KR102075680B1 - 기판처리장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리설비를 보여주는 평면도이다.
도3은 도2의 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도4는 도3의 구분마커가 부착된 하우징 및 스핀헤드를 보여주는 평면도이다.
도5는 도3의 기판처리장치를 이용하여 기판의 척킹 상태를 검출하는 과정을 보여주는 플로우 차트이다.
340: 스핀헤드 346: 척핀
400: 비젼유닛 410: 촬영부재
420: 조명부재 430: 구분마커
Claims (7)
- 일측에 개구가 형성되고, 상기 개구를 개폐하는 도어가 설치되는 챔버와;
상기 챔버 내에 배치되고, 내부에 공정이 수행되는 공간을 제공하는 하우징과;
상기 하우징 내에 배치되는 몸체 및 상기 몸체로부터 위로 돌출되어 기판의 측부를 지지하는 척핀을 가지는 스핀헤드와;
상기 스핀헤드의 상부에서 상기 스핀헤드에 지지된 상기 기판의 위치를 검출하는 비젼유닛과;
상기 비젼유닛으로부터 전송된 상기 기판의 캡쳐 데이터와 기입력된 상기 기판의 기준데이터를 비교하여 상기 기판의 위치의 정상 유무를 감지하는 제어부를 포함하되,
상기 비젼유닛은,
상기 척핀의 표면에 부착되는 제1구분마커와;
상기 척핀에 대한 캡쳐 영상을 획득하는 촬영부재와;
상기 캡쳐 영상으로부터 촬영된 상기 제1구분마커의 노출량을 상기 캡쳐 데이터로 연산하고, 상기 캡쳐 데이터를 상기 제어부에 전송하는 비젼처리부와;
상기 캡쳐 영상을 획득 시 광을 조사하는 조명부재와;
상기 도어에 부착되는 반사방지마커를 포함하되,
상기 도어는 투명 재질로 제공되는 기판처리장치. - 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 비젼유닛은,
상기 하우징의 상면에 부착되는 제2구분마커를 더 포함하는 기판처리장치. - 제1항에 있어서,
상기 제1구분마커는 불투명 재질로 제공되는 기판처리장치. - 삭제
- 삭제
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1020120101613A KR102075680B1 (ko) | 2012-09-13 | 2012-09-13 | 기판처리장치 및 방법 |
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| KR1020120101613A KR102075680B1 (ko) | 2012-09-13 | 2012-09-13 | 기판처리장치 및 방법 |
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|---|---|
| KR20140036399A KR20140036399A (ko) | 2014-03-26 |
| KR102075680B1 true KR102075680B1 (ko) | 2020-02-12 |
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| KR1020120101613A Active KR102075680B1 (ko) | 2012-09-13 | 2012-09-13 | 기판처리장치 및 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102075680B1 (ko) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102000024B1 (ko) * | 2015-03-18 | 2019-07-17 | 세메스 주식회사 | 검사 방법 및 기판 처리 장치 |
| KR102012208B1 (ko) * | 2017-08-21 | 2019-10-22 | 세메스 주식회사 | 기판 검사 방법 및 기판 처리 장치 |
| CN114203575A (zh) * | 2020-09-18 | 2022-03-18 | 中国科学院微电子研究所 | 一种晶圆偏移检测方法、装置和刻蚀系统 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101395251B1 (ko) | 2007-08-13 | 2014-05-15 | 세메스 주식회사 | 공정챔버 및 이를 구비하는 기판 처리 설비 |
| KR101098980B1 (ko) * | 2009-08-14 | 2011-12-28 | 세메스 주식회사 | 기판 연마 장치 및 그의 기판 슬립 감지 방법 |
| KR20120008854A (ko) * | 2010-07-20 | 2012-02-01 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 |
| KR101344930B1 (ko) * | 2010-08-13 | 2013-12-27 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 |
| KR101329319B1 (ko) * | 2010-08-13 | 2013-11-14 | 세메스 주식회사 | 노즐 및 이를 갖는 기판처리장치 |
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2012
- 2012-09-13 KR KR1020120101613A patent/KR102075680B1/ko active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20140036399A (ko) | 2014-03-26 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20120913 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20170822 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20120913 Comment text: Patent Application |
|
| AMND | Amendment | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20190214 Patent event code: PE09021S01D |
|
| AMND | Amendment | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20191029 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20190214 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |
|
| X091 | Application refused [patent] | ||
| AMND | Amendment | ||
| PX0901 | Re-examination |
Patent event code: PX09011S01I Patent event date: 20191029 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PX09012R01I Patent event date: 20190614 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX09012R01I Patent event date: 20170830 Comment text: Amendment to Specification, etc. |
|
| PX0701 | Decision of registration after re-examination |
Patent event date: 20200120 Comment text: Decision to Grant Registration Patent event code: PX07013S01D Patent event date: 20191230 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX07012R01I Patent event date: 20191029 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PX07011S01I Patent event date: 20190614 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX07012R01I Patent event date: 20170830 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX07012R01I |
|
| X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20200204 Patent event code: PR07011E01D |
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| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20200205 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
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| PG1601 | Publication of registration | ||
| PR1001 | Payment of annual fee |
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