ニトロフェニル、フェニル(低
    級)アルキル、シアノフェニル(低級)アルキル、ベンゾ
    イル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、トリフルオロ
    メチルピリジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、キ
    ノリル、ベンゾイル(低級)アルキル、ベンゼンスルホニ
    ル、または低級アルキルベンゼンスルホニル)、および
    −ＣＨ2−Ｚ'−Ｒ7{式中、Ｚ'は、−Ｏ−、−Ｓ−、ま
    たは−ＮＲ−(式中、Ｒは、水素または低級アルキル)で
    あり、Ｒ7は、フェニル、ハロフェニル、低級アルコキ
    シフェニル、ピリジル、またはピリミジニルである}か
    らなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよいフ
    ェニルもしくはヘテロ環基; Ｚは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＨ
    2−、または−ＳＣＨ2−を表す]。
  9. 【請求項９】 一般式 【化３８】 で示される化合物をアリール化して一般式 【化３９】 で示される化合物を得ることを特徴とする、アルコキシ
    イミノ酢酸アミド化合物の製造法[式中、 Ａは、低級アルキル、低級アルカノイル、低級アルキル
    シリル、ハロゲン化アルキル、ジ(低級)アルキルアミ
    ノ、フェニル、フェニル(低級)アルキル、フェニル(低
    級)アルケニル、フリル(低級)アルキル、フリル(低級)
    アルケニル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、−ＯＲ6(式
    中、Ｒ6は、水素、低級アルキル、低級アルケニル、低
    級アルキニル、低級アルカノイル、フェニル、低級アル
    コキシフェニル、ニトロフェニル、フェニル(低級)アル
    キル、シアノフェニル(低級)アルキル、ベンゾイル、テ
    トラヒドロピラニル、ピリジル、トリフルオロメチルピ
    リジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、キノリル、
    ベンゾイル(低級)アルキル、ベンゼンスルホニル、また
    は低級アルキルベンゼンスルホニル)、および−ＣＨ2−
    Ｚ'−Ｒ7{式中、Ｚ'は、−Ｏ−、−Ｓ−、または−ＮＲ
    −(式中、Ｒは、水素または低級アルキル)であり、Ｒ7
    は、フェニル、ハロフェニル、低級アルコキシフェニ
    ル、ピリジル、またはピリミジニルである}からなる群
    から選ばれる３個以下の置換基で置換されていてもよい
    フェニルもしくはヘテロ環基を表す］。
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