TW201935609A - 基板保持部件、基板處理裝置、基板處理裝置的控制方法、保存有程式的存儲介質 - Google Patents

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Abstract

本發明提供基板保持部件、基板處理裝置、基板處理裝置的控制方法、保存有程式的存儲介質，能在基板處理裝置中儘早發現基板及/或基板保持部件的異常。該基板保持部件具有：第1保持部件；在與上述第1保持部件之間保持基板的第2保持部件；和設在上述第1保持部件及上述第2保持部件中的至少一方的透明部。

Description

基板保持部件、基板處理裝置、基板處理裝置的控制方法、保存有程式的存儲介質
本發明涉及基板保持部件、基板處理裝置、基板處理裝置的控制方法、保存有用於使電腦執行基板處理裝置的控制方法的程式的存儲介質。
在鍍覆裝置中，具有對安裝於基板保持件的基板進行鍍覆處理的鍍覆裝置（例如專利文獻1）。在當前使用的單面鍍覆用的基板保持件中，在使基板的表面從基板保持件的開口部露出、且將基板的背面收納於基板保持件內部的被密封的空間的狀態下，對基板的表面實施鍍覆處理。在這樣的單面鍍覆用的基板保持件中，具有因密封部的不良、劣化而引起處理液（藥液）漏泄到基板保持件內部的情況。另外，具有在搬入鍍覆裝置前在基板的背面存在裂痕或裂紋的情況、在鍍覆裝置中在基板的背面產生裂痕或裂紋的情況。但是在現有的鍍覆裝置中，由於沒有檢測基板背面的裂痕、裂紋和處理液向基板保持件內部的漏泄是在什麼時刻產生的手段，所以具有以下的問題。
首先，基板裂紋和處理液漏泄的原因調查非常花費時間，原因的確定及解決伴隨著困難。另外，若放任基板裂痕或裂紋則碎片會進入鍍覆槽內，而有可能對鍍覆液循環系統的泵等各設備和鍍覆工藝品質造成不良影響。另外，若放任處理液漏泄則在多層鍍覆中，上游槽的鍍覆液、其他處理液會從基板保持件的內部洩漏而向後續的鍍覆槽混入，有會污染該槽的鍍覆液的隱患。另外，基板的接點（晶片接點）、基板保持部件的接點有被處理液腐蝕的隱患。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第4124327號說明書
（發明所欲解決之問題）
本發明的目的在於解決上述課題的至少一部分。
（解決問題之手段）
根據本發明的一個技術方案，提供一種基板保持部件，具有：第1保持部件；在與上述第1保持部件之間保持基板的第2保持部件；和設在上述第1保持部件及上述第2保持部件中的至少一方的透明部。
根據本發明的一個技術方案，提供一種基板處理裝置，具有：在至少一部分具有透明部的、用於保持基板的基板保持部件；和經由上述基板保持部件的上述透明部對上述基板保持部件的內側進行拍攝的攝像裝置。
根據本發明的一個技術方案，提供一種基板處理裝置的控制方法，在上述方法中包含：在至少一部分具有透明部的基板保持部件上保持基板；經由上述基板保持部件的上述透明部對上述基板保持部件的內部進行拍攝；基於拍攝得到的圖像資料來判定上述基板及/或基板保持件有無異常。另外，根據本發明的一個技術方案，提供一種保存有用於使電腦執行上述方法的程式的存儲介質。
以下參照附圖來說明本發明的實施方式。此外，在以下的各實施方式中，對相同或相當的部件標注相同的附圖標記並省略重複的說明。另外，在本說明書中使用“上”、“下”、“左”、“右”等表述，它們是為了便於說明而示出例示的附圖的紙面上的位置、方向的表述，具有在裝置使用時等的實際配置中不同的情況。另外，某個部件與其他部件“相對於基板位於相反側”表示以面向基板的某一個基板面的方式取位的部件、和以面向與之相反的一側的基板面的方式取位的其他部件。此外，在基板中，具有在某一個面上形成有佈線的情況、在兩個面上形成有佈線的情況。
（第1實施方式）
圖1是本發明的一個實施方式的基板處理裝置的整體配置圖。在該例子中，基板處理裝置100是電鍍裝置。在此，列舉電鍍裝置為例進行說明，但本發明能夠適用於包含任意鍍覆裝置的任意基板處理裝置。
基板處理裝置100大致分為在基板保持件11（參照圖3A、圖3B）裝載作為被處理物的基板W或從基板保持件11卸載基板W的裝載/卸載部101A、和對基板W進行處理的處理部101B。基板W包含圓形、方形等任意形狀的基板。另外，基板W包含半導體晶片、玻璃基板、液晶基板、印刷基板等被處理物。
裝載/卸載部101A具有多台匣盒載台（cassette table）102、對準器104、基板裝拆部105和脫水機106。匣盒載台102搭載收納有基板W的匣盒。對準器104將基板W的定向平面或凹口等的位置向規定方向對齊。基板裝拆部105具有以將基板W向基板保持件11裝拆的方式構成的一個或多個基板裝拆裝置105a。脫水機106使鍍覆處理後的基板W高速旋轉而使其乾燥。在這些單元的中央配置有基板搬送裝置103，該基板搬送裝置103具有在這些單元之間搬送基板W的搬送機械手103a。
在處理部101B中，具有進行基板保持件11的保管及暫時放置的儲料器107、預濕（pre-wet）槽108、預浸（pre-soak）槽109、預洗（pre-rinse）槽110a、排水槽111、清洗槽110b和鍍覆處理部112。在預濕槽108中，基板W被浸漬於純水。在預浸槽109中，將形成在基板W的表面上的晶種層（seed layer）等導電層的表面的氧化膜蝕刻除去。在預洗槽110a中，將預浸後的基板W與基板保持件11一起通過清洗液（純水等）進行清洗。在排水槽111中，進行清洗後的基板的去水。在清洗槽110b中，將鍍覆後的基板W與基板保持件11一起通過清洗液進行清洗。鍍覆處理部112具有多個具備溢流槽的鍍覆槽112a。各鍍覆槽112a在內部收納一個基板W，並使基板W浸漬於內部所保持的鍍覆液中來對基板表面進行鍍銅等鍍覆。在此，鍍覆液的種類並沒有特別限定，能夠根據用途而使用各種鍍覆液。此外，該基板處理裝置100的處理部101B的結構為其中一個例子，也能夠採用其他結構。
基板處理裝置100具有位於這些各設備的側方、且在這些各設備之間搬送基板保持件11的、採用了任意驅動方式（例如線性馬達方式）的基板保持件搬送裝置113。該基板保持件搬送裝置113具有第1傳送裝置114和第2傳送裝置115。第1傳送裝置114及第2傳送裝置115在導軌116上行進。第1傳送裝置114在基板裝拆部105與儲料器107之間搬送基板保持件11。第2傳送裝置115在儲料器107、預濕槽108、預浸槽109、預洗槽110a、排水槽111、清洗槽110b以及鍍覆槽112a之間搬送基板保持件11。此外，也可以不具有第2傳送裝置115而僅具有第1傳送裝置114，通過第1傳送裝置114進行上述各部分之間的搬送。
包含如以上那樣構成的基板處理裝置100的鍍覆處理系統具有以控制上述各部分的方式構成的裝置電腦120、圖像診斷終端122。裝置電腦120具有保存各種設定資料及各種程式的記憶體120B、和執行記憶體120B的程式的CPU 120A。構成記憶體120B的存儲介質能夠包含任意的易失性存儲介質、及/或任意的非易失性存儲介質。存儲介質例如能夠包含ROM、RAM、硬碟、CD-ROM、DVD-ROM、軟碟等任意的一個或多個存儲介質。記憶體120B保存的程式例如包含進行基板搬送裝置103的搬送控制的程式、進行基板保持件內部監視控制（後述）的程式、進行基板裝拆部105中的基板相對於基板保持件的裝拆控制的程式、進行基板保持件搬送裝置113的搬送控制的程式、進行鍍覆處理部112中的鍍覆處理的控制的程式。另外，裝置電腦120構成為能夠通過有線或無線與統括控制基板處理裝置100及其他關聯裝置的未圖示的上級控制器進行通信，能夠在與上級控制器所具有的資料庫之間進行資料交換。
圖像診斷終端122具有保存各種程式的記憶體122B、和執行記憶體122B的程式的CPU122A。構成記憶體122B的存儲介質能夠包含任意的易失性存儲介質、及/或任意的非易失性存儲介質。存儲介質例如能夠包含ROM、RAM、硬碟、CD-ROM、DVD-ROM、軟碟等任意的一個或多個存儲介質。另外，裝置電腦120及/或圖像診斷終端122構成為能夠通過有線或無線與外部的伺服器進行通信，能夠將基板保持件內部監視控制（後述）中的影像處理及機械學習的至少一部分與伺服器分擔。
圖2A顯示出基板保持件的結構例。在此列舉基板W為圓形的晶片的情況為例進行說明，對於方形等任意形狀的基板，也能夠同樣地適用本發明。基板保持件11具有：將基板W夾在中間而保持的第1保持部件12及第2保持部件13、和用於支承基板保持件11的懸吊裝置15。第1保持部件12構成為能夠支承基板W，具有比基板W大的尺寸，在俯視觀察時為大致矩形形狀。在此基板W具有表面S1、背面S2，將表面S1設為被鍍覆面，將支承在第1保持部件12上的面設為背面S2。在本例中，第1保持部件12整體由透明材料構成。換言之，由透明部12a形成第1保持部件12整體。此外，如圖5A、圖5B在第1保持部件12具有基台80和突條部（支承基台）81的情況下，可以由透明材料僅形成基台80整體，也可以由透明材料形成基台80和突條部81整體。此外，透明程度只要為能夠經由第1保持部件12觀察到基板保持件11的內部、即基板W的背面S2的程度即可。透明材料例如能夠使用透明樹脂（PET、PVC、壓克力、聚碳酸酯等）或強化玻璃等。第2保持部件13為環狀部件，與第1保持部件12一起挾持基板W的外周部而進行保持。第2保持部件13的徑向內側具有使基板W的作為被鍍覆面的表面S1露出的開口部13a。第2保持部件13構成為能夠通過鉸鏈14相對於第1保持部件12開閉。此外，基板保持件11的開閉機構並不限定於鉸鏈，也可以為將第2保持部件13配置在與第1保持部件12相對的位置且使第2保持部件13朝向第1保持部件前進及後退來進行封閉及打開的結構。懸吊裝置15被安裝在第1保持部件12的一端側的兩側。在懸吊裝置15的至少一方上設有用於與外部電路（例如電源）連接的外部連接端子。懸吊裝置15無需由透明材料構成，而可以採用以往的結構。
在圖2A的例子中，由於第1保持部件12（或基台）整體為透明部，所以能夠在將基板W保持於基板保持件11的狀態下經由第1保持部件12對基板W的背面S2進行觀察（視覺辨認、拍攝）及監視。在圖2A的例子中，顯示出在基板W的背面S2產生了裂紋（包含裂痕）16的情況。像這樣，能夠經由透明的第1保持部件12監視基板W的背面S2的裂紋16。另外，能夠對處理液向包含外側內部空間α及內側內部空間β（在圖5A~圖5C中後述）在內的基板保持件11的內部空間的洩漏進行監視。
圖2B顯示出基板保持件的其他結構例。在圖2B的例子中，代替第1保持部件12整體由透明材料構成，而由透明材料僅構成與基板W的背面S2相對應的區域、或與包含外側內部空間α及內側內部空間β的密封部件60（圖5A~圖5C）外緣的內側區域（包含與基板W的背面S2相對應的區域）相對應的區域，並設為透明部12a。例如，這樣的第1保持部件12能夠分別製成成為第1保持部件12的透明部12a及其他部分，然後通過粘結或焊接等將兩者接合而製成。另外，也可以通過在第1保持部件12上形成開口部、且將成為透明部12a的材料成型（例如注塑成型、傳遞成型）於開口部而在第1保持部件12上設置透明部12a。另外，可以通過成型形成成為第1保持部件12的透明部12a及其他部分。與基板W的背面S2相對應的區域可以為與第1保持部件12的開口部13一致的區域（不包含被第2保持部件13密封的基板W的外周部，比基板W的直徑稍小），可以為與基板W一致的區域，也可以為比基板W稍大的區域。由於其他結構與圖2A相同，所以省略說明。在圖2B的例子中，由於第1保持部件12的與基板W的背面S2相對應的區域、或包含外側內部空間α及內側內部空間β的密封部件60（圖5A~圖5C）外緣的內側區域為透明部12a，所以能夠在將基板W保持於基板保持件11的狀態下經由第1保持部件12的透明部12a對基板W的背面S2進行觀察（視覺辨認、拍攝）及監視。在圖2B的例子中，顯示出在基板W的背面S2上產生了裂痕（裂紋）16的情況。像這樣，能夠經由第1保持部件12的透明部12a對基板W的背面S2的裂紋16進行監視。另外，在將密封部件60（圖5A~圖5C）外緣的內側區域設為透明部12a的情況下，能夠對處理液向包含外側內部空間α及內側內部空間β（圖5A~圖5C）的基板保持件11的內部空間的洩漏進行監視。
圖3A、圖3B顯示出基板裝拆部中的基板保持件內部監視裝置的結構例。在此說明基板保持件11以水平姿勢對基板W進行裝拆的例子，但基板保持件11也可以為以鉛垂姿勢對基板進行裝拆的結構。
基板裝拆部105的基板裝拆裝置105a具有載置基板保持件11的固定台105b、和用於對基板保持件11進行開閉的固定蓋105c。圖3A顯示出第2保持部件13被固定蓋105c按壓於第1保持部件12而基板保持件11關閉的狀態。圖3B顯示出固定蓋105c將第2保持部件13相對於第1保持部件12打開或提起第2保持部件13而打開基板保持件11的狀態。此外，在此示意地顯示出基板保持件11的開閉，在圖2A、圖2B的基板保持件11的情況下，實際上第2保持部件13以鉸鏈14為中心進行旋轉而開閉。此外，在採用將第2保持部件13配置在與第1保持部件12相對的位置且使其向第1保持部件12前進/後退的基板保持件11的開閉機構的情況下，大致與圖3A、圖3B所示的動作接近。
將作為基板保持件內部監視裝置的攝像裝置130配置在設於固定台105b的凹部中。攝像裝置130能夠採用相機等圖像感測器、或檢測基板及/或基板保持件的反射率的光學感測器。相機從圖像識別的觀點考慮多為優選黑白相機的情況，但也可以使用彩色相機。攝像裝置130也可以為能夠在凹部內沿水準方向、鉛垂方向移動的結構。攝像裝置130在基板保持件11被載置於固定台105b上時，配置在與基板保持件11的第1保持部件12的透明部12a相對的位置。攝像裝置130能夠經由第1保持部件12的透明部12a對基板W的背面S2進行拍攝。拍攝圖像可以為靜態畫面、動態畫面中的任意畫面。只要能夠檢測各時間點下的基板及/或基板保持件的異常即可。如圖3A、圖3B所示，攝像裝置130在基板保持件11的封閉狀態（圖3A）及打開狀態（圖3B）中的任一狀態下，均能夠經由第1保持部件12的透明部12a對基板W的背面S2進行拍攝。此外，也可以在此基礎上或取而代之，在基板保持件11打開時（圖3B）能夠對基板W的表面S1進行拍攝的位置處設置攝像裝置，在基板保持件11打開時對基板W的表面S1進行拍攝。
圖4A顯示出搬送裝置中的基板保持件內部監視裝置的結構例。在此，列舉第2傳送裝置115為例進行說明，但對於第1傳送裝置114也是同樣的。如圖1、圖4A所示，第2傳送裝置115具有：以能夠沿著行進方向（y軸方向）在導軌116上移動的方式安裝的基座部144；設在基座部144上的支柱部141；和安裝在支柱部141上且沿橫穿行進方向的方向（x軸方向）延伸的臂部142。在臂部142上設有能夠保持基板保持件11的握持部143。在本例中，在臂部142上設置多個握持部143，使得兩個基板保持件11並列地被臂部142握持（圖1）。被臂部142握持的基板保持件11根據裝置結構的不同，可以為一個或也可以為三個以上。第2傳送裝置115通過握持部143對基板保持件11進行保持及釋放。第2傳送裝置115構成為能夠進行如下動作：通過線性馬達方式使基座部144沿著導軌116移動，由此能夠在儲料器107及各處理槽之間移動；使臂部142相對於支柱部141通過未圖示的升降機構（滾珠絲杠機構、齒輪齒條機構等）上下移動，從而向儲料器107及各處理槽搬入及搬出基板保持件11。此外，第1傳送裝置114也同樣地構成為能夠進行如下動作：通過線性馬達方式使基座部144沿著導軌116移動，由此能夠在基板裝拆部105、儲料器107之間移動；使臂部142相對於支柱部141通過未圖示的升降機構（滾珠絲杠機構、齒輪齒條機構等）上下移動，從而向基板裝拆部105、儲料器107搬入及搬出基板保持件11。
作為基板保持件內部監視裝置的攝像裝置130被保持於保持架131，保持架131經由上下移動機構132、前後移動機構133、橫向移動機構134而安裝在第2傳送裝置115的臂部142。上下移動機構132通過滾珠絲杠機構、齒輪齒條機構等驅動機構，相對於保持在第2傳送裝置115上的基板保持件11，使攝像裝置130沿上下方向（z軸方向）移動。前後移動機構133通過滾珠絲杠機構、齒輪齒條機構等驅動機構，相對於保持在第2傳送裝置115上的基板保持件11，使攝像裝置130沿前後方向（y軸方向）移動。橫向移動機構134通過滾珠絲杠機構、齒輪齒條機構等驅動機構，相對於保持在第2傳送裝置115上的基板保持件11，使攝像裝置130沿橫向（x軸方向）移動。通過使攝像裝置130沿上下、前後方向移動，而能夠在對基板保持件11進行拍攝的拍攝位置、與將基板保持件11搬入處理槽時退避的退避位置之間移動。通過使攝像裝置130沿左右方向移動，而能夠通過一個攝像裝置130依次對沿橫向排列地保持在第2傳送裝置115的臂部142上的兩個基板保持件11進行拍攝。此外，也可以相對於第2傳送裝置115經由各移動機構安裝多個攝像裝置130，並通過各攝像裝置130對各基板保持件11進行拍攝。關於第1傳送裝置114中的基板保持件內部監視裝置（攝像裝置、其移動機構）的結構也是相同的。
圖4B是搬送裝置中的基板保持件內部監視裝置的其他結構例。在上述中，顯示出將基板保持件內部監視裝置安裝於第2傳送裝置115的情況，但如圖4B所示，也可以將基板保持件內部監視裝置安裝在相對於第2傳送裝置115獨立的行進移動機構135上。在該情況下，也可以以沿著導軌116移動的方式配置行進移動機構135。在該例中，攝像裝置130經由上下移動機構132、前後移動機構133、左右移動機構134而安裝在行進移動機構135上。行進機構135具有：通過線性馬達方式等任意驅動方式被驅動而能夠沿著行進方向（y軸方向）在導軌116上移動地安裝的基座部137、和設在基座部137上且安裝有左右移動機構134的支柱部136。此外，也可以與第1及第2傳送裝置114、115同樣地，在支柱部136上安裝沿橫穿行進方向的方向（x軸方向）延伸的臂部，且在臂部上安裝左右移動機構134。
（基板保持件的其他結構例）
在上述中，說明對基板保持件11內部的基板W的背面S2進行觀察（視覺辨認、拍攝）的例子，但也可以對基板保持件11內部的基板W的徑向外側的內部空間（外側內部空間）進行觀察。在像這樣構成的情況下，也能夠檢測處理液在基板保持件11內部的漏泄。另外，與對基板背面S2進行觀察的情況相比，有可能能夠儘早發現基板及/或基板保持部件的異常。另外，也可以將對基板背面S2的觀察、和對基板保持件的外側內部空間的觀察組合起來。
圖5A至圖5C顯示出基板保持件的其他結構例。在該圖中，顯示如下狀態：在基板保持件11的第1保持部件12上載置了基板W的狀態下，將第2保持部件13相對於第1保持部件12關閉，通過基板保持件11的第1保持部件12及第2保持部件13保持基板W。在圖5A至圖5C的例子中，基板保持件11的第2保持部件13的一部分及/或第1保持部件12的一部分構成為透明部150、12b。攝像裝置130、130A經由透明部150、12b對被密封在基板保持件11的密封部件60的內周側及外周側的唇部60a、60b之間的空間（外側內部空間α）進行拍攝。
在圖5A至圖5C中，能夠設置一個或多個透明部150、12b。一個或多個透明部150、12b能夠設在第2保持部件13的周方向的任意位置。透明部150、透明部12b也可以在第2保持部件13的全周範圍內設置。在該情況下，透明部150、12b沿著第2保持部件13配置成環狀。另外，也可以將第2保持部件的全部設為透明部。在圖5A至圖5C中，透明部150、12b能夠設於與電接點92相對應的位置、及/或其他位置。圖5A及圖5B的透明部150、12b在設於與電接點92相對應的位置的情況下（即在第1保持部件12或第2保持部件13的與配置有電接點92的外側內部空間α相面對的部位設置透明部150、12b的情況下）及在全周範圍內設置的情況下，適用於對電接點92的腐蝕情況、電接點92與基板W的接觸部位的變色進行觀察。透明部150、透明部12b在以縱向對基板保持件11進行處理、搬送的情況下（參照圖4A），能夠設於基板保持件11的外側內部空間α的最下部或其附近。根據該結構，由於漏泄處理液多滯留於基板保持件11的外側內部空間α的最下部或其附近，所以能夠提高對漏泄的檢測精度。
圖5A到圖5C的結構能夠在上述的基板裝拆部105、基板保持件搬送裝置113中適用。另外，也可以適當對將基板保持件11的第1保持部件12的一部分或全部設為透明部的結構（圖2A、圖2B）、將第2保持部件13的一部分或全部設為透明部的結構（圖5A、圖5B）和將第1保持部件12的與外側內部空間α相對應的部分設為透明部的結構（圖5C）進行組合。
基板保持件11的第1保持部件12具有基台80、和設在基台80上的環狀的突條部81。突條部81作為基板W的支承基台而發揮功能，且具有作為支承基板W的支承面82而發揮功能的端面。另外，突條部81在俯視觀察時在周方向的一個或多個部位具有凹部83。在該凹部83的底面通過螺栓等緊固部件而固定有導電體88。導電體88的一端通過纜線與設在懸吊裝置15的一方或雙方上的多個外部連接接點之一電連接。導電體88的另一端在俯視觀察時向突條部81的徑向外側突出。此外，突條部81可以由與基台80不同的部件形成並相對於基台80安裝，也可以與基台80一體地形成。另外，突條部81還可以由不同部件形成，構成為能夠通過彈性部件等相對於基台80移動，吸收基板W的厚度偏差。
第2保持部件13具有環狀的基部17、支承體90、和被基部17及支承體90夾持而固定的密封部件60。密封部件60具有：在內周側將基板W與第2保持部件13之間密封的作為基板密封部的唇部60a、和在外周側將第1保持部件12與第2保持部件13之間密封的作為保持件密封部的唇部60b。通過密封部件60的唇部60a、60b將基板W的外周部及背面S2密封，將該密封的空間稱為基板保持件11的內部或內部空間。基板保持件11的內部或內部空間包含成為基板W的外周側的外側內部空間α、和成為基板W的背面S2側的內部內側空間β。此外，唇部60b相當於密封部件60的外緣。
另外，在支承體90上通過螺栓等緊固部件而固定有用於向基板W供給電流的電接點92。電接點92具有腿部92a和接點端部92b。腿部92a在第2保持部件13相對於第1保持部件12關閉時，與第1保持部件12的導電體88接觸，將導電體88和電接點92電連接。接點端部92b具有彈性地設成板簧狀，在第2保持部件13相對於第1保持部件12關閉時，與基板W的外周部接觸，將電接點92和基板W電連接。由此，將設於懸吊裝置15的至少一方的外部連接接點經由導電體88、電接點92而與基板W電連接，從外部電源經由外部連接接點、導電體88、電接點92向基板W供給電流。
在圖5A的例子中，透明部150在能夠從側方對基板保持件11的外側內部空間α進行觀察的位置處設於第2保持部件13。圖5A的透明部150如以下設置。在密封部件60及支承體90中在供透明部150設置的一個或多個部分形成開口部，在密封部件60及支承體90中的一個或多個開口部中插入透明部150，將透明部150固定於密封部件60及支承體90。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。在該情況下，透明部150可以為一體的部件，也可以為多個部件的組合。
另外，也可以由透明部60c和透明部90c構成透明部150。在該情況下，在密封部件60中在供透明部60c設置的一個或多個部分形成開口部，在密封部件60的一個或多個開口部中插入透明部60c，將透明部60c固定於密封部件60。另外，在支承體90中在供透明部90c設置的一個或多個部分形成開口部，在支承體90的一個或多個開口部中插入透明部90c，將透明部90c固定於支承體90。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。另外，也可以通過在密封部件60及支承體90的一個或多個開口部中將成為透明部60c及透明部90c的材料成型（例如注塑成型、傳遞成型）來設置透明部60c及透明部90c。另外，可以通過成型形成密封部件60的各部分（透明部60c、其他部分）。可以通過成型形成支承體90的各部分（透明部90c、其他部分）。
另外，在第2保持部件13的全周範圍內設置透明部150的情況下，能夠如以下在密封部件60及支承體90上設置透明部150。關於密封部件60，具有唇部60a的內側密封部61a、具有唇部60b的外側密封部61b和透明部60c分體地形成，將它們相互固定。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。內側密封部61a、外側密封部61b也可以分別進一步分割而形成。關於支承體90，基端部90a、遠位部90b和透明部90c分別分體地形成，相互固定。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。另外，也可以代替由透明部60c、透明部90c構成透明部150，而設為一體的透明部。在該情況下，也可以相對於一體的透明部150固定密封部件60的內側密封部61a、外側密封部61b、以及支承體90的基端部90a、遠位部90b。
攝像裝置130在基板保持件11的徑向外側，在與透明部150相對的位置處對基板保持件11的內部（在本例中為外側內部空間α）進行拍攝。也可以設置用於使攝像裝置130在對基板保持件11的內部進行拍攝的拍攝位置、與不干涉基板保持件11的開閉動作、第1及第2傳送裝置114、115中的移動的退避位置之間移動的移動機構。另外，還可以設置能夠使攝像裝置130沿著第2保持部件13的周方向移動的移動機構。
在圖5A的例子中，攝像裝置130經由設在第2保持部件13的外周面上的一個或多個透明部150，對被密封在基板保持件11的密封部件的內周側及外周側的唇部60a、60b之間的外側內部空間α進行拍攝。拍攝圖像可以為靜態畫面、動態畫面中的任意畫面。基於攝像裝置130拍攝得到的圖像資料，判定處理液有無向外側內部空間α漏泄。另外，也可以除了判定有無漏泄以外，還判定漏泄的程度。
在圖5B的例子中，透明部150在第2保持部件13中在能夠從基板保持件11的正面側對外側內部空間α進行觀察的位置處設在與第1保持部件12相對的部分上。攝像裝置130經由設在第2保持部件13的基端面（圖5A、圖5B中的上表面）上的透明部150，朝向第1保持部件12對基板保持件11的外側內部空間α進行拍攝。基於由攝像裝置130拍攝得到的圖像資料，判定處理液有無向密封空間α漏泄。另外，也可以除了判定有無漏泄以外，還判定漏泄的程度。拍攝圖像可以為靜態畫面、動態畫面中的任意畫面。
圖5B的透明部150如以下設置。在基部17及密封部件60的供透明部150設置的一個或多個部分形成開口部，並且在支承體90的供透明部150設置的一個或多個部分形成切缺部，將透明部150插入於開口部及切缺部，將透明部150固定於基部17、密封部件60及支承體90。支承體90在俯視觀察時為環狀，在設有透明部90c的一個或多個位置中，形成有徑向內側開口的切缺部。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。透明部150可以為一體的部件，也可以為多個部件的組合。
另外，也可以由透明部17c、透明部60c和透明部90c構成透明部150。在該情況下，在基部17中在供透明部17c設置的一個或多個部分形成開口部，在基部17的一個或多個開口部中插入透明部17c，將透明部17c固定於基部17。在密封部件60中在供透明部60c設置的一個或多個部分形成開口部，在密封部件60的一個或多個開口部中插入透明部60c，將透明部60c固定於密封部件60。另外，在支承體90中在供透明部90c設置的一個或多個部分形成切缺部，在支承體90的一個或多個切缺部中插入透明部90c，將透明部90c固定於支承體90。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。另外，也可以通過在基部17的一個或多個開口部、密封部件60的一個或多個開口部、支承體90的一個或多個切缺部中分別將成為透明部17c、透明部60c及透明部90c的材料成型（例如注塑成型、傳遞成型），而設置透明部17c、透明部60c及透明部90c。另外，可以通過成型形成基體17的各部分（透明部17c、其他部分）。可以通過成型形成密封部件60的各部分（透明部60c、其他部分）。可以通過成型形成支承體90的各部分（透明部90c、其他部分）。
另外，在第2保持部件13的全周範圍內設置透明部150的情況下，能夠如以下，在基部17、密封部件60及支承體90上設置透明部150。關於基部17，內周部17a、外周部17b和透明部17c分體地形成，將它們相互固定。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。關於密封部件60，具有唇部60a的內側密封部61a、具有唇部60b的外側密封部61b和透明部60c分體地形成，將它們相互固定。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。內側密封部61a、外側密封部61b分別也可以進一步分割而形成。關於支承體90，外周部90d和透明部90c分別分體地形成，相互固定。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。另外，也可以代替由透明部17c、透明部60c、透明部90c構成透明部150，而設為一體的透明部。在該情況下，可以相對於一體的透明部150，將基部17的內周部17a、外周部17b、密封部件60的內側密封部61a、外側密封部61b以及支承體90的外周部90d固定。
在圖5B的例子中，攝像裝置130經由設在第2保持部件13的基端面上的一個或多個透明部150，對基板保持件11的外側內部空間α進行拍攝。基於由攝像裝置130拍攝得到的圖像資料，判定處理液有無向密封空間α漏泄。另外，也可以除了判定有無漏泄以外，還判定洩漏的程度。拍攝圖像可以為靜態畫面、動態畫面中的任意畫面。
在圖5C的例子中，將第1保持部件12的基台80的與外側內部空間α相對應的部分設為透明部12b。由於漏泄的處理液多滯留於外側內部空間α內的突條部（支承基台）81的外側，所以將基台80的對應部分設為透明部12b，通過攝像裝置130經由透明部12b對外側內部空間α進行拍攝。在如本實施方式那樣以縱向對基板保持件11進行處理、搬送的情況下（參照圖4A），由於漏泄處理液多滯留於位於基板保持件11的外側內部空間α的最下部的突條部81的外側，所以期望在基板保持件11的相對應的位置處設置透明部12b。圖5C的透明部12b的結構在設於與電接點92相對應的位置的情況下，適於對電接點92或導電體88的腐蝕情況、進入到外側內部空間α中的處理液自身進行觀察。
攝像裝置130A經由設在第1保持部件12上的透明部12b對基板保持件11的外側內部空間α進行拍攝。基於由攝像裝置130A拍攝得到的圖像資料，判定處理液有無向密封空間α漏泄。另外，也可以除了判定有無漏泄以外，還判定漏泄的程度。拍攝圖像可以為靜態畫面、動態畫面中的任意畫面。
圖5C的透明部12b如以下設置。在第1保持部件12中在供透明部12b設置的一個或多個部分形成開口部，在第1保持部件12的一個或多個開口部中插入透明部12b，將透明部12b固定於第1保持部件12。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。另外，也可以通過在第1保持部件12的一個或多個開口部中將成為透明部12b的材料成型（例如注塑成型、傳遞成型），而在第1保持部件12上設置透明部12b。另外，可以通過成型形成第1保持部件12的各部分（透明部12b、其他部分）。
另外，在第2保持部件13的全周範圍內設置透明部12b的情況下，在第1保持部件12中形成供透明部12b設置的環狀的狹縫，在該環狀的狹縫中插入透明部12b，將透明部12b固定於第1保持部件12。固定方法能夠採用粘結、熔接等接合、基於緊固部件的緊固、其他任意的固定方法。另外，也可以通過在第1保持部件12的環狀的狹縫中將成為透明部12b的材料成型（例如注塑成型、傳遞成型），而在第1保持部件12上設置透明部12b。另外，可以通過成型形成第1保持部件12的各部分（透明部12b、其他部分）。
可以對圖5A的透明部150、圖5B的透明部150的結構、和圖5C的透明部12b的結構中的至少兩者進行組合。另外，也可以由透明材料形成第2保持部件13整體而將其設為透明部。
在上述中，說明由透明材料形成基部、密封部件、支承體的一部分的例子，但也可以由透明材料形成基部、密封部件、支承體中的一個或多個的整體。例如，可以由透明材料形成基部、密封部件及支承體整體。
此外，也可以對圖2A或圖2B的透明部12a的結構、圖5A的透明部150的結構、圖5B的透明部150的結構和圖5C的透明部12b中的至少兩者進行組合。
圖6顯示出處理槽的結構例。如該圖所示，可以是在一個或多個處理槽中，使側壁的一部分或全部為透明材質的透明部150’，在基板保持件11處於處理槽內的狀態下，能夠經由處理槽的透明部150’、基板保持件11的透明部150，對基板保持件內部進行拍攝。
（控制結構）
圖7是說明基板處理裝置的控制結構的說明圖。基板處理裝置100主要由裝置電腦120、裝置控制器121和圖像診斷終端122控制。裝置電腦120、裝置控制器121及圖像診斷終端122協作來執行包含基板保持件內部監視控制（後述）在內的基板處理裝置100的各種控制。
裝置控制器121由例如順序控制器（sequencer）等構成，基於來自裝置電腦120的控制指令、設定參數等，控制包含搬送設備400及攝像設備300在內的基板處理裝置100的各部分。在此，搬送設備400包含基板搬送裝置103和基板保持件搬送裝置113。攝像設備300包含攝像裝置130及其移動機構（131~134等）。
如上所述，圖像診斷終端122是包含記憶體122B、CPU122A的電腦。圖像診斷終端122對由攝像裝置130拍攝得到的圖像資料實施圖像識別處理，診斷基板W及/或基板保持件11的狀態。圖像診斷終端122將基板W及/或基板保持件11有無異常及/或異常程度輸出到裝置控制器121。裝置控制器121在基板W及/或基板保持件11具有異常的情況下或在異常程度為規定以上的情況下，將警報輸出到裝置電腦120。
圖像診斷終端122可以經由有線或無線而與基板處理裝置100的外部的伺服器123連接。在該情況下，圖像診斷終端122從由攝像裝置130拍攝得到的圖像資料抽出或計算出特徵量（圖像的濃淡、濃淡的輪廓、顏色差異、顏色差異的輪廓等），將其輸出到伺服器123。伺服器123可以基於從圖像診斷終端122接收到的圖像資料的特徵量，進行圖像診斷處理，將圖像診斷的結果發送到圖像診斷終端122。另外，也可以是，經由有線或無線將該基板處理裝置100以外的一個或多個基板處理裝置100-1~100-n與伺服器123連接，在伺服器123中，對從基板處理裝置100、100-1~100-n中的一個或多個基板處理裝置收集到的圖像資料，進行圖像診斷處理，將圖像診斷的結果發送到圖像診斷終端122。
能夠對圖像診斷終端122及/或伺服器123中的圖像識別處理使用深度學習等。圖像識別處理可以具有：將正常時及/或異常時的基板W的圖像資料蓄存為教示資料且使用多層深度神經網路（DNN）進行學習的步驟；和推測異常等級的步驟。可以在設計階段及/或在裝置運轉前，收集大量的教示資料，使圖像診斷終端122預先學習後再組入到裝置。異常等級例如能夠如“未發生”、“輕微”、“輕度”、“中度”、“重度”這樣劃分成多個分類。“未發生”表示基板及/或基板保持件正常。圖像診斷例如可以基於圖像資料中的濃淡及/或顏色不同的區域的面積、寬度、及/或長度來實施。也可以使用基於圖像資料中的濃淡及/或顏色不同的區域的面積、寬度、及/或長度將異常程度數值化的資料來推定異常等級。可以按每個等級分配可否繼續使用基板及/或基板保持件、可否回收等。可以將多個基板保持件的圖像資料與診斷結果一起彙集於伺服器123，並設置按每個基板保持件單一地顯示狀態（診斷結果、例如有無異常、異常等級）的監視器。也可以根據多個基板處理裝置中的大量的基板保持件的監視圖像計算出特徵量，將該特徵量資料發送到伺服器，在多層深度神經網路（DNN）上使其學習，使用已經學習到的DNN參數在基板處理裝置側診斷基板及/或基板保持件的狀態。DNN參數例如能夠包含用於判斷有無異常或異常等級的閾值等判斷基準。另外，也可以根據多個基板處理裝置中的大量的基板保持件的監視圖像（包含基板保持件的內部空間、基板面的圖像）計算出特徵量，將該特徵量資料發送到伺服器，在多層深度神經網路（DNN）上使其學習，在伺服器123中，診斷基板及/或基板保持件的狀態。還可以為了學習而對彙集於伺服器123的特徵量資料預先附加教示資料。另外，可以通過霧計算（Fog Computing）或邊緣計算（Edge Computing）結構將多個基板處理裝置的電腦和圖像診斷伺服器123連接。
對於檢測出基板及/或基板保持件的異常的基板保持件，可以向使用者進行通知。另外，在檢測出基板及/或基板保持件的異常的情況下，當在進行中的基板處理完成後，可以將基板保持件設為無法使用而返回到儲料器，或者也可以為了調查而繼續使用該基板保持件。也能夠根據診斷結果的等級而使檢測出基板及/或基板保持件的異常的基板保持件不可向後續的處理槽投入。在設為不可的情況下，不進行基板的後續處理，而進行基板保持件的清洗、乾燥等，將其返回到匣盒。另外，可以在檢測出基板及/或基板保持件的異常的情況下，在妨礙對基板進行卸載處理時，將保持基板的基板保持件返回到儲料器，並通知該主旨。
另外，也可以通過同樣的圖像識別處理來診斷基板保持件的透明部中的透明部劣化，並通知基板保持件的清潔或更換推薦時期。另外，在將處理槽的一部分或全部設為透明部的情況下，也可以通過同樣的圖像識別處理來診斷透明部的劣化。
如上述，攝像裝置130設為能夠與基板保持件搬送裝置113一起移動，但也可以將一個或多個攝像裝置130設置在能夠對基板處理裝置100內的基板保持件11進行拍攝的位置。在該情況下，攝像裝置130可以在設置位置處能夠在拍攝位置和退避位置移動。另外，攝像裝置130也可以能夠在與基板保持件的多個透明部相對的拍攝位置之間移動。
（控制流程）
圖8是基板保持件內部監視控制的流程圖。
在步驟S10中，裝置控制器121判定是否成為基板保持件11的拍攝時刻。在不為拍攝時刻的情況下，重複步驟S10的處理直至成為拍攝時刻。
拍攝時刻至少包含以下的一個或多個時刻。
（1）在基板裝拆部105中向基板保持件11安裝處理前的基板W時，在第1保持部件12上設置基板W且關閉2保持部件13的前後（圖3A、圖3B）；
（2）在基板裝拆部105中使處理後的基板W脫離基板保持件11時，相對於保持基板W的第1保持部件12打開第2保持部件13的前後（圖3A、圖3B）；
（3）通過第1或第2傳送裝置114、115搬送基板保持件11的過程中（圖4A、圖4B）；
（4）在通過第2傳送裝置115從各處理槽取出了基板保持件11時（圖4A、圖4B）；
（5）在各處理槽中對基板W進行處理的過程中（圖6）；
（6）在通過第1傳送裝置114將基板保持件11從儲料器107取出時（圖4A、圖4B）。
在步驟S10中判定成到達了某個時刻的情況下，在步驟S20中，裝置控制器121控制攝像設備300，經由基板保持件11的透明部12a、12b、150，對基板保持件11的內部進行拍攝。該拍攝包含以下一個或多個拍攝：在上述（1）至（6）的時刻經由基板保持件11的背面對基板W的背面S2進行拍攝（圖3A、圖3B、圖4A、圖4B）；在上述（1）至（6）的時刻對基板保持件11的外側內部空間α、內側內部空間β進行拍攝（圖5A、圖5B）。在各處理槽中對基板W進行處理的過程中對基板保持件11的內部進行拍攝的情況下（（5）的情況下），如圖6所示，經由處理槽的透明部150’、基板保持件11的透明部12a、12b、150對基板保持件11的內部進行拍攝。另外，例如也可以從圖5A及圖5B所示的拍攝方向那樣的多個方向對外側內部空間α進行拍攝。在圖2A、圖2B的基板保持件11的結構中，在沒有保持基板W的狀態下從基板保持件11的第1保持部件12側對內部進行拍攝的情況下，對基板保持件11的內側內部空間β（圖5A、圖5B）、外側內部空間α進行拍攝。
在步驟S30中，圖像診斷終端122根據拍攝得到的圖像資料計算出特徵量。特徵量包含基板W的背面S2的圖像、外側內部空間α、內側內部空間β的圖像的濃淡、濃淡的輪廓（及/或顏色差異、顏色差異的輪廓）。另外，也可以是，圖像診斷終端122將拍攝得到的圖像資料發送到伺服器123，在伺服器123中根據圖像資料計算出特徵量。
在步驟S40中，圖像診斷終端122使用預先存儲的圖像資料或圖像資料的特徵量、以及在步驟S30中獲取到的圖像資料的特徵量，更新DNN參數，將其優化。DNN參數包含用於判定基板及/或基板保持件有無異常及/或異常等級的閾值等判斷基準的值。此外，也可以是，圖像診斷終端122將圖像資料或計算出的特徵量發送到伺服器123，在伺服器123中，使用預先存儲的圖像資料或圖像資料的特徵量以及本次發送來的圖像資料或計算出的特徵量，更新DNN參數，將其優化。可以在伺服器123中，根據圖像資料計算出特徵量。
在步驟S50中，圖像診斷終端122使用預先存儲的DNN參數、或在S40中由圖像診斷終端122或伺服器123優化的DNN參數，並根據從拍攝得到的圖像資料計算出的特徵量，推定基板及/或基板保持件有無異常及/或異常等級。基板W的異常包含基板W的裂紋、處理液向基板保持件11內部的漏泄。基板保持件11的異常包含處理液的漏泄（因密封部件的劣化等引起的漏泄）。處理液包含收納在預濕槽108、預浸槽109、預洗槽110a、排水槽111、清洗槽110b、鍍覆槽112a中的處理液（純水、蝕刻溶液、鍍覆液等）。也可以將異常等級按每個異常種類（基板裂紋、漏泄）如例如“未發生”（無異常）、“輕微”、“輕度”、“中度”、“重度”這樣劃分成多個分類。圖像診斷終端122將診斷結果輸出到裝置控制器121，裝置控制器121進一步將診斷結果發送到裝置電腦120。
在步驟S60中，圖像診斷終端122按每個異常種類，判定基板及/或基板保持件的異常（基板W的裂紋、處理液漏泄）等級是否超過了閾值，將該診斷結果輸出到裝置控制器121。閾值按每個異常種類設定成需要向使用者通知的值。例如，可以設為上述多個分類中的中度或重度。
在步驟S60中判定成基板及/或基板保持件的異常等級為閾值以下的情況下，接收到該診斷結果的裝置控制器121使用該基板保持件11繼續進行基板處理（步驟S70），返回到步驟S10。
在步驟S60中判定成基板或基板保持件的某種異常超過閾值的情況下，接收到該診斷結果的裝置控制器121發出在基板W中具有異常（基板W的裂紋、處理液漏泄）的主旨的警報（步驟S80）。另外，在步驟S90中，裝置控制器121控制搬送設備400，將基板W回收到匣盒，並且將基板保持件11回收到儲料器107，返回到步驟S10。
根據上述實施方式，能夠經由基板保持件的透明部對基板保持件的內部、基板進行觀察、監視，因此能夠掌握在基板處理裝置中的處理過程中的哪個時刻基板及/或基板保持件產生了異常，從而能夠縮短查明異常原因所花費的時間。
另外，能夠在檢測出異常的時刻，防止該基板保持件向後續處理槽等各部分搬入，因此能夠防止基板的碎片向後續的處理槽等各部分落下、因漏泄的處理液導致的污染。
另外，通過將基板保持件內部的基板背面的拍攝、基板保持件的外側內部空間的拍攝組合，與對某一方的拍攝圖像進行監視的情況相比能夠儘早檢測出處理液的漏泄，從而能夠提高異常檢測精度。另外，通過從多個方向對基板保持件的外側內部空間α進行拍攝（圖5A、圖5B），而能夠提高外側內部空間的圖像識別精度。
（其他實施方式）
此外，在上述中，敘述了用於保持圓形晶片的單面鍍覆用的基板保持件，但在保持方形等任意形狀的基板的基板保持件、用於對任意形狀的基板的兩面進行鍍覆的基板保持件中，通過由透明部構成基板保持件的一部分，而也能夠適用上述實施方式。
在上述實施方式中，說明瞭經由基板保持件的透明部對內部進行拍攝的情況，但可以在基板保持件打開時（例如在圖3B的狀態下），對基板的表面S1進行拍攝，並通過上述同樣的圖像識別處理，對基板的表面S1的狀態進行診斷（異常檢測），也可以除了基板的表面S1的拍攝圖像以外，還將基板背面的拍攝圖像、基板保持件的內側、外側內部空間的拍攝圖像組合，對狀態進行診斷（異常檢測）。例如，在鍍覆處理後將基板保持件11打開時，通過對基板的表面S1進行拍攝，而能夠高精度地檢測處理液向基板外周部的漏泄。
從上述實施方式至少掌握以下的技術思想。
根據第1方式，提供一種基板保持部件，具有：第1保持部件；在與上述第1保持部件之間保持基板的第2保持部件；和設在上述第1保持部件及上述第2保持部件中的至少一方的透明部。
根據該方式，能夠經由透明部對基板保持部件的內部、及/或基板保持部件的內部的基板的面進行觀察、監視，而檢測出基板及/或基板保持件的異常。由此，能夠在基板處理裝置內的一個或多個位置處對基板保持部件的內部進行觀察、監視。另外，能夠在基板處理裝置內的一個或多個恰當的地方及/或時間點，經由透明部對基板保持部件的內部及/或基板保持部件的內部的基板進行觀察、監視。由於能夠掌握基板及/或基板保持部件的異常發生的時間點，所以能夠縮短查明異常原因所花費的時間，而實現裝置的生產率提高。另外，由於能夠在檢測出基板裂紋的時間點，防止基板保持部件向後續的處理槽投入，所以能夠防止基板的碎片向後續的處理槽落下。另外，由於能夠在檢測出處理液向基板保持部件內部漏泄的時間點，防止基板保持部件向後續的處理槽投入，所以能夠防止因漏泄的處理液導致的後續的處理槽的污染。另外，能夠防止因漏泄的處理液導致基板及基板保持部件的接點被腐蝕。此外，也可以除了對基板保持部件內部的基板的面進行觀察、監視以外，或取而代之，對從基板保持部件露出的基板的面進行觀察、監視。本方式能夠適用於圓形、方形等任意形狀的基板用的基板保持部件。
根據第2方式，在第1方式的基板保持部件中，上述透明部構成為能夠經由該透明部對上述第1保持部件及/或上述第2保持部件的內部進行觀察。根據該方式，透明部構成為具有能夠對基板保持部件的內部進行觀察的透明度。由此，能夠經由透明部對基板保持部件的內部、基板保持部件內部的基板的面進行觀察、監視。
根據第3方式，在第1方式的基板保持部件中，上述第2保持部件具有使上述基板的第1面露出的開口部，上述透明部至少在與上述基板的上述第1面的相反側的第2面相對應的部分中，設於上述第1保持部件。
能夠在將基板保持於基板保持部件的狀態下，對收納在基板保持部件的內部的基板背面進行觀察、監視。
上述第1保持部件具有：基台；和設在上述基台且具有支承上述基板的支承面的支承部，上述基台整體能夠形成為上述透明部。
在該情況下，由於由透明材料形成基台整體，所以容易製造。
上述支承部還能夠形成為上述透明部。
在該情況下，由於進一步支承部透明，所以能夠對連基板背面的外周部都包含在內的整個區域進行觀察、監視。
根據第4方式，在第1方式的基板保持部件中，上述第2保持部件具有：將上述基板與上述第2保持部件之間密封的第1密封部；和將上述第1保持部件與上述第2保持部件之間密封的第2密封部，上述透明部以能夠對被上述第1密封部件和上述第2密封部件密封的空間進行觀察的方式設於上述第1保持部件及/或上述第2保持部件。
根據該方式，能夠對基板保持部件內部的基板外側的空間（外側內部空間）進行觀察、監視。
上述透明部能夠在可從上述基板保持部件的徑向外側對被上述第1密封部件和上述第2密封部件密封的空間進行觀察的位置處設於上述第2保持部件。
在該情況下，能夠從基板保持部件的側方對基板保持部件的外側內部空間進行觀察、監視。
上述透明部能夠在可從上述第2保持部件朝向上述第1保持部件的方向對被上述第1密封部件和上述第2密封部件密封的空間進行觀察的位置處，設於上述第2保持部件。
在該情況下，能夠從基板保持部件的正面側對基板保持部件的外側內部空間進行觀察、監視。
根據第5方式，在第4方式的基板保持部件中，上述透明部在上述基板保持部件被以縱向支承時，與在上述被密封的空間中成為最下部的位置相對應地設置。
根據該方式，在以縱向對基板保持部件進行處理的情況下，能夠經由透明部對漏泄的處理液容易蓄存的密封空間最下部進行觀察，因此能夠提高處理液漏泄的檢測精度。
根據第6方式，在第4方式的基板保持部件中，上述透明部在上述第1保持部件及/或上述第2保持部件中，設在與用於向上述基板供給電流的電接點相對應的位置。
根據該方式，能夠經由透明部對電接點的腐蝕情況、電接點與基板的接觸部位的變色進行監視。
根據第7方式，提供具有第1至6方式中任一基板保持部件的基板處理裝置。
根據該方式，起到在第1至6方式中敘述的作用效果。
根據第8方式，提供一種基板處理裝置，具有：在至少一部分具有透明部的、用於保持基板的基板保持部件；和經由上述基板保持部件的上述透明部對上述基板保持部件的內側進行拍攝的攝像裝置。
根據該方式，起到與第1方式相同的作用效果。另外，由於通過攝像裝置進行觀察、監視，所以能夠經由圖像識別處理實現基板及/或基板保持部件的異常檢測的自動化。該方式也能夠適用於圓形、方形等任意形狀的基板用的基板保持部件。
根據第9方式，在第8方式的基板處理裝置中，還具有用於使上述基板相對於上述基板保持部件裝拆的基板裝拆部，上述攝像裝置配置於上述基板裝拆部。
根據該方式，能夠在將處理前的基板設置到基板保持部件的時刻、將處理後的基板從基板保持部件拆下的時刻，對基板保持部件及/或基板進行觀察、監視。
根據第10方式，在第8方式的基板處理裝置中，還具有搬送上述基板保持部件的搬送裝置，上述攝像裝置以對保持於上述搬送裝置的上述基板保持部件的內部進行拍攝的方式配置。
根據該方式，能夠在將基板保持部件保持於搬送裝置的期間，在適當的時刻對基板及/或基板保持部件進行觀察、監視。例如，能夠在將基板保持部件從基板裝拆部搬送到儲料器或處理槽的期間、在將基板從處理槽吊起的時間點、在處理槽與儲料器之間搬送的期間，對基板及/或基板保持部件進行觀察、監視。
根據第11方式，在第10方式的基板處理裝置中，上述攝像裝置被安裝於上述搬送裝置。
根據該方式，能夠在基板處理裝置內通過搬送裝置使攝像裝置移動，因此無需另行設置攝像裝置用的移動機構。
根據第12方式，在第10方式的基板處理裝置中，上述攝像裝置被安裝在相對於上述搬送裝置獨立的移動機構上。
根據該方式，能夠使攝像裝置相對於基板保持部件及搬送機構獨立地移動。
根據第13方式，在第8方式的基板處理裝置中，還具有用於對上述基板進行處理的處理槽，上述處理槽的至少一部分由透明材質形成，上述攝像裝置在上述基板保持部件被設置於上述處理槽內時，經由上述處理槽的上述透明材質的部分、上述基板保持部件的上述透明部，對上述基板保持部件的內側進行拍攝。
根據該方式，能夠在處理槽內對被基板保持部件保持的基板進行處理的過程中，經由處理槽的透明部分、基板保持部件的透明部，對基板保持部件的內部、及/或基板保持部件的內部的基板進行觀察、監視。
根據第14方式，在第8至13方式中的任一基板處理裝置中，上述攝像裝置對上述基板保持部件內部的上述基板的面、以及上述基板保持部件內部的上述基板的徑向外側的被密封的空間中的至少一方進行拍攝，上述基板處理裝置還具有基於拍攝得到的圖像資料檢測上述基板及/或上述基板保持部件的異常的控制裝置。
根據該方式，通過控制裝置對拍攝得到的圖像資料進行運算，而能夠檢測基板及/或基板保持部件的異常。
根據第15方式，在第14方式的基板處理裝置中，上述控制裝置基於上述基板的正常及/或異常時的多個圖像，學習對上述基板及/或基板保持件有無異常及/或異常程度進行判定的判定基準，使用上述學習到的判定基準，根據上述圖像資料判定上述基板及/或基板保持件有無異常及/或異常程度。
根據該方式，通過例如多層深度神經網路等的機械學習，而學習判定異常的基準，因此能夠提高判定精度、檢測精度。
根據第16方式，在第14方式的基板處理裝置中，上述基板處理裝置經由有線或無線而與伺服器連接，其中該伺服器對基於從多個基板處理裝置收集到的圖像資料判定上述基板及/或基板保持件有無異常及/或異常程度的判定基準進行學習，上述控制裝置基於在上述伺服器中學習到的判定基準，根據上述拍攝得到的圖像資料判定上述基板及/或基板保持件有無異常及/或異常程度。
根據該方式，在判定基板及/或基板保持部件的異常時，能夠使用該基板處理裝置以外的基板處理裝置中的基於拍攝圖像資料的判定基準，或將該基板處理裝置以外的基板處理裝置中的基於拍攝圖像資料的判定基準以及該基板處理裝置中的基於拍攝圖像資料的判定基準組合使用，因此能夠提高判定精度、檢測精度。
根據第17方式，在第14至16方式中的任一基板處理裝置中，上述基板及/或上述基板保持部件的異常包含上述基板的裂痕、及處理液向上述基板保持部件內的洩漏中的至少一方。
根據第18方式，在第14方式的基板處理裝置中，上述控制裝置基於上述圖像資料，判定上述透明部的透明度的劣化。
根據該方式，能夠預防拍攝圖像的劣化，從而能夠提高檢測處理的可靠性。
根據第19方式，提供一種基板處理裝置的控制方法，該方法包含：在至少一部分具有透明部的基板保持部件上保持基板；經由上述基板保持部件的上述透明部對上述基板保持部件的內部進行拍攝；和基於拍攝得到的圖像資料來檢測上述基板及/或上述基板保持部件的異常。
根據該方式，起到與第1方式相同的作用效果。本方式能夠適用於圓形、方形等任意形狀的基板用的基板保持部件。
根據第20方式，提供一種存儲介質，保存有用於使電腦執行控制基板處理裝置的方法的程式，該程式用於使電腦執行如下處理：在至少一部分具有透明部的基板保持部件上保持基板；經由上述基板保持部件的上述透明部對上述基板保持部件的內部進行拍攝；基於拍攝得到的圖像資料來檢測上述基板及/或基板保持件的異常。
根據該方式，起到與第1方式相同的作用效果。本方式能夠適用於圓形、方形等任意形狀的基板用的基板保持部件。
以上，基於幾個例子說明瞭本發明的實施方式，但上述發明的實施方式是為了使本發明容易理解的實施方式，並不限定本發明。本發明能夠不脫離其主旨地進行變更、改進，並且在本發明中當然也包含其均等物。另外，在能夠解決上述課題的至少一部分課題的範圍、或起到至少一部分效果的範圍內，能夠進行權利要求書及說明書所記載的各結構要素的任意組合或省略。
本申請基於2018年2月13日提出的日本申請號特願2018-023302號主張優先權。且通過參照2018年2月13日所提出的日本申請號特願2018-023302號的說明書、權利要求書、摘要在內的所有公開內容作為整體組入到本申請。
通過參照日本專利第4124327號（專利文獻1）的說明書、權利要求書、摘要在內的所有公開內容作為整體組入到本申請。
11‧‧‧基板保持件
12‧‧‧第1保持部件
12a、12b‧‧‧透明部
13‧‧‧第2保持部件
13a‧‧‧開口部
14‧‧‧鉸鏈
15‧‧‧懸吊裝置
16‧‧‧裂痕
17‧‧‧基部
30‧‧‧攝像裝置
60‧‧‧密封部件
60a‧‧‧唇部
60b‧‧‧唇部
60c‧‧‧透明部
61a‧‧‧內側密封部
61b‧‧‧外側密封部
80‧‧‧基台
81‧‧‧突條部
82‧‧‧支承面
83‧‧‧凹部
88‧‧‧導電體
90‧‧‧支承體
90a‧‧‧基端部
90b‧‧‧遠位部
90c‧‧‧透明部
90d‧‧‧外周部
92‧‧‧電接點
92a‧‧‧腿部
92b‧‧‧接點端部
100‧‧‧基板處理裝置
101A‧‧‧裝載/卸載部
101B‧‧‧處理部
102‧‧‧匣盒載台
103‧‧‧基板搬送裝置
103a‧‧‧搬送機械手
104‧‧‧對準器
105‧‧‧基板裝拆部
105a‧‧‧基板裝拆裝置
105b‧‧‧固定台
105c‧‧‧固定蓋
106‧‧‧脫水機
107‧‧‧儲料器
108‧‧‧預濕槽
109‧‧‧預浸槽
110a‧‧‧预洗槽
111‧‧‧排水槽
110b‧‧‧清洗槽
112‧‧‧鍍覆處理部
112a‧‧‧鍍覆槽
113‧‧‧基板保持件搬送裝置
114‧‧‧第1傳送裝置
115‧‧‧第2傳送裝置
116‧‧‧導軌
120‧‧‧裝置電腦
120A‧‧‧CPU
120B‧‧‧記憶體
121‧‧‧裝置控制器
122‧‧‧圖像診斷終端
130‧‧‧攝像裝置
131‧‧‧保持架
132‧‧‧上下移動機構
133‧‧‧前後移動機構
134‧‧‧橫向移動機構
135‧‧‧行進移動機構
136‧‧‧支柱部
137‧‧‧基座部
141‧‧‧支柱部
142‧‧‧臂部
143‧‧‧握持部
144‧‧‧基座部
S1‧‧‧表面
S2‧‧‧背面
W‧‧‧基板
圖1是本發明的一個實施方式涉及的基板處理裝置的整體配置圖。
圖2A顯示出基板保持構件的結構例。
圖2B顯示出基板保持構件的結構例。
圖3A顯示出基板裝拆部中的基板保持件內部監視裝置的結構例。
圖3B顯示出基板裝拆部中的基板保持件內部監視裝置的結構例。
圖4A顯示出搬送裝置中的基板保持件內部監視裝置的結構例。
圖4B顯示出搬送裝置中的基板保持件內部監視裝置的結構例。
圖5A顯示出基板保持件的其他結構例。
圖5B顯示出基板保持件的其他結構例。
圖5C顯示出基板保持件的其他結構例。
圖6顯示出處理槽的結構例。
圖7是說明基板處理裝置的控制結構的說明圖。
圖8顯示出基板保持件內部監視控制的流程圖。

Claims (20)

  1. 一種基板保持部件，其具有： 第1保持部件； 在與所述第1保持部件之間保持基板的第2保持部件；和 設在所述第1保持部件及所述第2保持部件中的至少一方的透明部。
  2. 根據申請專利範圍第1項所述的基板保持部件，其中： 所述透明部構成為能夠經由該透明部對所述第1保持部件及/或所述第2保持部件的內部進行觀察。
  3. 根據申請專利範圍第1項所述的保持部件，其中： 所述第2保持部件具有使所述基板的第1面露出的開口部， 所述透明部至少在與所述基板的所述第1面的相反側的第2面相對應的部分中，設於所述第1保持部件。
  4. 根據申請專利範圍第1項所述的基板保持部件，其中： 所述第2保持部件具有： 將所述基板與所述第2保持部件之間密封的第1密封部； 和將所述第1保持部件與所述第2保持部件之間密封的第2密封部； 所述透明部以能夠對被所述第1密封部件和所述第2密封部件密封的空間內進行觀察的方式設於所述第1保持部件及/或所述第2保持部件。
  5. 根據申請專利範圍第4項所述的基板保持部件，其中： 所述透明部在所述基板保持部件被以縱向支承時，與在被密封的所述空間中成為最下部的位置相對應地設置。
  6. 根據申請專利範圍第4項所述的基板保持部件，其中： 所述透明部在所述第1保持部件及/或所述第2保持部件中，設在與用於向所述基板供給電流的電接點相對應的位置。
  7. 一種基板處理裝置，其特徵在於： 具有權利要求1至6中任一項所述的基板保持部件。
  8. 一種基板處理裝置，其特徵在於： 在至少一部分上具有透明部的、用於保持基板的基板保持部件；和 經由所述基板保持部件的所述透明部對所述基板保持部件的內側進行拍攝的攝像裝置。
  9. 根據申請專利範圍第8項所述的基板處理裝置，其中： 還具有用於使所述基板相對於所述基板保持部件裝拆的基板裝拆部， 所述攝像裝置配置於所述基板裝拆部。
  10. 根據申請專利範圍第8項所述的基板處理裝置，其中： 還具有搬送所述基板保持部件的搬送裝置， 所述攝像裝置以對保持於所述搬送裝置的所述基板保持部件的內部進行拍攝的方式配置。
  11. 根據申請專利範圍第10項所述的基板處理裝置，其中： 所述攝像裝置被安裝在所述搬送裝置上。
  12. 根據申請專利範圍第10項所述的基板處理裝置，其中： 所述攝像裝置被安裝在相對於所述搬送裝置獨立的移動機構上。
  13. 根據申請專利範圍第8所述的基板處理裝置，其中： 還具有用於對所述基板進行處理的處理槽， 所述處理槽的至少一部分由透明材質形成， 所述攝像裝置在所述基板保持部件被設置於所述處理槽內時，經由所述處理槽的所述透明材質的部分、所述基板保持部件的所述透明部，對所述基板保持部件的內側進行拍攝。
  14. 根據申請專利範圍第8至13中任一項所述的基板處理裝置，其中： 所述攝像裝置對所述基板保持部件內部的所述基板的面、以及所述基板保持部件內部的所述基板的徑向外側的被密封的空間中的至少一方進行拍攝， 所述基板處理裝置還具有控制裝置，該控制裝置基於拍攝得到的圖像資料檢測所述基板及/或所述基板保持部件的異常。
  15. 根據申請專利範圍第14項所述的基板處理裝置，其中： 所述控制裝置基於所述基板的正常及/或異常時的多個圖像，學習對所述基板及/或基板保持件有無異常及/或異常程度進行判定的判定基準，並使用學習到的所述判定基準，根據所述圖像資料判定所述基板及/或基板保持件有無異常及/或異常程度。
  16. 根據申請專利範圍第14項所述的基板處理裝置，其中： 所述基板處理裝置經由有線或無線而與伺服器連接，其中該伺服器對基於從多個基板處理裝置收集到的圖像資料判定所述基板及/或基板保持件有無異常及/或異常程度的判定基準進行學習， 所述控制裝置基於在所述伺服器中學習到的判定基準，根據拍攝得到的所述圖像資料判定所述基板及/或基板保持件有無異常及/或異常程度。
  17. 根據申請專利範圍第14項所述的基板處理裝置，其中： 所述基板及/或所述基板保持部件的異常包含所述基板的裂痕、及處理液向所述基板保持部件內的洩漏中的至少一方。
  18. 根據申請專利範圍第14項所述的基板處理裝置，其中： 所述控制裝置基於所述圖像資料，判定所述透明部的透明度的劣化。
  19. 一種基板處理裝置的控制方法，包含： 在至少一部分具有透明部的基板保持部件上保持基板； 經由所述基板保持部件的所述透明部對所述基板保持部件的內部進行拍攝；和 基於拍攝得到的圖像資料來檢測所述基板及/或基板保持件的異常。
  20. 一種保存有程式的存儲介質，保存有用於使電腦執行控制基板處理裝置的方法的程式，所述程式用於使電腦執行如下處理： 在至少一部分具有透明部的基板保持部件上保持基板； 經由所述基板保持部件的所述透明部對所述基板保持部件的內部進行拍攝； 基於拍攝得到的圖像資料來檢測所述基板及/或基板保持件的異常。
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