JP7297180B1 - 基板状態測定装置、めっき装置、及び基板状態測定方法 - Google Patents
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Abstract
Description
次に、めっきモジュール400の構成を説明する。本実施形態における24台のめっきモジュール400は同一の構成であるので、1台のめっきモジュール400のみを説明する。図3は、本実施形態のめっきモジュール400の構成を概略的に示す縦断面図である。図3に示すように、めっきモジュール400は、めっき液を収容するためのめっき槽410を備える。めっき槽410は、上面が開口した円筒形の内槽412と、内槽412の上縁からオーバーフローしためっき液を溜められるように内槽412の周囲に設けられた外槽414と、を含んで構成される。
めっき装置1000は、めっきモジュール400でのめっき処理に先立って基板Wfの状態を測定するための基板状態測定モジュール130を備えている。基板状態測定モジュール130は、基板状態測定装置の一例に当たる。図5は、一実施形態の基板状態測定モジュール130の構成を概略的に示す縦断面図であり、図6は、基板状態測定モジュール130による状態測定を説明するための模式図である。この基板状態測定モジュール130は、一例として、アライナ120に設けられる。しかしながら、基板状態測定モジュール130は、プリウェットモジュール200、プリソークモジュール300、または、搬送装置700の何れかに設けられてもよい。また、基板状態測定モジュール130は、独立したモジュールとして設けられてもよい。
基板状態測定モジュール130による基板Wfの状態(コンタクト領域CAの状態,シール領域SAの状態,被めっき領域PAの状態(被めっき領域の開口率))測定は、機械学習によって構築される学習モデルを使用して行われてもよい。図10は、本実施形態における基板状態測定モジュール130の概略的な機能ブロック図である。なお、図10に示される機能ブロックは、基板状態測定モジュール130(基板状態測定装置)の一部として制御モジュール800によって実現されてもよい。基板状態測定モジュール130は、状態変数SVを取得する状態変数取得部142と、取得した状態変数SVに基づいて、記憶部150に記憶される学習モデルを学習・生成する学習モデル生成部144と、取得した状態変数SVと学習モデルとに基づいて基板Wfの状態を測定(意思決定)する意思決定部148と、を備える。なお、意思決定部148は、状態変数SVに基づいて、基板Wfの状態として、基板Wf表面の状態を示す画像情報を作成してもよい。
図11は、変形例の基板状態測定モジュールの構成を概略的に示す縦断面図である。変形例の基板状態測定モジュール130Aについて、上記した実施形態の基板状態測定モジュール130と重複する部分については説明を省略する。変形例の基板状態測定モジュール130Aは、複数の白色共焦点式センサ136を備えている。一例として、基板状態測定モジュール130Aは、コンタクト領域CAを検出対象とする第1の白色共焦点式センサ136aと、シール領域SAを検出対象とする第2の白色共焦点式センサ136bと、被めっき領域PAを検出対象とする第3の白色共焦点式センサ136cと、の少なくとも2つを有する。これにより、それぞれの白色共焦点式センサ136によって基板Wfの状態を検出することができる。なお、第1~第3の白色共焦点式センサ136a~136cの少なくとも1つは、上記した実施形態の白色共焦点式センサ136と同様に移動機構138によって基板Wfに板面に沿って移動可能に構成されてもよい。また、特に、被めっき領域PAを検出対象とする白色共焦点式センサ136cは、図11に示すように、基板Wfの半径方向において異なる被めっき領域PAを検出する複数のセンサが設けられてもよい。なお、変形例の基板状態測定モジュール130Aでは、第2および第3の白色共焦点式センサ136b,136cが、コンタクト領域CAでない領域を検出するための白色共焦点式センサの一例に当たる。
[形態1]形態1によれば、基板状態測定装置が提案され、かかる基板状態測定装置は、シード層と前記シード層上に形成されたレジスト層とを有する基板を支持して回転させられるように構成されたステージと、前記ステージに支持された基板の板面を測定するための少なくとも1つの白色共焦点式センサと、を備え、前記基板における給電部材と接触する領域である給電部材接触領域の前記白色共焦点式センサによる検出に基づいて、前記給電部材接触領域の状態を測定する。
形態1によれば、めっき対象としての基板の給電部材接触領域の状態を測定することができる。
形態2によれば、基板のシール部材接触領域の状態を測定することができる。
形態3によれば、基板の被めっき領域の状態を測定することができる。
形態5によれば、被めっき領域の開口率を測定することができる。
形態6によれば、学習モデルを使用して被めっき領域の開口率を好適に測定することができる。
形態7によれば、移動機構によって白色共焦点式センサによる検出位置を変更することができる。
RL…レジスト層
SL…シード層
CA…コンタクト領域
PA…被めっき領域
SA…シール領域
100…ロードポート
110…搬送ロボット
120…アライナ
130,130A…基板状態測定モジュール
132…ステージ
134…回転機構
136…白色共焦点式センサ
138…移動機構
150…記憶部
200…プリウェットモジュール
300…プリソークモジュール
400…めっきモジュール
410…めっき槽
430…アノード
440…基板ホルダ
441…シール部材
800…制御モジュール
1000…めっき装置
Claims (14)
- シード層と前記シード層上に形成されたレジスト層とを有する基板を支持して回転させられるように構成されたステージと、
前記ステージに支持された基板の板面を測定するための少なくとも1つの白色共焦点式センサと、
を備え、
前記基板におけるシール部材と接触する領域であるシール部材接触領域の前記白色共焦点式センサによる検出に基づいて、前記シール部材接触領域の凹凸状態を測定し、前記シール部材接触領域における前記レジスト層までの距離を検出することにより前記シール部材接触領域が正常であるか異常であるかを判定する、基板状態測定装置。 - 前記基板における給電部材と接触する領域である給電部材接触領域の前記白色共焦点式センサによる検出に基づいて、前記給電部材接触領域の状態をさらに測定する、請求項1に記載の基板状態測定装置。
- 前記基板における被めっき領域の前記白色共焦点式センサによる検出に基づいて、前記被めっき領域の状態をさらに測定する、請求項1に記載の基板状態測定装置。
- 前記基板における被めっき領域の前記白色共焦点式センサによる検出は、前記被めっき領域の25%以下の領域で行われる、請求項3に記載の基板状態測定装置。
- 前記被めっき領域の状態として、前記被めっき領域のレジスト層の開口率を測定する、請求項3または4に記載の基板状態測定装置。
- 機械学習によって構築される学習モデルが格納された記憶部を備え、
前記白色共焦点式センサによる検出情報を前記学習モデルに入力して当該学習モデルの
学習を行うと共に、前記学習モデルを使用して前記被めっき領域のレジスト層の開口率を測定する、
請求項5に記載の基板状態測定装置。 - 前記白色共焦点式センサを前記基板の板面に沿って移動させるように構成されるセンサ移動機構を備える、請求項1から3の何れか1項に記載の基板状態測定装置。
- 前記少なくとも1つの白色共焦点式センサは、前記給電部材接触領域を検出するための第1の白色共焦点式センサと、前記基板における前記給電部材接触領域でない領域を検出するための第2の白色共焦点式センサと、を含む請求項2に記載の基板状態測定装置。
- 請求項1から3の何れか1項に記載の基板状態測定装置と、
前記給電部材を有し、前記基板を保持するための基板ホルダと、
めっき液を収容し、前記基板ホルダに保持された基板とアノードとを前記めっき液に浸漬させた状態で前記基板と前記アノードとの間に電圧を印加してめっきを行うためのめっき槽と、
を備えるめっき装置。 - シード層と前記シード層上に形成されたレジスト層とを有する基板をステージに配置するステップと、
前記ステージに配置された基板を回転させながら、前記基板におけるシール部材と接触する領域であるシール部材接触領域を白色共焦点式センサによって検出するステップと、
前記白色共焦点式センサによる検出に基づいて前記シール接触領域の凹凸状態を測定し、前記シール部材接触領域における前記レジスト層までの距離を検出することにより前記シール部材接触領域が正常であるか異常であるかを判定するステップと、
を含む基板状態測定方法。 - 前記ステージに配置された基板を回転させながら、前記基板における給電部材と接触する領域である給電部材接触領域を白色共焦点式センサによって検出するステップと、
前記白色共焦点式センサによる検出に基づいて前記給電部材接触領域の状態を測定するステップと、
をさらに含む請求項10に記載の基板状態測定方法。 - 前記ステージに配置された基板を回転させながら、前記基板における被めっき領域を白色共焦点式センサによって検出するステップと、
前記白色共焦点式センサによる検出に基づいて前記被めっき領域の状態を測定するステップと、
をさらに含む請求項10に記載の基板状態測定方法。 - 前記白色共焦点式センサにより前記レジスト層までの距離である第1距離と前記シード層までの距離である第2距離とを検出し、前記シール部材接触領域における前記第1距離と前記第2距離とに基づいて前記シール部材接触領域が正常であるか異常であるかを判定する、請求項1に記載の基板状態測定装置。
- 前記シール部材接触領域において、前記白色共焦点式センサにより検出される距離を示す信号強度のピークの数が一定であるときには前記シール部材接触領域が正常であると判定し、前記白色共焦点式センサにより検出される距離を示す信号強度のピークの数が変化するときには前記シール部材接触領域が異常であると判定する、請求項1に記載の基板状態測定装置。
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