JP2024114678A - 含フッ素シラン化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】新たな含フッ素シラン化合物の提供。【解決手段】下記式（１）：［式中：Ｒｆ１は、それぞれ独立して、末端にＣＦ３を有する基であり、ただし、前記末端ＣＦ３は、隣接位にＣＦ２を有さず、ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２～１０価の有機基であり、ＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、α１は、１～９の整数であり；およびα２は、１～９の整数である。］で表される含フッ素シラン化合物。TIFF2024114678000044.tif697【選択図】なし

Description

本開示は、含フッ素シラン化合物に関する。

ある種のシラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水撥油性を提供し得ることが知られている（特許文献１）。

特開２０１９－４４１７９号公報

本開示は、新たな含フッ素シラン化合物を提供することを目的とする。

本開示は、以下の態様を含む。
［１］ 下記式（１）：
［式中：
Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、末端にＣＦ_３を有する基であり、
ただし、前記末端ＣＦ_３は、隣接位にＣＦ_２を有さず、
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２～１０価の有機基であり、
Ｒ^Ｓｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
α１は、１～９の整数であり；および
α２は、１～９の整数である。］
で表される含フッ素シラン化合物。
［２］ Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、
Ｒ^Ａ１－Ｘ^Ｂ－
［式中：
Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－であり、
Ｘ^Ｂは、
単結合、
２価のシロキサン基を含む基、または
－（ＣＦＨ）_ａ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－（Ｏ）_ｃ１－（Ｃ（Ｒ^Ａ２）_ｅ１Ｈ_２－ｅ１）_ｄ１－（ＮＲ^Ａ３）_ｆ１－
（式中：
Ｒ^Ａ２は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基であり、
Ｒ^Ａ３は、水素原子、またはＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－、もしくは（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基であり、
ａ１は、０～２００の整数であり、
ｂ１は、０～２００の整数であり、
ｃ１は、０～２００の整数であり、
ｄ１は、０～２００の整数であり、
ｅ１は、１または２であり、
ｆ１は、０～２００の整数であり、
符号ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１およびｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される基である。］
で表される基である、上記［１］に記載の含フッ素シラン化合物。
［３］ Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、または（ＣＦ_３）_２Ｎ－である、上記［２］に記載の含フッ素シラン化合物。
［４］ Ｒ^Ａ２は、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、または（ＣＦ_３）_２Ｎ－を有する１価の基である、上記［２］または［３］に記載の含フッ素シラン化合物。
［５］ Ｒ^Ａ３は、水素原子、または、ＣＦ_３Ｏ－を有する１価の基である、上記［２］～［４］のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物。
［６］ Ｘ^Ｂは、－（ＣＦＨ）_ａ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－（Ｏ）_ｃ１－
［式中：
ａ１は、０～２００の整数であり、
ｂ１は、０～２００の整数であり、
ｃ１は、０～１０の整数であり、
符号ａ１、ｂ１、およびｃ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
で表される基である、上記［２］または［３］に記載の含フッ素シラン化合物。
［７］ Ｘ^Ｂは、－（ＣＨ_２）_ｂ１－
［式中、ｂ１は、０～３６の整数である。］
で表される基である、上記［２］または［３］に記載の含フッ素シラン化合物。
［８］ Ｘ^Ｂは、－（ＣＨ_２）_ｇ１－Ｒ^Ｓ－（ＣＨ_２）_ｇ１－
［式中：
ｇ１は、それぞれ独立して、０～３０の整数であり、
Ｒ^Ｓは、下記式：
（式中：
Ｒ^３は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、
Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、
Ｒ^６は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
Ｒ^７は、それぞれ独立して、置換されていてもよい、フェニレン基、またはナフチレン基であり、
Ｒ^８は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ_１－６アルキレン基であり、
Ｒ^９は、それぞれ独立して、単結合、または酸素原子であり、
Ｒ^５は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｘは、０～２００の整数であり、
ｙは、０～２００の整数であり、
ｚは、０～２００の整数であり、
ｘ＋ｙ＋ｚは、１以上であり、
ｘ、ｙ、またはｚを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基である。］
で表される基である、上記［２］または［３］に記載の含フッ素シラン化合物。
［９］ Ｘ^Ａは、単結合、－（Ｘ^５２）_ｌ５－、または式（Ｘ^Ａ１）：
［式中：
Ｘ^５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^５４ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－、および－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり、
ｎ５は、それぞれ独立して、１～３０の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数であり、
Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合または２価の連結基である。］
で表される基である、上記［１］～［８］のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物。
［１０］ Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）または（Ｓ５）：
［式中：
Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
Ｒ^１２は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり、
Ｘ^１１は、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり、
Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、
ｔは、それぞれ独立して、２以上の整数であり、
Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり、
Ｒ^１５は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり、
Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ^１は、それぞれ独立して、２価の有機基であり、
Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
Ｒ^２３は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
Ｚ^１’は、それぞれ独立して、２価の有機基であり、
Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
Ｚ^１”は、それぞれ独立して、２価の有機基であり、
Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり、
Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり、
Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり、
Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり、
ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり、
Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり、
ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
Ｒ^３５は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｎ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり、
ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数である。
Ｒ^ｇ１およびＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、または－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり、
Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり、
ｋ３は、１または２であり、
ｌ３は、０または１であり、
ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）、または（Ｓ５）中、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。］
で表される基である、上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物。
［１１］ Ｒｆ^１は、Ｒ^Ａ１－Ｘ^Ｂ－であり、
Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３－又はＣＦ_３Ｏ－であり、
Ｘ^Ｂは、単結合であり、
Ｘ^Ａは、－（ｐ－フェニレン）_ｖ１－（ＣＨ_２）_ｖ２－Ｒ^５７ _ｖ３－（ＣＨ_２）_ｖ４－であり、
Ｒ^５７は、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＯ－、又は－Ｏ－であり、
ｖ１は、０又は１であり、
ｖ２は、０～２０の整数であり、
ｖ３は、０又は１であり、
ｖ４は、２～２０の整数であり、
Ｒ^Ｓｉは、－ＳｉＲ^１１ _３であり、
Ｒ^１１は、メトキシ基であり、
α１は、１であり、
α２は、１である、
上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物。
［１２］ 下記化合物：

から選択される、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物。
［１３］ 上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物を含む、表面処理剤。
［１４］ さらに、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物の縮合体を含む、上記［１３］に記載の表面処理剤。
［１５］ さらに、Ｒ^９０－ＯＨ（ここで、Ｒ^９０は１価の有機基である。）で表されるアルコールを含む、上記［１３］または［１４］に記載の表面処理剤。
［１６］ 真空蒸着用である、上記［１３］～［１５］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１７］ 湿潤被覆用である、上記［１３］～［１５］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１８］ 上記［１３］～［１７］のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
［１９］ 基材と、該基材上に上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物から形成された層とを含む物品。
［２０］ 前記基材と前記層との間に、酸化ケイ素を含む中間層を含む、上記［１９］に記載の物品。
［２１］ 前記中間層は、アルカリ金属原子を含む、上記［２０］に記載の物品。
［２２］ 前記アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウムである、上記［２１］に記載の物品。
［２３］ 光学部材である、上記［１９］～［２２］のいずれか１項に記載の物品。
［２４］ ディスプレイである、上記［２３］に記載の物品。

本開示によれば、新たな含フッ素シラン化合物を提供することができる。

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基、または、その誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端、または、分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。
本明細書において用いられる場合、「２価の有機基」としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、分子から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、炭素原子数１～２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状、または、環状のいずれであってもよく、飽和、または、不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。かかる炭化水素基は、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端、または、分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、または－ＮＣＯ（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

［含フッ素シラン化合物］
本開示の含フッ素シラン化合物は、下記式（１）：
［式中：
Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、末端にＣＦ_３を有する基であり、
ただし、前記末端ＣＦ_３は、隣接位にＣＦ_２を有さず、
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２～１０価の有機基であり、
Ｒ^Ｓｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
α１は、１～９の整数であり；および
α２は、１～９の整数である。］
で表される含フッ素シラン化合物である。

Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、末端にＣＦ_３を有する基である。

Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、好ましくは、
Ｒ^Ａ１－Ｘ^Ｂ－
［式中：
Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－であり、
Ｘ^Ｂは、
単結合、
２価のシロキサン基を含む基、または
－（ＣＦＨ）_ａ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－（Ｏ）_ｃ１－（Ｃ（Ｒ^Ａ２）_ｅ１Ｈ_２－ｅ１）_ｄ１－（ＮＲ^Ａ３）_ｆ１－
（式中：
Ｒ^Ａ２は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基であり、
Ｒ^Ａ３は、水素原子、またはＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－、もしくは（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基であり、
ａ１は、０～２００の整数であり、
ｂ１は、０～２００の整数であり、
ｃ１は、０～２００の整数であり、
ｄ１は、０～２００の整数であり、
ｅ１は、１または２であり、
ｆ１は、０～２００の整数であり、
符号ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１およびｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される基である。］
で表される基であり得る。

Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－である。Ｒ^Ａ１は、好ましくはＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、または（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－、さらに好ましくはＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、または（ＣＦ_３）_２Ｎ－であり得る。

一の態様において、Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３Ｏ－であり得る。

別の態様において、Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３ＮＨ－または（ＣＦ_３）_２Ｎ－、好ましくはＣＦ_３ＮＨ－であり得る。

Ｘ^Ｂは、
単結合、
２価のシロキサン基を含む基、または
－（ＣＦＨ）_ａ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－（Ｏ）_ｃ１－（Ｃ（Ｒ^Ａ２）_ｅ１Ｈ_２－ｅ１）_ｄ１－（ＮＲ^Ａ３）_ｆ１－
（式中：
Ｒ^Ａ２は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、またはＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－を有する１価の基であり、
Ｒ^Ａ３は、水素原子、またはＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、もしくはＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－を有する１価の基であり、
ａ１は、０～２００の整数であり、
ｂ１は、０～２００の整数であり、
ｃ１は、０～２００の整数であり、
ｄ１は、０～２００の整数であり、
ｅ１は、１または２であり、
ｆ１は、０～２００の整数であり、
符号ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１およびｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される基である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、単結合である。

別の態様において、Ｘ^Ｂは、
－（ＣＦＨ）_ａ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－（Ｏ）_ｃ１－（Ｃ（Ｒ^Ａ２）_ｅ１Ｈ_２－ｅ１）_ｄ１－（ＮＲ^Ａ３）_ｆ１－
（式中：
Ｒ^Ａ２は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基であり、
ａ１は、０～２００の整数であり、
ｂ１は、０～２００の整数であり、
ｃ１は、０～２００の整数であり、
ｄ１は、０～２００の整数であり、
ｅ１は、１または２であり、
ｆ１は、０～２００の整数であり、
符号ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１およびｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される基である。

Ｒ^Ａ２は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基である。

Ｒ^Ａ２は、好ましくは、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、またはＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－を有する１価の基、より好ましくは、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、または（ＣＦ_３）_２Ｎ－を有する１価の基であり得る。

Ｒ^Ａ２は、好ましくは
Ｒ^Ａ２’－Ｘ^Ａ２－
［式中：
Ｒ^Ａ２’は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－、好ましくはＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、またはＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、より好ましくは、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、または（ＣＦ_３）_２Ｎ－であり、
Ｘ^Ａ２は、単結合、または２価の基である。］
で表される基であり得る。

Ｘ^Ａ２は、好ましくは、単結合、Ｃ_１－３６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｙ１－（Ｏ）_ｙ２－（式中、ｙ１は、１～２００の整数、例えば２～１００、５～１００、または１０～５０の整数であり、ｙ２は、１～１００の整数、例えば２～５０、３～３０、または５～１０の整数である）、または、－（ＣＨ_２）_ｙ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｙ４－（式中、ｙ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｙ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－３６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

一の態様において、Ｒ^Ａ２は、好ましくはＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、または（ＣＦ_３）_２Ｎ－、より好ましくはＣＦ_３Ｏ－であり得る。

Ｒ^Ａ３は、水素原子、またはＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－、もしくは（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基である。

一の態様において、Ｒ^Ａ３は、水素原子である。

別の態様において、Ｒ^Ａ３は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－、もしくは（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基である。

Ｒ^Ａ３における１価の基は、好ましくは、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－、もしくは（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基、より好ましくは、水素原子、または、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、もしくは（ＣＦ_３）_２Ｎ－を有する１価の基であり得る。

Ｒ^Ａ３における１価の基は、好ましくは
Ｒ^Ａ３’－Ｘ^Ａ３－
［式中：
Ｒ^Ａ３’は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－、もしくは（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－、好ましくはＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、またはＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、より好ましくは、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、または（ＣＦ_３）_２Ｎ－であり、
Ｘ^Ａ３は、単結合、または２価の基である。］
で表される基であり得る。

Ｘ^Ａ３は、好ましくは、単結合、Ｃ_１－３６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｙ１－（Ｏ）_ｙ２－（式中、ｙ１は、１～２００の整数、例えば２～１００、５～１００、または１０～５０の整数であり、ｙ２は、１～１００の整数、例えば２～５０、３～３０、または５～１０の整数である）、または、－（ＣＨ_２）_ｙ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｙ４－（式中、ｙ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｙ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－３６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

一の態様において、ａ１は０～６の整数である。

一の態様において、ｂ１は０～３０の整数である。

一の態様において、ｃ１は０～１０の整数であり、別の態様において、ｃ１は０～３の整数である。

一の態様において、ｄ１は０または１である。

一の態様において、ｅ１は１であり、別の態様において、ｅ１は２である。

一の態様において、ｆ１は０または１である。

一の態様において、ｅ１は１または２、ｄ１は０または１、ａ１は０～２００の整数、ｂ１は０～２００の整数およびｃ１は０～１０の整数である。符号ａ１、ｂ１、ｃ１およびｄ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。

一の態様において、ｅ１は１または２、ｄ１は０または１、ａ１は０～６の整数、ｂ１は０～３０の整数およびｃ１は０～３の整数である。符号ａ１、ｂ１、ｃ１およびｄ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、
－（ＣＦＨ）_ａ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－（Ｏ）_ｃ１－
［式中：
ａ１は、０～２００の整数、好ましくは０～６の整数であり、
ｂ１は、０～２００の整数、好ましくは０～３０の整数であり、
ｃ１は、０～１０の整数、好ましくは０～３の整数であり、
符号ａ１、ｂ１、およびｃ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
で表される基である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、－（Ｃ（Ｒ^Ａ２）_ｅ１Ｈ_２－ｅ１）_ｄ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－で表される基である。Ｒ^Ａ２、ｂ１、ｄ１およびｅ１は、上記と同意義である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、
－（ＣＨ_２）_ｂ１－
［式中、ｂ１は、０～３６の整数、好ましくは０～３０の整数であり、一の態様においてより好ましくは１～９の整数であり、別の態様においてより好ましくは１０～３０の整数、例えば１０～２５の整数である。］
で表される基である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、－（ＣＲ^Ａ２ _ｅ１Ｈ_２－ｅ１）_ｄ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｂ１－で表される基である。Ｒ^Ａ２、ａ１、ｂ１、およびｅ１は、上記と同意義である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｂ１－で表される基である。ｂ１は、上記と同意義である。好ましくはｂ１は、０～３０の整数である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、－（ＣＲ^Ａ２ _ｅ１Ｈ_２－ｅ１）_ｄ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－Ｏ－で表される基である。Ｒ^Ａ２、ｅ１、ｂ１、およびｄ１は、上記と同意義である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、－（ＣＨ_２）_ｂ１－Ｏ－で表される基である。ｂ１は、上記と同意義である。一の態様において、ｂ１は、０～３０の整数であり、一の態様において、ｂ１は０～１０の整数である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、－（ＣＨ_２）_ｂ１０－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｂ１０－で表される基である。ｂ１０は、それぞれ独立して、０～２００の整数である。但し、２つのｂ１０の合計は、０～２００の整数である。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、２価のシロキサン基を含む基である。即ち、Ｘ^Ｂは、酸素を介して２つのケイ素が結合した構造（－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－）を含む。

かかる態様において、Ｘ^Ｂは、より好ましくは、
－（ＣＨ_２）_ｇ１－Ｒ^Ｓ－Ｓｉ（Ｒ^５）_２－（ＣＨ_２）_ｇ１－
［式中：
ｇ１は、それぞれ独立して、０～３０の整数であり、
Ｒ^Ｓは、下記式：
（式中：
Ｒ^３は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、
Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、
Ｒ^６は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
Ｒ^７は、それぞれ独立して、置換されていてもよい、フェニレン基、またはナフチレン基であり、
Ｒ^８は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ_１－６アルキレン基であり、
Ｒ^９は、それぞれ独立して、単結合、または酸素原子であり、
Ｒ^５は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｘは、０～２００の整数であり、
ｙは、０～２００の整数であり、
ｚは、０～２００の整数であり、
ｘ＋ｙ＋ｚは、１以上であり、
ｘ、ｙ、またはｚを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基である。］
で表される基である。

ｇ１は、それぞれ独立して、０～３０の整数である。ｇ１は、例えば１～３０の整数、１～１０の整数、または１～３の整数である。一の態様において、ｇ１は０である。

Ｒ^３は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、好ましくは、Ｃ_１－１２アルキレン基、または－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－である。

一の態様において、Ｒ^３は、それぞれ独立して、単結合である。

別の態様において、Ｒ^３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、好ましくは、Ｃ_１－１２アルキレン基、または－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－である。

Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－である。

一の態様において、Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、または－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－である。

別の態様において、Ｒ^４は、それぞれ独立して、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－である。

一の態様において、Ｒ^３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、または－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－であり、Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、または－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－である。

別の態様において、Ｒ^３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、または－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－であり、Ｒ^４は、それぞれ独立して、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－である。

上記Ｃ_１－１２アルキレン基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｃ_１－１２アルキレン基は、好ましくは、直鎖である。

上記Ｃ_１－１２アルキレン基は、好ましくはＣ_２－８アルキレン基、より好ましくはＣ_２－６アルキレン基である。

Ｒ^６は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基である。上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｃ_１－６アルキレン基は、好ましくは、直鎖である。

上記Ｃ_１－６アルキレン基は、好ましくはＣ_２－４アルキレン基、より好ましくはＣ_２－３アルキレン基である。

好ましい態様において、複数のＲ^６を含む基において、すべてのＲ^６は、同じ基である。

Ｒ^７は、それぞれ独立して、置換されていてもよいアリーレン基である。

一の態様において、Ｒ^７は、それぞれ独立して、
である。

一の態様において、Ｒ^７は、フェニレン基である。

別の態様において、Ｒ^７は、ナフチレン基である。

上記アリーレン基は、置換基を有していてもよい。置換基の数は、特に限定されず、例えば１～４個、好ましくは１または２個である。

一の態様において、上記フェニレン基およびナフチレン基は、置換基を有していてもよい。置換基の数は、特に限定されず、例えば１～４個、好ましくは１または２個である。置換されているフェニレン基としては、２，５－置換フェニレンが好ましい。

上記アリーレン基に関する置換基は、それぞれ独立して、－Ｒ^４１－Ｒ^４２である。

Ｒ^４１は、単結合、酸素原子、または硫黄原子であり、好ましくは単結合または酸素原子であり、より好ましくは酸素原子である。

Ｒ^４２は、ハロゲンにより置換されていてもよいＣ_１－１２アルキル基、－（Ｏ－Ｒ^４３）_ｐ、－Ｒ^４４－Ｒ^４５、－Ｒ^４４－ＯＲ^４６である。

上記ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素であり、好ましくはフッ素である。

Ｒ^４２におけるＣ_１－１２アルキル基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。

Ｒ^４３は、Ｃ_１－６アルキレン基、好ましくはＣ_２－４アルキレン基である。かかるアルキレン基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。

Ｒ^４４は、Ｃ_１－１２アルキレン基、好ましくはＣ_１－６アルキレン基である。かかるアルキレン基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。

Ｒ^４５は、－ＣＨ＝ＣＨ_２、または－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２である。

Ｒ^４６は、水素原子、またはＣ_１－６アルキル基である。かかるアルキル基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはＣ_１－２アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

Ｒ^８は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ_１－６アルキレン基である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい

一の態様において、Ｒ^８は、単結合である。

別の態様において、Ｒ^８は、Ｃ_１－６アルキレン基である。

Ｒ^９は、それぞれ独立して、単結合、または酸素原子である。

一の態様において、Ｒ^９は、単結合である。

別の態様において、Ｒ^９は、酸素原子である。

Ｒ^５は、それぞれ独立して、炭化水素基である。かかる炭化水素基は、置換されていてもよい。

Ｒ^５は、それぞれ独立して、好ましくは非置換炭化水素基、またはハロゲン原子により置換されている炭化水素基である。かかるハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。

Ｒ^５は、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－１８アルキル基またはアリール基、より好ましくはＣ_１－１８アルキル基またはアリール基である。

上記Ｃ_１－１８アルキル基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。Ｃ_１－１８アルキル基は、好ましくはＣ_１－１０アルキル基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－４アルキル基、さらにより好ましくはメチル基である。

上記アリール基は、好ましくはフェニル基である。

一の態様において、Ｒ^５は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－４アルキル基、より好ましくはメチル基である。

別の態様において、Ｒ^５は、フェニル基である。

別の態様において、Ｒ^５は、それぞれ独立して、メチル基またはフェニル基、好ましくはメチル基である。

ｘは、０～２００の整数、好ましくは０～１００の整数、より好ましくは１～１００の整数、さらに好ましくは５～５０の整数、さらにより好ましくは１０～３０の整数である。

一の態様において、ｘは０である。

一の態様において、ｘは１～２００、好ましくは１～１００の整数、より好ましくは５～５０の整数、さらに好ましくは１０～３０の整数である。

ｙは、０～２００の整数、好ましくは０～１００の整数、より好ましくは１～１００の整数、さらに好ましくは５～５０の整数、さらにより好ましくは１０～３０の整数である。

一の態様において、ｙは０である。

一の態様において、ｙは１～２００、好ましくは１～１００の整数、より好ましくは５～５０の整数、さらに好ましくは１０～３０の整数である。

ｚは、０～２００の整数、好ましくは０～１００の整数、より好ましくは１～１００の整数、さらに好ましくは５～５０の整数、さらにより好ましくは１０～３０の整数である。

一の態様において、ｚは０である。

一の態様において、ｚは１～２００、好ましくは１～１００の整数、より好ましくは５～５０の整数、さらに好ましくは１０～３０の整数である。

一の態様において、ｙは０であり、ｚは０である。

上記２価のシロキサン含有基は、ランダムポリマーであっても、ブロックポリマーであってもよい。

一の態様において、Ｘ^Ｂは、－（ＣＨ_２）_ｃ１１－（Ｏ（ＣＨ_２）_ｃ１２）_ｃ１３－で表される基である。

ｃ１１は０～２００の整数、ｃ１２は０～２００の整数、およびｃ１３は０～２００の整数である。但し、上記Ｘ^Ｂに含まれる炭素数は、０～２００の整数である。例えば、ｃ１２およびｃ１３は、それぞれ１以上の整数である。

例えば、ｃ１１は１～４の整数、ｃ１２は１～１０の整数、ｃ１３は１～１５０の整数である。

一の態様において、上記Ｘ^Ｂに含まれる炭素数は、１～１５０の整数である。

一の態様において、ｃ１１は０～２０の整数であり、ｃ１２は１～６の整数であり、ｃ１３は０～１５０の整数であり、好ましくは、ｃ１３は１～５０の整数であり、上記Ｘ^Ｂに含まれる炭素数は、１～１５０の整数である。

一の態様において、ｃ１１は１～３０の整数であり、ｃ１２は１～３の整数であり、ｃ１３は２～１５０の整数、例えば２～５０の整数である。

α１は、１～９の整数であり、α２は、１～９の整数である。これらα１およびα２は、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。α１およびα２の和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、α１およびα２の和は１０であり、例えばα１が９かつα２が１、α１が５かつα２が５、またはα１が１かつα２が９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の有機基である場合、α１およびα２は１である。

Ｘ^Ａは、単結合、酸素原子、または２～１０価の有機基である。なお、Ｘ^Ａは、左側がＲｆ^１に、右側がＲ^Ｓｉに、それぞれ結合する。

一の態様において、Ｘ^Ａに結合するＲｆ^１中の元素が酸素原子である場合、Ｒｆ^１に結合するＸ^Ａ中の元素は酸素ではない。

上記Ｘ^Ａは、Ｒｆ^１部と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｓｉ部）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ａは、式（１）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、酸素原子であってもよく、いずれの有機基であってもよい。

上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ａは、非置換である。

上記Ｘ^Ａにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ａは単結合である。

一の態様において、Ｘ^Ａは酸素原子である。

一の態様において、Ｘ^Ａは２～１０価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合または２価の有機基であり、α１およびα２は１である。

一の態様において、上記Ｘ^Ａは、２価の有機基であり、α１およびα２は１である。

一の態様において、Ｘ^Ａは３～６価の有機基であり、α１は１であり、α２は２～５である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、α１は１であり、α２は２である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、α１は２であり、α２は１である。

一の態様において、上記Ｘ^Ａは、単結合、－（Ｘ^５２）_ｌ５－、または式（Ｘ^Ａ１）：
で表される。

上記Ｘ^５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^５４ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－、および－（ＣＨ_２）_ｎ５－から選択される基である。

上記Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり、好ましくは水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）または炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基である。

上記ｎ５は、それぞれ独立して、１～２００の整数である。ｎ５は、例えば、１～３０の整数、具体的には１～２０の整数、さらに具体的には１～１５の整数、１～１０の整数、１～６の整数、例えば１～３の整数である。一の態様において、ｎ５は１０～２００の整数であり、例えば、１０～３０の整数である。一の態様において、ｎ５は１～９の整数である。一の態様において、ｎ５は１０～３０の整数である。一の態様において、ｎ５は１６～２６の整数である。

上記炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基は、－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン－を含む基であり、例えば、－Ｒ^５５－（－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン）_ｎ－Ｒ^５６（式中、Ｒ^５５は、単結合または２価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎは任意の整数、好ましくは２～１０の整数であり、Ｒ^５６は、水素原子または１価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキル基である。）である。上記アルキレン基は、直鎖であっても分岐鎖であってもよい。

上記Ｘ^ａは、イソシアヌル環に直接結合する単結合または２価の連結基である。Ｘ^ａとしては、単結合、アルキレン基、または、エーテル結合、エステル結合、アミド結合およびスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または、エーテル結合、エステル結合、アミド結合およびスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１～１０の２価の炭化水素基がより好ましい。上記Ｘ^ａは、左側がイソシアヌル環に結合する。

１～２のＸ^ａを有する基はＲｆ^１基と結合し、１～２のＸ^ａを有する基はＲ^Ｓｉ基と結合する。但し、Ｘ^ａを有する基の合計は３である。

上記Ｘ^ａとしては、下記式：
－（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１－（Ｘ^ａ１１）_ｙ１－（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１－
［式中、
Ｘ^１２１～Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、ＯＨ、または、－ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
Ｘ^ａ１１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＲ^１２２－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１２２－、－ＮＲ^１２２－Ｃ（＝Ｏ）－、またはＳであり（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合する。）、
Ｒ^１２２はＣ_１－６の炭化水素鎖、好ましくはＣ_１－６アルキル基であり、
ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０または１であり、ｚ１は１～１０の整数である。］
で表される基が更に好ましい。

上記Ｘ^ａ１１としては、－Ｏ－または－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－が好ましい。

上記Ｘ^ａとしては、下記式で表される基が好ましい。
－（ＣＨ_２）_ｍ１２－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ１３－
（式中、ｍ１２は１～１０の整数であり、ｍ１３は１～１０の整数である。）
－（ＣＨ_２）_ｍ１５－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ｍ１６－
（式中、ｍ１５は１～１０の整数であり、ｍ１６は１～１０の整数である。）
－（ＣＨ_２）_ｍ１８－
（式中、ｍ１８は１～１０の整数である。）
または
－（ＣＨ_２）_ｍ２０－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）－（ＣＨ_２）_ｍ２１－
（式中、ｍ２０は１～１０の整数であり、ｍ２１は１～１０の整数である。）

上記Ｘ^ａとして、特に限定されないが、－ＣＨ_２－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－Ｃ_３Ｈ_６－、－Ｃ_４Ｈ_８－、－Ｃ_４Ｈ_８－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－、－Ｓ－、－ＮＲ^１２１－、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ２３－、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｍ２３－、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１２１－（ＣＨ_２）_ｍ２３－、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－ＮＲ^１２１－Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｍ２３－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）ＣＨ_２－
（式中Ｒ^１２１は、Ｃ_１－６炭化水素鎖であり、ｍ２２は１～１０の整数であり、ｍ２３は１～１０の整数である。）
等が挙げられる。

上記Ｘ^Ａが、単結合、酸素原子または２価の有機基である場合、式（１）は下記式（１’）で表される。

上記Ｘ^Ａが、好ましくは、単結合、または２価の有機基である。

一の態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、－（Ｘ^５２）_ｌ５－Ｒ^５２－で表される。上記Ｒ^５２は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｔ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｔ５－である。上記ｔ５は、１～３０の整数、好ましくは２～２０の整数、より好ましくは２～１２、さらにより好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５２は、これらの基により置換されていない。

例えば、上記Ｘ^Ａとして、それぞれ独立して、
単結合、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｎ５－、
－（ＣＨ_２）_ｎ５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｎ５－、
－（ＣＨ_２）_ｎ５－ＣＯＮＲ^５４－、
－（ＣＨ_２）_ｎ５－、
－ＯＣ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｎ５－、
－（ＣＨ_２）_ｎ５－ＯＣ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｎ５－
－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ５－、
－（ＣＨ_２）_ｎ５－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ５－
－Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｎ５－、
－（ＣＨ_２）_ｎ５－Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｎ５－
を挙げることができる。

一の態様において、上記Ｘ^Ａとして、それぞれ独立して、
単結合、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｎ５－、
－ＯＣ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｎ５－、
－Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｎ５－、
を挙げることができる。

一の態様において、上記Ｘ^５２は、それぞれ独立して、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－、および－ＮＲ^５４－から選択される基である。

一の態様において、上記Ｘ^５２は、－（ＣＨ_２）_ｎ５－ＣＯＮＲ^５３－である。

一の態様において、上記Ｘ^Ａは、
－（ｐ－フェニレン）_ｖ１－（ＣＨ_２）_ｖ２－Ｒ^５７ _ｖ３－（ＣＨ_２）_ｖ４－
［式中：
Ｒ^５７は、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＯ－、又は－Ｏ－であり、
ｖ１は、０又は１であり、
ｖ２は、０～２０の整数であり、
ｖ３は、０又は１であり、
ｖ４は、２～２０の整数である。］
で表される化合物である。

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、
－（ｐ－フェニレン）_ｖ１－（ＣＨ_２）_ｖ２－Ｒ^５７ _ｖ３－（ＣＨ_２）_ｖ４－
［式中：
Ｒ^５７は、－ＮＨＣＯ－、又は－ＣＯＯ－であり、
ｖ１は、１であり、
ｖ２は、０～３の整数であり、
ｖ３は、１であり、
ｖ４は、８～１６の整数である。］
で表される化合物である。

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、
－（ＣＨ_２）_ｖ２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｖ４－
［式中：
ｖ２は、１０～２２の整数であり、
ｖ４は、１～３の整数である。］
で表される化合物である。

一の態様において、上記Ｘ^Ａは、
－（ＣＨ_２）_ｖ２－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｖ４－
［式中：
ｖ２は、１～３の整数であり、
ｖ４は、１０～２２の整数である。］
で表される化合物である。

一の態様において、上記Ｘ^Ａは、下記式で表される基が挙げられる。

Ｒ^Ｓｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

Ｒ^Ｓｉは、好ましくは、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）または（Ｓ５）で表される基である。

Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^１１は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^１２は、それぞれ独立して、１価の有機基である。但し、Ｒ^１２は、加水分解性基を含まない。

Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。但し、式（Ｓ１）において、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位が少なくとも２つ存在する。換言すれば、式（Ｓ１）において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

上記式中、Ｘ^１１は、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８およびＲ^２９は、それぞれ独立して、単結合またはＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０または１である。）である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。

一の態様において、Ｘ^１１は、それぞれ独立して、－Ｃ_１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－または－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－である。

好ましい態様において、Ｘ^１１は、それぞれ独立して、単結合または直鎖のＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合または直鎖のＣ_１－３アルキレン基、より好ましくは単結合または直鎖のＣ_１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１－２アルキレン基である。

Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。

好ましい態様において、Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子または直鎖のＣ_１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子または直鎖のＣ_１－３アルキル基、好ましくは水素原子またはメチル基である。

Ｒ^１５は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、Ｃ_１－６アルキレン基またはＣ_１－６アルキレンオキシ基である。

一の態様において、Ｒ^１５は、それぞれ独立して、酸素原子、Ｃ_１－６アルキレン基またはＣ_１－６アルキレンオキシ基である。

好ましい態様において、Ｒ^１５は、単結合である。

ｔは、それぞれ独立して、２以上の整数である。

好ましい態様において、ｔは、それぞれ独立して、２～１０の整数、好ましくは２～６の整数である。

Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。

一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。
［式中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、およびｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり、
ｔ１およびｔ２は、それぞれ独立して、１以上の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは２～１０の整数、例えば１～５の整数または２～５の整数であり、
ｔ１およびｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。
［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１およびｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］

好ましい態様において、式（Ｓ２）において、－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１のＳｉ原子はシロキサン結合を形成しない。

Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

上記Ｚ^１は、それぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１－３０アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ２は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ４は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）である。かかるＣ_１－３０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－３０アルキル基、Ｃ_２－３０アルケニル基、およびＣ_２－３０アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

上記Ｚ^１’は、それぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１－３０アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ２’は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ４’は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）である。かかるＣ_１－３０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－３０アルキル基、Ｃ_２－３０アルケニル基、およびＣ_２－３０アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－である。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

Ｚ^１”は、それぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１－３０アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ２”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ４”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）である。かかるＣ_１－３０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－３０アルキル基、Ｃ_２－３０アルケニル基、およびＣ_２－３０アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^２２”は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^２２’は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’およびｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

一の態様において、ｐ１’は、０である。

一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^２２は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^２３は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

一の態様において、ｐ１は、０である。

一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^ｂ１は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

式（Ｓ３）において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

好ましい態様において、式（Ｓ３）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、または－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ^１、Ｚ^１’、Ｚ^１”、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２２’、Ｒ^２３’、Ｒ^２２”、およびＲ^２３”は、上記と同意義である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２または３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２または３、好ましくは３である。

Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^２は、シロキサン結合を含まない。

Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１－３０アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～３０の整数、例えば１～２０６の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ６は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ８は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）である。かかるＣ_１－３０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－３０アルキル基、Ｃ_２－３０アルケニル基、およびＣ_２－３０アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^２’は、シロキサン結合を含まない。

Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１－３０アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ６’は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ８’は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）である。かかるＣ_１－３０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－３０アルキル基、Ｃ_２－３０アルケニル基、およびＣ_２－３０アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。

Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）に結合する。

一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^３は、シロキサン結合を含まない。

Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１－３０アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ６”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ８”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）である。かかるＣ_１－３０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－３０アルキル基、Ｃ_２－３０アルケニル基、およびＣ_２－３０アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^３４は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^３５は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ｓ４）の末端部分においては、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位が少なくとも２つ存在する。換言すれば、式（Ｓ４）の各末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基または－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１または０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

上記ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基または－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２－Ｈ（式中、ｓは、それぞれ独立して１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１または０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２およびｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

一の態様において、ｐ２は、０である。

一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。

一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

上記Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基または－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２－Ｈ（式中、ｓは、それぞれ独立して１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１または０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

上記ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２およびｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

一の態様において、ｎ２が１～３、好ましくは２または３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位は、式（Ｓ４）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２または３、好ましくは３であり、ｎ２は、２または３、好ましくは３である。

上記Ｒ^ｇ１およびＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２である。ここに、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^ａ１、Ｒ^ｂ２、Ｒ^ｃ１、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｆ１、ｎ１、ｋ１、ｌ１、ｍ１、ｋ２、ｌ２、およびｍ２は、上記と同意義である。

好ましい態様において、Ｒ^ｇ１およびＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。

上記Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^４として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）に結合する。

一の態様において、Ｚ^４は酸素原子である。

一の態様において、Ｚ^４は２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^４は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^４は、好ましくは、Ｃ_１－３０アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ６”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数であり、ｚ８”は、０～３０の整数、例えば１～２０の整数、０～６の整数又は１～６の整数である）である。かかるＣ_１－３０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－３０アルキル基、Ｃ_２－３０アルケニル基、およびＣ_２－３０アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^４がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^４は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

好ましい態様において、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）および（Ｓ５）は、シロキサン結合を含まない。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）、（Ｓ４）または（Ｓ５）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）、または（Ｓ４）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）、または（Ｓ５）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ１）は、式（Ｓ１－ｂ）で表される基である。好ましい態様において、式中、Ｒ^１３は、水素原子であり、Ｘ^１１は、単結合、または－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８およびＲ^２９は、それぞれ独立して、単結合またはＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０または１である。）であり、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ２）は、－ＳｉＲ^１１ _２Ｒ^１２、または－ＳｉＲ^１１ _３である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ３）は、－ＳｉＲ^ａ１ _２Ｒ^ｃ１、または－ＳｉＲ^ａ１ _３であり、Ｒ^ａ１は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、または、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｑ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ４）は、－ＣＲ^ｅ１ _２Ｒ^ｆ１、または－ＣＲ^ｅ１ _３であり、Ｒ^ｅ１は、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ２は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ５）で表される基である。好ましい態様において、Ｒ^ｇ１およびＲ^ｈ１は、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

上記式（１）で表される含フッ素シラン化合物は、特に限定されるものではないが、１×１０^２～１×１０^５の数平均分子量を有し得る。上記式（１）で表される含フッ素シラン化合物は、好ましくは１００～３０，０００、より好ましくは１００～１０，０００の数平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「数平均分子量」は、^１Ｈ－ＮＭＲにより測定される値とする。

式（１）で表される含フッ素シラン化合物としては、例えば、以下の構造のものを挙げることができる。

Ｒ^５３は、水素原子または１価の有機基である。例えば、水素原子、メチル基などが挙げられる。
Ｒ^Ｓｉは上記と同意義である。

式（Ｔ１）において、Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｋ１１－はＲｆ^１に、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^５３－Ｒ^ｋ１２－はＸ^Ａに、それぞれ該当する。
Ｒ^ｋ１１は、単結合またはＣ_１－３０アルキレン基（例えば、Ｃ_１－９アルキレン基）であり、例えば、単結合である。
Ｒ^ｋ１２は、単結合またはＣ_１－３０アルキレン基であり、例えば、Ｃ_１－１０アルキレン基である。

式（Ｔ２）において、Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｋ２１－はＲｆ^１に、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^５３－Ｒ^ｋ２２－はＸ^Ａに、それぞれ該当する。
Ｒ^ｋ２１は、単結合またはＣ_{１０－２００}アルキレン基であり、例えば、Ｃ_{１０－３０}アルキレン基である。
Ｒ^ｋ２２は、単結合またはＣ_{１－２００}アルキレン基であり、例えばＣ_１－１０アルキレン基である。

式（Ｔ３）において、Ｆ_３Ｃ－[（ＣＨ_２）_ｇ１－ＳｉＲ^ｓ _２Ｏ－（ＳｉＲ^ｓ _２Ｏ）_ｎ１１－ＳｉＲ^ｓ _２］－（ＣＨ_２）_ｇ１－はＲｆ^１に、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^５３－Ｒ^ｋ３３－はＸ^Ａに、それぞれ該当する。
ｇ１は、それぞれ独立して、０～３０の整数である。

Ｒ^ｋ３３は、単結合またはＣ_{１－２００}アルキレン基であり、例えばＣ_１－１０アルキレン基である。
但し、炭素数とｇ１の合計は０～２００である。
Ｒ^ｓ、ｎ１１は上記と同意義である。

式（Ｔ４）において、Ｆ_３Ｃ－（Ｒ^ｋ４１）_ｋ４１１－（ＯＲ^ｋ４２）_ｋ４１２－はＲｆ^１に、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^５３－Ｒ^ｋ４３－はＸ^Ａに、それぞれ該当する。
Ｒ^ｋ４１およびＲ^ｋ４２は、単結合またはアルキレン基である。
ｋ４１１は０または１である。
ｋ４１２は０～１５０の整数である。
但し、－（Ｒ^ｋ４１）_ｋ４１１－（ＯＲ^ｋ４２）_ｋ４１２－に含まれる炭素原子数は、１～１５０の整数である。
Ｒ^ｋ４３は、単結合またはＣ_１－３０アルキレン基（例えば、Ｃ_１－２０アルキレン基）であり、例えば、Ｃ_１－１０アルキレン基である。
Ｒ^ｋ４１は単結合またはＣ_１－３０アルキレン基（例えば、Ｃ_１－２０アルキレン基）であり、例えばメチレン基、エチレン基であり、ｋ４１１は１であり、Ｒ^ｋ４２はＣ_１－６アルキレン基であり、例えばエチレン基であり、ｋ４１２は１～５０の整数である。

式（Ｔ５）において、Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｋ５１－はＲｆ^１に、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ^５３－Ｒ^ｋ５２－はＸ^Ａに、それぞれ該当する。
Ｒ^ｋ５１は、単結合またはＣ_{１－２００}アルキレン基であり、例えば、単結合またはＣ_１－３０アルキレン基である。
Ｒ^ｋ５２は、単結合またはＣ_{１－２００}アルキレン基であり、例えば、Ｃ_{１０－３０}アルキレン基である。

式（Ｔ６）において、Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｋ６１－はＲｆ^１に該当する。
Ｒ^ｋ６１は、Ｃ_{１－２００}アルキレン基であり、例えば、Ｃ_１－３０アルキレン基である。

式（Ｔ７）において、Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｋ７１－Ｏ－Ｒ^ｋ７２－はＲｆ^１に該当する。
Ｒ^ｋ７１およびＲ^ｋ７２は、それぞれ独立して、単結合またはＣ_{１－２００}アルキレン基である。但し、Ｒ^ｋ７１とＲ^ｋ７２との合計炭素原子数は０～２００の整数である。例えば、Ｒ^ｋ７１およびＲ^ｋ７２は、それぞれ独立して、単結合またはＣ_１－３０アルキレン基である。

式（１）で表される含フッ素シラン化合物は、好ましくは、
Ｒｆ^１は、Ｒ^Ａ１－Ｘ^Ｂ－であり、
Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３－又はＣＦ_３Ｏ－であり、
Ｘ^Ｂは、単結合であり、
Ｘ^Ａは、－（ｐ－フェニレン）_ｖ１－（ＣＨ_２）_ｖ２－Ｒ^５７ _ｖ３－（ＣＨ_２）_ｖ４－であり、
Ｒ^５７は、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＯ－、又は－Ｏ－であり、
ｖ１は、０又は１であり、
ｖ２は、０～２０の整数であり、
ｖ３は、０又は１であり、
ｖ４は、２～２０の整数であり、
Ｒ^Ｓｉは、－ＳｉＲ^１１ _３であり、
Ｒ^１１は、メトキシ基であり、
α１は、１であり、
α２は、１である、
含フッ素シラン化合物である。

式（１）で表される含フッ素シラン化合物としては、具体的には、以下の構造のものを挙げることができる。

［製造方法］
以下、本開示の含フッ素シラン化合物の製造方法を説明する。なお、本開示の含フッ素シラン化合物の製造方法は、以下の方法に限定されない。

Ｆ_３Ｃ－（トリフルオロメチル基）を含む基の製造方法としては、Ｆ_３Ｃ－を有する化合物から誘導する方法と、官能基をフッ素化して導入する方法とがある。

（製造方法１）
本製造方法は、以下の工程を含む。
工程（Ｉ）：化合物（１１）：Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｊ１１１－ＮＨ_２を原料として用い、イソシアネート化合物（１２）：Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－Ｒ^ｊ１１２－Ｒ^Ｓｉと混合し、含フッ素シラン化合物（１３）を製造する。

Ｒ^ｊ１１１は、単結合、アルキレン基、またはエーテル結合を含むアルキレン基である。Ｒ^ｊ１１１は、例えば、単結合、Ｃ_１－３０アルキレン基、具体的にはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、またはエイコサデシレン基、あるいは、上記基の左端にＯ原子を有する基である。
化合物（１１）としては、具体的には２，２，２－トリフルオロエチルアミン、３，３，３－トリフルオロプロピルアミンなどを挙げることができる。
Ｒ^ｊ１１２は、単結合またはアルキレン基であり、例えば、アルキレン基、具体的にはＣ_１－３０アルキレン基である。
イソシアネート化合物（１２）としては、具体的にはイソシアン酸３－（トリメトキシシリル）プロピルなどを挙げることができる。
Ｒ^Ｓｉは、上記と同意義である。例えば、Ｒ^Ｓｉは式（Ｓ２）で表される。

上記反応は、溶媒中で行い得る。上記溶媒は、化合物（１１）～化合物（１３）を溶解できるものであることが好ましい。上記溶媒は、１種のみで用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

上記溶媒は、例えば、非フッ素系溶媒、または、フッ素系溶媒である。

非フッ素系溶媒としては、例えば、Ｓ原子含有溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、含ハロゲン系溶媒、炭化水素系溶媒を挙げることができる。

Ｓ原子含有溶媒としては、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルスルフィド、二硫化炭素等を挙げることができる。
アミド系溶媒としては、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙げることができる。
エステル系溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等を挙げることができる。
ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等を挙げることができる。
エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、エチレングリコール、モノグリム、ジグライム等を挙げることができる。
含ハロゲン系溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等を挙げることができる。
炭化水素系溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等を挙げることができる。

フッ素系溶媒は、１以上のフッ素原子を含む溶媒である。フッ素系溶媒としては、例えば、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン等の、炭化水素の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子により置換された化合物；ハイドロフルオロエーテル等を挙げることができる。ここで、炭化水素とは、炭素原子と水素原子のみを含む化合物を示す。

ハイドロフルオロカーボンとしては、例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、具体的には１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（ｍ－ＸＨＦ）、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）等を挙げることができる。

ハイドロクロロフルオロカーボンとしては、例えば、ＨＣＦＣ－２２５（例えば、ＡＧＣ株式会社製のアサヒクリンＡＫ－２２５）、ＨＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）（例えば、セントラル硝子株式会社製のセレフィン１２３３Ｚ）等を挙げることができる。

パーフルオロカーボンとしては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン、パーフルオロベンゼン等を挙げることができる。

ハイドロフルオロエーテルとしては、例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）等のアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は、直鎖、または、分枝状であってよい）；ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）等を挙げることができる。

フッ素系溶媒は、上記列挙のなかではｍ－ＸＨＦ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＡＣ－６０００、パーフルオロヘキサン、および、パーフロベンゼンが好ましい。

溶媒は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、エチレングリコール、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、および１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンからなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、および１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンからなる群より選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。

上記反応温度は、特に限定されない。例えば、反応温度は、０～１００℃、０～５０℃、０～３０℃であってもよい。

（製造方法２）
本製造方法では、末端にＣＦ_３を有するカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）含有化合物に、オレフィン（－ＣＨ＝ＣＨ_２）含有アミン化合物を反応させることにより、オレフィン含有アミド化合物を製造し、このオレフィン含有アミド化合物から、本開示の含フッ素シラン化合物を合成できる。例えば、末端にオレフィンを含有するアミド化合物に下記式：
ＨＳｉＲ^ｊ２７ _ｍ３Ｒ^ｊ２８ _３－ｍ３
［式中、
Ｒ^ｊ２７は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
Ｒ^ｊ２８は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍ３は、１～３である。］
で表される化合物と反応させることにより、含フッ素シラン化合物を得ることができる。上記１価の有機基は、加水分解性基を含まない。

オレフィン含有アミン化合物は、Ｈ_２Ｎ－と－ＣＨ＝ＣＨ_２とを有する化合物であり、例えば、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_ｘ３１Ｑ（（ＣＨ_２）_ｘ３２ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｘ３３Ｒ^ｘ３ _ｘ３４（式中：ｘ３１は０～３０の整数、ｘ３２は０～６の整数、ｘ３３は１以上の整数、ｘ３４は０以上の整数、ｘ３３およびｘ３４の合計はＱの価数－１、Ｑは、Ｎ、ＳｉまたはＣ、Ｒ^ｘ３は水素原子、水酸基、または１価の有機基）である。
オレフィン含有アミン化合物としては、例えば、アリルアミン、ジアリルアミン、２－アリルペント－４－エン－１－アミン（Ｈ_２ＮＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２）、２，２－ジアリルペント－４－エン－１－アミン（Ｈ_２Ｎ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３）、３－ブテン－１－アミン、４－ペンテン－１－アミン、５－ヘキセン－１－アミン、６－ヘプテン－１－アミン、７－オクテン－１－アミン、８－ノネン－１－アミン、９－デケン－１－アミン、１０－ウンデケン－１－アミン、１１－ドデケン－１－アミン、１２－トリデケン－１－アミン、１３－テトラデケン－１－アミン、１４－ペンタデケン－１－アミン、１５－ヘキサデケン－１－アミン、１６－ヘプタデケン－１－アミン、１７－オクタデケン－１－アミン、１８－ノナデケン－１－アミン、１９－イコセン－１－アミン、２０－ヘンイコセン－１－アミン、２３－テトラコセン－１－アミン、２９－トリアコンテン－１－アミンなどが挙げられる。

カルボニル基含有化合物は、Ｆ_３Ｃ－と、Ｃ（＝Ｏ）基とを含む化合物である。カルボニル基含有化合物としては、後述する合成方法で得られた化合物、または、式（２１）：
で表される化合物を挙げることができる。

式（２１）において、Ｒ^ｊ１３は、単結合、アルキレン基、またはエーテル結合を含むアルキレン基であり、例えば単結合であり；Ｒ^ｊ１４は、水酸基、フッ素原子、塩素原子、または－Ｏ－低級アルキル基（即ち、アルコキシド基）であり、例えば、水素原子、メトキシド基、エトキシド基、具体的には水素原子またはメトキシド基である。
式（２１）の化合物としては、具体的にはトリフルオロ酢酸、３、３、３－トリフルオロプロピオン酸、４，４，４－トリフルオロ酪酸、５，５，５－トリフルオロ吉草酸、６，６，６－トリフルオロカプロン酸、７，７，７－トリフルオロヘプタン酸、８，８，８－トリフルオロオクタン酸、９，９，９－トリフルオロノナン酸、１０，１０，１０－トリフルオロデカン酸、１２，１２，１２－トリフルオロラウリン酸、１４，１４，１４－トリフルオロミリスチン酸、１６，１６，１６－トリフルオロ－パルミチン酸、１７，１７，１７－トリフルオロ－マルガリン酸、１８，１８，１８－トリフルオロステアリン酸などのカルボキシル基を末端に有する化合物、および対応するメチルエステル、対応するエチルエステル、酸クロライドなどを挙げることができる。

カルボニル基含有化合物が酸クロライド（Ｃ（＝Ｏ）Ｃｌ）を有する場合には、トリアルキルアミン存在下で、オレフィン含有アミン化合物と反応させることにより、オレフィン含有アミド化合物を得ることができる。トリアルキルアミンとしては、例えばトリエチルアミンなどを挙げることができる。

カルボニル基含有化合物がカルボン酸を有する場合には、縮合剤と反応させることにより、オレフィン含有アミド化合物を得ることができる。
縮合剤としては、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（ＥＤＣ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ・ＨＣｌ）、Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、１－［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］－１Ｈ－１，２，３－トリアゾロ［４，５－ｂ］ピリジニウム３－オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＡＴＵ）、１－［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］－１Ｈ－ベンゾトリアゾリウム３－オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＢＴＵ）、１－［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］－１Ｈ－１，２，３－トリアゾロ［４，５－ｂ］ピリジニウム３－オキシドテトラフルオロボラート（ＴＡＴＵ）、１－［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］－１Ｈ－ベンゾトリアゾリウム３－オキシドテトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、（１－シアノ－２－エトキシ－２－オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノモルホリノカルベニウムヘキサフルオロホスファート（ＣＯＭＵ）、Ｏ－［（エトキシカルボニル）シアノメチレンアミノ］－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＯＴＵ）、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＢＯＰ）、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＢＯＰ）、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＢｒｏＰ）、ジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰＡ）、４－（４，６－ジメトキシ－１，３，５－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホリニウムクロリド（ＤＭＴ－ＭＭ）、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、１－ヒドロキシ－７－アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）を用いることが好ましく、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩、Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド、１－ヒドロキシベンゾトリアゾールを用いることが好ましい。更に、触媒として４－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）などを添加してもよい。

カルボニル基含有化合物がエステルを有する場合には、塩基存在下で反応させることにより、オレフィン含有アミド化合物を得ることができる。
塩基としては、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン（ＴＢＤ）、１，２，４－トリアゾール，１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン（ＤＢＵ）、ナトリウムメトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシドを用いることが好ましく、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを用いることがより好ましい。

上記反応温度は、特に限定されない。例えば、反応温度は、０～１５０℃、０～１００℃、０～５０℃であってもよい。
溶媒は、製造方法１と同様のものを用いることができる。好ましくは、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランである。また、反応は無溶媒で実施してもよい。

（製造方法３）
本製造方法では、オレフィン基含有化合物を原料として用い、含フッ素シラン化合物を製造する。
オレフィン基含有化合物は、Ｆ_３Ｃ－とオレフィン基（－ＣＨ＝ＣＨ_２）とを有する化合物である。オレフィン基含有化合物としては、後述する合成方法で得られる化合物を挙げることができる。
オレフィン基含有化合物としては、例えば３，３，３－トリフルオロプロペン、４，４，４－トリフルオロ－１－ブテン、５，５，５－トリフルオロ－１－ペンテン、６，６，６－トリフルオロ－１－ヘキセン、７，７，７－トリフルオロ－１－ヘプテン、８，８，８－トリフルオロ－１－オクテン、９，９，９－トリフルオロ－１－ノネン、１０，１０，１０－トリフルオロ－１－デケン、１１，１１，１１－トリフルオロ－１－ウンデケン、１２，１２，１２－トリフルオロ－１－ドデケン、１３，１３，１３－トリフルオロ－１－トリデケン、１４，１４，１４－トリフルオロ－１－テトラデケン、１５，１５，１５－トリフルオロ－１－ペンタデケン、１６，１６，１６－トリフルオロ－１－ヘキサデケン、１７，１７，１７－トリフルオロ－１－ヘプタデケン、１８，１８，１８－トリフルオロ－１－オクタデケン、１９，１９，１９－トリフルオロ－１－ノナデケン、２０，２０，２０－トリフルオロ－１－イコセン、２１，２１，２１－トリフルオロ－１－ヘンイコセン、２４，２４，２４－トリフルオロ－１－テトラコセン、３０，３０，３０－トリフルオロ－１－トリアコンテンなどが挙げられる。

例えば、オレフィン基に、ＨＳｉＭ_３（Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１－６アルコキシ基）を反応させ、更に得られた化合物に、
式：Ｈａｌ－Ｊ－ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｒ^ｃ _ｈ’Ｌ（式中、Ｒ^ｃは上記と同意義であり、Ｌは、Ｒ^ｃと結合可能な基を表し、ｈ’は１～３の整数である。）
で表される化合物と反応させて、以下の化合物：
（－Ｒ^ｊ２１－ＣＨ_２ＣＨ_２－は、Ｘ^Ｂに該当する。例えば、－Ｒ^ｊ２１－ＣＨ_２ＣＨ_２－は、アルキレン基、またはエーテル結合を含むアルキレン基、例えば、Ｃ_１－３０アルキレン基、またはエーテル結合を含むＣ_１－３０アルキレン基、具体的にはＣ_{１０－２５}アルキレン基、またはエーテル結合を含むＣ_{１０－２５}アルキレン基である）を得ること；および
上記化合物を、ＨＳｉＭ_３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ_１－６アルコキシ基である）、および、所望により
式：Ｒ^２３ _ｉ’Ｌ’（式中、Ｒ^２３は上記と同意義であり、Ｌ’は、Ｒ^２３と結合可能な基を表し、ｉ’は１～３の整数である。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｒ^２４ _ｊ’Ｌ”（式中、Ｒ^２４は上記と同意義であり、Ｌ”は、Ｒ^２４と結合可能な基を表し、ｊ’は１～３の整数である。）
で表される化合物と反応させること、
を含む方法により、式：
Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｊ２２－Ｒ^Ｓｉ
（Ｒ^ｊ２２は、２価の有機基であり、－Ｒ^ｊ２１－ＣＨ_２ＣＨ_２－に該当する。Ｒ^Ｓｉは上記と同意義である。）
を製造することができる。なお、上記記載は他のオレフィン基含有化合物にも適用できる。

（製造方法４）
本製造方法では、カルボニル基含有化合物にアミン含有シラン化合物を反応させることにより、含フッ素シラン化合物を製造する。

カルボニル基含有化合物は、Ｆ_３Ｃ－とＣ（＝Ｏ）とを含む化合物である。カルボニル基含有化合物としては、後述する合成方法で得られた化合物、または、式（２１）：
で表される化合物を挙げることができる。Ｒ^ｊ１３およびＲ^ｊ１４は上記と同意義である。

アミン含有シラン化合物は、Ｈ_２Ｎ－基とＲ^Ｓｉ基とを有する化合物である。アミン含有シラン化合物としては、例えば、Ｈ_２Ｎ－Ｒ^ｊ２３－Ｒ^Ｓｉを挙げることができ、具体的にはアミノプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。上記Ｒ^ｊ２３は、アルキレン基、例えば、Ｃ_１－４アルキレン基、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基であり；上記Ｒ^Ｓｉは、上記と同意義であり、例えば、Ｒ^Ｓｉは式（Ｓ２）で表される。

含フッ素シラン化合物は、例えば、Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｊ２４－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＲ^ｊ２３－Ｒ^Ｓｉである。上記Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｊ２４－は、Ｒｆ^１－に該当する。Ｒ^ｊ２４は、アルキレン基、例えば、Ｃ_１－４アルキレン基、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、あるいは、上記基の左端にＯを有する基である。

反応温度は０℃～１５０℃が好ましく、２０℃～１００℃がより好ましい。
溶媒は、製造方法１と同様のものを用いることができ、好ましくはトルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノールを用いることができる。

（製造方法５）
本製造方法では、オレフィン基含有化合物を反応させることにより、含フッ素シラン化合物を製造する。
具体的には、オレフィン基含有化合物に下記式：
ＨＳｉＲ^ｊ２５ _ｍ３Ｒ^ｊ２６ _３－ｍ３
［式中、
Ｒ^ｊ２５は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
Ｒ^ｊ２６は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍ３は、１～３である。］
で表される化合物を反応させることにより、含フッ素シラン化合物を得ることができる。なお、上記記載は他のオレフィン基含有化合物にも適用できる。

オレフィン基含有化合物は、Ｆ_３Ｃ－とオレフィン基とを有する化合物である。オレフィン基含有化合物としては、後述する合成方法で得られた化合物を挙げることができる。

反応温度は－２０℃～１５０℃が好ましく、０℃～１００℃がより好ましい。
溶媒は、製造方法１と同様のものを用いることができ、好ましくはトルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルを用いることができる。

（合成方法１）
本方法では、Ｆ_３Ｃ－を含む基と水酸基とを有する化合物（３１）：Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｊ３３－ＯＨを原料として用い、カルボニル基含有化合物を合成する。
Ｒ^ｊ３３は、アルキレン基、またはエーテル結合を含むアルキレン基、例えば、Ｃ_１－３０アルキレン基、またはエーテル結合を含むＣ_１－３０アルキレン基である。
化合物（３１）としては、具体的には、トリフルオロエタノール、トリフルオロプロパノール、トリフルオロブタノールなどを挙げることができる。

化合物（３１）の水酸基を、常法により－ＯＴｆ（Ｔｆはトリフルオロメチルスルホニル基）へと変換することで、化合物（３２）：Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｊ３３－ＯＴｆが得られる。

本方法は、以下の工程（Ｉ’）を含む。
（Ｉ’）：上記化合物（３２）と反応基を有する化合物（３３）とを混合し、カルボニル基含有化合物（３４）を得る。

ここで、反応基としては、水酸基、カルボキシル基、Ｃｌ、Ｆ、カルボキシル基をエステル化したエステル基を挙げることができる。
反応基を有する化合物（３３）としては、具体的には、９－ヒドロキシ－４，７－ジオキサノナン酸ｔｅｒｔ－ブチル、１２－ヒドロキシ－４，７，１０－トリオキサドデカン酸 ｔｅｒｔ－ブチル、１－ヒドロキシ－３，６，９，１２－テトラオキサペンタデカン－１５－酸 ｔｅｒｔ－ブチル等の水酸基を末端に有する化合物；１０－ヒドロキシデカン酸、１１－ヒドロキシウンデカン酸、１２－ヒドロキシドデカン酸、１３－ヒドロキシトリデカン酸、１４－ヒドロキシテトラデカン酸、１５－ヒドロキシペンタデカン酸、１６－ヒドロキシヘキサデカン酸、１７－ヒドロキシヘプタデカン酸、１８－ヒドロキシオクタデカン酸、１９－ヒドロキシノナデカン酸、２０－ヒドロキシエイコサン酸、２１－ヒドロキシヘンエイコサン酸、２２－ヒドロキシドコサン酸、２３－ヒドロキシトリコサン酸、２４－ヒドロキシテトラコサン酸、２５－ヒドロキシペンタコサン酸、３０－ヒドロキシトリアコンタン酸等のカルボキシル基を末端に有する化合物、およびそのメチルエステル、酸クロライドなどを挙げることができる。

Ｒ^ｊ３１は、２価の有機基であり、例えば、ポリエーテル基を有する基またはアルキレン基、具体的には、－（Ｒ^ｊ３５Ｏ）_ｎ－Ｒ^ｊ３６－基またはＣ_１－３０アルキレン基である。
上記Ｒ^ｊ３５はＣ_１－３アルキレン基、例えばエチレン基、上記Ｒ^ｊ３６はＣ_１－３アルキレン基、例えばエチレン基である。
上記ｎは、２～１５０の整数、例えば、２～５０の整数である。
Ｒ^ｊ３２は、低級アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であり、具体的にはメチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基である。

上記反応温度は、特に限定されない。例えば、反応温度は、－８０～２００℃、例えば－５０～１００℃、具体的には－２０～５０℃で行い得る。
溶媒は、製造方法１と同様のものを用いることができる。

（合成方法２）
本方法では、Ｆ_３Ｃ－を含む基と水酸基とを有する化合物（３１）：Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｊ３３－ＯＨを原料として用い、オレフィン含有化合物を合成する。各符号は上記と同意義である。

化合物（３１）の水酸基を、常法により－ＯＴｆ（Ｔｆはトリフルオロメチルスルホニル基）へと変換し、化合物（３２）：Ｆ_３Ｃ－Ｒ^ｊ３３－ＯＴｆを製造する。

本方法は、以下の工程（Ｉ’）を含む。
（Ｉ’）：上記化合物（３２）と反応基を有する化合物（３５）：ＨＯ－Ｒ^ｊ３１－ＣＨ＝ＣＨ_２とを混合し、オレフィン含有化合物（３６）を得る。

Ｒ^ｊ３３およびＲ^ｊ３１は上記と同意義である。
反応温度、および溶媒は、製造方法２と同意義である。

（合成方法３）
本方法では、ハロジフルオロ酢酸メチルと末端にハロゲン原子を有する化合物（４１）：Ｘ－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｒ^ｊ４１（式中、Ｒ^ｊ４１は、ＣＨ＝ＣＨ_２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ^ｊ４２、またはＣＯＲ^ｊ４３、Ｒ^ｊ４２は、Ｃ_１－６アルキル基であり、Ｒ^ｊ４３は、ハロゲン原子、好ましくは塩素原子であり、Ｘは、ハロゲン原子、好ましくは臭素原子であり、ｎは、任意の整数である。）をヨウ化銅などの銅塩と、フッ化カリウムなどのフッ化物イオンの存在下で反応させ、ＣＦ_３－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｒ^ｊ４１を合成する。ハロジフルオロ酢酸メチルとしては、具体的にはクロロジフルオロ酢酸メチル、ブロモジフルオロ酢酸メチル、ジフルオロヨード酢酸メチルなどが挙げられる。末端にハロゲン原子を有するオレフィン化合物（４１）を用いることによりＲ^ｊ４１がＣＨ＝ＣＨ_２である化合物を得ることができる。末端にハロゲン原子を有するオレフィン化合物（４１）としては、具体的には塩化アリル、臭化アリル、ヨウ化アリルなどが挙げられる。

（合成方法４）
本方法では、ジフルオロ(フルオロスルホニル)酢酸メチルと末端にハロゲン原子を有するオレフィン化合物（４１）：Ｘ－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｒ^ｊ４１（式中、Ｒ^ｊ４１は、ＣＨ＝ＣＨ_２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ^ｊ４２、またはＣＯＲ^ｊ４３、Ｒ^ｊ４２は、Ｃ_１－６アルキル基であり、Ｒ^ｊ４３は、ハロゲン原子、好ましくは塩素原子であり、Ｘは、ハロゲン原子、好ましくは臭素原子であり、ｎは、任意の整数である。）をヨウ化銅などの銅塩の存在下で反応させ、ＣＦ_３－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｒ^ｊ４１を合成する。末端にハロゲン原子を有するオレフィン化合物（４１）を用いることによりＲ^ｊ４１がＣＨ＝ＣＨ_２である化合物を得ることができる。末端にハロゲン原子を有するオレフィン化合物（４１）としては、具体的には塩化アリル、臭化アリル、ヨウ化アリルなどが挙げられる。

（合成方法５）
本方法では、（トリフルオロメチル）トリメチルシランと末端に官能基を有するアルデヒドを、テトラブチルアンモニウムフルオリドなどフッ化物イオン存在下で反応させ、ＣＦ_３－ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ_２）_ｎ－Ｒ^ｊ４１（式中、Ｒ^ｊ４１は、ＣＨ＝ＣＨ_２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ^ｊ４２、またはＣＯＲ^ｊ４３、Ｒ^ｊ４２は、Ｃ_１－６アルキル基であり、Ｒ^ｊ４３は、ハロゲン原子、好ましくは塩素原子であり、Ｘは、ハロゲン原子、好ましくは臭素原子であり、ｎは、任意の整数である。）を合成し、水酸基を酸化することでＣＦ_３－Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ_２）_ｎ－Ｒ^ｊ４１を合成する。末端にオレフィンを有するアルデヒドを用いることによりＲ^ｊ４１がＣＨ＝ＣＨ_２である化合物を得ることができる。末端オレフィンを有するアルデヒドとしては、具体的には２－プロペナール、３－ブテナール、４－ペンテナール、５－ヘキセナール、６－ヘプテナール、７－オクテナール、８－ノネナール、９－デセナール、１０－ウンデセナール、１１－ドデセナール、１２－トリデセナール、１３－テトラデセナール、１４－ペンタデセナール、１５－ヘキサデセナール、１６－ヘプタデセナール、１７－オクタデセナール、１８－ノナデセナール、１９－イコセナール、２０－ヘンイコセナール、２３－テトラコセナール、２９－トリアコンテナールなどが挙げられる。水酸基の酸化剤としては１，１，１－トリアセトキシ－１，１－ジヒドロ－１，２－ベンズヨードキソール―３（１Ｈ）－オンなどが挙げられる。

（合成方法６）
本方法では、末端にハロゲンを有するカルボン酸またはエステルに対して、フッ化カリウムなどのフッ化物イオン存在下でチオホスゲンを反応させることでＣＦ_３－Ｓ－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ｊ５１を合成する。（式中、Ｒ^ｊ５１は、水素原子、またはＣ_１－４アルキル基である。）末端にハロゲンを有するエステルとしては、具体的には１０－ブロモデカン酸メチル、１１－ブロモウンデカン酸メチル、１２－ブロモドデカン酸メチル、１３－ブロモトリデカン酸メチル、１４－ブロモテトラデカン酸メチル、１５－ブロモペンタデカン酸メチル、１６－ブロモヘキサデカン酸メチル、１７－ブロモヘプタデカン酸メチル、１８－ブロモオクタデカン酸メチル、１９－ブロモノナデカン酸メチル、２０－ブロモエイコサン酸メチル、２１－ブロモヘンエイコサン酸メチル、２２－ブロモドコサン酸メチル、２３－ブロモトリコサン酸メチル、２４－ブロモテトラコサン酸メチル、２５－ブロモペンタコサン酸メチル、３０－ブロモトリアコンタン酸メチル、１０－ブロモデカン酸エチル、１１－ブロモウンデカン酸エチル、１２－ブロモドデカン酸エチル、１３－ブロモトリデカン酸エチル、１４－ブロモテトラデカン酸エチル、１５－ブロモペンタデカン酸エチル、１６－ブロモヘキサデカン酸エチル、１７－ブロモヘプタデカン酸エチル、１８－ブロモオクタデカン酸エチル、１９－ブロモノナデカン酸エチル、２０－ブロモエイコサン酸エチル、２１－ブロモヘンエイコサン酸エチル、２２－ブロモドコサン酸エチル、２３－ブロモトリコサン酸エチル、２４－ブロモテトラコサン酸エチル、２５－ブロモペンタコサン酸エチル、３０－ブロモトリアコンタン酸エチルなどを挙げることができる。

（合成方法７）
本方法では、末端にハロゲンを有するオレフィンに対して、フッ化カリウムなどのフッ化物イオン存在下でチオホスゲンを反応させることでＣＦ_３－Ｓ－（ＣＨ_２）_ｎ－ＣＨ＝ＣＨ_２を合成する。末端にハロゲンを有するオレフィンとしては、具体的には１１－ブロモウンデセン、１２－ブロモドデセン、１３－ブロモトリデセン、１４－ブロモテトラデセン、１５－ブロモペンタデセン、１６－ヘキサデセン、１７－ヘプタデセン、１８－ブロモオクタデセン、１９－ブロモノナデセン、２０－ブロモイコセン、２１－ブロモヘンイコセン、２４－ブロモテトラコセン、３０－ブロモトリアコンテンなどを挙げることができる。

（合成方法８）
本方法ではハロゲンを有するカルボン酸またはエステルに対して、［（ＣＨ_３）_４Ｎ］^＋［Ｎ（ＣＦ_３）_２］を反応させることで（ＣＦ_３）_２Ｎ－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ｊ５１を合成する。（式中、Ｒ^ｊ５１は、水素原子、またはＣ_１－４アルキル基である。）末端にハロゲンを有するエステルとしては、具体的には１０－ブロモデカン酸メチル、１１－ブロモウンデカン酸メチル、１２－ブロモドデカン酸メチル、１３－ブロモトリデカン酸メチル、１４－ブロモテトラデカン酸メチル、１５－ブロモペンタデカン酸メチル、１６－ブロモヘキサデカン酸メチル、１７－ブロモヘプタデカン酸メチル、１８－ブロモオクタデカン酸メチル、１９－ブロモノナデカン酸メチル、２０－ブロモエイコサン酸メチル、２１－ブロモヘンエイコサン酸メチル、２２－ブロモドコサン酸メチル、２３－ブロモトリコサン酸メチル、２４－ブロモテトラコサン酸メチル、２５－ブロモペンタコサン酸メチル、３０－ブロモトリアコンタン酸メチル、１０－ブロモデカン酸エチル、１１－ブロモウンデカン酸エチル、１２－ブロモドデカン酸エチル、１３－ブロモトリデカン酸エチル、１４－ブロモテトラデカン酸エチル、１５－ブロモペンタデカン酸エチル、１６－ブロモヘキサデカン酸エチル、１７－ブロモヘプタデカン酸エチル、１８－ブロモオクタデカン酸エチル、１９－ブロモノナデカン酸エチル、２０－ブロモエイコサン酸エチル、２１－ブロモヘンエイコサン酸エチル、２２－ブロモドコサン酸エチル、２３－ブロモトリコサン酸エチル、２４－ブロモテトラコサン酸エチル、２５－ブロモペンタコサン酸エチル、３０－ブロモトリアコンタン酸エチルなどを挙げることができる。

（合成方法９）
本方法では末端にハロゲンを有するオレフィンに対して、［（ＣＨ_３）_４Ｎ］^＋［Ｎ（ＣＦ_３）_２］を反応させることで（ＣＦ_３）_２Ｎ－（ＣＨ_２）_ｎ－ＣＨ＝ＣＨ_２を合成する。末端にハロゲンを有するオレフィンとしては、具体的には１１－ブロモウンデセン、１２－ブロモドデセン、１３－ブロモトリデセン、１４－ブロモテトラデセン、１５－ブロモペンタデセン、１６－ヘキサデセン、１７－ヘプタデセン、１８－ブロモオクタデセン、１９－ブロモノナデセン、２０－ブロモイコセン、２１－ブロモヘンイコセン、２４－ブロモテトラコセン、３０－ブロモトリアコンテンなどを挙げることができる。

（合成方法１０）
本方法では水酸基とカルボニル基を有する化合物（１０１）：ＨＯ－Ｒ^ｊ３３－ＣＯＯＲ^ｊ３２を原料として用い、トリフルオロメトキシ基含有化合物を合成する。
Ｒ^ｊ３３は、アルキレン基、例えば、Ｃ_１－３０アルキレン基である。
化合物（１０１）としては、具体的には、３－ヒドロキシプロピオン酸、４－ヒドロキシ酪酸、５－ヒドロキシ吉草酸、６－ヒドロキシヘキサン酸、７－ヒドロキシヘプタン酸、８－ヒドロキシオクタン酸、９－ヒドロキシノナン酸、１０－ヒドロキシデカン酸、１２－ヒドロキシラウリン酸、１４－ヒドロキシミリスチン酸、１６－ヒドロキシパルミチン酸、１７－ヒドロキシヘプタデカン酸、１８－ヒドロキシステアリン酸、２０－ヒドロキシエイコサン酸、２１－ヒドロキシヘンエイコサン酸、２２－ヒドロキシドコサン酸、２３－ヒドロキシトリコサン酸、２４－ヒドロキシテトラコサン酸、２５－ヒドロキシペンタコサン酸、３０－ヒドロキシトリアコンタン酸等のカルボキシル基を末端に有する化合物、およびそのメチルエステル、酸クロライドなどを挙げることができる。

化合物（１０１）の水酸基に、水素化ナトリウムなどの塩基存在下で二硫化炭素を作用させ、ヨードメタンを加えることで、キサントゲン酸エステル（１０２）：Ｈ_３ＣＳ－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ－Ｒ^ｊ３３－ＣＯＯＲ^ｊ３２が得られる。上記キサントゲン酸エステル（１０２）に対してフッ化水素ピリジンと１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントインを作用させることで目的とするトリフルオロメトキシ基含有化合物（１０３）：Ｆ_３ＣＯ－Ｒ^ｊ３３－ＣＯＯＲ^ｊ３２を得る。

また、別法として、化合物（１０１）の水酸基に、フッ化セシウム、テトラブチルアンモニウムブロミドなどの存在下、ＮＭＰ、ＤＭＦ、ＨＭＰＡ（ヘキサメチルリン酸トリアミド）などの非プロトン極性溶媒中、アリールスルホン酸トリフルオロメチルエステルを作用させることで、目的とするトリフルオロメトキシ基含有化合物（１０３）：Ｆ_３ＣＯ－Ｒ^ｊ３３－ＣＯＯＲ^ｊ３２を得る。

（合成方法１１）
本方法では水酸基とオレフィンを有する化合物（１１１）：ＨＯ－Ｒ^ｊ３３－ＣＨ＝ＣＨ_２を原料として用い、トリフルオロメトキシ基含有化合物を合成する。
Ｒ^ｊ３３は、アルキレン基、例えば、Ｃ_１－３０アルキレン基である。
オレフィン基含有化合物としては、例えば３－ヒドロキシプロペン、４－ヒドロキシ－１－ブテン、５－ヒドロキシ－１－ペンテン、６－ヒドロキシ－１－ヘキセン、７－ヒドロキシ－１－ヘプテン、８－ヒドロキシ－１－オクテン、９－ヒドロキシ－１－ノネン、１０－ヒドロキシ－１－デケン、１１－ヒドロキシ－１－ウンデケン、１２－ヒドロキシ－１－ドデケン、１３－ヒドロキシ－１－トリデケン、１４－ヒドロキシ－１－テトラデケン、１５－ヒドロキシ－１－ペンタデケン、１６－ヒドロキシ－１－ヘキサデケン、１７－ヒドロキシ－１－ヘプタデケン、１８－ヒドロキシ－１－オクタデケン、１９－ヒドロキシ－１－ノナデケン、２０－ヒドロキシ－１－イコセン、２１－ヒドロキシ－１－ヘンイコセン、２４－ヒドロキシ－１－テトラコセン、３０－ヒドロキシ－１－トリアコンテンなどが挙げられる。

化合物（１１１）の水酸基に、水素化ナトリウムなどの塩基存在下で二硫化炭素を作用させ、ヨードメタンを加えることで、キサントゲン酸エステル（１１２）：Ｈ_３ＣＳ－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ－Ｒ^ｊ３３－ＣＯＯＲ^ｊ３２が得られる。上記キサントゲン酸エステル（１０２）に対してフッ化水素ピリジンと１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントインを作用させることで目的とするトリフルオロメトキシ基含有化合物（１１３）：Ｆ_３ＣＯ－Ｒ^ｊ３３－ＣＨ＝ＣＨ_２を得る。

また、別法として、化合物（１１１）の水酸基に、フッ化セシウム、テトラブチルアンモニウムブロミドなどの存在下、ＮＭＰ、ＤＭＦ、ＨＭＰＡ（ヘキサメチルリン酸トリアミド）などの非プロトン極性溶媒中、アリールスルホン酸トリフルオロメチルエステルを作用させることで、目的とするトリフルオロメトキシ基含有化合物（１１３）：Ｆ_３ＣＯ－Ｒ^ｊ３３－ＣＨ＝ＣＨ_２を得る。

［表面処理剤］
以下、本開示の表面処理剤について説明する。

本開示の表面処理剤は、式（１）で表される少なくとも１種の含フッ素シラン化合物を含む。

本開示の表面処理剤は、さらに、含フッ素シラン化合物の縮合体を含んでいてもよい。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素シラン化合物、および該含フッ素シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合体からなる化合物の少なくとも１つを含有する。

一の態様において、上記の式（１）で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは０．１～５０．０質量％、より好ましくは１．０～３０．０質量％、さらに好ましくは５．０～２５．０質量％、特に好ましくは１０．０～２０．０質量％であり得る。

別の態様において、上記の式（１）で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは０．００１～３０質量％、より好ましくは０．０１～１０質量％、さらに好ましくは０．０５～５質量％、特に好ましくは０．０５～２質量％であり得る。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（１）で表される化合物、および式（１）で表される化合物の少なくとも一部が縮合した縮合体を含有し得る。

上記の態様において、上記縮合体の含有量は、式（１）で表される化合物と上記縮合体の合計に対して、好ましくは４０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下であり得る。ここで、上記縮合体の含有量は、例えば、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）におけるピーク位置と面積の存在比から求めることができる。

本開示の組成物は、溶媒、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アミン化合物、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、Ｒ^９０－ＯＨで表される化合物を含む。
Ｒ^９０は１価の有機基であり、好ましくはＣ_１－２０アルキル基またはＣ_３－２０アルキレン基であり、これらの基は１以上の置換基により置換されていてもよい。置換基としては、例えば、水酸基、－ＯＲ^９１（ここで、Ｒ^９１はＣ_１－１０アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、例えばメチル基）を挙げることができる。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、Ｒ^８１ＯＲ^８２、Ｒ^８３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、Ｒ^８４Ｒ^８５Ｒ^８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ８－Ｒ^８９、および（ＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ９
［式中
Ｒ^８１～Ｒ^８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、３～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含み得る。

上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよく、さらに環状構造を含んでいてもよい。

一の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、酸素原子、窒素原子、またはハロゲン原子を含んでいてもよい。

別の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲン原子を含まない。

好ましい態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲンにより置換されていてもよい炭化水素基、好ましくはハロゲンにより置換されていない炭化水素基である。

一の態様において、上記炭化水素基は、直鎖である。

別の態様において、上記炭化水素基は、分岐鎖である。

別の態様において、上記炭化水素基は、環状構造を含む。

一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^８１ＯＲ^８２である。

Ｒ^８１およびＲ^８２は、それぞれ独立して、好ましくは炭素数１～８の炭化水素基、より好ましくはＣ_１－６のアルキル基、またはＣ_５－８のシクロアルキル基であり得る。

一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^８３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８である。

Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８は、ｎ８価のベンゼン環である。即ち、Ｒ^８３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８は、ｎ８個のＲ^８３により置換されたベンゼンである。

Ｒ^８３は、それぞれ独立して、ハロゲン、またはハロゲンにより置換されていてもよいＣ_１－６のアルキル基であり得る。

ｎ８は、好ましくは１～３の整数である。

一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^８４Ｒ^８５Ｒ^８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ８－Ｒ^８９である。

一の態様において、上記溶媒は、（ＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ９である。（ＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ９は、複数のＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８単位が環状に結合することにより形成される環状シロキサンである。

Ｒ^８４～Ｒ^８９は、それぞれ独立して、水素原子、またはＣ_１－６のアルキル基、好ましくはＣ_１－６のアルキル基、より好ましくはＣ_１－３のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｍ８は、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～５の整数であり、さらに好ましくは1～２であ。

ｍ９は、好ましくは３～６の整数、より好ましくは３～５の整数である。

一の態様において、上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等の含フッ素炭化水素類；ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等の含フッ素アルコール類；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分岐状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、ハイドロフルオロオレフィン類；ＣＦ_３ＣＨ＝ＣＨＣｌ（例えば、セントラル硝子株式会社製のＣＥＬＥＦＩＮ（登録商標）１２３３Ｚ）、ＣＨＦ_２ＣＦ＝ＣＨＣｌ（例えば、旭硝子株式会社製のＡＭＯＬＥＡ（登録商標）ＡＳ－３００）、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類；ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。なかでも、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット、ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチルプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ、パーフルオロプロピルメチルエーテル、パーフルオロブチルメチルエーテル、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、ＣＦ_３ＣＨ＝ＣＨＣｌ、ＣＨＦ_２ＣＦ＝ＣＨＣｌが好ましい。

シリコーンオイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３ａ）：
Ｒ^１ａ－（ＳｉＲ^３ａ _２－Ｏ）_ａ１－ＳｉＲ^３ａ _２－Ｒ^１ａ ・・・（３ａ）
［式中：
Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、水素原子または炭化水素基であり、
Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、水素原子または炭化水素基であり、
ａ１は、２～３０００である。］
で表される化合物が挙げられる。

上記Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、水素原子または炭化水素基である。かかる炭化水素基は、置換されていてもよい。

Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、好ましくは非置換炭化水素基、またはハロゲン原子により置換されている炭化水素基である。かかるハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。

Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基またはアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基またはアリール基である。

上記Ｃ_１－６アルキル基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよいが、好ましくは直鎖
である。Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

上記アリール基は、好ましくはフェニル基である。

一の態様において、Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

別の態様において、Ｒ^３ａは、フェニル基である。

別の態様において、Ｒ^３ａは、メチル基またはフェニル基、好ましくはメチル基である。

上記Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、水素原子または炭化水素基であり、上記Ｒ^３ａと同意義である。

Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基またはアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基またはアリール基である。

一の態様において、Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

別の態様において、Ｒ^１ａは、フェニル基である。

別の態様において、Ｒ^１ａは、メチル基またはフェニル基、好ましくはメチル基である。

上記ａ１は、２～１５００である。ａ１は、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１５以上、例えば３０以上、または５０以上であり得る。ａ１は、好ましくは１０００以下、より好ましくは５００以下、さらに好ましくは２００以下、さらにより好ましくは１５０以下、例えば１００以下、または８０以下であり得る。

ａ１は、好ましくは５～１０００、より好ましくは１０～５００、さらに好ましくは１５～２００、さらにより好ましくは１５～１５０であり得る。

別のシリコーンオイルとしては、下記（３ｂ）：
Ｒ^１ａ－Ｒ^ＳＯ２－Ｒ^３ａ ・・・（３ｂ）
［式中：
Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
Ｒ^ＳＯ２は、２価のシロキサン含有基であり、式（１）のＸ^Ｄにおける２価のシロキサン含有基と同意義である。］
で表される化合物が挙げられる。

上記シリコーンオイルは、５００～１００００００、好ましくは１０００～１０００００の平均分子量を有していてよい。シリコーンオイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

上記シリコーンオイルとしては、例えば－（ＳｉＲ^３ａ _２－Ｏ）_ａ１―のａ１が３０以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得ることができる。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

上記シリコーンオイルは、本開示の組成物に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０．００１～３０質量％、より好ましくは０．１～５質量％含まれ得る。

本開示の組成物中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示の化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは０～１００質量部、より好ましくは０～５０質量部、更に好ましくは０～１０質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコールが挙げられる。これらのアルコール類を組成物に添加することにより、組成物の安定性を向上させる。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ｖ等）、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物（例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物）等が挙げられる。

上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。

好ましい態様において、上記遷移金属は、Ｍ－Ｒ（式中、Ｍは、遷移金属原子であり、Ｒは加水分解性基である。）で表される遷移金属化合物として含まれる。遷移金属化合物を、遷移金属と加水分解性基とが結合した化合物とすることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。

上記加水分解性基とは、上記化合物に関する加水分解性基と同様に、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、遷移金属原子から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｍ、－ＯＣＯＲ^ｍ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｍ _２、－ＮＲ^ｍ _２、－ＮＨＲ^ｍ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｍは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

好ましい態様において、上記加水分解性基とは、－ＯＲ^ｍであり、好ましくはメトキシまたはエトキシである。加水分解性基としてアルコキシ基を用いることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。

一の態様において、上記加水分解性基は、上記した化合物に含まれる加水分解性基と同じであってもよい。化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を同じ基とすることにより、かかる加水分解性基が相互に交換された場合であっても、その影響を小さくすることができる。

別の態様において、上記加水分解性基は、上記した化合物に含まれる加水分解性基と異なっていてもよい。化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を異なるものとすることにより、加水分解の反応性を制御することができる。

一の態様において、上記加水分解性基と、上記化合物に含まれる加水分解性基は、組成物中において、相互に入れ替わっていてもよい。

好ましい態様において、上記遷移金属化合物は、Ｔａ（ＯＲ^ｍ）_５（式中、Ｒ^ｍは置換または非置換のＣ_１－４アルキル基である。）であり、好ましくはＴａ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_５、またはＳｉ（ＯＲ^ｍ）_１－ｍ１Ｒ^ｍ’ _ｍ１（式中、Ｒ^ｍは置換または非置換のＣ_１－４アルキル基であり、Ｒ^ｍ’は、Ｃ_１－４アルキル基であり、ｍ１は、０または１である。）、好ましくはテトラエトキシシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、またはジメチルジメトキシシランであり得る。

上記触媒は、組成物全体に対して、例えば、０．０００２質量％以上含まれ得る。上記触媒は、組成物全体に対して、０．０２質量％以上含まれることが好ましく、０．０４質量％以上含まれることがより好ましい。上記触媒は、組成物全体に対して、例えば、１０質量％以下含まれてもよく、特に１質量％以下含まれる。本開示の組成物は、上記触媒が、上記のような濃度含むことによって、より耐久性の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。

上記触媒の含有量は、本開示の化合物に対して０～１０質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％が特に好ましい。

触媒は、本開示の化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物により形成される層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本開示の組成物は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。

一の態様において、本開示の組成物は、乾燥被覆法、好ましくは真空蒸着用である。

一の態様において、本開示の組成物は、湿潤被覆法、好ましくは浸漬コーティング用である。

本開示の組成物は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

本開示の組成物は、好ましくは表面処理剤として、または表面処理剤の成分として用いられる。

以下、本開示の物品について説明する。

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔａ_３Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラス、結晶化ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

一の態様において、本開示の物品は、ガラスと表面処理層との間に、酸化ケイ素を含む中間層を含んでいてもよい。かかる中間層を設けることにより、ガラスと表面処理層との密着性が向上し、耐久性が向上する。

好ましい態様において、上記中間層は、酸化ケイ素に加え、アルカリ金属を含んでいてもよい。

上記アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。上記アルカリ金属は、好ましくはナトリウムである。

中間層の厚さは、特に限定されないが、１～２００ｎｍが好ましく、１～２０ｎｍが特に好ましい。中間層の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより、中間層による接着性の向上効果がより大きくなる。

中間層におけるアルカリ金属原子濃度は各種表面分析装置、たとえばＴＯＦ－ＳＩＭＳ、ＸＰＳ、ＸＲＦなどで測定できる。

中間層全体の全原子に占めるアルカリ金属原子の割合は、イオンスパッタリングによるＸＰＳ深さ方向分析で得ることができ、ＸＰＳによる測定とＸＰＳ装置に内蔵されたイオン銃を用いたイオンスパッタリングによる表面のエッチングとを交互に繰り返すことによって行われる。

中間層において、表面処理層と接する面からの深さが１ｎｍ以下の領域におけるアルカリ金属の濃度の平均値は、イオンスパッタリングによるＴＯＦ－ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法）深さ方向分析により、アルカリ金属原子の濃度の深さ方向プロファイルを得た後、該プロファイルにおけるアルカリ金属原子濃度の平均値を算出することによって求められる。イオンスパッタリングによるＴＯＦ－ＳＩＭＳ深さ方向分析は、ＴＯＦ－ＳＩＭＳによる測定とＴＯＦ－ＳＩＭＳ装置に内蔵されたイオン銃を用いたイオンスパッタリングによる表面のエッチングとを交互に繰り返すことによって行われる。

本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。

本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、ワイプコーティング、スキージーコート法、ダイコート、インクジェット、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法および類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等の含フッ素炭化水素類；ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等の含フッ素アルコール類；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分岐状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、ハイドロフルオロオレフィン類；ＣＦ_３ＣＨ＝ＣＨＣｌ（例えば、セントラル硝子株式会社製のＣＥＬＥＦＩＮ（登録商標）１２３３Ｚ）、ＣＨＦ_２ＣＦ＝ＣＨＣｌ（例えば、旭硝子株式会社製のＡＭＯＬＥＡ（登録商標）ＡＳ－３００）、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類；ジメチルスルホキシドなど。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。なかでも、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット、ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチルプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ、パーフルオロプロピルメチルエーテル、パーフルオロブチルメチルエーテル、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、ＣＦ_３ＣＨ＝ＣＨＣｌ、ＣＨＦ_２ＣＦ＝ＣＨＣｌが好ましい。

一の態様において、湿潤被覆法を使用する場合の溶媒としては、例えば、Ｒ^９０－ＯＨで表される化合物を用いることができる。Ｒ^９０は１価の有機基であり、好ましくはＣ_１－２０アルキル基またはＣ_３－２０アルキレン基であり、これらの基は１以上の置換基により置換されていてもよい。置換基としては、例えば、水酸基、－ＯＲ^９１（ここで、Ｒ^９１はＣ_１－１０アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、例えばメチル基）を挙げることができる。

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ等）、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物（例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物）等を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン等の有機アミン類などを使用できる。遷移金属、脂肪族アミン化合物、および芳香族アミン化合物は、上記と同様のものが挙げられる。

本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性を有し得る。また、上記表面処理層は、高い摩耗耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本開示の物品は、医療機器または医療材料であってもよい。また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、車外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、光学性能、摩耗耐久性および防汚性の点から、上記層の厚さは、例えば１～５０ｎｍ、好ましくは１～３０ｎｍ、より好ましくは１～１５ｎｍの範囲であり得る。

表面処理層の原子組成および構成原子の比率を測定するためのＸ線光電子分光分析法を行う装置としては、ＸＰＳ，アルバック・ファイ社製 ＰＨＩ５０００ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩを使用することができる。ＸＰＳ分析の測定条件としては、Ｘ線源に単色化ＡｌＫα線を２５Ｗ、光電子検出面積を１４００μｍ×３００μｍ，光電子検出角を２０度～９０度の範囲（例えば２０度、４５度、９０度）、パスエネルギーを２３．５ｅＶなどとし、スパッタリングにはガスクラスターイオンビーム、Ａｒイオンなどを用いることが可能である。上記装置、測定条件により、Ｃ１ｓ、Ｏ１ｓ、Ｓｉ２ｐのピーク面積を観測し、炭素、酸素、ケイ素の原子比を算出することにより表面処理層および中間層の組成を求めることができる。

また、深さ方向の分析を実施することも可能である。ＸＰＳ分析の測定条件としては、Ｘ線源に単色化ＡｌＫα線を２５Ｗで用い、光電子検出面積を１４００μｍ×３００μｍ，光電子検出角を、２０度～９０度の範囲（例えば２０度、４５度、９０度）、パスエネルギーを２３．５ｅＶなどとし、スパッタイオンにはＡｒイオン、ガスクラスターイオン、Ｃ６０イオンなどを用いることができる。スパッタリングによって１～１００ｎｍエッチングし、それぞれのエッチング後の深さにおいける塗膜中の組成を得ることもできる。

上記のＸＰＳ分析の光電子検出角を調整することにより、検出深さを適宜調整することができる。例えば、２０度に近い浅い角度とすることにより、検出深さを３ｎｍ程度とすることができ、一方、９０度に近い深い角度にすることにより、検出深さを１０数ｎｍ程度とすることができる。

上記した酸化ケイ素を含む中間層は、酸化ケイ素前駆体を基材の表面に適用することにより形成することができる。中間層がアルカリ金属を含む場合、上記中間層は、酸化ケイ素前駆体とアルカリ金属源を含む組成物を基材の表面に適用することにより形成することができる。

上記酸化ケイ素前駆体としては、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルカリ金属ケイ酸塩、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物、該シラン化合物の部分加水分解縮合物等が挙げられる。ケイ酸やその部分縮合物は脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができ、アルカリ金属ケイ酸塩は酸や陽イオン交換樹脂によりケイ酸やその部分縮合物とし、生成したケイ酸やその部分縮合物を脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物における加水分解性基としては、アルコキシ基、塩素原子等が挙げられる。該シラン化合物の加水分解性基を加水分解させて水酸基とし、生成するシラノール化合物を脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物としては、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン等のアルコキシシランやテトラクロロシラン等が挙げられる。

上記アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物、水溶性アルカリ金属塩等が挙げられる。水溶性アルカリ金属塩としては、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属塩酸塩、アルカリ金属硝酸塩等が挙げられる。アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物およびアルカリ金属炭酸塩が好ましい。

尚、アルカリ金属ケイ酸塩は酸化ケイ素前駆体かつアルカリ金属源として用いることができる。アルカリ金属ケイ酸塩はケイ酸を経て酸化ケイ素とすることができるが、その際に少量のアルカリ金属が生成する酸化ケイ素中に残留し得る。従って、残留するアルカリ金属の量を調整して、所定量のアルカリ金属原子を含む酸化ケイ素を得ることができる。

上記中間層の厚さは、特に限定されないが、例えば、１～５０ｎｍ、好ましくは１～３０ｎｍ、より好ましくは２～１５ｎｍ、さらに好ましくは３～１０ｎｍの範囲である。

以上、本開示の化合物、組成物、および物品について詳述した。なお、本開示の化合物、組成物、および物品などは、上記で例示したものに限定されない。

以下、本開示の化合物について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。

（合成例１）
４－（トリフルオロメトキシ）フェニル酢酸を３．００ｇ、テトラヒドロフランを２０ｇ、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩を２．９３ｇ、４－ジメチルアミノピリジンを０．１６ｇ、および９－デセン－１－オールを２．３４ｍＬ、それぞれ加えて、室温で終夜攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のトリフルオロメトキシ基含有化合物（１）ＣＦ_３ＯＣ_６Ｈ_４ＣＨ_２ＣＯＯ（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（４．５０ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：１．２４１－１．３８８（ｍ），１．５７６－１．６４５（ｔ），２．００９－２．０７７（ｍ），３．６１７（ｓ），４．０７２－４．１０７（ｔ），４．９１６－５．０２３（ｍ），５．７６０－５．８６２（ｍ），７．１６２－７．１８０（ｍ），７．２９３－７．３２２（ｍ）

トリフルオロメトキシ基含有化合物（１）

（合成例２）
合成例１で得られたトリフルオロメトキシ基含有化合物（１）ＣＦ_３ＯＣ_６Ｈ_４ＣＨ_２ＣＯＯ（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２を２．５８ｇ、トルエンを７．５ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０４６ｇ、および１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．３５ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．４１ｍＬ仕込み、６０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．６７ｇおよびオルトギ酸トリメチル１４．８０ｇの混合溶液を加えた後、６５℃に加熱し２時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（２）ＣＦ_３ＯＣ_６Ｈ_４ＣＨ_２ＣＯＯ（ＣＨ_２）_１０Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３（２．５４ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：０．６２８－０．６６９（ｍ），１．２５５－１．４２８（ｍ），１．５８９－１．６２３（ｍ），３．５６９（ｓ），３．６１４（ｓ），４．０６８－４．１０２（ｔ），７．１５７－７．１７８（ｍ），７．２９０－７．３２５（ｍ）

トリフルオロメトキシ基含有化合物（２）

（合成例３）
４－（トリフルオロメトキシ）アニリンを９．８２５ｇ、トルエンを５ｇ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを５．９７ｇ、および１０－ウンデセン酸メチルを５．６２ｍｌ、それぞれ加えて、１００℃に加熱し３０時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のトリフルオロメトキシ基含有化合物（３）ＣＦ_３ＯＣ_６Ｈ_４ＮＨＣＯ（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（８．０３ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：１．２７５－１．３８０（ｍ），１．５９１－１．６４６（ｍ），１．６７７－１．７５１（ｍ），２．００４－２．０６０（ｍ），２．３２４－２．３７２（ｍ），４．９０９－５．０１６（ｍ），５．７５１－５．８５７（ｍ），７．１５１－７．１７２（ｄ），７．５３２－７．５５５（ｄ）

トリフルオロメトキシ基含有化合物（３）

（合成例４）
合成例３で得られたトリフルオロメトキシ基含有化合物（３）ＣＦ_３ＯＣ_６Ｈ_４ＮＨＣＯ（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２を２．５８ｇ、トルエンを７．７４ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０５ｇ、および１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．３８ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．５２ｍＬ仕込み、６０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．７２ｇおよびオルトギ酸トリメチル１５．９５ｇの混合溶液を加えた後、６５℃に加熱し２時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（４）ＣＦ_３ＯＣ_６Ｈ_４ＮＨＣＯ（ＣＨ_２）_１０Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３（３．０７ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：０．６１７－０．６５７（ｍ），１．２５７－１．４１２（ｍ），１．６００－１．６３６（ｍ），１．６６８－１．７２２（ｍ），２．３１３－２．３６４（ｍ）３．５６１（ｓ），７．１４２－７．１６４（ｄ），７．５３５－７．５５７（ｄ）

トリフルオロメトキシ基含有化合物（４）

（合成例５）
１６－ヒドロキシヘキサデカン酸を５．１９ｇ、トルエンを３５．０ｍｌ、およびメタノールを３５．０ｍｌ、それぞれ加え、次いで、氷浴下トリメチルシリルジアゾメタン１０％ヘキサン溶液を４１．２８ｍｌ加えて室温で１時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のメチルエステル基含有アルコール化合物（５）ＨＯ（ＣＨ_２）_１５ＣＯＯＣＨ_３（５．４０ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：１．２２０－１．３３１（ｍ），１．５２５－１．６２８（ｍ），２．２７６－２．３１４（ｔ），３．６１８－３．６５１（ｔ），３．６５９（ｓ）

メチルエステル基含有アルコール化合物（５）

（合成例６）
合成例５で得られたメチルエステル基含有アルコール化合物（５）ＨＯ（ＣＨ_２）_１５ＣＯＯＣＨ_３を５．５０ｇ、テトラヒドロフランを５０．７ｇ、水素化ナトリウムを１．１５ｇ、および二硫化炭素を２．９２ｇ、それぞれ加えて、室温で３時間攪拌した。続いて、ヨードメタンを４．０９ｇ加えて、室温で２時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のキサントゲン酸エステル基含有化合物（６）ＣＨ_３ＳＣ（Ｓ）Ｏ（ＣＨ_２）_１５ＣＯＯＣＨ_３（６．１１ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：１．２５２－１．４０１（ｍ），１．５９４－１．６３１（ｍ），１．７７４－１．８１２（ｍ），２．２８０－２．３１７（ｔ），２．５５４（ｓ），３．６６３（ｓ），４．５６９－４．６０２（ｔ）

キサントゲン酸エステル基含有化合物（６）

（合成例７）
合成例６で得られたキサントゲン酸エステル基含有化合物（６）ＣＨ_３ＳＣ（Ｓ）Ｏ（ＣＨ_２）_１５ＣＯＯＣＨ_３を３．０３ｇ、ジクロロメタンを４８．０ｍｌ、および１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントインを１０．４４ｇ、それぞれ加えて、－７８℃下で３０分攪拌した。続いて、ピリジニウムポリ（ヒドロゲンフルオリド）を７．６３ｇ加えて、－７８℃下で１時間、室温で５時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のトリフルオロメトキシ基含有化合物（７）ＣＦ_３Ｏ（ＣＨ_２）_１５ＣＯＯＣＨ_３（２．５３ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：１．２４３－１．３８２（ｍ），１．５６８－１．７００（ｍ），２．２７１－２．３０８（ｔ），３．６５３（ｓ），３．９１７－３．９４９（ｔ）

トリフルオロメトキシ基含有化合物（７）

（合成例８）
合成例７で得られたトリフルオロメトキシ基含有化合物（７）ＣＦ_３Ｏ（ＣＨ_２）_１５ＣＯＯＣＨ_３を１．１２ｇ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．５３ｇ、およびアリルアミンを９．０２ｇ、それぞれ加えて、６５℃に加熱し６時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のトリフルオロメトキシ基含有化合物（８）ＣＦ_３Ｏ（ＣＨ_２）_１５ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（１．０５ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：１．２５０－１．３９１（ｍ），１．５９８－１．７１０（ｍ），２．１６９－２．２０８（ｔ），３．８７５－３．８８８（ｔ），３．９２７－３．９６０（ｔ），５．１１６－５．２０２（ｍ），５．４５６（ｂｒｓ），５．７９２－５．８８９（ｍ）

トリフルオロメトキシ基含有化合物（８）

（合成例９）
合成例８で得られたトリフルオロメトキシ基含有化合物（８）ＣＦ_３Ｏ（ＣＨ_２）_１５ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２を１．０５ｇ、トルエンを３．１５ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、および１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１４ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを０．５６ｍＬ仕込み、６０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．２７ｇおよびオルトギ酸トリメチル５．８７ｇの混合溶液を加えた後、６５℃に加熱し２時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（９）ＣＦ_３Ｏ（ＣＨ_２）_１５ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３（１．１７ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：０．６２０－０．６６１（ｍ），１．２４２－１．３８４（ｍ），１．５９１－１．６８６（ｍ），２．１１７－２．１５６（ｔ），３．２１１－３．２６１（ｑ），３．５６３（ｓ），３．９１９－３．９５２（ｔ）

末端トリメトキシシリル基含有化合物（９）

（表面処理剤１）
上記で得られた化合物（９）を１０ｗｔ％の１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン溶液となるよう希釈し、表面処理剤１を得た。

（合成例１０）
トリフルオロエタノールを３．０ｇ、１８－ブロモ－１－オクタデセンを３．０ｇ、２４％水酸化カリウム水溶液を１．５ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミドを０．４ｇ、およびジグライムを０．５ｇ、それぞれ加えて、還流条件で２４時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記の１，１，１－トリフルオロエトキシ基含有化合物（１０）ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_１６ＣＨ＝ＣＨ_２（２．８ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：１．１１０－１．１．４３２（ｍ），１．５６５－１．６４６（ｍ），２．００９－２．０６５（ｑ），３．５７５－３．６０８（ｔ），３．７６４－３．８２９（ｑ），４．９０８－５．０１９（ｍ），５．７６３－５．８６５（ｍ）

トリフルオロエトキシ基含有化合物（１０）

（合成例１１）
合成例１０で得られたトリフルオロエトキシ基含有化合物（１０）ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_１６ＣＨ＝ＣＨ_２を１．０ｇ、トルエンを３．０ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．２ｍｌ、およびトリクロロシランを１．２ｍＬ仕込み、５５℃に加熱し３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル１．８ｇの混合溶液を加えた後、６０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（１１）ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_１８Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３（１．７４ｇ）を得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：０．６０４－０．６６８（ｍ），１．１９５－１．４３４（ｍ），１．５５４－１．６２４（ｍ），３．５２１－３．６１１（ｍ），３．７５１－３．８１７（ｑ）

トリフルオロエトキシ基含有化合物（１１）

（表面処理剤２）
上記で得られた化合物（１１）を１０ｗｔ％のヘキサメチルジシロキサン溶液となるよう希釈し、表面処理剤２を得た。

（表面処理剤３）
化合物（Ｘ）ＣＨ_３（ＣＨ_２）_１６ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を１０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤３を得た。

（表面処理層の形成）
（実施例１、２、及び比較例１）
上記で調製した表面処理剤１～３を、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。具体的には、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに表面処理剤０．１ｇを充填し、真空蒸着装置内を圧力３．０×１０-^３Ｐａ以下に排気した。その後、７ｎｍの厚さの二酸化ケイ素膜を形成し、続いて抵抗加熱方式によりボートを加熱することで表面処理層を形成した。その後、オーブンで１５０℃、２時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。

＜評価＞
[撥油性評価]
表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、ノルマルヘキサデカンの静的接触角を測定した。接触角の測定は、２５℃環境下において、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジからヘキサデカンをそれぞれ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより、それぞれの静的接触角を測定した。静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。結果は表１に示す。

本開示の化合物は、種々多様な用途に好適に利用され得る。

Claims (24)

1. 下記式（１）：
   ［式中：
   Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、末端にＣＦ_３を有する基であり、
   ただし、前記末端ＣＦ_３は、隣接位にＣＦ_２を有さず、
   Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２～１０価の有機基であり、
   Ｒ^Ｓｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
   α１は、１～９の整数であり；および
   α２は、１～９の整数である。］
   で表される含フッ素シラン化合物。
2. Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、
   Ｒ^Ａ１－Ｘ^Ｂ－
   ［式中：
   Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－であり、
   Ｘ^Ｂは、
   単結合、
   ２価のシロキサン基を含む基、または
   －（ＣＦＨ）_ａ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－（Ｏ）_ｃ１－（Ｃ（Ｒ^Ａ２）_ｅ１Ｈ_２－ｅ１）_ｄ１－（ＮＲ^Ａ３）_ｆ１－
   （式中：
   Ｒ^Ａ２は、ＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－または（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基であり、
   Ｒ^Ａ３は、水素原子、またはＣＦ_３－、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨ－、（ＣＦ_３）_２Ｎ－、（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２Ｎ－、ＣＦ_３Ｓ－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）－、ＣＦ_３ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮＨ－、ＣＦ_３ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＮＨＣＯ－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＦ_３）－、（ＣＦ_３）_２ＮＣＯ－、もしくは（ＣＦ_３ＣＨ_２）_２ＮＣＯ－を有する１価の基であり、
   ａ１は、０～２００の整数であり、
   ｂ１は、０～２００の整数であり、
   ｃ１は、０～２００の整数であり、
   ｄ１は、０～２００の整数であり、
   ｅ１は、１または２であり、
   ｆ１は、０～２００の整数であり、
   符号ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１およびｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
   で表される基である。］
   で表される基である、請求項１に記載の含フッ素シラン化合物。
3. Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、または（ＣＦ_３）_２Ｎ－である、請求項２に記載の含フッ素シラン化合物。
4. Ｒ^Ａ２は、ＣＦ_３Ｏ－、ＣＦ_３ＮＨ－、または（ＣＦ_３）_２Ｎ－を有する１価の基である、請求項２または３に記載の含フッ素シラン化合物。
5. Ｒ^Ａ３は、水素原子、または、ＣＦ_３Ｏ－を有する１価の基である、請求項２～４のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物。
6. Ｘ^Ｂは、－（ＣＦＨ）_ａ１－（ＣＨ_２）_ｂ１－（Ｏ）_ｃ１－
   ［式中：
   ａ１は、０～２００の整数であり、
   ｂ１は、０～２００の整数であり、
   ｃ１は、０～１０の整数であり、
   符号ａ１、ｂ１、およびｃ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
   で表される基である、請求項２または３に記載の含フッ素シラン化合物。
7. Ｘ^Ｂは、－（ＣＨ_２）_ｂ１－
   ［式中、ｂ１は、０～３６の整数である。］
   で表される基である、請求項２または３に記載の含フッ素シラン化合物。
8. Ｘ^Ｂは、－（ＣＨ_２）_ｇ１－Ｒ^Ｓ－Ｓｉ（Ｒ^５）_２－（ＣＨ_２）_ｇ１－
   ［式中：
   ｇ１は、それぞれ独立して、０～３０の整数であり、
   Ｒ^Ｓは、下記式：
   （式中：
   Ｒ^３は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、
   Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、または－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、
   Ｒ^６は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
   Ｒ^７は、それぞれ独立して、置換されていてもよい、フェニレン基、またはナフチレン基であり、
   Ｒ^８は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ_１－６アルキレン基であり、
   Ｒ^９は、それぞれ独立して、単結合、または酸素原子であり、
   Ｒ^５は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
   ｘは、０～２００の整数であり、
   ｙは、０～２００の整数であり、
   ｚは、０～２００の整数であり、
   ｘ＋ｙ＋ｚは、１以上であり、
   ｘ、ｙ、またはｚを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
   で表される基である。］
   で表される基である、請求項２または３に記載の含フッ素シラン化合物。
9. Ｘ^Ａは、単結合、－（Ｘ^５２）_ｌ５－、または式（Ｘ^Ａ１）：
   ［式中：
   Ｘ^５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^５４ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－、および－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
   Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり、
   ｎ５は、それぞれ独立して、１～３０の整数であり、
   ｌ５は、１～１０の整数であり、
   Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合または２価の連結基である。］
   で表される基である、請求項１～８のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物。
10. Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）または（Ｓ５）：
    ［式中：
    Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
    Ｒ^１２は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
    ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり、
    Ｘ^１１は、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり、
    Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、
    ｔは、それぞれ独立して、２以上の整数であり、
    Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり、
    Ｒ^１５は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり、
    Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
    Ｚ^１は、それぞれ独立して、２価の有機基であり、
    Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
    Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
    Ｒ^２３は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
    ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    Ｚ^１’は、それぞれ独立して、２価の有機基であり、
    Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
    Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
    Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
    ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    Ｚ^１”は、それぞれ独立して、２価の有機基であり、
    Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
    Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
    ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
    Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
    ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり、
    Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり、
    Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり、
    Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
    Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり、
    ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり、
    Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
    Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり、
    ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
    Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、
    Ｒ^３５は、それぞれ独立して、１価の有機基であり、
    ｎ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
    Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり、
    ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
    ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数である。
    Ｒ^ｇ１およびＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、または－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり、
    Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり、
    ｋ３は、１または２であり、
    ｌ３は、０または１であり、
    ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）、または（Ｓ５）中、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。］
    で表される基である、請求項１に記載の含フッ素シラン化合物。
11. Ｒｆ^１は、Ｒ^Ａ１－Ｘ^Ｂ－であり、
    Ｒ^Ａ１は、ＣＦ_３－又はＣＦ_３Ｏ－であり、
    Ｘ^Ｂは、単結合であり、
    Ｘ^Ａは、－（ｐ－フェニレン）_ｖ１－（ＣＨ_２）_ｖ２－Ｒ^５７ _ｖ３－（ＣＨ_２）_ｖ４－であり、
    Ｒ^５７は、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＯ－、又は－Ｏ－であり、
    ｖ１は、０又は１であり、
    ｖ２は、０～２０の整数であり、
    ｖ３は、０又は１であり、
    ｖ４は、２～２０の整数であり、
    Ｒ^Ｓｉは、－ＳｉＲ^１１ _３であり、
    Ｒ^１１は、メトキシ基であり、
    α１は、１であり、
    α２は、１である、
    請求項１に記載の含フッ素シラン化合物。
12. 下記化合物：
    

    

    から選択される、請求項１に記載の含フッ素シラン化合物。
13. 請求項１～１２のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物を含む、表面処理剤。
14. さらに、請求項１～１２のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物の縮合体を含む、請求項１１に記載の表面処理剤。
15. さらに、Ｒ^９０－ＯＨ（ここで、Ｒ^９０は１価の有機基である。）で表されるアルコールを含む、請求項１３または１４に記載の表面処理剤。
16. 真空蒸着用である、請求項１３～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
17. 湿潤被覆用である、請求項１３～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
18. 請求項１３～１７のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
19. 基材と、該基材上に請求項１～１２のいずれか１項に記載の含フッ素シラン化合物から形成された層とを含む物品。
20. 前記基材と前記層との間に、酸化ケイ素を含む中間層を含む、請求項１９に記載の物品。
21. 前記中間層は、アルカリ金属原子を含む、請求項２０に記載の物品。
22. 前記アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウムである、請求項２１に記載の物品。
23. 光学部材である、請求項１９～２２のいずれか１項に記載の物品。
24. ディスプレイである、請求項２３に記載の物品。