JP2019116097A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019116097A5 JP2019116097A5 JP2019024864A JP2019024864A JP2019116097A5 JP 2019116097 A5 JP2019116097 A5 JP 2019116097A5 JP 2019024864 A JP2019024864 A JP 2019024864A JP 2019024864 A JP2019024864 A JP 2019024864A JP 2019116097 A5 JP2019116097 A5 JP 2019116097A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- fluorine
- hydrolyzable silyl
- silicon oxide
- containing compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims 30
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 27
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 23
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 23
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 21
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 18
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims 16
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims 12
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims 12
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 6
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 claims 5
- 239000002585 base Substances 0.000 claims 5
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N Silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- -1 ether compound Chemical class 0.000 claims 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical group [H]* 0.000 claims 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N precursor Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000004436 sodium atoms Chemical group 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 1
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 claims 1
Claims (25)
- 基材と、
加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物の加水分解縮合物からなる撥水撥油層と、
前記基材と前記撥水撥油層との間に存在する、アルカリ金属原子を含む酸化ケイ素層とを有し、
前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物が、フルオロアルキル基および加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物、フルオロアルキル基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基および加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物、または、フルオロアルキル基、加水分解性シリル基およびポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素化合物であり、
前記酸化ケイ素層において、前記撥水撥油層と接する面からの深さが0.1〜0.3nmの領域におけるアルカリ金属原子の濃度の平均値が、2.0×1019atoms/cm3以上であることを特徴とする撥水撥油層付き物品。 - 前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物が、フルオロアルキル基、加水分解性シリル基およびポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素化合物であり、前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖が炭素数1〜10のオキシフルオロアルキレン基からなる、請求項1に記載の物品。
- 前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖が炭素数1〜10のオキシペルフルオロアルキレン基からなる、請求項1または2に記載の物品。
- 前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物の加水分解性シリル基の数が、2個以上である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の物品。
- 前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物が下記式Xで表される含フッ素エーテル化合物である、請求項1または2に記載の物品。
[A 1 −O−(R f1 O) m1 ] a −Q−[SiR 13 n1 X 1 3−n1 ] b ・・・X
ただし、A 1 は、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、R f1 は、炭素数1〜10のフルオロアルキレン基であり、m1は、2〜210の整数であり、(R f1 O) m1 は、炭素数の異なる2種以上のR f1 Oからなるものであってもよく、aおよびbは、それぞれ独立に1以上の整数であり、Qはa+b価の連結基であり、R 13 は、水素原子または1価の炭化水素基であり、X 1 は、加水分解性基であり、n1は、0〜2の整数である。 - 前記アルカリ金属原子の濃度の平均値が、4.0×1022atoms/cm3以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の物品。
- アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウム原子である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の物品。
- 前記酸化ケイ素層における酸化ケイ素が、ケイ酸の縮合物またはアルコキシシランの加水分解縮合物からなる、請求項1〜7のいずれか一項に記載の物品。
- 前記酸化ケイ素層における酸化ケイ素が、アルカリ金属原子を含む酸化ケイ素の蒸着物からなる、請求項1〜8のいずれか一項に記載の物品。
- 酸化ケイ素前駆体とアルカリ金属源とを含む酸化ケイ素形成材料を用いて、基材の表面にアルカリ金属原子を含む酸化ケイ素層を形成し、
次いで、前記酸化ケイ素層の表面に、加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物の加水分解縮合物からなる撥水撥油層を形成する、撥水撥油層付き物品の製造方法であって、
前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物が、フルオロアルキル基および加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物、フルオロアルキル基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基および加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物、または、フルオロアルキル基、加水分解性シリル基およびポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素化合物であり、
前記酸化ケイ素層を、前記撥水撥油層と接する面からの深さが0.1〜0.3nmの領域におけるアルカリ金属原子の濃度の平均値が、2.0×1019atoms/cm3以上である酸化ケイ素層とすることを特徴とする撥水撥油層付き物品の製造方法。 - 前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物が、フルオロアルキル基、加水分解性シリル基およびポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素化合物であり、前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖が炭素数1〜10のオキシフルオロアルキレン基からなる、請求項10に記載の製造方法。
- 前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖が炭素数1〜10のオキシペルフルオロアルキレン基からなる、請求項10または11に記載の製造方法。
- 前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物の加水分解性シリル基の数が、2個以上である、請求項10〜12のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物が下記式Xで表される含フッ素エーテル化合物である、請求項10又は11に記載の製造方法。
[A 1 −O−(R f1 O) m1 ] a −Q−[SiR 13 n1 X 1 3−n1 ] b ・・・X
ただし、A 1 は、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、R f1 は、炭素数1〜10のフルオロアルキレン基であり、m1は、2〜210の整数であり、(R f1 O) m1 は、炭素数の異なる2種以上のR f1 Oからなるものであってもよく、aおよびbは、それぞれ独立に1以上の整数であり、Qはa+b価の連結基であり、R 13 は、水素原子または1価の炭化水素基であり、X 1 は、加水分解性基であり、n1は、0〜2の整数である。 - ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、テトラアルコキシシランおよびその部分縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の酸化ケイ素前駆体とアルカリ金属源と溶媒とを含むコーティング液を用いて、基材表面に前記酸化ケイ素層を形成する、請求項10〜14のいずれか一項に記載の製造方法。
- アルカリ金属原子を含む酸化ケイ素を用いて、基材の表面にアルカリ金属原子を含む酸化ケイ素層を形成し、
次いで、前記酸化ケイ素層の表面に、加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物の加水分解縮合物からなる撥水撥油層を形成する、撥水撥油層付き物品の製造方法であって、
前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物が、フルオロアルキル基および加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物、フルオロアルキル基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基および加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物、または、フルオロアルキル基、加水分解性シリル基およびポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素化合物であり、
前記酸化ケイ素層を、前記撥水撥油層と接する面からの深さが0.1〜0.3nmの領域におけるアルカリ金属原子の濃度の平均値が、2.0×10 19 atoms/cm 3 以上である酸化ケイ素層とすることを特徴とする撥水撥油層付き物品の製造方法。 - 前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物が、フルオロアルキル基、加水分解性シリル基およびポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素化合物であり、前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖が炭素数1〜10のオキシフルオロアルキレン基からなる、請求項16に記載の製造方法。
- 前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖が炭素数1〜10のオキシペルフルオロアルキレン基からなる、請求項16または17に記載の製造方法。
- 前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物の加水分解性シリル基の数が、2個以上である、請求項16〜18のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物が下記式Xで表される含フッ素エーテル化合物である、請求項16または17に記載の製造方法。
[A 1 −O−(R f1 O) m1 ] a −Q−[SiR 13 n1 X 1 3−n1 ] b ・・・X
ただし、A 1 は、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、R f1 は、炭素数1〜10のフルオロアルキレン基であり、m1は、2〜210の整数であり、(R f1 O) m1 は、炭素数の異なる2種以上のR f1 Oからなるものであってもよく、aおよびbは、それぞれ独立に1以上の整数であり、Qはa+b価の連結基であり、R 13 は、水素原子または1価の炭化水素基であり、X 1 は、加水分解性基であり、n1は、0〜2の整数である。 - 前記アルカリ金属原子を含む酸化ケイ素におけるアルカリ金属原子の含有量がケイ素原子に対して200ppm以上である、請求項16〜20のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記酸化ケイ素層を形成する方法が蒸着法である、請求項16〜21のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記領域におけるアルカリ金属原子の濃度の平均値が、4.0×1022atoms/cm3以下である、請求項10〜22のいずれか一項に記載の製造方法。
- アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウム原子である、請求項10〜23のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記基材の表面をコロナ放電処理、プラズマ処理またはプラズマグラフト重合処理し、次いで、前記処理された基材表面上に前記酸化ケイ素層を形成する、請求項10〜24のいずれか一項に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017121642 | 2017-06-21 | ||
JP2017121642 | 2017-06-21 | ||
JP2018004491 | 2018-01-15 | ||
JP2018004491 | 2018-01-15 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018562379A Division JP6485610B1 (ja) | 2017-06-21 | 2018-06-18 | 撥水撥油層付き物品およびその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019116097A JP2019116097A (ja) | 2019-07-18 |
JP2019116097A5 true JP2019116097A5 (ja) | 2021-07-26 |
JP7063288B2 JP7063288B2 (ja) | 2022-05-09 |
Family
ID=64737051
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018562379A Active JP6485610B1 (ja) | 2017-06-21 | 2018-06-18 | 撥水撥油層付き物品およびその製造方法 |
JP2019024864A Active JP7063288B2 (ja) | 2017-06-21 | 2019-02-14 | 撥水撥油層付き物品およびその製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018562379A Active JP6485610B1 (ja) | 2017-06-21 | 2018-06-18 | 撥水撥油層付き物品およびその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10786976B2 (ja) |
EP (1) | EP3643495B1 (ja) |
JP (2) | JP6485610B1 (ja) |
KR (1) | KR102577376B1 (ja) |
CN (2) | CN111548026B (ja) |
TW (1) | TW201906800A (ja) |
WO (1) | WO2018235778A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180079034A (ko) * | 2016-12-30 | 2018-07-10 | 주식회사 동진쎄미켐 | 발수코팅 조성물 및 이로 코팅된 발수코팅 기재 |
JP7063335B2 (ja) * | 2017-08-31 | 2022-05-09 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 |
KR20210105884A (ko) * | 2018-12-26 | 2021-08-27 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 발수 발유층 형성 기재, 및 그 제조 방법 |
CN113260463B (zh) * | 2018-12-26 | 2023-09-22 | Agc株式会社 | 带拒水拒油层的基材、蒸镀材料和带拒水拒油层的基材的制造方法 |
EP3970963A4 (en) * | 2019-05-14 | 2023-06-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | WATER-REPELLENT AND OIL-REPELLENT ELEMENT AND METHOD OF MAKING A WATER-REPELLENT AND OIL-REPELLENT ELEMENT |
CN113891919A (zh) * | 2019-05-31 | 2022-01-04 | Agc株式会社 | 带拒水拒油层的基材 |
JPWO2021060537A1 (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-01 | ||
JPWO2021070788A1 (ja) * | 2019-10-08 | 2021-04-15 | ||
EP4052805A4 (en) * | 2019-10-31 | 2023-11-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | ALKALINE RESISTANT WATER REPELLENT ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING SUCH WATER REPELLENT ELEMENT AND METHOD FOR IMPROVED ALKALINE RESISTANCE AND WEAR RESISTANCE OF A WATER REPELLENT ELEMENT |
JP2021105548A (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-26 | レノボ・シンガポール・プライベート・リミテッド | 情報処理装置 |
KR20230069905A (ko) * | 2020-09-16 | 2023-05-19 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 발수 발유층이 형성된 기재, 및 발수 발유층이 형성된 기재의 제조 방법 |
WO2022209489A1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 | Agc株式会社 | 積層体及びその製造方法 |
JP7273352B2 (ja) * | 2021-09-02 | 2023-05-15 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
JP2024025759A (ja) * | 2022-08-10 | 2024-02-26 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理層を含む物品 |
JP2024114678A (ja) * | 2023-02-13 | 2024-08-23 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素シラン化合物 |
WO2024172036A1 (ja) * | 2023-02-13 | 2024-08-22 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
Family Cites Families (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2874715B2 (ja) | 1995-08-11 | 1999-03-24 | ダイキン工業株式会社 | ケイ素含有有機含フッ素ポリマー及びその製造方法 |
JPH10146927A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-06-02 | Du Pont Kk | フッ素樹脂フィルム積層体およびその製造方法 |
IT1290462B1 (it) | 1997-04-08 | 1998-12-03 | Ausimont Spa | Polimeri idrogenati modificati |
JPH1129585A (ja) | 1997-07-04 | 1999-02-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | パーフルオロポリエーテル変性アミノシラン及び表面処理剤 |
US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
JP4733798B2 (ja) | 1998-01-31 | 2011-07-27 | 凸版印刷株式会社 | 防汚剤、防汚層の形成方法、光学部材、反射防止光学部材、光学機能性部材及び表示装置 |
WO1999063022A1 (fr) * | 1998-06-04 | 1999-12-09 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Procede pour produire un article recouvert d'un film hydrofuge, article recouvert d'un film hydrofuge, et composition liquide pour revetement a base d'un film hydrofuge |
JP3601580B2 (ja) | 1999-05-20 | 2004-12-15 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテル変性アミノシラン及び表面処理剤並びに該アミノシランの被膜が形成された物品 |
TW559999B (en) * | 2002-05-08 | 2003-11-01 | Nec Corp | Semiconductor device having silicon-including metal wiring layer and its manufacturing method |
JP2005081292A (ja) * | 2003-09-10 | 2005-03-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 微細凹部を有する皮膜付き基体の製造方法、およびそれに用いる液組成物 |
JP2005301208A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-10-27 | Seiko Epson Corp | 防汚性光学物品の製造方法 |
JP2005324139A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Asahi Glass Co Ltd | 塗膜の形成方法 |
KR101200926B1 (ko) * | 2004-05-26 | 2012-11-14 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 소수성 코팅의 생산 방법, 상기 방법을 수행하는 디바이스 및 소수성 코팅을 구비한 지지대 |
DE102004026344B4 (de) * | 2004-05-26 | 2008-10-16 | Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Herstellen einer hydrophoben Beschichtung, Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens und Substrat mit einer hydrophoben Beschichtung |
JP2006083049A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Takeuchi Shinku Himaku Kk | 撥水ガラス |
EP1871780B1 (en) | 2005-04-01 | 2018-07-04 | Daikin Industries, Ltd. | Surface modifier |
JP2007063477A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Asahi Glass Co Ltd | 無機塗料組成物、親水性塗膜及び農業用フィルム |
JP2009139530A (ja) | 2007-12-05 | 2009-06-25 | Seiko Epson Corp | 光学物品の製造方法 |
CN101736346A (zh) | 2008-11-24 | 2010-06-16 | 3M创新有限公司 | 在不锈钢表面形成易清洁层的制品及其制备方法 |
US20110315200A1 (en) | 2009-03-09 | 2011-12-29 | Masahiro Asuka | Underside protective sheet for solar cell, solar cell module, and gas-barrier film |
WO2011059430A1 (en) | 2009-11-11 | 2011-05-19 | Essilor International | Surface treatment composition, process for producing the same, and surface-treated article |
JP5235026B2 (ja) | 2010-09-28 | 2013-07-10 | 信越化学工業株式会社 | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
CN103221497B (zh) | 2010-11-10 | 2016-06-08 | 3M创新有限公司 | 光学装置表面处理方法以及由此制备的抗污迹制品 |
CN202008536U (zh) * | 2011-03-23 | 2011-10-12 | 云南汇恒光电技术有限公司 | 一种憎水防雾镜片 |
KR20140023328A (ko) * | 2011-03-28 | 2014-02-26 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 표면 및 내구성 코팅에 Cu, CuO 및 Cu2O 나노입자의 항균성 작용 |
DE102011076754A1 (de) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | Schott Ag | Substratelement für die Beschichtung mit einer Easy-to-clean Beschichtung |
JP6000017B2 (ja) * | 2011-08-31 | 2016-09-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 蓄電装置及びその作製方法 |
TW201319120A (zh) * | 2011-09-21 | 2013-05-16 | Asahi Glass Co Ltd | 含氟醚化合物、塗佈液、及具表面處理層之基材的製造方法 |
JP2013091047A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-16 | Asahi Glass Co Ltd | 防汚性基板の製造方法 |
JPWO2013115197A1 (ja) * | 2012-01-31 | 2015-05-11 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素共重合体およびその製造方法、ならびに撥水撥油剤組成物 |
JP6127985B2 (ja) | 2012-02-17 | 2017-05-17 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法 |
EP2816046B1 (en) | 2012-02-17 | 2019-01-23 | AGC Inc. | Fluorinated ether compound, fluorinated ether composition and coating fluid, and substrate having surface-treated layer and method for its production |
CN104114566B (zh) | 2012-02-17 | 2017-05-31 | 旭硝子株式会社 | 含氟醚化合物、含氟醚组合物及涂覆液以及具有表面处理层的基材及其制造方法 |
JP2014070163A (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Fujifilm Corp | 表面改質剤、処理基材、化合物の製造方法、及び化合物 |
JP6127438B2 (ja) | 2012-10-15 | 2017-05-17 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル組成物、該組成物から形成された表面層を有する基材およびその製造方法 |
JP5761305B2 (ja) | 2012-11-05 | 2015-08-12 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP6008739B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2016-10-19 | 日揮触媒化成株式会社 | 撥水性透明被膜付基材およびその製造方法 |
EP2957615A4 (en) * | 2013-02-15 | 2016-08-03 | Asahi Glass Co Ltd | COMPOSITION FOR FORMATION OF HYDROFUGGED FILMS AND USE THEREOF |
CN105102505B (zh) | 2013-04-04 | 2017-04-05 | 旭硝子株式会社 | 含氟醚化合物、含氟醚组合物及涂布液,以及具有表面层的基材及其制造方法 |
JP6547629B2 (ja) | 2013-12-13 | 2019-07-24 | Agc株式会社 | ケイ素化合物の製造方法 |
JP6451279B2 (ja) | 2014-03-31 | 2019-01-16 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
JP2016033109A (ja) * | 2014-07-29 | 2016-03-10 | 旭硝子株式会社 | 被膜付きガラスおよび被膜形成用組成物 |
EP3085749B1 (en) | 2015-04-20 | 2017-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Fluoropolyether-containing polymer-modified silane, surface treating agent, and treated article |
JP6260579B2 (ja) | 2015-05-01 | 2018-01-17 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
JP6390521B2 (ja) | 2015-06-03 | 2018-09-19 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン |
JP6791147B2 (ja) | 2015-09-01 | 2020-11-25 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 |
KR102643184B1 (ko) | 2015-09-01 | 2024-03-04 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 함불소 에테르 화합물, 함불소 에테르 조성물, 코팅액 및 물품 |
JP2019000983A (ja) * | 2015-10-28 | 2019-01-10 | Agc株式会社 | 防汚性物品およびその製造方法 |
JP2017121642A (ja) | 2016-01-06 | 2017-07-13 | 株式会社アンド | 半田処理装置 |
WO2017187775A1 (ja) | 2016-04-25 | 2017-11-02 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、コーティング液、物品および新規化合物 |
JP6289552B2 (ja) | 2016-07-04 | 2018-03-07 | 株式会社東栄科学産業 | 磁歪計測装置、磁歪計測方法 |
CN106746736B (zh) * | 2016-12-21 | 2019-08-20 | 安徽凯盛基础材料科技有限公司 | 一种超疏水玻璃涂层及其制备方法 |
-
2018
- 2018-06-18 CN CN202010397019.XA patent/CN111548026B/zh active Active
- 2018-06-18 KR KR1020197032223A patent/KR102577376B1/ko active IP Right Grant
- 2018-06-18 EP EP18819594.5A patent/EP3643495B1/en active Active
- 2018-06-18 CN CN201880003744.5A patent/CN109803823B/zh active Active
- 2018-06-18 WO PCT/JP2018/023150 patent/WO2018235778A1/ja unknown
- 2018-06-18 JP JP2018562379A patent/JP6485610B1/ja active Active
- 2018-06-20 TW TW107121099A patent/TW201906800A/zh unknown
-
2019
- 2019-02-14 JP JP2019024864A patent/JP7063288B2/ja active Active
- 2019-03-26 US US16/364,491 patent/US10786976B2/en active Active
-
2020
- 2020-08-21 US US16/999,263 patent/US20200376814A1/en not_active Abandoned
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019116097A5 (ja) | ||
JP5734675B2 (ja) | 積層体およびその製造方法 | |
JP6845252B2 (ja) | ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを用いた方法 | |
US9478414B2 (en) | Method for hydrophobization of surface of silicon-containing film by ALD | |
JP2019186562A5 (ja) | ||
JP6151158B2 (ja) | 透明酸化物電極用表面修飾剤、表面修飾された透明酸化物電極、及び表面修飾された透明酸化物電極の製造方法 | |
TW201906800A (zh) | 附撥水撥油層之物品及其製造方法 | |
JP2016515166A5 (ja) | ||
JP2012037896A5 (ja) | ||
WO2016190047A1 (ja) | 表面処理層を有する物品の製造方法 | |
JP6163796B2 (ja) | パーフルオロポリエーテル基含有シラザン化合物 | |
JP2010535791A5 (ja) | ||
WO2022007555A1 (zh) | 超疏水膜层及其制备方法和产品 | |
JP2022017617A (ja) | 含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
TWI832111B (zh) | 用於製造富含氧代錫酸鹽之膜的方法及前驅物 | |
JP2007196211A5 (ja) | ||
JPH04367721A (ja) | フッ素系化学吸着単分子累積膜及びその製造方法 | |
JP2014210258A (ja) | シラン系膜を有する物品の製造方法 | |
JP6720980B2 (ja) | ガスバリアー性フィルム | |
CN114555675A (zh) | 带拒水拒油层的物品 | |
CN115279819B (zh) | 含氟醚化合物和其制造方法、化合物和其制造方法、含氟醚组合物、涂布液以及物品和其制造方法 | |
TWI784648B (zh) | 具有抗靜電及防汙性能的多功能透明光罩及其製造方法 | |
JP2005023199A (ja) | 機能性超薄膜およびその形成方法 | |
JP5687587B2 (ja) | 膜形成方法および膜形成装置 | |
JP3870254B2 (ja) | 高親水性薄膜及びその製造方法 |