JP2017501884A - サファイア基体をレーザによってレーザ切断する方法、および一続きの欠陥を有するエッジを有するサファイアを含む物品 - Google Patents
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Abstract
Description
パルスレーザビームをレーザビーム焦線に集光する工程と、
レーザビーム焦線を材料に向ける工程であって、レーザビーム焦線が材料内において誘起吸収を生じ、誘起吸収が、材料内においてレーザビーム焦線に沿った欠陥線を生じる上記工程と、
材料またはレーザビームを互いに相対的に平行移動させることにより、レーザによって材料内に複数の欠陥線を形成する工程と、
IRレーザビームを複数の欠陥線にわたって向ける工程と
を含む方法にまで及ぶ。
(i)パルスレーザビームをレーザビーム焦線に集光する工程と、
(ii)レーザビーム焦線を材料に向ける工程であって、レーザビーム焦線が材料内において誘起吸収を生じ、誘起吸収が、材料内においてレーザビーム焦線に沿った欠陥線を生じる上記工程と、
(iii)上記(i)および上記(ii)を繰り返し行って、材料内に、複数の欠陥線を含む断層線を形成する工程と、
(iv)IRレーザビームを断層線にわたって向ける工程と
を含む方法にまで及ぶ。
サファイアの切断の目的で、1064nmのピコ秒レーザを線焦点ビーム形成光学系と組み合わせて用いて、基体内に欠陥線を生成する処理を開発した。0.55mmの厚さを有するサファイア基体を、上記の光学系によって生じる焦線の領域内になるよう配置した。約1mmの長さを有する焦線、および材料において測定された約24W以上の出力(パルスモードにおいて約120μJ/パルス、またはバーストモードにおいて約120μJ/バースト)を200kHzの繰り返し率で生じるピコ秒レーザを用いて、焦線領域における光学強度を、容易に、サファイアまたはサファイア含有基体材料内で非線形吸収を生じるのに十分高くすることができる。高強度の線形領域にほぼ従うサファイア基体内の損傷、溶発、蒸発、または別様で変性された材料の領域が生成された。
基体が十分な応力を有する場合(例えばイオン交換ガラスを用いた場合)には、部品は、レーザ処理によってトレースされた断層線に沿って自発的に基体から分離する。しかし、基体に内在する応力が多くない場合は、ピコ秒レーザは基体内に単に欠陥線を形成する。これらの欠陥線は、一般的に、約0.5〜1.5μmの範囲内の内部寸法(直径)を有する孔の形態をとる。
図9に示されているように、サファイア基体からのサファイア部品の分離を可能にする複数の異なる条件が見出された。第1の方法は、ピコ秒レーザのみを用いて、貫通孔を生じ、所望の形状(このケースでは6mmおよび10mmの直径を有する円)に沿った断層線を形成する。この工程の後、機械的分離は、折り取りプライヤ、手作業で部品を曲げること、または断層線に沿った分離を開始および伝搬させる張力を生じる任意の方法を用いることによって達成できる。550μm厚のサファイアに複数の貫通孔を生成して、板から円板を機械的に分離するために、以下の光学系およびレーザパラメータについて、良好な結果が見出された。
・アキシコンレンズに対する入射ビーム径:約2mm
・アキシコン角度=10度
・最初のコリメートレンズ焦点距離=125mm
・最終の対物レンズ焦点距離=30mm
・入射ビーム輻輳角(β)=12.75度
・焦点をZ=0.75mmに設定(部品の上面より約200μm上)
・レーザ出力:約24ワット(全出力の60%)
・レーザのバースト繰り返し率=200kHz
・エネルギー/バースト=120μJ(24W/200kHz)
・4パルス/バースト
・1回の通過
第2の方法は、所望の輪郭のトレーシングを完了したピコ秒レーザに続き、周囲の基体マトリクスから部品を完全に分離するために、デフォーカスされたCO2レーザを用いるものである。デフォーカスされたCO2レーザによって生じる熱応力は、所望の輪郭に沿った分離を開始および伝搬させて、それをパネルから切り離すのに十分である。このケースでは、以下の光学系およびレーザパラメータについて良好な結果が見出された。
・ピコ秒レーザ:
・アキシコンレンズに対する入射ビーム径:約2mm
・アキシコン角=10度
・最初のコリメートレンズ焦点距離=125mm
・最終の対物レンズ焦点距離=30mm
・入射ビーム輻輳角(β)=12.75度
・焦点をZ=0.75mmに設定(部品の上面より約200μm上)
・レーザ出力:約24ワット(全出力の60%)
・レーザのバースト繰り返し率=200kHz
・エネルギー/バースト=120μJ(24W/200kHz)4パルス/バースト
・10mmの直径については1回の通過、6mm直径の直径については2回の通過
・CO 2 レーザ:
・レーザ平行移動速度:250mm/秒
・レーザ出力=200W
・パルス持続時間:45μ秒(95%のデューティサイクル)
・レーザ変調周波数:20kHz
・(ガラスの入射面に対する)レーザビームのデフォーカスは20mm
・10mmの直径については1回の通過、6mm直径の直径については2回の通過
最後に、調査した最後の条件は、上記の2つの方法の混合であり、所望の輪郭のトレーシングを完了したピコ秒レーザに続き、部品を周囲の基体マトリクスから部分的に分離するために、デフォーカスされたCO2レーザを用いる。CO2レーザによって生じる熱応力は、所望の輪郭に沿った分離を開始および部分的に伝搬させるのに十分であるが、それを周囲の基体マトリクスから切り離すには十分ではない。場合によっては、処理の便宜上または効率上、部品の切り離しを後工程まで遅らせることが望ましい。このケースでは、上記と同じピコ秒レーザ条件、並びに、求める分離の程度に応じたより低いCO2レーザ出力またはCO2レーザビームのより高いデフォーカス(約25mmより大きい)およびより高い平行移動速度について、最良の結果が見出された。
本レーザ処理方法は、他の競合技術の限界であった、多くの形および形状に沿ったガラス、サファイア、および他の基体の切断/分離を可能にする。本方法を用いれば、(約5mm未満の)狭い半径も切断され得るので、曲線のエッジが可能になる。より大きなサファイア基体から、他のレーザ技術では困難または不可能な5mmおよび10mmの直径の円が良好に切り出された。また、欠陥線は、任意のクラックの伝搬の位置を強く制御するので、この方法は、切断の空間的位置に対する高い制御を与え、数百マイクロメートルほどの小さい構造および特徴の切断および分離も可能にする。
供給される基体(例えばガラスパネルまたはサファイア片)から、部品(例えばガラス板または任意の形状のサファイア部品)を最終的なサイズおよび形状に作り上げるための処理は、基体の切断、サイズに合わせた切断、仕上げおよびエッジ成形、部品の目標の厚さへの薄化、研磨、並びに幾つかのケースでは化学的強化を包含する幾つかの工程を含む。これらの工程のいずれかを削減することで、処理時間および資本経費に関する製造コストが改善される。本方法は、例えば以下によって工程数を低減し得る。
・デブリおよびエッジ欠陥の発生の低減―洗浄および乾燥ステーションの削減の可能性。
・サンプルを最終的なサイズ、形状、および厚さに直接切断する―仕上げラインの必要性をなくす。
本処理は、スタックされたガラスパネルに、上記の垂直な欠陥を有する線を生成することも可能である。スタックの高さには制限があるが、スタックされた複数の板を同時に加工することで、生産性を高めることが可能である。これは、本明細書において用いられたレーザ波長(1064nm)におけるサファイアの場合のように、材料がレーザ波長に対して透明であることを要する。
材料をレーザ切断する方法であって、
パルスレーザビームをレーザビーム焦線に集光する工程と、
前記レーザビーム焦線を前記材料に向ける工程であって、前記レーザビーム焦線が前記材料内において誘起吸収を生じ、該誘起吸収が、前記材料内において前記レーザビーム焦線に沿った欠陥線を生じる上記工程と、
前記材料または前記レーザビームを互いに相対的に平行移動させることにより、前記レーザによって前記材料内に複数の前記欠陥線を形成する工程と、
IRレーザビームを複数の前記欠陥線にわたって向ける工程と
を含む方法。
材料をレーザ切断する方法であって、
(i)パルスレーザビームをレーザビーム焦線に集光する工程と、
(ii)前記レーザビーム焦線を前記材料に向ける工程であって、前記レーザビーム焦線が前記材料内において誘起吸収を生じ、該誘起吸収が、前記材料内において前記レーザビーム焦線に沿った欠陥線を生じる上記工程と、
(iii)上記(i)および上記(ii)を繰り返し行って、前記材料内に、複数の前記欠陥線を含む断層線を形成する工程と、
(iv)IRレーザビームを前記断層線にわたって向ける工程と
を含む方法。
サファイアを含む物品であって、前記物品が、各欠陥線が少なくとも250μm延びる一続きの欠陥線を有するエッジを含み、前記欠陥線の直径が5μm未満であり、前記エッジがRa<0.5μmの表面粗さを有し、前記ガラスエッジの表面下損傷が<100μmである物品。
前記材料または物品がサファイアである、実施形態1〜3のいずれか記載の方法または物品。
前記パルスレーザビームのパルス持続時間が、約1ピコ秒より大きく且つ約100ピコ秒未満の範囲内である、実施形態1〜4のいずれか記載の方法。
前記パルスレーザビームのパルス持続時間が、約5ピコ秒より大きく且つ約20ピコ秒未満の範囲内である、実施形態5記載の方法。
前記パルスレーザビームの繰り返し率が1kHz〜2MHzの範囲内である、実施形態1〜6のいずれか記載の方法。
前記パルスレーザビームの繰り返し率が10kHz〜650kHzの範囲内である、実施形態7記載の方法。
前記パルスレーザビームが或る波長を有し、前記材料が前記波長において略透明である、実施形態1〜8のいずれか記載の方法。
前記レーザビーム焦線が約0.1mm〜約100mmの範囲内の長さを有する、実施形態1〜9のいずれか記載の方法。
前記レーザビーム焦線が、約0.1μm〜約5μmの範囲内の平均スポット径を有する、実施形態1〜10のいずれか記載の方法。
前記IRレーザを前記材料の近位エッジから接線である部品のエッジまで向けることにより、前記部品を前記材料から分離する工程を更に含む、実施形態1〜11のいずれか記載の方法。
前記IRレーザビームを向ける前記工程が、CO2レーザビームを向けることを含む、実施形態1〜12のいずれか記載の方法。
前記IRレーザビームが、約2mm〜約20mmの範囲内のスポット径にデフォーカスされる、実施形態1〜13のいずれか記載の方法。
前記パルスレーザビームが、前記材料において測定された、前記材料の厚さ1mm当たり40μJより大きい平均レーザ出力を有する、実施形態1〜14のいずれか記載の方法。
前記パルスが、1ナノ秒〜50ナノ秒の範囲内の持続時間で分離された少なくとも2つのパルスのバーストとして生成され、バースト繰り返し周波数が約1kHz〜約2000kHzの範囲内である、実施形態1〜15のいずれか記載の方法。
前記パルスが、10ナノ秒〜30ナノ秒の範囲内の持続時間で分離される、実施形態16記載の方法。
前記IRレーザビームを向ける前記工程が、前記IRレーザビームを前記材料の遠位エッジから材料の近位エッジまで向けることを含む、実施形態1〜17のいずれか記載の方法。
前記ガラスエッジの前記表面下損傷が<75μmである、実施形態3記載の物品。
前記欠陥線が、前記材料または物品の全厚さを通って延びる、実施形態1〜19のいずれか記載の方法または物品。
前記欠陥線間の距離が0.5マイクロメートルより大きく且つ約15マイクロメートル以下である、実施形態1〜20のいずれか記載の方法または物品。
前記材料または物品が円板である、実施形態1〜21のいずれか記載の方法または物品。
前記材料または物品が、サファイア層が取り付けられたガラス基体を含む、実施形態1〜22のいずれか記載の方法または物品。
前記ガラス基体の厚さが100マイクロメートル〜1mmであり、前記サファイア層の厚さが1マイクロメートル〜600マイクロメートルである、実施形態23記載の方法または物品。
前記断層線が曲線状、円形状、および直線状のうち少なくとも一つである、実施形態1〜24のいずれか記載の方法。
前記IRレーザビームを向ける前記工程が、前記断層線に沿って材料を破砕する、実施形態1〜25のいずれか記載の方法。
前記物品の厚さが1.5mm未満である、実施形態3または19記載の物品。
前記物品が円板である、実施形態3または19記載の物品。
前記物品が、サファイア層が取り付けられたガラス基体を含む、実施形態3または19記載の物品。
前記ガラス基体の厚さが100マイクロメートル〜1mmであり、前記サファイア層の厚さ1マイクロメートル〜600マイクロメートルである、実施形態29記載の物品。
2b レーザビーム焦線
6 光学アセンブリ
110 断層線
120 欠陥線
130 基体材料
140 超短パルスレーザ
Claims (10)
- 材料をレーザ切断する方法であって、
(i)パルスレーザビームをレーザビーム焦線に集光する工程と、
(ii)前記レーザビーム焦線を前記材料に向ける工程であって、前記レーザビーム焦線が前記材料内において誘起吸収を生じ、該誘起吸収が、前記材料内において前記レーザビーム焦線に沿った欠陥線を生じるものである工程と、
(iii)前記(i)および前記(ii)を繰り返し行って、前記材料内に、複数の前記欠陥線を含む断層線を形成する工程と、
(iv)IRレーザビームを前記断層線にわたって向ける工程と
を有してなることを特徴とする方法。 - 前記材料がサファイアである、請求項1記載の方法。
- 前記パルスレーザビームのパルス持続時間が、約1ピコ秒より大きく且つ約100ピコ秒未満の範囲内である、請求項1または2記載の方法。
- 前記パルスレーザビームが或る波長を有し、前記材料が前記波長において略透明である、請求項1〜3のいずれか一項記載の方法。
- 前記レーザビーム焦線が、約0.1μm〜約5μmの範囲内の平均スポット径を有する、請求項1〜4のいずれか一項記載の方法。
- サファイアを含む物品であって、該物品が、各欠陥線が少なくとも250μm延びる一続きの欠陥線を有するエッジを含み、前記欠陥線の直径が5μm未満であり、前記エッジがRa<0.5μmの表面粗さを有し、前記エッジの表面下損傷が<100μmであることを特徴とする物品。
- 前記エッジの前記表面下損傷が<75μmである、請求項6記載の物品。
- 前記欠陥線が、前記物品の全厚さを通って延びる、請求項6または7記載の物品。
- 前記材料または物品が、サファイア層が取り付けられたガラス基体を含む、請求項1〜8のいずれか一項記載の方法または物品。
- 前記欠陥線間の距離が、0.5μmより大きく且つ約15μm以下である、請求項1〜9のいずれか一項記載の方法または物品。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361917082P | 2013-12-17 | 2013-12-17 | |
US61/917,082 | 2013-12-17 | ||
US201462022890P | 2014-07-10 | 2014-07-10 | |
US62/022,890 | 2014-07-10 | ||
US14/529,976 | 2014-10-31 | ||
US14/529,976 US9676167B2 (en) | 2013-12-17 | 2014-10-31 | Laser processing of sapphire substrate and related applications |
PCT/US2014/070432 WO2015095090A1 (en) | 2013-12-17 | 2014-12-16 | Method of laser cutting a sapphire substrate by lasers and an article comprising sapphire with edge having series of defects |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017501884A true JP2017501884A (ja) | 2017-01-19 |
JP2017501884A5 JP2017501884A5 (ja) | 2018-02-22 |
JP6552503B2 JP6552503B2 (ja) | 2019-07-31 |
Family
ID=53367282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (6)
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US (2) | US9676167B2 (ja) |
JP (1) | JP6552503B2 (ja) |
KR (1) | KR102292611B1 (ja) |
CN (1) | CN106029287B (ja) |
TW (1) | TWI656936B (ja) |
WO (1) | WO2015095090A1 (ja) |
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- 2014-10-31 US US14/529,976 patent/US9676167B2/en active Active
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- 2014-12-16 CN CN201480075657.2A patent/CN106029287B/zh active Active
- 2014-12-16 JP JP2016539302A patent/JP6552503B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2015095090A8 (en) | 2016-07-21 |
CN106029287A (zh) | 2016-10-12 |
US20150165562A1 (en) | 2015-06-18 |
KR102292611B1 (ko) | 2021-08-24 |
TW201531364A (zh) | 2015-08-16 |
TWI656936B (zh) | 2019-04-21 |
KR20160098467A (ko) | 2016-08-18 |
US9676167B2 (en) | 2017-06-13 |
CN106029287B (zh) | 2018-08-10 |
JP6552503B2 (ja) | 2019-07-31 |
US10179748B2 (en) | 2019-01-15 |
US20170291844A1 (en) | 2017-10-12 |
WO2015095090A1 (en) | 2015-06-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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