JP2019189926A - 検査方法、検査装置、及びこれを備えためっき装置 - Google Patents
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Abstract
Description
板の被処理面と接触するように構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、を有し、前記第1部材が前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査方法が提供される。この検査方法は、基板ホルダ開閉装置の保持部によって前記第2部材を保持して、前記第1部材から前記第2部材を取り外す工程と、前記第1部材と前記第2部材の上方に位置する検知装置によって、前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知工程と、を有する。
間で基板を搬送する搬送用ロボットからなる基板搬送装置122が配置されている。
めっき装置は、これらの各機器の側方に位置して、これらの各機器の間で基板ホルダ60を基板とともに搬送する、例えばリニアモータ方式を採用した基板ホルダ搬送装置140を有する。この基板ホルダ搬送装置140は、第1トランスポータ142と、第2トランスポータ144を有している。第1トランスポータ142は、フィキシングユニット40、ストッカ124、プリウェット槽126、プリソーク槽128、第1洗浄槽130a、及びブロー槽132との間で基板を搬送するように構成される。第2トランスポータ144は、第1洗浄槽130a、第2洗浄槽130b、ブロー槽132、及びめっき槽10との間で基板を搬送するように構成される。具体的には、第1トランスポータ142及び第2トランスポータ144は、保持された基板の面内方向が鉛直方向を向いた状態で、基板ホルダ60を搬送する。言い換えれば、第1トランスポータ142及び第2トランスポータ144は、基板を保持した基板ホルダ60を、鉛直方向を向いた状態で搬送する。
第1保持部材61から第2保持部材62を取り外したとき、第1保持部材61の、液体の浸入が防止された表面領域、例えば図3に示した表面75に液体が付着している。
を比較する。より具体的には、制御装置82は、液体が付着していないときの領域R1の色(例えば、グレースケール画像における数値)と、画像センサ80が取得した領域R1の画像データの色(例えば、グレースケール画像における数値)とを比較するように構成される。
第1形態によれば、基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基板の被処理面と接触するように構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、を有し、前記第1部材が前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査方法が提供される。この検査方法は、基板ホルダ開閉装置の保持部によって前記第2部材を保持して、前記第1部材と前記第2部材とを互いに離間させる工程と、前記第1部材と前記第2部材の上方に位置する検知装置によって、前記第1部材と前記第2部材とが互いに離間したときに前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知工程と、を有する。
ないときの前記所定の領域の色と、前記所定の領域の前記画像データの色とを比較する工程を含む。
60…基板ホルダ
61…第1保持部材
62…第2保持部材
69…基板側シール部材
75…表面
80…画像センサ
82…制御装置
Claims (15)
- 基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基板の被処理面と接触するように構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、を有し、前記第1部材が前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査方法であって、
基板ホルダ開閉装置の保持部によって前記第2部材を保持して、前記第1部材と前記第2部材とを互いに離間させる工程と、
前記第1部材と前記第2部材の上方に位置する検知装置によって、前記第1部材と前記第2部材とが互いに離間したときに前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知工程と、を有する、検査方法。 - 請求項1に記載された検査方法において、
前記検知工程は、
前記第1部材の前記表面領域のうちの所定の領域の画像データを取得する工程と、
液体が付着していないときの前記所定の領域と前記画像データとを比較する比較工程と、を含む、検査方法。 - 請求項2に記載された検査方法において、
前記比較工程は、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と、前記所定の領域の前記画像データの色とを比較する工程を含む、検査方法。 - 請求項3に記載された検査方法において、
前記比較工程は、
前記所定の領域の前記画像データの、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と異なる色の面積又は液体が付着していないときの前記所定の領域の色と同一の色の面積を算出する工程と、
前記異なる色の面積が所定値以上であるか否か、又は前記同一の色の面積が所定値以下であるか否かを判定する工程と、を有する、検査方法。 - 請求項2から4のいずれか一項に記載された検査方法において、
前記検知工程は、前記所定の領域の前記画像データを複数回取得する工程を含み、
前記検査方法は、さらに、複数の前記画像データの少なくとも1つにおいて前記表面領域に液体が付着していることを検知したとき、警報を発するか、めっき装置を停止するか、又は前記基板ホルダの使用を停止するようにめっき装置を制御する工程を有する、検査方法。 - 請求項1から5のいずれか一項に記載された検査方法において、
前記基板ホルダは、鉛直方向を向いた状態で前記基板ホルダ開閉装置に搬送され、
前記表面領域は、前記基板ホルダに保持された前記基板の周囲に沿って配置され、
前記検知工程は、前記第1部材の前記表面領域のうち、前記基板ホルダが鉛直方向を向いた状態において鉛直方向最下部を含む領域に液体が付着しているか否かを検知する、検査方法。 - 請求項1から6のいずれか一項に記載された検査方法において、
前記第1部材から前記第2部材を取り外す工程は、前記基板ホルダが水平方向を向いた状態で、前記第1部材から前記第2部材を取り外す工程を含む、検査方法。 - 基板を挟み込んで保持する第1部材及び第2部材と、前記基板の被処理面と接触するよ
うに構成される電気接点と、液体が前記電気接点と接触しないように前記基板の前記被処理面と接触するシール部材と、前記シール部材により前記液体の浸入が防止された表面領域と、を有し、前記第2部材が前記シール部材を有する、基板ホルダの検査装置であって、
前記第2部材を保持する保持部を備え、前記第1部材と前記第2部材とを互いに接触又は離間させるように構成される基板ホルダ開閉装置と、
前記第1部材と前記第2部材の上方に位置し、前記第1部材と前記第2部材とが互いに離間したときに前記表面領域に液体が付着していることを検知する検知装置と、を有する、検査装置。 - 請求項10に記載された検査装置において、
前記検知装置は、画像センサと制御装置とを含み、
前記画像センサは、前記第1部材の前記表面領域のうちの所定の領域の画像データを取得し、
前記制御装置は、液体が付着していないときの前記所定の領域と前記画像データとを比較するように構成される、検査装置。 - 請求項9に記載された検査装置において、
前記制御装置は、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と、前記所定の領域の前記画像データの色とを比較するように構成される、検査装置。 - 請求項10に記載された検査装置において、
前記制御装置は、
前記所定の領域の前記画像データの、液体が付着していないときの前記所定の領域の色と異なる色の面積又は液体が付着していないときの前記所定の領域の色と同一の色の面積を算出し、
前記異なる色の面積が所定値以上であるとき又は前記同一の色の面積が所定値以下のときに、前記第1部材の前記表面領域に液体が付着していると判定する、検査装置。 - 請求項9から11のいずれか一項に記載された検査装置において、
前記画像センサは、前記所定の領域の前記画像データを複数回取得するように構成され、
前記制御装置は、複数の前記画像データの少なくとも1つにおいて前記表面領域に液体が付着していることを検知したとき、警報を発するか、めっき装置を停止するか、又は前記基板ホルダの使用を停止するようにめっき装置を制御するように構成される、検査装置。 - 請求項8から12のいずれか一項に記載された検査装置において、
前記基板ホルダは、鉛直方向を向いた状態で前記基板ホルダ開閉装置に搬送され、
前記表面領域は、前記基板ホルダに保持された前記基板の周囲に沿って配置され、
前記検知装置は、前記第1部材の前記表面領域のうち、前記基板ホルダが鉛直方向を向いた状態において鉛直方向最下部を含む領域に液体が付着していることを検知するように構成される、検査装置。 - 請求項8から13のいずれか一項に記載された検査装置において、
前記基板ホルダ開閉装置は、前記基板ホルダが水平方向を向いた状態で、前記第1部材から前記第2部材を取り外すように構成される、検査装置。 - 請求項8から14のいずれか一項に記載された検査装置と、
前記基板ホルダに保持された基板にめっきするめっき槽と、を有する、
めっき装置。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004225089A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | メッキ装置、メッキカップ、およびカソードリング |
JP2015063761A (ja) * | 2012-03-27 | 2015-04-09 | 株式会社荏原製作所 | めっき方法及びめっき装置 |
JP2018003102A (ja) * | 2016-07-04 | 2018-01-11 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5980195A (en) * | 1996-04-24 | 1999-11-09 | Tokyo Electron, Ltd. | Positioning apparatus for substrates to be processed |
US6091498A (en) * | 1996-07-15 | 2000-07-18 | Semitool, Inc. | Semiconductor processing apparatus having lift and tilt mechanism |
US6645355B2 (en) * | 1996-07-15 | 2003-11-11 | Semitool, Inc. | Semiconductor processing apparatus having lift and tilt mechanism |
JP3208562B2 (ja) * | 1997-07-15 | 2001-09-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置決め装置及び位置決め方法 |
WO2001084621A1 (en) * | 2000-04-27 | 2001-11-08 | Ebara Corporation | Rotation holding device and semiconductor substrate processing device |
SG94851A1 (en) * | 2000-07-12 | 2003-03-18 | Tokyo Electron Ltd | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
TW512478B (en) * | 2000-09-14 | 2002-12-01 | Olympus Optical Co | Alignment apparatus |
WO2002037527A1 (fr) * | 2000-11-02 | 2002-05-10 | Ebara Corporation | Appareil a faisceau electronique et procede de production de dispositif utilisant cet appareil |
JP3642730B2 (ja) * | 2000-11-29 | 2005-04-27 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置及びめっき液組成の管理方法 |
JP4220173B2 (ja) * | 2002-03-26 | 2009-02-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板の搬送方法 |
TWI316097B (en) * | 2002-06-21 | 2009-10-21 | Ebara Corp | Substrate holder and plating apparatus |
US9624596B2 (en) * | 2002-07-22 | 2017-04-18 | Ebara Corporation | Electrochemical deposition method |
US7138629B2 (en) * | 2003-04-22 | 2006-11-21 | Ebara Corporation | Testing apparatus using charged particles and device manufacturing method using the testing apparatus |
JP2005302751A (ja) * | 2004-04-06 | 2005-10-27 | Mitsubishi Electric Corp | レジストパターン形成方法、レジストパターン形成装置、表示装置の製造方法、及び表示装置の製造装置 |
JP2008045179A (ja) * | 2006-08-18 | 2008-02-28 | Ebara Corp | めっき装置及びめっき方法 |
CN102667568A (zh) * | 2009-11-05 | 2012-09-12 | 柯尼卡美能达先进多层薄膜株式会社 | 摄像装置以及该摄像装置的制造方法 |
US9653340B2 (en) * | 2011-05-31 | 2017-05-16 | Veeco Instruments Inc. | Heated wafer carrier profiling |
JP5642120B2 (ja) | 2011-09-30 | 2014-12-17 | 株式会社酉島製作所 | 立軸ポンプおよび耐水モータ |
US9399827B2 (en) | 2013-04-29 | 2016-07-26 | Applied Materials, Inc. | Microelectronic substrate electro processing system |
TWI661479B (zh) * | 2015-02-12 | 2019-06-01 | 日商思可林集團股份有限公司 | 基板處理裝置、基板處理系統以及基板處理方法 |
JP6254307B2 (ja) * | 2016-02-25 | 2017-12-27 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置に使用される基板ホルダの漏れ検査方法 |
JP6659467B2 (ja) * | 2016-06-03 | 2020-03-04 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置、基板ホルダ、めっき装置の制御方法、及び、めっき装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体 |
-
2018
- 2018-04-27 JP JP2018086597A patent/JP6987693B2/ja active Active
-
2019
- 2019-04-23 US US16/391,717 patent/US11008668B2/en active Active
- 2019-04-24 TW TW108114288A patent/TWI807017B/zh active
- 2019-04-25 KR KR1020190048457A patent/KR20190125210A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-04-26 CN CN201910343590.0A patent/CN110408982B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004225089A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | メッキ装置、メッキカップ、およびカソードリング |
JP2015063761A (ja) * | 2012-03-27 | 2015-04-09 | 株式会社荏原製作所 | めっき方法及びめっき装置 |
JP2018003102A (ja) * | 2016-07-04 | 2018-01-11 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110408982A (zh) | 2019-11-05 |
TW201945600A (zh) | 2019-12-01 |
TWI807017B (zh) | 2023-07-01 |
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