JP2015537250A5 - - Google Patents

Claims (3)

1. 構造化表面を作製する方法であって、
   第１電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第１層を形成し、第１平均粗さを有する該第１層の第１主表面を生じさせることと、
   第２電気めっきプロセスを使用して該第１主表面上に該金属を電着させることによって、該第１層の該第１主表面上に該金属からなる第２層を形成し、該第１平均粗さよりも小さい第２平均粗さを有する該第２層の第２主表面を生じさせることと、を含む、方法。
2. 光学フィルムであって、
   密集構造を含む構造化主表面であって、該構造化主表面は、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定する、構造化主表面を含み、
   該構造化主表面は、直交する第１及び第２面内方向のそれぞれに関連する第１及び第２フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
   該第１フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第１基準線を画定する２つの隣接する谷によって境界づけられる１つ以上の第１周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第１周波数ピークは、０．８未満の第１ピーク率を有し、該第１ピーク率は、該第１周波数ピークと該第１基準線との間の面積を、該第１周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
   該第２フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第２基準線を画定する２つの隣接する谷によって境界づけられる１つ以上の第２周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第２周波数ピークは、０．８未満の第２ピーク率を有し、該第２ピーク率は、該第２周波数ピークと該第２基準線との間の面積を、該第２周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
   該密集構造は、該基準面における等価円直径（ＥＣＤ）、及び該厚さ方向に沿う平均高さによって特徴づけられ、それぞれの構造のアスペクト比は、該構造の該平均高さを該構造の該ＥＣＤで割った値に等しく、
   該構造の平均アスペクト比は、０．１５未満である、光学フィルム。
3. 光学フィルムであって、
   大型の第１構造及び小型の第２構造を含む構造化主表面であって、該第１及び第２構造が、共に、２つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される、構造化主表面を含み、
   該第１構造は、該主表面上に不均一に配置されており、
   該第２構造は、密集し、かつ該第１構造間に不均一に分散されており、
   該第１構造の平均サイズは、１５マイクロメートル超であり、該第２構造の平均サイズは、１５マイクロメートル未満である、光学フィルム。