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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 27
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
Description
項目35.光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
該基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
該基材と該プリズム層との間に配設された埋め込み構造化表面と、を備え、該埋め込み構造化表面はツール構造化表面からの微細複製によって作製され、該ツール構造化表面が、第1の電気メッキプロセスを使用して金属を電着することにより金属の第1の層を形成し、第1の平均粗度を有する該第1の層の主表面をもたらすことと、第2の電気メッキプロセスを使用して該第1の層上に該金属を電着することにより該第1の層の該主表面上に該金属の第2の層を形成し、該第1の平均粗度よりも小さい第2の平均粗度を有する該第2の層の主表面をもたらすことと、によって作製され、該第2の層の該主表面が該ツール構造化表面に対応する、光学フィルム。
本発明の実施態様の一部を以下の態様[1]−[6]に記載する。
[態様1]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、隣接する構造体の間に隆起部が形成されるように配置された最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面であって、前記構造体の大きさが2つの直交面内方向に沿って制限される、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記埋め込み構造化表面が、平面図における200mm/mm 2 未満の隆起部全長/単位面積を特徴とする、光学フィルム。
[態様2]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面であって、前記埋め込み構造化表面が、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定する、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記最密充填構造体が、前記基準面内の等価円直径(ECD)及び前記厚さ方向に沿った平均高さを特徴とし、各構造体のアスペクト比が、前記構造体の前記ECDで除した前記構造体の前記平均高さに等しく、
前記構造体の平均アスペクト比が0.15未満である、光学フィルム。
[態様3]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、湾曲したベース面を有する最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記埋め込み構造化表面が95%未満の光学的ヘイズを提供する、光学フィルム。
[態様4]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記埋め込み構造化表面が、10〜60%の範囲内の光学的ヘイズ及び10〜40%の範囲内の光学的透明度を提供する、光学フィルム。
[態様5]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、より大きな第1の構造体及びより小さな第2の構造体を備える、埋め込み構造化表面であって、前記第1及び第2の構造体の両方の大きさが2つの直交面内方向に沿って制限される、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記第1の構造体が、前記埋め込み構造化表面上に不均一に配置され、
前記第2の構造体が、前記第1の構造体の間に最密充填されて不均一に分散され、
前記第1の構造体の平均の大きさが15マイクロメートル超であり、前記第2の構造体の平均の大きさが15マイクロメートル未満である、光学フィルム。
[態様6]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設された埋め込み構造化表面と、を備え、前記埋め込み構造化表面がツール構造化表面からの微細複製によって作製され、前記ツール構造化表面が、第1の電気メッキプロセスを使用して金属を電着することにより前記金属の第1の層を形成し、第1の平均粗度を有する前記第1の層の主表面をもたらすことと、第2の電気メッキプロセスを使用して前記第1の層上に前記金属を電着することにより前記第1の層の前記主表面上に前記金属の第2の層を形成し、前記第1の平均粗度よりも小さい第2の平均粗度を有する前記第2の層の主表面をもたらすことと、によって作製され、前記第2の層の前記主表面が前記ツール構造化表面に対応する、光学フィルム。
複屈折性基材と、
該基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
該基材と該プリズム層との間に配設された埋め込み構造化表面と、を備え、該埋め込み構造化表面はツール構造化表面からの微細複製によって作製され、該ツール構造化表面が、第1の電気メッキプロセスを使用して金属を電着することにより金属の第1の層を形成し、第1の平均粗度を有する該第1の層の主表面をもたらすことと、第2の電気メッキプロセスを使用して該第1の層上に該金属を電着することにより該第1の層の該主表面上に該金属の第2の層を形成し、該第1の平均粗度よりも小さい第2の平均粗度を有する該第2の層の主表面をもたらすことと、によって作製され、該第2の層の該主表面が該ツール構造化表面に対応する、光学フィルム。
本発明の実施態様の一部を以下の態様[1]−[6]に記載する。
[態様1]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、隣接する構造体の間に隆起部が形成されるように配置された最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面であって、前記構造体の大きさが2つの直交面内方向に沿って制限される、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記埋め込み構造化表面が、平面図における200mm/mm 2 未満の隆起部全長/単位面積を特徴とする、光学フィルム。
[態様2]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面であって、前記埋め込み構造化表面が、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定する、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記最密充填構造体が、前記基準面内の等価円直径(ECD)及び前記厚さ方向に沿った平均高さを特徴とし、各構造体のアスペクト比が、前記構造体の前記ECDで除した前記構造体の前記平均高さに等しく、
前記構造体の平均アスペクト比が0.15未満である、光学フィルム。
[態様3]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、湾曲したベース面を有する最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記埋め込み構造化表面が95%未満の光学的ヘイズを提供する、光学フィルム。
[態様4]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記埋め込み構造化表面が、10〜60%の範囲内の光学的ヘイズ及び10〜40%の範囲内の光学的透明度を提供する、光学フィルム。
[態様5]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、より大きな第1の構造体及びより小さな第2の構造体を備える、埋め込み構造化表面であって、前記第1及び第2の構造体の両方の大きさが2つの直交面内方向に沿って制限される、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記第1の構造体が、前記埋め込み構造化表面上に不均一に配置され、
前記第2の構造体が、前記第1の構造体の間に最密充填されて不均一に分散され、
前記第1の構造体の平均の大きさが15マイクロメートル超であり、前記第2の構造体の平均の大きさが15マイクロメートル未満である、光学フィルム。
[態様6]
光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設された埋め込み構造化表面と、を備え、前記埋め込み構造化表面がツール構造化表面からの微細複製によって作製され、前記ツール構造化表面が、第1の電気メッキプロセスを使用して金属を電着することにより前記金属の第1の層を形成し、第1の平均粗度を有する前記第1の層の主表面をもたらすことと、第2の電気メッキプロセスを使用して前記第1の層上に前記金属を電着することにより前記第1の層の前記主表面上に前記金属の第2の層を形成し、前記第1の平均粗度よりも小さい第2の平均粗度を有する前記第2の層の主表面をもたらすことと、によって作製され、前記第2の層の前記主表面が前記ツール構造化表面に対応する、光学フィルム。
Claims (4)
- 光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、隣接する構造体の間に隆起部が形成されるように配置された最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面であって、前記構造体の大きさが2つの直交面内方向に沿って制限される、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記埋め込み構造化表面が、平面図における200mm/mm2未満の隆起部全長/単位面積を特徴とする、光学フィルム。 - 光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面であって、前記埋め込み構造化表面が、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定する、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記最密充填構造体が、前記基準面内の等価円直径(ECD)及び前記厚さ方向に沿った平均高さを特徴とし、各構造体のアスペクト比が、前記構造体の前記ECDで除した前記構造体の前記平均高さに等しく、
前記構造体の平均アスペクト比が0.15未満である、光学フィルム。 - 光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、湾曲したベース面を有する最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記埋め込み構造化表面が95%未満の光学的ヘイズを提供する、光学フィルム。 - 光学フィルムであって、
複屈折性基材と、
前記基材によって支持されるプリズム層であって、同じプリズム方向に沿って延在する複数の隣り合った線形プリズムを備える主表面を有する、プリズム層と、
前記基材と前記プリズム層との間に配設され、最密充填構造体を備える、埋め込み構造化表面と、を備え、
前記埋め込み構造化表面が、それぞれ第1及び第2の直交面内方向と関連付けられた第1及び第2のフーリエパワースペクトルによって特徴付け可能なトポグラフィーを有し、
前記第1のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第1のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第1の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第1の周波数ピークも0.8未満の第1のピーク比を有し、前記第1のピーク比が、前記第1の周波数ピーク下面積で除した前記第1の周波数ピークと前記第1のベースラインとの間の面積に等しく、
前記第2のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、かつ第2のベースラインを画定する2つの隣接する谷部分により境界を定められる1つ又はそれよりも多くの第2の周波数ピークを含む範囲で、いずれのそのような第2の周波数ピークも0.8未満の第2のピーク比を有し、前記第2のピーク比が、前記第2の周波数ピーク下面積で除した前記第2の周波数ピークと前記第2のベースラインとの間の面積に等しく、
前記埋め込み構造化表面が、10〜60%の範囲内の光学的ヘイズ及び10〜40%の範囲内の光学的透明度を提供する、光学フィルム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261737220P | 2012-12-14 | 2012-12-14 | |
US61/737,220 | 2012-12-14 | ||
PCT/US2013/073276 WO2014093119A1 (en) | 2012-12-14 | 2013-12-05 | Brightness enhancing film with embedded diffuser |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016506539A JP2016506539A (ja) | 2016-03-03 |
JP2016506539A5 true JP2016506539A5 (ja) | 2017-01-12 |
JP6329172B2 JP6329172B2 (ja) | 2018-05-23 |
Family
ID=49887250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015547418A Active JP6329172B2 (ja) | 2012-12-14 | 2013-12-05 | 埋め込み拡散体を有する輝度向上フィルム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10557973B2 (ja) |
JP (1) | JP6329172B2 (ja) |
KR (1) | KR20150094713A (ja) |
CN (1) | CN104854484B (ja) |
TW (1) | TWI634351B (ja) |
WO (1) | WO2014093119A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6832274B6 (ja) | 2014-10-03 | 2021-03-24 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 入射光の散乱を管理する方法、及びそれにより形成される物品 |
US9970614B2 (en) | 2014-10-20 | 2018-05-15 | 3M Innovative Properties Company | Insulated glazing units and microoptical layer comprising microstructured diffuser and methods |
BR112017008154A2 (pt) | 2014-10-20 | 2018-02-20 | 3M Innovative Properties Co | construção de gerenciamento de luz |
BR112017008151A2 (pt) | 2014-10-20 | 2018-02-20 | 3M Innovative Properties Company | construção de gerenciamento de luz |
US20170109895A1 (en) * | 2015-10-19 | 2017-04-20 | Honeywell International Inc. | Apparatus and method for measuring haze of sheet materials or other materials using off-axis detector |
WO2017200862A1 (en) | 2016-05-15 | 2017-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Light redirecting film constructions and methods of making them |
WO2017205174A1 (en) | 2016-05-27 | 2017-11-30 | 3M Innovative Properties Company | Oled display with improved color uniformity |
CN110178242B (zh) * | 2016-10-28 | 2022-01-11 | 3M创新有限公司 | 纳米结构化制品 |
JP2020506417A (ja) * | 2017-01-16 | 2020-02-27 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ファセット化された微細構造化表面 |
JP7293733B2 (ja) * | 2018-05-15 | 2023-06-20 | 凸版印刷株式会社 | 調光装置 |
JP6493598B1 (ja) * | 2018-05-15 | 2019-04-03 | 凸版印刷株式会社 | 調光装置、調光装置の管理方法、および、調光装置の製造方法 |
JP6541856B1 (ja) * | 2018-10-02 | 2019-07-10 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム、フレキシブル表示装置及び光学フィルムの製造方法 |
JP6541855B1 (ja) * | 2018-10-02 | 2019-07-10 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム、フレキシブル表示装置及び光学フィルムの製造方法 |
US11668977B2 (en) | 2018-12-14 | 2023-06-06 | 3M Innovative Properties Company | Liquid crystal display having a frontside light control film |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3606636B2 (ja) * | 1995-06-07 | 2005-01-05 | 大日本印刷株式会社 | レンズシート、面光源及び表示装置 |
US5917664A (en) | 1996-02-05 | 1999-06-29 | 3M Innovative Properties Company | Brightness enhancement film with soft cutoff |
US20100302479A1 (en) | 1996-03-21 | 2010-12-02 | Aronson Joseph T | Optical article |
JP4238792B2 (ja) | 2004-08-04 | 2009-03-18 | ソニー株式会社 | 光拡散シート及びその製造方法、並びにスクリーン |
WO2008084744A1 (ja) * | 2007-01-09 | 2008-07-17 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 光学シート、面光源装置及び表示装置 |
US7916621B2 (en) * | 2007-02-05 | 2011-03-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | MIMO control signaling in a wireless communication system |
JP2010519599A (ja) * | 2007-02-27 | 2010-06-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 耐亀裂性が改良されたナノコンポジット構造を備えた輝度向上フィルム |
US20090073564A1 (en) * | 2007-09-14 | 2009-03-19 | Ching-Bin Lin | Optical film having light-scattering substrate and the process thereof |
US8827706B2 (en) | 2008-03-25 | 2014-09-09 | Practical Air Rifle Training Systems, LLC | Devices, systems and methods for firearms training, simulation and operations |
JP5402486B2 (ja) * | 2008-10-07 | 2014-01-29 | 大日本印刷株式会社 | 光学シート、面光源装置および透過型表示装置 |
JP2010096916A (ja) | 2008-10-15 | 2010-04-30 | Keiwa Inc | 光学シート及びこれを用いたバックライトユニット |
JP5158443B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2013-03-06 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルムおよびその製造方法、ならびに金型の製造方法 |
CN102449508B (zh) | 2009-04-15 | 2014-12-17 | 3M创新有限公司 | 光学膜 |
JP5823958B2 (ja) | 2009-06-02 | 2015-11-25 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光再偏向フィルム及び該フィルムを使用したディスプレイ |
EP2470930A1 (en) * | 2009-08-25 | 2012-07-04 | 3M Innovative Properties Company | Light redirecting film and display system incorporating same |
US7998359B2 (en) * | 2010-09-24 | 2011-08-16 | Innovalight, Inc. | Methods of etching silicon-containing films on silicon substrates |
CN102596571B (zh) | 2009-10-27 | 2015-01-14 | 3M创新有限公司 | 具有抗翘曲表面的光学膜 |
CN102712140B (zh) | 2010-01-13 | 2015-06-03 | 3M创新有限公司 | 具有微结构化低折射率纳米空隙层的光学膜及其方法 |
JP5801062B2 (ja) | 2010-03-11 | 2015-10-28 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルムおよび防眩性偏光板 |
JP6018051B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2016-11-02 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光方向転換フィルム及びそれを組み込んだディスプレイシステム |
CN202256749U (zh) | 2011-09-26 | 2012-05-30 | 北京康得新复合材料股份有限公司 | 一种复合结构增亮膜 |
WO2013158475A1 (en) * | 2012-04-20 | 2013-10-24 | 3M Innovative Properties Company | Brightness enhancement film with substantially non-imaging embedded diffuser |
CN108051879B (zh) | 2012-11-21 | 2020-09-08 | 3M创新有限公司 | 光学扩散膜及其制备方法 |
-
2013
- 2013-12-05 CN CN201380063567.7A patent/CN104854484B/zh active Active
- 2013-12-05 WO PCT/US2013/073276 patent/WO2014093119A1/en active Application Filing
- 2013-12-05 KR KR1020157018337A patent/KR20150094713A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-12-05 US US14/436,770 patent/US10557973B2/en active Active
- 2013-12-05 JP JP2015547418A patent/JP6329172B2/ja active Active
- 2013-12-13 TW TW102146282A patent/TWI634351B/zh not_active IP Right Cessation
-
2019
- 2019-12-06 US US16/706,336 patent/US20200116904A1/en not_active Abandoned
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