JP2019189926A - 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置 - Google Patents

検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2019189926A
JP2019189926A JP2018086597A JP2018086597A JP2019189926A JP 2019189926 A JP2019189926 A JP 2019189926A JP 2018086597 A JP2018086597 A JP 2018086597A JP 2018086597 A JP2018086597 A JP 2018086597A JP 2019189926 A JP2019189926 A JP 2019189926A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
substrate
substrate holder
attached
image data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018086597A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6987693B2 (ja
Inventor
正輝 富田
Masaki Tomita
正輝 富田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
Priority to JP2018086597A priority Critical patent/JP6987693B2/ja
Priority to US16/391,717 priority patent/US11008668B2/en
Priority to TW108114288A priority patent/TWI807017B/zh
Priority to KR1020190048457A priority patent/KR20190125210A/ko
Priority to CN201910343590.0A priority patent/CN110408982B/zh
Publication of JP2019189926A publication Critical patent/JP2019189926A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6987693B2 publication Critical patent/JP6987693B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/001Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/004Sealing devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/005Contacting devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/12Semiconductors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust
    • G01N2021/945Liquid or solid deposits of macroscopic size on surfaces, e.g. drops, films, or clustered contaminants

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

【課題】少量の液体であっても検知することができる基板ホルダの検査装置を提供する。【解決手段】基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基板の被処理面と接触するように構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、を有し、前記第1部材が前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査方法が提供される。この検査方法は、基板ホルダ開閉装置の保持部によって前記第2部材を保持して、前記第1部材から前記第2部材を取り外す工程と、前記第1部材と前記第2部材の上方に位置する検知装置によって、前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知工程と、を有する。【選択図】図4

Description

本発明は、検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置に関する。
従来、めっき液を収納しためっき槽に、基板ホルダに保持された基板を鉛直方向に差し込んで電解めっきを行う装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。また、基板ホルダに保持された基板を水平方向にして電解めっきを行う装置も知られている(例えば、特許文献2参照)。このようなめっき装置で使用される基板ホルダは、基板の表面をシールして、めっき液が入り込まない空間を形成する。基板ホルダは、この空間内において、基板の表面と接触して基板に電流を流すための電気接点を有する。
このような基板ホルダは、めっき処理には非常に重要な役割を果たしている。具体的には、基板ホルダの電気接点が適切に基板の表面に接触することにより、適切な電流が基板に流れ、均一なめっき膜を基板に形成することができる。また、基板ホルダが基板の表面を適切にシールすることにより、上記空間にめっき液が入り込むことを防止している。これにより、電気接点がめっき液と接触して、電気接点が腐食すること及び基板に流れる電流が局所的に変化すること等を抑制している。言い換えれば、例えば、電気接点に破損や腐食が生じた場合、適切に基板に電流を流すことができない。また、上記空間にめっき液が入り込むと、めっき液が存在する部分とそれ以外の部分とで基板に流れる電流が異なり、基板に形成されるめっき膜の均一性が低下する。例えば、基板ホルダのシール部に異常が生じた場合に、めっき液が上記空間に入り込んでしまう。このため、基板ホルダに異常が生じているか否かを検査することは、適切なめっき処理を継続するために重要な作業である。
特開2013−83242号公報 米国特許公開第2014/0318977号公報
基板ホルダの上記空間にめっき液や洗浄液等の液体が入り込んだか否かは、めっき後の基板ホルダから基板を取り外すときに確認されていた。具体的には、基板ホルダを開閉する装置において基板ホルダを開いたときに液体が上記空間から流出し、この液体をドレンパンで捕集し、ドレンパンの下流に設けられた液体センサでその液体を検知する。
しかしながら、このような構成で液体を検知する場合、少量の液体は検知され難いという問題がある。具体的には、液体が少量である場合、液体がドレンパンを下流側に向かって流れても、液体センサまで到達しないことがあり得る。この場合、液体が上記空間に浸入しているにも関わらず、基板ホルダに異常が生じていることが検知できないことになる。
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、少量の液体であっても検知することができる基板ホルダの検査装置を提供することである。
本発明の一形態によれば、基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基
板の被処理面と接触するように構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、を有し、前記第1部材が前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査方法が提供される。この検査方法は、基板ホルダ開閉装置の保持部によって前記第2部材を保持して、前記第1部材から前記第2部材を取り外す工程と、前記第1部材と前記第2部材の上方に位置する検知装置によって、前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知工程と、を有する。
本発明の他の一形態によれば、基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基板の被処理面と接触するように構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域と、を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査装置が提供される。この検査装置は、前記第2部材を保持する保持部を備え、前記第1部材と前記第2部材とを互いに接触又は離間させるように構成される基板ホルダ開閉装置と、前記第1部材と前記第2部材の上方に位置し、前記第1部材と前記第2部材とが互いに離間したときに前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知装置と、を有する。
本発明の他の一形態によれば、上記検査装置と、前記基板ホルダに保持された基板にめっきするめっき槽と、を有する、めっき装置が提供される。
本実施形態に係るめっき装置の全体配置図である。 基板ホルダの分解斜視図である。 基板ホルダの拡大部分断面図である。 フィキシングユニットの概略側面図である。 フィキシングユニットの部分拡大斜視図である。 フィキシングユニットにおける基板ホルダの検査方法を示すフロー図である。 液体が付着していないときの領域の画像データの一例を示す図である。 画像センサが取得した領域の画像データの一例を示す図である。 カップ式のめっき装置で用いられる基板ホルダの概略図である。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する図面において、同一の又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。図1は、本実施形態に係るめっき装置の全体配置図である。図1に示すように、このめっき装置は、基板ホルダ60に基板をロードし、又は基板ホルダ60から基板をアンロードするロード/アンロード部170Aと、基板を処理する処理部170Bとに大きく分けられる。
ロード/アンロード部170Aには、3台のフープ(Front−Opening Unified Pod:FOUP)102と、アライナ30と、スピンリンスドライヤ20と、が設けられる。フープ102は、半導体ウェハ等の複数の基板を多段に収納する。アライナ30は、基板のオリフラ(オリエンテーションフラット)やノッチなどの位置を所定の方向に合わせる。スピンリンスドライヤ20は、めっき処理後の基板を高速回転させて乾燥させる。スピンリンスドライヤ20の近くには、基板ホルダ60を載置して基板の着脱を行うフィキシングユニット40(基板ホルダ開閉装置の一例に相当する)が設けられている。これらのユニット102,30,20,40の中央には、これらのユニット
間で基板を搬送する搬送用ロボットからなる基板搬送装置122が配置されている。
フィキシングユニット40は、2個の基板ホルダ60を載置可能に構成される。フィキシングユニット40においては、一方の基板ホルダ60と基板搬送装置122との間で基板の受渡しが行われた後、他方の基板ホルダ60と基板搬送装置122との間で基板の受渡しが行われる。本実施形態において、フィキシングユニット40は、後述するように基板ホルダ60を検査する検査装置の機能を有する。
めっき装置の処理部170Bは、ストッカ124と、プリウェット槽126と、プリソーク槽128と、第1洗浄槽130aと、ブロー槽132と、第2洗浄槽130bと、めっき槽10と、を有する。ストッカ124では、基板ホルダ60の保管及び一時仮置きが行われる。プリウェット槽126では、基板が純水に浸漬される。プリソーク槽128では、基板の表面に形成したシード層等の導電層の表面にある酸化膜がエッチング除去される。第1洗浄槽130aでは、プリソーク後の基板が基板ホルダ60と共に洗浄液(純水等)で洗浄される。ブロー槽132では、洗浄後の基板の液切りが行われる。第2洗浄槽130bでは、めっき後の基板が基板ホルダ60と共に洗浄液で洗浄される。ストッカ124、プリウェット槽126、プリソーク槽128、第1洗浄槽130a、ブロー槽132、第2洗浄槽130b、及びめっき槽10は、この順に配置されている。
めっき槽10は、例えば、オーバーフロー槽を備えた複数のめっきセル134を有する。各めっきセル134は、基板を保持した基板ホルダ60を、鉛直方向を向いた姿勢で収納し、めっき液中に基板を浸漬させる。めっきセル134において基板とアノードとの間に電圧を印加することにより、基板表面に銅めっき等のめっきが行われる。

めっき装置は、これらの各機器の側方に位置して、これらの各機器の間で基板ホルダ60を基板とともに搬送する、例えばリニアモータ方式を採用した基板ホルダ搬送装置140を有する。この基板ホルダ搬送装置140は、第1トランスポータ142と、第2トランスポータ144を有している。第1トランスポータ142は、フィキシングユニット40、ストッカ124、プリウェット槽126、プリソーク槽128、第1洗浄槽130a、及びブロー槽132との間で基板を搬送するように構成される。第2トランスポータ144は、第1洗浄槽130a、第2洗浄槽130b、ブロー槽132、及びめっき槽10との間で基板を搬送するように構成される。具体的には、第1トランスポータ142及び第2トランスポータ144は、保持された基板の面内方向が鉛直方向を向いた状態で、基板ホルダ60を搬送する。言い換えれば、第1トランスポータ142及び第2トランスポータ144は、基板を保持した基板ホルダ60を、鉛直方向を向いた状態で搬送する。
他の実施形態では、めっき装置は、第1トランスポータ142及び第2トランスポータ144のいずれか一方のみを備えるようにし、いずれかのトランスポータが、フィキシングユニット40、ストッカ124、プリウェット槽126、プリソーク槽128、第1洗浄槽130a、第2洗浄槽130b、ブロー槽132、及びめっき槽10の間で基板を搬送するようにしてもよい。
次に、図1に示した基板ホルダ60及びフィキシングユニット40について詳細に説明する。図2は、基板ホルダ60の分解斜視図である。図2に示すように基板ホルダ60は、例えば塩化ビニル製で矩形平板状の第1保持部材61(第1部材の一例に相当する)と、この第1保持部材61に対して着脱自在に構成される第2保持部材62(第2部材の一例に相当する)とを有している。基板ホルダ60の第1保持部材61の略中央部には、基板Wfを載置するための載置面63が設けられている。また、第1保持部材61の載置面63の外側には、載置面63の周囲に沿って、内方に突出する突出部を有する逆L字状のクランパ64が等間隔に複数設けられている。
基板ホルダ60の第1保持部材61の端部には、基板ホルダ60を搬送したり吊下げ支持したりする際の支持部となる一対の略T字状のハンド65が連結されている。図1に示したストッカ124内において、ストッカ124の周壁上面にハンド65を引っ掛けることで、基板ホルダ60が垂直に吊下げ支持される。また、この吊下げ支持された基板ホルダ60のハンド65を基板ホルダ搬送装置140で把持して基板ホルダ60が搬送される。
また、ハンド65の一つには、外部電源と電気的に接続される外部接点部68が設けられている。この外部接点部68は、複数の配線を介して載置面63の外周に設けられた複数の中継接点部(図3参照)と電気的に接続されている。
第2保持部材62は、リング状のシールホルダ66を備えている。第2保持部材62のシールホルダ66には、シールホルダ66を第1保持部材61に押し付けて固定するための押えリング67が回転自在に装着されている。第2保持部材62が第1保持部材61に取り付けられることで、基板Wfが第1保持部材61と第2保持部材62とにより挟み込まれて保持される。押えリング67は、その外周部において外方に突出する複数の突条部67aを有している。突条部67aの上面とクランパ64の内方突出部の下面は、回転方向に沿って互いに逆方向に傾斜するテーパ面を有する。
基板を保持するときは、まず、第2保持部材62を第1保持部材61から取り外した状態で、第1保持部材61の載置面63に基板Wfを載置し、第2保持部材62を取り付ける。続いて、押えリング67を時計回りに回転させて、押えリング67の突条部67aをクランパ64の内方突出部の内部(下側)に滑り込ませる。これにより、押えリング67とクランパ64にそれぞれ設けられたテーパ面を介して、第1保持部材61と第2保持部材62とが互いに締付けられてロックされ、基板Wfが保持される。基板Wfの保持を解除するときは、第1保持部材61と第2保持部材62とがロックされた状態において、押えリング67を反時計回りに回転させる。これにより、押えリング67の突条部67aが逆L字状のクランパ64から外されて、基板Wfの保持が解除される。
図3は、基板ホルダ60の拡大部分断面図である。図3に示すように、第2保持部材62は、基板側シール部材69(シール部材の一例に相当する)と、基板側シール部材69をシールホルダ66に固定する第1固定リング70aとを有する。第1固定リング70aは、シールホルダ66にねじ等の締結具71aを介して取付けられる。また、第2保持部材62は、ホルダ側シール部材72と、ホルダ側シール部材72をシールホルダ66に固定する第2固定リング70bとを有する。第2固定リング70bは、ねじ等の締結具71bを介してシールホルダ66に取付けられる。
シールホルダ66の外周部には段部が設けられており、この段部には押えリング67がスペーサ73を介して回転自在に装着されている。押えリング67は、第1固定リング70aの外周部によって脱出不能に装着されている。
図3に示すように、第2保持部材62は、基板Wfの被処理面の周縁部と接触して、基板Wfに電流を流すための電気接点74を有する。電気接点74は、シールホルダ66の内周に沿って複数設けられる。また、第1保持部材61は、第2保持部材62を第1保持部材61に取り付けた状態において電気接点74と接触して、外部電源からの電流を電気接点74に供給する中継接点部79を有する。中継接点部79は、載置面63の周囲に沿って複数設けられる。中継接点部79は、外部接点部68と導通しており、これにより、外部電源から供給された電流が、外部接点部68、中継接点部79、及び電気接点74を介して、基板Wfの表面に供給される。
第2保持部材62を第1保持部材61にロックすると、基板側シール部材69は基板Wfの表面外周部に圧接される。基板側シール部材69は均一に基板Wfに押圧され、これによって基板Wfの表面外周部と第2保持部材62との隙間をシールし、めっき液又は洗浄液が電気接点74に接触することを防止する。同様に、第2保持部材62を第1保持部材61にロックすると、ホルダ側シール部材72は第1保持部材61の表面に圧接される。ホルダ側シール部材72は均一に第1保持部材61に押圧され、これによって第1保持部材61と第2保持部材62との隙間をシールし、めっき液又は洗浄液が電気接点74に接触することを防止する。
図3に示すように、基板側シール部材69とホルダ側シール部材72によって、第1保持部材61と第2保持部材62との間にめっき液又は洗浄液が浸入することが防止された空間(以下、本明細書において浸入防止空間という)が形成される。また、基板側シール部材69とホルダ側シール部材72によって、第1保持部材61には、めっき液又は洗浄液が浸入することが防止された表面領域が形成される。このめっき液又は洗浄液が浸入することが防止された表面領域とは、浸入防止空間を画定する第1保持部材61の任意の表面領域、例えば図3に示す表面75をいう。表面75は、載置面63の周囲に位置する。言い換えれば、当該表面領域は、基板ホルダ60に保持された基板Wfの周囲に沿って配置される。また、基板Wfの載置面63は、略円板状の台座63aの上面に位置している。表面75は、載置面63よりも低い位置に設けられる。なお、本実施形態では、基板ホルダ60は鉛直方向を向いた状態でめっき槽10に収納され、第2保持部材62全体がめっき液又は洗浄液に浸漬されるので、浸入防止空間を画定するために基板側シール部材69とホルダ側シール部材72とが必要になる。しかしながら、後述するように、水平状態の基板にめっきをするいわゆるカップ式のめっき装置で用いられる基板ホルダ60(図8参照)のように、第2保持部材62の一部だけがめっき液又は洗浄液に浸漬される場合は、基板側シール部材69のみで浸入防止空間を画定することができる。
次に、図2に示したフィキシングユニット40の構成について説明する。図4は、フィキシングユニット40の概略側面図である。図5は、フィキシングユニット40の部分拡大斜視図である。フィキシングユニット40は、基板ホルダ60を開閉するための装置である。言い換えれば、フィキシングユニット40は、第1保持部材61と第2保持部材62とを、互いに接触又は離間させるように構成される。フィキシングユニット40は、第1保持部材61を載置する台座41と、フレーム42と、第2保持部材62を保持して第1保持部材61から着脱する保持プレート43と、保持プレート43を鉛直方向に移動させるアクチュエータ44と、を有する。アクチュエータ44は、フレーム42に固定され、保持プレート43を鉛直方向に移動させるだけでなく、周方向に回転させる。
図1に示した基板ホルダ搬送装置140によりフィキシングユニット40に搬送された基板ホルダ60は、保持された基板の面内方向が水平方向を向くように、台座41に水平に載置される。アクチュエータ44は、保持プレート43を下降させ、保持プレート43は第2保持部材62を保持する。アクチュエータ44は、第2保持部材62を保持した保持プレート43を周方向に回転させて、第2保持部材62と第1保持部材61とのロックを解除する。その後、アクチュエータ44は、図4及び図5に示すように、第2保持部材62を取り外した状態で保持プレート43を維持する。
図3に示した基板ホルダ60の基板側シール部材69又はホルダ側シール部材72が破損していたり、これらに汚れが付着していたりする場合、又は基板ホルダ60自体に歪みが生じている場合がある。このように、基板ホルダ60に異常が生じていた場合、図2及び図2に関連して説明した浸入防止空間にめっき液又は洗浄液等の液体が浸入する虞がある。したがって、浸入防止空間に液体が浸入している場合は、図4及び図5に示すように
第1保持部材61から第2保持部材62を取り外したとき、第1保持部材61の、液体の浸入が防止された表面領域、例えば図3に示した表面75に液体が付着している。
本実施形態では、第1保持部材61の上記表面領域に液体が付着しているか否かを検知するための検知装置を備えている。具体的には、本実施形態では、この検知装置は、第1保持部材61の上記表面領域のうちの所定の領域の画像データを取得するように構成された画像センサ80を有する。画像センサ80は、例えば、図4及び図5に示すように、保持プレート43に取り付けられ、保持プレート43の下方に位置する第1保持部材61を撮影するように構成される。これに限らず、画像センサ80は、第1保持部材61の上記表面領域を撮影することができる任意の位置に設けることができる。画像センサ80は、図4及び図5に示すように、第1保持部材61と第2保持部材62の上方に位置することが望ましい。この場合、画像センサ80は、第1保持部材61だけでなく、第2保持部材62も撮影することができる。これにより、第2保持部材62の任意の場所に液体が付着しているか否かも検知することができる。
また、本実施形態では、基板ホルダ60は、図1に示した基板ホルダ搬送装置140により、鉛直方向を向いた状態でフィキシングユニット40に搬送される。このため、浸入防止空間に浸入した液体は、基板ホルダ60が搬送されている間に重力により鉛直方向最下部に向かって移動し、浸入防止空間の最下部に溜まる。そこで、本実施形態では、画像センサ80は、第1保持部材61の上記表面領域のうち、基板ホルダ60が鉛直方向を向いた状態において鉛直方向最下部を含む領域R1(図5参照)の画像データを取得するように構成される。これにより、任意の場所から液体が浸入防止空間に浸入しても、単一の画像センサ80で浸入防止空間の最下部の画像データのみを取得することで、液体の浸入を検知することができる。なお、これに限らず、基板ホルダ60が水平方向を向いた状態でフィキシングユニット40に搬送される場合等では、画像センサ80は上記表面領域の任意の領域を撮影するように構成されていてもよい。複数の画像センサ80で複数の領域を撮影してもよいし、単一の画像センサ80を移動させながら複数の領域を撮影してもよい。
図4に示すように、フィキシングユニット40は、画像センサ80と通信可能に接続された制御装置82を備えている。制御装置82は、例えば、所定のプログラム等を格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体と、記録媒体のプログラムを実行するCPU(Central Processing Unit)等を有し、画像センサ80の動作を制御可能に構成される。制御装置82は、液体が付着していないときの領域R1の画像データを予め記録媒体に記録している。
次に、フィキシングユニット40における基板ホルダ60の検査方法について説明する。図6は、フィキシングユニット40における基板ホルダ60の検査方法を示すフロー図である。まず、フィキシングユニット40の保持プレート43が第2保持部材62を第1保持部材61から取り外した直後、制御装置82が開始トリガーを受けることにより(ステップS601)、画像センサ80のビジー出力をオンする(ステップS602)。なお、ここでの開始トリガーは、例えば、基板搬送装置122の移動又はフィキシングユニット40の保持プレート43の駆動等、めっき装置を構成する任意の部分の駆動であり得る。
続いて、画像センサ80は、制御装置82からの指示により、第1保持部材61の領域R1の画像データを取得する(ステップS603)。取得された領域R1の画像データは制御装置82に送信される。上述したように、制御装置82は、液体が付着していないときの領域R1の画像データを予め記録媒体に記録している。そこで、制御装置82は、液体が付着していないときの領域R1と、画像センサ80が取得した領域R1の画像データ
を比較する。より具体的には、制御装置82は、液体が付着していないときの領域R1の色(例えば、グレースケール画像における数値)と、画像センサ80が取得した領域R1の画像データの色(例えば、グレースケール画像における数値)とを比較するように構成される。
図7Aは、液体が付着していないときの領域R1の画像データの一例を示す図である。図7Bは、画像センサ80が取得した領域R1の画像データの一例を示す図である。図7Aに示すように、液体が付着していないときの領域R1は、第1保持部材61の色が一様に表示され得る。一方で、図7Bに示すように、画像センサ80が取得した領域R1には、めっき液又は洗浄液の液滴d1が表示されている。このため、図7Bに示す領域R1は、液滴d1が存在する部分の色が、液滴d1自身の色又は液滴d1を通過する光の屈折により、第1保持部材61の他の部分の色と異なる。制御装置82は、図7Aに示す画像データと、図7Bに示す画像データとを比較して、図7Bの領域R1の、図7Aの領域R1の色と異なる色の面積を算出する。即ち、制御装置82は、液滴d1が存在することが推定される面積を算出する。続いて、制御装置82は、算出した面積が所定値以上であるか否かを判定する(ステップS604)。なお、ここでの所定値は、制御装置82の記録装置に予め設定されており、所定値が小さいほど少量の液体を検知することができる。
算出した面積が所定値以上であると判定された場合(ステップS604,Yes)、制御装置82は、第1保持部材61の領域R1に液滴が付着していると判定し、めっき装置に停止信号を送信することができる(ステップS605)。若しくは、制御装置82は、停止信号を送信することに代えて、又はこれと共に、図示しない報知装置により、音、光、又は振動等の警報を発生させてもよい(ステップS605)。これにより、基板ホルダ60に異常が生じたことをめっき装置の管理者に報知することができる。また、これらに代えて、又はこれらと共に、検査対象とされた基板ホルダ60を自動的にストッカ124に収納し、以後の新たな基板のめっき処理に使用しない(異常が生じた基板ホルダ60の使用を停止する)ように、基板ホルダ搬送装置140を制御してもよい。
一方で、算出した面積が所定値未満であると判定された場合(ステップS604,No)、制御装置82は、領域R1の画像データを所定回数取得したか否かを判定する(ステップS606)。本実施形態では一例として、制御装置82は、領域R1の画像データを5回取得したか否かを判定する。
制御装置82が領域R1の画像データを5回取得していないと判定したときは(ステップS606,No)、ステップS603に戻り、画像センサ80は再び領域R1の画像データを取得する(ステップS603)。制御装置82が領域R1の画像データを5回取得したと判定したときは(ステップS606)、めっき装置の運転が継続される。つまり、この場合は、所定の回数取得した領域R1の画像データの全てにおいて、算出された面積が所定値未満であったということになり、基板ホルダ60に異常が生じていないものと判断される。ステップS606における画像データの取得回数は、1又は複数の数値を予め制御装置82に設定することができる。この設定回数が複数である場合、設定回数が1である場合に比べて液滴d1の誤検知の可能性を低減することができる。
なお、例えば4回目に取得された領域R1の画像データについて、算出した面積が所定値以上であると判定された場合(ステップS604,Yes)、ステップS605に進むことになる。即ち、画像データの取得回数として設定された回数が5であったとしても、5回目の画像データの取得は行われず、4回目の画像データの取得が最後となる。したがって、制御装置82は、画像データの取得回数として複数が設定されていた場合、複数の画像データの少なくとも1つにおいて領域R1に液体が付着していることを検知したときに、ステップS605に進む。
ステップS604に関連して、液滴d1が存在することが推定される面積を算出する際、液滴d1の形状によっては、光の反射によって画像センサ80が液滴d1を正確に撮影できないことがある。このため、領域R1の画像データを所定回数だけ取得していないと判定されたとき(ステップS606,No)、ステップS603において画像データを取得する前に、図示しない送風手段により第1保持部材61の領域R1に向けて気体を吹き付けてもよい。若しくは、図示しない加振手段により第1保持部材61に振動を与えてもよい。これにより、領域R1に液滴d1が存在する場合、液滴d1の形状を変化させることができ、2回目以降の画像データの取得時に液滴d1を正確に撮影できる可能性を向上させることができる。
図6に示した図では、ステップS604において、液滴d1が存在することが推定される面積が算出される。しかしながら、これに限らず、制御装置82は、図7Aに示す画像データと、図7Bに示す画像データとを比較して、図7Bの領域R1の図7Aの領域R1の色と同一の色の面積を算出してもよい。言い換えれば、制御装置82は、図7Aに示す画像データと、図7Bに示す画像データとの一致率を算出してもよい。これにより、制御装置82は、液滴d1が存在しない面積を算出することになる。この場合、制御装置82は、算出した面積(即ち、液滴d1が存在しないと推定される面積)が所定値以下であるか否かを判定することができる(ステップS604)。この例では、所定値が大きいほど少量の液体を検知することができる。
以上で説明したように、本実施形態に係るフィキシングユニット40は、基板側シール部材69により液体の浸入が防止された領域R1に液体が付着したことを検知することができる。画像センサ80が液体ではなく基板側シール部材69を撮影して基板側シール部材69の破損や汚れを検知することも考えられるが、基板側シール部材69が僅かに破損していたとしても液体が浸入防止空間に浸入するとは限らない。また、基板側シール部材69を撮影して、基板側シール部材69に破損又は汚れが見つからなくても、微量の液体が浸入防止空間に浸入することもあり得る。これに対して、本実施形態では、液体が領域R1に付着していることを直接検知することができるので、少量の液体であっても高確率で検知することができる。
また、本実施形態によれば、画像センサ80によって取得された領域R1の画像データと、液体が付着していないときの領域R1の画像データを比較することで、液体の付着を検知している。即ち、本実施形態によれば、画像センサ80が第1保持部材61に付着した液体を直接撮影して、撮影した画像データに基づいて液体の有無を検知するので、少量の液体であっても高確率で検知することができる。
本実施形態によれば、画像センサ80によって取得された領域R1の画像データの色と、液体が付着していないときの領域R1の色とを比較して、異なる色の面積が所定値以上であるとき、又は同一の色の面積が所定値以下であるときに液体が付着していると判定する。この所定値として所望の数値を設定することにより、浸入防止空間への液体の浸入の許容量を任意に設定することができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、上述した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲及び明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、又は省略が可能である。
本実施形態では、鉛直方向を向いた状態でめっき槽10に収納される基板ホルダ60を検査するものとして説明したが、これに限らず、図8に示すようないわゆるカップ式のめっき装置で用いられる基板ホルダ60を検査してもよい。図8に示す基板ホルダ60は、第1保持部材61と第2保持部材62とを有し、第1保持部材61と第2保持部材62は互いに接触及び離間可能であり、第1保持部材61と第2保持部材62の間で基板を挟持するように構成される。第2保持部材62は、基板Wfの表面をシールする基板側シール部材69を有する。これにより、図8に示すように、めっき液又は洗浄液が浸入することが防止された表面領域76が第2保持部材62に形成される。この基板ホルダ60で基板Wfにめっきするときは、図示のように第1保持部材61を上方、第2保持部材62を下方に位置させて、基板Wfと第2保持部材62のみがめっき液又は洗浄液と接触するように、アノード90に対向して配置される。この基板ホルダ60の液体の浸入を検知するときは、第1保持部材61と第2保持部材62が互いに離間した状態で第2保持部材62の表面領域76を画像センサ80で撮影することができる。画像センサ80は任意の構成により第2保持部材62の表面領域76を撮影するように設置することができるが、第1保持部材61に一体的に設けてもよく、第1保持部材61と第2保持部材62を離間させるために第1保持部材61を保持する保持部(図示せず)に取り付けてもよい。
また、本実施形態では、浸入防止空間に浸入した液体を検知するための画像センサ80を用いているがこれに限られない。例えば、画像センサ80に代えて、光電センサを用いることができる。光電センサを採用する場合、光電センサは画像センサ80と同様の位置、即ち保持プレート43等に配置することができる。光電センサは、第1保持部材61が第2保持部材62から取り外されたときに、領域R1に光を照射して液体の有無を検知することができる。
以上、フィキシングユニット40に備えられた制御装置82によって、第1保持部材61の領域R1に液滴が付着していることを判定する構成について説明した。しかしながら、これに限らず、めっき装置全体を制御する制御装置が当該判定を行ってもよい。また、めっき装置と有線又は無線で接続された図示しないコンピュータが、画像センサ80からの信号を受信して、これに基づいて当該判定を行ってもよい。複数のめっき装置とコンピュータとを接続して、当該判定を1台のコンピュータで行ってもよい。また、インターネットを経由して工場内外に設置されたコンピュータで処理を行ってもよい。また、液滴が付着していない多数の画像と付着している多数の画像を人工知能に学習させて、人工知能により当該判定を行ってもよい。
以下に本明細書が開示する形態のいくつかを記載する。
第1形態によれば、基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基板の被処理面と接触するように構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、を有し、前記第1部材が前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査方法が提供される。この検査方法は、基板ホルダ開閉装置の保持部によって前記第2部材を保持して、前記第1部材と前記第2部材とを互いに離間させる工程と、前記第1部材と前記第2部材の上方に位置する検知装置によって、前記第1部材と前記第2部材とが互いに離間したときに前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知工程と、を有する。
第2形態によれば、第1形態の検査方法において、前記検知工程は、前記第1部材の前記表面領域のうちの所定の領域の画像データを取得する工程と、液体が付着していないときの前記所定の領域と前記画像データとを比較する比較工程と、を含む。
第3形態によれば、第2形態の検査方法において、前記比較工程は、液体が付着してい
ないときの前記所定の領域の色と、前記所定の領域の前記画像データの色とを比較する工程を含む。
第4形態によれば、第3形態の検査方法において、前記比較工程は、前記所定の領域の前記画像データの、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と異なる色の面積又は液体が付着していないときの前記所定の領域の色と同一の色の面積を算出する工程と、前記異なる色の面積が所定値以上であるか否か、又は前記同一の色の面積が所定値以下であるか否かを判定する工程と、を有する。
第5形態によれば、第2形態から第4形態の検査方法において、前記検知工程は、前記所定の領域の前記画像データを複数回取得する工程を含み、前記検査方法は、さらに、複数の前記画像データの少なくとも1つにおいて前記表面領域に液体が付着していることを検知したとき、警報を発するか、めっき装置を停止するか、又は前記基板ホルダの使用を停止するようにめっき装置を制御する工程を有する。
第6形態によれば、第1形態から第5形態の検査方法において、前記基板ホルダは、鉛直方向を向いた状態で前記基板ホルダ開閉装置に搬送され、前記表面領域は、前記基板ホルダに保持された前記基板の周囲に沿って配置され、前記検知工程は、前記第1部材の前記表面領域のうち、前記基板ホルダが鉛直方向を向いた状態において鉛直方向最下部を含む領域に液体が付着しているか否かを検知する。
第7形態によれば、第1形態から第6形態の検査方法において、前記第1部材から前記第2部材を取り外す工程は、前記基板ホルダが水平方向を向いた状態で、前記第1部材から前記第2部材を取り外す工程を含む。
第8形態によれば、基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基板の被処理面と接触するように構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域と、を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査装置が提供される。この検査装置は、前記第2部材を保持する保持部を備え、前記第1部材と前記第2部材とを互いに接触又は離間させるように構成される基板ホルダ開閉装置と、前記第1部材と前記第2部材の上方に位置し、前記第1部材と前記第2部材とが互いに離間したときに前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知装置と、を有する。
第9形態によれば、第8形態の検査装置において、前記検知装置は、画像センサと制御装置とを含み、前記画像センサは、前記第1部材の前記表面領域のうちの所定の領域の画像データを取得し、前記制御装置は、液体が付着していないときの前記所定の領域と前記画像データとを比較するように構成される。
第10形態によれば、第9形態の検査装置において、前記制御装置は、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と、前記所定の領域の前記画像データの色とを比較するように構成される。
第11形態によれば、第10形態の検査装置において、前記制御装置は、前記所定の領域の前記画像データの、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と異なる色の面積又は液体が付着していないときの前記所定の領域の色と同一の色の面積を算出し、前記異なる色の面積が所定値以上であるとき又は前記同一の色の面積が所定値以下のときに、前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していると判定する。
第12形態によれば、第9形態から第11形態のいずれかの検査装置において、前記画像センサは、前記所定の領域の前記画像データを複数回取得するように構成され、前記制御装置は、複数の前記画像データの少なくとも1つにおいて前記表面領域に液体が付着していることを検知したとき、警報を発するか、めっき装置を停止するか、又は前記基板ホルダの使用を停止するようにめっき装置を制御するように構成される。
第13形態によれば、第8形態から第12形態のいずれかの検査装置において、前記基板ホルダは、鉛直方向を向いた状態で前記基板ホルダ開閉装置に搬送され、前記表面領域は、前記基板ホルダに保持された前記基板の周囲に沿って配置され、前記検知装置は、前記第1部材の前記表面領域のうち、前記基板ホルダが鉛直方向を向いた状態において鉛直方向最下部を含む領域に液体が付着していることを検知するように構成される。
第14形態によれば、第8形態から第13形態のいずれかの検査装置において、前記基板ホルダ開閉装置は、前記基板ホルダが水平方向を向いた状態で、前記第1部材から前記第2部材を取り外すように構成される。
第15形態によれば、第8形態から第14形態のいずれかの検査装置と、前記基板ホルダに保持された基板にめっきするめっき槽と、を有するめっき装置が提供される。
40…フィキシングユニット
60…基板ホルダ
61…第1保持部材
62…第2保持部材
69…基板側シール部材
75…表面
80…画像センサ
82…制御装置

Claims (15)

  1. 基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基板の被処理面と接触するように構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、を有し、前記第1部材が前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査方法であって、
    基板ホルダ開閉装置の保持部によって前記第2部材を保持して、前記第1部材と前記第2部材とを互いに離間させる工程と、
    前記第1部材と前記第2部材の上方に位置する検知装置によって、前記第1部材と前記第2部材とが互いに離間したときに前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知工程と、を有する、検査方法。
  2. 請求項1に記載された検査方法において、
    前記検知工程は、
    前記第1部材の前記表面領域のうちの所定の領域の画像データを取得する工程と、
    液体が付着していないときの前記所定の領域と前記画像データとを比較する比較工程と、を含む、検査方法。
  3. 請求項2に記載された検査方法において、
    前記比較工程は、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と、前記所定の領域の前記画像データの色とを比較する工程を含む、検査方法。
  4. 請求項3に記載された検査方法において、
    前記比較工程は、
    前記所定の領域の前記画像データの、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と異なる色の面積又は液体が付着していないときの前記所定の領域の色と同一の色の面積を算出する工程と、
    前記異なる色の面積が所定値以上であるか否か、又は前記同一の色の面積が所定値以下であるか否かを判定する工程と、を有する、検査方法。
  5. 請求項2から4のいずれか一項に記載された検査方法において、
    前記検知工程は、前記所定の領域の前記画像データを複数回取得する工程を含み、
    前記検査方法は、さらに、複数の前記画像データの少なくとも1つにおいて前記表面領域に液体が付着していることを検知したとき、警報を発するか、めっき装置を停止するか、又は前記基板ホルダの使用を停止するようにめっき装置を制御する工程を有する、検査方法。
  6. 請求項1から5のいずれか一項に記載された検査方法において、
    前記基板ホルダは、鉛直方向を向いた状態で前記基板ホルダ開閉装置に搬送され、
    前記表面領域は、前記基板ホルダに保持された前記基板の周囲に沿って配置され、
    前記検知工程は、前記第1部材の前記表面領域のうち、前記基板ホルダが鉛直方向を向いた状態において鉛直方向最下部を含む領域に液体が付着しているか否かを検知する、検査方法。
  7. 請求項1から6のいずれか一項に記載された検査方法において、
    前記第1部材から前記第2部材を取り外す工程は、前記基板ホルダが水平方向を向いた状態で、前記第1部材から前記第2部材を取り外す工程を含む、検査方法。
  8. 基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基板の被処理面と接触するよ
    うに構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域と、を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査装置であって、
    前記第2部材を保持する保持部を備え、前記第1部材と前記第2部材とを互いに接触又は離間させるように構成される基板ホルダ開閉装置と、
    前記第1部材と前記第2部材の上方に位置し、前記第1部材と前記第2部材とが互いに離間したときに前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知装置と、を有する、検査装置。
  9. 請求項10に記載された検査装置において、
    前記検知装置は、画像センサと制御装置とを含み、
    前記画像センサは、前記第1部材の前記表面領域のうちの所定の領域の画像データを取得し、
    前記制御装置は、液体が付着していないときの前記所定の領域と前記画像データとを比較するように構成される、検査装置。
  10. 請求項9に記載された検査装置において、
    前記制御装置は、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と、前記所定の領域の前記画像データの色とを比較するように構成される、検査装置。
  11. 請求項10に記載された検査装置において、
    前記制御装置は、
    前記所定の領域の前記画像データの、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と異なる色の面積又は液体が付着していないときの前記所定の領域の色と同一の色の面積を算出し、
    前記異なる色の面積が所定値以上であるとき又は前記同一の色の面積が所定値以下のときに、前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していると判定する、検査装置。
  12. 請求項9から11のいずれか一項に記載された検査装置において、
    前記画像センサは、前記所定の領域の前記画像データを複数回取得するように構成され、
    前記制御装置は、複数の前記画像データの少なくとも1つにおいて前記表面領域に液体が付着していることを検知したとき、警報を発するか、めっき装置を停止するか、又は前記基板ホルダの使用を停止するようにめっき装置を制御するように構成される、検査装置。
  13. 請求項8から12のいずれか一項に記載された検査装置において、
    前記基板ホルダは、鉛直方向を向いた状態で前記基板ホルダ開閉装置に搬送され、
    前記表面領域は、前記基板ホルダに保持された前記基板の周囲に沿って配置され、
    前記検知装置は、前記第1部材の前記表面領域のうち、前記基板ホルダが鉛直方向を向いた状態において鉛直方向最下部を含む領域に液体が付着していることを検知するように構成される、検査装置。
  14. 請求項8から13のいずれか一項に記載された検査装置において、
    前記基板ホルダ開閉装置は、前記基板ホルダが水平方向を向いた状態で、前記第1部材から前記第2部材を取り外すように構成される、検査装置。
  15. 請求項8から14のいずれか一項に記載された検査装置と、
    前記基板ホルダに保持された基板にめっきするめっき槽と、を有する、
    めっき装置。
JP2018086597A 2018-04-27 2018-04-27 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置 Active JP6987693B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018086597A JP6987693B2 (ja) 2018-04-27 2018-04-27 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置
US16/391,717 US11008668B2 (en) 2018-04-27 2019-04-23 Inspection method, inspection device, and plating apparatus including the same
TW108114288A TWI807017B (zh) 2018-04-27 2019-04-24 基板固持器的檢查方法、基板固持器的檢查裝置、及具備該檢查裝置之鍍覆裝置
KR1020190048457A KR20190125210A (ko) 2018-04-27 2019-04-25 검사 방법, 검사 장치 및 이것을 구비한 도금 장치
CN201910343590.0A CN110408982B (zh) 2018-04-27 2019-04-26 检查方法、检查装置以及具备该检查装置的电镀装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018086597A JP6987693B2 (ja) 2018-04-27 2018-04-27 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019189926A true JP2019189926A (ja) 2019-10-31
JP6987693B2 JP6987693B2 (ja) 2022-01-05

Family

ID=68292284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018086597A Active JP6987693B2 (ja) 2018-04-27 2018-04-27 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11008668B2 (ja)
JP (1) JP6987693B2 (ja)
KR (1) KR20190125210A (ja)
CN (1) CN110408982B (ja)
TW (1) TWI807017B (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004225089A (ja) * 2003-01-21 2004-08-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd メッキ装置、メッキカップ、およびカソードリング
JP2015063761A (ja) * 2012-03-27 2015-04-09 株式会社荏原製作所 めっき方法及びめっき装置
JP2018003102A (ja) * 2016-07-04 2018-01-11 株式会社荏原製作所 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5980195A (en) * 1996-04-24 1999-11-09 Tokyo Electron, Ltd. Positioning apparatus for substrates to be processed
US6091498A (en) * 1996-07-15 2000-07-18 Semitool, Inc. Semiconductor processing apparatus having lift and tilt mechanism
US6645355B2 (en) * 1996-07-15 2003-11-11 Semitool, Inc. Semiconductor processing apparatus having lift and tilt mechanism
JP3208562B2 (ja) * 1997-07-15 2001-09-17 東京エレクトロン株式会社 位置決め装置及び位置決め方法
WO2001084621A1 (en) * 2000-04-27 2001-11-08 Ebara Corporation Rotation holding device and semiconductor substrate processing device
SG94851A1 (en) * 2000-07-12 2003-03-18 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus and substrate processing method
TW512478B (en) * 2000-09-14 2002-12-01 Olympus Optical Co Alignment apparatus
WO2002037527A1 (fr) * 2000-11-02 2002-05-10 Ebara Corporation Appareil a faisceau electronique et procede de production de dispositif utilisant cet appareil
JP3642730B2 (ja) * 2000-11-29 2005-04-27 株式会社荏原製作所 めっき装置及びめっき液組成の管理方法
JP4220173B2 (ja) * 2002-03-26 2009-02-04 株式会社日立ハイテクノロジーズ 基板の搬送方法
TWI316097B (en) * 2002-06-21 2009-10-21 Ebara Corp Substrate holder and plating apparatus
US9624596B2 (en) * 2002-07-22 2017-04-18 Ebara Corporation Electrochemical deposition method
US7138629B2 (en) * 2003-04-22 2006-11-21 Ebara Corporation Testing apparatus using charged particles and device manufacturing method using the testing apparatus
JP2005302751A (ja) * 2004-04-06 2005-10-27 Mitsubishi Electric Corp レジストパターン形成方法、レジストパターン形成装置、表示装置の製造方法、及び表示装置の製造装置
JP2008045179A (ja) * 2006-08-18 2008-02-28 Ebara Corp めっき装置及びめっき方法
CN102667568A (zh) * 2009-11-05 2012-09-12 柯尼卡美能达先进多层薄膜株式会社 摄像装置以及该摄像装置的制造方法
US9653340B2 (en) * 2011-05-31 2017-05-16 Veeco Instruments Inc. Heated wafer carrier profiling
JP5642120B2 (ja) 2011-09-30 2014-12-17 株式会社酉島製作所 立軸ポンプおよび耐水モータ
US9399827B2 (en) 2013-04-29 2016-07-26 Applied Materials, Inc. Microelectronic substrate electro processing system
TWI661479B (zh) * 2015-02-12 2019-06-01 日商思可林集團股份有限公司 基板處理裝置、基板處理系統以及基板處理方法
JP6254307B2 (ja) * 2016-02-25 2017-12-27 株式会社荏原製作所 めっき装置に使用される基板ホルダの漏れ検査方法
JP6659467B2 (ja) * 2016-06-03 2020-03-04 株式会社荏原製作所 めっき装置、基板ホルダ、めっき装置の制御方法、及び、めっき装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004225089A (ja) * 2003-01-21 2004-08-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd メッキ装置、メッキカップ、およびカソードリング
JP2015063761A (ja) * 2012-03-27 2015-04-09 株式会社荏原製作所 めっき方法及びめっき装置
JP2018003102A (ja) * 2016-07-04 2018-01-11 株式会社荏原製作所 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN110408982A (zh) 2019-11-05
TW201945600A (zh) 2019-12-01
TWI807017B (zh) 2023-07-01
JP6987693B2 (ja) 2022-01-05
KR20190125210A (ko) 2019-11-06
CN110408982B (zh) 2023-06-16
US11008668B2 (en) 2021-05-18
US20190330758A1 (en) 2019-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI765001B (zh) 半導體製造裝置、半導體製造裝置之故障預測方法、及半導體製造之故障預測程序
JP6979900B2 (ja) 基板保持部材、基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体
JP4669020B2 (ja) 基板ホルダ及び電解めっき装置
JP6659467B2 (ja) めっき装置、基板ホルダ、めっき装置の制御方法、及び、めっき装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体
US11670529B2 (en) Substrate processing device and component inspection method for substrate processing device
KR102491862B1 (ko) 누설 검사 방법, 누설 검사 장치, 전해 도금 방법 및 전해 도금 장치
JP2016072282A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP7127184B2 (ja) めっき装置、基板ホルダ、抵抗測定モジュール、および基板ホルダを検査する方法
TW201947456A (zh) 凸塊高度檢查裝置、基板處理裝置、凸塊高度檢查方法、及記憶媒體
CN110809814B (zh) 基板处理装置及基板处理装置的部件检查方法
TWI781271B (zh) 使用檢查用基板之電流測定模組及檢查用基板
JP6987693B2 (ja) 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置
JP2003273003A (ja) 基板処理装置
JP7421366B2 (ja) メンテナンス部材、基板保持モジュール、めっき装置、および、メンテナンス方法
US20240192075A1 (en) Method of detecting leakage
JP2018195645A (ja) 半導体製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200930

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210719

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210726

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210924

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211105

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211201

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6987693

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150