JP2019137898A - 基板保持部材、基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体配置図である。この例では、基板処理装置100は、電解めっき装置である。ここでは、電解めっき装置を例に挙げて説明するが、本発明は、任意のめっき装置を含む任意の基板処理装置に適用可能である。
層等の導電層の表面の酸化膜がエッチング除去される。プリリンス槽110aでは、プリソーク後の基板Wが基板ホルダ11と共に洗浄液(純水等)で洗浄される。ブロー槽111では、洗浄後の基板の液切りが行われる。リンス槽110bでは、めっき後の基板Wが基板ホルダ11と共に洗浄液で洗浄される。めっき処理部112は、オーバーフロー槽を備えた複数のめっき槽112aを有する。各めっき槽112aは、内部に一つの基板Wを収納し、内部に保持しためっき液中に基板Wを浸漬させて基板表面に銅めっき等のめっきを行う。ここで、めっき液の種類は、特に限られることはなく、用途に応じて様々なめっき液が用いられる。なお、この基板処理装置100の処理部101Bの構成は、一例であり、他の構成を採用することが可能である。
持部材13と、基板ホルダ11を支持するためのハンガ15とを備えている。第1保持部材12は、基板Wを支持可能に構成されており、基板Wより大きな寸法を有し、平面視において概ね矩形形状である。ここでは、基板Wは、表面S1、裏面S2を有し、表面S1を被めっき面とし、第1保持部材12に支持される面を裏面S2とする。この例では、第1保持部材12の全体が透明な材料から構成されている。言い換えれば、第1保持部材12の全体を透明部12aで形成する。なお、図5A、Bのように第1保持部材12が基台80と突条部(支持基台)81とを備える場合は、基台80全体のみを透明材料から形成してもよいし、基台80と突条部81の全体を透明材料から形成してもよい。なお、透明の度合いは、第1保持部材12を介して基板ホルダ11の内部、つまり基板Wの裏面S2を観察可能な程度であればよい。透明材料は、例えば、透明樹脂(PET、PVC、アクリル、ポリカーボネートなど)、或いは強化ガラス等を使用することができる。第2保持部材13は、環状部材であり、基板Wの外周部を第1保持部材12とともに挟持して保持する。第2保持部材13の径方向内側は、基板Wの被めっき面である表面S1を露出する開口部13aを有する。第2保持部材13は、ヒンジ14によって第1保持部材12に対して開閉可能に構成されている。なお、基板ホルダ11の開閉機構は、ヒンジに限定されず、第2保持部材13を第1保持部材12に対向した位置に配置し、第2保持部材13を第1保持部材に向けて前進及び後進させて閉鎖及び開放する構成でもよい。ハンガ15は、第1保持部材12の一端側の両側に取り付けられている。ハンガ15の少なくとも一方には、外部の回路(例えば電源)と接続するための外部接続端子が設けられている。ハンガ15は、透明な材料から構成する必要はなく、従来の構成を採用してよい。
間α及び内側内部空間β(図5A〜図5C)を含む基板ホルダ11の内部空間への処理液の漏れを監視することができる。
部144がレール116に沿って移動することにより基板着脱部105、ストッカ107の間を移動可能であり、アーム部142が支柱部141に対して、図示しない昇降機構(ボールねじ機構、ラックピニオン機構等)により上下動して、基板着脱部105、ストッカ107に基板ホルダ11を搬入及び搬出することが可能に構成されている。
上記では、基板ホルダ11内部の基板Wの裏面S2を観察(視認、撮像)する例を説明したが、基板ホルダ11内部の基板Wの径方向外側の内部空間(外側内部空間)を観察するようにしてもよい。このように構成した場合も、基板ホルダ11内部への処理液のリークを検出することが可能である。また、基板裏面S2を観察する場合よりも、基板及び/又は基板保持部材の異常を早期に発見できる可能性がある。また、基板裏面S2の観察と、基板ホルダの外側内部空間の観察とを組み合わせてもよい。
る。撮像装置130、130Aは、透明部150、12bを介して、基板ホルダ11のシール部材60の内周側及び外周側のリップ部60a、60bの間にシールされた空間(外側内部空間α)を撮像する。
。脚部92aは、第2保持部材13が第1保持部材12に対して閉じられたとき、第1保持部材12の導電体88に接触し、導電体88と電気接点92とを電気的に接続する。接点端部92bは、板ばね状に弾性を有して設けられ、第2保持部材13が第1保持部材12に対して閉じられたとき、基板Wの外周部に接触し、電気接点92と基板Wとを電気的に接続する。これにより、ハンガ15の少なくとも一方に設けられた外部接続接点が、導電体88、電気接点92を介して基板Wに電気的に接続され、外部の電源から外部接続接点、導電体88、電気接点92を介して基板Wに電流が供給される。
部90dと、透明部90cがそれぞれ別体で形成され、互いに固定される。固定方法は、接着、融着等の接合、締結部材による締結、その他任意の固定方法を採用することができる。また、透明部150を透明部17c、透明部60c、透明部90cから構成することに代えて、一体の透明部としてもよい。この場合、一体の透明部150に対して、基部17の内周部17a、外周部17b、シール部材60の内側シール部61a、外側シール部61b、並びに、支持体90の外周部90dを固定してもよい。
図7は、基板処理装置の制御構成を説明する説明図である。基板処理装置100は、主に、装置コンピュータ120と、装置コントローラ121と、画像診断端末122とによって制御される。装置コンピュータ120、装置コントローラ121、及び画像診断端末122は、協働して、基板ホルダ内部監視制御(後述)を含む基板処理装置100の種々の制御を実行する。
稼働前に、大量の教師データを収集し、画像診断端末122に予め学習させてから装置へ組み込んでもよい。異常のレベルは、例えば、「発生無」、「軽微」、「軽度」、「中度」、「重度」のように複数の分類に区分することができる。「発生無」は、基板及び/又は基板ホルダが正常であることを示す。画像診断は、例えば、画像データのうち濃淡及び/又は色の異なる領域の面積、幅、及び/又は長さに基づいて実施してもよい。画像データのうち濃淡及び/又は色の異なる領域の面積、幅、及び/又は長さに基づいて、異常の程度を数値化したものを使用して、異常のレベルを推定してもよい。レベルごとに、基板及び/又は基板ホルダの使用継続の可否、回収可否などを割り当ててもよい。複数の基板ホルダの画像データを診断結果とあわせてサーバ123に集め、基板ホルダ毎に一元的に状態(診断結果、例えば、異常の有無、レベル)を表示するモニタを設けてもよい。複数の基板処理装置における大量の基板ホルダの監視画像から特徴量を算出し、その特徴量データをサーバに送り、多層ニューラルネットワーク(DNN)上で学習させ、学習済みのDNNパラメータを使用して基板処理装置側で基板及び/又は基板ホルダの状態を診断してもよい。DNNパラメータは、例えば、異常の有無、又は、異常のレベルを判断するための閾値等の判断基準を含むことができる。また、複数の基板処理装置における大量の基板ホルダの監視画像(基板ホルダの内部空間、基板面の画像を含む)から特徴量を算出し、その特徴量データをサーバに送り、多層ニューラルネットワーク(DNN)上で学習させ、サーバ123において、基板及び/又は基板ホルダの状態を診断してもよい。学習のためサーバ123に集められた特徴量データに対し、予め教師データを付加してもよい。また、複数の基板処理装置のコンピュータと、画像診断サーバ123とをフォグ又はエッジコンピューティング構成によって接続してもよい。
図8は、基板ホルダ内部監視制御のフローチャートである。
ステップS10では、装置コントローラ121は、基板ホルダ11の撮像タイミングになったか否かを判定する。撮像タイミングになっていない場合は、撮像タイミングになるまでステップS10の処理を繰り返す。
(1)基板着脱部105における基板ホルダ11への処理前基板Wの装着時において、第1保持部材12に基板Wを設置し、第2保持部材13を閉じる前後(図3A、B)
(2)基板着脱部105における基板ホルダ11への処理後基板Wの脱離時において、基板Wを保持する第1保持部材12に対して第2保持部材13を開放する前後(図3A、B)
(3)第1又は第2トランスポータ114、115によって基板ホルダ11を搬送中(図4A、B)、
(4)第2トランスポータ115によって基板ホルダ11を各処理槽から取り出したとき(図4A、B)、
(5)各処理槽において基板Wを処理中(図6)、
(6)第1トランスポータ114によって基板ホルダ11をストッカ107から取り出したとき(図4A、B)
含む。異常のレベルは、異常の種類(基板割れ、リーク)ごとに、例えば、「発生無」(異常なし)、「軽微」、「軽度」、「中度」、「重度」のように複数の分類に区分してもよい。画像診断端末122は、診断結果を装置コントローラ121に出力し、装置コントローラ121は、診断結果をさらに装置コンピュータ120に送る。
なお、上記では、円形のウェハを保持するための片面めっき用の基板ホルダについて述べたが、角形その他の任意の形状の基板を保持する基板ホルダ、任意の形状の基板の両面をめっきするための基板ホルダにおいても、基板ホルダの一部を透明部で構成することにより、上記実施形態を適用することができる。
この形態によれば、透明部を介して基板保持部材の内部、及び/又は基板保持部材の内部の基板の面を観察、監視し、基板及び/又は基板ホルダの異常を検出することが可能である。これにより、基板処理装置内の1又は複数の位置で基板保持部材の内部を観察、監視することができる。また、基板処理装置内における1又は複数の適切な場所及び/又は時点で、透明部を介して基板保持部材の内部、及び/又は基板保持部材の内部の基板を観察、監視することができる。基板及び/又は基板保持部材の異常が発生した時点を把握することができるので、異常の原因究明にかかる時間を短縮して、装置の生産性向上を図ることができる。また、基板割れを検出した時点で、後続の処理槽への基板保持部材の投入を防止することができるので、後続の処理槽への基板の破片の落下を防止することができる。また、基板保持部材の内部への処理液のリークを検出した時点で、後続の処理槽への基板保持部材の投入を防止することができるので、リークした処理液による後続の処理槽の汚染を防止することができる。また、リークした処理液による基板及び基板保持部材の接点が腐食されるのを防止することができる。なお、基板保持部材内部の基板の面を観察、監視することに加えて、または、それに代えて、基板保持部材から露出する基板の面を観察、監視するようにしてもよい。本形態は、円形、角形その他任意の形状の基板用の基板保持部材に適用可能である。
この形態によれば、透明部は基板保持部材の内部を観察可能な透明度を持って構成されている。よって、透明部を介して基板保持部材の内部、基板保持部材内部の基板の面を観察、監視することが可能である。
基板を基板保持部材に保持した状態で、基板保持部材の内部に収容される基板裏面を観察、監視することができる。
この場合、基台全体を透明な材料で形成するので、製造が容易である。
この場合、支持部がさらに透明であるので、基板裏面の外周部まで含む全域を観察、監視することができる。
この形態によれば、基板保持部材内部の基板外側の空間(外側内部空間)を観察、監視することができる。
この場合、基板保持部材の側方から基板保持部材の外側内部空間を観察、監視することができる。
この場合、基板保持部材の正面側から基板保持部材の外側内部空間を観察、監視することができる。
この形態によれば、基板保持部材が縦向きで処理される場合に、リークした処理液が蓄積し易いシール空間最下部を、透明部を介して観察することができるので、処理液のリークの検出精度を向上させることができる。
この形態によれば、透明部を介して電気接点の腐食具合や、電気接点と基板の接触箇所の変色を監視することができる。
この形態によれば、第1乃至6形態で述べた作用効果を奏する。
この形態によれば、第1形態と同様の作用効果を奏する。また、撮像装置により観察、監視するので、画像認識処理を介して、基板及び/又は基板保持部材の異常検出の自動化を図ることができる。この形態も、円形、角形その他任意の形状の基板用の基板保持部材に適用可能である。
この形態によれば、処理前の基板が基板保持部材に設置されるタイミング、処理後の基板が基板保持部材から取り外されるタイミングで、基板保持部材及び/又は基板を観察、監視することができる。
この形態によれば、基板保持部材が搬送装置に保持されている間、適宜のタイミングで、基板及び/又は基板保持部材を観察、監視することができる。例えば、基板保持部材が基板着脱部からストッカ又は処理槽に搬送される間、基板が処理槽から引き揚げられた時
点、処理槽及びストッカの間を搬送される間に、基板及び/又は基板保持部材を観察、監視することができる。
この形態によれば、基板処理装置内において搬送装置によって撮像装置を移動させることができるので、撮像装置用の移動機構を別途設ける必要がない。
この形態によれば、撮像装置を基板保持部材及び搬送機構とは独立に移動することができる。
この形態によれば、基板保持部材に保持された基板を処理槽内で処理中において、処理槽の透明な部分、基板保持部材の透明部を介して、基板保持部材の内部、及び/又は基板保持部材の内部の基板を観察、監視することができる。
この形態によれば、制御装置が撮像された画像データを演算することにより、基板及び/又は基板保持部材の異常を検出することができる。
この形態によれば、例えば、多層ニューラルネットワーク等の機械学習により、異常を判定する基準を学習するため、判定精度、検出精度を向上し得る。
この形態によれば、基板及び/又は基板保持部材の異常を判定する際に、当該基板処理装置以外の基板処理装置における撮像画像データに基づいた判定基準、又は、当該基板処理装置以外の基板処理装置における撮像画像データに基づいた判定基準と当該基板処理装置における撮像画像データに基づいた判定基準とを組み合わせて使用できるため、判定精度、検出精度を向上し得る。
この形態によれば、撮像画像の劣化を予防することができ、検出処理の信頼性を向上し得る。
この形態によれば、第1形態と同様の作用効果を奏する。本形態は、円形、角形その他任意の形状の基板用の基板保持部材に適用可能である。
この形態によれば、第1形態と同様の作用効果を奏する。本形態は、円形、角形その他任意の形状の基板用の基板保持部材に適用可能である。
12…第1保持部材
13…第2保持部材
13a…開口部
14…ヒンジ
15…ハンガ
17…基部
30…撮像装置
60…シール部材
60a…リップ部
60b…リップ部
60c…透明部
61a…内側シール部
61b…外側シール部
80…基台
81…突条部
82…支持面
83…凹部
88…導電体
90…支持体
90a…基端部
90b…遠位部
90c…透明部
90d…外周部
92…電気接点
92a…脚部
92b…接点端部
100…基板処理装置
101A…ロード/アンロード部
101B…処理部
102…カセットテーブル
103…基板搬送装置
103a…搬送ロボット
104…アライナ
105…基板着脱部
105a…基板着脱装置
105b…フィキシングテーブル
105c…フィキシングヘッド
106…スピンドライヤ
107…ストッカ
108…プリウェット槽
109…プリソーク槽
110a…プリリンス槽
111…ブロー槽
110b…リンス槽
112…めっき処理部
112a…めっき槽
113…基板ホルダ搬送装置
114…第1トランスポータ
115…第2トランスポータ
116…レール
120…装置コンピュータ
120A…CPU
120B…メモリ
121…装置コントローラ
122…画像診断端末
12a…透明部
130…撮像装置
131…ホルダ
132…上下移動機構
133…前後移動機構
134…横移動機構
135…走行移動機構
136…支柱部
137…ベース部
141…支柱部
142…アーム部
143…把持部
144…ベース部
Claims (20)
- 第1保持部材と、
前記第1保持部材との間に基板を保持する第2保持部材と、
前記第1保持部材及び前記第2保持部材の少なくとも一方に設けられた透明部と、
を備える基板保持部材。 - 請求項1に記載の基板保持部材において、
前記透明部は、該透明部を介して前記第1保持部材及び/又は前記第2保持部材の内部を観察可能に構成されている、基板保持部材。 - 請求項1に記載の基板保持部材において、
前記第2保持部材は、前記基板の第1面を露出する開口部を有し、
前記透明部は、少なくとも前記基板の前記第1面の反対側の第2面に対応する部分において、前記第1保持部材に設けられている、基板保持部材。 - 請求項1に記載の基板保持部材において、
前記第2保持部材は、前記基板と前記第2保持部材との間をシールする第1シール部と、前記第1保持部材と前記第2保持部材との間をシールする第2シール部とを有し、
前記透明部は、前記第1シール部材と前記第2シール部材とでシールされた空間内を観察可能に、前記第1保持部材及び/又は前記第2保持部材に設けられている、基板保持部材。 - 請求項4に記載の基板保持部材において、
前記透明部は、前記基板保持部材が縦向きに支持されたときに、前記シールされた空間において最下部となる位置に対応して設けられている、基板保持部材。 - 請求項4に記載の基板保持部材において、
前記透明部は、前記第1保持部材及び/又は前記第2保持部材において、前記基板に電流を供給するための電気接点に対応する位置に設けられている、基板保持部材。 - 請求項1乃至6の何れかに記載の基板保持部材を備えた、基板処理装置。
- 少なくとも一部に透明部を有する、基板を保持するための基板保持部材と、
前記基板保持部材の前記透明部を介して、前記基板保持部材の内側を撮像する撮像装置と、
を備えた基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置において、
前記基板保持部材に対して前記基板を着脱するための基板着脱部を更に備え、
前記撮像装置は、前記基板着脱部に配置されている、基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置において、
前記基板保持部材を搬送する搬送装置を更に備え、
前記撮像装置は、前記搬送装置に保持された前記基板保持部材の内部を撮像するように配置されている、基板処理装置。 - 請求項10に記載の基板処理装置において、
前記撮像装置は、前記搬送装置に取り付けられている、基板処理装置。 - 請求項10に記載の基板処理装置において、
前記撮像装置は、前記搬送装置とは独立の移動機構に取り付けられている、基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置において、
前記基板を処理するための処理槽を更に備え、
前記処理槽の少なくとも一部は、透明な材質で形成されており、
前記撮像装置は、前記基板保持部材が前記処理槽内に設置されたとき、前記処理槽の前記透明な材質の部分、前記基板保持部材の前記透明部を介して、前記基板保持部材の内側を撮像する、基板処理装置。 - 請求項8乃至13の何れかに記載の基板処理装置において、
前記撮像装置は、前記基板保持部材内部の前記基板の面、及び、前記基板保持部材内部の前記基板の径方向外側のシールされた空間の少なくとも一方を撮像し、
前記基板処理装置は、撮像された画像データに基づいて、前記基板及び/又は前記基板保持部材の異常を検出する制御装置を更に備える、基板処理装置。 - 請求項14に記載の基板処理装置において、
前記制御装置は、前記基板の正常及び/又は異常時の複数の画像に基づいて、前記基板及び/又は基板ホルダの異常の有無及び/又は程度を判定する判定基準を学習し、前記学習した判定基準を使用して前記画像データから前記基板及び/又は基板ホルダの異常の有無及び/又は程度を判定する、基板処理装置。 - 請求項14に記載の基板処理装置において、
前記基板処理装置は、複数の基板処理装置から収集した画像データに基づいて、前記基板及び/又は基板ホルダの異常の有無及び/又は程度を判定する判定基準を学習するサーバに有線又は無線を介して接続されており、
前記制御装置は、前記サーバにおいて学習された判定基準に基づいて、前記撮像された画像データから前記基板及び/又は基板ホルダの異常の有無及び/又は程度を判定する、基板処理装置。 - 請求項14乃至16の何れかに記載の基板処理装置において、
前記基板及び/又は前記基板保持部材の異常は、前記基板のひび、及び、前記基板保持部材内への処理液の漏れの少なくとも一方を含む、基板処理装置。 - 請求項14に記載の基板処理装置において、
前記制御装置は、前記画像データに基づいて、前記透明部の透明度の劣化を判定する、基板処理装置。 - 基板処理装置を制御する方法であって、
少なくとも一部に透明部を有する基板保持部材に基板を保持すること、
前記基板保持部材の前記透明部を介して、前記基板保持部材の内部を撮像すること、
撮像された画像データに基づいて、前記基板及び/又は基板ホルダの異常を検出すること、
ことを含む方法。 - 基板処理装置を制御する方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体であって、
少なくとも一部に透明部を有する基板保持部材に基板を保持すること、
前記基板保持部材の前記透明部を介して、前記基板保持部材の内部を撮像すること、
撮像された画像データに基づいて、前記基板及び/又は基板ホルダの異常を検出すること、
をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体。
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