JP2018046060A - 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体製造装置および半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018046060A JP2018046060A JP2016177850A JP2016177850A JP2018046060A JP 2018046060 A JP2018046060 A JP 2018046060A JP 2016177850 A JP2016177850 A JP 2016177850A JP 2016177850 A JP2016177850 A JP 2016177850A JP 2018046060 A JP2018046060 A JP 2018046060A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- die
- pulley
- unit
- manufacturing apparatus
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 48
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 43
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67132—Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67121—Apparatus for making assemblies not otherwise provided for, e.g. package constructions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/799—Apparatus for disconnecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/98—Methods for disconnecting semiconductor or solid-state bodies
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Die Bonding (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
Description
本開示の課題は突き上げユニットを品種に合わせて容易に変更することが可能な半導体製造装置を提供することにある。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
すなわち、半導体製造装置は、ダイをダイシングテープの下から突き上げる突き上げユニットと、前記ダイを吸着するコレットと、を備える。前記突き上げユニットは、前記ダイシングテープを突き上げるための複数のピンと、前記複数のピンのうち前記ダイのサイズに対応するピンに選択的に当接する品種切替ユニットと、を備える。
このような構成によって、ボンディングヘッド41は、ステージ認識カメラ32の撮像データに基づいてピックアップ位置・姿勢を補正し、中間ステージ31からダイDをピックアップし、基板認識カメラ44の撮像データに基づいて基板PにダイDをボンディングする。
このような構成によって、基板搬送パレット51は、基板供給部6で基板Pを載置し、パレットレール52に沿ってボンディング位置まで移動し、ボンディング後、基板搬出部7まで移動して、基板搬出部7に基板Pを渡す。第1、第2搬送部は、互いに独立して駆動され、一方の基板搬送パレット51に載置された基板PにダイDをボンディング中に、他方の基板搬送パレット51は、基板Pを搬出し、基板供給部6に戻り、新たな基板Pを載置するなどの準備を行なう。
変形例1に係る突き上げユニットについて図12、13を用いて説明する。図12、13は変形例1に係る突き上げユニットを説明するための断面図である。
変形例2に係る突き上げユニットについて図14〜17を用いて説明する。図14〜17は変形例2に係る突き上げユニットを説明するための断面図である。
変形例3に係る突き上げユニットについて図18、19を用いて説明する。図18、19は変形例3に係る突き上げユニットを説明するための断面図である。
変形例4に係る突き上げユニットについて図20、21を用いて説明する。図20、21は変形例4に係る突き上げユニットを説明するための断面図である。
例えば、中間ステージとピックアップヘッドがなく、ダイ供給部のダイをボンディングヘッドで基板にボンディングするダイボンダにも適用可能である。
また、中間ステージがなく、ダイ供給部からダイをピックアップしダイピックアップヘッドを上に回転してダイをボンディングヘッドに受け渡しボンディングヘッドで基板にボンディングするフリップチップボンダに適用可能である。
また、中間ステージとボンディングヘッドがなく、ダイ供給部からピックアップヘッドでピックアップしたダイをトレイ等に載置するダイソータに適用可能である。
11:ウェハ
13:突き上げユニット
131:ピン
136:品種切替ユニット
136a:ベース部
136b:凸部
16:ダイシングテープ
2:ピックアップ部
21:ピックアップヘッド
3:中間ステージ部
31:中間ステージ
4:ボンディング部
41:ボンディングヘッド
8:制御装置
10:ダイボンダ
D:ダイ
P:基板
Claims (15)
- 半導体製造装置は、
ダイをダイシングテープの下から突き上げる突き上げユニットと、
前記ダイを吸着するコレットと、
を備え、
前記突き上げユニットは、
前記ダイシングテープを突き上げるための複数のピンと、
前記複数のピンのうち前記ダイのサイズに対応するピンに選択的に当接する品種切替ユニットと、
を備える。 - 請求項1の半導体製造装置において、
前記品種切替ユニットは前記ピンが当接する凸部と前記ピンが当接しないベース部とを備える。 - 請求項2の半導体製造装置において、
前記ベース部は円盤状のプレートである。 - 請求項3の半導体製造装置において、
前記ベース部は傾斜可能である。 - 請求項2の半導体製造装置において、
前記品種切替ユニットは第一プーリーと第二プーリーを備え、前記ベース部はベルト状であり、前記ベース部は前記第一プーリーおよび第二プーリーで回転可能である。 - 請求項5の半導体製造装置において、
前記品種切替ユニットはさらに第三プーリーを備え、
前記第一プーリーおよび第二プーリー間の距離を変更可能であり、
前記第三プーリーは移動可能であり前記ベース部の張力を調整可能である。 - 請求項6の半導体製造装置において、
前記凸部は複数のダイサイズに対応して複数設けられる。 - 請求項1の半導体製造装置において、
前記品種切替ユニットはベルト状のベース部と第一プーリーと第二プーリーと第三プーリーとを備え、前記ベース部は回転可能であり、前記第一プーリーと第二プーリーとの間隔が変更可能であり、第三プーリーは前記ベース部の張力を調整可能である。 - 請求項1の半導体製造装置において、
前記ダイはさらに前記ダイと前記ダイシングテープとの間にダイアタッチフィルムを備える。 - 請求項1の半導体製造装置において、さらに、
前記コレットが装着されるピックアップヘッドを備える。 - 請求項10の半導体製造装置において、さらに、
前記ピックアップヘッドでピックアップされるダイを載置する中間ステージと、
前記中間ステージに載置されるダイを基板または既にボンディングされているダイの上にボンディングするボンディングヘッドと、
を備える。 - 半導体装置の製造方法は、
(a)請求項1乃至11のいずれか1項の半導体製造装置を準備する工程と、
(b)ダイを有するダイシングテープを保持するウェハリングを準備する工程と、
(c)前記基板を準備する工程と、
(d)前記突き上げユニットで前記ダイを突き上げて前記コレットで前記ダイをピックアップする工程と、
を備える。 - 請求項12の半導体装置の製造方法において、さらに、
(e)前記ダイを基板または既にボンディングされているダイの上にボンディングする工程を備える。 - 請求項13の半導体装置の製造方法において、
前記(d)工程はさらに前記ピックアップしたダイを中間ステージに載置する工程を有し、
前記(e)工程はさらに前記中間ステージから前記ダイをピックアップする工程を有する。 - 請求項12の半導体装置の製造方法において、
前記(d)工程は、前記品種切替えユニットを移動させることにより、前記複数のピンのうち前記ダイのサイズに対応するピンを上昇または下降して、前記ダイをピックアップする。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016177850A JP6637397B2 (ja) | 2016-09-12 | 2016-09-12 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
TW106124362A TWI639210B (zh) | 2016-09-12 | 2017-07-20 | 半導體製造裝置及半導體裝置的製造方法 |
KR1020170103542A KR101970401B1 (ko) | 2016-09-12 | 2017-08-16 | 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
CN201710711863.3A CN107818941B (zh) | 2016-09-12 | 2017-08-18 | 半导体制造装置及半导体器件的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016177850A JP6637397B2 (ja) | 2016-09-12 | 2016-09-12 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018046060A true JP2018046060A (ja) | 2018-03-22 |
JP6637397B2 JP6637397B2 (ja) | 2020-01-29 |
Family
ID=61600903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016177850A Active JP6637397B2 (ja) | 2016-09-12 | 2016-09-12 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6637397B2 (ja) |
KR (1) | KR101970401B1 (ja) |
CN (1) | CN107818941B (ja) |
TW (1) | TWI639210B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020047759A (ja) * | 2018-09-19 | 2020-03-26 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 |
JP2020072125A (ja) * | 2018-10-29 | 2020-05-07 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 電子部品のピックアップ装置及び実装装置 |
JP2020106642A (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | ミツミ電機株式会社 | 光走査装置 |
US11018038B2 (en) | 2018-10-05 | 2021-05-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus for sawing a semiconductor package |
JP2022504581A (ja) * | 2018-10-15 | 2022-01-13 | ベシ スウィツァランド エージー | ダイエジェクタ |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7217605B2 (ja) * | 2018-09-21 | 2023-02-03 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置、突上げ治具および半導体装置の製造方法 |
US11232968B2 (en) * | 2018-09-28 | 2022-01-25 | Rohinni, LLC | Variable pitch multi-needle head for transfer of semiconductor devices |
KR102656718B1 (ko) * | 2018-11-05 | 2024-04-12 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝팅 장치 |
CN109935545B (zh) * | 2019-01-22 | 2022-03-18 | 厦门市三安集成电路有限公司 | 一种挑起不同尺寸晶片的顶针模组 |
JP7274902B2 (ja) * | 2019-03-25 | 2023-05-17 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
KR102386339B1 (ko) * | 2019-12-19 | 2022-04-13 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝터 및 이를 포함하는 다이 이송 장치 |
TWI796750B (zh) * | 2021-08-05 | 2023-03-21 | 梭特科技股份有限公司 | 中心接觸的無衝擊力固晶方法 |
TWI832358B (zh) * | 2022-08-02 | 2024-02-11 | 梭特科技股份有限公司 | 晶粒剝離方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61267656A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の突上げ装置 |
JPH0330443A (ja) * | 1989-06-28 | 1991-02-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Icベアーチップの移載装置 |
JP2003289084A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体素子ピックアップ装置 |
JP2015053440A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ | ダイボンダ及びボンディング方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100196287B1 (en) | 1996-09-13 | 1999-06-15 | Samsung Electronics Co Ltd | Plunger up shaft of die bonding equipment |
CN100343963C (zh) * | 2004-09-03 | 2007-10-17 | 财团法人工业技术研究院 | 多针顶出装置 |
JP2010129949A (ja) | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 部品供給装置 |
US8470130B2 (en) * | 2009-10-20 | 2013-06-25 | Asm Assembly Automation Ltd | Universal die detachment apparatus |
JP5141707B2 (ja) * | 2010-03-24 | 2013-02-13 | 株式会社安川電機 | 被処理体の支持機構、支持方法およびそれを備えた搬送システム |
JP5123357B2 (ja) | 2010-06-17 | 2013-01-23 | 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ | ダイボンダ及びピックアップ装置 |
JP5686469B2 (ja) * | 2011-01-28 | 2015-03-18 | 富士機械製造株式会社 | ダイ供給装置 |
JP5805411B2 (ja) * | 2011-03-23 | 2015-11-04 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダのピックアップ方法およびダイボンダ |
KR101304030B1 (ko) * | 2011-12-08 | 2013-09-04 | 리드텍(주) | 반도체 칩 픽업용 이젝션장치 |
KR101397750B1 (ko) | 2012-07-25 | 2014-05-21 | 삼성전기주식회사 | 칩 이젝터 및 이를 이용한 칩 탈착 방법 |
CN104347457B (zh) * | 2014-09-17 | 2017-01-11 | 华中科技大学 | 一种适于顶针快速更换的芯片剥离装置 |
JP6324857B2 (ja) * | 2014-09-18 | 2018-05-16 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダ並びにボンディング方法及びピックアップ装置 |
-
2016
- 2016-09-12 JP JP2016177850A patent/JP6637397B2/ja active Active
-
2017
- 2017-07-20 TW TW106124362A patent/TWI639210B/zh active
- 2017-08-16 KR KR1020170103542A patent/KR101970401B1/ko active IP Right Grant
- 2017-08-18 CN CN201710711863.3A patent/CN107818941B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61267656A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の突上げ装置 |
JPH0330443A (ja) * | 1989-06-28 | 1991-02-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Icベアーチップの移載装置 |
JP2003289084A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体素子ピックアップ装置 |
JP2015053440A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ | ダイボンダ及びボンディング方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020047759A (ja) * | 2018-09-19 | 2020-03-26 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 |
JP7102305B2 (ja) | 2018-09-19 | 2022-07-19 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 |
US11018038B2 (en) | 2018-10-05 | 2021-05-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus for sawing a semiconductor package |
JP2022504581A (ja) * | 2018-10-15 | 2022-01-13 | ベシ スウィツァランド エージー | ダイエジェクタ |
JP2020072125A (ja) * | 2018-10-29 | 2020-05-07 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 電子部品のピックアップ装置及び実装装置 |
JP2020106642A (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | ミツミ電機株式会社 | 光走査装置 |
JP7227464B2 (ja) | 2018-12-27 | 2023-02-22 | ミツミ電機株式会社 | 光走査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101970401B1 (ko) | 2019-04-18 |
TWI639210B (zh) | 2018-10-21 |
CN107818941A (zh) | 2018-03-20 |
JP6637397B2 (ja) | 2020-01-29 |
CN107818941B (zh) | 2021-08-27 |
KR20180029852A (ko) | 2018-03-21 |
TW201812992A (zh) | 2018-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6637397B2 (ja) | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 | |
JP6086763B2 (ja) | コレットクリーニング方法及びそれを用いたダイボンダ | |
JP6889614B2 (ja) | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 | |
CN108346585B (zh) | 半导体制造装置及半导体器件的制造方法 | |
JP6941513B2 (ja) | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 | |
JP5669137B2 (ja) | ダイピックアップ装置 | |
JP2018129401A (ja) | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 | |
JP4735829B2 (ja) | チップ突き上げ装置 | |
JP3861710B2 (ja) | 電子部品供給装置および電子部品実装装置 | |
KR20190101293A (ko) | 볼 탑재 장치 | |
KR20190042419A (ko) | 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
JP3610941B2 (ja) | 電子部品実装装置 | |
JP2000022395A (ja) | 電子部品の実装方法および実装装置 | |
CN114792647A (zh) | 芯片贴装装置以及半导体器件的制造方法 | |
JP7340774B2 (ja) | 部品圧着装置および部品圧着方法 | |
JP7137306B2 (ja) | 電子部品装着装置 | |
JP2017041532A (ja) | チップ剥離装置、およびチップ剥離方法 | |
JP5060273B2 (ja) | 電子部品剥離装置 | |
JP6324860B2 (ja) | 半導体若しくは電子部品実装装置及び半導体若しくは電子部品実装方法 | |
JP3712695B2 (ja) | 半導体組立装置における製品供給装置 | |
JP7035273B2 (ja) | 電子部品剥離装置及び電子部品の剥離方法 | |
JP2006147705A (ja) | 半導体装置の移送装置および半導体装置の移送方法 | |
JP2005033065A (ja) | 電子部品ピックアップ装置、電子部品ピックアップ方法及び電子部品ピックアッププログラム | |
JP2000294603A (ja) | 電子部品の実装装置 | |
JP2003092304A (ja) | チップピックアップ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190306 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191004 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191008 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191210 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191220 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6637397 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |