JP2007196211A5

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Publication number: JP2007196211A5
Application number: JP2006181367A
Authority: JP
Filing date: 2006-06-30
Publication date: 2009-05-28
Anticipated expiration: 2026-06-30

Claims

少なくともハードコート層を有する光学基材上に形成された有機系の反射防止層と、前記有機系の反射防止層の表面に形成された防汚層とを有する光学製品の製造方法であって、
前記有機系の反射防止層の表面に前記防汚層を形成するための組成物を塗布する防汚層塗布工程と、
前記防汚層塗布工程の後、前記防汚層を形成するための組成物が塗布された前記光学基材を、相対湿度４０％〜９５％の環境で、温度８０℃〜１５０℃で１０分〜２時間加熱する第１のアニール工程と
前記第１のアニール工程の後に、前記第１のアニール工程においてアニール処理が施された前記光学基材を、前記第１のアニール工程よりも相対湿度が低く、相対湿度５％〜３０％の環境で、温度９０℃〜１２０℃で２０分〜２時間加熱する第２のアニール工程と
を有する、光学製品の製造方法。
請求項１において、前記第１のアニール工程では、前記防汚層を形成するための組成物が塗布された前記光学基材を、相対湿度４０％〜９５％の環境で、温度８０℃〜１２０℃で１０分〜２時間加熱する、光学製品の製造方法。
請求項１または２において、前記防汚層塗布工程後で前記第１のアニール工程の前に、相対湿度２０％以下の環境で、温度８０℃〜１５０℃で前記防汚層を形成するための組成物が塗布された前記光学基材を加熱するプレアニール工程を有する、光学製品の製造方法。
請求項３において、前記プレアニール工程では、相対湿度２０％以下の環境で、温度８０℃〜１２０℃で前記防汚層を形成するための組成物が塗布された前記光学基材を加熱する、光学製品の製造方法。
請求項１ないし４のいずれかにおいて、前記防汚層を形成するための組成物は、下記一般式（Ａ）で表される含フッ素シラン化合物と、含フッ素有機化合物から成る溶剤とを含む、光学製品の製造方法。

ただし、式中、Ｒｆ１は、パーフルオロアルキル基を表す。Ｚは、フッ素またはトリフルオロメチル基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０または１以上の整数を表し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、式中において限定されない。Ｙは、水素または炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘ１は、水素、臭素またはヨウ素を表す。Ｒ１は、水酸基または加水分解可能な置換基を表す。Ｒ２は、水素または１価の炭化水酸基を表す。ｕは、０、１または２を表す。ｖは１、２または３を表す。ｗは、１以上の整数を表す。
請求項１ないし４のいずれかにおいて、前記防汚層を形成するための組成物は、下記一般式（Ｂ）で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性シランの加水分解縮合物と、含フッ素有機化合物から成る溶剤とを含む、光学製品の製造方法。

ただし、式中、Ｒｆ２は、式：−（ＣｋＦ２ｋ）Ｏ−（前記式中、ｋは１〜６の整数である）で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基であり、Ｒ３は独立に炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であり、Ｘ２は独立に加水分解性基またはハロゲンであり、ｓは独立に０〜２の整数であり、ｔは独立に１〜５の整数であり、ｈおよびｉは独立に２または３である。
請求項１ないし６のいずれかにおいて、前記有機系の反射防止層は、下記一般式（Ｃ）で表される成分と、下記（Ｄ）の成分とを含有する組成物から形成される、光学製品の製
造方法。
（Ｃ）一般式：Ｒ４ｐＲ５ｑＳｉＸ３４−ｑ−ｐで表される有機ケイ素化合物
ただし、式中、Ｒ４は重合可能な反応基を有する有機基、Ｒ５は炭素数１〜６の炭化水素基、Ｘ３は加水分解性基であり、ｐおよびｑは、少なくとも一方は１であり、他方は０または１である。
（Ｄ）シリカ系微粒子