KR102383922B1 - 기판 유지 부재, 기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 제어 방법, 프로그램을 저장한 기억 매체 - Google Patents

기판 유지 부재, 기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 제어 방법, 프로그램을 저장한 기억 매체 Download PDF

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Abstract

[과제] 기판 처리 장치에 있어서 기판 및/또는 기판 유지 부재의 이상을 조기에 발견하는 데에 있다.
[해결수단] 제1 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재와의 사이에 기판을 유지하는 제2 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재 및 상기 제2 유지 부재 중 적어도 한쪽에 설치된 투명부를 구비하는 기판 유지 부재가 제공된다.

Description

기판 유지 부재, 기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 제어 방법, 프로그램을 저장한 기억 매체{SUBSTRATE HOLDING MEMBER, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, METHOD FOR CONTROLLING SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND STORAGE MEDIUM STORING PROGRAMS}
본 발명은, 기판 유지 부재, 기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 제어 방법, 기판 처리 장치의 제어 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 저장한 기억 매체에 관한 것이다.
도금 장치에는, 기판 홀더에 장착한 기판에 대하여 도금 처리를 행하는 것이 있다(예컨대, 특허문헌 1). 현재 사용되고 있는 편면 도금용의 기판 홀더에서는, 기판 홀더의 개구부로부터 기판의 표면을 노출시키고, 기판의 이면을 기판 홀더 내부의 시일된 공간에 수용한 상태에서 기판의 표면에 도금 처리를 실시하고 있다. 이러한 편면 도금용의 기판 홀더에서는, 시일부의 불량, 열화에 기인하여 기판 홀더 내부에 처리액(약액)이 누설되는 경우가 있다. 또한, 도금 장치 반입 전에 기판의 이면에 균열이나 깨짐이 존재하는 경우나, 도금 장치 내에서 기판의 이면에 균열이나 깨짐이 발생하는 경우가 있다. 그러나, 현재의 도금 장치에서는 기판 이면의 균열, 깨짐이나 기판 홀더 내부로의 처리액의 누설이 어느 타이밍에 발생했는지를 검출하는 수단이 없기 때문에 다음과 같은 문제가 있다.
우선, 기판 깨짐이나 처리액 누설의 원인 조사에 매우 시간이 걸려, 원인을 특정 및 해결하기에 곤란함을 동반하고 있다. 또한, 기판 균열이나 깨짐을 방치하면, 파편이 도금조 안으로 들어가 도금액 순환계의 펌프 등의 각 기기나 도금 프로세스 품질에 대하여 악영향을 미치게 할 가능성이 있다. 또한, 처리액 누설을 방치하면, 다층 도금에서는, 상류조의 도금액, 그 밖의 처리액이 기판 홀더의 내부로부터 새어나와 후속의 도금조로 혼입되어, 이 조의 도금액을 더럽힐 우려가 있다. 또한, 기판의 접점(웨이퍼 컨택트), 기판 유지 부재의 접점이 처리액에 의해 부식될 우려가 있다.
특허문헌 1: 일본 특허 제4124327호 명세서
본 발명의 목적은 상술한 과제의 적어도 일부를 해결하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 의하면, 제1 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재와의 사이에 기판을 유지하는 제2 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재 및 상기 제2 유지 부재 중 적어도 한쪽에 설치된 투명부를 구비하는 기판 유지 부재가 제공된다.
본 발명의 일 측면에 의하면, 적어도 일부에 투명부를 갖는, 기판을 유지하기 위한 기판 유지 부재와, 상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해 상기 기판 유지 부재의 내측을 촬상하는 촬상 장치를 구비한 기판 처리 장치가 제공된다.
본 발명의 일 측면에 의하면, 기판 처리 장치를 제어하는 방법으로서, 적어도 일부에 투명부를 갖는 기판 유지 부재에 기판을 유지하는 것, 상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해 상기 기판 유지 부재의 내부를 촬상하는 것, 촬상된 화상 데이터에 기초하여 상기 기판 및/또는 기판 홀더의 이상 유무를 판정하는 것을 포함하는 방법이 제공된다. 또한, 본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 저장한 기억 매체가 제공된다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 기판 처리 장치의 전체 배치도이다.
도 2a는 기판 홀더의 구성예를 도시한다.
도 2b는 기판 홀더의 구성예를 도시한다.
도 3a는 기판 착탈부에 있어서의 기판 홀더 내부 감시 장치의 구성예를 도시한다.
도 3b는 기판 착탈부에 있어서의 기판 홀더 내부 감시 장치의 구성예를 도시한다.
도 4a는 반송 장치에 있어서의 기판 홀더 내부 감시 장치의 구성예를 도시한다.
도 4b는 반송 장치에 있어서의 기판 홀더 내부 감시 장치의 구성예를 도시한다.
도 5a는 기판 홀더의 다른 구성예를 도시한다.
도 5b는 기판 홀더의 다른 구성예를 도시한다.
도 5(c)는 기판 홀더의 다른 구성예를 도시한다.
도 6은 처리조의 구성예를 도시한다.
도 7은 기판 처리 장치의 제어 구성을 설명하는 설명도이다.
도 8은 기판 홀더 내부 감시 제어의 흐름도를 도시한다.
이하, 본 발명의 실시형태에 관해서 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 이하의 각 실시형태에 있어서 동일하거나 또는 상당하는 부재에는 동일 부호를 붙여 중복된 설명을 생략한다. 또한, 본 명세서에 있어서 「상」, 「하」, 「좌」, 「우」 등의 표현을 이용하지만, 이들은 설명의 형편상 예시하는 도면의 지면상에 있어서의 위치, 방향을 나타내는 것이며, 장치 사용 시 등의 실제의 배치에서는 다른 경우가 있다. 또한, 어떤 부재가 다른 부재와 「기판에 대하여 반대쪽에 위치한다」란, 기판의 어느 한 기판면에 마주보도록 위치하는 부재와, 이것과 반대쪽의 기판면에 마주보도록 다른 부재가 위치하는 것을 의미한다. 또한, 기판에 있어서 어느 한쪽의 면에 배선이 형성되는 경우, 양쪽의 면에 배선이 형성되는 경우가 있다.
(제1 실시형태)
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 기판 처리 장치의 전체 배치도이다. 이 예에서는, 기판 처리 장치(100)는 전해 도금 장치이다. 여기서는 전해 도금 장치를 예로 들어 설명하지만, 본 발명은 임의의 도금 장치를 포함하는 임의의 기판 처리 장치에 적용할 수 있다.
기판 처리 장치(100)는, 기판 홀더(11)(도 3a, 도 3b 참조)에 피처리물로서의 기판(W)을 로드하거나 또는 기판 홀더(11)로부터 기판(W)을 언로드하는 로드/언로드부(101A)와, 기판(W)을 처리하는 처리부(101B)로 크게 나뉜다. 기판(W)은 원형, 각형, 그 밖의 임의 형상의 기판을 포함한다. 또한, 기판(W)은 반도체 웨이퍼, 유리 기판, 액정 기판, 프린트 기판, 그 밖의 피처리물을 포함한다.
로드/언로드부(101A)는, 복수의 카세트 테이블(102)과 얼라이너(104)와 기판 착탈부(105)와 스핀 드라이어(106)를 갖는다. 카세트 테이블(102)은 기판(W)을 수납한 카세트를 탑재한다. 얼라이너(104)는, 기판(W)의 오리엔테이션 플랫(Orientation flat)이나 노치 등의 위치를 소정의 방향에 맞춘다. 기판 착탈부(105)는 기판(W)을 기판 홀더(11)에 착탈하도록 구성되는 하나 또는 복수의 기판 착탈 장치(105a)를 구비한다. 스핀 드라이어(106)는 도금 처리 후의 기판(W)을 고속 회전시켜 건조시킨다. 이들 유닛의 중앙에는, 이들 유닛의 사이에서 기판(W)을 반송하는 반송 로봇(103a)을 구비하는 기판 반송 장치(103)가 배치되어 있다.
처리부(101B)에는, 기판 홀더(11)의 보관 및 일시적인 임시 보관을 행하는 스토커(107)와 프리웨트조(108)와 프리소크조(109)와 프리린스조(110a)와 블로우조(111)와 린스조(110b)와 도금 처리부(112)를 갖는다. 프리웨트조(108)에서는 기판(W)이 순수에 침지된다. 프리소크조(109)에서는 기판(W)의 표면에 형성한 시드층 등의 도전층의 표면의 산화막이 에칭 제거된다. 프리린스조(110a)에서는 프리소크 후의 기판(W)이 기판 홀더(11)와 함께 세정액(순수 등)으로 세정된다. 블로우조(111)에서는 세정 후의 기판의 탈수가 행해진다. 린스조(110b)에서는 도금 후의 기판(W)이 기판 홀더(11)와 함께 세정액으로 세정된다. 도금 처리부(112)는 오버플로우조를 구비한 복수의 도금조(112a)를 갖는다. 각 도금조(112a)는, 내부에 하나의 기판(W)을 수납하고, 내부에 유지한 도금액 중에 기판(W)을 침지시켜 기판 표면에 구리 도금 등의 도금을 행한다. 여기서, 도금액의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니며, 용도에 따라서 다양한 도금액이 이용된다. 또한, 이 기판 처리 장치(100)의 처리부(101B)의 구성은 일례이며, 다른 구성을 채용할 수 있다.
기판 처리 장치(100)는, 이들 각 기기의 측방에 위치하여, 이들 각 기기의 사이에서 기판 홀더(11)를 반송하는, 임의의 구동 방식(예컨대 리니어 모터 방식)을 채용한 기판 홀더 반송 장치(113)를 갖는다. 이 기판 홀더 반송 장치(113)는 제1 트랜스포터(114)와 제2 트랜스포터(115)를 갖고 있다. 제1 트랜스포터(114) 및 제2 트랜스포터(115)는 레일(116) 위를 주행한다. 제1 트랜스포터(114)는 기판 착탈부(105)와 스토커(107) 사이에서 기판 홀더(11)를 반송한다. 제2 트랜스포터(115)는 스토커(107), 프리웨트조(108), 프리소크조(109), 프리린스조(110a), 블로우조(111), 린스조(110b) 및 도금조(112a) 사이에서 기판 홀더(11)를 반송한다. 또한, 제2 트랜스포터(115)를 구비하지 않고서 제1 트랜스포터(114)만을 구비하여, 제1 트랜스포터(114)에 의해 상기 각 부 사이의 반송을 행하도록 하여도 좋다.
이상과 같이 구성되는 기판 처리 장치(100)를 포함하는 도금 처리 시스템은, 상술한 각 부를 제어하도록 구성된 장치 컴퓨터(120), 화상 진단 단말(122)을 갖는다. 장치 컴퓨터(120)는, 각종 설정 데이터 및 각종 프로그램을 저장한 메모리(120B)와, 메모리(120B)의 프로그램을 실행하는 CPU(120A)를 갖는다. 메모리(120B)를 구성하는 기억 매체는, 임의의 휘발성 기억 매체 및/또는 임의의 불휘발성 기억 매체를 포함할 수 있다. 기억 매체는, 예컨대 ROM, RAM, 하드디스크, CD-ROM, DVD-ROM, 플렉시블 디스크 등의 임의의 기억 매체의 하나 또는 복수를 포함할 수 있다. 메모리(120B)가 저장하는 프로그램은, 예컨대 기판 반송 장치(103)의 반송 제어를 행하는 프로그램, 기판 홀더 내부 감시 제어(후술)를 행하는 프로그램, 기판 착탈부(105)에 있어서의 기판의 기판 홀더에의 착탈 제어를 행하는 프로그램, 기판 홀더 반송 장치(113)의 반송 제어를 행하는 프로그램, 도금 처리부(112)에 있어서의 도금 처리의 제어를 행하는 프로그램을 포함한다. 또한, 장치 컴퓨터(120)는, 기판 처리 장치(100) 및 그 밖의 관련 장치를 통괄 제어하는 도시하지 않는 상위 컨트롤러와 유선 또는 무선에 의해 통신 가능하게 구성되어, 상위 컨트롤러가 갖는 데이터베이스와의 사이에서 데이터를 주고받을 수 있다.
화상 진단 단말(122)은, 각종 프로그램을 저장한 메모리(122B)와, 메모리(122B)의 프로그램을 실행하는 CPU(122A)를 갖는다. 메모리(122B)를 구성하는 기억 매체는 임의의 휘발성 기억 매체 및/또는 임의의 불휘발성 기억 매체를 포함할 수 있다. 기억 매체는, 예컨대 ROM, RAM, 하드디스크, CD-ROM, DVD-ROM, 플렉시블 디스크 등의 임의의 기억 매체의 하나 또는 복수를 포함할 수 있다. 또한, 장치 컴퓨터(120) 및/또는 화상 진단 단말(122)은, 외부의 서버와 유선 또는 무선에 의해 통신 가능하게 구성되어, 기판 홀더 내부 감시 제어(후술)에 있어서의 화상 처리 및 기계 학습의 적어도 일부를 서버와 분담할 수 있다.
도 2a는 기판 홀더의 구성예를 도시한다. 여기서는, 기판(W)이 원형의 웨이퍼인 경우를 예로 들어 설명하지만, 각형 그 밖의 임의 형상의 기판에 대하여도 마찬가지로 본 발명을 적용할 수 있다. 기판 홀더(11)는, 기판(W)을 사이에 두고서 유지하는 제1 유지 부재(12) 및 제2 유지 부재(13)와, 기판 홀더(11)를 지지하기 위한 행거(15)를 구비하고 있다. 제1 유지 부재(12)는, 기판(W)을 지지할 수 있게 구성되어 있으며, 기판(W)보다 큰 치수를 가지고, 평면에서 봤을 때 대략 직사각형 형상이다. 여기서는, 기판(W)은 표면(S1), 이면(S2)을 가지며, 표면(S1)을 피도금면으로 하고, 제1 유지 부재(12)에 지지되는 면을 이면(S2)으로 한다. 이 예에서는, 제1 유지 부재(12) 전체가 투명한 재료로 구성되어 있다. 바꿔 말하면, 제1 유지 부재(12) 전체를 투명부(12a)로 형성한다. 또한 도 5a, 도 5b와 같이 제1 유지 부재(12)가 기초대(80)와 돌조부(지지 기초대)(81)를 구비하는 경우는, 기초대(80) 전체만을 투명 재료로 형성하여도 좋고, 기초대(80)와 돌조부(81) 전체를 투명 재료로 형성하여도 좋다. 또한 투명 정도는, 제1 유지 부재(12)를 통해 기판 홀더(11)의 내부, 즉 기판(W)의 이면(S2)을 관찰할 수 있는 정도면 된다. 투명재료는, 예컨대 투명 수지(PET, PVC, 아크릴, 폴리카보네이트 등) 혹은 강화유리 등을 사용할 수 있다. 제2 유지 부재(13)는 환상 부재이며, 기판(W)의 외주부를 제1 유지 부재(12)와 함께 협지하여 유지한다. 제2 유지 부재(13)의 직경 방향 내측은, 기판(W)의 피도금면인 표면(S1)을 노출하는 개구부(13a)를 갖는다. 제2 유지 부재(13)는 힌지(14)에 의해서 제1 유지 부재(12)에 대하여 개폐 가능하게 구성되어 있다. 여기서, 기판 홀더(11)의 개폐 기구는 힌지에 한정되지 않으며, 제2 유지 부재(13)를 제1 유지 부재(12)에 대향한 위치에 배치하고, 제2 유지 부재(13)를 제1 유지 부재로 향해서 전진 및 후진시켜 폐쇄 및 개방하는 구성이라도 좋다. 행거(15)는 제1 유지 부재(12)의 일단 측의 양측에 부착되어 있다. 행거(15)의 적어도 한쪽에는 외부의 회로(예컨대 전원)와 접속하기 위한 외부 접속 단자가 마련되어 있다. 행거(15)는 투명한 재료로 구성할 필요는 없고, 종래의 구성을 채용하여도 좋다.
도 2a의 예에서는, 제1 유지 부재(12)(또는 기초대) 전체가 투명부이기 때문에, 기판(W)을 기판 홀더(11)에 유지한 상태에서 제1 유지 부재(12)를 통해 기판(W)의 이면(S2)을 관찰(시인, 촬상) 및 감시할 수 있다. 도 2a의 예에서는, 기판(W)의 이면(S2)에 깨짐(균열을 포함한다)(16)이 생긴 경우를 도시하고 있다. 이와 같이, 투명한 제1 유지 부재(12)를 통해 기판(W) 이면(S2)의 깨짐(16)을 감시할 수 있다. 또한, 외측 내부 공간 α 및 내측 내부 공간 β(도 5a∼도 5(c)에서 후술)을 포함하는 기판 홀더(11)의 내부 공간으로의 처리액의 누설을 감시할 수 있다.
도 2b는 기판 홀더의 다른 구성예를 도시한다. 도 2b의 예에서는, 제1 유지 부재(12) 전체가 투명한 재료로 구성되는 대신에, 기판(W)의 이면(S2)에 대응하는 영역만, 또는 외측 내부 공간 α 및 내측 내부 공간 β을 포함하는 시일 부재(60)(도 5a∼도 5(c)) 외연(外緣)의 내측의 영역(기판(W)의 이면(S2)에 대응하는 영역을 포함한다)에 대응하는 영역만을 투명한 재료로 구성하여, 투명부(12a)로 하고 있다. 예컨대, 이러한 제1 유지 부재(12)는, 제1 유지 부재(12)가 되는 투명부(12a) 및 다른 부분을 따로따로 작성하고, 그 후, 양자를 접착이나 용착 등에 의해 접합하여 작성할 수 있다. 또한, 제1 유지 부재(12)에 개구부를 형성하고, 투명부(12a)가 되는 재료를 개구부로 성형(예컨대, 사출 성형, 트랜스퍼 성형)함으로써, 제1 유지 부재(12)에 투명부(12a)를 설치하여도 좋다. 또한, 제1 유지 부재(12)가 되는 투명부(12a) 및 다른 부분을 성형에 의해 형성하여도 좋다. 기판(W)의 이면(S2)에 대응하는 영역은, 제1 유지 부재(12)의 개구부(13)와 일치하는 영역(제2 유지 부재(13)로 시일되는 기판(W)의 외주부는 포함되지 않고, 기판(W)의 직경보다 약간 작다)이라도 좋고, 기판(W)과 일치하는 영역이라도 좋고, 기판(W)보다 약간 큰 영역이라도 좋다. 그 밖의 구성은 도 2a와 마찬가지기 때문에 설명을 생략한다. 도 2b의 예에서는, 제1 유지 부재(12)의 기판(W)의 이면(S2)에 대응하는 영역, 또는 외측 내부 공간 α 및 내측 내부 공간 β을 포함하는 시일 부재(60)(도 5a∼도 5(c)) 외연의 내측의 영역이 투명부(12a)이기 때문에, 기판(W)을 기판 홀더(11)에 유지한 상태에서 제1 유지 부재(12)의 투명부(12a)를 통해 기판(W)의 이면(S2)을 관찰(시인, 촬상) 및 감시할 수 있다. 도 2b의 예에서는, 기판(W)의 이면(S2)에 균열(깨짐)(16)이 생긴 경우를 도시하고 있다. 이와 같이, 제1 유지 부재(12)의 투명부(12a)를 통해 기판(W) 이면(S2)의 깨짐(16)을 감시할 수 있다. 또한, 시일 부재(60)(도 5a∼도 5(c)) 외연의 내측의 영역을 투명부(12a)로 하는 경우에는, 외측 내부 공간 α 및 내측 내부 공간 β(도 5a∼도 5(c))을 포함하는 기판 홀더(11)의 내부 공간으로의 처리액의 누설을 감시할 수 있다.
도 3a, 도 3b는 기판 착탈부에 있어서의 기판 홀더 내부 감시 장치의 구성예를 도시한다. 여기서는, 기판 홀더(11)가 수평 자세로 기판(W)을 착탈하는 예를 설명하지만, 기판 홀더(11)가 연직 자세로 기판을 착탈하는 구성이라도 좋다.
기판 착탈부(105)의 기판 착탈 장치(105a)는, 기판 홀더(11)가 배치되는 픽싱 테이블(105b)과, 기판 홀더(11)를 개폐하기 위한 픽싱 헤드(105c)를 구비하고 있다. 도 3a는, 픽싱 헤드(105c)에 의해 제2 유지 부재(13)가 제1 유지 부재(12)에 눌리어, 기판 홀더(11)가 닫힌 상태를 도시한다. 도 3b는, 픽싱 헤드(105c)가 제2 유지 부재(13)를 제1 유지 부재(12)에 대하여 개방하거나 또는 제2 유지 부재(13)를 들어올려 기판 홀더(11)를 개방한 상태를 도시한다. 또한 여기서는, 기판 홀더(11)의 개폐를 모식적으로 도시하고 있으며, 도 2a, 도 2b의 기판 홀더(11)의 경우, 실제로는 제2 유지 부재(13)는 힌지(14)를 중심으로 회전하여 개폐한다. 또한, 제2 유지 부재(13)를 제1 유지 부재(12)에 대향하는 위치에 배치하여, 제1 유지 부재(12)로 전진/후진시키는 기판 홀더(11)의 개폐 기구를 채용하는 경우에는, 대략 도 3a, 도 3b에 도시하는 동작에 가까운 것으로 된다.
기판 홀더 내부 감시 장치로서의 촬상 장치(130)가 픽싱 테이블(105b)에 형성된 오목부에 배치되어 있다. 촬상 장치(130)는, 카메라 등의 화상 센서, 또는 기판 및/또는 기판 홀더의 반사율을 검출하는 광학 센서를 채용할 수 있다. 카메라는, 화상 인식의 관점에서는 흑백 카메라가 바람직한 경우가 많지만, 컬러 카메라를 사용하여도 좋다. 촬상 장치(130)는, 오목부 내에 있어서 수평 방향, 연직 방향으로 이동 가능한 구성으로 하여도 좋다. 촬상 장치(130)는, 기판 홀더(11)가 픽싱 테이블(105b) 상에 배치되었을 때, 기판 홀더(11)의 제1 유지 부재(12)의 투명부(12a)에 대향하는 위치에 배치되어 있다. 촬상 장치(130)는, 제1 유지 부재(12)의 투명부(12a)를 통해 기판(W)의 이면(S2)을 촬상할 수 있다. 촬상 화상은 정지화상, 동화상의 어느 것이라도 좋다. 각 시점에 있어서의 기판 및/또는 기판 홀더의 이상 검출이 가능하면 된다. 도 3a, 도 3b에 도시하는 것과 같이, 촬상 장치(130)는, 기판 홀더(11)의 폐쇄 상태(도 3a) 및 개방 상태(도 3b) 어디에서나 제1 유지 부재(12)의 투명부(12a)를 통해 기판(W)의 이면(S2)을 촬상할 수 있다. 또한, 이것에 더하여 또는 이것 대신에, 기판 홀더(11)의 개방 시(도 3b)에 있어서 기판(W)의 표면(S1)을 촬상할 수 있는 위치에 촬상 장치를 설치하여, 기판 홀더(11)의 개방 시에 기판(W)의 표면(S1)을 촬상하여도 좋다.
도 4a는 반송 장치에 있어서의 기판 홀더 내부 감시 장치의 구성예를 도시한다. 여기서는 제2 트랜스포터(115)를 예로 들어 설명하지만, 제1 트랜스포터(114)에 관해서도 마찬가지다. 도 1, 도 4a에 도시하는 것과 같이, 제2 트랜스포터(115)는, 레일(116) 위를 주행 방향(y축 방향)을 따라 이동할 수 있게 부착된 베이스부(144)와, 베이스부(144)에 마련된 지주부(141)와, 지주부(141)에 부착되며, 주행 방향을 가로지르는 방향(x축 방향)으로 연장되는 아암부(142)를 구비하고 있다. 아암부(142)에는 기판 홀더(11)를 유지할 수 있는 파지부(143)가 마련되어 있다. 이 예에서는, 아암부(142)에 2개의 기판 홀더(11)가 나란하게 파지되도록(도 1), 복수의 파지부(143)가 아암부(142)에 마련되어 있다. 아암부(142)에 파지하는 기판 홀더(11)는, 장치의 구성에 따라서 하나라도 또는 3개 이상이라도 좋다. 제2 트랜스포터(115)는 파지부(143)에 의해서 기판 홀더(11)를 유지 및 개방한다. 제2 트랜스포터(115)는, 리니어 모터 방식에 의해, 베이스부(144)가 레일(116)을 따라 이동함으로써 스토커(107) 및 각 처리조 사이를 이동할 수 있고, 아암부(142)가 지주부(141)에 대하여, 도시하지 않는 승강 기구(볼나사 기구, 랙피니언 기구 등)에 의해 상하 이동하여, 스토커(107) 및 각 처리조에 기판 홀더(11)를 반입 및 반출하는 것이 가능하게 구성되어 있다. 또한, 제1 트랜스포터(114)도 마찬가지로, 리니어 모터 방식에 의해 베이스부(144)가 레일(116)을 따라 이동함으로써 기판 착탈부(105), 스토커(107) 사이를 이동할 수 있고, 아암부(142)가 지주부(141)에 대하여, 도시하지 않는 승강 기구(볼나사 기구, 랙피니언 기구 등)에 의해 상하 이동하여, 기판 착탈부(105), 스토커(107)에 기판 홀더(11)를 반입 및 반출하는 것이 가능하게 구성되어 있다.
기판 홀더 내부 감시 장치로서의 촬상 장치(130)는 홀더(131)에 유지되어 있고, 홀더(131)는 상하 이동 기구(132), 전후 이동 기구(133), 가로 이동 기구(134)를 통해 제2 트랜스포터(115)의 아암부(142)에 부착되어 있다. 상하 이동 기구(132)는, 볼나사 기구, 랙피니언 기구 등의 구동 기구에 의해, 제2 트랜스포터(115)에 유지된 기판 홀더(11)에 대하여 촬상 장치(130)를 상하 방향(z축 방향)으로 이동시킨다. 전후 이동 기구(133)는, 볼나사 기구, 랙피니언 기구 등의 구동 기구에 의해, 제2 트랜스포터(115)에 유지된 기판 홀더(11)에 대하여 촬상 장치(130)를 전후 방향(y축 방향)으로 이동시킨다. 가로 이동 기구(134)는, 볼나사 기구, 랙피니언 기구 등의 구동 기구에 의해, 제2 트랜스포터(115)에 유지된 기판 홀더(11)에 대하여 촬상 장치(130)를 가로 방향(x축 방향)으로 이동시킨다. 촬상 장치(130)를 상하, 전후 방향으로 이동시킴으로써, 기판 홀더(11)를 촬상하는 촬상 위치와, 기판 홀더(11)가 처리조에 반입될 때에 후퇴하는 후퇴 위치 사이에서 이동할 수 있게 되어 있다. 촬상 장치(130)를 좌우 방향으로 이동시킴으로써, 제2 트랜스포터(115)의 아암부(142)에 가로 방향으로 나란하게 유지된 2개의 기판 홀더(11)를 순차 하나의 촬상 장치(130)로 촬상할 수 있게 되어 있다. 또한, 제2 트랜스포터(115)에 대하여 복수의 촬상 장치(130)를 각 이동 기구를 통해 부착하여, 각 촬상 장치(130)로 각 기판 홀더(11)를 촬상하도록 하여도 좋다. 제1 트랜스포터(114)에 있어서의 기판 홀더 내부 감시 장치(촬상 장치, 그 이동 기구)의 구성에 관해서도 마찬가지다.
도 4b는 반송 장치에 있어서의 기판 홀더 내부 감시 장치의 다른 구성예이다. 위에서는 기판 홀더 내부 감시 장치를 제2 트랜스포터(115)에 부착하는 경우를 나타냈지만, 도 4b에 도시하는 것과 같이, 기판 홀더 내부 감시 장치를 제2 트랜스포터(115)와는 독립된 주행 이동 기구(135)에 부착하여도 좋다. 이 경우, 주행 이동 기구(135)를 레일(116)을 따라 이동하도록 배치하여도 좋다. 이 예에서는, 촬상 장치(130)는, 상하 이동 기구(132), 전후 이동 기구(133), 좌우 이동 기구(134)를 통해 주행 이동 기구(135)에 부착되어 있다. 주행 기구(135)는, 리니어 모터 방식, 기타 임의의 구동 방식에 의해 구동되어, 레일(116) 위를 주행 방향(y축 방향)을 따라 이동할 수 있게 부착된 베이스부(137)와, 베이스부(137)에 마련되어, 좌우 이동 기구(134)가 부착되는 지주부(136)를 구비하고 있다. 또한, 제1 및 제2 트랜스포터(114, 115)와 마찬가지로, 주행 방향을 가로지르는 방향(x축 방향)으로 연장되는 아암부를 지주부(136)에 마련하여, 아암부에 좌우 이동 기구(134)를 부착하여도 좋다.
(기판 홀더의 다른 구성예)
위에서는 기판 홀더(11) 내부의 기판(W)의 이면(S2)을 관찰(시인, 촬상)하는 예를 설명했지만, 기판 홀더(11) 내부의 기판(W)의 직경 방향 외측의 내부 공간(외측 내부 공간)을 관찰하도록 하여도 좋다. 이와 같이 구성한 경우도 기판 홀더(11) 내부로의 처리액의 누설을 검출할 수 있다. 또한, 기판 이면(S2)을 관찰하는 경우보다도 기판 및/또는 기판 유지 부재의 이상을 조기에 발견할 수 있을 가능성이 있다. 또한, 기판 이면(S2)의 관찰과 기판 홀더의 외측 내부 공간의 관찰을 조합하여도 좋다.
도 5a 내지 도 5(c)는 기판 홀더의 다른 구성예를 도시한다. 동 도면에서는, 기판 홀더(11)의 제1 유지 부재(12) 상에 기판(W)을 배치한 상태에서 제2 유지 부재(13)를 제1 유지 부재(12)에 대하여 닫고, 기판(W)을 기판 홀더(11)의 제1 유지 부재(12) 및 제2 유지 부재(13)에 의해 유지한 상태를 도시한다. 도 5a 내지 도 5(c)의 예에서는, 기판 홀더(11)의 제2 유지 부재(13)의 일부 및/또는 제1 유지 부재(12)의 일부가 투명부(150, 12b)로서 구성되어 있다. 촬상 장치(130, 130A)는, 투명부(150, 12b)를 통해 기판 홀더(11)의 시일 부재(60)의 내주 측 및 외주 측의 립부(60a, 60b) 사이에 시일된 공간(외측 내부 공간 α)을 촬상한다.
도 5a 내지 도 5(c)에 있어서, 하나 또는 복수의 투명부(150, 12b)를 설치할 수 있다. 하나 또는 복수의 투명부(150, 12b)는 제2 유지 부재(13)의 원주 방향의 임의 위치에 설치할 수 있다. 투명부(150), 투명부(12b)는 제2 유지 부재(13)의 전체 둘레에 걸쳐 설치되어도 좋다. 이 경우, 투명부(150, 12b)는 제2 유지 부재(13)를 따라 환상으로 배치된다. 또한, 제2 유지 부재 전부를 투명부로 하여도 좋다. 도 5a 내지 도 5(c)에서는, 투명부(150, 12b)는 전기 접점(92)에 대응하는 위치 및/또는 그 밖의 위치에 설치할 수 있다. 도 5a 및 도 5b의 투명부(150, 12b)는, 전기 접점(92)에 대응하는 위치에 설치된 경우(즉, 전기 접점(92)이 배치되는 외측 내부 공간 α에 면하는 제1 유지 부재(12) 또는 제2 유지 부재(13)의 부위에 투명부(150, 12b)를 설치하는 경우) 및 전체 둘레에 걸쳐 설치된 경우에, 전기 접점(92)의 부식 상태나 전기 접점(92)과 기판(W)의 접촉 부위의 변색을 관찰하기에 적합하다. 투명부(150), 투명부(12b)는, 기판 홀더(11)를 세로 방향에서 처리, 반송하는 경우(도 4a 참조), 기판 홀더(11)의 외측 내부 공간 α의 가장 하부 또는 그 근방에 설치할 수 있다. 이 구성에 의하면, 기판 홀더(11)의 외측 내부 공간 α의 가장 하부 또는 그 근방에 누설 처리액이 고이는 경우가 많기 때문에, 누설의 검출 정밀도를 향상시킬 수 있다.
도 5a 내지 도 5(c)의 구성은 상술한 기판 착탈부(105), 기판 홀더 반송 장치(113)에 있어서 적용 가능하다. 또한, 기판 홀더(11)의 제1 유지 부재(12)의 일부 또는 전부를 투명부로 하는 구성(도 2a, 도 2b)과, 제2 유지 부재(13)의 일부 또는 전부를 투명부로 하는 구성(도 5a, 도 5b)과, 제1 유지 부재(12)의 외측 내부 공간 α에 대응하는 부분을 투명부로 하는 구성(도 5(c))을 적절하게 조합하여도 좋다.
기판 홀더(11)의 제1 유지 부재(12)는, 기초대(80)와, 기초대(80) 상에 형성된 환상의 돌조부(81)를 구비하고 있다. 돌조부(81)는, 기판(W)의 지지 기초대로서 기능하며, 기판(W)을 지지하는 지지면(82)으로서 기능하는 단부면을 갖고 있다. 또한, 돌조부(81)는, 평면에서 봤을 때 원주 방향의 하나 또는 복수의 부위에 오목부(83)를 갖는다. 이 오목부(83)의 바닥면에 도전체(88)가 볼트 등의 체결 부재로 고정되어 있다. 도전체(88)의 일단은, 행거(15)의 한쪽 또는 양쪽에 마련된 복수의 외부 접속 접점의 하나와 케이블로 전기적으로 접속되어 있다. 도전체(88)의 타단은, 평면에서 봤을 때, 돌조부(81)의 직경 방향 외측으로 돌출되어 있다. 또한, 돌조부(81)는, 기초대(80)와 별개 부재로 형성되어 기초대(80)에 대하여 부착되어도 좋고, 기초대(80)와 일체로 형성되어도 좋다. 또한, 돌조부(81)는, 별개 부재로 형성되고, 탄성 부재 등에 의해 기초대(80)에 대하여 이동할 수 있게 구성하여, 기판(W) 두께의 변동을 흡수하도록 하여도 좋다.
제2 유지 부재(13)는, 환상의 기초부(17)와, 지지체(90)와, 기초부(17)와 지지체(90)로 협지되어 고정된 시일 부재(60)를 구비하고 있다. 시일 부재(60)는, 내주 측에 있어서 기판(W)과 제2 유지 부재(13)의 사이를 시일하는 기판 시일부로서의 립부(60a)와, 외주 측에 있어서 제1 유지 부재(12)와 제2 유지 부재(13) 사이를 시일하는 홀더 시일부로서의 립부(60b)를 갖고 있다. 시일 부재(60)의 립부(60a, 60b)에 의해서 기판(W)의 외주부 및 이면(S2)이 시일되고, 이 시일된 공간을 기판 홀더(11)의 내부 또는 내부 공간이라고 부른다. 기판 홀더(11)의 내부 또는 내부 공간은, 기판(W)의 외주 측이 되는 외측 내부 공간 α과, 기판(W)의 이면(S2) 측이 되는 내부 내측 공간 β을 포함한다. 또한, 립부(60b)는 시일 부재(60)의 외연에 상당한다.
또한, 지지체(90)에는 기판(W)에 전류를 공급하기 위한 전기 접점(92)이 볼트 등의 체결 부재로 고정되어 있다. 전기 접점(92)은 다리부(92a)와 접점 단부(92b)를 갖고 있다. 다리부(92a)는, 제2 유지 부재(13)가 제1 유지 부재(12)에 대하여 닫혔을 때, 제1 유지 부재(12)의 도전체(88)에 접촉하여, 도전체(88)와 전기 접점(92)을 전기적으로 접속한다. 접점 단부(92b)는, 판스프링형으로 탄성을 가지고서 마련되며, 제2 유지 부재(13)가 제1 유지 부재(12)에 대하여 닫혔을 때, 기판(W)의 외주부에 접촉하여, 전기 접점(92)과 기판(W)을 전기적으로 접속한다. 이에 따라, 행거(15)의 적어도 한쪽에 마련된 외부 접속 접점이 도전체(88), 전기 접점(92)을 통해 기판(W)에 전기적으로 접속되어, 외부의 전원으로부터 외부 접속 접점, 도전체(88), 전기 접점(92)을 통해 기판(W)에 전류가 공급된다.
도 5a의 예에서는, 투명부(150)는, 기판 홀더(11)의 외측 내부 공간 α을 측방에서 관찰할 수 있는 위치에서 제2 유지 부재(13)에 설치된다. 도 5a의 투명부(150)는 예컨대 이하와 같이 설치된다. 시일 부재(60) 및 지지체(90)에 있어서 투명부(150)가 설치되는 하나 또는 복수의 부분에 개구부를 형성하고, 시일 부재(60) 및 지지체(90)의 하나 또는 복수의 개구부에 투명부(150)를 삽입하여, 투명부(150)를 시일 부재(60) 및 지지체(90)에 고정한다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 이 경우, 투명부(150)는 일체의 부재라도 복수 부재의 조합이라도 좋다.
또한, 투명부(150)를 투명부(60c)와 투명부(90c)로 구성하여도 좋다. 이 경우, 시일 부재(60)에 있어서 투명부(60c)가 설치되는 하나 또는 복수의 부분에 개구부를 형성하고, 시일 부재(60)의 하나 또는 복수의 개구부에 투명부(60c)를 삽입하여, 투명부(60c)를 시일 부재(60)에 고정한다. 또한, 지지체(90)에 있어서 투명부(90c)가 설치되는 하나 또는 복수의 부분에 개구부를 형성하고, 지지체(90)의 하나 또는 복수의 개구부에 투명부(90c)에 삽입하여, 투명부(90c)를 지지체(90)에 고정한다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 또한, 시일 부재(60) 및 지지체(90)의 하나 또는 복수의 개구부에 투명부(60c) 및 투명부(90c)가 되는 재료를 성형(예컨대, 사출 성형, 트랜스퍼 성형)함으로써 투명부(60c) 및 투명부(90c)를 설치하여도 좋다. 또한, 시일 부재(60)의 각 부(투명부(60c), 그 밖의 부분)를 성형에 의해 형성하여도 좋다. 지지체(90)의 각 부(투명부(90c), 그 밖의 부분)을 성형에 의해 형성하여도 좋다.
또한, 투명부(150)를 제2 유지 부재(13)의 전체 둘레에 걸쳐 설치하는 경우에는, 다음과 같이 시일 부재(60) 및 지지체(90)에 투명부(150)를 설치할 수 있다. 시일 부재(60)는, 립부(60a)를 갖는 내측 시일부(61a)와, 립부(60b)를 갖는 외측 시일부(61b)와, 투명부(60c)가 별개 부재로 형성되어, 이들이 상호 고정된다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 내측 시일부(61a), 외측 시일부(61b)는 각각 더욱 분할하여 형성되어도 좋다. 지지체(90)는, 기단부(90a)와 원위부(遠位部)(90b)와 투명부(90c)가 각각 별개 부재로 형성되어, 상호 고정된다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 또한, 투명부(150)를 투명부(60c), 투명부(90c)로 구성하는 대신에, 일체의 투명부로 하여도 좋다. 이 경우, 일체의 투명부(150)에 대하여 시일 부재(60)의 내측 시일부(61a), 외측 시일부(61b), 그리고 지지체(90)의 기단부(90a), 원위부(90b)를 고정하여도 좋다.
촬상 장치(130)는, 기판 홀더(11)의 직경 방향 외측에 있어서, 투명부(150)에 대향하는 위치에서 기판 홀더(11)의 내부(이 예에서는 외측 내부 공간 α)를 촬상한다. 촬상 장치(130)를, 기판 홀더(11)의 내부를 촬상하는 촬상 위치와, 기판 홀더(11)의 개폐 동작, 제1 및 제2 트랜스포터(114, 115)에서의 이동에 간섭하지 않는 후퇴 위치와의 사이에서 이동하기 위한 이동 기구를 설치하여도 좋다. 또한, 촬상 장치(130)가 제2 유지 부재(13)의 원주 방향을 따라서 이동할 수 있는 이동 기구를 설치하여도 좋다.
도 5a의 예에서는, 촬상 장치(130)는, 제2 유지 부재(13)의 외주면에 설치된 하나 또는 복수의 투명부(150)를 통해 기판 홀더(11)의 시일 부재의 내주 측 및 외주 측의 립부(60a, 60b) 사이에 시일된 외측 내부 공간 α을 촬상한다. 촬상 화상은 정지화상, 동화상의 어느 것이라도 좋다. 촬상 장치(130)가 촬상한 화상 데이터에 기초하여 외측 내부 공간 α으로의 처리액의 누설 유무가 판정된다. 또한, 누설 유무에 더하여 누설의 정도를 판정하도록 하여도 좋다.
도 5b의 예에서는, 투명부(150)는, 제2 유지 부재(13)에 있어서 기판 홀더(11)의 정면 측에서 외측 내부 공간 α을 관찰할 수 있는 위치에서, 제1 유지 부재(12)와 대향하는 부분에 설치된다. 촬상 장치(130)는, 제2 유지 부재(13)의 기단면(도 5a, 도 5b에서의 상면)에 설치된 투명부(150)를 통해 제1 유지 부재(12)로 향하여 기판 홀더(11)의 외측 내부 공간 α을 촬상한다. 촬상 장치(130)에 의해 촬상한 화상 데이터에 기초하여 시일 공간 α으로의 처리액의 누설 유무가 판정된다. 또한, 누설 유무에 더하여 누설의 정도를 판정하도록 하여도 좋다. 촬상 화상은 정지화상, 동화상의 어느 것이라도 좋다.
도 5b의 투명부(150)는 예컨대 다음과 같이 설치된다. 기초부(17) 및 시일 부재(60)의 투명부(150)가 설치되는 하나 또는 복수의 부분에 개구부를 형성함과 더불어, 지지체(90)의 투명부(150)가 설치되는 하나 또는 복수의 부분에 절결부를 형성하고, 투명부(150)를 개구부 및 절결부에 삽입하여, 투명부(150)를 기초부(17), 시일 부재(60) 및 지지체(90)에 고정한다. 지지체(90)는, 평면에서 봤을 때 환상이며, 투명부(90c)가 설치되는 하나 또는 복수의 위치에 있어서 직경 방향 내측이 개구되는 절결부가 형성된다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 투명부(150)는 일체의 부재라도 복수 부재의 조합이라도 좋다.
또한, 투명부(150)를 투명부(17c)와 투명부(60c)와 투명부(90c)로 구성하여도 좋다. 이 경우, 기초부(17)에 있어서 투명부(17c)가 설치되는 하나 또는 복수의 부분에 개구부를 형성하고, 기초부(17)의 하나 또는 복수의 개구부에 투명부(17c)를 삽입하여, 투명부(17c)를 기초부(17)에 고정한다. 시일 부재(60)에 있어서 투명부(60c)가 설치되는 하나 또는 복수의 부분에 개구부를 형성하고, 시일 부재(60)의 하나 또는 복수의 개구부에 투명부(60c)를 삽입하여, 투명부(60c)를 시일 부재(60)에 고정한다. 또한, 지지체(90)에 있어서 투명부(90c)가 설치되는 하나 또는 복수의 부분에 절결부를 형성하고, 지지체(90)의 하나 또는 복수의 절결부에 투명부(90c)를 삽입하여, 투명부(90c)를 지지체(90)에 고정한다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 또한, 기초부(17)의 하나 또는 복수의 개구부, 시일 부재(60)의 하나 또는 복수의 개구부, 지지체(90)의 하나 또는 복수의 절결부에, 각각 투명부(17c), 투명부(60c) 및 투명부(90c)가 되는 재료를 성형(예컨대, 사출 성형, 트랜스퍼 성형)함으로써, 투명부(17c), 투명부(60c) 및 투명부(90c)를 설치하여도 좋다. 또한, 기초부(17)의 각 부(투명부(17c), 그 밖의 부분)를 성형에 의해 형성하여도 좋다. 시일 부재(60)의 각 부(투명부(60c), 그 밖의 부분)를 성형에 의해 형성하여도 좋다. 지지체(90)의 각 부(투명부(90c), 그 밖의 부분)를 성형에 의해 형성하여도 좋다.
또한, 투명부(150)를 제2 유지 부재(13)의 전체 둘레에 걸쳐 설치하는 경우에는, 다음과 같이 기초부(17), 시일 부재(60) 및 지지체(90)에 투명부(150)를 설치할 수 있다. 기초부(17)는 내주부(17a)와 외주부(17b)와 투명부(17c)가 별개 부재로 형성되어, 이들이 상호 고정된다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 시일 부재(60)는, 립부(60a)를 갖는 내측 시일부(61a)와, 립부(60b)를 갖는 외측 시일부(61b)와, 투명부(60c)가 별개 부재로 형성되어, 이들이 상호 고정된다. 고정 방법은, 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 내측 시일부(61a), 외측 시일부(61b)는 각각 더욱 분할하여 형성되어도 좋다. 지지체(90)는 외주부(90d)와 투명부(90c)가 각각 별개 부재로 형성되어, 상호 고정된다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 또한, 투명부(150)를 투명부(17c), 투명부(60c), 투명부(90c)로 구성하는 대신에, 일체의 투명부로 하여도 좋다. 이 경우, 일체의 투명부(150)에 대하여 기초부(17)의 내주부(17a), 외주부(17b), 시일 부재(60)의 내측 시일부(61a), 외측 시일부(61b), 그리고 지지체(90)의 외주부(90d)를 고정하여도 좋다.
도 5b의 예에서는, 촬상 장치(130)는, 제2 유지 부재(13)의 기단면에 설치된 하나 또는 복수의 투명부(150)를 통해 기판 홀더(11)의 외측 내부 공간 α을 촬상한다. 촬상 장치(130)에 의해 촬상한 화상 데이터에 기초하여 시일 공간 α으로의 처리액의 누설 유무가 판정된다. 또한, 누설 유무에 더하여 누설의 정도를 판정하도록 하여도 좋다. 촬상 화상은 정지화상, 동화상의 어느 것이라도 좋다.
도 5(c)의 예에서는, 제1 유지 부재(12)의 기초대(80)의 외측 내부 공간 α에 대응하는 부분을 투명부(12b)로 한다. 누설된 처리액은, 외측 내부 공간 α 내의 돌조부(지지 기초대)(81)의 외측에 고이는 경우가 많기 때문에, 기초대(80)의 대응 부분을 투명부(12b)로 하여, 촬상 장치(130)에 의해 투명부(12b)를 통해 외측 내부 공간 α을 촬상한다. 본 실시형태와 같이 기판 홀더(11)를 세로 방향에서 처리, 반송하는 경우(도 4a 참조), 기판 홀더(11)의 외측 내부 공간 α의 가장 하부에 위치하는 돌조부(81)의 외측에 누설 처리액이 고이는 경우가 많기 때문에, 기판 홀더(11)의 대응하는 위치에 투명부(12b)를 설치하는 것이 바람직하다. 도 5(c)의 12b의 구성은, 전기 접점(92)에 대응하는 위치에 설치한 경우, 전기 접점(92) 혹은 도전체(88)의 부식 상태나 외측 내부 공간 α으로 들어간 처리액 자체를 관찰하는 데 적합하다.
촬상 장치(130A)는, 제1 유지 부재(12)에 설치된 투명부(12b)를 통해 기판 홀더(11)의 외측 내부 공간 α을 촬상한다. 촬상 장치(130A)에 의해 촬상한 화상 데이터에 기초하여 시일 공간 α으로의 처리액의 누설 유무가 판정된다. 또한, 누설 유무에 더하여 누설의 정도를 판정하도록 하여도 좋다. 촬상 화상은 정지화상, 동화상의 어느 것이라도 좋다.
도 5(c)의 투명부(12b)는 예컨대 다음과 같이 설치된다. 제1 유지 부재(12)에 있어서 투명부(12b)가 설치되는 하나 또는 복수의 부분에 개구부를 형성하고, 제1 유지 부재(12)의 하나 또는 복수의 개구부에 투명부(12b)를 삽입하여, 투명부(12b)를 제1 유지 부재(12)에 고정한다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 또한, 제1 유지 부재(12)의 하나 또는 복수의 개구부에 투명부(12b)가 되는 재료를 성형(예컨대, 사출 성형, 트랜스퍼 성형)함으로써 제1 유지 부재(12)에 투명부(12b)를 설치하여도 좋다. 또한, 제1 유지 부재(12)의 각 부(투명부(12b), 그 밖의 부분)를 성형에 의해 형성하여도 좋다.
또한, 투명부(12b)를 제2 유지 부재(13)의 전체 둘레에 걸쳐 설치하는 경우에는, 제1 유지 부재(12)에 있어서 투명부(12b)가 설치되는 환상의 슬릿을 형성하고, 이 환상의 슬릿에 투명부(12b)를 삽입하여, 투명부(12b)를 제1 유지 부재(12)에 고정한다. 고정 방법은 접착, 융착 등의 접합, 체결 부재에 의한 체결, 기타 임의의 고정 방법을 채용할 수 있다. 또한, 제1 유지 부재(12)의 환상의 슬릿에 투명부(12b)가 되는 재료를 성형(예컨대, 사출 성형, 트랜스퍼 성형)함으로써 제1 유지 부재(12)에 투명부(12b)를 설치하여도 좋다. 또한, 제1 유지 부재(12)의 각 부(투명부(12b), 그 밖의 부분)를 성형에 의해 형성하여도 좋다.
도 5a의 투명부(150)와, 도 5b의 투명부(150)의 구성과, 도 5(c)의 투명부(12b)의 구성의 적어도 2개를 조합하여도 좋다. 또한, 제2 유지 부재(13) 전체를 투명한 재료로 형성하여 투명부로 하여도 좋다.
위에서는 기초부, 시일 부재, 지지체의 일부를 투명한 재료로 형성하는 예를 설명했지만, 기초부, 시일 부재, 지지체 중 하나 또는 복수 전체를 투명한 재료로 형성하여도 좋다. 예컨대 기초부, 시일 부재 및 지지체 전체를 투명한 재료로 형성하여도 좋다.
또한, 도 2a 또는 도 2b의 투명부(12a)의 구성과, 도 5a의 투명부(150)의 구성과, 도 5b의 투명부(150)의 구성과, 도 5(c)의 투명부(12b)의 적어도 2개를 조합하여도 좋다.
도 6은 처리조의 구성예를 도시한다. 동 도면에 도시하는 것과 같이 하나 또는 복수의 처리조에 있어서, 측벽의 일부 또는 전부를 투명한 재질의 투명부(150')로 하고, 기판 홀더(11)가 처리조 내에 있는 상태에서, 처리조의 투명부(150'), 기판 홀더(11)의 투명부(150)를 통해 기판 홀더 내부를 촬상할 수 있도록 하여도 좋다.
(제어 구성)
도 7은 기판 처리 장치의 제어 구성을 설명하는 설명도이다. 기판 처리 장치(100)는, 주로 장치 컴퓨터(120)와 장치 컨트롤러(121)와 화상 진단 단말(122)에 의해 제어된다. 장치 컴퓨터(120), 장치 컨트롤러(121) 및 화상 진단 단말(122)은, 협동하여 기판 홀더 내부 감시 제어(후술)를 포함하는 기판 처리 장치(100)의 다양한 제어를 실행한다.
장치 컨트롤러(121)는 예컨대 시퀀서 등에 의해서 구성되어, 장치 컴퓨터(120)로부터의 제어 지령, 설정 파라미터 등에 기초하여 반송 기기(400) 및 촬상 기기(300)를 포함하는 기판 처리 장치(100)의 각 부를 제어한다. 여기서, 반송 기기(400)는 기판 반송 장치(103)와 기판 홀더 반송 장치(113)를 포함한다. 촬상 기 기(300)는 촬상 장치(130) 및 그 이동 기구(131∼134 등)를 포함한다.
화상 진단 단말(122)은, 상술한 것과 같이, 메모리(122B), CPU(122A)를 포함하는 컴퓨터이다. 화상 진단 단말(122)은, 촬상 장치(130)에서 촬상된 화상 데이터에 대하여 화상 인식 처리를 실시하여, 기판(W) 및/또는 기판 홀더(11)의 상태를 진단한다. 화상 진단 단말(122)은, 기판(W) 및/또는 기판 홀더(11)의 이상의 유무 및/또는 정도를 장치 컨트롤러(121)에 출력한다. 장치 컨트롤러(121)는, 기판(W) 및/또는 기판 홀더(11)에 이상이 있는 경우 또는 이상의 정도가 소정 이상인 경우에, 알람을 장치 컴퓨터(120)에 출력한다.
화상 진단 단말(122)은, 유선 또는 무선을 통해 기판 처리 장치(100)의 외부의 서버(123)에 접속되어도 좋다. 이 경우, 화상 진단 단말(122)은, 촬상 장치(130)에서 촬상된 화상 데이터로부터 특징량(화상의 농담, 농담의 윤곽, 색의 차이, 색의 차이의 윤곽 등)을 추출 또는 산출하여, 서버(123)에 출력한다. 서버(123)는, 화상 진단 단말(122)로부터 수취한 화상 데이터의 특징량에 기초하여 화상 진단 처리를 행하여, 화상 진단 결과를 화상 진단 단말(122)에 보내도록 하여도 좋다. 또한, 상기 기판 처리 장치(100) 이외의 하나 또는 복수의 기판 처리 장치(100-1∼100-n)를 유선 또는 무선을 통해 서버(123)에 접속하고, 서버(123)에 있어서, 기판 처리 장치(100, 100-1∼100-n) 중 하나 또는 복수로부터 수집한 화상 데이터에 대하여 화상 진단 처리를 행하여, 화상 진단 결과를 화상 진단 단말(122)에 보내도록 하여도 좋다.
화상 진단 단말(122) 및/또는 서버(123)에 있어서의 화상 인식 처리에는 심층 학습 등을 이용할 수 있다. 화상 인식 처리는, 정상 시 및/또는 이상 시의 기판(W)의 화상 데이터를 교사 데이터로서 축적하여, 다층 뉴럴 네트워크(DNN)를 이용하여 학습하는 단계와, 이상의 레벨을 추측하는 단계를 구비하여도 좋다. 설계 단계 및/또는 장치 가동 전에, 대량의 교사 데이터를 수집하여, 화상 진단 단말(122)에 미리 학습시키고 나서 장치에 집어넣어도 좋다. 이상의 레벨은, 예컨대 「발생 없음」, 「경미」, 「경도」, 「중간」, 「심각」과 같이 복수의 분류로 구분할 수 있다. 「발생 없음」은 기판 및/또는 기판 홀더가 정상임을 나타낸다. 화상 진단은, 예컨대 화상 데이터 중 농담 및/또는 색이 다른 영역의 면적, 폭 및/또는 길이에 기초하여 실시하여도 좋다. 화상 데이터 중 농담 및/또는 색이 다른 영역의 면적, 폭 및/또는 길이에 기초하여 이상의 정도를 수치화한 것을 사용하여, 이상의 레벨을 추정하여도 좋다. 레벨마다 기판 및/또는 기판 홀더의 사용 계속의 가부, 회수 가부 등을 할당하여도 좋다. 복수의 기판 홀더의 화상 데이터를 진단 결과와 합쳐 서버(123)에 모아, 기판 홀더마다 일원적으로 상태(진단 결과, 예컨대 이상의 유무, 레벨)를 표시하는 모니터를 설치하여도 좋다. 복수의 기판 처리 장치에 있어서의 대량의 기판 홀더의 감시 화상으로부터 특징량을 산출하고, 그 특징량 데이터를 서버로 보내어, 다층 뉴럴 네트워크(DNN) 상에서 학습하게 하고, 학습이 끝난 DNN 파라미터를 사용하여 기판 처리 장치 측에서 기판 및/또는 기판 홀더의 상태를 진단하여도 좋다. DNN 파라미터는, 예컨대 이상의 유무 또는 이상의 레벨을 판단하기 위한 임계치 등의 판단 기준을 포함할 수 있다. 또한, 복수의 기판 처리 장치에 있어서의 대량의 기판 홀더의 감시 화상(기판 홀더의 내부 공간, 기판면의 화상을 포함한다)으로부터 특징량을 산출하여, 그 특징량 데이터를 서버에 보내고, 다층 뉴럴 네트워크(DNN) 상에서 학습하게 하여, 서버(123)에 있어서 기판 및/또는 기판 홀더의 상태를 진단하여도 좋다. 학습을 위해서 서버(123)에 모여진 특징량 데이터에 대하여 미리 교사 데이터를 부가하여도 좋다. 또한, 복수의 기판 처리 장치의 컴퓨터와 화상 진단 서버(123)를 포그 또는 엣지 컴퓨팅 구성에 의해서 접속하여도 좋다.
기판 및/또는 기판 홀더의 이상을 검출한 기판 홀더에 관해서는 사용자에게 통지하여도 좋다. 또한, 기판 및/또는 기판 홀더의 이상을 검출한 경우에, 진행 중인 기판 처리가 종료된 후에, 기판 홀더를 사용 불가로 하여 스토커에 되돌리더라도 좋고, 혹은 조사를 위해서 이어서 상기 기판 홀더의 사용을 계속하여도 좋다. 기판 및/또는 기판 홀더의 이상을 검출한 기판 홀더의 후속되는 처리조로의 투입을, 진단 결과 레벨에 따라서 불가로 하는 것도 가능하다. 불가로 하는 경우에는, 기판의 후속 처리를 행하지 않고, 기판 홀더의 세정, 건조 등을 행하여 카세트로 되돌린다. 또한, 기판 및/또는 기판 홀더의 이상을 검출한 경우에 있어서, 기판을 언로드 처리하는 데에 지장이 있는 경우에는, 기판을 유지한 기판 홀더를 스토커로 되돌려, 그 취지를 통지하도록 하여도 좋다.
또한, 기판 홀더의 투명부에 있어서의 투명부의 열화를 같은 식의 화상 인식 처리에 의해서 진단하여, 기판 홀더의 클리닝 또는 교환 장려 시기를 통지하도록 하여도 좋다. 또한, 처리조의 일부 또는 전부를 투명부로 하는 경우에도, 투명부의 열화를 같은 식의 화상 인식 처리에 의해서 진단하여도 좋다.
촬상 장치(130)는, 상술한 것과 같이 기판 홀더 반송 장치(113)와 함께 이동할 수 있게 설치했지만, 하나 또는 복수의 촬상 장치(130)를 기판 처리 장치(100) 내의 기판 홀더(11)를 촬상할 수 있는 위치에 설치하도록 하여도 좋다. 이 경우, 촬상 장치(130)는, 설치 위치에 있어서, 촬상 위치와 후퇴 위치에서 이동 가능하게 되어도 좋다. 또한, 촬상 장치(130)는 기판 홀더의 복수의 투명부에 대향하는 촬상 위치 사이에서 이동할 수 있게 되어도 좋다.
(제어 흐름)
도 8은 기판 홀더 내부 감시 제어의 흐름도이다.
단계 S10에서는, 장치 컨트롤러(121)는, 기판 홀더(11)의 촬상 타이밍이 되었는지 여부를 판정한다. 촬상 타이밍이 되지 않은 경우는, 촬상 타이밍이 될 때까지 단계 S10의 처리를 반복한다.
촬상 타이밍은 적어도 이하의 타이밍의 하나 또는 복수를 포함한다.
(1) 기판 착탈부(105)에 있어서의 기판 홀더(11)에의 처리 전 기판(W)의 장착 시에 있어서, 제1 유지 부재(12)에 기판(W)을 설치하고, 제2 유지 부재(13)를 닫기 전후(도 3a, 도 3b)
(2) 기판 착탈부(105)에 있어서의 기판 홀더(11)에의 처리 후 기판(W)의 탈리 시에 있어서, 기판(W)을 유지하는 제1 유지 부재(12)에 대하여 제2 유지 부재(13)를 개방하기 전후(도 3a, 도 3b)
(3) 제1 또는 제2 트랜스포터(114, 115)에 의해서 기판 홀더(11)를 반송 중(도 4a, 도 4b),
(4) 제2 트랜스포터(115)에 의해서 기판 홀더(11)를 각 처리조로부터 빼냈을 때(도 4a, 도 4b),
(5) 각 처리조에 있어서 기판(W)을 처리 중(도 6),
(6) 제1 트랜스포터(114)에 의해서 기판 홀더(11)를 스토커(107)로부터 빼냈을 때(도 4a, 도 4b)
단계 S10에 있어서 어느 타이밍에 도달했다고 판정된 경우, 단계 S20에 있어서, 장치 컨트롤러(121)가 촬상 기기(300)를 제어하여, 기판 홀더(11)의 투명부(12a, 12b, 150)를 통해 기판 홀더(11)의 내부를 촬상한다. 이 촬상에는, 상기 (1)부터 (6)의 타이밍에, 기판 홀더(11)의 이면을 통해 기판(W)의 이면(S2)을 촬상하는 것(도 3a, 도 3b, 도 4a, 도 4b), 상기 (1)부터 (6)의 타이밍에, 기판 홀더(11)의 외측 내부 공간 α, 내측 내부 공간 β을 촬상하는 것(도 5의 a, 도 5b)의 하나 또는 복수를 포함한다. 각 처리조에 있어서 기판(W)을 처리하는 중에 기판 홀더(11)의 내부를 촬상하는 경우((5)의 경우)에는, 도 6에 도시하는 것과 같이, 처리조의 투명부(150'), 기판 홀더(11)의 투명부(12a, 12b, 150)를 통해 기판 홀더(11)의 내부를 촬상한다. 또한, 예컨대, 도 5a 및 도 5b에 도시하는 촬상 방향과 같은 여러 방향에서 외측 내부 공간 α을 촬상하도록 하여도 좋다. 도 2a, 도 2b의 기판 홀더(11)의 구성에 있어서, 기판(W)을 유지하지 않는 상태에서 기판 홀더(11)의 제1 유지 부재(12) 측에서 내부를 촬상하는 경우에는, 기판 홀더(11)의 내측 내부 공간 β(도 5a, 도 5b), 외측 내부 공간 α을 촬상하게 된다.
단계 S30에서는, 화상 진단 단말(122)은 촬상한 화상 데이터로부터 특징량을 산출한다. 특징량은, 기판(W)의 이면(S2)의 화상, 외측 내부 공간 α, 내측 내부 공간 β의 화상의 농담, 농담의 윤곽(및/또는 색의 차이, 색의 차이의 윤곽)을 포함한다. 또한 화상 진단 단말(122)은, 촬상한 화상 데이터를 서버(123)로 보내어, 서버(123)에 있어서 화상 데이터로부터 특징량을 산출하도록 하여도 좋다.
단계 S40에서는, 화상 진단 단말(122)은, 미리 기억되어 있는 화상 데이터 또는 화상 데이터의 특징량 및 단계 S30에서 취득된 화상 데이터의 특징량을 사용하여, DNN 파라미터를 갱신하고, 최적화한다. DNN 파라미터는, 기판 및/또는 기판 홀더의 이상 유무 및/또는 이상의 레벨을 판정하기 위한 임계치 등의 판단 기준의 값을 포함한다. 또한 화상 진단 단말(122)은, 화상 데이터 또는 산출한 특징량을 서버(123)로 보내어, 서버(123)에 있어서 미리 기억되어 있는 화상 데이터 또는 화상 데이터의 특징량 및 이번에 송신한 화상 데이터 또는 산출한 특징량을 사용하여, DNN 파라미터를 갱신하고, 최적화하여도 좋다. 서버(123)에 있어서 화상 데이터로부터 특징량을 산출하여도 좋다.
단계 S50에서는, 화상 진단 단말(122)은, 미리 기억되어 있는 DNN 파라미터 또는 S40에 있어서 화상 진단 단말(122) 또는 서버(123)에서 최적화된 DNN 파라미터를 사용하여, 촬상한 화상 데이터로부터 산출된 특징량으로부터, 기판 및/또는 기판 홀더의 이상 유무 및/또는 이상의 레벨을 추정한다. 기판(W)의 이상은 기판(W)의 깨짐, 기판 홀더(11) 내부로의 처리액의 누설을 포함한다. 기판 홀더(11)의 이상은 처리액의 누설(시일 부재의 열화 등에 기인하는 것)을 포함한다. 처리액은, 프리웨트조(108)와 프리소크조(109)와 프리린스조(110a)와 블로우조(111)와 린스조(110b), 도금조(112a)에 수용되어 있는 처리액(순수, 에칭 용액, 도금액 등)을 포함한다. 이상의 레벨은, 이상의 종류(기판 깨짐, 누설)마다, 예컨대 「발생 없음」(이상 없음), 「경미」, 「경도」, 「중간」, 「심각」과 같이 복수의 분류로 구분하여도 좋다. 화상 진단 단말(122)은 진단 결과를 장치 컨트롤러(121)에 출력하고, 장치 컨트롤러(121)는 진단 결과를 또한 장치 컴퓨터(120)에 보낸다.
단계 S60에서는, 화상 진단 단말(122)은, 이상의 종류마다 기판 및/또는 기판 홀더의 이상(기판(W)의 깨짐, 처리액 누설)의 레벨이 임계치를 넘었는지 여부를 판정하여, 이 진단 결과를 장치 컨트롤러(121)에 출력한다. 임계치는, 이상의 종류마다, 사용자에게의 통지가 필요한 값으로 설정한다. 예컨대 상기 복수의 분류 중 중간 또는 심각으로 하여도 좋다.
단계 S60에 있어서 기판 및/또는 기판 홀더의 이상 레벨이 임계치 이하라고 판정된 경우에는, 그 진단 결과를 수취한 장치 컨트롤러(121)는, 상기 기판 홀더(11)를 사용하여 기판 처리를 계속하고(단계 S70), 단계 S10으로 되돌아간다.
단계 S60에 있어서, 기판 또는 기판 홀더의 어느 한 종류의 이상이 임계치를 넘는다고 판정된 경우에는, 그 진단 결과를 수취한 장치 컨트롤러(121)는, 기판(W)에 이상(기판(W)의 깨짐, 처리액 누설)이 있다는 취지의 알람을 발생한다(단계 S80). 또한, 단계 S90에 있어서, 장치 컨트롤러(121)가 반송 기기(400)를 제어하여, 기판(W)을 카세트로 회수함과 더불어 기판 홀더(11)를 스토커(107)로 회수하고, 단계 S10으로 되돌아간다.
상기 실시형태에 의하면, 기판 홀더의 투명부를 통해 기판 홀더의 내부, 기판을 관찰, 감시할 수 있기 때문에, 기판 처리 장치에 있어서의 처리 중의 어느 타이밍에 기판 및/또는 기판 홀더에 이상이 발생했는지를 파악할 수 있어, 이상의 원인 구명에 걸리는 시간을 단축할 수 있다.
또한, 이상을 검출한 타이밍에, 상기 기판 홀더의 후속되는 처리조 등의 각 부로의 반입을 방지할 수 있기 때문에, 후속되는 처리조 등의 각 부로의 기판 파편의 낙하, 누설된 처리액에 의한 오염을 방지할 수 있다.
또한, 기판 홀더 내부의 기판 이면의 촬상, 기판 홀더의 외측 내부 공간의 촬상을 조합함으로써, 어느 한쪽의 촬상 화상을 감시하는 경우보다도 조기에 처리액의 누설을 검출할 수 있어, 이상 검출 정밀도를 향상시킬 수 있다. 또한, 기판 홀더의 외측 내부 공간 α을 여러 방향에서 촬상함(도 5a, 도 5b)으로써, 외측 내부 공간의 화상 인식 정밀도를 향상시킬 수 있다.
(다른 실시형태)
또한, 위에서는 원형의 웨이퍼를 유지하기 위한 편면 도금용의 기판 홀더에 관해서 설명했지만, 각형 그 밖의 임의 형상의 기판을 유지하는 기판 홀더, 임의 형상의 기판의 양면을 도금하기 위한 기판 홀더에 있어서도, 기판 홀더의 일부를 투명부로 구성함으로써 상기 실시형태를 적용할 수 있다.
상기 실시형태에서는 기판 홀더의 투명부를 통해 내부를 촬상하는 경우에 관해서 설명했지만, 기판 홀더가 열려 있을 때에(예컨대 도 3b의 상태에서) 기판의 표면(S1)을 촬상하여, 상기와 같은 화상 인식 처리에 의해 기판의 표면(S1)의 상태를 진단(이상 검출)하여도 좋고, 기판의 표면(S1)의 촬상 화상에 더하여, 기판 이면의 촬상 화상, 기판 홀더의 내측, 외측 내부 공간의 촬상 화상을 조합하여, 상태를 진단(이상 검출)하도록 하여도 좋다. 예컨대, 도금 처리 후에 기판 홀더(11)의 개방 시에 있어서, 기판의 표면(S1)을 촬상함으로써 기판 외주부로의 처리액의 누설을 정밀도 좋게 검출할 수 있다.
상기 실시형태로부터 적어도 이하의 기술적 사상이 파악된다.
제1 형태에 의하면, 제1 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재와의 사이에 기판을 유지하는 제2 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재 및 상기 제2 유지 부재 중 적어도 한쪽에 설치된 투명부를 구비하는 기판 유지 부재가 제공된다.
이 형태에 의하면, 투명부를 통해 기판 유지 부재의 내부 및/또는 기판 유지 부재 내부의 기판의 면을 관찰, 감시하여, 기판 및/또는 기판 홀더의 이상을 검출할 수 있다. 이에 따라, 기판 처리 장치 내의 하나 또는 복수의 위치에서 기판 유지 부재의 내부를 관찰, 감시할 수 있다. 또한, 기판 처리 장치 내에 있어서의 하나 또는 복수의 적절한 장소 및/또는 시점에서, 투명부를 통해 기판 유지 부재의 내부 및/또는 기판 유지 부재 내부의 기판을 관찰, 감시할 수 있다. 기판 및/또는 기판 유지 부재의 이상이 발생한 시점을 파악할 수 있기 때문에, 이상의 원인 구명에 걸리는 시간을 단축하여, 장치의 생산성 향상을 도모할 수 있다. 또한, 기판 깨짐을 검출한 시점에서, 후속 처리조로의 기판 유지 부재의 투입을 방지할 수 있기 때문에, 후속 처리조에 기판 파편이 낙하하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 기판 유지 부재 내부로의 처리액의 누설을 검출한 시점에서, 후속 처리조로의 기판 유지 부재의 투입을 방지할 수 있기 때문에, 누설된 처리액에 의한 후속 처리조의 오염을 방지할 수 있다. 또한, 누설된 처리액에 의한 기판 및 기판 유지 부재의 접점이 부식되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 기판 유지 부재 내부의 기판의 면을 관찰, 감시하는 것에 더하여 또는 그 대신에, 기판 유지 부재로부터 노출되는 기판의 면을 관찰, 감시하도록 하여도 좋다. 본 형태는 원형, 각형 기타 임의 형상의 기판용의 기판 유지 부재에 적용할 수 있다.
제2 형태에 의하면, 제1 형태의 기판 유지 부재에 있어서, 상기 투명부는, 이 투명부를 통해 상기 제1 유지 부재 및/또는 상기 제2 유지 부재의 내부를 관찰할 수 있게 구성되어 있다. 이 형태에 의하면, 투명부는 기판 유지 부재의 내부를 관찰할 수 있는 투명도를 가지고서 구성되어 있다. 따라서, 투명부를 통해 기판 유지 부재의 내부, 기판 유지 부재 내부의 기판의 면을 관찰, 감시할 수 있다.
제3 형태에 의하면, 제1 형태의 기판 유지 부재에 있어서, 상기 제2 유지 부재는, 상기 기판의 제1 면을 노출하는 개구부를 가지고, 상기 투명부는, 적어도 상기 기판의 상기 제1 면의 반대쪽의 제2 면에 대응하는 부분에 있어서, 상기 제1 유지 부재에 설치되어 있다.
기판을 기판 유지 부재에 유지한 상태에서, 기판 유지 부재의 내부에 수용되는 기판 이면을 관찰, 감시할 수 있다.
상기 제1 유지 부재는, 기초대와, 상기 기초대에 설치되며, 상기 기판을 지지하는 지지면을 갖는 지지부를 가지고, 상기 기초대 전체가 상기 투명부로서 형성될 수 있다.
이 경우, 기초대 전체를 투명한 재료로 형성하기 때문에 제조가 용이하다.
상기 지지부가 또한 상기 투명부로서 형성될 수 있다.
이 경우, 지지부가 더욱 투명하기 때문에, 기판 이면의 외주부까지 포함하는 전역을 관찰, 감시할 수 있다.
제4 형태에 의하면, 제1 형태의 기판 유지 부재에 있어서, 상기 제2 유지 부재는, 상기 기판과 상기 제2 유지 부재 사이를 시일하는 제1 시일부와, 상기 제1 유지 부재와 상기 제2 유지 부재 사이를 시일하는 제2 시일부를 가지고, 상기 투명부는, 상기 제1 시일 부재와 상기 제2 시일 부재로 시일된 공간을 관찰할 수 있게 상기 제1 유지 부재 및/또는 상기 제2 유지 부재에 설치되어 있다.
이 형태에 의하면, 기판 유지 부재 내부의 기판 외측의 공간(외측 내부 공간)을 관찰, 감시할 수 있다.
상기 투명부는, 상기 제1 시일 부재와 상기 제2 시일 부재로 시일된 공간을, 상기 기판 유지 부재의 직경 방향 외측에서 관찰할 수 있는 위치에 있어서, 상기 제2 유지 부재에 설치할 수 있다.
이 경우, 기판 유지 부재의 측방에서 기판 유지 부재의 외측 내부 공간을 관찰, 감시할 수 있다.
상기 투명부는, 상기 제1 시일 부재와 상기 제2 시일 부재로 시일된 공간을, 상기 제2 유지 부재에서 상기 제1 유지 부재로 향하는 방향에서 관찰할 수 있는 위치에 있어서, 상기 제2 유지 부재에 설치할 수 있다.
이 경우, 기판 유지 부재의 정면 측에서 기판 유지 부재의 외측 내부 공간을 관찰, 감시할 수 있다.
제5 형태에 의하면, 제4 형태의 기판 유지 부재에 있어서, 상기 투명부는, 상기 기판 유지 부재가 세로 방향으로 지지되었을 때에, 상기 시일된 공간에 있어서 가장 하부가 되는 위치에 대응하여 설치되어 있다.
이 형태에 의하면, 기판 유지 부재가 세로 방향에서 처리되는 경우에, 누설된 처리액이 축적되기 쉬운 시일 공간 가장 하부를 투명부를 통해 관찰할 수 있기 때문에, 처리액 누설의 검출 정밀도를 향상시킬 수 있다.
제6 형태에 의하면, 제4 형태의 기판 유지 부재에 있어서, 상기 투명부는, 상기 제1 유지 부재 및/또는 상기 제2 유지 부재에 있어서, 상기 기판에 전류를 공급하기 위한 전기 접점에 대응하는 위치에 설치되어 있다.
이 형태에 의하면, 투명부를 통해 전기 접점의 부식 상태나 전기 접점과 기판의 접촉 부위의 변색을 감시할 수 있다.
제7 형태에 의하면, 제1 내지 제6 형태의 어느 한 기판 유지 부재를 구비한 기판 처리 장치가 제공된다.
이 형태에 의하면, 제1 내지 제6 형태에서 말한 작용 효과를 발휘한다.
제8 형태에 의하면, 적어도 일부에 투명부를 갖는, 기판을 유지하기 위한 기판 유지 부재와, 상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해 상기 기판 유지 부재의 내측을 촬상하는 촬상 장치를 구비한 기판 처리 장치가 제공된다.
이 형태에 의하면, 제1 형태와 같은 작용 효과를 발휘한다. 또한, 촬상 장치에 의해 관찰, 감시하기 때문에, 화상 인식 처리를 통해, 기판 및/또는 기판 유지 부재의 이상 검출의 자동화를 도모할 수 있다. 이 형태도 원형, 각형 기타 임의 형상의 기판용의 기판 유지 부재에 적용할 수 있다.
제9 형태에 의하면, 제8 형태의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 유지 부재에 대하여 상기 기판을 착탈하기 위한 기판 착탈부를 더 구비하고, 상기 촬상 장치는 상기 기판 착탈부에 배치되어 있다.
이 형태에 의하면, 처리 전의 기판이 기판 유지 부재에 설치되는 타이밍, 처리 후의 기판이 기판 유지 부재로부터 떼내어지는 타이밍에, 기판 유지 부재 및/또는 기판을 관찰, 감시할 수 있다.
제10 형태에 의하면, 제8 형태의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 유지 부재를 반송하는 반송 장치를 더 구비하고, 상기 촬상 장치는, 상기 반송 장치에 유지된 상기 기판 유지 부재의 내부를 촬상하도록 배치되어 있다.
이 형태에 의하면, 기판 유지 부재가 반송 장치에 유지되어 있는 동안, 적절한 타이밍에 기판 및/또는 기판 유지 부재를 관찰, 감시할 수 있다. 예컨대, 기판 유지 부재가 기판 착탈부에서 스토커 또는 처리조로 반송되는 동안, 기판이 처리조로부터 철수된 시점, 처리조 및 스토커 사이에서 반송되는 동안에, 기판 및/또는 기판 유지 부재를 관찰, 감시할 수 있다.
제11 형태에 의하면, 제10 형태의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 촬상 장치는 상기 반송 장치에 부착되어 있다.
이 형태에 의하면, 기판 처리 장치 내에 있어서 반송 장치에 의해서 촬상 장치를 이동시킬 수 있기 때문에, 촬상 장치용의 이동 기구를 별도 설치할 필요가 없다.
제12 형태에 의하면, 제10 형태의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 촬상 장치는 상기 반송 장치와는 독립된 이동 기구에 부착되어 있다.
이 형태에 의하면, 촬상 장치를 기판 유지 부재 및 반송 기구와는 독립적으로 이동할 수 있다.
제13 형태에 의하면, 제8 형태의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판을 처리하기 위한 처리조를 더 구비하고, 상기 처리조의 적어도 일부는 투명한 재질로 형성되어 있고, 상기 촬상 장치는, 상기 기판 유지 부재가 상기 처리조 내에 설치되었을 때, 상기 처리조의 상기 투명한 재질 부분, 상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해 상기 기판 유지 부재의 내측을 촬상한다.
이 형태에 의하면, 기판 유지 부재에 유지된 기판을 처리조 내에서 처리하는 중에, 처리조의 투명한 부분, 기판 유지 부재의 투명부를 통해 기판 유지 부재의 내부 및/또는 기판 유지 부재 내부의 기판을 관찰, 감시할 수 있다.
제14 형태에 의하면, 제8 내지 제13 형태의 어느 한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 촬상 장치는, 상기 기판 유지 부재 내부의 상기 기판의 면 및 상기 기판 유지 부재 내부의 상기 기판의 직경 방향 외측의 시일된 공간 중 적어도 한쪽을 촬상하고, 상기 기판 처리 장치는, 촬상된 화상 데이터에 기초하여 상기 기판 및/또는 상기 기판 유지 부재의 이상을 검출하는 제어 장치를 더 구비한다.
이 형태에 의하면, 제어 장치가 촬상된 화상 데이터를 연산함으로써, 기판 및/또는 기판 유지 부재의 이상을 검출할 수 있다.
제15 형태에 의하면, 제14 형태의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 기판의 정상 및/또는 이상 시의 복수의 화상에 기초하여, 상기 기판 및/또는 기판 홀더의 이상의 유무 및/또는 정도를 판정하는 판정 기준을 학습하고, 상기 학습한 판정 기준을 사용하여 상기 화상 데이터로부터 상기 기판 및/또는 기판 홀더의 이상의 유무 및/또는 정도를 판정한다.
이 형태에 의하면, 예컨대 다층 뉴럴 네트워크 등의 기계 학습에 의해 이상을 판정하는 기준을 학습하기 때문에, 판정 정밀도, 검출 정밀도를 향상시킬 수 있다.
제16 형태에 의하면, 제14 형태의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 처리 장치는, 복수의 기판 처리 장치로부터 수집한 화상 데이터에 기초하여, 상기 기판 및/또는 기판 홀더의 이상의 유무 및/또는 정도를 판정하는 판정 기준을 학습하는 서버에 유선 또는 무선을 통해 접속되어 있고, 상기 제어 장치는, 상기 서버에 있어서 학습된 판정 기준에 기초하여, 상기 촬상된 화상 데이터로부터 상기 기판 및/또는 기판 홀더의 이상의 유무 및/또는 정도를 판정한다.
이 형태에 의하면, 기판 및/또는 기판 유지 부재의 이상을 판정할 때에, 상기 기판 처리 장치 이외의 기판 처리 장치에 있어서의 촬상 화상 데이터에 기초한 판정 기준, 또는 상기 기판 처리 장치 이외의 기판 처리 장치에 있어서의 촬상 화상 데이터에 기초한 판정 기준과 상기 기판 처리 장치에 있어서의 촬상 화상 데이터에 기초한 판정 기준을 조합하여 사용할 수 있기 때문에, 판정 정밀도, 검출 정밀도를 향상시킬 수 있다.
제17 형태에 의하면, 제14 내지 제16 형태의 어느 한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 및/또는 상기 기판 유지 부재의 이상은, 상기 기판의 균열 및 상기 기판 유지 부재 내부로의 처리액의 누설 중 적어도 한쪽을 포함한다.
제18 형태에 의하면, 제14 형태의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 화상 데이터에 기초하여 상기 투명부의 투명도 열화를 판정한다.
이 형태에 의하면, 촬상 화상의 열화를 예방할 수 있어, 검출 처리의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
제19 형태에 의하면, 기판 처리 장치를 제어하는 방법으로서, 적어도 일부에 투명부를 갖는 기판 유지 부재에 기판을 유지하는 것, 상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해 상기 기판 유지 부재의 내부를 촬상하는 것, 촬상된 화상 데이터에 기초하여 상기 기판 및/또는 상기 기판 유지 부재의 이상을 검출하는 것을 포함하는 방법이 제공된다.
이 형태에 의하면, 제1 형태와 같은 작용 효과를 발휘한다. 본 형태는 원형, 각형 기타 임의 형상의 기판용의 기판 유지 부재에 적용할 수 있다.
제20 형태에 의하면, 기판 처리 장치를 제어하는 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 저장한 기억 매체로서, 적어도 일부에 투명부를 갖는 기판 유지 부재에 기판을 유지하는 것, 상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해 상기 기판 유지 부재의 내부를 촬상하는 것, 촬상된 화상 데이터에 기초하여 상기 기판 및/또는 기판 홀더의 이상을 검출하는 것을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 저장한 기억 매체가 제공된다.
이 형태에 의하면, 제1 형태와 같은 작용 효과를 발휘한다. 본 형태는 원형, 각형 기타 임의 형상의 기판용의 기판 유지 부재에 적용할 수 있다.
이상 몇 개의 예에 기초하여 본 발명의 실시형태에 관해서 설명하여 왔지만, 상기한 발명의 실시형태는 본 발명의 이해를 쉽게 하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것이 아니다. 본 발명은 그 취지를 일탈하지 않고서 변경, 개량될 수 있음과 더불어 본 발명에는 그 균등물이 포함되는 것은 물론이다. 또한, 상술한 과제의 적어도 일부를 해결할 수 있는 범위 또는 효과의 적어도 일부를 발휘하는 범위에 있어서, 청구범위 및 명세서에 기재된 각 구성 요소의 임의의 조합 또는 생략이 가능하다.
본원은 2018년 2월 13일 제출의 일본 출원번호 특원 2018-023302호에 기초한 우선권을 주장한다. 2018년 2월 13일 제출의 일본 출원번호 특원 2018-023302호의 명세서, 특허청구의 범위, 요약서를 포함하는 모든 개시 내용은 참조에 의해 전체적으로 본원에 삽입된다.
일본 특허 제4124327호(특허문헌 1)의 명세서, 특허청구의 범위, 요약서를 포함하는 모든 개시 내용은 참조에 의해 전체적으로 본원에 삽입된다.
11: 기판 홀더, 12: 제1 유지 부재, 13: 제2 유지 부재, 13a: 개구부, 14: 힌지, 15: 행거, 17: 기초부, 30: 촬상 장치, 60: 시일 부재, 60a: 립부, 60b: 립부, 60c: 투명부, 61a: 내측 시일부, 61b: 외측 시일부, 80: 기초대, 81: 돌조부, 82: 지지면, 83: 오목부, 88: 도전체, 90: 지지체, 90a: 기단부, 90b: 원위부, 90c: 투명부, 90d: 외주부, 92: 전기 접점, 92a: 다리부, 92b: 접점 단부, 100: 기판 처리 장치, 101A: 로드/언로드부, 101B: 처리부, 102: 카세트 테이블, 103: 기판 반송 장치, 103a: 반송 로봇, 104: 얼라이너, 105: 기판 착탈부, 105a: 기판 착탈 장치, 105b: 픽싱 테이블, 105c: 픽싱 헤드, 106: 스핀 드라이어, 107: 스토커, 108: 프리웨트조, 109: 프리소크조, 110a: 프리린스조, 111: 블로우조, 110b: 린스조, 112: 도금 처리부, 112a: 도금조, 113: 기판 홀더 반송 장치, 114: 제1 트랜스포터, 115: 제2 트랜스포터, 116: 레일, 120: 장치 컴퓨터, 120A: CPU, 120B: 메모리, 121: 장치 컨트롤러, 122: 화상 진단 단말, 12a: 투명부, 130: 촬상 장치, 131: 홀더, 132: 상하 이동 기구, 133: 전후 이동 기구, 134: 가로 이동 기구, 135: 주행 이동 기구, 136: 지주부, 137: 베이스부, 141: 지주부, 142: 아암부, 143: 파지부, 144: 베이스부

Claims (22)

  1. 기판 유지 부재에 있어서,
    제1 유지 부재와,
    상기 제1 유지 부재와의 사이에 기판을 유지하는 제2 유지 부재와,
    상기 제1 유지 부재 및 상기 제2 유지 부재 중 적어도 한쪽에 설치된 투명부를 구비하고,
    상기 제2 유지 부재는, 상기 기판과 상기 제2 유지 부재 사이를 시일하는 제1 시일부와, 상기 제1 유지 부재와 상기 제2 유지 부재 사이를 시일하는 제2 시일부를 가지며,
    상기 투명부는, 상기 제1 시일부와 상기 제2 시일부로 시일된 공간 내부를 관찰할 수 있게 상기 제1 유지 부재와 상기 제2 유지 부재 중의 적어도 하나에 설치되어 있는 것인 기판 유지 부재.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 투명부는, 이 투명부를 통해 상기 제1 유지 부재와 상기 제2 유지 부재 중의 적어도 하나의 내부를 관찰할 수 있게 구성되어 있는 것인 기판 유지 부재.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제2 유지 부재는 상기 기판의 제1 면을 노출하는 개구부를 가지며,
    상기 투명부는, 적어도 상기 기판의 상기 제1 면의 반대쪽의 제2 면에 대응하는 부분에 있어서, 상기 제1 유지 부재에 설치되어 있는 것인 기판 유지 부재.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 투명부는, 상기 기판 유지 부재가 세로 방향으로 지지되었을 때에, 상기 시일된 공간에 있어서 가장 하부가 되는 위치에 대응하여 설치되어 있는 것인 기판 유지 부재.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 투명부는, 상기 제1 유지 부재와 상기 제2 유지 부재 중의 적어도 하나에 있어서, 상기 기판에 전류를 공급하기 위한 전기 접점에 대응하는 위치에 설치되어 있는 것인 기판 유지 부재.
  6. 기판 처리 장치에 있어서,
    제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재한 기판 유지 부재를 구비한 기판 처리 장치.
  7. 기판 처리 장치에 있어서,
    적어도 일부에 투명부를 갖는, 기판을 유지하기 위한 기판 유지 부재이며, 제1 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재와의 사이에 기판을 유지하는 제2 유지 부재로서, 상기 기판의 제1 면을 노출하는 개구부를 갖는 상기 제2 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재 및 상기 제2 유지 부재 중 적어도 한쪽에 설치된 상기 투명부를 구비하는 기판 유지 부재와,
    상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해, 상기 기판 유지 부재의 내측을 촬상하는 촬상 장치를 구비하고,
    상기 투명부는, 적어도 상기 기판의 상기 제1 면의 반대쪽의 제2 면에 대응하는 부분에 있어서, 상기 제1 유지 부재에 설치되어 있는 것인 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 기판 유지 부재에 대하여 상기 기판을 착탈하기 위한 기판 착탈부를 더 구비하고,
    상기 촬상 장치는 상기 기판 착탈부에 배치되어 있는 것인 기판 처리 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 기판 유지 부재를 반송하는 반송 장치를 더 구비하고,
    상기 촬상 장치는, 상기 반송 장치에 유지된 상기 기판 유지 부재의 내부를 촬상하도록 배치되어 있는 것인 기판 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 촬상 장치는 상기 반송 장치에 부착되어 있는 것인 기판 처리 장치.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 촬상 장치는 상기 반송 장치와는 독립된 이동 기구에 부착되어 있는 것인 기판 처리 장치.
  12. 제7항에 있어서,
    상기 기판을 처리하기 위한 처리조를 더 구비하고,
    상기 처리조의 적어도 일부는 투명한 재질로 형성되어 있고,
    상기 촬상 장치는, 상기 기판 유지 부재가 상기 처리조 내에 설치되었을 때, 상기 처리조의 상기 투명한 재질 부분, 상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해 상기 기판 유지 부재의 내측을 촬상하는 것인 기판 처리 장치.
  13. 제7항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 촬상 장치는, 상기 기판 유지 부재 내부의 상기 기판의 면, 및 상기 기판 유지 부재 내부의 상기 기판의 직경 방향 외측의 시일된 공간 중 적어도 한쪽을 촬상하고,
    상기 기판 처리 장치는, 촬상된 화상 데이터에 기초하여, 상기 기판과 상기 기판 유지 부재 중의 적어도 하나의 이상을 검출하는 제어 장치를 더 구비하는 기판 처리 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제어 장치는, 상기 기판의 정상 시와 이상 시 중의 적어도 하나의 복수의 화상에 기초하여, 상기 기판과 기판 홀더 중의 적어도 하나의, 이상의 유무와 정도 중의 적어도 하나를 판정하는 판정 기준을 학습하고, 상기 학습한 판정 기준을 사용하여 상기 화상 데이터로부터 상기 기판과 기판 홀더 중의 적어도 하나의, 이상의 유무와 정도 중의 적어도 하나를 판정하는 것인 기판 처리 장치.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는, 복수의 기판 처리 장치로부터 수집한 화상 데이터에 기초하여, 상기 기판과 기판 홀더 중의 적어도 하나의, 이상의 유무와 정도 중의 적어도 하나를 판정하는 판정 기준을 학습하는 서버에 유선 또는 무선을 통해 접속되어 있고,
    상기 제어 장치는, 상기 서버에 있어서 학습된 판정 기준에 기초하여, 상기 촬상된 화상 데이터로부터 상기 기판과 기판 홀더 중의 적어도 하나의, 이상의 유무와 정도 중의 적어도 하나를 판정하는 것인 기판 처리 장치.
  16. 제13항에 있어서,
    상기 기판과 상기 기판 유지 부재 중의 적어도 하나의 이상은, 상기 기판의 균열, 및 상기 기판 유지 부재 내부로의 처리액의 누설 중 적어도 한쪽을 포함하는 것인 기판 처리 장치.
  17. 제13항에 있어서,
    상기 제어 장치는 상기 화상 데이터에 기초하여 상기 투명부의 투명도 열화를 판정하는 것인 기판 처리 장치.
  18. 기판 처리 장치를 제어하는 방법에 있어서,
    적어도 일부에 투명부를 갖는 기판 유지 부재이며, 제1 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재와의 사이에 기판을 유지하는 제2 유지 부재로서, 상기 기판의 제1 면을 노출하는 개구부를 갖는 상기 제2 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재 및 상기 제2 유지 부재 중 적어도 한쪽에 설치된 상기 투명부를 구비하고, 상기 투명부는, 적어도 상기 기판의 상기 제1 면의 반대쪽의 제2 면에 대응하는 부분에 있어서, 상기 제1 유지 부재에 설치되어 있는 기판 유지 부재에 기판을 유지하는 단계,
    상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해, 상기 기판 유지 부재의 내부를 촬상하는 단계, 및
    촬상된 화상 데이터에 기초하여, 상기 기판과 기판 홀더 중의 적어도 하나의 이상을 검출하는 단계를 포함하는 기판 처리 장치의 제어 방법.
  19. 기판 처리 장치를 제어하는 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 저장한 기억 매체에 있어서,
    적어도 일부에 투명부를 갖는 기판 유지 부재이며, 제1 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재와의 사이에 기판을 유지하는 제2 유지 부재로서, 상기 기판의 제1 면을 노출하는 개구부를 갖는 상기 제2 유지 부재와, 상기 제1 유지 부재 및 상기 제2 유지 부재 중 적어도 한쪽에 설치된 상기 투명부를 구비하고, 상기 투명부는, 적어도 상기 기판의 상기 제1 면의 반대쪽의 제2 면에 대응하는 부분에 있어서, 상기 제1 유지 부재에 설치되어 있는 기판 유지 부재에 기판을 유지하는 것,
    상기 기판 유지 부재의 상기 투명부를 통해, 상기 기판 유지 부재의 내부를 촬상하는 것, 및
    촬상된 화상 데이터에 기초하여, 상기 기판과 기판 홀더 중의 적어도 하나의 이상을 검출하는 것
    을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 저장한 기억 매체.
  20. 도금 장치에 있어서 기판을 유지하는 기판 유지 부재에 있어서,
    제1 유지 부재와,
    상기 제1 유지 부재와 결합하여 상기 제1 유지 부재와의 사이에 기판을 유지하는 제2 유지 부재와,
    상기 제1 유지 부재 및 상기 제2 유지 부재의 적어도 한쪽에 설치된 투명부
    를 구비하고,
    상기 제2 유지 부재는, 상기 기판과 상기 제2 유지 부재 사이를 시일하는 제1 시일부와, 상기 제1 유지 부재와 상기 제2 유지 부재 사이를 시일하는 제2 시일부를 가지며,
    상기 투명부는, 상기 제1 시일부와 상기 제2 시일부로 시일된 공간 내부를 관찰할 수 있게 상기 제1 유지 부재와 상기 제2 유지 부재 중의 적어도 하나에 설치되어 있는 것인 기판 유지 부재.
  21. 삭제
  22. 도금 장치에 있어서 기판을 유지하는 기판 유지 부재에 있어서,
    제1 유지 부재와,
    상기 제1 유지 부재와 결합하여 상기 제1 유지 부재와의 사이에 기판을 유지하는 제2 유지 부재와,
    상기 제1 유지 부재 및 상기 제2 유지 부재의 적어도 한쪽에 설치된 투명부
    를 구비하고,
    상기 제1 및 제2 유지 부재의 적어도 한쪽은, 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 이동할 수 있고, 상기 폐쇄 위치에서 상기 제1 및 제2 유지 부재의 사이에 시일 공간이 정의되도록 적어도 하나의 시일이 마련되고, 상기 기판은, 상기 폐쇄 위치에서 상기 제1 및 제2 유지 부재의 사이의 상기 시일 공간의 내부에 유지되고,
    상기 투명부는, 그 투명부를 통해 상기 시일 공간을 관찰할 수 있게 상기 제1 유지 부재와 상기 제2 유지 부재 중의 적어도 하나에 설치되어 있는 것인 기판 유지 부재.
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