JP2002164409A - 移送装置，基板処理装置及び基板処理システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 位置検出を簡単にでき，しかもメンテナンス
も容易な移送装置，基板処理装置及び基板処理システム
を提供する 【解決手段】 ウェハＷを洗浄処理する洗浄槽３０と，
ウェハＷを保持し，洗浄槽３０内にウェハＷを収納させ
るべく昇降するウェハガイド３１と，ウェハガイド３１
を昇降させるモータ３２と，ウェハガイド３１の位置を
検出するためのアブソリュートエンコーダ３３，ドライ
バ６２，コントローラ６３を備えた洗浄装置１１であ
る。アブソリュートエンコーダ３３は，モータ４９の回
転軸５３の回転角度を検出して検出信号をドライバ６２
に出力し，この検出信号に基づいてドライバ６２はウェ
ハガイド３１の位置を検出し，ウェハガイド３１の位置
情報をコントローラ６３に出力する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，例えば半導体ウェ
ハやＬＣＤ基板用ガラス等の基板の移送装置と，これら
基板を洗浄処理などを行う基板処理装置及び基板処理シ
ステムに関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば半導体デバイスの製造プロセスに
おいては，半導体ウェハ（以下，「ウェハ」という。）
を洗浄液によって洗浄し，ウェハに付着したパーティク
ル，有機汚染物，金属不純物のコンタミネーションを除
去する洗浄システムが使用されている。その中でも，洗
浄液中にウェハを浸漬させて洗浄処理を行うウェット型
の洗浄装置を備えた洗浄システムが広く普及している。

【０００３】一般に，従来の洗浄装置は，洗浄液を充填
した洗浄槽と，この洗浄槽内にウェハを浸漬させるウェ
ハガイドを備えている。ウェハガイドは，鉛直に配置さ
れたガイドＺ軸に沿って洗浄槽内と洗浄槽の上方の間を
昇降自在であり，洗浄槽の上方においてウェハを受け取
った後，洗浄槽内に下降することで，ウェハを洗浄液中
に浸漬させ，ウェハの洗浄を行う。このような洗浄装置
を多数備える洗浄システムには，キャリア内からウェハ
を取り出し，キャリア内にウェハを収納させるローダ・
アンローダ部と，このローダ・アンローダ部と各洗浄装
置の間でウェハを搬送する搬送装置を備えている。搬送
装置は，各洗浄装置に沿ってウェハチャックを水平方向
に移動させることにより，各洗浄装置に対してウェハチ
ャックを搬送し，例えば洗浄装置の洗浄槽の上方にウェ
ハチャックを移動させた後，ウェハガイドが上昇するこ
とで，ウェハの受け渡しが行われる。

【０００４】このような洗浄システムでは，例えばウェ
ハガイドとウェハチャックの衝突を避けるために，ウェ
ハガイドの位置（高さ）を検出する必要がある。そこで
従来は，前述のガイドＺ軸に沿って，各高さに光電セン
サを配置し，それら各光電センサによってウェハガイド
の位置を検出している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このため従来は，多数
の光電センサを各洗浄装置ごとに設置しなければなら
ず，光電センサの個数が多くなっていた。しかも，光電
センサの設置数が多ければ，その分，部品交換やメンテ
ナンスが頻繁になる。また，ガイドＺ軸が装置内部にあ
るような場合は，メンテナンスのたびにカバーなどを取
り外して装置内部で作業しなくてはならないため，煩雑
であった。

【０００６】従って本発明の目的は，位置検出を簡単に
でき，しかもメンテナンスも容易な移送装置，基板処理
装置及び基板処理システムを提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に，請求項１にあっては，モータによって駆動される移
動体と，前記モータに直結されたアブソリュートエンコ
ーダと，前記アブソリュートエンコーダから出力される
信号に基づいて前記移動体の位置を検出するコントロー
ラとを備えていることを特徴としている。

【０００８】請求項１の基板処理装置において，基板と
は，半導体ウェハやＬＣＤ基板用ガラス等の基板などが
例示され，その他，ＣＤ基板，プリント基板，セラミッ
ク基板などでも良い。

【０００９】請求項１の移送装置にあっては，コントロ
ーラは，モータに直結されたアブソリュートエンコーダ
から出力される信号に基づいて移動体の位置を検出して
いるので，移動体の位置を容易に検出することができ
る。

【００１０】請求項２にあっては，モータによって駆動
される移動体と，該移動体の位置を検出する検出手段と
を備えた移送装置であって，前記検出手段は，前記モー
タに直結され前記モータの回転軸の回転量を検出して検
出信号を出力するアブソリュートエンコーダと，該アブ
ソリュートエンコーダから出力された検出信号を受けて
位置情報を出力するドライバと，該ドライバから出力さ
れた位置情報を受けて前記移動体の位置を判別するコン
トローラとを備えていることを特徴としている。

【００１１】請求項２の移送装置にあっては，検出手段
では，アブソリュートエンコーダによりモータの回転軸
の回転量を検出して検出信号を出力し，この検出信号に
基づいて例えばドライバにより移動体の位置を検出して
いるので，位置の検出が容易にできる。また，ドライバ
から位置情報をコントローラに出力することにより，コ
ントローラは，例えば移動体の位置は指令どおりか確認
する。ここで，アブソリュートエンコーダは，回転軸の
回転量として例えば絶対角度を出力するので，ドライバ
は，その検出信号の出力値に基づいて移動体の位置を検
出でき，しかもアブソリュートエンコーダをもちいれ
ば，例えば突然の停電が発生したような場合でも，移動
体の位置を記憶しておくことができ，初期設定などをや
り直す必要がない。

【００１２】請求項３にあっては，互いに干渉する可能
性のある少なくとも２つの移動体を備え，少なくとも１
つの移動体はモータによって駆動され，該移動体の位置
を検出する検出手段とを備えた移送装置であって，前記
検出手段は，モータに直結されモータの回転軸の回転量
を検出して検出信号を出力するアブソリュートエンコー
ダと，該アブソリュートエンコーダから出力された検出
信号を受けて位置情報を出力するドライバと，該ドライ
バから出力された位置情報を受けて前記移動体の位置を
判別するコントローラとを備え，前記コントローラは，
移動体同士が干渉しないように制御することを特徴とし
ている。

【００１３】請求項２又は３に記載の移送装置におい
て，請求項４に記載したように，前記コントローラは，
制御プログラムの設定を前記ドライバに入力し，前記ド
ライバは，この入力された設定に基づいて前記モータを
制御することが好ましい。また請求項５に記載したよう
に，前記ドライバから前記コントローラに出力される位
置情報は，回転軸の回転中および／または回転停止時の
前記移動体の位置が所定範囲内にあるか否かを検出して
出力されるセンサ出力であっても良い。

【００１４】請求項６に記載したように，前記移動体
は，基板を保持して移動する基板保持手段であることが
好ましい。

【００１５】請求項７にあっては，基板を処理する処理
槽と，請求項６に記載の移送装置とを備えた基板処理装
置であって，前記基板保持手段は，基板を処理する処理
槽に対して基板を収納させるべく移動自在であることを
特徴としている。

【００１６】この請求項７の基板処理装置は，ウェハ等
を例えば洗浄処理するための洗浄装置として具体化され
る。基板を処理する処理槽には，処理液として例えば洗
浄液が充填される。基板保持手段は，基板を保持して移
動することにより，処理槽中の処理液に基板を浸漬させ
ることが可能である。

【００１７】請求項８にあっては，請求項７に記載の基
板処理装置と，基板を搬送し，前記基板保持手段との間
で基板を授受する搬送装置を備えた基板処理システムで
あって，前記搬送装置は，基板を保持して搬送させる搬
送保持手段と，前記搬送保持手段を移動させる搬送駆動
手段を備え，前記搬送駆動手段と前記モータを制御する
制御手段を備えることを特徴としている。

【００１８】この請求項８に記載の基板処理システムに
おいて，請求項９に記載したように，前記制御手段は，
前記基板保持手段と前記搬送保持手段を衝突させないよ
うに，前記搬送駆動手段と前記モータを制御することが
好ましい。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下，本発明の好ましい実施の形
態を，基板の一例としてウェハを洗浄するように構成さ
れた基板処理装置としての洗浄装置に基づいて説明す
る。図１は，本実施の形態にかかる洗浄装置１１，１
２，１３を備えた基板処理システムとしての洗浄システ
ム１の斜視図である。この洗浄システム１は，ウェハＷ
の洗浄及び乾燥を行うように構成されている。

【００２０】この洗浄システム１は，複数枚のウェハＷ
を収納したキャリアＣが搬入出されるキャリア搬入出部
５と，キャリア内からウェハＷを取り出し，キャリア内
にウェハＷを収納させるローダ・アンローダ部６と，ウ
ェハＷを洗浄，乾燥処理する洗浄・乾燥処理部７を備え
ている。キャリア搬入出部５とローダ・アンローダ部６
の間では，移動体として，例えばウェハＷを収納する収
納可能な容器であるキャリアＣを移送する移送アーム８
によってキャリアＣが移送される。洗浄・乾燥処理部７
には，ローダ・アンローダ部６に近い方から順に，ウェ
ハＷを例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）蒸気を
用いて乾燥させるための乾燥装置１０と，ウェハＷに対
して薬液成分を主体とした洗浄液によって洗浄処理を行
い，その後に純水によるリンス処理を行う，洗浄装置１
１，１２，１３とが配置されており，各洗浄装置１１〜
１３の洗浄液の薬液成分は，それぞれ種類が異なってい
る。洗浄・乾燥処理部７には，ローダ・アンローダ部６
とこれら乾燥装置１０及び各洗浄装置１１，１２，１３
の間でウェハＷを搬送する搬送装置１５が備えられてい
る。

【００２１】図２に示すように，搬送装置１５は，移動
体として，ウェハＷを保持して搬送させる搬送保持手段
としての左右一対のウェハチャック２０ａ，２０ｂと，
これらウェハチャック２０ａ，２０ｂを，ローダ・アン
ローダ部６，乾燥装置１０及び各洗浄装置１１〜１３に
沿って水平方向に移動させる搬送駆動手段２１を備えて
いる。左右のウェハチャック２０ａ，２０ｂの間には，
後述する移動体として基板保持手段，例えばウェハガイ
ド３１が通過できる隙間が形成されている。搬送駆動手
段２１は，洗浄システム１の長手方向（乾燥装置１０及
び各洗浄装置１１〜１３の配置方向）に沿って延びたレ
ール２２をスライド移動するように構成されている。

【００２２】洗浄装置１１〜１３は何れも同様の構成を
有するので，洗浄装置１１を例にとって説明する。図３
は，洗浄装置１１の縦断面図である。図３に示すよう
に，洗浄装置１１は，ウェハＷを洗浄処理する処理槽と
しての洗浄槽３０を備えている。

【００２３】洗浄槽３０は，ウェハＷを収納するのに十
分な大きさを有する箱形の内槽４０と，内槽４０の開口
部を取り囲んで装着された外槽４１とを備えている。洗
浄槽３０内には，例えば純水や種々の薬液などといった
洗浄液が充填されるようになっている。

【００２４】また洗浄装置１１には，ウェハＷを保持す
るウェハガイド３１を備えた移送装置４２が設けられて
おり，この移送装置４２は，洗浄槽３０内にウェハＷを
収納させるべくウェハガイド３１を昇降移動させる。

【００２５】図４に示すように，ウェハガイド３１は，
３本の平行な保持部材４３ａ，４３ｂ，４３ｃを備えて
いる。各保持部材４３ａ〜４３ｃには，ウェハＷの周縁
下部を保持する溝４４が等間隔で例えば５０箇所形成さ
れている。そしてウェハガイド３１は，例えばキャリア
Ｃ２個分の５０枚のウェハＷの周縁部を，各保持部材４
３ａ〜４３ｃに形成された各溝４４にそれぞれ挿入させ
ることにより，複数枚のウェハＷを等間隔で配列させた
状態で保持できる構成となっている。

【００２６】各保持部材４３ａ〜４３ｃは，いずれも水
平姿勢で支持体４５に固定されており，支持体４５の裏
面には，昇降部材４６が取り付けられている。昇降部材
４６は，カバー体４７の前面に形成された溝４８を通
り，図３に示すように，カバー体４７内に収納されたボ
ール・ナット機構５０のナット５１に接続されている。
このナット５１は，カバー体４７内部において上下に延
設されたガイドＺ軸５４に沿って移動自在に装着されて
いることにより，ウェハガイド３１は，ガイドＺ軸５４
に沿って昇降できるようになっている。

【００２７】ボール・ナット機構５０のボールネジ軸５
２には，カップリング（図示せず）等を介して，モータ
４９の回転軸５３が接続されている。この回転軸５３と
同軸上に，ボールネジ軸５２及び後述するアブソリュー
トエンコーダ５５の回転軸（図示せず）を備えるモータ
４９は，前述のウェハガイド３１を昇降させる駆動手段
としての役割を果たし，モータ４９の稼働で回転軸５３
及びボールネジ軸５２が正逆回転することにより，ウェ
ハガイド３１は昇降移動し，図３中において実線３１で
示したように洗浄槽３０内に下降して，洗浄槽３０内に
充填された洗浄液中にウェハＷを浸漬させた状態（洗浄
位置Ａ）と，図３中において一点鎖線３１’で示したよ
うに洗浄槽３０の上方に上昇して，洗浄槽３０の上方に
ウェハＷを持ち上げた状態（上昇位置Ｂ）とに上下に移
動自在である。また，このようにモータ４９の回転軸５
３（ボールネジ軸５２）の正逆回転によってウェハガイ
ド３１が昇降移動させられることにより，モータ４９の
回転軸５３の回転角度と，ウェハガイド３１の位置（高
さ）は比例関係になっている。

【００２８】先に説明した搬送装置１５に設けられたウ
ェハチャック２０ａ，２０ｂは，搬送駆動手段２１の稼
働によってレール２２に沿ってスライド移動する際に，
このように洗浄位置Ａに移動（下降）したウェハガイド
３１と，上昇位置Ｂに移動（上昇）したウェハガイド３
１の間を通過できる位置に配置されている。

【００２９】モータ４９には，アブソリュートエンコー
ダ５５が直結して装着されている。換言すると，モータ
４９とアブソリュートエンコーダ５５とが別々の単体と
してではなく，一体構造として構成されている。このア
ブソリュートエンコーダ５５は，モータ４９の回転軸５
３の回転量，例えば回転位置に基づいてウェハガイド３
１の位置を検出する検出手段の構成要素の１つをなし，
例えば回転板に形成されたスリット模様により光の透過
非透過パターンを形成し，このパターンから例えばモー
タ４９の回転軸５３の任意の基準点からの回転位置，す
なわち回転角度（絶対角度）を検出可能である。前述の
ように，モータ４９の回転軸５３の回転角度とウェハガ
イド３１の位置が比例関係になっているので，このよう
にアブソリュートエンコーダ５５によって検出した駆動
軸５３の回転角度から，ウェハガイド３１の位置を検出
することが可能である。

【００３０】なお，代表して洗浄装置１１について説明
したが，他の洗浄装置１２，１３も同様の構成を有して
おり，同様に処理槽としての洗浄槽３０と，ウェハＷの
保持手段としてのウェハガイド３１を備えている。また
同様に，他の洗浄装置１２，１３においても，アブソリ
ュートエンコーダ５５によってモータ４９の駆動軸５３
の絶対角度を検出することにより，ウェハガイド３１の
位置を検出することが可能である。

【００３１】図５は，この実施の形態の洗浄システム１
の制御系統を示すブロック図である。この洗浄システム
１は，搬送装置１５に設けられた搬送駆動手段２１と，
ウェハガイド３１を上下に昇降させるモータ４９を制御
する制御手段６０を備えており，制御手段６０には，搬
送駆動手段２１に稼働命令を出力する搬送ドライバ６１
と，モータ４９に稼働命令を出力する前述したドライバ
６２が設けられている。なお，このような制御系統は，
モータを用いた全ての駆動手段に適用可能である。

【００３２】搬送ドライバ６１と搬送駆動手段２１はサ
ーボ系として構成される。搬送ドライバ６１に対して，
搬送駆動手段２１に内蔵されたエンコーダ（図示せず）
から検出信号が出力される。搬送ドライバ６１は，こう
して入力された検出信号により，例えばウェハチャック
２０ａ，２０ｂがレール２２に沿ってスライド移動中で
あるとか，ウェハチャック２０ａ，２０ｂがローダ・ア
ンローダ部６，乾燥装置１０及び各洗浄装置１１〜１３
のいずれかにあるといった位置情報を得ることができ
る。搬送ドライバ６１には，コントローラ６３から例え
ばシーケンス制御プログラム等の設定が入力される。搬
送ドライバ６１は，こうして入力された設定に基づき，
搬送駆動手段２１の稼働を制御し，ウェハチャック２０
ａ，２０ｂを所定の位置に移動させる。

【００３３】またコントローラ６３に対して，レール２
２に沿って所定の間隔毎に設けられた多数の位置センサ
６４から検出信号が出力される。コントローラ６３は，
こうして入力された検出信号により，例えば各位置セン
サ６４から順次検出信号が出力されることにより，ウェ
ハチャック２０ａ，２０ｂがレール２２に沿ってスライ
ド移動中であるとか，各位置センサ６４の何れか一つか
ら検出信号は出力されることにより，ウェハチャック２
０ａ，２０ｂがローダ・アンローダ部６，乾燥装置１０
及び各洗浄装置１１〜１３のいずれかにあるといった位
置情報を得ることができる。例えば洗浄装置１１に対応
して設けられた位置センサ６４からＯＮ（あるいはＯＦ
Ｆ）信号が出力されることにより，コントローラ６３
は，洗浄装置１１内の洗浄槽３０の上方にウェハチャッ
ク２０ａ，２０ｂが位置していると認識し，その後，こ
の位置センサ６４からＯＦＦ（あるいはＯＮ）信号が出
力されることにより，コントローラ６３は，洗浄装置１
１内の洗浄槽３０の上方からウェハチャック２０ａ，２
０ｂが退出したと認識する。

【００３４】通常，ウェハチャック２０ａ，２０ｂを移
動させる場合，コントローラ６３から搬送ドライバ６１
に指令パルスが出力され，搬送ドライバ６１から搬送駆
動手段２１に駆動電流が流れる。一方，搬送駆動手段２
１から搬送ドライバ６１にウェハチャック２０ａ，２０
ｂの位置はフィードバックされる。さらにコントローラ
６３では，各位置センサ６４のセンサ出力からウェハチ
ャック２０ａ，２０ｂの位置情報を得ることにより，ウ
ェハチャック２０ａ，２０ｂが指令どおりに所定の位置
に移動したかが確認される。

【００３５】モータ４９，アブソリュートエンコーダ５
５及びドライバ６２は，サーボ系として構成される。ま
た，アブソリュートエンコーダ５５，ドライバ６２及び
コントローラ６３は，ウェハガイド３１の位置を検出す
る検出手段として機能する。ドライバ６２に対して，ア
ブソリュートエンコーダ５５からモータ４９の回転軸５
３の回転角度の検出信号が入力される。前述のように，
モータ４９の回転軸５３の回転角度とウェハガイド３１
の位置が比例関係になっており，ドライバ６２は，アブ
ソリュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検
出信号に基づいてウェハガイド３１の位置（高さ）を検
出する。ドライバ６２は，この検出により，例えばウェ
ハガイド３１が洗浄位置Ａもしくは上昇位置Ｂにあると
か，ウェハガイド３１がそれら洗浄位置Ａと上昇位置Ｂ
の間を昇降移動中であるといった位置情報を得ることが
でき，その位置情報をポジションセンサ出力としてコン
トローラ６３に出力する。また，コントローラ６３は，
例えばシーケンス制御プログラム等の設定をドライバ６
２に入力する。ドライバ６２は，こうして入力された設
定に基づき，モータ４９の稼働を制御し，ウェハガイド
３１を所定の位置（高さ）に移動させる。

【００３６】また，洗浄位置Ａや上昇位置Ｂ等のウェハ
ガイド３１の各位置（ポジショニング）を決定するため
のティーチング作業では，例えばウェハガイド３１を洗
浄槽３０内の所定位置に移動させ，その位置をドライバ
６２に洗浄位置Ａとして設定する。この設定は，ウェハ
ガイド３１を洗浄槽３０内の所定の位置に移動させたと
きのアブソリュートエンコーダ５５からの検出信号の出
力値を，洗浄位置Ａに対応する位置データとしてドライ
バ６２に記憶させることにより行われる。また，このア
ブソリュートエンコーダ５５からの検出信号の出力値を
中心にプラス・マイナスの幅を若干もたせてドライバ６
２に記憶させることにより，任意の範囲で洗浄位置Ａを
設定しても良い。上昇位置Ｂをドライバ６２に設定する
場合は，ウェハガイド３１を洗浄槽３０の上方の所定位
置に移動させ，そのときのアブソリュートエンコーダ５
５からの検出信号の出力値を，上昇位置Ｂに対応する位
置データとしてドライバ６２に記憶させることにより行
われる。また，ドライバ６２では，例えばウェハガイド
３１が洗浄位置Ａにあるときの検出信号の出力値を原点
基準値として設定し，例えばウェハガイド３１が上昇位
置Ｂにあるときの検出信号の出力値をリミット値として
設定する。このように各位置に対応して記憶される検出
信号の出力値は，洗浄槽３０内や上方でのウェハガイド
３１の所定位置（所定範囲）に対応する位置データとし
て捉えることもできるし，モータ４９の回転軸５３の回
転角度すなわち回転位置に対応する回転データとして捉
えることもできる。

【００３７】通常動作の際，例えばこのように設定され
た洗浄位置Ａにウェハガイド３１を下降させる場合，コ
ントローラ６３からドライバ６２に指令パルスが出力さ
れ，ドライバ６２からモータ４９に駆動電流が流れる。
一方，モータ４９の回転軸５３の回転角度の検出信号
は，アブソリュートエンコーダ５５からドライバ６２
に，絶対値の信号データとして出力される。ドライバ６
２は，こうして入力された検出信号によってウェハガイ
ド３１の位置情報を得て，この位置情報をポジションセ
ンサ出力としてコントローラ６３に出力する。コントロ
ーラ６３は，こうして入力された位置情報によってウェ
ハガイド３１の位置は指令どおりかどうか確認する。ま
た，上昇位置Ｂにウェハガイド３１が上昇する場合も，
同様の動作が実行される。なお，洗浄位置Ａと上昇位置
Ｂの間をウェハガイド３１が昇降している間において
も，アブソリュートエンコーダ５５の検出信号の出力値
から，ウェハガイド３１の現在位置をコントローラ６３
に出力することもできる。このようにアブソリュートエ
ンコーダ５５の出力を位置センサの代わりをすることが
できるので，ウェハガイド３１の通り道に位置センサを
配置しなくても，コントローラ６３はセンサ出力を得る
ことができる。

【００３８】また，前述したようにアブソリュートエン
コーダ５５は，モータ４９の回転軸５３の任意の基準点
からの回転位置，すなわち回転角度（絶対角度）を検出
可能であるので，従来のサーボ系に用いられるエンコー
ダでは，一旦電源を切った場合，ウェハガイド３１の現
在位置を見失うおそれがあるが，本実施の形態にかかる
サーボ系では，そのような心配がなく，常にウェハガイ
ド３１の現在位置が明確に分かる。また，従来のサーボ
モータ（エンコーダ付き）の軸にベルト等を介してアブ
ソリュートエンコーダ５５をつなげることも考えられる
が，そのような場合，ベルトの伸びなどによりモータ４
９の回転とアブソリュートエンコーダ５５の回転とに誤
差が生じる心配がある。更にベルトを介さずにサーボモ
ータとアブソリュートエンコーダ５５を同軸上で結合し
たとしても，モータ４９，エンコーダ，アブソリュート
エンコーダ５５の３機構分のスペースが必要となり，取
り付けスペースが拡大すると共に，サーボ系を構成する
ためのドライバ６２とアブソリュートエンコーダ５５の
信号を受けとるための受信器とが必要となる。従って，
モータ４９にアブソリュートエンコーダ５５を直結した
サーボモータを用いることにより，取り付けスペースを
小さく抑えることができると共に，モータ４９とアブソ
リュートエンコーダ５５の回転誤差がなくなる等の効果
を得ることができる。

【００３９】コントローラ６３には，メインコントロー
ラ６５から設定値などを入力できるようになっている。
また，コントローラ６３には，ウェハガイド３１の位置
情報とウェハチャック２０ａ，２０ｂの位置情報の何れ
もが入力されてウェハガイド３１の位置とウェハチャッ
ク２０ａ，２０ｂの位置の両方を認識することができ
る。

【００４０】そして制御手段６０では，ウェハガイド３
１とウェハチャック２０ａ，２０ｂを衝突させないよう
に，搬送駆動手段２１とモータ４９を制御する。例えば
コントローラ６３では，ウェハガイド３１が前述の洗浄
位置Ａか，若しくは前述の上昇位置Ｂにあることを確認
してから，搬送駆動手段２１を駆動させる信号を搬送ド
ライバ６１に入力する。これにより，ウェハガイド３１
が洗浄位置Ａか上昇位置Ｂのいずれかにある場合にの
み，ウェハチャック２０ａ，２０ｂを洗浄槽３０の上方
に移動させ，また，ウェハチャック２０ａ，２０ｂを洗
浄槽３０の上方から移動させることが可能となる。な
お，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａと上昇位置Ｂの間を
昇降移動中である場合は，インターロックがかかること
により，コントローラ６３は，搬送駆動手段２１の駆動
を停止させる信号を搬送ドライバ６１に入力する。これ
により，ウェハチャック２０ａ，２０ｂは移動しない状
態となる。

【００４１】またコントローラ６３は，例えば搬送駆動
手段２１の駆動が停止していることを確認してから，モ
ータ４９を稼働させる信号をドライバ６２に入力する。
これにより，ウェハチャック２０ａ，２０ｂが停止して
いる場合にのみ，モータ４９の回転軸５３が回転し，ウ
ェハガイド３１が昇降移動させることが可能となる。な
お，ウェハチャック２０ａ，２０ｂが移動中である場合
は，インターロックがかかることにより，コントローラ
６３は，モータ４９の稼働を停止させる信号をドライバ
６２に入力する。これにより，ウェハガイド３１は昇降
移動しない状態となる。

【００４２】なお，洗浄システム１に備えられた他の洗
浄装置１２，１３においても，制御手段６０により同様
の制御が行われ，ウェハガイド３１とウェハチャック２
０ａ，２０ｂを衝突させないように，搬送駆動手段２１
とモータ４９が制御される。

【００４３】さて，以上のように構成された本発明の実
施の形態にかかる洗浄システム１において，先ず図示し
ない搬送ロボットにより未だ洗浄されていないウェハＷ
を例えば２５枚ずつ収納したキャリアＣがキャリア搬入
出部５に載置される。このキャリア搬入出部５に搬入さ
れたキャリアＣは，移送アーム８によってローダ・アン
ローダ部６に移送される。そして，ローダ・アンローダ
部６においてキャリアＣから取り出されたウェハＷは，
搬送装置１５のウェハチャック２０ａ，２０ａによって
一括して把持される。そして，搬送装置１５によってウ
ェハＷは，各洗浄装置１１〜１３に適宜搬送され，ウェ
ハＷの表面に付着しているパーティクルなどの汚染物質
が洗浄，除去され，最後に乾燥装置１０に搬送されて乾
燥処理される。こうして所定の洗浄及び乾燥処理が終了
したウェハＷは，ローダ・アンローダ部６に戻されて再
びキャリアＣに収納される。こうして，洗浄，乾燥後の
ウェハＷを収納したキャリアＣは，移送アーム８によっ
てローダ・アンローダ部６からキャリア搬入出部５に移
送され，図示しない搬送ロボットによって搬出される。

【００４４】ここで，搬送装置１５によってウェハＷが
各洗浄装置１１〜１３に対して搬入出される際の動作及
び制御を，図６〜図１４を用いて詳しく説明する。な
お，代表して洗浄装置１１に対するウェハＷ搬入出につ
いて詳しく説明する。

【００４５】先ず，コントローラ６３が搬送ドライバ６
１を通じて搬送駆動手段２１の稼働を開始させるように
制御することにより，図６に示すように，搬送装置１５
におけるウェハチャック２０ａ，２０ｂが洗浄装置１１
までスライド移動する。これにより，ウェハチャック２
０ａ，２０ｂによって保持しているウェハＷを，洗浄装
置１１に搬入する。なお，このように洗浄装置１１にウ
ェハＷを搬入する場合は，ウェハガイド３１は予め下降
されており，ウェハガイド３１は洗浄槽３０内底部の洗
浄位置Ａに位置している。

【００４６】この場合，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａ
に位置していることは，アブソリュートエンコーダ５５
から入力された回転角度の検出信号に基づいてドライバ
６２によって検出され，コントローラ６３に認識されて
いる。仮にウェハガイド３１が洗浄位置Ａに位置してい
ない場合は，コントローラ６３は，ウェハガイド３１が
洗浄位置Ａに位置していないことを認識したことによっ
て，インターロックをかけ，コントローラ６３は搬送ド
ライバ６１に対して搬送駆動手段２１の稼働を停止させ
る命令を出す。これにより，ウェハチャック２０ａ，２
０ｂのスライド移動は停止され，ウェハＷを洗浄装置１
１に搬入する際において，ウェハガイド３１とウェハチ
ャック２０ａ，２０ｂの衝突が防がれる。

【００４７】また，ドライバ６２に入力された検出信号
は，ドライバ６２にウェハガイド３１の位置をフィード
バックするための信号として使われる他に，洗浄位置Ａ
に対応してドライバ６２に予め記憶されたデータと比較
される。ドライバ６２では，洗浄位置Ａを規定する所定
範囲内に，このアブソリュートエンコーダ５５から入力
された検出信号の出力値が収まっていれば，例えばＯＮ
（あるいはＯＦＦ）信号を，位置情報すなわちポジショ
ンセンサ出力としてコントローラ６３に出力する。これ
によって，ウェハガイド３１の位置を検出するための光
学式の位置センサ等を例えば洗浄槽３０内に配置する必
要がなく，ウェハガイド３１などの移動体の位置を検出
することができる。

【００４８】そして，ウェハチャック２０ａ，２０ｂに
よって保持されたウェハＷが洗浄装置１１に搬入され，
図７に示すように，洗浄槽３０の上方にウェハＷが搬送
されると，搬送装置１５において，搬送駆動手段２１の
稼働は一旦停止する。この場合，ウェハチャック２０
ａ，２０ｂの位置情報は，洗浄装置１１に対応して設け
られた位置センサ６４を通じてコントローラ６３に入力
されており，コントローラ６３は，ウェハチャック２０
ａ，２０ｂによってウェハＷが洗浄槽３０の上方にまで
搬送されたことを認識し，搬送ドライバ６１を通じて搬
送駆動手段２１の稼働を停止するように制御する。こう
して，洗浄装置１１の洗浄槽３０の上方にウェハＷが搬
入された状態となる。

【００４９】こうして洗浄槽３０の上方にウェハＷが搬
入されると，コントローラ６３はドライバ６２を通じて
モータ４９を稼働させるように制御する。これにより，
ウェハガイド３１はガイドＺ軸５４に沿って上昇する。
このとき，図８に示すように，ウェハガイド３１は，洗
浄位置Ａから上昇位置Ｂに向かって上昇する途中で，ウ
ェハチャック２０ａ，２０ｂの隙間を通過（上昇）する
際にウェハチャック２０ａ，２０ｂからウェハＷを受け
取り，上昇位置Ｂまで上昇する。ウェハガイド３１が上
昇位置Ｂまで上昇したことは，アブソリュートエンコー
ダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づいてド
ライバ６２によって検出され，コントローラ６３に認識
される。コントローラ６３は，ウェハガイド３１が上昇
位置Ｂまで上昇したことを認識したことにより，ドライ
バ６２を通じてモータ４９の稼働を停止させる。

【００５０】この場合も，ドライバ６２に入力された検
出信号は，上昇位置Ｂに対応してドライバ６２に予め記
憶されたデータと比較される。そして，ドライバ６２で
は，洗浄位置Ｂを規定する所定範囲内に，このアブソリ
ュートエンコーダ５５から入力された検出信号の出力値
が収まっていれば，例えばＯＮ（あるいはＯＦＦ）信号
を，位置情報すなわちポジションセンサ出力としてコン
トローラ６３に出力する。従って，洗浄槽３０の上方に
も光学式の位置センサ等を配置する必要がない。

【００５１】また，モータ４９の回転軸の停止位置（ウ
ェハガイド３１の停止位置）をセンサ出力するだけでな
く，モータ４９の回転軸の回転位置もセンサ出力するこ
とができる。例えばティーチング作業の際の設定によ
り，例えば洗浄位置Ａから上昇位置Ｂにウェハガイド３
１が移動する時のアブソリュートエンコーダ５５からの
検出信号の出力値のデータを予めドライバ６２に記憶さ
せることにより，通常動作の際のウェハガイド３１は，
どのエリアを移動中なのか（モータ４９の回転軸５３が
どの位置を回転中なのか，すなわち回転角度）を位置情
報としてコントローラ６３にエリアセンサ出力によって
送信することができる。洗浄位置Ａから上昇位置Ｂの間
のエリアは１つの設定する必要はなく，洗浄位置Ａ寄り
の第１エリア，洗浄位置Ａと上昇位置Ｂの中間の第２エ
リア，上昇位置Ｂ寄りの第３エリアというように複数の
エリアに細分化し，ウェハガイド３１の現在位置をより
正確に出力することができる。従って，ウェハガイド３
１の通り道にポジションセンサやエリアセンサを設置す
ることなく，ウェハガイドの動作位置を検出することが
できる。

【００５２】ウェハガイド３１を上昇（下降）させる間
に，電源が落ちた後（電源ＯＦＦ後）に通常動作に再び
戻った場合でも，このアブソリュートエンコーダ５５で
は，イニシャライズして基準点を探し出す必要がなく，
電源を落とす前（電源ＯＦＦ前）のモータ４９の回転軸
５３の回転角度すなわち回転位置（ウェハガイド３１の
位置）を保持することができる。従って，電源を復帰
（電源ＯＮ）してからは，素早く現在の位置から次の動
作に移ることができる。

【００５３】次に，コントローラ６３は，搬送ドライバ
６１を通じて再び搬送駆動手段２１の稼働を開始させる
ように制御する。これにより，図９に示すように，ウェ
ハチャック２０ａ，２０ｂをスライド移動させて，洗浄
装置１１から退出させる。こうしてウェハチャック２０
ａ，２０ｂが洗浄装置１１から退出したことは，先の位
置センサ６４から搬送ドライバ６１を通じてコントロー
ラ６３に入力され，コントローラ６３は，ウェハチャッ
ク２０ａ，２０ｂが洗浄装置１１から退出したことを認
識し，搬送ドライバ６１を通じて搬送駆動手段２１の稼
働を停止するように制御する。

【００５４】こうしてウェハチャック２０ａ，２０ｂが
洗浄装置１１から退出したことを認識したコントローラ
６３は，ドライバ６２を通じてモータ４９を再び稼働さ
せるように制御し，ウェハガイド３１をガイドＺ軸５４
に沿って下降させる。こうして図１０に示すように，ウ
ェハガイド３１が洗浄位置Ａまで下降させられる。ウェ
ハガイド３１が洗浄位置Ａまで下降したことは，アブソ
リュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検出
信号に基づいてドライバ６２によって検出され，コント
ローラ６３に認識される。コントローラ６３は，ウェハ
ガイド３１が洗浄位置Ａまで下降したことを認識したこ
とにより，ドライバ６２を通じてモータ４９の稼働を停
止させる。そして，このようにウェハガイド３１が洗浄
位置Ａまで下降したことにより，ウェハＷは洗浄槽３０
内に収納された状態となり，洗浄槽３０内に充填された
洗浄液中にウェハＷは浸漬され，ウェハＷに対する洗浄
が施される。

【００５５】洗浄装置１１における所定の洗浄を終了し
た後，次に，コントローラ６３はドライバ６２を通じて
モータ４９を再び稼働させるように制御し，ウェハガイ
ド３１をガイドＺ軸５４に沿って上昇させる。こうして
図１１に示すように，ウェハガイド３１は上昇位置Ｂま
で上昇し，洗浄装置１１における洗浄を終了したウェハ
Ｗを洗浄槽３０の上方に持ち上げる。ウェハガイド３１
が上昇位置Ｂまで上昇したことは，アブソリュートエン
コーダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づい
てドライバ６２によって検出され，コントローラ６３に
認識される。コントローラ６３は，ウェハガイド３１が
上昇位置Ｂまで上昇したことを認識したことにより，ド
ライバ６２を通じてモータ４９の稼働を停止させるよう
に制御する。

【００５６】次に，コントローラ６３は搬送ドライバ６
１を通じて搬送駆動手段２１の稼働を再び開始させるよ
うに制御を行う。これにより，図１２に示すように，ウ
ェハチャック２０ａ，２０ｂがスライド移動して洗浄槽
３０の上方に再び位置することとなる。コントローラ６
３は，ウェハチャック２０ａ，２０ｂが洗浄槽３０の上
方まで移動したことを認識し，搬送ドライバ６１を通じ
て搬送駆動手段２１の稼働を停止するように制御する。

【００５７】なお，このようにウェハチャック２０ａ，
２０ｂを洗浄槽３０の上方に移動させる際には，ウェハ
ガイド３１が上昇位置Ｂに上昇していることが，アブソ
リュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検出
信号に基づいてドライバ６２によって検出され，コント
ローラ６３に認識されている。仮にウェハガイド３１が
上昇位置Ｂに位置していない場合は，コントローラ６３
は，ウェハガイド３１が上昇位置Ｂにないことを認識す
ることにより，インターロックをかけ，コントローラ６
３は搬送ドライバ６１に対して搬送駆動手段２１の稼働
を停止させる命令を出す。これにより，ウェハチャック
２０ａ，２０ｂのスライド移動は停止され，ウェハガイ
ド３１とウェハチャック２０ａ，２０ｂの衝突が防がれ
る。

【００５８】こうしてウェハチャック２０ａ，２０ｂを
洗浄槽３０の上方まで移動させた後，次に，コントロー
ラ６３はドライバ６２を通じてモータ４９を再び稼働さ
せるように制御し，ウェハガイド３１をガイドＺ軸５４
に沿って下降させる。こうして図１３に示すように，ウ
ェハガイド３１が上昇位置Ｂから洗浄位置Ａに向かって
下降する途中で，ウェハチャック２０ａ，２０ｂの隙間
を通過（下降）する際に，ウェハガイド３１からウェハ
チャック２０ａ，２０ｂにウェハＷが受け渡される。こ
れにより，ウェハガイド３１はウェハＷを保持しない状
態となって，洗浄位置Ａまで下降する。ウェハガイド３
１が洗浄位置Ａまで下降したことは，アブソリュートエ
ンコーダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づ
いてドライバ６２によって検出され，コントローラ６３
に認識される。コントローラ６３は，ウェハガイド３１
が洗浄位置Ａまで下降したことを認識したことにより，
ドライバ６２を通じてモータ４９の稼働を停止させるよ
うに制御する。

【００５９】次に，コントローラ６３は，ウェハガイド
３１が洗浄位置Ａまで下降したことを認識すると，搬送
ドライバ６１を通じて再び搬送駆動手段２１の稼働を開
始させるように制御を行う。そして図１４に示すよう
に，ウェハチャック２０ａ，２０ｂをレール２２に沿っ
てスライド移動させて，洗浄装置１１における洗浄を終
了したウェハＷを洗浄装置１１から搬出させる。こうし
て洗浄装置１１から搬出されたウェハＷは，次に例えば
洗浄装置１２及び洗浄装置１３に同様の工程に従って順
次搬入され，各洗浄装置１２，１３における洗浄が行わ
れる。こうして各洗浄装置１１〜１３における洗浄を終
了したウェハＷは，先に説明したように乾燥装置１０に
て乾燥処理された後，ローダ・アンローダ部６にてキャ
リアＣに収納され，搬入出部５において図示しない搬送
ロボットによって搬出される。

【００６０】この実施の形態にかかる洗浄システム１に
よれば，アブソリュートエンコーダ５５によりウェハガ
イド３１の位置を検出するので，従来のようにウェハガ
イド３１の位置を検出するために光電センサなどを多数
設ける必要がなく，装置構成を著しく簡素化でき，ま
た，メンテンナンスも容易である。特にアブソリュート
エンコーダ５５は，例えば突然の停電が発生したような
場合でも，回転軸５３の絶対角度からウェハガイド３１
の位置を記憶し，その後に装置が回復したときは，ウェ
ハガイド３１の位置をドライバ６２によって直ちに検出
でき，初期設定などをやり直す必要がない。また，制御
手段６０において，ウェハガイド３１とウェハチャック
２０ａ，２０ｂを衝突させないように，搬送駆動手段２
１とモータ４９をインターロック制御しているので，安
全を図ることができる。

【００６１】以上，本発明の好適な実施の形態の一例を
示したが，本発明はここで説明した形態に限定されな
い。例えば基板を収納するキャリアＣを移送する移送ア
ーム８と搬送装置１５のウェハチャック２０ａ，２０ｂ
とを衝突させないように，移送アーム８のサーボ系を構
成する移送駆動機構（図示せず）及び移送ドライバ（図
示せず）において，コントローラ６３により移送ドライ
バに対してシーケンス制御プログラム等の設定を入力
し，移送駆動機構とモータ４９をインターロック制御す
ると良い。また，例えば処理槽は，洗浄液が充填される
洗浄槽に限定されず，その他の種々の処理液などを用い
て洗浄以外の他の処理を基板に対して施すものであって
も良い。また，基板は半導体ウェハに限らず，その他の
ＬＣＤ基板用ガラスやＣＤ基板，プリント基板，セラミ
ック基板などであっても良い。

【００６２】

【発明の効果】請求項１〜９によれば，従来のような多
数の光電センサを必要としない，構成が簡素化された移
送装置，基板処理装置及び基板処理システムを提供でき
る。特に，アブソリュートエンコーダを用いたことによ
り，例えば突然の停電が発生したような場合でも，回転
軸の絶対角度から保持手段の位置を検出しているので，
停電後に装置が回復したときは，基板保持手段の位置を
直ちに検出でき，初期設定などをやり直す必要がない。
また，基板保持手段と搬送保持手段の衝突を避けて，安
全を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態にかかる洗浄システムの斜
視図である。

【図２】搬送装置の斜視図である。

【図３】本発明の実施の形態にかかる洗浄装置の縦断面
図である。

【図４】ウェハガイドの斜視図である。

【図５】本発明の実施の形態にかかる洗浄システムの制
御系統を示すブロック図である。

【図６】ウェハを洗浄装置に搬入する工程の説明図であ
る。

【図７】ウェハが洗浄槽の上方に搬送された工程の説明
図である。

【図８】ウェハをウェハガイドに受け取った工程の説明
図である。

【図９】ウェハチャックが洗浄装置から退出した工程の
説明図である。

【図１０】ウェハを洗浄槽内に収納した工程の説明図で
ある。

【図１１】洗浄を終了したウェハを洗浄槽の上方に持ち
上げた工程の説明図である。

【図１２】ウェハチャックが洗浄槽の上方に再び位置し
た工程の説明図である。

【図１３】ウェハチャックにウェハが受け渡された工程
の説明図である。

【図１４】洗浄装置における洗浄を終了したウェハを洗
浄装置から搬出させた工程の説明図である。

【符号の説明】

Ａ 洗浄位置 Ｂ 上昇位置 Ｃ キャリア Ｗ ウェハ １ 洗浄システム １１，１２，１３ 洗浄装置 ５ キャリア搬入出部 ６ ローダ・アンローダ部 ７ 洗浄・乾燥処理部 ８ 移送アーム １０ 乾燥装置 １５ 搬送装置 ２０ａ，２０ｂ ウェハチャック ２１ 搬送駆動手段 ３１ ウェハガイド ３０ 洗浄槽 ４３ａ，４３ｂ，４３ｃ 保持部材 ４９ モータ ５０ ボール・ナット機構 ５４ ガイドＺ軸 ５３ 回転軸 ５５ アブソリュートエンコーダ ６０ 制御手段 ６１ 搬送ドライバ ６２ ドライバ ６３ コントローラ ６５ メインコントローラ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB24 AB42 BB92 CC11 3C007 AS24 BS01 ES17 HS27 KS16 LV02 MS05 NS12 5F031 CA02 FA01 FA11 FA12 GA36 HA73 JA22 LA07 MA23 PA03 PA06

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 モータによって駆動される移動体と，前
   記モータに直結されたアブソリュートエンコーダと，前
   記アブソリュートエンコーダから出力される信号に基づ
   いて前記移動体の位置を検出するコントローラとを備え
   ていることを特徴とする，移送装置。
2. 【請求項２】 モータによって駆動される移動体と，該
   移動体の位置を検出する検出手段とを備えた移送装置で
   あって，前記検出手段は，前記モータに直結され前記モ
   ータの回転軸の回転量を検出して検出信号を出力するア
   ブソリュートエンコーダと，該アブソリュートエンコー
   ダから出力された検出信号を受けて位置情報を出力する
   ドライバと，該ドライバから出力された位置情報を受け
   て前記移動体の位置を判別するコントローラとを備えて
   いることを特徴とする，移送装置。
3. 【請求項３】 互いに干渉する可能性のある少なくとも
   ２つの移動体を備え，少なくとも１つの移動体はモータ
   によって駆動され，該移動体の位置を検出する検出手段
   とを備えた移送装置であって，前記検出手段は，前記モ
   ータに直結され前記モータの回転軸の回転量を検出して
   検出信号を出力するアブソリュートエンコーダと，該ア
   ブソリュートエンコーダから出力された検出信号を受け
   て位置情報を出力するドライバと，該ドライバから出力
   された位置情報を受けて前記移動体の位置を判別するコ
   ントローラとを備え，前記コントローラは，移動体同士
   が干渉しないように制御することを特徴とする，移送装
   置。
4. 【請求項４】 前記コントローラは，制御プログラムの
   設定を前記ドライバに入力し，前記ドライバは，この入
   力された設定に基づいて前記モータを制御することを特
   徴とする，請求項２又は３のいずれかに記載の移送装
   置。
5. 【請求項５】 前記ドライバから前記コントローラに出
   力される位置情報は，回転軸の回転中および／または回
   転停止時の前記移動体の位置が所定範囲内にあるか否か
   を検出して出力されるセンサ出力であることを特徴とす
   る，請求項２，３又は４のいずれかに記載の移送装置。
6. 【請求項６】 前記移動体は，基板を保持して移動する
   基板保持手段であることを特徴とする，請求項１，２，
   ３，４又は５のいずれかに記載の移送装置。
7. 【請求項７】 基板を処理する処理槽と，請求項６に記
   載の移送装置とを備えた基板処理装置であって，前記基
   板保持手段は，前記処理槽に対して基板を収納させるべ
   く移動自在であることを特徴とする，基板処理装置。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の基板処理装置と，基板
   を搬送し，前記基板保持手段との間で基板を授受する搬
   送装置を備えた基板処理システムであって，前記搬送装
   置は，基板を保持して搬送させる搬送保持手段と，前記
   搬送保持手段を移動させる搬送駆動手段を備え，前記搬
   送駆動手段と前記モータを制御する制御手段を備えるこ
   とを特徴とする，基板処理システム。
9. 【請求項９】 前記制御手段は，前記基板保持手段と前
   記搬送保持手段を衝突させないように，前記搬送駆動手
   段と前記モータを制御することを特徴とする，請求項８
   に記載の基板処理システム。