JP4421580B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

本発明は，例えば半導体ウェハやＬＣＤ基板用ガラス等の基板の移送装置を備え，これら基板の洗浄処理などを行う基板処理装置に関する。

例えば半導体デバイスの製造プロセスにおいては，半導体ウェハ（以下，「ウェハ」という。）を洗浄液によって洗浄し，ウェハに付着したパーティクル，有機汚染物，金属不純物のコンタミネーションを除去する洗浄システムが使用されている。その中でも，洗浄液中にウェハを浸漬させて洗浄処理を行うウェット型の洗浄装置を備えた洗浄システムが広く普及している。

一般に，従来の洗浄装置は，洗浄液を充填した洗浄槽と，この洗浄槽内にウェハを浸漬させるウェハガイドを備えている。ウェハガイドは，鉛直に配置されたガイドＺ軸に沿って洗浄槽内と洗浄槽の上方の間を昇降自在であり，洗浄槽の上方においてウェハを受け取った後，洗浄槽内に下降することで，ウェハを洗浄液中に浸漬させ，ウェハの洗浄を行う。このような洗浄装置を多数備える洗浄システムには，キャリア内からウェハを取り出し，キャリア内にウェハを収納させるローダ・アンローダ部と，このローダ・アンローダ部と各洗浄装置の間でウェハを搬送する搬送装置を備えている。搬送装置は，各洗浄装置に沿ってウェハチャックを水平方向に移動させることにより，各洗浄装置に対してウェハチャックを搬送し，例えば洗浄装置の洗浄槽の上方にウェハチャックを移動させた後，ウェハガイドが上昇することで，ウェハの受け渡しが行われる。

このような洗浄システムでは，例えばウェハガイドとウェハチャックの衝突を避けるために，ウェハガイドの位置（高さ）を検出する必要がある。そこで従来は，前述のガイドＺ軸に沿って，各高さに光電センサを配置し，それら各光電センサによってウェハガイドの位置を検出している。

このため従来は，多数の光電センサを各洗浄装置ごとに設置しなければならず，光電センサの個数が多くなっていた。しかも，光電センサの設置数が多ければ，その分，部品交換やメンテナンスが頻繁になる。また，ガイドＺ軸が装置内部にあるような場合は，メンテナンスのたびにカバーなどを取り外して装置内部で作業しなくてはならないため，煩雑であった。

従って本発明の目的は，位置検出を簡単にでき，しかもメンテナンスも容易な基板処理装置を提供することにある。

上記課題を解決するために，本発明によれば，基板を処理する処理槽と，基板の移送装置とを備えた基板処理装置であって，前記移送装置は，互いに干渉する可能性のある２つの移動体と，該移動体の位置を検出する検出手段を備え，少なくとも１つの移動体はモータによって駆動され，前記検出手段は，前記モータの回転軸の回転量を検出して検出信号を出力するアブソリュートエンコーダと，該アブソリュートエンコーダから出力された検出信号を受けて位置情報を出力するドライバと，該ドライバから出力された位置情報を受けて前記移動体の位置を判別するコントローラとを備え，前記移動体を所定の位置に移動させたときのアブソリュートエンコーダからの検出信号の出力値を，位置データとしてドライバに記憶させ，前記コントローラは，前記移動体が所定の位置にある場合に，他の移動体を移動させることにより，移動体同士が干渉しないように制御し，前記２つの移動体は，基板を保持して，処理槽内に充填された処理液中に基板を浸漬させた状態と，処理槽の上方に上昇して処理槽の上方に基板を持ち上げた状態とに上下に移動する基板保持手段と，基板を保持して，処理槽の上方に搬送した状態と，処理槽の上方から退出した状態とに水平に移動する搬送保持手段であり，前記所定の位置は，基板保持手段が処理槽内に充填された処理液中に基板を浸漬させた位置と，処理槽の上方に上昇して処理槽の上方に基板を持ち上げた位置であり，前記コントローラの制御する移送工程は，前記基板保持手段が処理槽内に位置する場合に基板を保持した前記搬送保持手段を処理槽直上に移動させ，前記基板保持手段の処理槽の上方への上昇により基板が前記基板保持手段に受け渡された後，前記基板保持手段が処理槽の上方に位置しているのを確認した上で前記搬送保持手段を前記基板保持手段の干渉する空間から退出させ，前記基板保持手段を処理槽の上方から処理槽内へ移動させ基板の処理を行った後に前記基板保持手段を処理槽の上方へ移動させ，前記基板保持手段が処理槽の上方に位置しているのを確認した上で前記搬送保持手段を処理槽直上に移動させ，前記基板保持手段の処理槽内への下降により基板が前記搬送保持手段に受け渡された後，前記基板保持手段が処理槽内に位置しているのを確認した上で前記搬送保持手段を前記基板保持手段の干渉する空間から退出させるものであることを特徴とする，基板処理装置が提供される。

この基板処理装置が備える移送装置にあっては，コントローラは，アブソリュートエンコーダから出力される信号に基づいて移動体の位置を検出しているので，移動体の位置を容易に検出することができる。検出手段では，アブソリュートエンコーダによりモータの回転軸の回転量を検出して検出信号を出力し，この検出信号に基づいて例えばドライバにより移動体の位置を検出しているので，位置の検出が容易にできる。また，ドライバから位置情報をコントローラに出力することにより，コントローラは，例えば移動体の位置は指令どおりか確認する。ここで，アブソリュートエンコーダは，回転軸の回転量として例えば絶対角度を出力するので，ドライバは，その検出信号の出力値に基づいて移動体の位置を検出でき，しかもアブソリュートエンコーダをもちいれば，例えば突然の停電が発生したような場合でも，移動体の位置を記憶しておくことができ，初期設定などをやり直す必要がない。

なお，基板とは，半導体ウェハやＬＣＤ基板用ガラス等の基板などが例示され，その他，ＣＤ基板，プリント基板，セラミック基板などでも良い。

この基板処理装置は，ウェハ等を例えば洗浄処理するための洗浄装置として具体化される。基板を処理する処理槽には，処理液として例えば洗浄液が充填される。基板保持手段は，基板を保持して移動することにより，処理槽中の処理液に基板を浸漬させることが可能である。

本発明によれば，従来のような多数の光電センサを必要としない，構成が簡素化された移送装置，基板処理装置及び基板処理システムを提供できる。特に，アブソリュートエンコーダを用いたことにより，例えば突然の停電が発生したような場合でも，回転軸の絶対角度から保持手段の位置を検出しているので，停電後に装置が回復したときは，基板保持手段の位置を直ちに検出でき，初期設定などをやり直す必要がない。また，基板保持手段と搬送保持手段の衝突を避けて，安全を図ることができる。

以下，本発明の好ましい実施の形態を，基板の一例としてウェハを洗浄するように構成された基板処理装置としての洗浄装置に基づいて説明する。図１は，本実施の形態にかかる洗浄装置１１，１２，１３を備えた基板処理システムとしての洗浄システム１の斜視図である。この洗浄システム１は，ウェハＷの洗浄及び乾燥を行うように構成されている。

この洗浄システム１は，複数枚のウェハＷを収納したキャリアＣが搬入出されるキャリア搬入出部５と，キャリア内からウェハＷを取り出し，キャリア内にウェハＷを収納させるローダ・アンローダ部６と，ウェハＷを洗浄，乾燥処理する洗浄・乾燥処理部７を備えている。キャリア搬入出部５とローダ・アンローダ部６の間では，移動体として，例えばウェハＷを収納する収納可能な容器であるキャリアＣを移送する移送アーム８によってキャリアＣが移送される。洗浄・乾燥処理部７には，ローダ・アンローダ部６に近い方から順に，ウェハＷを例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）蒸気を用いて乾燥させるための乾燥装置１０と，ウェハＷに対して薬液成分を主体とした洗浄液によって洗浄処理を行い，その後に純水によるリンス処理を行う，洗浄装置１１，１２，１３とが配置されており，各洗浄装置１１〜１３の洗浄液の薬液成分は，それぞれ種類が異なっている。洗浄・乾燥処理部７には，ローダ・アンローダ部６とこれら乾燥装置１０及び各洗浄装置１１，１２，１３の間でウェハＷを搬送する搬送装置１５が備えられている。

図２に示すように，搬送装置１５は，移動体として，ウェハＷを保持して搬送させる搬送保持手段としての左右一対のウェハチャック２０ａ，２０ｂと，これらウェハチャック２０ａ，２０ｂを，ローダ・アンローダ部６，乾燥装置１０及び各洗浄装置１１〜１３に沿って水平方向に移動させる搬送駆動手段２１を備えている。左右のウェハチャック２０ａ，２０ｂの間には，後述する移動体として基板保持手段，例えばウェハガイド３１が通過できる隙間が形成されている。搬送駆動手段２１は，洗浄システム１の長手方向（乾燥装置１０及び各洗浄装置１１〜１３の配置方向）に沿って延びたレール２２をスライド移動するように構成されている。

洗浄装置１１〜１３は何れも同様の構成を有するので，洗浄装置１１を例にとって説明する。図３は，洗浄装置１１の縦断面図である。図３に示すように，洗浄装置１１は，ウェハＷを洗浄処理する処理槽としての洗浄槽３０を備えている。

洗浄槽３０は，ウェハＷを収納するのに十分な大きさを有する箱形の内槽４０と，内槽４０の開口部を取り囲んで装着された外槽４１とを備えている。洗浄槽３０内には，例えば純水や種々の薬液などといった洗浄液が充填されるようになっている。

また洗浄装置１１には，ウェハＷを保持するウェハガイド３１を備えた移送装置４２が設けられており，この移送装置４２は，洗浄槽３０内にウェハＷを収納させるべくウェハガイド３１を昇降移動させる。

図４に示すように，ウェハガイド３１は，３本の平行な保持部材４３ａ，４３ｂ，４３ｃを備えている。各保持部材４３ａ〜４３ｃには，ウェハＷの周縁下部を保持する溝４４が等間隔で例えば５０箇所形成されている。そしてウェハガイド３１は，例えばキャリアＣ２個分の５０枚のウェハＷの周縁部を，各保持部材４３ａ〜４３ｃに形成された各溝４４にそれぞれ挿入させることにより，複数枚のウェハＷを等間隔で配列させた状態で保持できる構成となっている。

各保持部材４３ａ〜４３ｃは，いずれも水平姿勢で支持体４５に固定されており，支持体４５の裏面には，昇降部材４６が取り付けられている。昇降部材４６は，カバー体４７の前面に形成された溝４８を通り，図３に示すように，カバー体４７内に収納されたボール・ナット機構５０のナット５１に接続されている。このナット５１は，カバー体４７内部において上下に延設されたガイドＺ軸５４に沿って移動自在に装着されていることにより，ウェハガイド３１は，ガイドＺ軸５４に沿って昇降できるようになっている。

ボール・ナット機構５０のボールネジ軸５２には，カップリング（図示せず）等を介して，モータ４９の回転軸５３が接続されている。この回転軸５３と同軸上に，ボールネジ軸５２及び後述するアブソリュートエンコーダ５５の回転軸（図示せず）を備えるモータ４９は，前述のウェハガイド３１を昇降させる駆動手段としての役割を果たし，モータ４９の稼働で回転軸５３及びボールネジ軸５２が正逆回転することにより，ウェハガイド３１は昇降移動し，図３中において実線３１で示したように洗浄槽３０内に下降して，洗浄槽３０内に充填された洗浄液中にウェハＷを浸漬させた状態（洗浄位置Ａ）と，図３中において一点鎖線３１’で示したように洗浄槽３０の上方に上昇して，洗浄槽３０の上方にウェハＷを持ち上げた状態（上昇位置Ｂ）とに上下に移動自在である。また，このようにモータ４９の回転軸５３（ボールネジ軸５２）の正逆回転によってウェハガイド３１が昇降移動させられることにより，モータ４９の回転軸５３の回転角度と，ウェハガイド３１の位置（高さ）は比例関係になっている。

先に説明した搬送装置１５に設けられたウェハチャック２０ａ，２０ｂは，搬送駆動手段２１の稼働によってレール２２に沿ってスライド移動する際に，このように洗浄位置Ａに移動（下降）したウェハガイド３１と，上昇位置Ｂに移動（上昇）したウェハガイド３１の間を通過できる位置に配置されている。

モータ４９には，アブソリュートエンコーダ５５が直結して装着されている。換言すると，モータ４９とアブソリュートエンコーダ５５とが別々の単体としてではなく，一体構造として構成されている。このアブソリュートエンコーダ５５は，モータ４９の回転軸５３の回転量，例えば回転位置に基づいてウェハガイド３１の位置を検出する検出手段の構成要素の１つをなし，例えば回転板に形成されたスリット模様により光の透過非透過パターンを形成し，このパターンから例えばモータ４９の回転軸５３の任意の基準点からの回転位置，すなわち回転角度（絶対角度）を検出可能である。前述のように，モータ４９の回転軸５３の回転角度とウェハガイド３１の位置が比例関係になっているので，このようにアブソリュートエンコーダ５５によって検出した駆動軸５３の回転角度から，ウェハガイド３１の位置を検出することが可能である。

なお，代表して洗浄装置１１について説明したが，他の洗浄装置１２，１３も同様の構成を有しており，同様に処理槽としての洗浄槽３０と，ウェハＷの保持手段としてのウェハガイド３１を備えている。また同様に，他の洗浄装置１２，１３においても，アブソリュートエンコーダ５５によってモータ４９の駆動軸５３の絶対角度を検出することにより，ウェハガイド３１の位置を検出することが可能である。

図５は，この実施の形態の洗浄システム１の制御系統を示すブロック図である。この洗浄システム１は，搬送装置１５に設けられた搬送駆動手段２１と，ウェハガイド３１を上下に昇降させるモータ４９を制御する制御手段６０を備えており，制御手段６０には，搬送駆動手段２１に稼働命令を出力する搬送ドライバ６１と，モータ４９に稼働命令を出力する前述したドライバ６２が設けられている。なお，このような制御系統は，モータを用いた全ての駆動手段に適用可能である。

搬送ドライバ６１と搬送駆動手段２１はサーボ系として構成される。搬送ドライバ６１に対して，搬送駆動手段２１に内蔵されたエンコーダ（図示せず）から検出信号が出力される。搬送ドライバ６１は，こうして入力された検出信号により，例えばウェハチャック２０ａ，２０ｂがレール２２に沿ってスライド移動中であるとか，ウェハチャック２０ａ，２０ｂがローダ・アンローダ部６，乾燥装置１０及び各洗浄装置１１〜１３のいずれかにあるといった位置情報を得ることができる。搬送ドライバ６１には，コントローラ６３から例えばシーケンス制御プログラム等の設定が入力される。搬送ドライバ６１は，こうして入力された設定に基づき，搬送駆動手段２１の稼働を制御し，ウェハチャック２０ａ，２０ｂを所定の位置に移動させる。

またコントローラ６３に対して，レール２２に沿って所定の間隔毎に設けられた多数の位置センサ６４から検出信号が出力される。コントローラ６３は，こうして入力された検出信号により，例えば各位置センサ６４から順次検出信号が出力されることにより，ウェハチャック２０ａ，２０ｂがレール２２に沿ってスライド移動中であるとか，各位置センサ６４の何れか一つから検出信号は出力されることにより，ウェハチャック２０ａ，２０ｂがローダ・アンローダ部６，乾燥装置１０及び各洗浄装置１１〜１３のいずれかにあるといった位置情報を得ることができる。例えば洗浄装置１１に対応して設けられた位置センサ６４からＯＮ（あるいはＯＦＦ）信号が出力されることにより，コントローラ６３は，洗浄装置１１内の洗浄槽３０の上方にウェハチャック２０ａ，２０ｂが位置していると認識し，その後，この位置センサ６４からＯＦＦ（あるいはＯＮ）信号が出力されることにより，コントローラ６３は，洗浄装置１１内の洗浄槽３０の上方からウェハチャック２０ａ，２０ｂが退出したと認識する。

通常，ウェハチャック２０ａ，２０ｂを移動させる場合，コントローラ６３から搬送ドライバ６１に指令パルスが出力され，搬送ドライバ６１から搬送駆動手段２１に駆動電流が流れる。一方，搬送駆動手段２１から搬送ドライバ６１にウェハチャック２０ａ，２０ｂの位置はフィードバックされる。さらにコントローラ６３では，各位置センサ６４のセンサ出力からウェハチャック２０ａ，２０ｂの位置情報を得ることにより，ウェハチャック２０ａ，２０ｂが指令どおりに所定の位置に移動したかが確認される。

モータ４９，アブソリュートエンコーダ５５及びドライバ６２は，サーボ系として構成される。また，アブソリュートエンコーダ５５，ドライバ６２及びコントローラ６３は，ウェハガイド３１の位置を検出する検出手段として機能する。ドライバ６２に対して，アブソリュートエンコーダ５５からモータ４９の回転軸５３の回転角度の検出信号が入力される。前述のように，モータ４９の回転軸５３の回転角度とウェハガイド３１の位置が比例関係になっており，ドライバ６２は，アブソリュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づいてウェハガイド３１の位置（高さ）を検出する。ドライバ６２は，この検出により，例えばウェハガイド３１が洗浄位置Ａもしくは上昇位置Ｂにあるとか，ウェハガイド３１がそれら洗浄位置Ａと上昇位置Ｂの間を昇降移動中であるといった位置情報を得ることができ，その位置情報をポジションセンサ出力としてコントローラ６３に出力する。また，コントローラ６３は，例えばシーケンス制御プログラム等の設定をドライバ６２に入力する。ドライバ６２は，こうして入力された設定に基づき，モータ４９の稼働を制御し，ウェハガイド３１を所定の位置（高さ）に移動させる。

また，洗浄位置Ａや上昇位置Ｂ等のウェハガイド３１の各位置（ポジショニング）を決定するためのティーチング作業では，例えばウェハガイド３１を洗浄槽３０内の所定位置に移動させ，その位置をドライバ６２に洗浄位置Ａとして設定する。この設定は，ウェハガイド３１を洗浄槽３０内の所定の位置に移動させたときのアブソリュートエンコーダ５５からの検出信号の出力値を，洗浄位置Ａに対応する位置データとしてドライバ６２に記憶させることにより行われる。また，このアブソリュートエンコーダ５５からの検出信号の出力値を中心にプラス・マイナスの幅を若干もたせてドライバ６２に記憶させることにより，任意の範囲で洗浄位置Ａを設定しても良い。上昇位置Ｂをドライバ６２に設定する場合は，ウェハガイド３１を洗浄槽３０の上方の所定位置に移動させ，そのときのアブソリュートエンコーダ５５からの検出信号の出力値を，上昇位置Ｂに対応する位置データとしてドライバ６２に記憶させることにより行われる。また，ドライバ６２では，例えばウェハガイド３１が洗浄位置Ａにあるときの検出信号の出力値を原点基準値として設定し，例えばウェハガイド３１が上昇位置Ｂにあるときの検出信号の出力値をリミット値として設定する。このように各位置に対応して記憶される検出信号の出力値は，洗浄槽３０内や上方でのウェハガイド３１の所定位置（所定範囲）に対応する位置データとして捉えることもできるし，モータ４９の回転軸５３の回転角度すなわち回転位置に対応する回転データとして捉えることもできる。

通常動作の際，例えばこのように設定された洗浄位置Ａにウェハガイド３１を下降させる場合，コントローラ６３からドライバ６２に指令パルスが出力され，ドライバ６２からモータ４９に駆動電流が流れる。一方，モータ４９の回転軸５３の回転角度の検出信号は，アブソリュートエンコーダ５５からドライバ６２に，絶対値の信号データとして出力される。ドライバ６２は，こうして入力された検出信号によってウェハガイド３１の位置情報を得て，この位置情報をポジションセンサ出力としてコントローラ６３に出力する。コントローラ６３は，こうして入力された位置情報によってウェハガイド３１の位置は指令どおりかどうか確認する。また，上昇位置Ｂにウェハガイド３１が上昇する場合も，同様の動作が実行される。なお，洗浄位置Ａと上昇位置Ｂの間をウェハガイド３１が昇降している間においても，アブソリュートエンコーダ５５の検出信号の出力値から，ウェハガイド３１の現在位置をコントローラ６３に出力することもできる。このようにアブソリュートエンコーダ５５の出力を位置センサの代わりをすることができるので，ウェハガイド３１の通り道に位置センサを配置しなくても，コントローラ６３はセンサ出力を得ることができる。

また，前述したようにアブソリュートエンコーダ５５は，モータ４９の回転軸５３の任意の基準点からの回転位置，すなわち回転角度（絶対角度）を検出可能であるので，従来のサーボ系に用いられるエンコーダでは，一旦電源を切った場合，ウェハガイド３１の現在位置を見失うおそれがあるが，本実施の形態にかかるサーボ系では，そのような心配がなく，常にウェハガイド３１の現在位置が明確に分かる。また，従来のサーボモータ（エンコーダ付き）の軸にベルト等を介してアブソリュートエンコーダ５５をつなげることも考えられるが，そのような場合，ベルトの伸びなどによりモータ４９の回転とアブソリュートエンコーダ５５の回転とに誤差が生じる心配がある。更にベルトを介さずにサーボモータとアブソリュートエンコーダ５５を同軸上で結合したとしても，モータ４９，エンコーダ，アブソリュートエンコーダ５５の３機構分のスペースが必要となり，取り付けスペースが拡大すると共に，サーボ系を構成するためのドライバ６２とアブソリュートエンコーダ５５の信号を受けとるための受信器とが必要となる。従って，モータ４９にアブソリュートエンコーダ５５を直結したサーボモータを用いることにより，取り付けスペースを小さく抑えることができると共に，モータ４９とアブソリュートエンコーダ５５の回転誤差がなくなる等の効果を得ることができる。

コントローラ６３には，メインコントローラ６５から設定値などを入力できるようになっている。また，コントローラ６３には，ウェハガイド３１の位置情報とウェハチャック２０ａ，２０ｂの位置情報の何れもが入力されてウェハガイド３１の位置とウェハチャック２０ａ，２０ｂの位置の両方を認識することができる。

そして制御手段６０では，ウェハガイド３１とウェハチャック２０ａ，２０ｂを衝突させないように，搬送駆動手段２１とモータ４９を制御する。例えばコントローラ６３では，ウェハガイド３１が前述の洗浄位置Ａか，若しくは前述の上昇位置Ｂにあることを確認してから，搬送駆動手段２１を駆動させる信号を搬送ドライバ６１に入力する。これにより，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａか上昇位置Ｂのいずれかにある場合にのみ，ウェハチャック２０ａ，２０ｂを洗浄槽３０の上方に移動させ，また，ウェハチャック２０ａ，２０ｂを洗浄槽３０の上方から移動させることが可能となる。なお，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａと上昇位置Ｂの間を昇降移動中である場合は，インターロックがかかることにより，コントローラ６３は，搬送駆動手段２１の駆動を停止させる信号を搬送ドライバ６１に入力する。これにより，ウェハチャック２０ａ，２０ｂは移動しない状態となる。

またコントローラ６３は，例えば搬送駆動手段２１の駆動が停止していることを確認してから，モータ４９を稼働させる信号をドライバ６２に入力する。これにより，ウェハチャック２０ａ，２０ｂが停止している場合にのみ，モータ４９の回転軸５３が回転し，ウェハガイド３１が昇降移動させることが可能となる。なお，ウェハチャック２０ａ，２０ｂが移動中である場合は，インターロックがかかることにより，コントローラ６３は，モータ４９の稼働を停止させる信号をドライバ６２に入力する。これにより，ウェハガイド３１は昇降移動しない状態となる。

なお，洗浄システム１に備えられた他の洗浄装置１２，１３においても，制御手段６０により同様の制御が行われ，ウェハガイド３１とウェハチャック２０ａ，２０ｂを衝突させないように，搬送駆動手段２１とモータ４９が制御される。

さて，以上のように構成された本発明の実施の形態にかかる洗浄システム１において，先ず図示しない搬送ロボットにより未だ洗浄されていないウェハＷを例えば２５枚ずつ収納したキャリアＣがキャリア搬入出部５に載置される。このキャリア搬入出部５に搬入されたキャリアＣは，移送アーム８によってローダ・アンローダ部６に移送される。そして，ローダ・アンローダ部６においてキャリアＣから取り出されたウェハＷは，搬送装置１５のウェハチャック２０ａ，２０ａによって一括して把持される。そして，搬送装置１５によってウェハＷは，各洗浄装置１１〜１３に適宜搬送され，ウェハＷの表面に付着しているパーティクルなどの汚染物質が洗浄，除去され，最後に乾燥装置１０に搬送されて乾燥処理される。こうして所定の洗浄及び乾燥処理が終了したウェハＷは，ローダ・アンローダ部６に戻されて再びキャリアＣに収納される。こうして，洗浄，乾燥後のウェハＷを収納したキャリアＣは，移送アーム８によってローダ・アンローダ部６からキャリア搬入出部５に移送され，図示しない搬送ロボットによって搬出される。

ここで，搬送装置１５によってウェハＷが各洗浄装置１１〜１３に対して搬入出される際の動作及び制御を，図６〜図１４を用いて詳しく説明する。なお，代表して洗浄装置１１に対するウェハＷ搬入出について詳しく説明する。

先ず，コントローラ６３が搬送ドライバ６１を通じて搬送駆動手段２１の稼働を開始させるように制御することにより，図６に示すように，搬送装置１５におけるウェハチャック２０ａ，２０ｂが洗浄装置１１までスライド移動する。これにより，ウェハチャック２０ａ，２０ｂによって保持しているウェハＷを，洗浄装置１１に搬入する。なお，このように洗浄装置１１にウェハＷを搬入する場合は，ウェハガイド３１は予め下降されており，ウェハガイド３１は洗浄槽３０内底部の洗浄位置Ａに位置している。

この場合，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａに位置していることは，アブソリュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づいてドライバ６２によって検出され，コントローラ６３に認識されている。仮にウェハガイド３１が洗浄位置Ａに位置していない場合は，コントローラ６３は，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａに位置していないことを認識したことによって，インターロックをかけ，コントローラ６３は搬送ドライバ６１に対して搬送駆動手段２１の稼働を停止させる命令を出す。これにより，ウェハチャック２０ａ，２０ｂのスライド移動は停止され，ウェハＷを洗浄装置１１に搬入する際において，ウェハガイド３１とウェハチャック２０ａ，２０ｂの衝突が防がれる。

また，ドライバ６２に入力された検出信号は，ドライバ６２にウェハガイド３１の位置をフィードバックするための信号として使われる他に，洗浄位置Ａに対応してドライバ６２に予め記憶されたデータと比較される。ドライバ６２では，洗浄位置Ａを規定する所定範囲内に，このアブソリュートエンコーダ５５から入力された検出信号の出力値が収まっていれば，例えばＯＮ（あるいはＯＦＦ）信号を，位置情報すなわちポジションセンサ出力としてコントローラ６３に出力する。これによって，ウェハガイド３１の位置を検出するための光学式の位置センサ等を例えば洗浄槽３０内に配置する必要がなく，ウェハガイド３１などの移動体の位置を検出することができる。

そして，ウェハチャック２０ａ，２０ｂによって保持されたウェハＷが洗浄装置１１に搬入され，図７に示すように，洗浄槽３０の上方にウェハＷが搬送されると，搬送装置１５において，搬送駆動手段２１の稼働は一旦停止する。この場合，ウェハチャック２０ａ，２０ｂの位置情報は，洗浄装置１１に対応して設けられた位置センサ６４を通じてコントローラ６３に入力されており，コントローラ６３は，ウェハチャック２０ａ，２０ｂによってウェハＷが洗浄槽３０の上方にまで搬送されたことを認識し，搬送ドライバ６１を通じて搬送駆動手段２１の稼働を停止するように制御する。こうして，洗浄装置１１の洗浄槽３０の上方にウェハＷが搬入された状態となる。

こうして洗浄槽３０の上方にウェハＷが搬入されると，コントローラ６３はドライバ６２を通じてモータ４９を稼働させるように制御する。これにより，ウェハガイド３１はガイドＺ軸５４に沿って上昇する。このとき，図８に示すように，ウェハガイド３１は，洗浄位置Ａから上昇位置Ｂに向かって上昇する途中で，ウェハチャック２０ａ，２０ｂの隙間を通過（上昇）する際にウェハチャック２０ａ，２０ｂからウェハＷを受け取り，上昇位置Ｂまで上昇する。ウェハガイド３１が上昇位置Ｂまで上昇したことは，アブソリュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づいてドライバ６２によって検出され，コントローラ６３に認識される。コントローラ６３は，ウェハガイド３１が上昇位置Ｂまで上昇したことを認識したことにより，ドライバ６２を通じてモータ４９の稼働を停止させる。

この場合も，ドライバ６２に入力された検出信号は，上昇位置Ｂに対応してドライバ６２に予め記憶されたデータと比較される。そして，ドライバ６２では，洗浄位置Ｂを規定する所定範囲内に，このアブソリュートエンコーダ５５から入力された検出信号の出力値が収まっていれば，例えばＯＮ（あるいはＯＦＦ）信号を，位置情報すなわちポジションセンサ出力としてコントローラ６３に出力する。従って，洗浄槽３０の上方にも光学式の位置センサ等を配置する必要がない。

また，モータ４９の回転軸の停止位置（ウェハガイド３１の停止位置）をセンサ出力するだけでなく，モータ４９の回転軸の回転位置もセンサ出力することができる。例えばティーチング作業の際の設定により，例えば洗浄位置Ａから上昇位置Ｂにウェハガイド３１が移動する時のアブソリュートエンコーダ５５からの検出信号の出力値のデータを予めドライバ６２に記憶させることにより，通常動作の際のウェハガイド３１は，どのエリアを移動中なのか（モータ４９の回転軸５３がどの位置を回転中なのか，すなわち回転角度）を位置情報としてコントローラ６３にエリアセンサ出力によって送信することができる。洗浄位置Ａから上昇位置Ｂの間のエリアは１つの設定する必要はなく，洗浄位置Ａ寄りの第１エリア，洗浄位置Ａと上昇位置Ｂの中間の第２エリア，上昇位置Ｂ寄りの第３エリアというように複数のエリアに細分化し，ウェハガイド３１の現在位置をより正確に出力することができる。従って，ウェハガイド３１の通り道にポジションセンサやエリアセンサを設置することなく，ウェハガイドの動作位置を検出することができる。

ウェハガイド３１を上昇（下降）させる間に，電源が落ちた後（電源ＯＦＦ後）に通常動作に再び戻った場合でも，このアブソリュートエンコーダ５５では，イニシャライズして基準点を探し出す必要がなく，電源を落とす前（電源ＯＦＦ前）のモータ４９の回転軸５３の回転角度すなわち回転位置（ウェハガイド３１の位置）を保持することができる。従って，電源を復帰（電源ＯＮ）してからは，素早く現在の位置から次の動作に移ることができる。

次に，コントローラ６３は，搬送ドライバ６１を通じて再び搬送駆動手段２１の稼働を開始させるように制御する。これにより，図９に示すように，ウェハチャック２０ａ，２０ｂをスライド移動させて，洗浄装置１１から退出させる。こうしてウェハチャック２０ａ，２０ｂが洗浄装置１１から退出したことは，先の位置センサ６４から搬送ドライバ６１を通じてコントローラ６３に入力され，コントローラ６３は，ウェハチャック２０ａ，２０ｂが洗浄装置１１から退出したことを認識し，搬送ドライバ６１を通じて搬送駆動手段２１の稼働を停止するように制御する。

こうしてウェハチャック２０ａ，２０ｂが洗浄装置１１から退出したことを認識したコントローラ６３は，ドライバ６２を通じてモータ４９を再び稼働させるように制御し，ウェハガイド３１をガイドＺ軸５４に沿って下降させる。こうして図１０に示すように，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａまで下降させられる。ウェハガイド３１が洗浄位置Ａまで下降したことは，アブソリュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づいてドライバ６２によって検出され，コントローラ６３に認識される。コントローラ６３は，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａまで下降したことを認識したことにより，ドライバ６２を通じてモータ４９の稼働を停止させる。そして，このようにウェハガイド３１が洗浄位置Ａまで下降したことにより，ウェハＷは洗浄槽３０内に収納された状態となり，洗浄槽３０内に充填された洗浄液中にウェハＷは浸漬され，ウェハＷに対する洗浄が施される。

洗浄装置１１における所定の洗浄を終了した後，次に，コントローラ６３はドライバ６２を通じてモータ４９を再び稼働させるように制御し，ウェハガイド３１をガイドＺ軸５４に沿って上昇させる。こうして図１１に示すように，ウェハガイド３１は上昇位置Ｂまで上昇し，洗浄装置１１における洗浄を終了したウェハＷを洗浄槽３０の上方に持ち上げる。ウェハガイド３１が上昇位置Ｂまで上昇したことは，アブソリュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づいてドライバ６２によって検出され，コントローラ６３に認識される。コントローラ６３は，ウェハガイド３１が上昇位置Ｂまで上昇したことを認識したことにより，ドライバ６２を通じてモータ４９の稼働を停止させるように制御する。

次に，コントローラ６３は搬送ドライバ６１を通じて搬送駆動手段２１の稼働を再び開始させるように制御を行う。これにより，図１２に示すように，ウェハチャック２０ａ，２０ｂがスライド移動して洗浄槽３０の上方に再び位置することとなる。コントローラ６３は，ウェハチャック２０ａ，２０ｂが洗浄槽３０の上方まで移動したことを認識し，搬送ドライバ６１を通じて搬送駆動手段２１の稼働を停止するように制御する。

なお，このようにウェハチャック２０ａ，２０ｂを洗浄槽３０の上方に移動させる際には，ウェハガイド３１が上昇位置Ｂに上昇していることが，アブソリュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づいてドライバ６２によって検出され，コントローラ６３に認識されている。仮にウェハガイド３１が上昇位置Ｂに位置していない場合は，コントローラ６３は，ウェハガイド３１が上昇位置Ｂにないことを認識することにより，インターロックをかけ，コントローラ６３は搬送ドライバ６１に対して搬送駆動手段２１の稼働を停止させる命令を出す。これにより，ウェハチャック２０ａ，２０ｂのスライド移動は停止され，ウェハガイド３１とウェハチャック２０ａ，２０ｂの衝突が防がれる。

こうしてウェハチャック２０ａ，２０ｂを洗浄槽３０の上方まで移動させた後，次に，コントローラ６３はドライバ６２を通じてモータ４９を再び稼働させるように制御し，ウェハガイド３１をガイドＺ軸５４に沿って下降させる。こうして図１３に示すように，ウェハガイド３１が上昇位置Ｂから洗浄位置Ａに向かって下降する途中で，ウェハチャック２０ａ，２０ｂの隙間を通過（下降）する際に，ウェハガイド３１からウェハチャック２０ａ，２０ｂにウェハＷが受け渡される。これにより，ウェハガイド３１はウェハＷを保持しない状態となって，洗浄位置Ａまで下降する。ウェハガイド３１が洗浄位置Ａまで下降したことは，アブソリュートエンコーダ５５から入力された回転角度の検出信号に基づいてドライバ６２によって検出され，コントローラ６３に認識される。コントローラ６３は，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａまで下降したことを認識したことにより，ドライバ６２を通じてモータ４９の稼働を停止させるように制御する。

次に，コントローラ６３は，ウェハガイド３１が洗浄位置Ａまで下降したことを認識すると，搬送ドライバ６１を通じて再び搬送駆動手段２１の稼働を開始させるように制御を行う。そして図１４に示すように，ウェハチャック２０ａ，２０ｂをレール２２に沿ってスライド移動させて，洗浄装置１１における洗浄を終了したウェハＷを洗浄装置１１から搬出させる。こうして洗浄装置１１から搬出されたウェハＷは，次に例えば洗浄装置１２及び洗浄装置１３に同様の工程に従って順次搬入され，各洗浄装置１２，１３における洗浄が行われる。こうして各洗浄装置１１〜１３における洗浄を終了したウェハＷは，先に説明したように乾燥装置１０にて乾燥処理された後，ローダ・アンローダ部６にてキャリアＣに収納され，搬入出部５において図示しない搬送ロボットによって搬出される。

この実施の形態にかかる洗浄システム１によれば，アブソリュートエンコーダ５５によりウェハガイド３１の位置を検出するので，従来のようにウェハガイド３１の位置を検出するために光電センサなどを多数設ける必要がなく，装置構成を著しく簡素化でき，また，メンテンナンスも容易である。特にアブソリュートエンコーダ５５は，例えば突然の停電が発生したような場合でも，回転軸５３の絶対角度からウェハガイド３１の位置を記憶し，その後に装置が回復したときは，ウェハガイド３１の位置をドライバ６２によって直ちに検出でき，初期設定などをやり直す必要がない。また，制御手段６０において，ウェハガイド３１とウェハチャック２０ａ，２０ｂを衝突させないように，搬送駆動手段２１とモータ４９をインターロック制御しているので，安全を図ることができる。

以上，本発明の好適な実施の形態の一例を示したが，本発明はここで説明した形態に限定されない。例えば基板を収納するキャリアＣを移送する移送アーム８と搬送装置１５のウェハチャック２０ａ，２０ｂとを衝突させないように，移送アーム８のサーボ系を構成する移送駆動機構（図示せず）及び移送ドライバ（図示せず）において，コントローラ６３により移送ドライバに対してシーケンス制御プログラム等の設定を入力し，移送駆動機構とモータ４９をインターロック制御すると良い。また，例えば処理槽は，洗浄液が充填される洗浄槽に限定されず，その他の種々の処理液などを用いて洗浄以外の他の処理を基板に対して施すものであっても良い。また，基板は半導体ウェハに限らず，その他のＬＣＤ基板用ガラスやＣＤ基板，プリント基板，セラミック基板などであっても良い。

本発明の実施の形態にかかる洗浄システムの斜視図である。 搬送装置の斜視図である。 本発明の実施の形態にかかる洗浄装置の縦断面図である。 ウェハガイドの斜視図である。 本発明の実施の形態にかかる洗浄システムの制御系統を示すブロック図である。 ウェハを洗浄装置に搬入する工程の説明図である。 ウェハが洗浄槽の上方に搬送された工程の説明図である。 ウェハをウェハガイドに受け取った工程の説明図である。 ウェハチャックが洗浄装置から退出した工程の説明図である。 ウェハを洗浄槽内に収納した工程の説明図である。 洗浄を終了したウェハを洗浄槽の上方に持ち上げた工程の説明図である。 ウェハチャックが洗浄槽の上方に再び位置した工程の説明図である。 ウェハチャックにウェハが受け渡された工程の説明図である。 洗浄装置における洗浄を終了したウェハを洗浄装置から搬出させた工程の説明図である。

符号の説明

Ａ 洗浄位置
Ｂ 上昇位置
Ｃ キャリア
Ｗ ウェハ
１ 洗浄システム
１１，１２，１３ 洗浄装置
５ キャリア搬入出部
６ ローダ・アンローダ部
７ 洗浄・乾燥処理部
８ 移送アーム
１０ 乾燥装置
１５ 搬送装置
２０ａ，２０ｂ ウェハチャック
２１ 搬送駆動手段
３１ ウェハガイド
３０ 洗浄槽
４３ａ，４３ｂ，４３ｃ 保持部材
４９ モータ
５０ ボール・ナット機構
５４ ガイドＺ軸
５３ 回転軸
５５ アブソリュートエンコーダ
６０ 制御手段
６１ 搬送ドライバ
６２ ドライバ
６３ コントローラ
６５ メインコントローラ

Claims (3)

1. 基板を処理する処理槽と，基板の移送装置とを備えた基板処理装置であって，
   前記移送装置は，互いに干渉する可能性のある２つの移動体と，該移動体の位置を検出する検出手段を備え，
   少なくとも１つの移動体はモータによって駆動され，
   前記検出手段は，前記モータの回転軸の回転量を検出して検出信号を出力するアブソリュートエンコーダと，該アブソリュートエンコーダから出力された検出信号を受けて位置情報を出力するドライバと，該ドライバから出力された位置情報を受けて前記移動体の位置を判別するコントローラとを備え，前記移動体を所定の位置に移動させたときのアブソリュートエンコーダからの検出信号の出力値を，位置データとしてドライバに記憶させ，前記コントローラは，前記移動体が所定の位置にある場合に，他の移動体を移動させることにより，移動体同士が干渉しないように制御し，
   前記２つの移動体は，基板を保持して，処理槽内に充填された処理液中に基板を浸漬させた状態と，処理槽の上方に上昇して処理槽の上方に基板を持ち上げた状態とに上下に移動する基板保持手段と，基板を保持して，処理槽の上方に搬送した状態と，処理槽の上方から退出した状態とに水平に移動する搬送保持手段であり，
   前記所定の位置は，基板保持手段が処理槽内に充填された処理液中に基板を浸漬させた位置と，処理槽の上方に上昇して処理槽の上方に基板を持ち上げた位置であり，
   前記コントローラの制御する移送工程は，前記基板保持手段が処理槽内に位置する場合に基板を保持した前記搬送保持手段を処理槽直上に移動させ，
   前記基板保持手段の処理槽の上方への上昇により基板が前記基板保持手段に受け渡された後，前記基板保持手段が処理槽の上方に位置しているのを確認した上で前記搬送保持手段を前記基板保持手段の干渉する空間から退出させ，
   前記基板保持手段を処理槽の上方から処理槽内へ移動させ基板の処理を行った後に前記基板保持手段を処理槽の上方へ移動させ，
   前記基板保持手段が処理槽の上方に位置しているのを確認した上で前記搬送保持手段を処理槽直上に移動させ，
   前記基板保持手段の処理槽内への下降により基板が前記搬送保持手段に受け渡された後，前記基板保持手段が処理槽内に位置しているのを確認した上で前記搬送保持手段を前記基板保持手段の干渉する空間から退出させるものであることを特徴とする，基板処理装置。
   
2. 前記コントローラは，前記基板保持手段が，処理槽内に充填された処理液中に基板を浸漬させた位置と，処理槽の上方に上昇して処理槽の上方に基板を持ち上げた位置の間を昇降移動中である場合は，前記搬送保持手段の移動を停止させることを特徴とする，請求項１に記載の基板処理装置。
   
3. 前記コントローラは，前記搬送保持手段が移動中である場合は，前記基板保持手段の移動を停止させることを特徴とする，請求項１または２に記載の基板処理装置。
   

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