JP2017218377A - ケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法、ケイ素化合物被覆酸化物粒子及びそれを含むケイ素化合物被覆酸化物組成物 - Google Patents
ケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法、ケイ素化合物被覆酸化物粒子及びそれを含むケイ素化合物被覆酸化物組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017218377A JP2017218377A JP2017158762A JP2017158762A JP2017218377A JP 2017218377 A JP2017218377 A JP 2017218377A JP 2017158762 A JP2017158762 A JP 2017158762A JP 2017158762 A JP2017158762 A JP 2017158762A JP 2017218377 A JP2017218377 A JP 2017218377A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon compound
- oxide particles
- coated
- bond
- coated oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/17—Metallic particles coated with metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/16—Metallic particles coated with a non-metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F17/00—Compounds of rare earth metals
- C01F17/20—Compounds containing only rare earth metals as the metal element
- C01F17/206—Compounds containing only rare earth metals as the metal element oxide or hydroxide being the only anion
- C01F17/224—Oxides or hydroxides of lanthanides
- C01F17/235—Cerium oxides or hydroxides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
- B01J13/02—Making microcapsules or microballoons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/05—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
- B22F1/054—Nanosized particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/05—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
- B22F1/054—Nanosized particles
- B22F1/056—Submicron particles having a size above 100 nm up to 300 nm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/10—Metallic powder containing lubricating or binding agents; Metallic powder containing organic material
- B22F1/102—Metallic powder coated with organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/14—Methods for preparing oxides or hydroxides in general
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/14—Methods for preparing oxides or hydroxides in general
- C01B13/145—After-treatment of oxides or hydroxides, e.g. pulverising, drying, decreasing the acidity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/20—Silicates
- C01B33/32—Alkali metal silicates
- C01B33/325—After-treatment, e.g. purification or stabilisation of solutions, granulation; Dissolution; Obtaining solid silicate, e.g. from a solution by spray-drying, flashing off water or adding a coagulant
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F17/00—Compounds of rare earth metals
- C01F17/20—Compounds containing only rare earth metals as the metal element
- C01F17/206—Compounds containing only rare earth metals as the metal element oxide or hydroxide being the only anion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F7/00—Compounds of aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G49/00—Compounds of iron
- C01G49/009—Compounds containing, besides iron, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G49/00—Compounds of iron
- C01G49/02—Oxides; Hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G49/00—Compounds of iron
- C01G49/02—Oxides; Hydroxides
- C01G49/06—Ferric oxide (Fe2O3)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G51/00—Compounds of cobalt
- C01G51/006—Compounds containing, besides cobalt, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G53/00—Compounds of nickel
- C01G53/006—Compounds containing, besides nickel, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G9/00—Compounds of zinc
- C01G9/006—Compounds containing, besides zinc, two ore more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G9/00—Compounds of zinc
- C01G9/02—Oxides; Hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/04—Compounds of zinc
- C09C1/043—Zinc oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/22—Compounds of iron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/22—Compounds of iron
- C09C1/24—Oxides of iron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/06—Treatment with inorganic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/06—Treatment with inorganic compounds
- C09C3/063—Coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/12—Treatment with organosilicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
- C09D7/62—Additives non-macromolecular inorganic modified by treatment with other compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2301/00—Metallic composition of the powder or its coating
- B22F2301/10—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2301/00—Metallic composition of the powder or its coating
- B22F2301/15—Nickel or cobalt
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2301/00—Metallic composition of the powder or its coating
- B22F2301/25—Noble metals, i.e. Ag Au, Ir, Os, Pd, Pt, Rh, Ru
- B22F2301/255—Silver or gold
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2302/00—Metal Compound, non-Metallic compound or non-metal composition of the powder or its coating
- B22F2302/25—Oxide
- B22F2302/256—Silicium oxide (SiO2)
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2304/00—Physical aspects of the powder
- B22F2304/05—Submicron size particles
- B22F2304/054—Particle size between 1 and 100 nm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2304/00—Physical aspects of the powder
- B22F2304/05—Submicron size particles
- B22F2304/056—Particle size above 100 nm up to 300 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/01—Crystal-structural characteristics depicted by a TEM-image
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/02—Amorphous compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
- C01P2002/82—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by IR- or Raman-data
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
- C01P2002/84—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by UV- or VIS- data
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/03—Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/04—Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/50—Agglomerated particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/80—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
- C01P2006/62—L* (lightness axis)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
- C01P2006/66—Hue (H*)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/90—Other properties not specified above
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/216—ZnO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/42—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/72—Decorative coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/76—Hydrophobic and oleophobic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/116—Deposition methods from solutions or suspensions by spin-coating, centrifugation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2296—Oxides; Hydroxides of metals of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Abstract
Description
上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率を制御することによって、濡れ性及び色特性を制御するケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法である。
上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合に対するCF結合の比率であるCF結合/Si−OH結合比率を制御することによって、濡れ性及び色特性を制御するケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法である。
上記ケイ素化合物は、上記金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部を被覆することによって、上記金属酸化物粒子の濡れ性及び色特性を変化させ得るものであって、全反射測定法(ATR法)を用いて測定した赤外吸収スペクトルにおける波数650cm−1から1300cm−1のケイ素化合物被覆酸化物粒子由来のピークを波形分離することで算出される、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれる上記CF結合/Si−OH結合比率が0以上4.5以下であり、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子を分散媒に分散させた状態で波長200nmから380nmの領域における平均モル吸光係数が650L/(mol・cm)以上であるケイ素化合物被覆酸化物粒子である。
上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子の色特性が、L*a*b*表色系において、40≦L*≦95、−35≦a*≦35、又は−35≦b*≦35の範囲であるケイ素化合物被覆酸化物粒子であることが好ましい。
本発明に係るケイ素化合物被覆酸化物粒子は、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率又はSi−OH結合に対するCF結合の比率であるCF結合/Si−OH結合比率が制御されており、撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性に加えて、反射率、モル吸光係数又は透過率の色特性が制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子であり、本発明に係るケイ素化合物被覆酸化物粒子を、塗膜や封止材又は塗装体の用途に用いる目的の組成物、衣類等のテキスタイル用途に用いる目的の組成物、又は透明性を求められるクリアー塗膜やガラスに用いるための組成物、透明樹脂やフィルム状組成物に用いるための組成物に用いた場合には、撥水性又は撥油性が制御されていることに加えて紫外線又は近赤外線を目的に応じて効果的に遮蔽するために好適な組成物とできる。さらに可視領域においては高い透過特性すなわち透明性が高い組成物とすることが可能であるため、長期に渡って意匠性若しくは美観や質感を損なわず、特に耐候性を求められる被塗布物に対して効果的に用いることができる撥水又は撥油用ケイ素化合物被覆金属酸化物組成物を提供できる。なお、上記透明性を求められる組成物には、例えば、ガラス、透明樹脂やクリアー塗膜そのものに含まれる組成物や、ガラスや透明樹脂に貼付する等によってガラスや透明樹脂と組み合わせるフィルム等に用いられるフィルム状組成物、並びにガラスや透明樹脂に塗布するための塗料も含む。
本発明に係るケイ素化合物被覆酸化物粒子は、金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部がケイ素化合物によって被覆されたケイ素化合物被覆酸化物粒子であり、上記金属としては、化学周期表上における金属元素又は半金属元素の単数又は異なる複数の元素を含む金属酸化物粒子である。本発明における金属元素は、特に限定されないが、好ましくは、二価又は三価の金属元素が挙げられ、より好ましくはZn、Fe、Ce、Ti等の金属元素を挙げることができる。また、本発明における半金属元素は、特に限定されないが、好ましくは、Si、Ge、As、Sb、Te、Se等の半金属元素を挙げることができる。これらの金属や半金属について、単一の金属元素からなる金属酸化物粒子であってもよく、複数の金属元素からなる複合金属酸化物粒子や金属元素と半金属元素とを含む複合金属酸化物粒子であってもよい。ただし、本発明はケイ素化合物被覆酸化物粒子であるため、上記金属酸化物を構成する元素にSiを含む場合にあっては、Siと金属元素、又はSiとは異なる半金属元素との複数の元素からなる酸化物である必要がある。
本発明に係るケイ素化合物被覆酸化物粒子は、酸化物によってのみ構成されるものに限定するものではない。本発明に影響を与えない程度に酸化物以外の化合物を含むものとしても実施できる。例えば酸化物以外の化合物を含む金属酸化物粒子又は複合金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部をケイ素化合物によって被覆されたケイ素化合物被覆金属酸化物粒子としても実施できる。上記酸化物以外の化合物としては、水酸化物や窒化物、炭化物、硝酸塩や硫酸塩等の各種塩類、及び水和物や有機溶媒和物を挙げることができる。
本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子は、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率又はSi−OH結合に対するCF結合の比率であるCF結合/Si−OH結合比率が制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子である。そのため、本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子には、少なくともケイ素(Si)と酸素(O)が含まれる。ケイ素(Si)と酸素(O)が含まれていることの評価方法としては、透過型電子顕微鏡(TEM)又は走査型電子顕微鏡(STEM)を用いて複数の粒子を観察し、エネルギー分散型X線分析装置(EDS)によって、それぞれの粒子においてケイ素以外の元素に対するケイ素の存在比及び存在位置を確認する方法が好ましい。一例として、一個のケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるケイ素以外の元素とケイ素との存在比(モル比)を特定し、複数個のケイ素化合物被覆酸化物粒子におけるモル比の平均値及び変動係数を算出することで、均一性を評価する方法や、マッピングによってケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるケイ素の存在位置を特定する方法等が挙げられる。本発明においては、STEMマッピング又は線分析において、ケイ素化合物被覆酸化物粒子の表層近傍にケイ素が検出されるケイ素化合物被覆酸化物粒子であることが好ましい。本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子は金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部をケイ素化合物で被覆したケイ素化合物被覆酸化物粒子として実施することができるが、ガラスやクリアー塗膜等の耐候性を求められる組成物に用いる場合には、酸化物粒子を微粒子化することによって生じる光触媒能が、上記ケイ素化合物を粒子の表面の少なくとも一部に被覆することによって抑制されていることが好ましい。また、酸化物粒子の表面をケイ素化合物で被覆することによって、酸化物に対して、耐水性や耐酸・耐アルカリ性等の化学安定性を付与できる利点がある。
本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子には、撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性の制御のために、フッ素(F)が含まれていることが好ましく、CF結合が含まれていることがより好ましい。また上記CF結合がトリフルオロメチル基に由来するフッ素又はCF結合であることがさらに好ましい。撥水性又は撥油性のために、上記フッ素又はCF結合は、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子の表面側に主に存在することが好ましいが、本発明においては上記フッ素又はCF結合が、ケイ素化合物被覆酸化物粒子の内部に含まれても良い。トリフルオロメチル基(CF3基)は臨界表面張力が6mN/m程度と非常に小さいため、上記粒子の特に表面にCF3基が含まれることよって撥水性及び撥油性を向上できるものであり、さらにCF結合の比率を制御することによっても、ケイ素化合物被覆酸化物粒子の撥水性、撥油性並びに紫外線吸収能及び近赤外線反射能等の色特性を制御できる。ケイ素化合物被覆酸化物粒子にフッ素が含まれていることの評価方法としては、上記ケイ素又は酸素と同様の方法が挙げられる。
本発明においては、ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率、又はSi−OH結合に対するCF結合の比率であるCF結合/Si−OH結合比率を制御することで撥水性又は撥油性等の濡れ性、及び反射率や透過率、モル吸光係数等の各種色特性を制御するものであるが、上記Si−OH結合又は上記CF結合/Si−OH結合比率は、一例としてFT−IR測定結果より判断することができる。ここでIRとは赤外吸収分光法の略である。(以下、単にIR測定と示す。)また、上記Si−OH結合又は上記CF結合/Si−OH結合比率は、IR測定以外の方法で測定してもよく、一例としてX線光電子分光法(XPS)や、固体核磁気共鳴(固体NMR)、電子エネルギー損失分光法(EELS)等の方法が挙げられる。
本発明において、ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率は、ケイ素化合物被覆酸化物粒子の赤外吸収スペクトル測定における、波数650cm−1から1300cm−1の領域のピークを波形分離することによって得ることが好ましく、波数850cm−1から950cm−1の領域に波形分離されたピーク、好ましくは波数890cm−1から920cm−1の領域に波形分離されたピークをSi−OH結合に由来するピークとし、波数1200cm−1から1220cm−1の領域に波形分離されたピークをCF結合に由来するピークとし、上記波数650cm−1から1300cm−1の領域において波形分離された各ピークの総面積に対する、上記Si−OH結合に波形分離されたピークの面積比率又は上記Si−OH結合に波形分離されたピークの面積に対する上記CF結合に波形分離されたピークの面積比率(CF結合/Si−OH結合比率)を制御することで、撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性及び色特性が制御された酸化物粒子であることが好ましい。なお、CF結合については、例えばCF3基、CF2基及びCF基などのCF結合を有する官能基による振動が全て波数1200cm−1から1220cm−1の領域に検出されることが考えられるため、波数1200cm−1から1220cm−1の領域に波形分離されたCF結合に由来する単数または複数のピークの総面積をCF結合の面積とすることが好ましい。また、波数850cm−1から950cm−1の領域に波形分離されたSi−OH結合に由来するピークについては、波数850cm−1から950cm−1の領域において、上記CF結合と同様に、異なる振動のSi−OH結合が複数のピークとして波形分離されることも考えられるが、Si−OH結合の代表として波数850cm−1から950cm−1の領域に波形分離されたピークの内、最も面積比率の大きいピークをSi−OH結合の比率とし、上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を算出することが好ましい。
本発明において、上記金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部を被覆するケイ素化合物は、特にSi−OH結合の比率を制御することが容易となるために非晶質のケイ素酸化物を含むことが好ましい。ケイ素化合物が非晶質のケイ素酸化物を含むことの評価方法としては特に限定されないが、上記STEMマッピングによるSi及びOの存在の確認と、赤外吸収スペクトルによるケイ素酸化物の存在の確認に加えて、XRD測定において結晶性のシリカ(SiO2)に由来するピークが確認されないことを組み合わせて評価する方法や、TEM観察やSTEM観察において、Si及びOの検出される部位に結晶格子が観察されないことを確認する等の方法が挙げられる。
モル吸光係数は、紫外可視吸収スペクトル測定における、吸光度と測定試料中の測定対象となる物質のモル濃度より、以下の(式1)にて算出可能である。
ε=A/(c・l) (式1)
ここで、εは物質固有の定数で、モル吸光係数と言い、1cmの厚みをもつ1mol/Lの分散液の吸光度であるため、単位はL/(mol・cm)である。Aは紫外可視吸収スペクトル測定における吸光度であり、cは試料のモル濃度(mol/L)である。lは光が透過する長さ(光路長)(cm)であり、通常は紫外可視吸収スペクトルを測定する際のセルの厚みである。本発明においては、波長200nmから380nmの紫外領域の光線を吸収する能力を示すために、波長200nmから380nmの測定波長領域における複数の波長に対するモル吸光係数の単純平均を算出し、「平均モル吸光係数」として評価した。
本発明においては、紫外領域である上記波長200nmから380nmの範囲におけるモル吸光係数や平均モル吸光係数と同様に上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することによって、可視領域である波長380nmから780nmにおける特定領域の透過率や平均透過率、近赤外領域である波長780nmから2500nmにおける特定領域の反射率や平均反射率等の色特性についても的確かつ厳密に制御できるものであり、特に紫外線防御目的又は近赤外線防御目的の組成物に用いた場合に好適な撥水性又は撥油性のケイ素化合物被覆酸化物粒子を提供できるものである。これらの色特性も制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子の紫外領域又は近赤外線領域の光線を効率良く防御する能力によって、塗装体やガラスそのものの美観や質感、又は意匠性を損なわないための紫外線防御用又は近赤外線防御用組成物や、本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子を含むガラス等を敷設された室内の装飾品や機器類の美観や意匠性又は製品特性を損なわない目的に用いられる透明材用組成物に用いた場合に好適である
上記金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部をケイ素化合物で被覆したケイ素化合物被覆酸化物粒子において、上記金属酸化物粒子を上記金属元素又は半金属元素から選ばれる少なくとも2種類の元素からなる金属酸化物粒子とすることで、ケイ素化合物被覆酸化物粒子を着色し、着色したケイ素化合物被覆酸化物粒子を上記組成物に用いることによって、撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性及び色特性が制御された着色用ケイ素化合物被覆酸化物粒子組成物を提供することも可能である。特に上記金属元素又は半金属元素から選ばれる少なくとも2種類の元素からなる金属酸化物粒子における2種類の金属元素又は半金属元素のモル比(M2/M1:M1、M2はそれぞれ金属元素又は半金属元素)を制御することによって、上記可視領域である波長380nmから780nmにおける透過率や平均透過率に加えて、L*a*b*表色系における色相H(=b*/a*)又は彩度C(=((a*)2+(b*)2)1/2)等の色特性についても的確かつ厳密に制御できるものであり、紫外領域の光線を効率良く防御する能力によって、美観や質感、又は意匠性を損なわない塗布用組成物又は透明材用組成物に用いた場合に好適であるだけでなく、目的によっては積極的に着色することができるため、着色用組成物として用いた場合にも好適である。なお、上記着色を目的とする場合の異なる複数の元素であるM1、M2については、2種の金属元素又は半金属元素からなる複合酸化物に限定しるものではない。M1、M2、M3・・・Mnのように、3種以上の金属元素又は半金属元素からなる酸化物としても実施できる。
本発明における色相又は彩度は、L*a*b*表色系における色相H(=b*/a*、b*>0、a*>0)、彩度C(=((a*)2+(b*)2)1/2)で示すことができる。ここで、L*a*b*表色系は、均等色空間の一つであり、L*は明るさを表す値であり、数値が大きい程明るいことを示す。また、a*、b*は色度を表す。本発明においては、上記表色系をL*a*b*表色系に限定するものではない。XYZ系等他の表色系を用いて色特性を評価してもよい。また本発明においては、色特性がL*a*b*表色系において、40≦L*≦95の範囲で制御することで、暗い色から明るい色までを効果的に発色でき、−35≦a*≦35、又は−35≦b*≦35の範囲、好ましくは−30≦a*≦30、又は−30≦b*値≦30の範囲で制御することで、着色力が強すぎず、人の目に優しい色に近づけることが可能となるため、特に着色紫外線防御目的の組成物に用いた場合に好適である。
本発明においては、上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率の制御の方法については、特に限定されないが、ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれる官能基の変更処理によって、上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することが好ましい。特にケイ素化合物被覆酸化物粒子にCF結合を付与する場合にあっては、上記官能基の変更処理がフッ化処理であることが好ましい。上記官能基の変更処理は、ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれる官能基に対して、置換反応や付加反応、脱離反応や脱水反応、縮合反応を用いた反応等を行う方法によって上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することが可能である。Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御するにあたり、CF結合又はSi−OH結合の比率を増やしてもよいし、減らしてもよい。なお、本発明においては、上記の制御により、ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合に対して、例えば無水トリフルオロ酢酸のようにCF3基を有するカルボン酸におけるカルボキシル基(−COOH)からOHが、Si−OH基におけるヒドロキシル基(−OH)からHが脱離する脱水・縮合反応により達成されるエステル化によって上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子にCF結合を付与することも可能である。エステル化によってケイ素化合物被覆酸化物粒子にCF結合を付与する場合にあっては、Si−OH結合の比率を低減し、CF結合の比率を増加させることが可能であり、さらに親水性官能基であるカルボニル基(―C(=O)−)も付与することが可能であるため、さらに厳密な撥水性、撥油性等の濡れ性の制御が可能である。エステル化において、酸無水物を用いる方法の他、混合酸無水物、酸ハライド等、又はカルボジイミド等の脱水剤を用いる方法等を用いることもできる。また、上記エステル化以外にも、フッ素及び水酸基を有する物質、又はフッ素を有するアルキルハライド、アリールハライド若しくはヘテロアリールハライドを、Si−OH基に好ましくは酸触媒の存在下において作用させることで脱水によって上記フッ素を有する物質とSiとの間にエーテル結合を生じさせる方法や、フッ素を含むイソシアネート又はチオイソシアネートを上記Si−OHに作用させることで(チオ)ウレタン結合を生じさせる方法等によって、上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することも可能である。また本発明においてはSi−OH結合に直接他の物質又は官能基を作用させることによって、新たな結合を生むことに限定されるものではなく、例えばフッ素を含むカルボジイミドを粒子に含まれるカルボン酸等に作用させる方法によって、上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することも可能である。その他にも、過酸化水素やオゾンを酸化物粒子に作用させる方法によって上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することもできる。また、ケイ素化合物被覆酸化物粒子を液中において析出させる際に、当該ケイ素化合物被覆酸化物粒子を析出させる際の酸化物原料液や酸化物析出溶媒の処方や、pHを制御する等の方法によって上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することも可能である。また、脱水反応の一例として、ケイ素化合物被覆酸化物粒子を熱処理する方法によって上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することもできる。ケイ素化合物被覆酸化物粒子を熱処理する方法によって上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御する場合には、乾式での熱処理によっても実施できるし、ケイ素化合物被覆酸化物粒子を分散媒に分散させた分散体の状態で熱処理することによっても実施できる。また、後述するように、ケイ素化合物被覆酸化物粒子を目的の溶媒に分散し、当該分散液に官能基を含む物質を加え攪拌等の処理を施して上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率の制御を実施してもよいし、上記酸化物原料液と酸化物析出溶媒及びケイ素化合物原料液を混合して析出させたケイ素化合物被覆酸化物粒子を含む分散液をそのまま続けて攪拌等の処理を施して上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率の制御を実施しても良い。さらに、分散装置と濾過膜とを連続させた装置を構築し、粒子に対する分散処理とクロスフロー方式の膜濾過による処理によってケイ素化合物被覆酸化物粒子を含むスラリーから不純物を除去する等の方法を行う際のスラリー温度やクロスフローに用いる洗浄液の温度の変更等によっても実施できる。この場合にあっては、当該ケイ素化合物被覆酸化物粒子の一次粒子、特にそれぞれの一次粒子の表面に対して均一な改質処理を行うことができるために、本発明におけるケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれる上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率の制御と、撥水性又は撥油性及び色特性との制御をより厳密かつ均質に行うことが可能となる利点がある。
本発明においては、ケイ素化合物被覆酸化物粒子における金属酸化物粒子の一次粒子径が1nm以上100nm以下であることが好ましく、1nm以上50nm以下であることがより好ましい。また、被覆されたケイ素化合物被覆酸化物粒子における一次粒子径においても、1nm以上100nm以下であることが好ましく、1nm以上50nm以下であることがより好ましい。ケイ素化合物酸化物粒子に含まれるCF結合又はSi−OH結合が主に粒子の表面に存在することによって、撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性及び色特性の制御を厳密に行うことが可能となることが想定されるため、一次粒子径が100nm以下のケイ素化合物被覆酸化物粒子は、一次粒子径が100nmを超えるケイ素化合物被覆酸化物粒子に比べて表面積が増大されており、ケイ素化合物被覆酸化物粒子のSi−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することによる当該ケイ素化合物被覆酸化物粒子の撥水性、撥油性又は親水性などの濡れ性に加えて、透過特性、吸収特性、反射特性、色相、又は彩度等の色特性に対して与える影響が大きいことが考えられる。そのため一次粒子径が100nm以下のケイ素化合物被覆酸化物粒子にあっては、ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することで、所定の色特性(特に、塗膜や塗装体、衣類等のテキスタイル用途に用いる目的の組成物、又は透明性を求められる塗装体やガラス、透明樹脂やフィルム状組成物として用いるのに好適な色特性)を好適に発揮させることができる利点がある。
本発明においては、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子は、上記被覆前の上記金属酸化物粒子の平均一次粒子径に対する化合物による被覆後のケイ素化合物被覆酸化物粒子の平均一次粒子径の割合が100.5%以上190%以下であることが好ましい。金属酸化物粒子に対する化合物の被覆が薄すぎると、化合物によって被覆されたケイ素化合物被覆酸化物粒子が有する撥水性又は撥油性及び色特性に関する効果等を発揮し得なくなるおそれがあることから、ケイ素化合物による被覆後のケイ素化合物被覆酸化物粒子の平均一次粒子径が、金属酸化物粒子の平均一次粒子径の100.5%以上であることが好ましく、被覆が厚すぎる場合や、粗大な凝集体を被覆した場合には撥水性又は撥油性及び色特性の制御が困難となることから、化合物による被覆後のケイ素化合物被覆酸化物粒子の平均一次粒子径が、酸化物粒子の平均一次粒子径の190%以下であることが好ましい。本発明に係るケイ素化合物によって被覆されたケイ素化合物被覆酸化物粒子は、コアとなる金属酸化物粒子の表面全体を化合物で均一に被覆したコアシェル型のケイ素化合物被覆酸化物粒子であってもよい。また、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子は、複数個の金属酸化物粒子が凝集していない、単一の金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部を化合物で被覆したケイ素化合物被覆酸化物粒子であることが好ましいが、複数個の金属酸化物粒子が凝集した凝集体の表面の少なくとも一部を化合物で被覆したケイ素化合物被覆酸化物粒子であってもかまわない。
本発明における酸化物の表面の少なくとも一部を被覆する化合物は、ケイ素化合物であることが好ましく、ケイ素酸化物を含むものであることがより好ましく、非晶質のケイ素酸化物を含むものであることが更に好ましい。ケイ素化合物が非晶質のケイ素酸化物を含むことによって、ケイ素化合物被覆酸化物粒子の反射率、透過率、モル吸光係数、色相、彩度等の色特性を厳密に制御することが可能である。ケイ素化合物が、結晶性のケイ素酸化物の場合には、Si−OHを存在させることが極めて困難となるため、本発明の色特性の制御が困難となる場合がある。
本発明に係るケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法の一例として、ケイ素化合物で被覆される金属酸化物粒子の原料を少なくとも含む酸化物原料液と、当該金属酸化物粒子を析出させるための酸化物析出物質を少なくとも含む酸化物析出溶媒とを用意し、酸化物原料液と酸化物析出溶媒とを混合させた混合流体中で、反応、晶析、析出、共沈等の方法で金属酸化物粒子を析出させ、上記析出させた金属酸化物粒子を含む上記混合流体と、被覆する化合物である、ケイ素化合物の原料を少なくとも含むケイ素化合物原料液とを混合させて、上記金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部をケイ素化合物で被覆することによってケイ素化合物被覆酸化物粒子を製造する方法を用いることが好ましい。また、着色用ケイ素化合物被覆酸化物粒子を目的とする場合には、上記金属酸化物粒子に含まれる異なる複数の金属元素又は半金属元素とは、上記酸化物原料液に一緒に含まれていてもよく、酸化物原料液と酸化物析出溶媒にそれぞれ含まれていてもよく、酸化物原料液と酸化物析出溶媒の両者又はケイ素化合物原料液に含まれていてもよい。
酸化物原料液、酸化物析出溶媒又はケイ素化合物原料液に用いる溶媒としては、例えば水や有機溶媒、又はそれらの複数からなる混合溶媒が挙げられる。上記水としては、水道水、イオン交換水、純水、超純水、RO水(逆浸透水)等が挙げられ、有機溶媒としては、アルコール化合物溶媒、アミド化合物溶媒、ケトン化合物溶媒、エーテル化合物溶媒、芳香族化合物溶媒、二硫化炭素、脂肪族化合物溶媒、ニトリル化合物溶媒、スルホキシド化合物溶媒、ハロゲン化合物溶媒、エステル化合物溶媒、イオン性液体、カルボン酸化合物、スルホン酸化合物等が挙げられる。上記の溶媒はそれぞれ単独で使用してもよく、又は複数を混合して使用してもよい。アルコール化合物溶媒としては、メタノールやエタノール等の1価アルコールや、エチレングリコールやプロピレングリコール等のポリオール等が挙げられる。
本発明に係るケイ素化合物被覆酸化物粒子の作製に悪影響を及ぼさない範囲において、目的や必要に応じて各種の分散剤や界面活性剤を用いてもよい。特に限定されないが、分散剤や界面活性剤としては一般的に用いられる様々な市販品や、製品又は新規に合成したもの等を使用できる。一例として、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤や、各種ポリマー等の分散剤等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。上記の界面活性剤及び分散剤は、酸化物原料液、酸化物析出溶媒の少なくともいずれか1つの流体に含まれていてもよい。また、上記の界面活性剤及び分散剤は、酸化物原料液、酸化物析出溶媒とも異なる、別の流体に含まれていてもよい。
本発明においては、まず、上述したとおり上記ケイ素化合物で被覆される金属酸化物粒子を析出等によって製造する。この際上記金属酸化物粒子が異なる複数の元素M1及びM2からなる場合にあっては、M1とM2とは、少なくとも共に粒子の内部に存在することが好ましく、析出等によって異なる複数の金属元素又は半金属元素からなる金属酸化物粒子を製造するに際して、異なる複数の元素(M1とM2)から構成される金属酸化物を実質的に同時に析出させることによって製造することが好ましい。例えば、酸化亜鉛の原料として硝酸亜鉛六水和物等の亜鉛化合物(M1=Zn)と複合酸化物とするための金属元素又は半金属元素(M2)を含む化合物とを酸性水溶液中に溶解した酸化物原料液と、水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物(酸化物析出物質)の水溶液である酸化物析出溶媒とを混合してケイ素化合物被覆酸化物粒子を析出させる場合においては、pHが1から2付近又は1未満である酸化物原料液に、pHが14以上のような酸化物析出溶媒を混合してケイ素化合物被覆酸化物粒子を析出させる必要がある。酸化物原料液に含まれるM1又はM2から構成される酸化物は、それぞれに析出し易いpHや温度等が異なるため、例えば酸性である酸化物原料液に塩基性である酸化物析出溶媒を徐々に滴下した場合には、上記酸化物原料液と酸化物析出溶媒の混合液のpHも徐々に酸性から塩基性に変化することとなり、まずM1とM2とのいずれか一方が析出し易いpH付近となった時点でM1又はM2の酸化物が析出し(析出し始め)、その後さらに酸化物析出溶媒を加えることで混合液のpHが塩基性側に変化した段階で上記先に析出した酸化物とは異なる他方の酸化物が析出するというような、M1から構成される酸化物粒子とM2から構成される酸化物粒子が段階的に析出することが考えられる。そして、その場合にあっては粒子の内部にM1とM2との両方を含む上記金属酸化物粒子を作製することが困難となる。上記混合液をM1の酸化物とM2の酸化物とのいずれもが析出するpHに瞬間的に調整することによって、見かけ上、同時に析出させることができるために、少なくとも粒子の内部にM1とM2との両方を含む金属酸化物粒子を作製するための前提条件を整えることが可能となる。
さらに、上記金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部にケイ素化合物を被覆する工程においては、上記金属酸化物粒子が凝集する前にケイ素化合物によって被覆することが好ましい。上記金属酸化物粒子を含む流体に、ケイ素化合物原料液を混合する際には、上記金属酸化物粒子が析出し、その後如何に凝集するよりも早い速度でケイ素化合物原料液を投入してケイ素化合物を上記金属酸化物粒子の表面に析出させるかが重要である。さらに、上記ケイ素化合物原料液を、上記金属酸化物粒子を含む流体に投入することによって、上記金属酸化物粒子を含む流体のpH及びケイ素化合物原料の濃度が徐々に変化することとなり、粒子が分散しやすい状況から凝集しやすい状況となった後に粒子の表面を被覆するためのケイ素化合物が析出すると、上記本発明の特性を発揮できない程に凝集する前に被覆することが困難となる可能性がある。上記金属酸化物粒子が析出した直後に、ケイ素化合物原料液に含まれるケイ素化合物原料を作用させることが好ましい。
本発明者らは、ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することによって、当該ケイ素化合物被覆酸化物粒子の撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性及び色特性が制御できることを見出して、本発明を完成させるに至った。ケイ素化合物がケイ素酸化物であるケイ素化合物被覆酸化物粒子や、ケイ素化合物被覆酸化物粒子を析出させる際に、当該ケイ素化合物被覆酸化物粒子にCF結合を付与するトリフルオロ酢酸や、シェル用酸化物原料として3−トリフルオロプロピル−トリメトキシシランのようなCF結合を含む物質を用いることについては、本件出願の基礎出願である特願2016−111346号においても開示されており、これが特異な性質を有することが見出されていたが、本発明者らは、さらに、本件出願の別の基礎出願であるPCT/JP2016/83001号に開示されている通り、このケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合を制御することによって、ケイ素化合物被覆酸化物粒子の撥水性又は撥油性及び色特性を制御できることを見出した。本発明のケイ素酸化物被覆酸化物粒子は、実質的には、本件出願の基礎出願である特願2016−111346号に開示されたケイ素酸化物被覆酸化物粒子と対応関係にあるものである。
本発明に係るケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法の一例としては、例えば、マイクロリアクターを用いたり、バッチ容器内で希薄系での反応を行う等によってケイ素化合物被覆酸化物粒子を作製する等の方法が挙げられる。またケイ素化合物被覆酸化物粒子を作製するために、本願出願人によって提案された特開2009−112892号公報にて記載されたような装置及び方法を用いてもよい。特開2009−112892号公報に記載の装置は、断面形状が円形である内周面を有する攪拌槽と、該攪拌槽の内周面と僅かな間隙を在して付設される攪拌具とを有し、攪拌槽には、少なくとも二箇所の流体入口と、少なくとも一箇所の流体出口とを備え、流体入口のうち一箇所からは、被処理流体のうち、反応物の一つを含む第一の被処理流体を攪拌槽内に導入し、流体入口のうちで上記以外の一箇所からは、上記反応物とは異なる反応物の一つを含む第二の被処理流体を、上記第一の被処理流体とは異なる流路より攪拌槽内に導入するものであり、攪拌槽と攪拌具の少なくとも一方が他方に対し高速回転することにより被処理流体を薄膜状態とし、この薄膜中で少なくとも上記第一の被処理流体と第二の被処理流体とに含まれる反応物同士を反応させるものであり、三つ以上の被処理流体を攪拌槽に導入するために、同公報の図4及び5に示すように導入管を三つ以上設けてもよいことが記載されている。また上記マイクロリアクターの一例としては、特許文献6及び7に記載の流体処理装置と同様の原理の装置が挙げられる。その他、ビーズミル等の粉砕法を用いる等して酸化物粒子を作製し、作製した後に反応容器内や上記マイクロリアクター等を用いてケイ素化合物を被覆酸化物粒子に被覆する処理を行ってもよい。
本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子は撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性及び紫外線又は近赤外線の防御、並びに着色を目的とするものであり、塗膜や封止材又は塗装体、衣類等のテキスタイル用途に用いる目的の組成物、又は透明性を求められる塗装体やガラス、透明樹脂やフィルム状組成物に用いるための組成物に用いることができる。一例として、塗布用組成物又は透明材用組成物に用いることが挙げられる。塗布用組成物としては、特に限定されるものではなく、例えば溶剤系塗料、水性塗料等種々の塗装に用いるための塗布用組成物や、口紅やファンデーション、サンスクリーン剤等の化粧料や皮膚に塗布することを目的とした塗布用組成物に適用することができる。透明材用組成物としては、透明性を求められる塗装体や建築用や乗り物用又はメガネに用いるガラス、透明樹脂やフィルム状組成物に用いるための組成物であり、例えばガラスや透明樹脂又はクリアー塗膜そのものに含まれる組成物や、ガラスや透明樹脂に貼付する等、ガラスと組み合わせるフィルム等に用いられるフィルム状組成物、ガラスに塗布するための塗料などが挙げられる。なお上記透明樹脂としては、PMMA(ポリメチルメタクリレート)、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)等が挙げられる。
塗布用組成物又は透明材用組成物である、塗料や塗膜、化粧料等、若しくはガラスや透明樹脂の材料として用いる場合には本発明に係るケイ素化合物被覆酸化物粒子組成物を、塗料や塗装体を形成する塗膜又は化粧料等の組成物に混合させる等の方法や、ガラスや硬化前のガラス、又は透明樹脂に直接練り込むことや、各種ガラス用の膜やフィルム、又はクリアー塗膜を形成するための組成物に混合させる等の方法で用いることができる。これによって、紫外線又は近赤外線を目的に応じて効果的に遮蔽し、且つ撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性が制御された紫外線又は近赤外線防御目的塗布用組成物又は撥水性、撥油性若しくは親水性等の濡れ性が制御された紫外線又は近赤外線防御目的透明材用組成物とできる。上記紫外線又は近赤外線防御目的塗布用組成物又は紫外線若しくは近赤外線防御目的透明材用組成物は、必要に応じて、顔料、染料の他、湿潤剤、分散剤、色分れ防止剤、レベリング剤、粘度調整剤、皮張り防止剤、ゲル化防止剤、消泡剤増粘剤、タレ防止剤、防カビ剤、紫外線吸収剤、近赤外反射剤、成膜助剤、界面活性剤、樹脂成分等の添加剤を、適宜、目的に応じてさらに含むことができる。塗装することを目的とする場合の樹脂成分としては、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を例示し得る。本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子が含まれる塗料が適用される塗布物としては、単一の塗料組成物から構成される単層の塗布物であってもよく、特開2014−042891号公報や特開2014−042892号公報に記載のような積層塗膜用途のように、複数の塗料組成物から構成される複数層の塗布物であってもよく、また、顔料が含まれる塗料に含めて実施することもできるし、クリアー塗料等の塗料に含めて実施することもできる。上記フィルム状組成物を目的とする場合には、必要に応じてバインダー樹脂や硬化剤、硬化触媒やレベリング剤、界面活性剤やシランカップリング剤、消泡剤や顔料又は染料のような着色剤、酸化防止剤等を含有することができる。
本発明に係る撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性が制御された紫外線若しくは近赤外線防御目的塗布用組成物又は紫外線若しくは近赤外線防御目的透明材用組成物は、ケイ素化合物被覆酸化物粒子の粉末、液状の分散媒にケイ素化合物被覆酸化物粒子を分散させた分散体、及びガラスや樹脂等の固体(又は固化する前の液体等)にケイ素化合物被覆酸化物粒子を分散させた分散体等を含むものである。上記組成物に含まれるケイ素化合物被覆酸化物粒子は、1個のケイ素化合物被覆酸化物粒子から構成されていてもよく、複数個のケイ素化合物被覆酸化物粒子が凝集した凝集体から構成されていてもよく、両者の混合物であってもよい。複数個のケイ素化合物被覆酸化物粒子が凝集した凝集体から構成される場合、その凝集体の大きさが100nm以下であることが好ましい。また、上記紫外線又は近赤外線防御目的塗布用組成物又は紫外線若しくは近赤外線防御目的透明材用組成物は、各種の色材とともに使用してもよいし、塗膜としてガラスにオーバーコートするための組成物であってもよい。さらに上記撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性が制御された紫外線若しくは近赤外線防御目的塗布用組成物又は紫外線若しくは近赤外線防御目的透明材用組成物が分散体の場合、分散媒としては、水道水、蒸留水、RO水(逆浸透水)、純水、超純水等の水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒;プロピレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコールやグリセリン等の多価アルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;シリコーンオイルや植物オイル、ワックス等が挙げられる。これらは単独で使用してもよいし、複数を混合して使用してもよい。
本発明に係る撥水性又は撥油性等の濡れ性を有する紫外線若しくは近赤外線防御目的塗布用組成物又は紫外線若しくは近赤外線防御目的透明材用組成物に用いられる塗布物、又は紫外線若しくは近赤外線防御目的透明材用組成物に用いるフィルムやガラス等の透明材の色としては、特に限定されず、目的の色相に対して本発明の紫外線若しくは近赤外線防御目的塗布用組成物又は紫外線若しくは近赤外線防御目的透明材用組成物を用いることができる。また本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子は、上記Si−OH結合の比率又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することによって、厳密かつ正確な色特性が制御できるため、紫外線又は近赤外線防御目的着色用組成物として用いた場合においても好適である。本発明に係る塗布用、透明材用又は着色用組成物は上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子を含むことによって、建物や乗り物等に用いられる塗料や塗装体等の塗布物に用いた場合や、クリアー塗膜やガラス、又はディスプレイやコンタクトレンズ等のフィルム状組成物等の透明材に用いた場合には、撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性が制御されており、且つ紫外線又は近赤外線防御能を高め、建物や乗り物等の塗装体においても上記濡れ性の制御に加えてそれの塗装体に含まれる有機物等の分解や人体においては皮膚の損傷等をも抑制し、また建築物や乗り物に用いられるガラスにおいても上記濡れ性の制御に加えてガラスを透過した紫外線が室内の有機物や機器類を損傷することや近赤外線による温度上昇等を抑制でき、尚かつ使用量の低減やそれによって可視光線に対して高い透過特性を示すためにガラスやクリアー塗膜等の透明感の向上にも寄与できるだけでなく、色相等の色特性を厳密に制御できるために、美観や質感、意匠性を高めることができる。
塗布物や透明材の色としては、白色系やグレー系、又は黒色系、例えばマンセル表色系における明度10の白色から明度0の黒色を備えた色や、赤色系、例えばマンセル色相環でRPからYRの色相を備えた色や、黄色から緑色系、例えばマンセル色相環でYからBGの色相を備えた色や、青色から紫色系、例えばマンセル色相環でBからPの色素を備えた色(それぞれ、メタルカラーを含む)等が挙げられる。これらの色は、それらの色の塗布物に用いられる塗布用組成物に好適に配合することができる。しかしこれに限るものではなく、他の色相の色であってもかまわない。また、特にそれらの色を呈する塗膜や塗装体のトップコートに、本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子を含む塗布用組成物又は透明材用組成物を用いることによって、撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性が制御された各種の組成物とできることに加えて、各色の発色を損なうことを著しく低減できるだけでなく効果的に着色できるため、塗装体の意匠性を高めるための着色用組成物としても好適である。塗布用、透明材用又は着色用組成物に必要に応じて含まれる顔料や染料は、種々の顔料や染料を用いることができ、例えばカラーインデックスに登録される全ての顔料や染料を用いることができる。その中でも例えば、緑色を構成する顔料にあってはC.I.Pigment Greenに分類される顔料並びに染料、青色を構成する顔料にあっては、C.I.Pigment Blueに分類される顔料並びに染料、白色を構成する顔料にあってはC.I.Pigment Whiteに分類される顔料並びに染料、黄色を構成する顔料にあってはC.I.Pigment Yellowに分類される顔料並びに染料、赤色を構成する顔料や染料にあっては、カラーインデックスにおいてC.I.Pigment Redに分類される顔料並びに染料、C.I.Pigment VioletやC.I.PigmentOrangeに分類される顔料並びに染料等が挙げられる。より具体的にはC.I.Pigment Red 122やC.I.Pigment Violet 19のようなキナクリドン系顔料やC.I.Pigment Red 254やC.I.Pigment Orange 73のようなジケトピロロピロール系顔料、C.I.Pigment Red 150やC.I.Pigment Red 170のようなナフトール系顔料やC.I.Pigment Red 123やC.I.Pigment Red 179のようなペリレン系顔料やC.I.Pigment Red 144のようなアゾ系顔料等が挙げられる。これらの顔料並びに染料は、単独で用いてもよいし、複数を混合して使用してもよい。なお、本発明のケイ素化合物被覆酸化物粒子を含む組成物は、上記顔料及び染料等と混合せずに単独で塗布用、透明材用又は着色用組成物に配合することも可能である。
実施例で得られたケイ素化合物被覆酸化物粒子のウェットケーキサンプルの一部をプロピレングリコールモノメチルエーテルに分散させ、得られた分散液をコロジオン膜に滴下して乾燥させて、TEM観察用試料又はSTEM観察用試料とした。なお、後述する参考例で得られたケイ素化合物被覆酸化物粒子の場合においては、得られたケイ素化合物被覆酸化物粒子のウェットケーキサンプルの一部をプロピレングリコールに分散させ、得られた分散液を更にイソプロピルアルコール(IPA)で100倍に希釈し、得られた分散液をコロジオン膜に滴下して乾燥させて、TEM観察用試料又はSTEM観察用試料とした。
TEM−EDS分析によるケイ素化合物被覆酸化物粒子の観察及び定量分析には、エネルギー分散型X線分析装置、JED−2300(日本電子株式会社製)を備えた透過型電子顕微鏡、JEM−2100(日本電子株式会社製)を用いた。観察条件としては、加速電圧を80kV、観察倍率を2万5千倍以上とした。TEMによって観察されたケイ素化合物被覆酸化物粒子の最大外周間の距離より粒子径を算出し、100個の粒子について粒子径を測定した結果の平均値(平均一次粒子径)を算出した。TEM−EDSによってケイ素化合物被覆酸化物を構成する元素成分のモル比を算出し、10個以上の粒子についてモル比を算出した結果の平均値を算出した。
STEM−EDS分析による、ケイ素化合物被覆酸化物粒子中に含まれる元素のマッピング及び定量には、エネルギー分散型X線分析装置、Centurio(日本電子株式会社製)を備えた、原子分解能分析電子顕微鏡、JEM−ARM200F(日本電子株式会社製)を用いた。観察条件としては、加速電圧を80kV、観察倍率を5万倍以上とし、直径0.2nmのビーム径を用いて分析した。
X線回折(XRD)測定には、粉末X線回折測定装置 EMPYREAN(スペクトリス株式会社PANalytical事業部製)を使用した。測定条件は、測定範囲:10から100[°2θ] Cu対陰極、管電圧45kV、管電流40mA、走査速度0.3°/minとした。各実施例及び参考例で得られたケイ素化合物被覆酸化物粒子の乾燥粉体を用いてXRD測定を行った。
FT−IR測定には、フーリエ変換赤外分光光度計、FT/IR−6600(日本分光株式会社製)を用いた。測定条件は、窒素雰囲気下におけるATR法を用いて、分解能4.0cm−1、積算回数1024回である。IRスペクトルにおける波数650cm−1から1300cm−1のピークの波形分離は、上記FT/IR−6600の制御用ソフトに付属のスペクトル解析プログラムを用いて、残差二乗和が0.01以下となるようにカーブフィッティングした。実施例及び参考例で得られたケイ素化合物被覆酸化物粒子の乾燥粉体を用いて測定した。
透過スペクトル、吸収スペクトル、反射スペクトル、色相、及び彩度は、紫外可視近赤外分光光度計(製品名:V−770、日本分光株式会社製)を使用した。透過スペクトルの測定範囲は200nmから800nmとし、吸収スペクトルの測定範囲は200nmから800nmとし、サンプリングレートを0.2nm、測定速度を低速として測定した。特定の波長領域について、複数の測定波長における透過率を単純平均し、平均透過率とした。
モル吸光係数は、吸収スペクトルを測定後、測定結果から得られた吸光度と分散液の酸化物濃度より、各測定波長におけるモル吸光係数を算出し、横軸に測定波長、縦軸にモル吸光係数を記載したグラフとした。測定には、厚み1cmの液体用セルを用いた。また、波長200nmから380nmの複数の測定波長におけるモル吸光係数を単純平均し、平均モル吸光係数を算出した。
以下、実施例1においては、金属酸化物粒子として酸化亜鉛粒子の表面の少なくとも一部をケイ素化合物で被覆したケイ素化合物被覆酸化亜鉛粒子について記載する。高速回転式分散乳化装置であるクレアミックス(製品名:CLM−2.2S、エム・テクニック株式会社製)を用いて、酸化物析出溶媒(A液)、酸化物原料液(B液)、及びケイ素化合物原料液(C液)を調製した。具体的には表1の実施例1に示す酸化物原料液の処方に基づいて、酸化物原料液の各成分を、クレアミックスを用いて、調製温度40℃、ローター回転数を20000rpmにて30分間攪拌することにより均質に混合し、酸化物原料液を調製した。また、表1の実施例1に示す酸化物析出溶媒の処方に基づいて、酸化物析出溶媒の各成分を、クレアミックスを用いて、調製温度45℃、ローターの回転数15000rpmにて30分間攪拌することにより均質に混合し、酸化物析出溶媒を調製した。ただし、メタノール(MeOH)のみのように単独の溶媒を用いた場合には、上記調製の処理は行っていない。さらに、表1の実施例1に示すケイ素化合物原料液の処方に基づいて、ケイ素化合物原料液の各成分を、クレアミックスを用いて、調製温度20℃、ローターの回転数6000rpmにて10分間攪拌することにより均質に混合し、ケイ素化合物原料液を調製した。
なお、表1に記載の化学式や略記号で示された物質については、MeOHはメタノール(株式会社ゴードー製)、EGはエチレングリコール(キシダ化学株式会社製)、KOHは水酸化カリウム(日本曹達株式会社製)、TEOSはテトラエチルオルトシリケート(和光純薬工業株式会社製)、ZnOは酸化亜鉛(関東化学株式会社製)、Zn(NO3)2・6H2Oは硝酸亜鉛六水和物(関東化学株式会社製)、Co(NO3)2・6H2Oは硝酸コバルト六水和物(関東化学株式会社製)、Mn(NO3)2・6H2Oは硝酸マンガン六水和物(関東化学株式会社製)、Al(NO3)3・9H2Oは硝酸アルミニウム九水和物(関東化学株式会社製)、Fe(NO3)3・9H2Oは硝酸鉄九水和物(関東化学株式会社製)、NaOHは水酸化ナトリウム(関東化学株式会社製)、NMPはN−メチル−2−ピロリドン(キシダ化学株式会社製)、フッ化処理剤1はトリエトキシ−1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルシラン(東京化成工業株式会社製)、フッ化処理剤2はトリメトキシ(3,3,3−トリフルオロプロピル)シラン(東京化成工業株式会社製)、フッ化処理剤3はトリフルオロ酢酸無水物(関東化学株式会社製)、フッ化処理剤4はトリフルオロメタンスルホン酸無水物(関東化学株式会社製)を使用した。
これらのことから、ケイ素化合物被覆酸化亜鉛粒子に含まれるSi−OH結合又はCF結合/Si−OH結合比率を制御することによって、波長200nmから380nmの範囲における平均モル吸光係数、波長780nmから2500nmの範囲における平均反射率、及び撥水性、撥油性又は親水性等の濡れ性が制御できることがわかった。より具体的にはケイ素化合物被覆酸化亜鉛粒子に含まれるSi−OH結合の比率を低く制御すること及びCF結合/Si−OH結合比率を高く制御することによって、波長200nmから380nmの範囲における平均モル吸光係数、波長780nmから2500nmの範囲における平均反射率、及び撥水性又は撥油性を向上できることがわかった。
以下、実施例2においては、酸化物粒子として酸化鉄粒子の表面の少なくとも一部をケイ素化合物で被覆したケイ素化合物被覆酸化鉄粒子について記載する。作製条件を表4及び表5とした以外は、実施例1−1〜実施例1−6と同様の条件で作製した。なお、表4に記載の化学式や略記号で示された物質については、MeOHはメタノール(株式会社ゴードー製)、TEOSはテトラエチルオルトシリケート(和光純薬工業株式会社製)、Fe(NO3)3・9H2Oは硝酸鉄九水和物(関東化学株式会社製)、NaOHは水酸化ナトリウム(関東化学株式会社製)、NMPはN−メチル−2−ピロリドン(キシダ化学株式会社製)、フッ化処理剤1はトリエトキシ−1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルシラン(東京化成工業株式会社製)、フッ化処理剤2はトリメトキシ(3,3,3−トリフルオロプロピル)シラン(東京化成工業株式会社製)、フッ化処理剤3はトリフルオロ酢酸無水物(関東化学株式会社製)、フッ化処理剤4はトリフルオロメタンスルホン酸無水物(関東化学株式会社製)を使用した。
以下、実施例3においては、酸化物粒子として酸化セリウム粒子の表面の少なくとも一部をケイ素化合物で被覆したケイ素化合物被覆酸化セリウム粒子について記載する。作製条件を表7及び表8とした以外は、実施例1−1〜実施例1−6と同様の条件で作成した。なお、表7に記載の化学式や略記号で示された物質については、MeOHはメタノール(株式会社ゴードー製)、TEOSはテトラエチルオルトシリケート(和光純薬工業株式会社製)、Ce(NO3)3・6H2Oは硝酸セリウム六水和物(関東化学株式会社製)、NaOHは水酸化ナトリウム(関東化学株式会社製)、NMPはN−メチル−2−ピロリドン(キシダ化学株式会社製)、フッ化処理剤1はトリエトキシ−1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルシラン(東京化成工業株式会社製)、フッ化処理剤2はトリメトキシ(3,3,3−トリフルオロプロピル)シラン(東京化成工業株式会社製)、フッ化処理剤3はトリフルオロ酢酸無水物(関東化学株式会社製)、フッ化処理剤4はトリフルオロメタンスルホン酸無水物(関東化学株式会社製)を使用した。
以下、実施例4においては、酸化物粒子として酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部をケイ素化合物で被覆したケイ素化合物被覆酸化チタン粒子について記載する。作製時の条件を表10及び表11とした以外は、実施例1−1〜実施例1−6と同様の条件で作成した。なお、表10に記載の化学式や略記号で示された物質については、MeOHはメタノール(株式会社ゴードー製)、TEOSはテトラエチルオルトシリケート(和光純薬工業株式会社製)、TiOSO4・nH2Oは硫酸チタニルn水和物(関東化学株式会社製、TiOSO4・2H2Oとして用いた。)、NaOHは水酸化ナトリウム(関東化学株式会社製)、NMPはN−メチル−2−ピロリドン(キシダ化学株式会社製)、フッ化処理剤1はトリエトキシ−1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルシラン(東京化成工業株式会社製)、フッ化処理剤2はトリメトキシ(3,3,3−トリフルオロプロピル)シラン(東京化成工業株式会社製)、フッ化処理剤3はトリフルオロ酢酸無水物(関東化学株式会社製)、フッ化処理剤4はトリフルオロメタンスルホン酸無水物(関東化学株式会社製)を使用した。
実施例5として、特開2009−112892号公報に記載の装置並びにA液、B液及びC液の混合・反応方法を用いた以外は、実施例1と同じ条件とすることで、ケイ素化合物被覆酸化亜鉛粒子を作製した。ここで、特開2009−112892号公報の装置とは、同公報の図1に記載の装置を用い、撹拌槽の内径が80mm、攪拌具の外端と攪拌槽の内周側面と間隙が0.5mm、攪拌羽根の回転数は7200rpmとした。また、撹拌槽にA液を導入し、攪拌槽の内周側面に圧着されたA液からなる薄膜中にB液を加えて混合し反応させた。TEM観察の結果、一次粒子径が30nm〜40nm程度のケイ素化合物被覆酸化亜鉛粒子が観察された。また参考例1と同様に、フッ化されていない上記実施例5と同粒子径の酸化亜鉛粒子を作製した(参考例5)。
Claims (24)
- 金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部がケイ素化合物で被覆されたケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法であり、
上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率を制御することによって、濡れ性及び色特性を制御することを特徴とするケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。 - 金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部がケイ素化合物で被覆されたケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法であり、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子がCF結合を含み、
上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合に対するCF結合の比率であるCF結合/Si−OH結合比率を制御することによって、濡れ性及び色特性を制御することを特徴とするケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。 - 上記濡れ性が撥水性又は撥油性であることを特徴とする請求項1又は2に記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記色特性が反射率、透過率又はモル吸光係数のいずれかであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率又は上記CF結合/Si−OH結合比率が、全反射測定法(ATR法)を用いて測定した赤外吸収スペクトルにおける波数650cm−1から1300cm−1のケイ素化合物被覆酸化物粒子由来のピークを波形分離することで算出されるものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記波形分離されたCF結合に由来するピークが、波数1200cm−1から1220cm−1の範囲に波形分離されたピークであることを特徴とする請求項5に記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記ケイ素化合物に含まれる官能基の変更処理を行うことによって、上記ケイ素化合物に含まれるSi−OH結合の比率を制御することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記官能基の変更処理が、フッ化処理であることを特徴とする請求項7に記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記フッ化処理が、トリフルオロメチル化処理であることを特徴とする請求項8に記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記ケイ素化合物に含まれるSi−OH結合の比率を、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子を分散媒に分散させた分散体の状態で制御することを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記分散体を熱処理することによって、上記ケイ素化合物に含まれるSi−OH結合の比率を制御することを特徴とする請求項10に記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記ケイ素化合物に含まれるSi−OH結合の比率を接近離反可能な相対的に回転する処理用面間において制御することを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記分散体が塗膜、フィルム又はガラスであり、上記分散体を熱処理することによって、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子の撥水性又は撥油性、及び色特性を制御することを特徴とする請求項10又は11に記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記Si−OH結合の比率を低く制御することで、波長780nmから2500nmの領域における平均反射率が高くなるように制御することを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 上記Si−OH結合の比率を低く制御することで、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子を有機溶媒に分散させた分散体における、波長200nmから380nmの領域における平均モル吸光係数が高くなるように制御することを特徴とする請求項1〜14のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法。
- 金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部がケイ素化合物で被覆されたケイ素化合物被覆酸化物粒子であり、
上記ケイ素化合物は、上記金属酸化物粒子の表面の少なくとも一部を被覆することによって、上記金属酸化物粒子の濡れ性及び色特性を変化させ得るものであって、
全反射測定法(ATR法)を用いて測定した赤外吸収スペクトルにおける波数650cm−1から1300cm−1のケイ素化合物被覆酸化物粒子由来のピークを波形分離することで算出される、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるCF結合/Si−OH結合比率が0以上4.5以下であり、上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子を分散媒に分散させた状態で波長200nmから380nmの領域における平均モル吸光係数が650L/(mol・cm)以上であることを特徴とするケイ素化合物被覆酸化物粒子。 - 上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子に含まれるSi−OH結合の比率が5%以上70%以下であることを特徴とする請求項16に記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子。
- 上記金属酸化物粒子を構成する酸化物が酸化亜鉛、酸化鉄、酸化セリウム及び酸化チタンからなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項16又は17に記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子。
- 上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子の波長780nmから2500nmの領域における平均反射率が50%以上であることを特徴とする請求項16〜18のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子。
- 上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子を分散媒に分散させた状態で、波長200nmから380nmの光線に対する平均透過率が15%以下であり、波長380nmから780mnの光線に対する平均透過率が80%以上であることを特徴とする請求項16〜19のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子。
- 上記金属酸化物粒子を構成する酸化物粒子が、2種以上の元素からなる複合酸化物粒子であり、
上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子の色特性が、L*a*b*表色系において、40≦L*≦95、−35≦a*≦35、又は−35≦b*≦35の範囲であることを特徴とする請求項16〜20のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子。 - 上記ケイ素化合物が非晶質のケイ素酸化物を含むケイ素化合物であることを特徴とする請求項16〜21のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子。
- 上記ケイ素化合物被覆酸化物粒子を塗布した塗布面に対する水滴の接触角が110°以上であることを特徴とする請求項16〜22のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子。
- 上記請求項16〜23のいずれかに記載のケイ素化合物被覆酸化物粒子を含むことを特徴とする、紫外線防御かつ撥水又は撥油用ケイ素化合物被覆酸化物組成物。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016111346 | 2016-06-02 | ||
JP2016111346 | 2016-06-02 | ||
PCT/JP2016/066542 WO2017061140A1 (ja) | 2015-10-05 | 2016-06-03 | 金属酸化物粒子及びその製造方法 |
JPPCT/JP2016/066542 | 2016-06-03 | ||
PCT/JP2016/083001 WO2018083805A1 (ja) | 2016-11-07 | 2016-11-07 | 色特性を制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法、及びケイ素化合物被覆酸化物粒子、並びにそのケイ素化合物被覆酸化物粒子を含む塗布用組成物 |
JPPCT/JP2016/083001 | 2016-11-07 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017531789A Division JP6241700B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-05-25 | ケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017218377A true JP2017218377A (ja) | 2017-12-14 |
JP7043050B2 JP7043050B2 (ja) | 2022-03-29 |
Family
ID=60477555
Family Applications (15)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017515257A Active JP6269896B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-02-21 | 透明材用紫外線及び/又は近赤外線遮断剤組成物 |
JP2017531789A Active JP6241700B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-05-25 | ケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法 |
JP2017533983A Active JP6273633B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-06-01 | ケイ素化合物被覆金属微粒子、ケイ素化合物被覆金属微粒子を含む組成物、及びケイ素化合物被覆金属微粒子の製造方法 |
JP2017533985A Active JP6273635B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-06-02 | 色特性を制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子、並びにそのケイ素化合物被覆酸化物粒子を含む塗布用又はフィルム状組成物 |
JP2017533365A Active JP6273632B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-06-02 | ケイ素化合物被覆金属微粒子の製造方法 |
JP2017533984A Active JP6273634B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-06-02 | 色特性を制御された酸化物粒子の製造方法 |
JP2017158762A Active JP7043050B2 (ja) | 2016-06-02 | 2017-08-21 | ケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法、ケイ素化合物被覆酸化物粒子及びそれを含むケイ素化合物被覆酸化物組成物 |
JP2017159026A Pending JP2018009183A (ja) | 2016-06-02 | 2017-08-22 | ケイ素化合物被覆金属微粒子 |
JP2017190962A Pending JP2017222574A (ja) | 2016-06-02 | 2017-09-29 | 色特性を制御された酸化物粒子、並びにその酸化物粒子を含む塗布用又はフィルム状組成物 |
JP2017198350A Pending JP2018012893A (ja) | 2016-06-02 | 2017-10-12 | ケイ素被覆金属微粒子、ケイ素化合物被覆金属微粒子及びその製造方法 |
JP2021100069A Withdrawn JP2021152222A (ja) | 2016-06-02 | 2021-06-16 | ケイ素被覆金属微粒子、ケイ素化合物被覆金属微粒子及びその製造方法 |
JP2021200453A Active JP7421026B2 (ja) | 2016-06-02 | 2021-12-09 | 色特性を制御された酸化物粒子、並びにその酸化物粒子を含む塗布用又はフィルム状組成物 |
JP2022000091A Active JP7253162B2 (ja) | 2016-06-02 | 2022-01-04 | ケイ素化合物被覆金属微粒子 |
JP2023038923A Pending JP2023065707A (ja) | 2016-06-02 | 2023-03-13 | ケイ素化合物被覆金属微粒子 |
JP2023208041A Pending JP2024019462A (ja) | 2016-06-02 | 2023-12-08 | 色特性を制御された酸化物粒子、並びにその酸化物粒子を含む塗布用又はフィルム状組成物 |
Family Applications Before (6)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017515257A Active JP6269896B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-02-21 | 透明材用紫外線及び/又は近赤外線遮断剤組成物 |
JP2017531789A Active JP6241700B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-05-25 | ケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法 |
JP2017533983A Active JP6273633B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-06-01 | ケイ素化合物被覆金属微粒子、ケイ素化合物被覆金属微粒子を含む組成物、及びケイ素化合物被覆金属微粒子の製造方法 |
JP2017533985A Active JP6273635B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-06-02 | 色特性を制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子、並びにそのケイ素化合物被覆酸化物粒子を含む塗布用又はフィルム状組成物 |
JP2017533365A Active JP6273632B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-06-02 | ケイ素化合物被覆金属微粒子の製造方法 |
JP2017533984A Active JP6273634B1 (ja) | 2016-06-02 | 2017-06-02 | 色特性を制御された酸化物粒子の製造方法 |
Family Applications After (8)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017159026A Pending JP2018009183A (ja) | 2016-06-02 | 2017-08-22 | ケイ素化合物被覆金属微粒子 |
JP2017190962A Pending JP2017222574A (ja) | 2016-06-02 | 2017-09-29 | 色特性を制御された酸化物粒子、並びにその酸化物粒子を含む塗布用又はフィルム状組成物 |
JP2017198350A Pending JP2018012893A (ja) | 2016-06-02 | 2017-10-12 | ケイ素被覆金属微粒子、ケイ素化合物被覆金属微粒子及びその製造方法 |
JP2021100069A Withdrawn JP2021152222A (ja) | 2016-06-02 | 2021-06-16 | ケイ素被覆金属微粒子、ケイ素化合物被覆金属微粒子及びその製造方法 |
JP2021200453A Active JP7421026B2 (ja) | 2016-06-02 | 2021-12-09 | 色特性を制御された酸化物粒子、並びにその酸化物粒子を含む塗布用又はフィルム状組成物 |
JP2022000091A Active JP7253162B2 (ja) | 2016-06-02 | 2022-01-04 | ケイ素化合物被覆金属微粒子 |
JP2023038923A Pending JP2023065707A (ja) | 2016-06-02 | 2023-03-13 | ケイ素化合物被覆金属微粒子 |
JP2023208041A Pending JP2024019462A (ja) | 2016-06-02 | 2023-12-08 | 色特性を制御された酸化物粒子、並びにその酸化物粒子を含む塗布用又はフィルム状組成物 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (8) | US10906097B2 (ja) |
EP (11) | EP3467061B1 (ja) |
JP (15) | JP6269896B1 (ja) |
KR (7) | KR20190015341A (ja) |
CN (11) | CN114621681B (ja) |
AU (4) | AU2017273976B2 (ja) |
CA (2) | CA3023211A1 (ja) |
MX (2) | MX2018014695A (ja) |
MY (2) | MY188625A (ja) |
WO (6) | WO2017208522A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109806819A (zh) * | 2019-01-22 | 2019-05-28 | 蒋留平 | 一种复合疏水纳米粉体包覆液体弹珠的制备方法 |
JP7006908B2 (ja) | 2017-08-24 | 2022-01-24 | 国立大学法人 鹿児島大学 | 金属酸化物ナノ粒子及びその製造方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102433576B1 (ko) * | 2017-02-14 | 2022-08-18 | 엠. 테크닉 가부시키가이샤 | 규소 도프 금속 산화물 입자, 및 규소 도프 금속 산화물 입자를 포함하는 자외선 흡수용 조성물 |
US11508641B2 (en) * | 2019-02-01 | 2022-11-22 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Thermally conductive and electrically insulative material |
JP7111636B2 (ja) * | 2019-02-05 | 2022-08-02 | 国立大学法人 東京大学 | 鉄系酸化物磁性粉およびその製造方法 |
CN113711378A (zh) * | 2019-04-25 | 2021-11-26 | Agc株式会社 | 纳米粒子的集合体、纳米粒子的分散液、油墨、薄膜、有机发光二极管和纳米粒子的集合体的制造方法 |
JP7268520B2 (ja) * | 2019-07-25 | 2023-05-08 | セイコーエプソン株式会社 | 磁性粉末、磁性粉末の製造方法、圧粉磁心およびコイル部品 |
CN112824325A (zh) * | 2019-11-20 | 2021-05-21 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种孔状的铈铌氧化物纳米片状材料及制备方法 |
CN110835474B (zh) * | 2019-11-22 | 2021-06-08 | 上海卫星装备研究所 | 一种星用低吸收比颜料颗粒及其制备方法 |
US20230088289A1 (en) * | 2020-02-21 | 2023-03-23 | Nextdot | Composition for the manufacture of an ophtalmic lens comprising semi-conductive nanoparticles |
KR102550751B1 (ko) * | 2021-02-10 | 2023-07-03 | 도레이첨단소재 주식회사 | 표면에너지 조절용 유무기 입자, 이를 포함하는 이형필름, 및 상기 표면에너지 조절용 유무기 입자의 제조방법 |
JP2022150635A (ja) * | 2021-03-26 | 2022-10-07 | 旭化成株式会社 | 金属顔料組成物 |
CN116940426A (zh) | 2021-04-08 | 2023-10-24 | M技术株式会社 | 硅化合物包覆的金属镁微粒 |
CN112986304A (zh) * | 2021-04-25 | 2021-06-18 | 武汉大学 | 对地聚合物成分进行定性定量分析的方法 |
WO2023234074A1 (ja) * | 2022-06-02 | 2023-12-07 | Agc株式会社 | ナノ粒子、分散液、インク、薄膜、有機発光ダイオードおよび量子ドットディスプレイ、ならびにナノ粒子を製造する方法 |
CN116873932A (zh) * | 2023-07-28 | 2023-10-13 | 北京华威锐科化工有限公司 | 一种高纯片状硅生产系统及制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998047476A1 (fr) * | 1997-04-18 | 1998-10-29 | Showa Denko K.K. | Preparation cosmetique, poudre d'oxyde de metal recouverte de silice et son procede de preparation |
WO2000042112A1 (fr) * | 1999-01-11 | 2000-07-20 | Showa Denko K. K. | Preparation cosmetique, particules d'oxyde metallique enrobees d'un sol de silice rendues hydrophobes en surface, oxyde metallique revetu de sol de silice et procedes de production |
US20060167138A1 (en) * | 2002-06-05 | 2006-07-27 | Showa Denko K.K. | Powder comprising silica-coated zinc oxide, organic polymer composition containing the powder and shaped article thereof |
JP2007131460A (ja) * | 2001-09-14 | 2007-05-31 | Showa Denko Kk | シリカ被覆混晶酸化物粒子、その製法及びそれを用いた化粧料 |
JP2017071754A (ja) * | 2015-10-05 | 2017-04-13 | エム・テクニック株式会社 | 塗料用ケイ素酸化物被覆酸化鉄組成物 |
Family Cites Families (112)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2068294A (en) * | 1931-02-07 | 1937-01-19 | Ig Farbenindustrie Ag | Inorganic colored pigment and a process of preparing the same |
US4133677A (en) * | 1976-04-05 | 1979-01-09 | Toda Kogyo Corp. | Process for producing acicular magnetic metallic particle powder |
US4136158A (en) * | 1976-11-01 | 1979-01-23 | Toda Kogyo Corp. | Production of acicular magnetic iron oxides |
DK141034B (da) * | 1977-11-22 | 1979-12-31 | C C Hansen | Elektrode til indsaetning i oerets snegl (cochlea) |
DE2904491A1 (de) * | 1979-02-07 | 1980-08-21 | Bayer Ag | Plaettchenfoermige eisenoxidpigmente und verfahren zu deren herstellung sowie deren verwendung |
JPS5931004A (ja) | 1982-08-14 | 1984-02-18 | Hitachi Maxell Ltd | 金属磁性粉末の製造方法 |
JPS60135506A (ja) | 1983-12-22 | 1985-07-18 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | 強磁性金属粉末の製造法 |
DE3516884A1 (de) | 1985-05-10 | 1986-11-13 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung nadelfoermiger, im wesentlichen aus eisen bestehender ferromagnetischer metallteilchen |
JPS61266705A (ja) | 1985-05-17 | 1986-11-26 | 大淀小松株式会社 | 剥離破砕機 |
JP2717103B2 (ja) | 1988-02-26 | 1998-02-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 透明紫外線吸収塗料 |
JP2561782B2 (ja) * | 1992-09-07 | 1996-12-11 | 化成オプトニクス株式会社 | 顔料付青色発光蛍光体及びカラーブラウン管 |
JP3327959B2 (ja) * | 1992-10-27 | 2002-09-24 | 化成オプトニクス株式会社 | 青色発光組成物 |
JP3242236B2 (ja) * | 1993-09-16 | 2001-12-25 | 大日精化工業株式会社 | 微粒子複合酸化物ブルー顔料の製造方法 |
US5599627A (en) * | 1993-10-08 | 1997-02-04 | Toda Kogyo Corporation | Magnetic particles comprising magnetite core and process for producing the same |
US5582818A (en) * | 1994-01-27 | 1996-12-10 | Ajinomoto Co., Inc. | Ultraviolet screening powder and cosmetics |
DE19620942A1 (de) * | 1995-06-05 | 1996-12-12 | Gen Electric | Effizientes Verfahren zum Hydrophobieren von anorganischem Pulver |
GB9616978D0 (en) * | 1996-08-13 | 1996-09-25 | Tioxide Specialties Ltd | Zinc oxide dispersions |
JP3496858B2 (ja) | 1996-10-15 | 2004-02-16 | 三井金属鉱業株式会社 | 超微細酸化亜鉛の製造方法 |
EP0953610A4 (en) | 1996-12-10 | 2008-06-25 | Catalysts & Chem Ind Co | COATED PIGMENTS OF INORGANIC COMPOUNDS AND COSMETIC PRODUCTS |
US6235270B1 (en) | 1997-04-18 | 2001-05-22 | Showa Denko K.K. | Cosmetics, silica-coated metal oxide powder and production method therefor |
JPH11193354A (ja) | 1997-12-26 | 1999-07-21 | Fuji Shikiso Kk | シリカ被覆酸化亜鉛粒子、その製法及びその粒子を含有する 組成物 |
JP3710935B2 (ja) | 1998-06-17 | 2005-10-26 | 日鉄鉱業株式会社 | 磁性流体を用いた制動部材 |
JP4740458B2 (ja) * | 1999-01-11 | 2011-08-03 | 昭和電工株式会社 | 化粧料、表面疎水化シリカ被覆金属酸化物粒子、シリカ被覆金属酸化物ゾル、及びこれらの製法 |
JP2002286916A (ja) | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Sekisui Jushi Co Ltd | 自浄性集光反射体及び太陽光集光発電装置 |
WO2003025071A1 (en) * | 2001-09-14 | 2003-03-27 | Showa Denko K.K. | Silica-coated mixed crystal oxide particle, production process thereof and cosmetic material using the same |
US7524528B2 (en) * | 2001-10-05 | 2009-04-28 | Cabot Corporation | Precursor compositions and methods for the deposition of passive electrical components on a substrate |
WO2003053853A1 (fr) * | 2001-12-12 | 2003-07-03 | Mitsui Mining And Smelting Co., Ltd. | Particule d'oxyde composite noir et son procede de production |
JP4118085B2 (ja) * | 2002-05-29 | 2008-07-16 | 触媒化成工業株式会社 | シリカ被覆金微粒子、その製造方法および赤色顔料 |
JP4582439B2 (ja) | 2002-06-05 | 2010-11-17 | 昭和電工株式会社 | シリカ被覆酸化亜鉛含有粉末、それを含有する有機重合体組成物およびその成形品 |
JP2004124069A (ja) * | 2002-07-31 | 2004-04-22 | Showa Denko Kk | シリカ被覆アルミニウム顔料およびその製造方法並びにその用途 |
JP2004339396A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Showa Denko Kk | グラビア印刷インキ及びそれを用いた紫外線カット印刷物 |
DE102004004147A1 (de) * | 2004-01-28 | 2005-08-18 | Degussa Ag | Oberflächenmodifizierte, mit Siliziumdioxid umhüllte Metalloid/Metalloxide |
JP2007031216A (ja) | 2005-07-27 | 2007-02-08 | Nippon Shokubai Co Ltd | 金属酸化物粒子およびその用途 |
JP4706411B2 (ja) | 2005-09-21 | 2011-06-22 | 住友電気工業株式会社 | 軟磁性材料、圧粉磁心、軟磁性材料の製造方法、および圧粉磁心の製造方法 |
WO2007043496A1 (en) | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Kaneka Corporation | Transparent polymer nanocomposites containing nanoparticles and method of making same |
CN101321816A (zh) * | 2005-10-03 | 2008-12-10 | 株式会社钟化 | 含纳米颗粒的透明聚合物纳米复合材料及其制备方法 |
DE102005056622A1 (de) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Merck Patent Gmbh | Nanopartikel |
JP4933780B2 (ja) | 2006-01-17 | 2012-05-16 | 日本板硝子株式会社 | 車両用窓ガラス及びその製造方法 |
EP1990377B1 (en) * | 2006-02-14 | 2012-02-08 | Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha | Colored metallic pigment, process for producing the same, and coating composition and cosmetic preparation containing said colored metallic pigment |
JP2007277018A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 着色膜付きガラス板及び着色膜付きガラス板の製造方法 |
DE102006038518A1 (de) | 2006-08-17 | 2008-02-21 | Evonik Degussa Gmbh | Umhüllte Zinkoxidpartikel |
CN101517123B (zh) * | 2006-09-15 | 2012-12-05 | 宇部日东化成株式会社 | 包覆金属层的基材及其制造方法 |
JP5201655B2 (ja) * | 2006-10-05 | 2013-06-05 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | コアシェル型金属酸化物微粒子分散液の製造方法及びその分散液 |
CN101523513B (zh) | 2006-10-17 | 2012-01-11 | 日立化成工业株式会社 | 被覆粒子及其制造方法、以及所形成的组合物和粘接剂膜 |
TWI327556B (en) | 2006-10-19 | 2010-07-21 | Ind Tech Res Inst | Ultraviolet absorber formulation |
DE102006051634A1 (de) | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Evonik Degussa Gmbh | Oberflächenmodifizierte Zink-Silicium-Oxidpartikel |
JPWO2008075784A1 (ja) * | 2006-12-20 | 2010-04-15 | Hoya株式会社 | 金属酸化物系ナノ粒子、その製造方法、ナノ粒子分散樹脂およびその製造方法 |
JP5049624B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2012-10-17 | 株式会社東芝 | 金属微粒子分散膜、および金属微粒子分散膜の製造方法 |
JP2008260648A (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-30 | Sprout Net Working:Kk | 磁性超微粒子の表面における無機酸化膜のコーティング処理及び分散方法 |
JP4770776B2 (ja) | 2007-04-11 | 2011-09-14 | 信越半導体株式会社 | ルツボ内残融液の固化方法 |
JP5158078B2 (ja) * | 2007-04-13 | 2013-03-06 | 旭硝子株式会社 | 疎水化酸化ケイ素被覆金属酸化物粒子の製造方法 |
JP5234305B2 (ja) | 2007-04-16 | 2013-07-10 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光触媒構造体 |
DE102007028842A1 (de) | 2007-06-20 | 2008-12-24 | Eckert Gmbh | Dunkle, IR-Strahlung reflektierende Pigmente, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung derselben |
CN101784484B (zh) * | 2007-07-06 | 2013-07-17 | M技术株式会社 | 陶瓷纳米粒子的制造方法 |
WO2009008393A1 (ja) | 2007-07-06 | 2009-01-15 | M.Technique Co., Ltd. | 強制超薄膜回転式処理法を用いたナノ粒子の製造方法 |
JP5288848B2 (ja) * | 2007-10-05 | 2013-09-11 | 油脂製品株式会社 | 金呈色用顔料および金呈色用顔料の製造方法 |
JP5648986B2 (ja) | 2007-11-02 | 2015-01-07 | エム・テクニック株式会社 | 流体処理装置及び流体処理方法 |
JP5413554B2 (ja) | 2008-04-25 | 2014-02-12 | 戸田工業株式会社 | 太陽光高反射塗料用着色顔料 |
JP4655105B2 (ja) | 2008-04-30 | 2011-03-23 | 住友金属鉱山株式会社 | 紫外線遮蔽透明樹脂成形体およびその製造方法 |
JP2010001555A (ja) | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Hoya Corp | シリカ被覆ナノ粒子、ナノ粒子堆積基板、およびそれらの製造方法 |
JPWO2010007956A1 (ja) | 2008-07-17 | 2012-01-05 | 旭硝子株式会社 | 撥水性基体およびその製造方法 |
JP5661273B2 (ja) * | 2008-11-26 | 2015-01-28 | 三ツ星ベルト株式会社 | 金属コロイド粒子及びそのペースト並びにその製造方法 |
DE102008044384A1 (de) * | 2008-12-05 | 2010-06-10 | Evonik Degussa Gmbh | Eisen-Silicium-Oxidpartikel mit einer Kern-Hülle-Struktur |
JP4790003B2 (ja) | 2008-12-26 | 2011-10-12 | 株式会社カーメイト | コーティング膜形成方法およびコーティング液 |
JP2010229197A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Seiko Epson Corp | 耐水化アルミニウム顔料分散液の製造方法、耐水化アルミニウム顔料およびそれを含有する水性インク組成物 |
KR101708082B1 (ko) * | 2009-09-15 | 2017-02-17 | 스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤 | 금속 산화물 입자 내포 수지 분체와 이를 포함한 분산액 및 수계 분산체 및 금속 산화물 입자 내포 수지 분체의 제조 방법 및 화장료 |
TWI436470B (zh) | 2009-09-30 | 2014-05-01 | Advanced Semiconductor Eng | 封裝製程及封裝結構 |
JP2011094212A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Hoya Corp | 溶媒分散性粒子の製造方法 |
WO2011148463A1 (ja) | 2010-05-25 | 2011-12-01 | エム・テクニック株式会社 | ドープ元素量を制御された析出物質の製造方法 |
JP2012036489A (ja) | 2010-08-11 | 2012-02-23 | Toda Kogyo Corp | 金属ナノ粒子粉末の製造方法及び金属ナノ粒子粉末 |
JP5598989B2 (ja) | 2011-02-07 | 2014-10-01 | エム・テクニック株式会社 | ドープ元素量を制御された析出物質の製造方法 |
EP2687306B1 (en) * | 2011-03-14 | 2018-07-11 | M Technique Co., Ltd. | Manufacturing method for metal microparticles |
KR101860383B1 (ko) * | 2011-03-23 | 2018-05-23 | 엠. 테크닉 가부시키가이샤 | 고효율인 세라믹스 미립자의 제조 방법 |
WO2012147209A1 (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-01 | エム・テクニック株式会社 | 酸化物・水酸化物の製造方法 |
JP5781366B2 (ja) | 2011-05-16 | 2015-09-24 | 東洋アルミニウム株式会社 | 樹脂被覆メタリック顔料 |
US20140242128A1 (en) * | 2011-08-03 | 2014-08-28 | Sakai Chemical Industry Co., Ltd. | Composite powder and method for producing same |
JP6303499B2 (ja) * | 2011-09-12 | 2018-04-04 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 金属コア・酸化物シェルのコアシェル構造ナノ粒子の連続合成方法および連続合成装置 |
JP5653884B2 (ja) | 2011-10-19 | 2015-01-14 | 大日精化工業株式会社 | 紫外線・近赤外線遮断水性塗料、該塗料からなる塗膜が形成された遮熱処理ガラス及び該塗料を用いた窓ガラスの遮熱処理方法 |
DE102011055072A1 (de) * | 2011-11-04 | 2013-05-08 | Eckart Gmbh | Beschichtete, nasschemisch oxidierte Aluminiumeffektpigmente, Verfahren zu deren Herstellung, Beschichtungsmittel und beschichteter Gegenstand |
JP6002994B2 (ja) | 2011-11-16 | 2016-10-05 | エム・テクニック株式会社 | 固体金属合金 |
US9669463B2 (en) * | 2012-02-29 | 2017-06-06 | M. Technique Co., Ltd. | Method for producing microparticles by growing a precipitated seed microparticle |
CN104220380B (zh) * | 2012-04-02 | 2016-03-30 | 大日精化工业株式会社 | 复合氧化物黑色颜料和其制造方法 |
CN102616828B (zh) * | 2012-04-12 | 2014-01-08 | 江苏省东泰精细化工有限责任公司 | 一种掺杂纳米氧化锌粉体及其制备方法 |
JP5113302B1 (ja) | 2012-04-13 | 2013-01-09 | 浩司 岡本 | 紫外線・赤外線遮蔽コーティング剤及び紫外線・赤外線遮蔽コーティング被膜 |
JP5737523B2 (ja) * | 2012-06-01 | 2015-06-17 | 学校法人 名古屋電気学園 | 黒色系顔料、並びにそれを含む釉薬及び塗料 |
US20140027667A1 (en) * | 2012-07-26 | 2014-01-30 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing Na | Iron cobalt ternary alloy nanoparticles with silica shells |
EP2883847B1 (en) * | 2012-07-31 | 2018-03-07 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Intermediate film for laminated glass, laminated glass, and method of mounting laminated glass |
JP6255658B2 (ja) | 2012-08-28 | 2018-01-10 | マツダ株式会社 | 積層塗膜及び塗装物 |
JP5765741B2 (ja) | 2012-08-28 | 2015-08-19 | 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 | 高意匠複層塗膜形成方法 |
WO2014042227A1 (ja) * | 2012-09-12 | 2014-03-20 | エム・テクニック株式会社 | 金属微粒子の製造方法 |
WO2014041705A1 (ja) * | 2012-09-12 | 2014-03-20 | エム・テクニック株式会社 | 金属微粒子の製造方法 |
US20140134216A1 (en) * | 2012-11-14 | 2014-05-15 | National University Corporation Okayama University | Iron oxide red pigment |
KR102180017B1 (ko) * | 2013-04-19 | 2020-11-18 | 스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤 | 산화 규소 피복 산화 아연과 그 제조방법 및 산화 규소 피복 산화 아연 함유 조성물 및 화장료 |
WO2014175278A1 (ja) * | 2013-04-24 | 2014-10-30 | 旭硝子株式会社 | 複合粒子分散液の製造方法、複合粒子、及び金属ナノ粒子分散液の製造方法 |
JP6133749B2 (ja) * | 2013-04-26 | 2017-05-24 | 国立大学法人 東京大学 | 酸化鉄ナノ磁性粒子粉およびその製造方法、当該酸化鉄ナノ磁性粒子粉を含む酸化鉄ナノ磁性粒子薄膜およびその製造方法 |
CN103436111B (zh) | 2013-07-29 | 2017-11-10 | 复旦大学 | 一种基于ZnO量子点的水性紫外屏蔽涂料的制备方法 |
EP3027691A4 (en) * | 2013-07-29 | 2017-04-19 | SG Ventures Pty Limited | Metallic pigments and method of coating a metallic substrate |
MX2016004382A (es) * | 2013-10-07 | 2016-11-17 | Ppg Ind Ohio Inc | Rellenos tratados, composiciones que contienen los mismos y particulas preparadas a partir de los mismos. |
DE102013220253A1 (de) * | 2013-10-08 | 2015-04-09 | Evonik Industries Ag | Kupfer und Siliciumdioxid enthaltende Kompositpartikel |
JP6269439B2 (ja) * | 2013-11-01 | 2018-01-31 | 信越化学工業株式会社 | 酸化チタン含有コーティング組成物及び被覆物品 |
JP2016011346A (ja) | 2014-06-27 | 2016-01-21 | Jnc株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物および液晶表示素子 |
CN106068341B (zh) | 2014-07-14 | 2020-06-23 | M技术株式会社 | 单晶氧化锌纳米粒子的制造方法 |
JP6337963B2 (ja) | 2014-07-17 | 2018-06-06 | 国立大学法人 東京大学 | 磁性合金粒子が担持された磁性材料及び該磁性材料の製造方法 |
JP6474212B2 (ja) * | 2014-08-19 | 2019-02-27 | 学校法人東京理科大学 | 中空シリカ粒子の製造方法及び中空シリカ粒子 |
JP6215163B2 (ja) * | 2014-09-19 | 2017-10-18 | 株式会社東芝 | 複合磁性材料の製造方法 |
WO2016060223A1 (ja) * | 2014-10-16 | 2016-04-21 | 住友大阪セメント株式会社 | 表面修飾金属酸化物粒子分散液及びその製造方法、表面修飾金属酸化物粒子-シリコーン樹脂複合組成物、表面修飾金属酸化物粒子-シリコーン樹脂複合体、光学部材、及び発光装置 |
KR101818579B1 (ko) | 2014-12-09 | 2018-01-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 광전자 소자 및 표시 장치 |
JP6107891B2 (ja) | 2015-06-25 | 2017-04-05 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤 |
EP3315575A4 (en) * | 2015-06-26 | 2019-01-09 | M. Technique Co., Ltd. | PROCESS FOR PRODUCING ULTRAVIOLET PROTECTION AGENT COMPOSITION, AND ULTRAVIOLET PROTECTIVE AGENT COMPOSITION THUS OBTAINED |
AU2016334203A1 (en) * | 2015-10-05 | 2018-03-15 | M. Technique Co., Ltd. | Metal oxide particles and method for producing same |
JP6083780B1 (ja) | 2016-11-07 | 2017-02-22 | エム・テクニック株式会社 | 色特性を制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法、及びケイ素化合物被覆酸化物粒子、並びにそのケイ素化合物被覆酸化物粒子を含む塗布用組成物 |
JP6149283B1 (ja) | 2017-01-06 | 2017-06-21 | エム・テクニック株式会社 | 色特性を制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法 |
-
2017
- 2017-02-21 KR KR1020187037231A patent/KR20190015341A/ko not_active Application Discontinuation
- 2017-02-21 US US16/306,190 patent/US10906097B2/en active Active
- 2017-02-21 JP JP2017515257A patent/JP6269896B1/ja active Active
- 2017-02-21 CN CN202210250380.9A patent/CN114621681B/zh active Active
- 2017-02-21 WO PCT/JP2017/006444 patent/WO2017208522A1/ja unknown
- 2017-02-21 EP EP17806084.4A patent/EP3467061B1/en active Active
- 2017-02-21 CN CN201780027378.2A patent/CN109072010B/zh active Active
- 2017-05-25 EP EP17806508.2A patent/EP3466882B1/en active Active
- 2017-05-25 US US16/306,446 patent/US11052461B2/en active Active
- 2017-05-25 WO PCT/JP2017/019469 patent/WO2017208951A1/ja unknown
- 2017-05-25 CN CN201780033017.9A patent/CN109195914B/zh active Active
- 2017-05-25 JP JP2017531789A patent/JP6241700B1/ja active Active
- 2017-05-25 KR KR1020187033731A patent/KR102341564B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-01 CN CN202210558256.9A patent/CN114736540A/zh active Pending
- 2017-06-01 CN CN201780027389.0A patent/CN109071256A/zh active Pending
- 2017-06-01 KR KR1020227005543A patent/KR102507578B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-01 JP JP2017533983A patent/JP6273633B1/ja active Active
- 2017-06-01 WO PCT/JP2017/020494 patent/WO2017209256A1/ja unknown
- 2017-06-01 EP EP17806806.0A patent/EP3466883A4/en active Pending
- 2017-06-01 US US16/306,242 patent/US10882109B2/en active Active
- 2017-06-01 KR KR1020187026497A patent/KR102366636B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-02 EP EP17806855.7A patent/EP3466885B1/en active Active
- 2017-06-02 JP JP2017533985A patent/JP6273635B1/ja active Active
- 2017-06-02 CA CA3023211A patent/CA3023211A1/en active Pending
- 2017-06-02 EP EP22216384.2A patent/EP4183746A1/en active Pending
- 2017-06-02 WO PCT/JP2017/020727 patent/WO2017209306A1/ja unknown
- 2017-06-02 CA CA3024834A patent/CA3024834A1/en active Pending
- 2017-06-02 KR KR1020187034465A patent/KR102379410B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-02 EP EP17806838.3A patent/EP3466884A4/en active Pending
- 2017-06-02 AU AU2017273976A patent/AU2017273976B2/en active Active
- 2017-06-02 WO PCT/JP2017/020726 patent/WO2017209305A1/ja unknown
- 2017-06-02 EP EP20172549.6A patent/EP3730209A1/en active Pending
- 2017-06-02 CN CN202210992410.3A patent/CN115215366B/zh active Active
- 2017-06-02 WO PCT/JP2017/020659 patent/WO2017209288A1/ja unknown
- 2017-06-02 MX MX2018014695A patent/MX2018014695A/es unknown
- 2017-06-02 EP EP17806856.5A patent/EP3466886B1/en active Active
- 2017-06-02 JP JP2017533365A patent/JP6273632B1/ja active Active
- 2017-06-02 EP EP22216365.1A patent/EP4183482A1/en active Pending
- 2017-06-02 KR KR1020237009119A patent/KR20230042537A/ko not_active Application Discontinuation
- 2017-06-02 MY MYPI2018002114A patent/MY188625A/en unknown
- 2017-06-02 KR KR1020227009643A patent/KR102512280B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-02 CN CN202211120369.7A patent/CN115464137A/zh active Pending
- 2017-06-02 CN CN201780033183.9A patent/CN109195915B/zh active Active
- 2017-06-02 US US16/306,098 patent/US11033960B2/en active Active
- 2017-06-02 MY MYPI2018002115A patent/MY191075A/en unknown
- 2017-06-02 EP EP23209851.7A patent/EP4303273A2/en active Pending
- 2017-06-02 US US16/306,816 patent/US20190292374A1/en not_active Abandoned
- 2017-06-02 CN CN202210497305.2A patent/CN114671456B/zh active Active
- 2017-06-02 US US16/306,225 patent/US11247912B2/en active Active
- 2017-06-02 JP JP2017533984A patent/JP6273634B1/ja active Active
- 2017-06-02 AU AU2017273975A patent/AU2017273975B2/en active Active
- 2017-06-02 CN CN201780025497.4A patent/CN109071255B/zh active Active
- 2017-06-02 CN CN201780025496.XA patent/CN109071254B/zh active Active
- 2017-06-02 MX MX2018014550A patent/MX2018014550A/es unknown
- 2017-06-02 EP EP22216396.6A patent/EP4180397A1/en active Pending
- 2017-08-21 JP JP2017158762A patent/JP7043050B2/ja active Active
- 2017-08-22 JP JP2017159026A patent/JP2018009183A/ja active Pending
- 2017-09-29 JP JP2017190962A patent/JP2017222574A/ja active Pending
- 2017-10-12 JP JP2017198350A patent/JP2018012893A/ja active Pending
-
2020
- 2020-12-01 US US17/108,842 patent/US20210154736A1/en active Pending
-
2021
- 2021-06-16 JP JP2021100069A patent/JP2021152222A/ja not_active Withdrawn
- 2021-12-09 JP JP2021200453A patent/JP7421026B2/ja active Active
- 2021-12-21 US US17/558,111 patent/US20220112090A1/en active Pending
-
2022
- 2022-01-04 JP JP2022000091A patent/JP7253162B2/ja active Active
- 2022-01-28 AU AU2022200574A patent/AU2022200574A1/en not_active Abandoned
- 2022-02-10 AU AU2022200859A patent/AU2022200859B2/en active Active
-
2023
- 2023-03-13 JP JP2023038923A patent/JP2023065707A/ja active Pending
- 2023-12-08 JP JP2023208041A patent/JP2024019462A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998047476A1 (fr) * | 1997-04-18 | 1998-10-29 | Showa Denko K.K. | Preparation cosmetique, poudre d'oxyde de metal recouverte de silice et son procede de preparation |
WO2000042112A1 (fr) * | 1999-01-11 | 2000-07-20 | Showa Denko K. K. | Preparation cosmetique, particules d'oxyde metallique enrobees d'un sol de silice rendues hydrophobes en surface, oxyde metallique revetu de sol de silice et procedes de production |
JP2007131460A (ja) * | 2001-09-14 | 2007-05-31 | Showa Denko Kk | シリカ被覆混晶酸化物粒子、その製法及びそれを用いた化粧料 |
US20060167138A1 (en) * | 2002-06-05 | 2006-07-27 | Showa Denko K.K. | Powder comprising silica-coated zinc oxide, organic polymer composition containing the powder and shaped article thereof |
JP2017071754A (ja) * | 2015-10-05 | 2017-04-13 | エム・テクニック株式会社 | 塗料用ケイ素酸化物被覆酸化鉄組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7006908B2 (ja) | 2017-08-24 | 2022-01-24 | 国立大学法人 鹿児島大学 | 金属酸化物ナノ粒子及びその製造方法 |
CN109806819A (zh) * | 2019-01-22 | 2019-05-28 | 蒋留平 | 一种复合疏水纳米粉体包覆液体弹珠的制备方法 |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6241700B1 (ja) | ケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法 | |
WO2017061519A1 (ja) | ケイ素酸化物で被覆された酸化鉄粒子を含む積層塗膜用組成物 | |
JP6149283B1 (ja) | 色特性を制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法 | |
WO2018150477A1 (ja) | ケイ素ドープ金属酸化物粒子、及びケイ素ドープ金属酸化物粒子を含む紫外線吸収用組成物 | |
JP2022168134A (ja) | 色特性を制御された酸化物粒子の製造方法、及び酸化物粒子、並びにその酸化物粒子を含む塗布用又はフィルム状組成物 | |
JP6218003B1 (ja) | 着色紫外線防御剤 | |
JP6083780B1 (ja) | 色特性を制御されたケイ素化合物被覆酸化物粒子の製造方法、及びケイ素化合物被覆酸化物粒子、並びにそのケイ素化合物被覆酸化物粒子を含む塗布用組成物 | |
JP6092492B1 (ja) | ケイ素酸化物で被覆された酸化鉄粒子を含む積層塗膜用組成物 | |
JP6183677B1 (ja) | 着色紫外線防御剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170821 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210629 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220208 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220309 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7043050 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |