JP2018003102A - 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置 - Google Patents

基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2018003102A
JP2018003102A JP2016132453A JP2016132453A JP2018003102A JP 2018003102 A JP2018003102 A JP 2018003102A JP 2016132453 A JP2016132453 A JP 2016132453A JP 2016132453 A JP2016132453 A JP 2016132453A JP 2018003102 A JP2018003102 A JP 2018003102A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
substrate holder
inspection
appearance
inspection apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016132453A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6695750B2 (ja
Inventor
向山 佳孝
Yoshitaka Mukoyama
佳孝 向山
横山 俊夫
Toshio Yokoyama
俊夫 横山
邦夫 大石
Kunio Oishi
邦夫 大石
誠章 木村
Masaaki Kimura
誠章 木村
淳平 藤方
Junpei Fujikata
淳平 藤方
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
Priority to JP2016132453A priority Critical patent/JP6695750B2/ja
Priority to US16/315,096 priority patent/US20200255968A1/en
Priority to PCT/JP2017/022028 priority patent/WO2018008343A1/en
Priority to KR1020197003253A priority patent/KR102425119B1/ko
Priority to TW106120556A priority patent/TWI724187B/zh
Publication of JP2018003102A publication Critical patent/JP2018003102A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6695750B2 publication Critical patent/JP6695750B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/001Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/004Sealing devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/005Contacting devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67207Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
    • H01L21/6723Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process comprising at least one plating chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68728Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a plurality of separate clamping members, e.g. clamping fingers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68735Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by edge profile or support profile

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】基板ホルダの検査を自動で行うことができる検査装置、めっき装置、及び外観検査装置を提供する。【解決手段】基板Wfと接触して基板に電流を流すための電気接点と、基板の表面をシールするシール部材とを有し、基板を保持する基板ホルダ30を検査する検査装置20。基板ホルダを収納するストッカ22を設置するストッカ設置部22aと、基板ホルダを洗浄するクリーニング装置50と、基板ホルダの開閉を行う基板脱着装置と、シール部及び電気接点の少なくとも一つの外観の画像データ又は形状データを取得するように構成される外観検査装置80と、基板ホルダを、ストッカ、クリーニング装置及び外観検査装置の間で搬送する搬送機70と、を有する検査装置。【選択図】図1

Description

本発明は、基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置に関する。
従来、めっき液を収納しためっき槽に、基板ホルダに保持された基板を鉛直方向に差し入れて電解めっきを行う装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。このようなめっき装置で使用される基板ホルダは、基板の表面をシールして、めっき液が入り込まない内部空間を形成する。基板ホルダは、この内部空間内において、基板の表面と接触して基板に電流を流すための電気接点を有する。
このような基板ホルダは、めっき処理には非常に重要な役割を果たしている。具体的には、基板ホルダの電気接点が適切に基板の表面に接触することにより、適切な電流が基板に流れ、均一なめっき膜を基板に形成することができる。また、基板ホルダが基板の表面を適切にシールすることにより、内部空間にめっき液が入り込むことを防止し、電気接点がめっき液と接触して腐食すること等を抑制している。言い換えれば、例えば、電気接点に破損や腐食が生じた場合、適切に基板に電流を流すことができない。また、例えば、基板ホルダのシール部に異常が生じた場合、めっき液が上記内部空間に入り込んでしまう。このため、基板ホルダに異常が生じているか否かを検査することは、適切なめっき処理を継続するためには重要な作業である。
特許第3979847号公報
従来、基板ホルダに異常が生じているか否かを定量的に判定する手法は確立されておらず、作業員の目視検査により異常の有無を判定していた。しかしながら、作業員が目視により基板ホルダの異常を検査する場合は、いくつかのデメリットがある。具体的には、異常の有無の判定基準が作業員によって異なり、異常を見逃し、その結果スクラップ基板を発生させる虞がある。また、検査自体に時間がかかるので、めっき生産量が低下する。さらに、基板ホルダの異常を検査するとき、基板ホルダの部品(基板押え部分)を取り外すので、部品の取り違えが発生する虞がある。
また、作業員が基板ホルダの異常を検査するときは、基板ホルダを収納している槽(ストッカ)に対して基板ホルダを出し入れする必要がある。しかしながら、近年、基板のサイズの大型化に伴って、基板ホルダのサイズも大型化してきている。基板ホルダは、例えば8kg程度の重さを有するので、作業員が基板ホルダを取り扱うときに、作業員が怪我をする虞がある。また、基板ホルダが重たいため、作業員がストッカに対して基板ホルダを出し入れするときに、基板ホルダの操作を誤ってストッカに接触させてしまう虞がある。上述したように、基板ホルダはめっき処理に非常に大きな影響を及ぼすので、基板ホルダに衝撃を加えると、めっき処理が適切に行われなくなる虞がある。
近年のめっき装置の生産性の向上により、めっき装置で使用される基板ホルダの数も増えてきている。このため、検査対象となる基板ホルダの数も膨大になり、複数の作業員で基板ホルダの異常を検査する場合、その検査の判断ミスが生じる可能性が高くなる。
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板ホルダの検査を自動で行うことができる検査装置、めっき装置、及び外観検査装置を提供することである。
本発明の一形態によれば、基板と接触して前記基板に電流を流すための電気接点と、前記基板の表面をシールするシール部材とを有し、前記基板を保持する基板ホルダを検査する検査装置が提供される。この検査装置は、前記基板ホルダを収納するストッカを設置するストッカ設置部と、前記基板ホルダを洗浄するクリーニング装置と、前記基板ホルダの開閉を行う基板脱着装置と、前記シール部及び前記電気接点の少なくとも一つの外観の画像データ又は形状データを取得するように構成される外観検査装置と、前記基板ホルダを、前記ストッカ、前記クリーニング装置及び前記外観検査装置の間で搬送する搬送機と、を有する。
この一形態によれば、ストッカ設置部に設置されたストッカから搬送機が基板ホルダを取り出し、基板脱着装置に搬送することができる。基板脱着装置で基板ホルダの開閉を行い、外観検査装置で検査を自動で行うことができる。また、必要に応じて、クリーニング装置は基板ホルダを洗浄することができる。したがって、基板ホルダの検査及び洗浄を自動で行うことができる。また、外観検査装置は、シール部又は電気接点の外観を検査することができる。具体的には、シール部又は電気接点の画像データ又は形状データを取得することができるので、取得した画像データ又は形状データを、正常なシール部又は電気接点の画像データ又は形状データと比較することにより、シール部又は電気接点の外観に異常が生じているか否かを検査することができる。
本発明の一形態において、前記基板ホルダは、前記基板を載置する面を有する第1保持部材と、前記シール部材及び前記電気接点を有し、且つ前記第1保持部材とともに前記基板を着脱自在に保持する第2保持部材と、を有する。前記基板脱着装置は、前記第2保持部材を前記第1保持部材から取り外した状態で維持するように構成される。前記外観検査装置は、前記シール部材及び前記電気接点の少なくとも一つの外観の画像データ又は形状データを取得する測定器と、前記測定器を前記第1保持部材と前記第2保持部材の間に移動させるアーム部と、を有する。
この一形態によれば、第1保持部材と第2保持部材の間に測定器を配置して、シール部材又は電気接点の外観の画像データ又は形状データを取得することができる。電気接点とシール部材は基板と接触するので、第2保持部材の第1保持部材と対向する側には、電気接点とシール部材の基板と接触する部分が位置している。このため、この一形態によれば、電気接点とシール部材の基板と接触する部分の画像データ又は形状データを取得することができる。
本発明の一形態において、前記基板ホルダの第2保持部材は、前記電気接点と接触して外部電源からの電流を前記電気接点に供給する中継接点部を有し、前記外観検査装置は、前記中継接点部の外観の画像データ又は形状データを取得するように構成される。
この一形態によれば、外観検査装置が、中継接点部の外観の画像データ又は形状データを取得することができる。取得した画像データ又は形状データを、正常な中継接点部の画像データ又は形状データと比較することにより、中継接点部の外観に異常が生じているか否かを検査することができる。
本発明の一形態において、前記基板ホルダは、外部電源と電気的に接続され、前記外部電源からの電流を前記電気接点に供給する外部接点部を有し、前記外観検査装置は、前記
外部接点部の外観の画像データ又は形状データを取得するように構成される。
この一形態によれば、外観検査装置が、外部接点部の外観の画像データ又は形状データを取得することができる。取得した画像データ又は形状データを、正常な外部接点部の画像データ又は形状データと比較することにより、外部接点部の外観に異常が生じているか否かを検査することができる。
本発明の一形態において、検査装置は、前記基板脱着装置にダミー基板を搬送するための基板搬送装置と、前記基板脱着装置で前記ダミー基板を保持させた前記基板ホルダを受け入れて、前記電気接点と前記ダミー基板との導通を確認する通電確認装置と、を有する。
この一形態によれば、検査装置は、電気接点とダミー基板との導通の可否を確認することができる。なお、ここでのダミー基板とは、基板の表面に形成される導電膜厚が製品基板に比べていっそう厳密に管理された基板をいう。言い換えれば、ダミー基板とは、所望の導電膜厚を有するように管理された較正用基板である。つまり、導電膜厚が厳密に管理されることで、ダミー基板の表面の抵抗率が厳密に管理される。
本発明の一形態において、検査装置は、前記基板脱着装置にダミー基板を搬送するための基板搬送装置と、前記基板脱着装置で前記ダミー基板を保持させた前記基板ホルダを受け入れて、前記シール部が前記ダミー基板の表面を正常にシールしているか否かを検査するリークチェック装置と、を有する。
この一形態によれば、検査装置は、基板ホルダのシール部がダミー基板を適切にシールできるか否かを確認することができる。なお、ここでのダミー基板とは、基板の表面に形成される膜厚が製品基板に比べていっそう厳密に管理された基板をいう。言い換えれば、ダミー基板とは、所望の導電膜厚を有するように管理された較正用基板である。
本発明の一形態において、検査装置は、前記搬送機、前記基板脱着装置、前記外観検査装置、及び前記クリーニング装置を制御する制御装置を有し、前記制御装置は、前記外観検査装置における検査の前に、前記クリーニング装置に前記基板ホルダを洗浄させる。
この一形態によれば、検査装置は、検査対象となった基板ホルダをまず一度洗浄し、その後洗浄した状態の基板ホルダの検査を行うことができる。
本発明の一形態において、検査装置は、前記搬送機、前記基板脱着装置、前記外観検査装置、及び前記クリーニング装置を制御する制御装置を有し、前記制御装置は、前記外観検査装置における検査において前記基板ホルダが正常でないと判定されたとき、前記クリーニング装置に前記基板ホルダを洗浄させる。
この一形態によれば、検査装置は、基板ホルダに異常が生じたと判定されたときに、自動的に基板ホルダを洗浄することができる。基板ホルダの異常が基板ホルダの汚染に起因するものである場合は、基板ホルダを洗浄することで基板ホルダを正常にすることができる。
本発明の一形態において、前記制御装置は、前記外観検査装置における前記検査において前記基板ホルダが正常でないと判定されて前記クリーニング装置において前記基板ホルダが洗浄された後、前記外観検査装置に前記基板ホルダを再び検査させる。
この一形態によれば、検査装置は、異常が生じたと判定された基板ホルダに対して洗浄
した後、外観検査装置により再び検査をすることができる。これにより、洗浄によって基板ホルダが正常になったか否かを確認することができる。
本発明の一形態において、前記検査装置は、前記基板ホルダを使用して前記基板にめっき処理を行うめっき装置と連結され、前記ストッカは、前記めっき装置と前記検査装置の前記ストッカ設置部との間を移動可能に構成される。
この一形態によれば、検査対象となった基板ホルダが収納されたストッカをめっき装置から検査装置に容易に移動させ、検査が終了した基板ホルダが収納されたストッカを検査装置からめっき装置に容易に移動させることができる。また、検査対象となった基板ホルダが収納されたストッカを検査装置に移動させ、これと同時に、検査装置内に配置された検査が終了した正常な基板ホルダを収納したストッカをめっき装置に移動させることもできる。これにより、基板ホルダが検査装置で検査されている間も、めっき装置で使用可能な基板ホルダの数が減らないので、めっき装置の生産性が低下することを防止することができる。
本発明の一形態において、前記基板ホルダを使用して前記基板にめっき処理を行うめっき装置が提供される。このめっき装置は、上記いずれかの検査装置を有する。
本発明の一形態によれば、基板と接触して前記基板に電流を流すための電気接点と、前記基板の表面をシールするシール部材とを有し、前記基板を保持する基板ホルダの外観を検査する外観検査装置が提供される。この外観検査装置は、前記シール部及び前記電気接点の少なくとも一つの外観の画像データ又は形状データを取得して、前記基板ホルダの外観が正常か否かを判定するように構成される。
この一形態によれば、基板ホルダのシール部又は電気接点の外観を自動的に検査することができる。具体的には、シール部又は電気接点の画像データ又は形状データを取得することができるので、取得した画像データ又は形状データを、例えば正常なシール部又は電気接点の画像データ又は形状データと比較することにより、シール部又は電気接点の外観に異常が生じているか否かを検査することができる。
第1実施形態に係る検査装置の概略全体配置図である。 基板ホルダの分解斜視図である。 外部接点部の拡大図である。 基板ホルダの拡大部分断面図である。 フィキシングユニットの概略側面図である。 基板ホルダの外観を検査する外観検査装置の一例を示す概略側断面図である。 基板ホルダの外観を検査する外観検査装置の他の一例を示す概略側断面図である。 クリーニング装置の全体構成を示す概略上面図である。 クリーニング装置が備える基板ホルダ洗浄槽を示す概略側断面図である。 クリーニング装置が備える基板ホルダ乾燥槽を示す概略側断面図である。 基板搬送機構の概略側面図である。 基板搬送機構の概略上面図である。 図1に示した制御装置が備える表示部に表示されるメニュー画面の一例を示す。 本実施形態に係る検査装置を用いた検査方法の一例を示すフロー図である。 本実施形態に係る検査装置を用いた検査方法の他の一例を示すフロー図である。 第2実施形態に係る検査装置の概略全体配置図である。
<第1実施形態>
以下、本発明の第1実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する図面において、同一の又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。図1は、第1実施形態に係る検査装置の概略全体配置図である。図1に示すように、この検査装置20は、1つ以上の基板ホルダ30を収納するように構成されたストッカ22と、基板ホルダ30を洗浄するためのクリーニング装置50と、基板ホルダ30の開閉を行い、基板ホルダ30に基板Wfを着脱するように構成されたフィキシングユニット60(基板脱着装置の一例に相当する)と、を備えている。ストッカ22と、クリーニング装置50と、フィキシングユニット60はこの順番に検査装置20内に配置される。基板Wfとしては、例えば検査用のダミー基板を使用することができる。ここで、ダミー基板とは、基板の表面に形成される導電膜厚が製品基板に比べてより厳密に管理された基板をいう。言い換えれば、ダミー基板とは、所望の導電膜厚を有するように管理された較正用基板である。
検査装置20は、さらに、ストッカ22、クリーニング装置50、及びフィキシングユニット60の間で基板ホルダ30を搬送するトランスポータ24(搬送機の一例に相当する)を有する。トランスポータ24は、ストッカ22、クリーニング装置50、及びフィキシングユニット60の側方に位置する。
フィキシングユニット60の近傍には、フィキシングユニット60に配置された基板ホルダ30の外観が正常か否かを検査する外観検査装置80と、この基板ホルダ30に導通確認用の基板Wfを搬送する基板搬送装置70と、が配置される。
フィキシングユニット60は、図示しないが、フィキシングユニット60に配置された基板ホルダ30のシール部(図4参照)が基板表面を正常にシールしているか否か(即ち、基板ホルダ30が基板を保持して液中に浸漬させたときにシール部からのリークが発生しないような正常な状態になっているか否か)を検査するリークチェック装置と、電気接点(図4参照)と基板Wfとの導通を確認する通電確認装置と、を備えている。リークチェック装置としては、例えば、日本国特許第5782398号、及び日本国特許公開第2015−63761号公報に開示された漏れ検査機構等を採用することができる。これらの文献の内容は、参照により本明細書に組み込まれる。また、通電確認装置としては、例えば、日本国特許第4067275号に開示された導通確認機構等を採用することができる。この文献の内容は、参照により本明細書に組み込まれる。
ストッカ22は、検査装置20の内外に移動可能に構成される。例えば、ストッカ22は、日本国特許第5642517号に開示されたキャスタを備えたワゴンを採用することができる。この文献の内容は、参照により本明細書に組み込まれる。検査装置20は、ストッカ22の位置を検知する図示しない位置センサを有する。これにより、検査装置20に搬入されたストッカ22が正常な位置にあるか否かを検知することができる。本実施形態において、検査装置20内のストッカ22を設置する領域をストッカ設置部22aという。ストッカ設置部22aは、単にストッカ22を設置するために確保された領域であってもよいし、ストッカ22を収納するためのフレーム部材等で画定された空間であってもよい。なお、本実施形態においては、ストッカ22は、図示しないめっき装置と検査装置20のストッカ設置部22aとの間を行き来するように構成される。ストッカ22がめっき装置内に配置されているとき、ストッカ22にはめっき装置で使用された基板ホルダ3
0が収容される。この基板ホルダ30を収容したストッカ22が検査装置20に搬入され、基板ホルダ30の状態が検査装置20で検査される。
トランスポータ24は、基板ホルダ30を把持するアーム部26を有する。トランスポータ24は、ストッカ22から基板ホルダ30を取り出し、クリーニング装置50又はフィキシングユニット60に搬送する。図示の例では、基板ホルダ30は、ストッカ22に鉛直方向に収納される。このため、トランスポータ24は、基板ホルダ30を把持したアーム部26を約90°回転させて、基板ホルダ30を水平にした状態で、フィキシングユニット60に基板ホルダ30を配置する。
検査装置20は、さらに、トランスポータ24、フィキシングユニット60、外観検査装置80、リークチェック装置、通電確認装置、及びクリーニング装置50と通信し、これらを制御する制御装置90を有する。制御装置90は、図示しないディスプレイ等の表示部を有し、検査装置20の設定等を表示することができる。
本実施形態の検査装置20において、フィキシングユニット60は、クリーニング装置50、外観検査装置80及び基板搬送装置70と隣接して設けられている。また、フィキシングユニット60とストッカ22との間で基板ホルダ30を搬送できる位置に、トランスポータ24が配置されている。本実施形態の検査装置20では、各ユニットがこのように配置されているので、基板ホルダ30に対して行われる一連の検査を、きわめて短時間にかつ連続的に実施することができる。
次に、図1に示した各部について詳細に説明する。図2は、基板ホルダ30の分解斜視図である。図2に示すように基板ホルダ30は、例えば塩化ビニル製で矩形平板状の第1保持部材31と、この第1保持部材31に対して着脱自在に構成される第2保持部材32とを有している。基板ホルダ30の第1保持部材31の略中央部には、基板Wfを載置するための載置面33が設けられている。また、第1保持部材31の載置面33の外側には、載置面33の周囲に沿って、内方に突出する突出部を有する逆L字状のクランパ34が等間隔に複数設けられている。
基板ホルダ30の第1保持部材31の端部には、基板ホルダ30を搬送したり吊下げ支持したりする際の支持部となる一対の略T字状のハンド35が連結されている。図1に示したストッカ22内において、ストッカ22の周壁上面にハンド35を引っ掛けることで、基板ホルダ30が垂直に吊下げ支持される。また、この吊下げ支持された基板ホルダ30のハンド35をトランスポータ24のアーム部26で把持して基板ホルダ30が搬送される。
また、ハンド35の一つには、外部電源と電気的に接続される外部接点部38が設けられている。この外部接点部38は、複数の配線を介して載置面33の外周に設けられた複数の中継接点部(図4参照)と電気的に接続されている。図3に示すように、外部接点部38は、複数の接点部38aから構成される。
第2保持部材32は、リング状のシールホルダ36を備えている。第2保持部材32のシールホルダ36には、シールホルダ36を第1保持部材31に押し付けて固定するための押えリング37が回転自在に装着されている。押えリング37は、その外周部において外方に突出する複数の突条部37aを有している。突条部37aの上面とクランパ34の内方突出部の下面は、回転方向に沿って互いに逆方向に傾斜するテーパ面を有する。
基板を保持するときは、まず、第2保持部材32を第1保持部材31から取り外した状態で、第1保持部材31の載置面33に基板Wfを載置し、第2保持部材32を取り付け
る。続いて、押えリング37を時計回りに回転させて、押えリング37の突条部37aをクランパ34の内方突出部の内部(下側)に滑り込ませる。これにより、押えリング37とクランパ34にそれぞれ設けられたテーパ面を介して、第1保持部材31と第2保持部材32とが互いに締付けられてロックされ、基板Wfが保持される。基板Wfの保持を解除するときは、第1保持部材31と第2保持部材32とがロックされた状態において、押えリング37を反時計回りに回転させる。これにより、押えリング37の突条部37aが逆L字状のクランパ34から外されて、基板Wfの保持が解除される。
図4は、基板ホルダ30の拡大部分断面図である。図4に示すように、第2保持部材32は、基板側シール部材39(シール部材の一例に相当する)と、基板側シール部材39をシールホルダ36に固定する第1固定リング40aとを有する。第1固定リング40aは、シールホルダ36にねじ等の締結具41aを介して取付けられる。また、第2保持部材32は、ホルダ側シール部材42と、ホルダ側シール部材42をシールホルダ36に固定する第2固定リング40bとを有する。第2固定リング40bは、シールホルダ36にねじ等の締結具41bを介して取付けられる。
シールホルダ36の外周部には段部が設けられており、この段部には押えリング37がスペーサ43を介して回転自在に装着されている。押えリング37は、第1固定リング40aの外周部によって脱出不能に装着されている。
第2保持部材32を第1保持部材31にロックすると、基板側シール部材39は基板Wfの表面外周部に圧接される。基板側シール部材39は均一に基板Wfに押圧され、これによって基板Wfの表面外周部と第2保持部材32との隙間をシールする。同様に、第2保持部材32を第1保持部材31にロックすると、ホルダ側シール部材42は第1保持部材31の表面に圧接される。ホルダ側シール部材42は均一に第1保持部材31に押圧され、これによって第1保持部材31と第2保持部材32との隙間をシールする。
図4に示すように、第2保持部材32は、基板Wfの周縁部と接触して、基板Wfに電流を流すための電気接点44を有する。電気接点44は、シールホルダ36の内周に沿って複数設けられる。また、第1保持部材31は、第2保持部材32を第1保持部材31に取り付けた状態において電気接点44と接触して、外部電源からの電流を電気接点44に供給する中継接点部49を有する。中継接点部49は、載置面33の周囲に沿って複数設けられる。中継接点部49は、外部接点部38と導通しており、これにより、外部電源から供給された電流が、外部接点部38、中継接点部49、及び電気接点44を介して、基板Wfの表面に供給される。
次に、図2に示したフィキシングユニット60の構成について説明する。図5は、フィキシングユニット60の概略側面図である。フィキシングユニット60は、第1保持部材31を載置する台座61と、フレーム62と、第2保持部材32を保持して第1保持部材31から着脱するアーム63と、アーム63を鉛直方向に移動させるアクチュエータ64と、を有する。アクチュエータ64は、フレーム62に固定され、アーム63を鉛直方向に移動させるだけでなく、周方向に回転させる。
図1に示したトランスポータ24によりフィキシングユニット60に搬送された基板ホルダ30は、台座61に水平に載置される。アクチュエータ64は、アーム63を下降させ、アーム63は第2保持部材32を保持する。アクチュエータ64は、第2保持部材32を保持したアーム63を周方向に回転させて、第2保持部材32と第1保持部材31とのロックを解除する。その後、アクチュエータ64は、図5に示すように、第2保持部材32を取り外した状態でアーム63を維持する。
フィキシングユニット60は、図1に示した外観検査装置80で基板ホルダ30の外観を検査するときに、第2保持部材32を第1保持部材31から取り外すように構成される。具体的には、フィキシングユニット60は、第2保持部材32の図4に示した基板側シール部材39、ホルダ側シール部材42、及び電気接点44が第1保持部材31の中継接点部49に対向するように、第2保持部材32を第1保持部材31から取り外した状態で維持する。続いて、図5に示すように、フィキシングユニット60が第2保持部材32を第1保持部材31から取り外した状態で、外観検査装置80は、測定器81を第1保持部材31と第2保持部材32との間に位置させる。外観検査装置80は、測定器81を水平方向に移動させる移動アーム82を有する。具体的には、外観検査装置80は、フィキシングユニット60に近づいてフィキシングユニット60の側面部に設けられた開口部(不図示)から移動アーム82をフィキシングユニット60内部に挿入するように構成される。また、外観検査装置80は、移動アーム82を支持する図示しない軸部、軸部を支える図示しない本体部を有し得る。さらに、測定器81が測定した信号情報は、測定器81の図示しない通信部から、信号受信部を有する制御部(不図示)へと有線又は無線によりデータが送信される。
図6は、基板ホルダ30の外観を検査する外観検査装置80の一例を示す概略側断面図である。また、図7は、基板ホルダ30の外観を検査する外観検査装置80の他の一例を示す概略側断面図である。図6に示すように、この外観検査装置80の一例は、移動アーム82の先端付近に測定器81とミラー83を有する。測定器81は、基板ホルダ30の外観の画像データを取得するカメラ等の撮像装置、又は基板ホルダ30の外観の形状データを取得する形状測定器等である。なお、測定器81が形状測定器である場合、測定器81はブルーレーザ等のレーザを対象に照射して形状データを取得する。
測定器81は、ミラー83を介して、第2保持部材32の基板側シール部材39、ホルダ側シール部材42、及び電気接点44の外観の画像データ又は形状データを取得する。また、移動アーム82は、孔84を有する。測定器81は、ミラー83を回転させることで、孔84を通じて第1保持部材31の中継接点部49(図4参照)の外観の画像データ又は形状データも取得することができる。測定器81は、さらに、移動アーム82を移動させ且つミラー83を回転させることで、第1保持部材31の図3に示した外部接点部38の外観の画像データ又は形状データも取得することができる。なお、測定器81自体が移動又は回転可能である場合は、ミラー83はなくてもよい。
外観検査装置80は、図示しない制御部及びメモリを有し、測定器81が測定した画像データ又は形状データは、制御部に送信される。制御部は、測定条件を設定するための条件設定画面を表示する表示部(不図示)、測定条件を入力する入力部(不図示)、コンピュータで読み取りが可能な記録媒体からなるメモリからプログラムを読み取るための読取部(不図示)を有する。メモリは、正常な基板ホルダ30の基板側シール部材39、ホルダ側シール部材42、電気接点44、中継接点部49、及び外部接点部38の外観の画像データ又は形状データを予め記憶する。また、メモリは、外観検査の一連の処理を外観検査装置80に実行させるためのプログラムを記録している。制御部は、このプログラムを読取部によって読み取り、測定器81が測定した画像データ又は形状データと、メモリに記憶された画像データ又は形状データとを比較し、基板ホルダ30の異常の発生の有無を判定する。具体的には、制御部は、電気接点44、中継接点部49、及び外部接点部38に折れ、破損、腐食等がないか、基板側シール部材39及びホルダ側シール部材42に傷等がないか、基板ホルダ30の内部空間にめっき液が入り込んでいないか(リークしていないか)等を判定する。基板ホルダ30のこの判定結果は、図1に示した制御装置90に送信される。上記メモリを構成する記録媒体としては、例えばCD−ROM、DVD、ハードディスク、コンパクトディスク、フラッシュメモリ、フレキシブルディスク、メモリーカード等が採用され得る。
図6に示す外観検査装置80では、移動アーム82がX−Y方向(水平方向)に移動可能に構成される。これにより移動アーム82に取り付けられた測定器81は、第2保持部材32の基板側シール部材39、ホルダ側シール部材42、及び電気接点44、並びに第1保持部材31の中継接点部49に沿うように、水平方向に移動することができる。
図7に示す外観検査装置80の他の一例では、図6に示した外観検査装置80と比べて、測定器81の移動機構が異なる。即ち、図7に示す外観検査装置80では、移動アーム82の一端に、鉛直方向に延びる回転軸86が設けられる。また、この回転軸86には、水平方向に延びる回転アーム85が設けられ、回転アーム85の先端付近には測定器81とミラー83が設けられる。回転アーム85は、回転軸86を中心に回転するように構成される。これにより、回転アーム85に取り付けられた測定器81は、第2保持部材32の基板側シール部材39、ホルダ側シール部材42、及び電気接点44、並びに第1保持部材31の中継接点部49に沿うように回転することができる。
なお、本実施形態では、フィキシングユニット60は、第2保持部材32を第1保持部材31から分離するように脱着して基板ホルダ30を開閉するように構成されている。しかしながら、これに限らず、基板ホルダ30が、第1保持部材31と第2保持部材32とがヒンジを介して結合される構成を有する場合は、フィキシングユニット60は、第1保持部材31に対する第2保持部材32の開度を調節することができる。この場合、フィキシングユニット60が第1保持部材31を開いた状態で、外観検査装置80が、露出した基板側シール部材39、ホルダ側シール部材42、及び電気接点44の外観の画像データ又は形状データを取得することができる。
次に、図1に示したクリーニング装置50について説明する。図8は、クリーニング装置50の全体構成を示す概略上面図である。図8に示すように、クリーニング装置50は、洗浄室151と、洗浄室151内に配置された基板ホルダ洗浄槽160と、乾燥室152と、乾燥室152内に配置された基板ホルダ乾燥槽161と、を有する。クリーニング装置50は、さらに、洗浄室151と乾燥室152に渡って配置される基板ホルダ搬送部153を有する。基板ホルダ搬送部153は、洗浄室151内で基板ホルダ30を把持して搬送する第1ハンド153aと、乾燥室152内で基板ホルダ30を把持して搬送する第2ハンド153bと、を有し、基板ホルダ洗浄槽160と基板ホルダ乾燥槽161との間で基板ホルダ30を搬送するように構成される。
また、クリーニング装置50は、洗浄室151と外部とを仕切る第1開閉部154と、洗浄室151と乾燥室152とを仕切る第2開閉部155と、乾燥室152と外部とを仕切る第3開閉部156とを有する。第1開閉部154、第2開閉部155、及び第3開閉部156は、例えばシャッター機構を有し、開閉自在に構成される。クリーニング装置50は、基板ホルダ洗浄槽160と洗浄室151からの洗浄に使用された洗浄液を排出するためのドレン管157を有する。
図9は、クリーニング装置50が備える基板ホルダ洗浄槽160を示す概略側断面図である。また、図10は、クリーニング装置50が備える基板ホルダ乾燥槽161を示す概略側断面図である。図9に示すように、基板ホルダ洗浄槽160は、基板ホルダ30を収納する洗浄槽本体51と、基板ホルダ30に純水等の洗浄液を供給する洗浄液供給ライン52と、基板ホルダ30に洗浄液を噴射する一対のノズル54a,54bと、を有する。ノズル54a,54bは、基板ホルダ30の両面に洗浄液を噴射することができるように互いに対向して洗浄槽本体51に配置される。洗浄液供給ライン52は、2つのノズル54a,54bに洗浄液を供給するように分岐しており、それぞれの分岐先にバルブ52a,52bを備える。
基板ホルダ30を洗浄するときは、まず、図8に示した基板ホルダ搬送部153により基板ホルダ30を洗浄槽本体51に収納する。続いて、洗浄液供給ライン52、バルブ52a,52b、及びノズル54a,54bを介して、基板ホルダ30に洗浄液を噴射して洗浄する。基板ホルダ30に噴射された洗浄液は、洗浄槽本体51に設けられた排出口53から排出される。洗浄された基板ホルダ30は、図10に示す基板ホルダ乾燥槽161で乾燥される。
図10に示すように、基板ホルダ乾燥槽161は、基板ホルダ30を収納する乾燥槽本体55と、基板ホルダ30に熱風を供給する熱風供給ライン56と、基板ホルダ30に熱風を吹き付ける一対のノズル57a,57bと、を有する。乾燥槽本体55は、収納された基板ホルダ30の周囲を覆うカバー55aを有する。これにより、基板ホルダ30に吹き付けられた熱風が拡散することを抑制し、効率よく基板ホルダ30を乾燥させることができる。ノズル57a,57bは、基板ホルダ30の両面に熱風を吹き付けることができるように互いに対向して乾燥槽本体55に配置される。熱風供給ライン56は、2つのノズル57a,57bに熱風を供給するように分岐しており、それぞれの分岐先にバルブ56a,56bを備える。なお、熱風としては、例えば、乾燥させた空気を用いることができる。
基板ホルダ30を乾燥するときは、まず、洗浄された基板ホルダ30を乾燥槽本体55に収納する。続いて、熱風供給ライン56、バルブ56a,56b、及びノズル57a,57bを介して、基板ホルダ30に熱風を吹き付けて乾燥させる。基板ホルダ30から落下した洗浄液は、乾燥槽本体55に設けられた排出口58から排出される。
なお、クリーニング装置50は、基板ホルダ30が基板を保持していない状態で、基板ホルダ30を洗浄・乾燥する。これにより、第1保持部材31と第2保持部材32との間に隙間が形成され、この隙間から洗浄液及び熱風が図3に示した基板ホルダ30の基板側シール部材39、ホルダ側シール部材42、電気接点44、及び中継接点部49に到達し、これらのシール部材及び接点を洗浄及び乾燥することができる。
次に、図1に示した基板搬送装置70について説明する。図11Aは、基板搬送装置70の概略側面図である。図11Bは、基板搬送装置70の概略上面図である。図11Aには、説明の便宜上、基板ホルダ30が示されている。図11A及び図11Bに示すように基板搬送装置70は、基板Wfを吸着する吸着部73と、吸着部73と連結したアーム部72と、アーム部72を水平方向に移動させる電動アクチュエータ71と、を有する。吸着部73は、例えば真空吸着等により基板Wfを保持する。
基板搬送装置70が基板ホルダ30に基板Wfを移載するときは、まず、基板ホルダ30を、図5に示したフィキシングユニット60の台座61に水平に載置する。続いて、基板載置台74に載置された基板Wfを吸着部73で保持し、電動アクチュエータ71により基板Wfを保持した吸着部73を移動させる。基板搬送装置70は、基板Wfを基板ホルダ30の第1保持部材31の載置面33上に位置させた状態で、吸着部73の吸着を解除し、基板Wfを載置面33に載置する。なお、基板Wfは、図示しない通電確認装置により基板ホルダ30と基板Wfとの導通を確認するため、及び図示しないリークチェック装置により基板ホルダ30のリークを確認するために使用される。このため、基板Wfとして、通電確認用及びリーク確認用にダミー基板を使用することができる。
フィキシングユニット60により第2保持部材32を第1保持部材31にロックして基板Wfを基板ホルダ30に保持させた状態で、図示しない通電確認装置により、基板ホルダ30と基板Wfとの導通が確認される。また、続いて図示しないリークチェック装置に
より、基板Wfを保持した基板ホルダ30が、基板側シール部材39及びホルダ側シール部材42にリークが発生していないか確認される。通電確認検査及びリークチェックが終了した後、フィキシングユニット60は第2保持部材32を第1保持部材31から取り外し、基板搬送装置70は、基板Wfを吸着して基板載置台74に戻す。以上で説明したように、通電確認装置で基板ホルダ30と基板Wfとの導通を確認するとき、又はリークチェック装置で基板ホルダ30のリークチェックを行うとき、基板Wfが基板搬送装置70により基板ホルダ30に搬送される。
図12は、図1に示した制御装置90が備える表示部に表示されるメニュー画面の一例を示す。図示のように、この画面には、項目として「洗浄」、「異常検査」、「正常検査」の3つが表示される。「洗浄」に対応する具体的な項目として「クリーニング」が表示される。これは、図9及び図10に示したクリーニング装置50における洗浄・乾燥処理を意味する。「異常検査」に対応する具体的な項目として「接点」、「漏れ」、「シール」が表示される。「接点」は、外観検査装置80による電気接点44、中継接点部49、及び外部接点部38の外観検査を意味する。「漏れ」は基板ホルダ30の内部空間にめっき液が入り込んでいないか(リークしていないか)に関する外観検査装置80の外観検査を意味する。「シール」は基板側シール部材39及びホルダ側シール部材42の外観検査装置80による外観検査を意味する。「正常検査」に対応する具体的な項目として「通電確認」及び「リークチェック」が表示される。「通電確認」は、通電確認装置による検査を意味し、「リークチェック」はリークチェック装置による検査を意味する。
画面の右方には、各検査項目に対する「有効」及び「無効」が表示される。制御装置90の表示部がタッチパネルである場合は、作業員が表示部をタッチすることで、各検査項目を「有効」とする即ち実施するか、「無効」とする即ち実施しないかを選択することができる。なお、表示部とは別の操作部を用いて、作業員が「有効」又は「無効」を選択できるようにしてもよい。
以上で説明した本実施形態の検査装置20は、検査装置20として独立した装置であるが、これに限らず、基板ホルダ30を使用して基板Wfにめっき処理を行うめっき装置に搭載されてもよい。この場合、めっき装置に設けられるめっき槽等の各処理槽からめっき液等の処理液を排出したものを、検査装置20のストッカ22として使用してもよい。言い換えれば、基板ホルダ30を収納することができる任意のケースをストッカ22として使用することができる。
次に、本実施形態の検査装置20を用いた検査方法について説明する。図13は、本実施形態に係る検査装置20を用いた検査方法の一例を示すフロー図である。まず、基板ホルダ30を検査装置20で検査するには、検査対象となる基板ホルダ30を収納したストッカ22を検査装置20に搬入する。(ステップS101)。次に、検査装置20の図示しない位置センサが、ストッカ22が正常位置、例えば図1に示すストッカ設置部22aにあるか否かを検知する(ステップS102)。ストッカ22が正常位置にあると判定されると(ステップS102,Yes)、図12に示したメニュー画面が制御装置90の表示部に表示される。作業員は、メニュー画面で各検査項目の「有効」又は「無効」を選択し(ステップS103)、制御装置90に設けられる図示しない検査スタートスイッチをオンする(ステップS104)。
検査が開始されると、まず、制御装置90は、図12に示したメニュー画面の項目「クリーニング」が有効になっているか否かを判定する(ステップS105)。「クリーニング」が有効であると判定された場合(ステップS105,Yes)、トランスポータ24は、基板ホルダ30をストッカ22から取り出し、クリーニング装置50に基板ホルダ30を搬送する。クリーニング装置50は、図9に示した基板ホルダ洗浄槽160で基板ホ
ルダ30を洗浄し(ステップS106)、図10に示した基板ホルダ乾燥槽161で基板ホルダ30を乾燥する(ステップS107)。「クリーニング」が有効でないと判定された場合(ステップS105,No)、ステップS106及びステップ107はスキップされる。
続いて、制御装置90は、図12に示したメニュー画面の項目「接点」が有効になっているか否かを判定する(ステップS108)。「接点」が有効であると判定された場合(ステップS108,Yes)、外観検査装置80は接点異常検査を行う(ステップS109)。具体的には、まず、トランスポータ24が、基板ホルダ30をフィキシングユニット60に搬送する。図5に示すように、フィキシングユニット60が第2保持部材32を第1保持部材31から取り外し、外観検査装置80により、基板ホルダ30の電気接点44、中継接点部49、及び外部接点部38の画像データ又は形状データを取得する。このとき、電気接点44、中継接点部49、及び外部接点部38の少なくとも一つの画像データ又は形状データを取得するようにしてもよい。外観検査装置80は、取得した画像データ又は形状データと、メモリに記憶された画像データ又は形状データとを比較し、電気接点44、中継接点部49、及び外部接点部38に折れ、破損、腐食等があるか否かを判定する。この判定結果は、制御装置90に送信される。「接点」が有効でないと判定された場合(ステップS108,No)、ステップS109はスキップされる。
続いて、制御装置90は、図12に示したメニュー画面の項目「漏れ」が有効になっているか否かを判定する(ステップS110)。「漏れ」が有効であると判定された場合(ステップS110,Yes)、外観検査装置80は漏れ異常検査を行う(ステップS111)。具体的には、図5に示すように、フィキシングユニット60が第2保持部材32を第1保持部材31から取り外し、外観検査装置80により、基板ホルダ30の内部の画像データ又は形状データを取得する。外観検査装置80は、取得した画像データ又は形状データと、メモリに記憶された画像データ又は形状データとを比較し、内部空間にめっき液が入り込んでいるか否かを判定する。なお、内部空間にめっき液が入り込んでいるか否かは、例えば、取得した画像データ中のめっき液の色に基づいて判定することができる。この判定結果は、制御装置90に送信される。「漏れ」が有効でないと判定された場合(ステップS110,No)、ステップS111はスキップされる。
続いて、制御装置90は、図12に示したメニュー画面の項目「シール」が有効になっているか否かを判定する(ステップS112)。「シール」が有効であると判定された場合(ステップS112,Yes)、外観検査装置80はシール異常検査を行う(ステップS113)。具体的には、図5に示すように、フィキシングユニット60が第2保持部材32を第1保持部材31から取り外し、外観検査装置80により、基板ホルダ30の基板側シール部材39及びホルダ側シール部材42の画像データ又は形状データを取得する。このとき、基板側シール部材39及びホルダ側シール部材42の少なくとも一つの画像データ又は形状データを取得するようにしてもよい。外観検査装置80は、取得した画像データ又は形状データと、メモリに記憶された画像データ又は形状データとを比較し、基板側シール部材39及びホルダ側シール部材42に傷等があるか否かを判定する。この判定結果は、制御装置90に送信される。「シール」が有効でないと判定された場合(ステップS112,No)、ステップS113はスキップされる。
続いて、制御装置90は、図12に示したメニュー画面の項目「通電確認」が有効になっているか否かを判定する(ステップS114)。「通電確認」が有効であると判定された場合(ステップS114,Yes)、フィキシングユニット60に設けられた図示しない通電確認装置が導通正常検査を行う(ステップS113)。具体的には、図11A及び図11Bに示す基板搬送装置70により基板Wfを基板ホルダ30に搬送し、基板ホルダ30に基板Wfを保持させる。この状態で、通電確認装置により電気接点44、中継接点
部49、及び外部接点部38を介した基板Wfへの通電の確認を行う。より具体的には、例えば、電気接点44を基板Wfに接触させた状態で、外部接点部38の複数の接点部38a(図3参照)の2つに電流を流し、その配線抵抗を測定する。測定した配線抵抗を所定の閾値と比較し、閾値よりも大きい場合は、導通が正常でないと判定する。この判定結果は、制御装置90に送信される。「通電確認」が有効でないと判定された場合(ステップS114,No)、ステップS115はスキップされる。
続いて、制御装置90は、図12に示したメニュー画面の項目「リークチェック」が有効になっているか否かを判定する(ステップS116)。「リークチェック」が有効であると判定された場合(ステップS116,Yes)、リークチェックを行う(ステップS117)。具体的には、図11A及び図11Bに示す基板搬送装置70により基板Wfを基板ホルダ30に搬送し、基板ホルダ30に基板Wfを保持させる。この状態で、フィキシングユニット60が備えた図示しないリークチェック装置により基板ホルダ30の基板側シール部材39が第1保持部材31と基板Wf表面との間を正常にシールしているか及びホルダ側シール部材42が第1保持部材31と第2保持部材32との間を正常にシールしているかを判定する。この判定結果は、制御装置90に送信される。「リークチェック」が有効でないと判定された場合(ステップS116,No)、ステップS117はスキップされる。
以上の各検査が終了した後、トランスポータ24は基板ホルダ30をストッカ22に収納し(ステップS118)、ストッカ22は、検査装置20から搬出される。以上で説明したように、検査対象となる基板ホルダ30には、作業員の選択に応じて各検査が実行される。また、図13に示す検査方法によれば、制御装置90は、外観検査装置80における検査及びリークチェック装置における検査の前に、クリーニング装置50に基板ホルダ30を洗浄させる。これにより、検査装置20は、検査対象となった基板ホルダ30をまず一度洗浄し、その後洗浄した状態の基板ホルダ30の検査を行うことができる。
図14は、本実施形態に係る検査装置20を用いた検査方法の他の一例を示すフロー図である。図14に示す検査方法は、図13に示した検査方法と比べて、クリーニング装置50による基板ホルダ30の洗浄(ステップS105−S107)が外観検査装置80における検査、通電確認装置における検査、及びリークチェック装置における検査の後に行われる点が異なる。また、図14に示すフローは、基板ホルダ30の洗浄が、基板ホルダ30に異常が生じたときに行われる。
図14に示す検査方法において、ステップS116で図12に示したメニュー画面の項目「リークチェック」が有効になっていないと判定されるか(ステップS116,No)、ステップS117でリークチェックが行われた後、図12に示したメニュー画面の項目「クリーニング」が有効になっているか否かが判定される(ステップS105)。「クリーニング」が有効であると判定された場合(ステップS105,Yes)、続いて、制御装置90は、先に実施した検査のいずれかにおいて、基板ホルダ30に異常があったか否かを判定する(ステップS120)。基板ホルダ30に異常があったと判定された場合は(ステップS120,Yes)、クリーニング装置50により、基板ホルダ30の洗浄及び乾燥が行われる(ステップS106,S107)。
一方で、ステップS105において、「クリーニング」が有効でないと判定された場合(ステップS105,No)又は先に実施した検査のいずれにおいても基板ホルダ30に異常がなかったと判定された場合(ステップS120,No)、ステップS106及びステップS107の処理はスキップされる。
続いて、制御装置90は、先に実施した検査のいずれかを繰り返すか否かを判定する(
ステップS121)。検査を繰り返すか否かは、作業員により、予め制御装置90に設定され得る。検査を繰り返すと判定された場合(ステップS121,Yes)、ステップS108に戻り、各検査が繰り返される。一方で、検査を繰り返さないと判定された場合(ステップS121,No)、基板ホルダ30はストッカ22に収納され(ステップS118)、検査装置20から搬出される(ステップS119)。
以上で説明したように、図14に示す検査方法によれば、検査装置20は、基板ホルダ30に異常が生じたと判定されたときに、自動的に基板ホルダ30を洗浄することができる。これにより、基板ホルダ30の異常が基板ホルダ30の汚染に起因するものである場合は、基板ホルダ30を洗浄することで基板ホルダ30を正常にすることができる。また、この検査方法によれば、検査装置20は、異常が生じたと判定された基板ホルダ30に対して洗浄した後、外観検査装置80、通電確認装置、及びリークチェック装置により再び検査をすることができる。これにより、洗浄によって基板ホルダ30が正常になったか否かを確認することができる。
<第2実施形態>
以下、本発明の第2実施形態について図面を参照して説明する。図15は、第2実施形態に係る検査装置20の概略全体配置図である。図15に示す検査装置20は、図1に示した検査装置20と比べて、基板ホルダ30を使用して基板Wfにめっき処理を行うめっき装置100と連結されている点が主に異なる。なお、図15においては、めっき装置100の具体的な構成は省略されている。また、この検査装置20は、複数のストッカ22を受け入れるストッカ設置部22aを備え、これらのストッカ22は、めっき装置100と検査装置20との間を移動可能に構成される。なお、本明細書において、検査装置20とめっき装置100との連結とは、検査装置20のストッカ22の出入り口とめっき装置100のストッカ22の出入り口とが連結していることを意味する。
ストッカ22は自動的にめっき装置100と検査装置20との間を移動するように構成されることが好ましい。例えば、検査装置20とめっき装置100が、ストッカ22の底面を支持して搬送する搬送ローラを備えることができる。或いは、ストッカ22が自走可能に構成されていてもよい。
めっき装置100が使用している基板ホルダ30を検査装置20で検査するためには、まず、検査対象となる基板ホルダ30を、めっき装置100に配置されたストッカ22に収納する。このストッカ22を検査装置20に移動させ、このストッカ22と交換に、検査装置20内に配置された正常な基板ホルダ30を収納したストッカ22をめっき装置100に移動させる。これにより、基板ホルダ30が検査装置20で検査されている間も、めっき装置100で使用可能な基板ホルダ30の数が減らないので、めっき装置100の生産性が低下することを防止することができる。
検査装置20で検査された基板ホルダ30を収納したストッカ22(検査済のストッカ22という)は、検査装置20内に保管しておくことができる。この場合、検査対象となる基板ホルダ30を収納した別のストッカ22がめっき装置100から搬送されたときに、検査済のストッカ22をめっき装置100に戻すようにしてもよい。或いは、検査済のストッカ22は、めっき装置100内にスペースがあれば、めっき装置100内に搬送して保管しておいてもよい。
以上、本発明の実施形態について説明したが、上述した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または
、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲及び明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、又は省略が可能である。
20…検査装置
22…ストッカ
22a…ストッカ設置部
24…トランスポータ
30…基板ホルダ
31…第1保持部材
32…第2保持部材
38…外部接点部
39…基板側シール部材
42…ホルダ側シール部材
44…電気接点
49…中継接点部
50…クリーニング装置
60…フィキシングユニット
70…基板搬送機構
80…外観検査装置
81…測定器
82…移動アーム
90…制御装置
100…めっき装置

Claims (12)

  1. 基板と接触して前記基板に電流を流すための電気接点と、前記基板の表面をシールするシール部材とを有し、前記基板を保持する基板ホルダを検査する検査装置であって、
    前記基板ホルダを収納するストッカを設置するストッカ設置部と、
    前記基板ホルダを洗浄するクリーニング装置と、
    前記基板ホルダの開閉を行う基板脱着装置と、
    前記シール部及び前記電気接点の少なくとも一つの外観の画像データ又は形状データを取得するように構成される外観検査装置と、
    前記基板ホルダを、前記ストッカ、前記クリーニング装置及び前記外観検査装置の間で搬送する搬送機と、を有する、検査装置。
  2. 請求項1に記載された検査装置において、
    前記基板ホルダは、前記基板を載置する面を有する第1保持部材と、前記シール部材及び前記電気接点を有し、且つ前記第1保持部材とともに前記基板を着脱自在に保持する第2保持部材と、を有し、
    前記基板脱着装置は、前記第2保持部材を前記第1保持部材から取り外した状態で維持するように構成され、
    前記外観検査装置は、前記シール部材及び前記電気接点の少なくとも一つの外観の画像データ又は形状データを取得する測定器と、前記測定器を前記第1保持部材と前記第2保持部材の間に移動させるアーム部と、を有する、検査装置。
  3. 請求項2に記載された検査装置において、
    前記基板ホルダの第2保持部材は、前記電気接点と接触して外部電源からの電流を前記電気接点に供給する中継接点部を有し、
    前記外観検査装置は、前記中継接点部の外観の画像データ又は形状データを取得するように構成される、検査装置。
  4. 請求項1から3のいずれか一項に記載された検査装置において、
    前記基板ホルダは、外部電源と電気的に接続され、前記外部電源からの電流を前記電気接点に供給する外部接点部を有し、
    前記外観検査装置は、前記外部接点部の外観の画像データ又は形状データを取得するように構成される、検査装置。
  5. 請求項1から4のいずれか一項に記載された検査装置において、
    前記基板脱着装置にダミー基板を搬送するための基板搬送装置と、
    前記基板脱着装置で前記ダミー基板を保持させた前記基板ホルダを受け入れて、前記電気接点と前記ダミー基板との導通を確認する通電確認装置と、を有する、検査装置。
  6. 請求項1から5のいずれか一項に記載された検査装置において、
    前記基板脱着装置にダミー基板を搬送するための基板搬送装置と、
    前記基板脱着装置で前記ダミー基板を保持させた前記基板ホルダを受け入れて、前記シール部が前記ダミー基板の表面を正常にシールしているか否かを検査するリークチェック装置と、を有する、検査装置。
  7. 請求項1から6のいずれか一項に記載された検査装置において、
    前記搬送機、前記基板脱着装置、前記外観検査装置、及び前記クリーニング装置を制御する制御装置を有し、
    前記制御装置は、前記外観検査装置における検査の前に、前記クリーニング装置に前記基板ホルダを洗浄させる、検査装置。
  8. 請求項1から7のいずれか一項に記載された検査装置において、
    前記搬送機、前記基板脱着装置、前記外観検査装置、及び前記クリーニング装置を制御する制御装置を有し、
    前記制御装置は、前記外観検査装置における検査において前記基板ホルダが正常でないと判定されたとき、前記クリーニング装置に前記基板ホルダを洗浄させる、検査装置。
  9. 請求項8に記載された検査装置において、
    前記制御装置は、前記外観検査装置における前記検査において前記基板ホルダが正常でないと判定されて前記クリーニング装置において前記基板ホルダが洗浄された後、前記外観検査装置に前記基板ホルダを再び検査させる、検査装置。
  10. 請求項1から9のいずれか一項に記載された検査装置において、
    前記検査装置は、前記基板ホルダを使用して前記基板にめっき処理を行うめっき装置と連結され、
    前記ストッカは、前記めっき装置と前記検査装置の前記ストッカ設置部との間を移動可能に構成される、検査装置。
  11. 前記基板ホルダを使用して前記基板にめっき処理を行うめっき装置であって、
    請求項1から9のいずれか一項に記載された検査装置を有する、めっき装置。
  12. 基板と接触して前記基板に電流を流すための電気接点と、前記基板の表面をシールするシール部材とを有し、前記基板を保持する基板ホルダの外観を検査する外観検査装置であって、
    前記シール部及び前記電気接点の少なくとも一つの外観の画像データ又は形状データを取得して、前記基板ホルダの外観が正常か否かを判定するように構成された、外観検査装置。
JP2016132453A 2016-07-04 2016-07-04 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置 Active JP6695750B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016132453A JP6695750B2 (ja) 2016-07-04 2016-07-04 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置
US16/315,096 US20200255968A1 (en) 2016-07-04 2017-06-07 Substrate-holder inspection apparatus, plating apparatus including the same, and appearance inspection apparatus
PCT/JP2017/022028 WO2018008343A1 (en) 2016-07-04 2017-06-07 Substrate-holder inspection apparatus, plating apparatus including the same, and appearance inspection apparatus
KR1020197003253A KR102425119B1 (ko) 2016-07-04 2017-06-07 기판 홀더 검사 장치, 이를 구비한 도금 장치, 및 외관 검사 장치
TW106120556A TWI724187B (zh) 2016-07-04 2017-06-20 基板固持器之檢查裝置、具備該檢查裝置之鍍覆裝置、及外觀檢查裝置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016132453A JP6695750B2 (ja) 2016-07-04 2016-07-04 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018003102A true JP2018003102A (ja) 2018-01-11
JP6695750B2 JP6695750B2 (ja) 2020-05-20

Family

ID=60912113

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016132453A Active JP6695750B2 (ja) 2016-07-04 2016-07-04 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20200255968A1 (ja)
JP (1) JP6695750B2 (ja)
KR (1) KR102425119B1 (ja)
TW (1) TWI724187B (ja)
WO (1) WO2018008343A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019137898A (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 株式会社荏原製作所 基板保持部材、基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体
JP2019189926A (ja) * 2018-04-27 2019-10-31 株式会社荏原製作所 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置
JP2020059868A (ja) * 2018-10-05 2020-04-16 株式会社荏原製作所 洗浄装置、これを備えためっき装置、及び洗浄方法
KR20200073142A (ko) 2018-12-13 2020-06-23 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 도금 가능한 기판의 매수를 예측하는 예측 모델을 구축하는 방법, 문제를 일으키는 구성 부재를 예상하기 위한 선택 모델을 구축하는 방법, 및 도금 가능한 기판의 매수를 예측하는 방법
CN111968928A (zh) * 2019-05-20 2020-11-20 应用材料公司 电镀密封件检查系统及侦测材料电镀的方法
JP7455608B2 (ja) 2020-02-25 2024-03-26 株式会社荏原製作所 洗浄方法及び洗浄装置

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11211282B2 (en) * 2018-06-15 2021-12-28 Applied Materials, Inc. Apparatus to reduce contamination in a plasma etching chamber
CN110745530A (zh) * 2018-07-24 2020-02-04 深圳市矽电半导体设备有限公司 一种物料传输自动线及其自动进出料方法
CN109273385A (zh) * 2018-09-13 2019-01-25 德淮半导体有限公司 基于机械臂的晶圆缺陷检测方法、机械臂、半导体设备
US11335588B2 (en) * 2019-06-18 2022-05-17 Ebara Corporation Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus
CN117940616A (zh) * 2021-09-03 2024-04-26 朗姆研究公司 晶片处理工具的机器视觉检测
TWI803048B (zh) * 2021-11-11 2023-05-21 日商荏原製作所股份有限公司 鍍覆裝置及基板清洗方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040012775A1 (en) * 2000-11-15 2004-01-22 Kinney Patrick D. Optical method and apparatus for inspecting large area planar objects
JP2005240108A (ja) * 2004-02-26 2005-09-08 Ebara Corp めっき装置及びめっき方法
JP2005307274A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Ebara Corp 基板処理装置
JP3979847B2 (ja) * 2000-03-17 2007-09-19 株式会社荏原製作所 めっき装置
JP2012107311A (ja) * 2010-10-21 2012-06-07 Ebara Corp めっき装置、めっき処理方法及びめっき装置用基板ホルダの姿勢変換方法
JP2014196555A (ja) * 2013-02-15 2014-10-16 ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation ウェハ保持装置上のメッキの検知
JP2015063761A (ja) * 2012-03-27 2015-04-09 株式会社荏原製作所 めっき方法及びめっき装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08178857A (ja) * 1994-12-21 1996-07-12 Nikon Corp 大型基板用異物検査装置
US6630996B2 (en) * 2000-11-15 2003-10-07 Real Time Metrology, Inc. Optical method and apparatus for inspecting large area planar objects
US20050236268A1 (en) * 2004-04-21 2005-10-27 Koji Mishima Substrate processing apparatus
US7659976B2 (en) * 2005-12-12 2010-02-09 Carl Zeiss Smt Ag Devices and methods for inspecting optical elements with a view to contamination
JP4807579B2 (ja) * 2006-09-13 2011-11-02 株式会社ダイフク 基板収納設備及び基板処理設備
US7894037B2 (en) * 2007-07-30 2011-02-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7935231B2 (en) * 2007-10-31 2011-05-03 Novellus Systems, Inc. Rapidly cleanable electroplating cup assembly
US9728435B2 (en) * 2010-10-21 2017-08-08 Ebara Corporation Plating apparatus and plating method
US9309603B2 (en) * 2011-09-14 2016-04-12 Applied Materials, Inc Component cleaning in a metal plating apparatus
JP6328582B2 (ja) * 2014-03-31 2018-05-23 株式会社荏原製作所 めっき装置、および基板ホルダの電気接点の電気抵抗を決定する方法
US9812344B2 (en) * 2015-02-03 2017-11-07 Applied Materials, Inc. Wafer processing system with chuck assembly maintenance module
US10174437B2 (en) * 2015-07-09 2019-01-08 Applied Materials, Inc. Wafer electroplating chuck assembly
US10687683B2 (en) * 2016-03-24 2020-06-23 Martin A. Alpert Washing or washing/sterilizing and drying or drying/sterilizing with optional independent sterilization apparatus with robotic arms

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3979847B2 (ja) * 2000-03-17 2007-09-19 株式会社荏原製作所 めっき装置
US20040012775A1 (en) * 2000-11-15 2004-01-22 Kinney Patrick D. Optical method and apparatus for inspecting large area planar objects
JP2005240108A (ja) * 2004-02-26 2005-09-08 Ebara Corp めっき装置及びめっき方法
JP2005307274A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Ebara Corp 基板処理装置
JP2012107311A (ja) * 2010-10-21 2012-06-07 Ebara Corp めっき装置、めっき処理方法及びめっき装置用基板ホルダの姿勢変換方法
JP2015063761A (ja) * 2012-03-27 2015-04-09 株式会社荏原製作所 めっき方法及びめっき装置
JP2014196555A (ja) * 2013-02-15 2014-10-16 ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation ウェハ保持装置上のメッキの検知

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019137898A (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 株式会社荏原製作所 基板保持部材、基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体
CN110158145A (zh) * 2018-02-13 2019-08-23 株式会社荏原制作所 基板保持部件、基板处理装置、基板处理装置的控制方法、保存有程序的存储介质
CN110158145B (zh) * 2018-02-13 2023-04-07 株式会社荏原制作所 基板保持部件、基板处理装置、基板处理装置的控制方法、保存有程序的存储介质
JP2019189926A (ja) * 2018-04-27 2019-10-31 株式会社荏原製作所 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置
CN110408982A (zh) * 2018-04-27 2019-11-05 株式会社荏原制作所 检查方法、检查装置以及具备该检查装置的电镀装置
CN110408982B (zh) * 2018-04-27 2023-06-16 株式会社荏原制作所 检查方法、检查装置以及具备该检查装置的电镀装置
JP7034880B2 (ja) 2018-10-05 2022-03-14 株式会社荏原製作所 洗浄装置、これを備えためっき装置、及び洗浄方法
JP2020059868A (ja) * 2018-10-05 2020-04-16 株式会社荏原製作所 洗浄装置、これを備えためっき装置、及び洗浄方法
US11461647B2 (en) 2018-12-13 2022-10-04 Ebara Corporation Method of constructing prediction model that predicts number of plateable substrates, method of constructing selection model for predicting component that causes failure, and method of predicting number of plateable substrates
KR20200073142A (ko) 2018-12-13 2020-06-23 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 도금 가능한 기판의 매수를 예측하는 예측 모델을 구축하는 방법, 문제를 일으키는 구성 부재를 예상하기 위한 선택 모델을 구축하는 방법, 및 도금 가능한 기판의 매수를 예측하는 방법
KR20200133673A (ko) * 2019-05-20 2020-11-30 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 플레이트-업 검출을 위한 시스템들 및 방법들
KR102324080B1 (ko) * 2019-05-20 2021-11-08 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 플레이트-업 검출을 위한 시스템들 및 방법들
CN111968928A (zh) * 2019-05-20 2020-11-20 应用材料公司 电镀密封件检查系统及侦测材料电镀的方法
US11781238B2 (en) 2019-05-20 2023-10-10 Applied Materials, Inc. Systems and methods for plate-up detection
JP7455608B2 (ja) 2020-02-25 2024-03-26 株式会社荏原製作所 洗浄方法及び洗浄装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2018008343A1 (en) 2018-01-11
TW201802298A (zh) 2018-01-16
KR102425119B1 (ko) 2022-07-26
US20200255968A1 (en) 2020-08-13
JP6695750B2 (ja) 2020-05-20
KR20190025011A (ko) 2019-03-08
TWI724187B (zh) 2021-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6695750B2 (ja) 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置
KR102171125B1 (ko) 기판 캐리어 퇴화 검출 및 수리
JP6979900B2 (ja) 基板保持部材、基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体
JP3603278B2 (ja) 蛍光x線分析システムおよびそれに用いるプログラム
JP3584262B2 (ja) 蛍光x線分析用試料前処理システムおよびそれを備えた蛍光x線分析システム
JP2015018848A (ja) 基板処理システム、基板処理システムの制御方法、及び記憶媒体
JP2015185571A (ja) 半導体ウェーハ用の研磨装置およびこれを用いた研磨方法
TWI409901B (zh) 基板處理裝置及半導體裝置之製造方法
JP2002026107A (ja) 基板処理装置
JP2010147361A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
TWI742229B (zh) 鍍覆裝置、鍍覆方法、基板架、電阻測定模組以及檢查基板架的方法
JP2008227148A (ja) 半導体ウエハの試験方法およびその装置
US10830834B2 (en) Current measuring module using inspection substrate and inspection substrate
JP6078186B2 (ja) めっき装置
JP5371413B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP4337581B2 (ja) 半導体ウエーハの両面研磨装置及び割れ検査方法
JP2005229131A (ja) 塗布、現像装置
JP6987693B2 (ja) 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置
JP2006179528A (ja) 基板処理装置の検査方法及び検査プログラム
JP2003151878A (ja) 基板処理装置
TW202023695A (zh) 清洗裝置、具備該清洗裝置的鍍覆裝置、及清洗方法
JP6841687B2 (ja) めっき装置およびめっき方法
JP2021091935A (ja) めっき装置およびめっき方法
JP2020051952A (ja) 電子部品搬送装置および電子部品検査装置
JP2013045797A (ja) フォトマスク洗浄システム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190327

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200319

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200403

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200422

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6695750

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250