JP2019002077A - 光拡散フィルム及びそれを作製する方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】優れた空間的均一性を持つ制御された量の光拡散及び光学透明度を持つ光拡散フィルムの構造化表面を作製する方法を提供する。【解決手段】光拡散フィルムの構造化表面は、ツール構造化表面からの微細複製によって作製され、ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する第1層の第1主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して第1主表面上に金属を電着させることによって、第1層の第1主表面上に金属からなる第2層を形成し、第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する第2層の第2主表面を生じさせることによって作製される。【選択図】図9
Description
本発明は、概ね光学フィルムに関し、それとともにツールから微細複製によって作製することができるそのようなフィルムに対する具体的な用途にも関し、ここで、該ツールは、優れた空間的均一性を持つ制御された量の光拡散及び光学透明度を持つフィルムを提供するために、容易に調整され得る。
液晶ディスプレイ(LCD)システムなどのディスプレイシステムは、コンピュータ用モニター、パーソナル・デジタル・アシスタント(PDA)、携帯電話、小型音楽プレーヤー、及び薄型LCDテレビなどの様々な用途及び市販の装置で用いられている。多くのLCDは、液晶パネル及び液晶パネルを照明するための、バックライトと呼ぶことが多い、広い面積を有する光源を含む。バックライトは、典型的には、1つ以上のランプと、例えば、ライトガイド、ミラーフィルム、光方向転換フィルム(輝度向上フィルムを含む)、リターダーフィルム、光偏光フィルム、及び拡散フィルムなどの多くの光調整フィルムとを含む。拡散フィルムは、典型的には、光学的欠陥を隠蔽し、バックライトによって発せられた光の輝度の均一性を向上させるために含まれる。また、拡散フィルムは、ディスプレイシステム以外の用途に使用することもできる。
考察
一部の拡散フィルムは、ビーズ状構成を使用して光拡散を提供する。例えば、ある光学フィルムでは、該フィルムの一方の面に付着した微小ビーズの層を有している場合があり、このビーズ面における光の屈折を操作することで、フィルムの光拡散特性を提供することができる。ビーズを有する拡散フィルムの例としては、3M CompanyによりTBEF2−GMとの製品名で販売されている、まばらに分布したビーズのマット面を持つ線状プリズム輝度向上フィルム(本明細書ではこれを「まばらに分布したビーズを有するディフューザ」又は「SDBディフューザ」と呼ぶ)、3M CompanyによりDBEF−D3−340との製品名で販売されている、ビーズを有するディフューザ層を持つ反射型偏光フィルム(本明細書ではこれを「密集したビーズを有するディフューザ」又は「DPBディフューザ」と呼ぶ)、及び、市販のディスプレイデバイスに含まれる拡散カバーシート(本明細書ではこれを「市販のカバー・シート・ディフューザ」又は「CCSディフューザ」と呼ぶ)などが挙げられる。図1は、CCSディフューザのビーズを有する面の典型的な部分の走査型電子顕微鏡(SEM)画像を示し、図1Aは、そのような表面の断面のSEM画像を示す。図2及び図3は、それぞれ、DPBディフューザ及びSDBディフューザの典型的な部分のSEM画像を示す。
一部の拡散フィルムは、ビーズ状構成を使用して光拡散を提供する。例えば、ある光学フィルムでは、該フィルムの一方の面に付着した微小ビーズの層を有している場合があり、このビーズ面における光の屈折を操作することで、フィルムの光拡散特性を提供することができる。ビーズを有する拡散フィルムの例としては、3M CompanyによりTBEF2−GMとの製品名で販売されている、まばらに分布したビーズのマット面を持つ線状プリズム輝度向上フィルム(本明細書ではこれを「まばらに分布したビーズを有するディフューザ」又は「SDBディフューザ」と呼ぶ)、3M CompanyによりDBEF−D3−340との製品名で販売されている、ビーズを有するディフューザ層を持つ反射型偏光フィルム(本明細書ではこれを「密集したビーズを有するディフューザ」又は「DPBディフューザ」と呼ぶ)、及び、市販のディスプレイデバイスに含まれる拡散カバーシート(本明細書ではこれを「市販のカバー・シート・ディフューザ」又は「CCSディフューザ」と呼ぶ)などが挙げられる。図1は、CCSディフューザのビーズを有する面の典型的な部分の走査型電子顕微鏡(SEM)画像を示し、図1Aは、そのような表面の断面のSEM画像を示す。図2及び図3は、それぞれ、DPBディフューザ及びSDBディフューザの典型的な部分のSEM画像を示す。
他の拡散フィルムでは、ビーズを有する層以外の構造化表面を使用して光拡散を提供しており、この場合、該構造化表面は、構造化ツールから微細複製によって作製される。そのような拡散フィルムの例としては、米国特許出願公開第2012/0113622号(Aronsonら)、米国特許出願公開第2012/0147593号(Yapelら)、国際公開第2011/056475号(Barbie)、及び国際公開第2012/0141261号(Aronsonら)に記載されているような、カッターを用いてツールから材料を取り除くことによって作製された、対応する構造を有するツールから微細複製される、丸い又は曲面状構造を持つフィルム(本明細書では「第1型微細複製」拡散フィルムと呼ぶ)、並びに、米国特許出願公開第2010/0302479号(Aronsonら)に記載されているような、電気めっきプロセスによって作製された、対応する構造を有するツールから微細複製される、平坦なファセットを有する構造を持つフィルム(本明細書では「第2型微細複製」拡散フィルムと呼ぶ)などが挙げられる。第1型微細複製拡散フィルムの構造化表面の典型的な部分のSEM画像を図4に示し、第2型微細複製拡散フィルムの同様の画像を図5に示す。更なる他の微細複製拡散フィルムとしては、ツール表面をサンドブラスト手順により構造化して作製し、その後この構造化表面を、ツールから微細複製によってフィルムに付与するフィルムが挙げられる。例えば、米国特許第7,480,097号(Nagahamaら)を参照されたい。
ビーズ状構成を有する拡散フィルムの場合では、ビーズによって製造コストが増大する。また、ビーズを有するフィルムは、ダウンウェブ、クロスウェブ及びロット間の変動が生じやすい。更に、例えば、フィルムを個々のシートに切断又は加工する際に、個々のビーズがフィルムから外れる場合があり、これらの外れたビーズが、拡散フィルムを一部品として(例えば、ディスプレイ又はバックライトなど)含むシステムにおいて、好ましくない摩損を引き起こすことがある。第1型微細複製拡散フィルムの場合では、所与のサイズのツールを切り出すのに必要な時間は、構造化表面における構造の形状サイズが小さくなるにつれて急速に増大する。フィルムを最新のディスプレイシステムに使用する際には、「スパークル(sparkle)」又は粒状度(granularity)として既知の光学アーチファクトを回避するために、平均して約15又は10マイクロメートル未満の形状サイズが所望され、第1型微細複製拡散フィルムにおいてそのような小さい形状サイズを有するツールを切り出すのに必要な時間は、長期又は過度になることがあり、製造コストを増大させる場合がある。更に、切り出しによる手法では、(表面における構造が不規則に配向されているように見える場合であっても)測定可能な面内での空間周期性を、構造化表面に取り込む傾向を有し得、これによりディスプレイ用途においてモアレ効果が生じる場合がある。第2型微細複製拡散フィルムの場合では、製造プロセスを調整して様々なレベルの光学ヘイズを持つフィルムを提供できるが、そのようなフィルムの光学透明度は、(例えば、第1型微細複製拡散フィルムと比較して)比較的高い傾向がある。この傾向は、ある量の光学ヘイズに対して、より高い光学透明度を持つ拡散フィルムでは、より低い光学透明度を持つ同様のフィルムと同じようには欠陥が隠蔽されないことから、場合によっては不都合なものであると考えられる。これを、図6の光学ヘイズ対光学透明度のグラフに概略的に示す。ここで、領域610は、第1型微細複製拡散フィルムのおおよその設計空間をごく大雑把に表し、領域612は、第2型微細複製拡散フィルムのおおよその設計空間をごく大雑把に表す。(光学ヘイズ及び光学透明度は、以下により詳細に述べる。)サンドブラスト手順を使用して構造化表面を作製した微細複製拡散フィルムの場合、そのようなフィルムは、検出可能な空間的不均一性、例えば、サンドブラスト噴出し口又はノズルが、ツールの広い表面にわたって走査する際に通った経路によるパターン又はアーチファクトを有する傾向がある。
本発明者らは、前述の問題点又は課題のうちの1つ、いくつか又は全てを克服できる、光拡散フィルムの一群、及びそのようなフィルムを作製する方法を開発した。本フィルムは、構造化表面を有するツールを製作し、光学フィルムの主表面として、この構造化表面を微細複製することによって作製できる。ツールの製作は、比較的高い平均粗さを持つ第1主表面を生成する条件下で金属からなる第1層を電着し、それに続いて、比較的低い平均粗さ、つまり、第1主表面よりも低い平均粗さを持つ第2主表面を生成する条件下で、第1層上に同じ金属の第2層を電着することによって第1層を覆うことを含み得る。第2主表面は、複製されて光学フィルムの構造化主表面を形成する際に、光学ヘイズ及び光学透明度の所望の組み合わせを持つフィルムを提供する構造化トポグラフィーを有し、更に、フィルムは、この構造化表面のトポグラフィーに関する他の特性をも持つ。これらは、フィルムがディスプレイにおける他の構成部品と組み合わされる際に有利となる場合があり、例えば、モアレ、スパークル、粒状性などのアーチファクト及び/又は観察可能な空間的パターン若しくはマークを回避するために有利となり得る。微細複製に先立って、第2主表面に、例えばパッシベーション又は保護を目的として、更なる処理(例えば、異なる金属の薄層によるコーティングなど)を行ってもよいが、そのようなコーティングは、好ましくは、第2層の第2主表面と実質的に同じ平均粗さ及びトポグラフィーを維持するように十分に薄い。ダイヤモンド工具などを用いた基材の切り出しが必要な技術ではなく、電着技術を使用して構造化表面を形成することによって、実質的に短時間かつ低コストで大面積のツール表面を調製できる。
前述の通り、本光学フィルムの構造化主表面は、所望の量の光学ヘイズ及び光学透明度を持つフィルムを提供する。また、構造化主表面は、好ましくは、前述のアーチファクトの1つ以上を回避又は軽減する物理的特性をも有する。例えば、この構造化表面のトポグラフィーは、非常に低い周期性によって特徴づけられる、表面形状における不規則度又はランダム度を有し得る。つまり、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに沿った空間周波数の関数としてのフーリエスペクトルにおいて、顕著な周期性ピークが実質的にない。更に、構造化表面は、例えば、明確な窪み部及び/又は突出部の形をとった、識別可能な構造を含んでよく、この構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限されていてもよい。所与の構造のサイズは、平面視における等価円直径(ECD)によって表すことができる。この構造は、例えば、15マイクロメートル未満、10マイクロメートル未満、又は4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有していてもよい。いくつかの場合において、この構造は、小型の構造と大型の構造が組み合わされた、二峰性分布を有してもよい。この構造は、密集し、かつ不規則に又は不均一に分散していてもよい。いくつかの場合において、構造の一部、そのほとんど、又は実質的にその全てが、曲面状であってもよいし、又は丸い、さもなければ曲面状の基礎表面(base surface)を含んでいてもよい。いくつかの場合において、構造の一部は、ピラミッド形状であってもよいし、又はさもなければ実質的に平坦なファセットによって画定されてもよい。この構造は、少なくともいくつかの場合において、この構造の深さ又は高さを、この構造の特徴的な横断寸法(例えば、ECDなど)で割ったアスペクト比によって特徴づけることができる。構造化表面は、リッジを含んでもよく、このリッジは、例えば、隣接する密集構造の接合部に形成されてよい。そのような場合において、構造化表面の平面視(又は、その典型的な部分の平面視)は、単位面積当たりの総リッジ長によって特徴づけられてよい。本光拡散フィルムの光学ヘイズ、光学透明度及び他の特性は、構造化表面において若しくはその上において、又は光学フィルム内の他の箇所において、ビーズを使用することなく提供できる。
したがって、本出願は、構造化表面を作製する方法を開示する。本方法は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する第1層の第1主表面を生じさせることを含む。本方法は、また、第2電気めっきプロセスを使用して第1主表面上に該金属を電着させることによって、第1層の第1主表面上に該金属からなる第2層を形成し、第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する第2層の第2主表面を生じさせることをも含む。
第1電気めっきプロセスは、第1電気めっき溶液を使用してよく、第2電気めっきプロセスは、第2電気めっき溶液を使用してよく、第2電気めっき溶液は、少なくとも有機レベラー及び/又は有機結晶微細化剤の追加によって第1電気めっき溶液とは異ならせることができる。第2電気めっきプロセスは、シービング(thieving)すること、及び/又は遮蔽することを含んでもよい。また、本方法は、基体平均粗さを有する基体表面を提供することを含んでもよく、第1層を該基体表面に形成してもよく、第1平均粗さは、該基体平均粗さよりも大きくてもよい。金属は、銅又は他の好適な金属であってよい。第1電気めっきプロセスは、多くとも微量の有機レベラーを含有する第1電気めっき溶液を使用してもよく、例えば、第1電気めっき溶液は、有機炭素の総濃度が100、75又は50ppm未満であってよい。第1電気めっきプロセスは、第1電気めっき溶液を使用してよく、第2電気めっきプロセスは、第2電気めっき溶液を使用してよく、第2電気めっき溶液内の有機レベラーの濃度の、第1電気めっき溶液内の任意の有機レベラーの濃度に対する比は、少なくとも50、100、200又は500であってよい。第1層を形成することは、複数の不均一に配置された第1構造を含む前記第1主表面を生じさせてもよく、該第1構造は、平坦なファセットを含んでいてもよい。第2層を形成することは、複数の不均一に配置された第2構造を含む前記第2主表面を生じさせてもよい。また、本方法は、第2金属の電気めっき溶液を使用して第2金属を電着させることによって、第2主表面上に第2金属からなる第3層を形成することを含んでいてもよい。第2金属は、クロムを含んでもよい。
このような方法を使用して、第2主表面に対応するツール構造化表面を有するように作製される、微細複製ツールもまた開示される。ツール構造化表面は、第2主表面の反転形状に対応していてもよいし、第2主表面の非反転形状に対応していてもよい。本微細複製ツールは、金属からなる第1層と、該金属からなる第2層と、第2層上に形成された第2金属からなる第3層と、を含んでもよい。
そのような微細複製ツールを使用して、第2主表面に対応する構造化表面を有するように作製される、光学フィルムもまた開示される。本フィルムの構造化表面は、第2主表面の反転形状に対応していてもよいし、第2主表面の非反転形状に対応していてもよい。
また、隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含む構造化主表面であって、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される、構造化主表面を含む光学フィルムも開示される。構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有していてもよく、(a)該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有していてもよく、該第1ピーク率は、第1周波数ピークと第1基準線との間の面積を、第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ(b)該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有していてもよく、該第2ピーク率は、第2周波数ピークと第2基準線との間の面積を、第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい。構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であるか、又は150mm/mm2未満であるか、又は10〜150mm/mm2の範囲内にあることによって特徴づけられてよい。
第1ピーク率は0.5未満でもよく、第2ピーク率は0.5未満でもよい。構造化主表面は、少なくとも5%及び95%未満の光学ヘイズを提供してよい。密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられてもよく、該構造は、15マイクロメートル未満、10マイクロメートル未満、又は4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有してもよい。構造化主表面は、実質的にビーズを含まなくてもよい。密集構造の少なくとも一部、又はそのほとんど、又は実質的にその全てが、曲面状の基礎表面を含んでいてよい。
密集構造を含む構造化主表面であって、該構造化主表面は、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定する、構造化主表面を含む光学フィルムもまた開示される。構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有していてもよく、(a)該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有していてもよく、該第1ピーク率は、第1周波数ピークと第1基準線との間の面積を、第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ(b)該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有していてもよく、該第2ピーク率は、第2周波数ピークと第2基準線との間の面積を、第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい。密集構造は、基準面における等価円直径(ECD)、及び厚さ方向に沿う平均高さによって特徴づけられてよく、それぞれの構造のアスペクト比は、該構造の平均高さを該構造のECDで割った値に等しくてよく、該構造の平均アスペクト比は、0.15未満であってよい。
構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であるか、又は150mm/mm2未満であるか、又は10〜150mm/mm2の範囲内にあることによって特徴づけられてよい。第1ピーク率は0.5未満でもよく、第2ピーク率は0.5未満でもよい。構造化主表面は、少なくとも5%及び95%未満の光学ヘイズを提供してよい。密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられてもよく、該構造は、15マイクロメートル未満、10マイクロメートル未満、又は4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有してもよい。構造化主表面は、実質的にビーズを含まなくてもよい。密集構造の少なくとも一部、又はそのほとんど、又は実質的にその全てが、曲面状の基礎表面を含んでいてよい。
曲面状の基礎表面を有する密集構造を含む構造化主表面を含む光学フィルムもまた開示される。構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有していてもよく、(a)該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有していてもよく、該第1ピーク率は、第1周波数ピークと第1基準線との間の面積を、第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ(b)該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有していてもよく、該第2ピーク率は、第2周波数ピークと第2基準線との間の面積を、第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい。更に、構造化主表面は、95%未満、90%未満、80%未満、又は20〜80%の範囲の光学ヘイズを提供してよい。
構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられてよい。第1ピーク率は0.5未満でもよく、第2ピーク率は0.5未満でもよい。密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられてもよく、該構造は、15マイクロメートル未満、10マイクロメートル未満、又は4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有してもよい。構造化主表面は、実質的にビーズを含まなくてもよい。
密集構造を含む構造化主表面を含む光学フィルムもまた開示される。構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有していてもよく、(a)該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有していてもよく、該第1ピーク率は、第1周波数ピークと第1基準線との間の面積を、第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ(b)該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有していてもよく、該第2ピーク率は、第2周波数ピークと第2基準線との間の面積を、第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい。構造化主表面は、10〜60%の範囲の光学ヘイズ及び10〜40%の範囲の光学透明度、又は、20〜60%の範囲の光学ヘイズ及び10〜40%の範囲の光学透明度、又は、20〜30%の範囲の光学ヘイズ及び15〜40%の範囲の光学透明度を提供してよい。
構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられてよい。第1ピーク率は0.5未満でもよく、第2ピーク率は0.5未満でもよい。密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられてもよく、該構造は、15マイクロメートル未満、10マイクロメートル未満、又は4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有してもよい。構造化主表面は、実質的にビーズを含まなくてもよい。
大型の第1構造及び小型の第2構造を含む構造化主表面であって、該第1及び第2構造が、共に、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される、構造化主表面を含む光学フィルムもまた開示される。第1構造は、主表面上に不均一に配置されてもよく、第2構造は、密集し、かつ第1構造間に不均一に分散されてもよく、第1構造の平均サイズは、15マイクロメートル超であってもよく、第2構造の平均サイズは、15マイクロメートル未満であってもよい。
第1構造の平均サイズは、第1構造の平均等価円直径(ECD)であってもよく、第2構造の平均サイズは、第2構造の平均等価円直径(ECD)であってもよい。第1構造の平均サイズは、20〜30マイクロメートルの範囲であってもよい。第2構造の平均サイズは、4〜10マイクロメートルの範囲であってもよい。構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有していてもよく、(a)該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有していてもよく、該第1ピーク率は、第1周波数ピークと第1基準線との間の面積を、第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ(b)該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有していてもよく、該第2ピーク率は、第2周波数ピークと第2基準線との間の面積を、第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい。第1率は0.5未満でもよく、第2率は0.5未満でもよい。第1構造は平坦なファセットを有する構造であってもよく、第2構造は曲面状構造であってもよい。第1構造は主表面における第1窪み部でもよく、第2構造は主表面における第2窪み部でもよい。構造化主表面は、構造化表面の構造の等価円直径(ECD)の二峰性分布によって特徴づけられてもよく、ここで、該二峰性分布は、第1及び第2ピークを有し、大型の第1構造は、第1ピークに対応し、小型の第2構造は、第2ピークに対応する。構造化主表面は、実質的にビーズを含まなくてもよい。
ライトガイドと、ライトガイドからの光によって背後から光を当てられるように構成されたディスプレイパネルと、ライトガイドとディスプレイパネルとの間に配置された1つ以上のプリズム輝度向上フィルムと、及びライトガイドと1つ以上のプリズム輝度向上フィルムとの間に配置された光拡散フィルムと、を含む、ディスプレイシステムもまた開示される。本光拡散フィルムは、少なくとも80%のヘイズを有していてよく、本光拡散フィルムは、ツール構造化表面から微細複製により作製された第1構造化主表面を有してもよく、ここで、該ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する第1層の主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して第1層上に該金属を電着させることによって、第1層の主表面上に該金属からなる第2層を形成し、第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する第2層の主表面を生じさせることと、によって作製され、第2層の主表面は、ツール構造化表面に対応する。
本光拡散フィルムの第1構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有していてもよく、(a)該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有していてもよく、該第1ピーク率は、第1周波数ピークと第1基準線との間の面積を、第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ(b)該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有していてもよく、該第2ピーク率は、第2周波数ピークと第2基準線との間の面積を、第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい。本光拡散フィルムの第1構造化主表面は、隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含んでもよく、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限され、第1構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられてよい。本光拡散フィルムの第1構造化主表面は、密集構造を含んでいてよく、ここで、該構造化主表面は、基準面及び基準面に垂直な厚さ方向を画定し、該密集構造は、基準面における等価円直径(ECD)、及び厚さ方向に沿う平均高さによって特徴づけられてよく、それぞれの構造のアスペクト比は、該構造の平均高さを構造のECDで割った値に等しくてもよく、該構造の平均アスペクト比は、0.15未満でもよい。
本光拡散フィルムの第1構造化主表面は、曲面状の基礎表面を有する密集構造を含んでいてよく、第1構造化主表面は、95%未満の光学ヘイズを提供してよい。本光拡散フィルムの第1構造化主表面は、大型の第1構造及び小型の第2構造を含んでよく、ここで、該第1及び第2構造は、共に、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限され、該第1構造は、第1構造化主表面上に不均一に配置されてもよく、該第2構造は、密集し、かつ第1構造間に不均一に分散されてもよく、該第1構造の平均サイズは、15マイクロメートル超であってもよく、該第2構造の平均サイズは、15マイクロメートル未満であってもよい。本光拡散フィルムは、第1構造化主表面の反対側にある第2構造化主表面を有してよく、該第2構造化主表面は、第2ツール構造化表面からの微細複製によって作製され、第2ツール構造化表面は、第3電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第3層を形成し、第3平均粗さを有する第3層の主表面を生じさせることと、第4電気めっきプロセスを使用して第3層上に該金属を電着させることによって、第3層の主表面上に該金属からなる第4層を形成し、第3平均粗さよりも小さい第4平均粗さを有する第4層の主表面を生じさせることによって作製され、該第4層の主表面は、第2ツール構造化表面に対応する。本拡散フィルムの第1構造化主表面は、ディスプレイパネルに面してよく、拡散フィルムの第2構造化主表面は、ライトガイドに面してよく、第1構造化主表面は、第1ヘイズに関連してよく、第2構造化主表面は、第2ヘイズに関連してよく、第1ヘイズは、第2ヘイズよりも大きくてよい。
第2構造化主表面の反対側にある第1構造化主表面を含む光学フィルムもまた開示され、ここで、該第1構造化主表面は、第1ツール構造化表面から微細複製により作製され、該第1ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する第1層の主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して第1層上に該金属を電着させることによって、第1層の主表面上に該金属からなる第2層を形成し、第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する第2層の主表面を生じさせることと、によって作製され、該第2層の主表面は、ツール構造化表面に対応する。
第2ツール構造化主表面は、第2ツール構造化表面から微細複製により作製されてもよく、ここで、該第2ツール構造化表面は、第3電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第3層を形成し、第3平均粗さを有する第3層の主表面を生じさせることと、第4電気めっきプロセスを使用して第3層上に該金属を電着させることによって、第3層の主表面上に該金属からなる第4層を形成し、第3平均粗さよりも小さい第4平均粗さを有する第4層の主表面を生じさせることによって作製され、該第4層の主表面は、第2ツール構造化表面に対応する。第1構造化主表面は、第1ヘイズに関連してよく、第2構造化主表面は、第2ヘイズに関連してよく、第1ヘイズは、第2ヘイズよりも大きくてよい。
ライトガイドと、ライトガイドからの光によって背後から光を当てられるように構成されたディスプレイパネルと、ライトガイドと光拡散フィルムとの間にディスプレイパネルが位置するようにディスプレイシステムの前に配置された光拡散フィルムと、を含む、ディスプレイシステムもまた開示される。本光拡散フィルムは、10〜30%の範囲のヘイズを有していてもよく、また、本光拡散フィルムは、ツール構造化表面から微細複製により作製された第1構造化主表面を有していてもよく、ここで、該構造化主表面は、第1ツール構造化表面から微細複製により作製され、該第1ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する第1層の主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して第1層上に該金属を電着させることによって、第1層の主表面上に該金属からなる第2層を形成し、第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する第2層の主表面を生じさせることと、によって作製され、該第2層の主表面は、ツール構造化表面に対応する。
本光拡散フィルムの第1構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有していてもよく、(a)該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有していてもよく、該第1ピーク率は、第1周波数ピークと第1基準線との間の面積を、第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ(b)該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有していてもよく、該第2ピーク率は、第2周波数ピークと第2基準線との間の面積を、第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい。本光拡散フィルムの第1構造化主表面は、隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含んでもよく、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限され、第1構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられてよい。第1構造化主表面は、密集構造を含んでよく、該構造化主表面は、10〜40%の範囲の光学透明度を提供してよい。第1構造化主表面は、ディスプレイシステムの前部に面してもよい。第1構造化主表面は、ディスプレイシステムの最前の表面であってもよい。
関連する方法、システム及び物品も述べられる。例えば、本開示のフィルムを組み込んだバックライト及びディスプレイもまた開示される。
本出願のこれらの及び他の態様が、発明を実施するための形態から明らかになるであろう。しかし、上記概要は、請求された主題に関する限定として決して解釈されるべきでなく、該主題は、手続処理中に補正され得る添付の特許請求の範囲によってのみ規定される。
図面においては、同様の参照番号は、同様の要素を示す。
図7は、本開示のプロセスにより作製できる典型的な拡散光学フィルム720の一部の概略側面図又は断面図を描写する。フィルム720は、第1主表面720a及び第2主表面720bを有するものとして示されている。入射光730は、第2表面720bにおいて、フィルム720に当たるものとして示されている。光730は、フィルムを通り抜け、主表面720aの粗面化又は構造化トポグラフィーで屈折されて(また、ある程度は回折されて)、散乱又は拡散し、散乱光又は拡散光732が生成される。それ故に、主表面720aを、代わりに構造化表面720aと呼ぶこともできる。当然ながら、入射光730に対するフィルム720の配向を、光730が最初に構造化表面720aに当たるように変化させてもよく、この場合でも先と同様に、構造化表面における屈折によって散乱又は拡散光が生成される。
構造化表面720aは、概ね直交する各面内方向に沿って延在する。これを使用して局所デカルトx−y−z座標系を規定できる。そして、構造化表面720aのトポグラフィーを、構造化表面720aと平行な基準面(x−y平面)に対する、厚さ方向(z軸)に沿った偏差によって表すことができる。多くの場合では、構造化表面720aのトポグラフィーにおける明確な個々の構造を特定できる。そのような構造は、構造化表面ツールにおける対応する窪み部から作り出される突出部の形態であってもよいし、構造化表面ツールにおける対応する突出部から作り出される窪み部の形態であってもよい。これらの構造は、典型的には、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される。つまり、構造化表面720aを平面視で見た場合に、個々の構造は、典型的には、任意の面内方向に沿って線状に、無制限に延在しているわけではない。突出部又は窪み部であるかに関わらず、これらの構造は、一部の場合において密集していてもよい。つまり、多くの又はほとんどの隣接する構造の境界線の少なくとも一部が、実質的に接触するか又は一致するように配置される。また、これらの構造は、典型的には、構造化表面720a上で不規則に又は不均一に分散している。いくつかの場合において、これらの構造の一部、そのほとんど、又は実質的にその全て(例えば、90%超、95%超又は99%超)が、曲面状であってもよいし、又は丸い、さもなければ曲面状の基礎表面を含んでいてもよい。いくつかの場合において、構造の少なくとも一部は、ピラミッド形状であってもよいし、又はさもなければ実質的に平坦なファセットによって画定されてもよい。所与の構造のサイズは、平面視における等価円直径(ECD)によって表すことができる。構造化表面のこれらの構造は、例えば、15マイクロメートル未満、10マイクロメートル未満、又は4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有していてもよい。構造化表面及び構造は、ECDなどの特徴的な横断寸法に対する深さ若しくは高さのアスペクト比、又は平面視における単位面積当たりの表面におけるリッジの合計長さなど、本明細書の他の箇所に述べられるような他のパラメータによって特徴づけることもできる。本光拡散フィルムの光学ヘイズ、光学透明度及び他の特性は、構造化表面において若しくはその上において、又は光学フィルム内の他の箇所において、ビーズを使用することなく提供できる。
フィルム720は、2層構成を有するものとして示されている。すなわち、パターン層724を支持する基板722を有する。構造化表面720aは、好ましくは、以下に説明するように、構造化表面ツールからの微細複製によって、パターン層724に付与される。基板722は、例えば、表面にパターン層724を流延させ、硬化させたキャリアフィルムであってもよい。層724の形成に使用される材料の硬化は、紫外線(UV)放射、熱又は任意の他の既知の方法によって行うことができる。流延と硬化に代わる手段として、十分な熱及び圧力を用いて熱可塑性プラスチック材料をエンボス加工することによって、ツールからパターン層724に、構造化表面720aを付与することもできる。
フィルム720は、図7の2層構成を有する必要はなく、代わりに、3つ以上の層を含んでもよいし、単一の層のみから構成された一体の構成であってもよい。典型的には、光拡散フィルムを作製する1つ以上の層は、光に対して、少なくとも可視スペクトルの大部分にわたる光に対して透過性が高い。それ故に、そのような1つ以上の層は、典型的には、そのような光に対して吸収率が低い。キャリアフィルム又は基板722として使用される例示的な材料としては、ポリアクリレート及びポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、シクロオレフィンポリマー、並びにこれらのポリマー類の共重合体又は混合物などの光透過性ポリマーが挙げられる。パターン層724として使用される例示的な材料としては、アクリル樹脂及びエポキシ樹脂などの光透過性ポリマーが挙げられる。しかし、他のポリマー材料、並びに非ポリマー材料を使用してもよい。1つ以上の層は、例えば、1.4〜1.8、1.5〜1.8又は1.5〜1.7の範囲内の、任意の適当な屈折率を有してよいが、この範囲外の値を使用してもよい。屈折率は、550nm又は別の好適な設計波長において特定されていてもよいし、可視波長範囲にわたる平均値であってもよい。更に、所望により、標的全体にわたる透過、色彩又は色調をフィルムにもたらすために、層の1つ以上が、1つ以上の染料(複数可)、顔料(複数可)及び/又は他の吸収剤を含んでもよい。所望により、ガラス若しくはセラミック微小球などのビーズ、又は他の散乱剤が含まれてもよいが、本開示の光拡散フィルムは、多数のビーズを使用しなくても(例えば、ビーズがなくても)、所望の量のヘイズ及び透明度を提供することができる。
前述のように、光拡散フィルム720は、2つ以上の層を有してもよい。例えば、基板722は、多層光学フィルムであるか、これを含んでいてもよく、ここで、該多層光学フィルムでは、屈折率が異なる数十、数百又は数千枚の別個のマイクロ層が、光学的な繰り返し単位で(例えば、交互にA、B、A、Bのパターンで)配置されており、波長、入射角及び偏光状態に応じて光が選択的に透過及び反射される。この多層光学フィルムは、例えば反射偏光子でもよい。基板722は、光学的に透明な接着剤又は他の好適な結合材を用いて、別の光学フィルム又は基板に積層させてもよい。基板722は、例えば、薄型用途で所望されるような最小限の厚さを持つ薄い可塑性ポリマーシートであってもよいし、又は、これを含んでいてもよい。あるいは、基板722は、比較的厚い層であってもよいし、又は、これを含んでいてもよく、例えば、いくつかの場合においては、機械的な安定性又は支持を提供できるような剛性板であってもよい。主表面720bは、図示されているように実質的に平坦かつ平滑であり、かつ空気に露出していてもよいし、又は非平坦かつ非平滑なものであってもよい。例えば、主表面720bは、下記の図12に示す線状プリズムなどのプリズムパターンを有してもよい。
他の実施形態では、光拡散フィルム720は、一方の主表面だけでなく、両方の主表面が本明細書に開示の方法(下記の図9参照)によって形成された構造化表面となるように構成されてもよく、ここで、該光学フィルムの所与の構造化主表面は、ツール構造化表面からの微細複製によって作製され、該ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する第1層の第1主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して第1主表面上に該金属を電着させることによって、第1層の第1主表面上に該金属からなる第2層を形成し、第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する第2層の第2主表面を生じさせることと、によって作製され、第2層の主表面は、ツール構造化表面に対応する。例えば、パターン層724と同じ又はそれに類似する第2パターン層を、光拡散フィルム720のもう一方の側の表面720bに追加してもよい。そのような光拡散フィルムの両側の主表面を作製するのに使用される構造化表面ツールは、それぞれの主表面が独立した状態で提供するヘイズがほぼ同じになるように、同じであるか、又は類似するものであってよい。あるいは、フィルムの両側の主表面を作製するのに使用される構造化表面ツールは、(独立した状態で)1つの主表面によって提供されるヘイズが、(独立した状態で)他の主表面によって提供されるヘイズよりも実質的に大きくなるように、実質的に異なるものであってもよい。いずれの場合でも、光学フィルム全体としてのヘイズ及び透明度は、両主表面に関連する個々のヘイズ及び透明度を(それぞれ)組み合わせたものである。
光拡散フィルムの構造化表面720aは、典型的には、その表面において光が種々の方向に屈折するように空気に露出しているが、他の実施形態では、コーティング又は他の層を構造化表面720aに適用することもできる。そのようなコーティングの一例は、4分の1波長反射防止(AR)コーティングであり、これはパターン層724と空気との中間の屈折率を有してよい。そのようなARコーティングは、構造化表面のトポグラフィーを実質的に維持するために十分に薄いものであってよく、これによって透過光に関する光拡散特性(ヘイズ及び透明度)が、実質的に変化しないようにする。パターン層724と平坦化層との間に構造化表面720aを埋め込むように、より厚いコーティング及び層を適用してもよい。しかし、平坦化層は、好ましくは、表面720aにおいて適当な屈折が起こり、所望の量のヘイズ及び透明度がもたらされるように、パターン層とは実質的に異なる屈折率を有する。屈折及びヘイズは、パターン層724と平坦化層との間の屈折率差を大きくすることによって、最大化又は大きくすることができる。これは、超低屈折率を実現するためにナノ空隙を有する形態であり得る、超低屈折率(ULI)材料から平坦化層を作製することによって達成してもよい。そのようなナノ空隙を有するULI材料は、1.4未満、1.3未満、1.2未満又は1.15〜1.35の範囲の屈折率を有してよい。そのようなULI材料の多くは、多孔質材又は多孔質層として記載され得る。ナノ空隙がなく、実質的により高い屈折率(例えば、1.5超又は1.6超)を有する、より一般的な光学ポリマー材料と組み合わせて使用すると、埋め込まれた構造化表面にわたって比較的大きい屈折率差Δnを提供することができる。好適なULI材料は、例えば、本明細書に参照により組み込まれる、国際公開第2010/120864号(Haoら)、及び国際公開第2011/088161号(Wolkら)に記載されている。
所与の光拡散フィルムの光学的挙動を特徴づけるのに使用できる様々なパラメータのうち、2つの主要なパラメータとして、光学ヘイズ及び光学透明度がある。光の拡散又は散乱は、「光学ヘイズ」又は単に「ヘイズ」によって表すことができる。フィルム、表面、又は他の物体が垂直に入射する光線によって照らされる場合、物体の光学ヘイズとは、本来的には、例えば、Haze−Gard Plusヘイズメータ(BYK−Gardner,Columbia,MDから入手可能)を使用して、ASTM D1003に記載されている手順に従って、又は実質的に類似の計器及び手順によって測定されたときの、該垂直な方向から4度を超えてそれた透過光の、全体の透過光に対する割合を指す。光学ヘイズと光学透明度とは関連し、光学透明度も、BYK−Gardner製のHaze−Gard Plusヘイズメータによって測定されるが、この場合、この計器には、環状のリングセンサ内の中心に位置する円形の中央センサを有するデュアルセンサが備え付けられる。光学透明度とは、率(T1−T2)/(T1+T2)を指す。ここで、T1は、中央センサによって検知される透過光であり、T2は、リングセンサによって検知される透過光である。中央センサは、試料と垂直な軸に対して0〜0.7度の角度をなし(subtend)、かつ試料の試験部位の中心に定められ、リングセンサは、そのような軸に対して1.6〜2度の角度をなし、ここで、入射光線は、試料が存在しない場合には、中央センサを満たす(overfill)が、リングセンサは照らさない(0.2度の半角によりリングセンサを満たさない(underfill))。
本開示のプロセスにより作製できる光拡散フィルムは、非常に様々な可能性があるエンドユーザでの用途に使用できる。特に関心が持たれている用途の1つが、電子ディスプレイシステムである。そのようなディスプレイシステムの一例である、液晶ディスプレイ802を、図8に示す。本開示の光拡散フィルム及び構造化表面を組み込むことができる多くの異なる構成部品を示すため、ディスプレイ802は有益である。ディスプレイ802は、図に示すように配置された、ライトガイド、底部ディフューザ、プリズム輝度向上フィルム(BEFフィルム)、液晶ディスプレイ(LCD)パネル、及び前面フィルムを含む。ディスプレイは、典型的には、光をライトガイド内に入射するための、ライトガイドに近接して配置された1つ以上の可視光源(例えば、白色LED(複数可)若しくは赤色、緑色、青色LED(複数可)、又は白色CCFL(冷陰極蛍光)光源)(図示せず)をも含む。ユーザ801は、ディスプレイ802の前に位置して、ディスプレイ802が生成する画像を見る。ディスプレイ802は、図8に示す全ての構成部品を含む必要はなく、また、追加の構成部品を含んでいてもよい。例えば、代替的な実施形態では、ディスプレイ802において、底部ディフューザ、BEFフィルムの一方若しくは両方、又は前面フィルムを取り除いてもよい。代替的な実施形態では、例えば、複数の異なるタイプの前面フィルム、又は反射光偏光フィルム、又は(ライトガイドの後方に配置される)高反射率ミラーフィルムなどの追加の構成部品を組み込んでもよい。
本明細書に開示するような1つ以上の光拡散フィルムは、独立した構成部品、例えば、図7に示すようなフィルムとしてディスプレイ802内に含ませることができ、該フィルムは、一方に平坦な主表面と、他方に光を拡散する構造化主表面とを有しているか、又は、両側の主表面が光を拡散する構造化表面である。代替的に又は追加的に、本明細書に開示するような1つ以上の光拡散フィルムは、例えば、下記の図12に示し、また、図12に関連して記載するようなプリズムBEFフィルムと組み合わせるときなどに、別の構成部品又はフィルムの一部としてディスプレイ802内に含ませることもできる。
本明細書に開示の光拡散フィルムの使用の一例には、ディスプレイ802における底部ディフューザがある。底部ディフューザがライトガイドに近接しているために、また、例えば、ライトガイドの出力表面に提供される離散的な抽出ドット(discrete extractor dot)の結果として、ライトガイドがそれらの出力表面にわたる輝度を極めて空間的に不均一とする場合があるため、多くの場合、底部ディフューザが、例えば、80%超又は90%超の高いヘイズを有することが望ましい。しかし、底部ディフューザは、代わりに、これらの範囲外のヘイズを有してもよい。
いくつかの場合において、例えば、底部ディフューザに高い全体的なヘイズをもたらすために、フィルムの両側の主表面が本明細書に開示の方法によって形成される構造化表面であるように光拡散フィルムを設計することが望ましい場合がある。それ故に、両側の主表面は、所望の量の光拡散を(独立した状態で)提供するように、本明細書に記載のように構造化されてよく、その結果、フィルムによってもたらされる(例えば、ヘイズ及び透明度に換算される)全体的な光拡散は、これらの表面によってもたらされる光拡散の組み合わせである。主表面は、類似の方法で構造化してもよく、例えば、これらの主表面は、同様の平均粗さを有してもよいし、同様の量のヘイズに個々に関連付けられてもよい。あるいは、主表面は、実質的に異なる方法で構造化されてもよく、例えば、それらは、実質的に異なる平均粗さを有してもよいし、実質的に異なる量のヘイズに個々に関連付けられてもよい。そのような代替的な実施形態では、光拡散フィルムは、ライトガイドとディスプレイパネルとの間の底部ディフューザとして使用する際には、拡散フィルムの第1構造化主表面がディスプレイパネルに面し、拡散フィルムの第2構造化主表面がライトガイドに面するように、かつ、第1構造化主表面が第1ヘイズに関連し、第2構造化主表面が第2ヘイズに関連するように、配向してもよく、ここで、第1ヘイズは、第2ヘイズよりも大きい。つまり、ディスプレイパネルに面する構造化主表面が、ライトガイドに面する構造化主表面よりも大きい平均粗さを有してもよい。ライトガイドに面する構造化表面によってもたらされる粗さによって、光拡散フィルムがライトガイドと接触して設置されるときの、にじみ(wet-out)アーチファクトを回避しやすくすることができる。ライトガイドに面する構造化主表面がディスプレイパネルに面する構造化主表面よりも大きい平均粗さを有する、反対の配向も企図されている。
本明細書に開示する光拡散フィルムの別の使用では、ディスプレイ802におけるBEFフィルムの1つ以上と組み合わされる。光拡散フィルムは、BEFフィルムの一方のみ又は両方における背面コーティングとして使用してもよい。例示的な構成では、光拡散フィルムを、ディスプレイ802の前面に最も近いBEFフィルムのみの背面コーティングとして使用してもよい。BEFフィルムにおける背面コーティングとしての光拡散フィルムの使用は、下記の図12に関連して記載される。BEFフィルムと組み合わせて使用する際には、多くの場合、拡散フィルムが、低いヘイズ、例えば10%以下のヘイズを有することが望ましい。しかし、拡散フィルムは、代わりに、この範囲外のヘイズを有してもよい。
本明細書に開示する光拡散フィルムの更なる別の使用では、ディスプレイ802における1つ以上の前面フィルムと組み合わされる。図8では前面フィルムは1つのみ示されているが、複数の前面フィルムを使用してもよい。前面フィルム(複数可)は、LCDパネルとユーザ801との間に配置される。有用な前面フィルムの一例は、LCDパネルによって形成されたその一面の画像を知覚できる視野角のコーンを限定するプライバシーフィルムがある。別の有用な前面フィルムには、反射防止(AR)フィルムがある。反射防止フィルムは、光学干渉の作用により表面反射を減少するための、4分の1波長低屈折率コーティング又はより複雑な多層干渉コーティングを組み込んでもよい。更なる別の有用な前面フィルムには、アンチグレアフィルムがある。アンチグレアフィルムは、光学散乱又は拡散の作用によるグレアを減少させる。更なる別の有用なフィルムには、保護フィルムがある。保護フィルムは、フィルムにハードコートを組み込むことによって、耐スクラッチ性又は耐摩損性を提供できる。前面フィルムの機能性は組み合わせることができる。例えば、単一の前面フィルムが、アンチグレア機能及びプライバシー機能の両方を提供することもできる。本開示の光拡散フィルムの構造化主表面は、ディスプレイ802に含まれ得る前面フィルムのうちの任意の1つ以上に使用できる。前面フィルム内で使用するとき、又は前面フィルムとして使用するとき、多くの場合、拡散フィルムは、中低程度のヘイズ、例えば10〜30%の範囲のヘイズを有することが望ましい。しかし、この範囲外のヘイズ値を使用してもよい。光拡散を提供する本開示の構造化主表面は、最前の前面フィルムの最前の主表面として使用してもよい。つまり、例えば、ユーザ801が指又はスタイラスで容易に触れることができる、ユーザ801が直ちにアクセス可能なディスプレイの主表面が、本明細書に開示の光拡散構造化表面を組み込んでいてもよい。
光拡散フィルムを、例えば、ディスプレイ802におけるように、他のフィルム及び構成部品と組み合わせて使用すると、望ましくない光学アーチファクトが発生する場合がある。別の言い方をすれば、異なる設計の2つの異なる光拡散フィルムを両方共に同じ光学ヘイズ及び透明度の値を有するように調整した場合には、これらのフィルムが、光学ディスプレイ又は他のシステム内に設置されたときに、非常に異なる視覚結果をもたらすことがある。視覚結果は、「スパークル」及びモアレとして知られているものなどの光学アーチファクトに関して異なり得る。「スパークル」は、何らかの様式で主表面がパターン化されている第2フィルム、層又は物体の上に又はそれと接触して光学フィルムが置かれているときに発生することがある。「スパークル」は、ランダムパターンとして現れる、明るい及び暗い輝度の小さい領域からなる粒状のテクスチャ(テクスチャムラ)として現れる光学アーチファクトを指す。明領域及び暗領域の位置は、視野角の変化と共に変化し得るため、このテクスチャは観察者にとって特に目につき、不快なものとなる。スパークルは、一部の種類の非平滑表面と、それに近接している別の構造との間の光学相互作用の結果として現れることがある。スパークルアーチファクトを回避するためには、表面に、100マイクロメートル未満の構造、又は周期性が非常に小さい構造、近接する構造のマイクロ画像(micro-image)を形成しない構造、又はこれらの特質の任意の組み合わせを利用することが望ましい。
モアレパターンは、一般的に、ウィンドウ画面など重ね合わせに関連する既知の光学アーチファクトであるが、光学フィルムと、何らかの様式でパターン化されている第2フィルム、層又は物体とを組み合わせるときにも発生することがある。最近のディスプレイでは、液晶ディスプレイパネルそれ自体が画素化され、ある周期パターンを有している。多くの場合、BEFフィルムもディスプレイに含まれ、これらも、線状プリズムのピッチ又は間隔に関連する周期性を有している。光拡散フィルムなどの光学フィルムがディスプレイ内に挿入される場合には、光学フィルムが保有する空間周期性のいずれもが、ディスプレイパネルの周期性、BEFフィルムの周期性、又はシステム内の任意の他の構成部品の周期性と相互作用して、モアレパターン(複数可)を生成することがある。そのようなパターンは、ディスプレイ用途には極めて望ましくない。したがって、構造化表面から作製される光拡散フィルムでは、その構造化表面が、空間周期性をほとんど有さないか、又は全く有さないことが望ましい。
本発明者らは、高性能な光拡散フィルムの作製によく適した構造化表面の形成に使用できるプロセスを開発した。このプロセスにより、相当程度の表面積(例えば、標準的なデスクトップコンピュータのディスプレイ画面と少なくとも同程度の表面積)の、微細複製ツールにおける構造化表面を、切り出し工具を用いて基材に形状を切り出すことで、等しい面積の、同程度の形状サイズの構造化表面を生成するのにかかるであろう時間と比較して短い期間で、生成できる。この理由は、このプロセスが、構造化表面を生成するのに切り出し法ではなく、電気めっき法を用い得るからである。(しかし、以下に更に記載するいくつかの場合において、切り出しに加えて電気めっきを使用できる。)本プロセスは、非常に高いヘイズ(及び、低い透明度)をもたらす構造化表面、非常に低いヘイズ(及び、高い透明度)をもたらす構造化表面、及びこれらの両極端の間の構造化表面を含む、広範囲な構造化表面を生成するように調整できる。本プロセスは、予備構造化表面が生成される第1電気めっき手順を利用できる。この予備構造化表面は、前述の第2型微細複製拡散フィルムの構造化表面に実質的に対応する。関連する図6に戻ると、第2型微細複製拡散フィルムは、比較的高い光学透明度を有する一般設計空間にわたっている。本発明者らは、予備構造化表面を、第2電気めっき手順を使用して第2電着層で覆うことによって、第2構造化表面が得られ、この第2構造化表面により、プロセス条件に応じて、ヘイズが高い、低い又は中程度の拡散フィルムを生成できることを見出した。しかし、第2構造化表面から作製された拡散フィルムは、予備構造化表面から作製されたものとは異なる。詳細には、興味深いことに、第2構造化表面から作製された拡散フィルムは、第2型微細複製拡散フィルムに対する設計空間よりも(中程度のヘイズ値において)実質的に低い透明度を有する一般設計空間内にある。このことを、開発したプロセスに従い作製された光拡散フィルムに関連して示す。また、これらの光拡散フィルムの少なくとも一部は、空間周期性がほとんどないか又は全くないこと、及び15マイクロメートル未満又は10マイクロメートル未満の平均形状サイズにより特徴づけられるトポグラフィーを含む、他の所望の特性をも有することが示される。
図9は、本プロセスの例901を示す。本プロセスの工程902において、表面に金属層を電気めっきできる基盤としての機能を果たし得る基体又は基板を提供する。基板は、シート、プレート又は円筒などの非常に多くの形態のうちから1つを採用することができる。連続ロール品の生成に使用できるという点で、円形円筒が有利である。基板は、典型的には金属から作製される。例示的な金属としては、ニッケル、銅及び真鍮が挙げられる。しかし、他の金属を使用してもよい。基板は、後続の工程において電着層を形成する露出面(「基体表面」)を有する。基体表面は、平滑かつ平坦でもよいし、実質的に平坦でもよい。平滑に仕上げられた円筒の曲外面は、特に、円筒の表面上の任意の所与の点付近の小さい局所領域を考えると、実質的に平坦であると考えることができる。基体表面は、基体平均粗さによって特徴づけることができる。この点に関して、基体表面の表面「粗さ」又は本明細書に言及する他の表面の「粗さ」は、平均粗さRa又は二乗平均平方根粗さRrmsなどの任意の一般的に認められている粗さの尺度を使用して定量化できる。そして、粗さは、対象となっている表面全体の関連する範囲をよく代表するように十分に大きい領域にわたって測定されることが前提とされる。
プロセス901の工程903において、第1電気めっきプロセスを使用して基板の基体表面上に金属からなる第1層を形成する。この工程を開始する前に、接着を促進するために、基板の基体表面を下塗り、さもなければ処理してもよい。この金属は、基体表面を構成する金属と実質的に同じものでもよい。例えば、基体表面が銅を含む場合には、工程903において形成される第1電気めっき層も銅から作製してもよい。金属からなる第1層を形成するために、第1電気めっきプロセスでは第1電気めっき溶液を使用する。第1電気めっき溶液の組成、例えば、この溶液に使用される金属塩の種類、並びに他のプロセスのパラメータ(電流密度、めっき時間及び基板速度など)は、第1電気めっき層が平滑かつ平坦に形成されず、代わりに、不規則で平坦なファセットを有する形状によって構造化かつ特徴づけられる第1主表面を有するように選択される。不規則形状のサイズ及び密度は、電流密度、めっき時間及び基板速度によって決定され、その一方で、第1電気めっき溶液に使用される金属塩の種類は、該形状の幾何学を決定する。この点に関して、更なる教示は、米国特許出願公開第2010/0302479号(Aronsonら)に見ることができる。第1めっきプロセスは、第1電気めっき層の第1主表面が、基板の基体平均粗さよりも大きい第1平均粗さを有するように行われる。典型的な第1主表面の構造化特徴及び粗さは、第2型微細複製拡散フィルムの構造化表面を示す図5のSEM画像に見ることができる。このフィルムは、工程903に従い作製された第1電気めっき層の第1主表面から微細複製された。
工程903において、第1平均粗さの構造化主表面を持つ金属の第1電気めっき層を作製した後、工程904において第2電気めっきプロセスを使用して、該金属の第2電気めっき層を形成する。該金属からなる第2層は第1電気めっき層を覆い、それらの組成が実質的に同じであり得るため、これら2つの電気めっき層はもはや区別できず、第1層の第1主表面は、実質的に消し去られ、もはや検出できない。それにもかかわらず、第2電気めっきプロセスは、第2電気めっき層の露出した第2主表面が、構造化されかつ非平坦ではあるが、第1主表面の第1平均粗さ未満の第2平均粗さを有するという点で、第1電気めっきプロセスとは異なる。第2電気めっきプロセスは、第1主表面と比較して粗さが減少した第2主表面を提供するために、多くの点において第1電気めっきプロセスと異なってもよい。
いくつかの場合において、工程904の第2電気めっきプロセスは、ボックス904aに示すように、少なくとも有機レベラーの追加によって、工程903における第1電気めっき溶液とは異なる第2電気めっき溶液を使用できる。有機レベラーは、小さい凹部内には比較的厚く堆積し、また小さい突出部には比較的薄く堆積し、最終的に、小表面における凹凸の深さ又は高さを減少させる能力をめっき浴に導入する物質である。レベラーを用いることにより、めっき部分は、基礎となる金属よりも平滑な表面を有することになる。例示的な有機レベラーとしては、スルホン化、硫化ヒドロカルビル化合物、アリルスルホン酸、様々な種類のポリエチレングリコール、並びにジチオカルバメート(bithiocarbamate)又はチオ尿素を含むチオカルバメート、並びにそれらの誘導体を挙げることができるが、これらに限定されない。第1電気めっき溶液は、多くとも微量の有機レベラーを含有できる。第1電気めっき溶液は、有機炭素の総濃度が100、75又は50ppm未満であってよい。第2電気めっき溶液内の有機レベラーの濃度の、第1電気めっき溶液内の任意の有機レベラーの濃度に対する比は、例えば、少なくとも50、100、200又は500であってよい。第2主表面の平均粗さは、第2電気めっき溶液内の有機レベラーの量を調節することによって調整できる。
工程904の第2電気めっきプロセスは、第2工程904が、第1主表面に対して第2主表面の粗さを減少する効果がある少なくとも1つの電気めっき技術又は特徴を含むことによっても、又は代替的に、該技術又は特徴を含むことによって、工程903の第1電気めっきプロセスと異なってもよい。シービング(ボックス904b)及び遮蔽(ボックス904c)は、そのような電気めっき技術又は特徴の例である。更に、有機レベラーに加えて又はその代わりに、第2主表面の平均粗さを減少するために、1種類以上の有機結晶微細化剤(ボックス904d)を第2電気めっき溶液に加えてもよい。
工程904を完了した後、第1及び第2電気めっき層を含む基板を、光拡散フィルムを形成するための原型ツールとして使用してもよい。いくつかの場合において、ツールの構造化表面、つまり、工程904において生成された第2電気めっき層の構造化された第2主表面は、パッシベーション処理されるか、さもなければ第2金属又は他の好適な材料によって保護されてもよい。例えば、第1及び第2電気めっき層が銅から構成される場合には、構造化された第2主表面を、クロムの薄いコーティングで電気めっきすることができる。クロム又は他の好適な材料の薄いコーティングは、好ましくは、構造化された第2主表面のトポグラフィー及び平均粗さを実質的に保つように十分に薄い。
光拡散フィルムの製作においては原型ツールそれ自体を使用するのではなく、原型ツールの構造化された第2主表面を微細複製することによって、1つ以上の複製ツールを作製してから、その複製ツール(複数可)を使用して、光学フィルムを製作してもよい。原型ツールから作製された第1複製は、構造化された第2主表面の反転形状ではあるが、それに対応する第1複製構造化表面を有する。例えば、構造化された第2主表面における突出部は、第1複製構造化表面における窪み部に対応する。第2複製は、第1複製から作製できる。第2複製もまた、原型の構造化された第2主表面に対応し、かつ非反転形状である第2複製構造化表面を有することになる。
工程904の後、構造化表面ツールの作製後、工程906において、同じ構造化表面(原型ツールに対して反転しているか、反転していないかにかかわらず)を有する光拡散フィルムを、原型ツール又は複製ツールからの微細複製によって作製できる。光拡散フィルムは、例えば、予備成形フィルムのエンボス加工、又は、キャリアフィルム上での硬化性層の流延と硬化などの、任意の適当なプロセスを使用してツールから形成してよい。
ここで図10を参照すると、円筒又はドラムの形態の構造化表面ツール1010の概略図が描かれている。ツール1010は、適当な構造化表面を有するように図9の方法に従い加工されたことを前提とする連続主表面1010aを有する。このツールは、幅w及び半径Rを有する。このツールは、微細複製によって光拡散フィルムを作製するための連続フィルム製造ラインにおいて使用できる。ツール1010又は同一のツールの小部分Pを概略的に図11Aに示す。
図11Aに、ツール1010と同一であるという前提の構造化表面ツール1110の概略断面を示す。図9のプロセスによって作製され、ツール1110は、基板1112と、構造化された第1主表面1114aを有する金属からなる第1電気めっき層1114と、該金属の第2電気めっき層1116と、を含むものとして図に示されている。ここで、第2層1116は、ツール1110の構造化主表面1110aと一致する、構造化された第2主表面1116aを有する。図9の教示に従い、第2主表面1116aは、構造化されるか、又は平滑でない。また、第2主表面1116aが有する平均粗さは、第1主表面1114aよりも小さい。第1主表面1114a及び別個の層1114、1116を、図11aに参照目的のために示す。しかし、前に述べたように、第1電気めっき層1114の上への第2電気めっき層1116の形成により、第1主表面1114a及び、層1114と層1116との間の区別が検出できなくなることがある。
図11Bには、微細複製手順中の図11Aのツール1110の概略図が示されており、ここで、該ツール部分は、光拡散フィルム1120の構造化表面を作製するために使用されている。図11Aと同様の参照番号は、同様の要素を指定しており、これらは更に述べる必要はない。微細複製中、フィルム1120をツール1110に対して押し付けることによって、ツールの構造化表面が、高い忠実度で(反転形状で)フィルムに転写される。この場合、フィルムは、基体フィルム又はキャリアフィルム1122及びパターン層1124を有するように示されているが、他のフィルム構成も使用できる。パターン層は、例えば、エンボス加工に好適な硬化性材料でもよいし、熱可塑性プラスチック材料でもよい。微細複製プロセスでは、パターン層1124の主表面1124aに一致する光学フィルム1120の主表面1120aを、ツールの構造化主表面1110aに対応させる方法で、構造化又は粗面化させる。
図11Bの微細複製手順において作製された光学フィルム1120を、図11Cに、ツール1110から分離して示す。図7の光拡散フィルム720と同じであり得るか、又はそれに類似するものであり得るフィルム1120は、今や、光拡散フィルムとして使用し得る。
本開示の光拡散フィルムは、図7及び図11Cの図面から示唆されるように、スタンドアロング(stand-along)の拡散フィルムであってもよいし、更なる機能性を提供するように他の光学フィルム又は構成要素と組み合わされてもよい。本明細書に開示するような構造化表面を有する背面コーティングの形態の光拡散フィルムは、線状プリズムBEFフィルムと組み合わされて、図12の二重機能光方向転換光学フィルム1200を提供する。そのような実施形態における光拡散フィルム又は背面コーティングは、典型的には、比較的低い量のヘイズ、例えば、10%以下のヘイズを提供する。
光学フィルム1200は、y方向に沿って延在する複数のプリズム又は他の微細構造1250を含む第1主表面1210を含む。光学フィルム1200は、第1主表面1210の反対側にある第2主表面1220をも含み、これは図9の方法に従い構造化される。第2主表面1220は、個々の微細構造1260を含んでもよい。
また、光学フィルム1200は、主表面1210と表面1220との間に配置され、かつ第1主表面1272及びそれと反対側の第2主表面1274を含む、基板層1270も含む。光学フィルム1200は、基板層の第1主表面1272上に配置されたプリズム層1230をも含み、光学フィルムの第1主表面1210、及び基板層の第2主表面1274上に配置されたパターン層1240を含み、かつ光学フィルムの第2主表面1220を含む。パターン層1240は、主表面1220の反対側にある主表面1242を有する。
光学フィルム1200は、3つの層1230、1270及び1240を含む。しかし、一般的に、光学フィルム1200は、1つ以上の層を有することができる。例えば、いくつかの場合において、光学フィルムは、それぞれ第1主表面1210及び第2主表面1220を含む、単一の層を有することができる。別の例として、いくつかの場合において、光学フィルム1200は、多くの層を有することができる。例えば、そのような場合において、基板1270は多数の層を有することができる。
微細構造1250は、光学フィルムの主表面1220に入射する光を、正のz方向などの所望の方向に沿って方向転換するように主に設計されている。例示的な光学フィルム1200では、微細構造1250は、プリズム型線状構造である。一般的に、微細構造1250は、入射光の一部分を屈折させ、該入射光の異なる部分を再利用することによって方向転換することが可能なものであればいずれの種類の微細構造でもよい。例えば、微細構造1250の断面形状は、曲面状かつ/又は区分的に線状の部分であるか、又はこれを含んだものであってよい。例えば、いくつかの場合において、微細構造1250を、y方向に沿って延びる線状円筒形レンズとすることができる。
それぞれの線状プリズム微細構造1250は、頂角1252と、例えば主平面1272などの共通の基準面から測定された高さ1254と、を含む。光学フィルムの光学的結合(optical coupling)若しくはにじみを低減し、かつ/又は耐久性の向上が望ましいときなどのいくつかの場合において、プリズム微細構造1250の高さを、y方向に沿って変更してもよい。例えば、プリズム型線状微細構造1251のプリズムの高さは、y方向に沿って変化する。そのような場合、プリズム微細構造1251は、y方向に沿って変化する局所的高さと、最大高さ1255と、平均高さと、を有する。いくつかの場合において、線状微細構造1253などのプリズム型線状微細構造は、y方向に沿って一定な高さを有する。そのような場合、微細構造の局所的な高さは一定であり、最大高さと平均高さは等しい。
光学的結合若しくはにじみを低減させることが望ましいときなどのいくつかの場合において、一部の線状微細構造はより低く、一部の線状微細構造はより高い。例えば、線状微細構造1253の高さ1256は、線状微細構造1257の高さ1258よりも小さい。
頂角又は2面角1252は、用途において所望され得る任意の値を有することができる。例えば、いくつかの場合において、頂角1252は、約70度〜約110度、約80度〜約100度、又は約85度〜約95度の範囲にあってよい。いくつかの場合において、微細構造150は、等しい頂角を有してよく、これは、例えば、約88度又は89度〜約92度又は91度の範囲にあってよく、例えば90度であってよい。
プリズム層1230は、ある用途において所望され得る任意の屈折率を有することができる。例えば、いくつかの場合において、プリズム層の屈折率は、約1.4〜約1.8、約1.5〜約1.8、又は約1.5〜約1.7の範囲にある。いくつかの場合において、プリズム層の屈折率は、約1.5以上、約1.55以上、約1.6以上、約1.65以上、又は約1.7以上である。
光学フィルム1200が液晶ディスプレイシステムで使用されるときなどのいくつかの場合において、光学フィルム1200は、ディスプレイの輝度を増大又は向上させることができる。そのような場合、光学フィルムは、1よりも大きい実効透過率又は相対利得を有する。この点に関して、実効透過率とは、フィルムがディスプレイシステムの所定位置にある場合のディスプレイシステムの輝度の、フィルムが所定位置にない場合のディスプレイの輝度に対する比を指す。
図12に代わる実施形態では、プリズム層1230を、パターン層1240と同じでもよいし、又は、それに類似するものでもよい第2パターン層と置き換えることもできる。その結果、パターン層1240及び第2パターン層の両方が、図9の方法に従い製作された構造化表面を有する場合がある。これらの構造化表面は、同じ若しくは実質的に同じ又は実質的に異なるそれぞれのヘイズ値を(独立した状態で)提供するように構成されていてもよい。
図9に示すような方法に従い、多くの光拡散フィルム試料を作製した。それ故に、それぞれの場合において、一連のプロセス条件下で構造化表面ツールを作製してから、そのツールの構造化表面を微細複製することによって、光学フィルムの主表面として、(反転形状の)対応する構造化表面が形成された。(それぞれの光学フィルムの反対側の主表面は、平坦かつ平滑であった。)構造化表面により、各光学フィルムに所与の量の光学ヘイズ及び光学透明度が付与された。それぞれの光拡散フィルム試料のヘイズ及び透明度を、BYK−Gardiner製のHaze−Gard Plusヘイズメータを用いて測定した。下記の表に、以下に説明する様々な試料の製作の際に使用した薬液の一部を説明する。
予備ツール
直径が16インチ(41センチメートル)及び長さが40インチ(102センチメートル)の、銅でコーティングされた円筒を、ツールを構成する基体として使用した。このツールは、図9に示す電気めっき工程の一方のみを使用して作製したため、本明細書では予備ツールと呼ぶ。最初に薄いアルカリ洗浄液を用いてツールからグリースを除去し、硫酸溶液を用いて酸洗処理(deoxidize)し、それから、脱イオン水を用いてすすいだ。アルカリ洗浄剤の組成、並びに他の関連する溶液の組成を表1に示す。次に、予備ツールを、濡れたままで銅めっきタンク(Daetwyler Cu Master Junior 18)に移動させた。銅めっきタンクを、めっきサイクルの開始時におおよそ1リットルの硫酸溶液ですすいで表面酸化物を除去した。次に、予備ツールを、第1銅浴中に50%レベルで(at a 50% level)浸した。この浴の温度は25℃であった。有機汚染を除去するために、炭素を充填したキャニスタを用いて銅浴を処理した。処理の有効性を、5アンペアで5分間めっきして、輝度不足を評価する、1000mL、真鍮のHull Cellパネル、及び過硫酸塩TOC分析器を使用したTOC(全有機炭素)分析の両方によって検証した。TOCレベルは、45ppm(百万分率)未満と測定された。予備ツールを、1平方フィート当たり60アンペア(1平方センチメートル当たり0.06アンペア)の電流密度で、45分間(開始時に5秒間の立ち上がり時間を含む)、毎分20回転で回転させながらDCめっきした。めっき中のアノードからツールにおける最も近い点までの距離は、おおよそ45mmであった。めっきが完了した際のめっきされた銅の厚さ(本明細書では第1銅層と呼ぶ)は、おおよそ30マイクロメートルであった。第1銅層は、数多い平坦なファセットで粗面化された、露出した構造化表面を有していた。
直径が16インチ(41センチメートル)及び長さが40インチ(102センチメートル)の、銅でコーティングされた円筒を、ツールを構成する基体として使用した。このツールは、図9に示す電気めっき工程の一方のみを使用して作製したため、本明細書では予備ツールと呼ぶ。最初に薄いアルカリ洗浄液を用いてツールからグリースを除去し、硫酸溶液を用いて酸洗処理(deoxidize)し、それから、脱イオン水を用いてすすいだ。アルカリ洗浄剤の組成、並びに他の関連する溶液の組成を表1に示す。次に、予備ツールを、濡れたままで銅めっきタンク(Daetwyler Cu Master Junior 18)に移動させた。銅めっきタンクを、めっきサイクルの開始時におおよそ1リットルの硫酸溶液ですすいで表面酸化物を除去した。次に、予備ツールを、第1銅浴中に50%レベルで(at a 50% level)浸した。この浴の温度は25℃であった。有機汚染を除去するために、炭素を充填したキャニスタを用いて銅浴を処理した。処理の有効性を、5アンペアで5分間めっきして、輝度不足を評価する、1000mL、真鍮のHull Cellパネル、及び過硫酸塩TOC分析器を使用したTOC(全有機炭素)分析の両方によって検証した。TOCレベルは、45ppm(百万分率)未満と測定された。予備ツールを、1平方フィート当たり60アンペア(1平方センチメートル当たり0.06アンペア)の電流密度で、45分間(開始時に5秒間の立ち上がり時間を含む)、毎分20回転で回転させながらDCめっきした。めっき中のアノードからツールにおける最も近い点までの距離は、おおよそ45mmであった。めっきが完了した際のめっきされた銅の厚さ(本明細書では第1銅層と呼ぶ)は、おおよそ30マイクロメートルであった。第1銅層は、数多い平坦なファセットで粗面化された、露出した構造化表面を有していた。
(図9に従って)平均粗さがより小さい第2銅層を電気めっきして第1銅層を覆うことはせず、参照目的のため、この予備ツール(及び詳細には第1銅層の構造化表面)は、第2型微細複製拡散フィルムの作製のために使用された。これには、予備ツールを洗浄することと、第1銅層の構造化表面上にクロムコーティングを電気めっきすることと、が含まれる。クロムコーティングは、第1銅層の構造化表面のトポグラフィーを実質的に保つのに十分な薄さであった。
したがって、予備ツールを、まだ第1銅層の構造化表面が露出した状態で、脱イオン水及び弱酸性溶液で洗浄し、銅表面の酸化を防止した。次に、予備ツールを、Class 100のクリーンルームに移動させ、洗浄タンク内に入れて、毎分20回転で回転させた。予備ツールを、クエン酸溶液を使用して酸洗処理し、その後アルカリ洗浄剤で洗浄した。脱イオン水を用いてすすいだ後、予備ツールを、クエン酸溶液を用いて再び酸洗処理し、そして脱イオン水を用いてすすいだ。
予備ツールを、濡れたままでクロムめっきタンクに移動させ、タンク中に50%浸した(50% immersed)。浴温は、124°F(51.1℃)であった。予備ツールを、90メートル/分の表面速度で動かしながら、ツールを、1平方デシメートル当たり25アンペアの電流密度を使用して、クロムでDCめっきした。このめっき処理を400秒間継続した。めっき完了時、予備ツールを脱イオン水を用いてすすいで、残留クロム浴溶液を除去した。クロムコーティングは、銅を保護して酸化を防止する機能を果たし、前述のように、第1銅層の構造化表面のトポグラフィーを実質的に保つのに十分な薄さであった。
予備ツールを洗浄タンクに移動させて、毎分10回転で回転させ、周囲温度において1リットルの脱イオン水を用いて洗浄し、次に、ツール表面全体を覆うように緩やかに加えた1.5リットルの変性アルコールを用いて洗浄した(試薬用SDA−3A、周囲温度)。その後、ツールの回転速度を毎分20回転に増加させた。次に、ツールを空気乾燥させた。
第2型微細複製光拡散フィルム
予備ツールを乾燥させた後、下処理されたPETフィルム上にコーティングされた紫外線硬化性アクリル樹脂を使用して、このツールからハンドスプレッド(hand-spread)のフィルムを作製した。この手順では、第1銅層の構造化表面を微細複製して、フィルムの硬化した樹脂層上に、対応する(ただし、予備ツールの構造化表面に対して反転した)構造化表面を生成させた。その構成方法に起因して、このフィルムは、第2型微細複製光拡散フィルムであった。このフィルムの構造化表面の走査型電子顕微鏡(SEM)画像を、図5に示す。このフィルムの光学ヘイズ及び透明度を、BYK Gardner(Columbia MD)製のHaze−Gard Plusシステムを用いて測定し、それぞれ、100%及び1.3%であることがわかった。
予備ツールを乾燥させた後、下処理されたPETフィルム上にコーティングされた紫外線硬化性アクリル樹脂を使用して、このツールからハンドスプレッド(hand-spread)のフィルムを作製した。この手順では、第1銅層の構造化表面を微細複製して、フィルムの硬化した樹脂層上に、対応する(ただし、予備ツールの構造化表面に対して反転した)構造化表面を生成させた。その構成方法に起因して、このフィルムは、第2型微細複製光拡散フィルムであった。このフィルムの構造化表面の走査型電子顕微鏡(SEM)画像を、図5に示す。このフィルムの光学ヘイズ及び透明度を、BYK Gardner(Columbia MD)製のHaze−Gard Plusシステムを用いて測定し、それぞれ、100%及び1.3%であることがわかった。
第1ツール
次に、本明細書で第1ツールと呼ばれる別の構造化表面ツールを作製した。予備ツールとは異なり、第1ツールは、平均粗さがより小さい第2銅層によって電気めっきされて、第1銅層が覆われるように、図9に示す両方の電気めっき工程を使用して作製した。
次に、本明細書で第1ツールと呼ばれる別の構造化表面ツールを作製した。予備ツールとは異なり、第1ツールは、平均粗さがより小さい第2銅層によって電気めっきされて、第1銅層が覆われるように、図9に示す両方の電気めっき工程を使用して作製した。
第1ツールを、クロムめっき工程に至るまで予備ツールと同じように調製した。次に、構造化表面の平均粗さが比較的高い第1銅層(実質的に図5の反転形態)を有するこの第1ツールを、乾燥する前に、更なるめっき用に据え付けられた銅めっきタンクに移動させた。タンク内へのツールの装填中に生成された表面酸化物を除去するために、第2めっきサイクルを開始する前に、第1ツールを、おおよそ1リットルの硫酸溶液ですすいだ。次に、第1ツールを、Daetwyler Cu Master Junior 18タンク中の第2銅浴中に50%浸した。この浴の温度は25℃であった。予備ツールに関して先に記載したように、第2銅浴を炭素処理して有機汚染を除去した。炭素処理後、第2銅浴に有機結晶微細化剤(14mL/Lの濃度のCutflex 321)を再注入した。これにより第2銅浴は、表1の上方に示す組成となった。第2銅浴の組成は、有機結晶微細化剤の追加のために、第1銅浴の組成とは異なっていた。アノードを、第1ツールからおおよそ45mmの距離に位置付けた。次に、第1ツールを、1平方フィート当たり60アンペア(1平方センチメートル当たり0.06アンペア)の電流密度を使用して、12分間、毎分20回転で回転させながら第2銅浴中でDCめっきした。電流立ち上がり時間は、約5秒であった。これにより、第1銅層を覆う第2電気めっき銅層が生成された。第2銅層は、第1銅層よりも平均粗さが小さい構造化表面を有していた。第2銅層の厚さは、8マイクロメートルであった。
次に、第1ツールを洗浄タンクに移動させた。第1ツールを、噴射ノズルを備えたホースを使用して周囲温度においておおよそ1リットルの脱イオン水を用いて洗浄しながら、毎分10〜12回転で回転させた。第2洗浄を、周囲温度において1〜2リットルのクエン酸溶液を使用して行った。次に、第1ツールを、過剰なクエン酸を除去するために、噴射ノズルを備えたホースを使用して、おおよそ3リットルの脱イオン水を用いて洗浄した。次に、第1ツールを、乾燥を助けるために、周囲温度においてツール表面全体を覆うように緩やかに加えたおおよそ2リットルの変性エタノール(試薬用のSDA 3A)を用いてすすいだ。その後、第1ツールを空気乾燥させた。次に、第1ツールを、予備ツールと同じ方法で、Class 100のクリーンルームに移動させ、洗浄し、クロムめっきした。このクロムめっきでは、第2銅層の構造化表面のトポグラフィーが実質的に保持された。
試料502−1
空気乾燥後、第1ツールを使用してハンドスプレッドによってフィルムを作製した。これもまた、予備ツールを用いて行ったのと同じように行なわれ、第2銅層の構造化表面に対応する(ただし、それに対して反転した)微細複製された構造化表面を、フィルムの硬化した樹脂層上に有する光拡散フィルムが生成された(本明細書では試料表示番号502−1と呼ぶ)。このフィルムの構造化表面のSEM画像を図14に示す。この表面は構造化されているが、この表面の平均粗さは、図5の構造化表面よりも小さいことが確認できる。502−1試料の断面のSEM画像を図14aに示す。この光拡散フィルム試料502−1の光学ヘイズ及び透明度を、BYK Gardner(Columbia MD)製のHaze−Gard Plusシステムを用いて測定し、それぞれ、92.8%及び6.9%であった。これらの値のそれぞれを下記の表2に列挙する。
空気乾燥後、第1ツールを使用してハンドスプレッドによってフィルムを作製した。これもまた、予備ツールを用いて行ったのと同じように行なわれ、第2銅層の構造化表面に対応する(ただし、それに対して反転した)微細複製された構造化表面を、フィルムの硬化した樹脂層上に有する光拡散フィルムが生成された(本明細書では試料表示番号502−1と呼ぶ)。このフィルムの構造化表面のSEM画像を図14に示す。この表面は構造化されているが、この表面の平均粗さは、図5の構造化表面よりも小さいことが確認できる。502−1試料の断面のSEM画像を図14aに示す。この光拡散フィルム試料502−1の光学ヘイズ及び透明度を、BYK Gardner(Columbia MD)製のHaze−Gard Plusシステムを用いて測定し、それぞれ、92.8%及び6.9%であった。これらの値のそれぞれを下記の表2に列挙する。
第2ツール
本明細書で第2ツールと呼ばれる別の構造化表面ツールを作製した。第2ツールは、1種類のみではなく、2種類の有機結晶微細化剤(14mL/Lの濃度のCutflex 321、及び70mL/Lの濃度のCutflex 320H)を使用することにより、第2銅浴の組成物が異なること以外は、第1ツールと実質的に同じ方法で作製した。しかし、ここでもまた、第2銅めっき工程を12分で完了し、これにより、厚さ8マイクロメートルの第2電気めっき銅層が生成された。第2銅層の構造化表面をクロムめっきした後、この第2ツールは、光学フィルムへの微細複製にすぐに使用できた。
本明細書で第2ツールと呼ばれる別の構造化表面ツールを作製した。第2ツールは、1種類のみではなく、2種類の有機結晶微細化剤(14mL/Lの濃度のCutflex 321、及び70mL/Lの濃度のCutflex 320H)を使用することにより、第2銅浴の組成物が異なること以外は、第1ツールと実質的に同じ方法で作製した。しかし、ここでもまた、第2銅めっき工程を12分で完了し、これにより、厚さ8マイクロメートルの第2電気めっき銅層が生成された。第2銅層の構造化表面をクロムめっきした後、この第2ツールは、光学フィルムへの微細複製にすぐに使用できた。
試料594−1
次に、第2ツールを使用してハンドスプレッドによってフィルムを作製した。これは、第1ツールを用いて行ったのと同じように行なわれ、第2銅層の構造化表面に対応する(ただし、それに対して反転した)微細複製された構造化表面を、フィルムの硬化した樹脂層上に有する光拡散フィルムが生成された(本明細書では試料表示番号594−1と呼ぶ)。このフィルムの構造化表面のSEM画像を図15に示す。この表面は構造化されているが、この表面の平均粗さは、図5の構造化表面よりも小さいことが確認できる。この光拡散フィルム試料594−1の光学ヘイズ及び透明度を、BYK Gardner(Columbia MD)製のHaze−Gard Plusシステムを用いて測定し、それぞれ、87.9%及び6.9%であった。これらの値のそれぞれを下記の表2に列挙する。
次に、第2ツールを使用してハンドスプレッドによってフィルムを作製した。これは、第1ツールを用いて行ったのと同じように行なわれ、第2銅層の構造化表面に対応する(ただし、それに対して反転した)微細複製された構造化表面を、フィルムの硬化した樹脂層上に有する光拡散フィルムが生成された(本明細書では試料表示番号594−1と呼ぶ)。このフィルムの構造化表面のSEM画像を図15に示す。この表面は構造化されているが、この表面の平均粗さは、図5の構造化表面よりも小さいことが確認できる。この光拡散フィルム試料594−1の光学ヘイズ及び透明度を、BYK Gardner(Columbia MD)製のHaze−Gard Plusシステムを用いて測定し、それぞれ、87.9%及び6.9%であった。これらの値のそれぞれを下記の表2に列挙する。
第3ツール
本明細書で第3ツールと呼ばれる別の構造化表面ツールを作製した。第3ツールは、第2銅めっきを12分ではなく18分で完了し、厚さ約12マイクロメートルである第2電気めっき銅層が生成された以外は、第2ツールと実質的に同じ方法で作製した。第2銅層の構造化表面をクロムめっきした後、この第3ツールは、光学フィルムへの微細複製にすぐに使用できた。
本明細書で第3ツールと呼ばれる別の構造化表面ツールを作製した。第3ツールは、第2銅めっきを12分ではなく18分で完了し、厚さ約12マイクロメートルである第2電気めっき銅層が生成された以外は、第2ツールと実質的に同じ方法で作製した。第2銅層の構造化表面をクロムめっきした後、この第3ツールは、光学フィルムへの微細複製にすぐに使用できた。
試料593−2
次に、第3ツールを使用してハンドスプレッドによってフィルムを作製した。これは、第1及び第2ツールを用いて行ったのと同じように行なわれ、第2銅層の構造化表面に対応する(ただし、それに対して反転した)微細複製された構造化表面を、フィルムの硬化した樹脂層上に有する光拡散フィルムが生成された(本明細書では試料表示番号593−2と呼ぶ)。このフィルムの構造化表面のSEM画像を図21に示す。この表面は構造化されているが、この表面の平均粗さは、図5の構造化表面よりも小さいことが確認できる。この光拡散フィルム試料593−2の光学ヘイズ及び透明度を、BYK Gardner(Columbia MD)製のHaze−Gard Plusシステムを用いて測定し、それぞれ、17.1%及び54.4%であった。これらの値のそれぞれを下記の表2に列挙する。
次に、第3ツールを使用してハンドスプレッドによってフィルムを作製した。これは、第1及び第2ツールを用いて行ったのと同じように行なわれ、第2銅層の構造化表面に対応する(ただし、それに対して反転した)微細複製された構造化表面を、フィルムの硬化した樹脂層上に有する光拡散フィルムが生成された(本明細書では試料表示番号593−2と呼ぶ)。このフィルムの構造化表面のSEM画像を図21に示す。この表面は構造化されているが、この表面の平均粗さは、図5の構造化表面よりも小さいことが確認できる。この光拡散フィルム試料593−2の光学ヘイズ及び透明度を、BYK Gardner(Columbia MD)製のHaze−Gard Plusシステムを用いて測定し、それぞれ、17.1%及び54.4%であった。これらの値のそれぞれを下記の表2に列挙する。
第4ツール
本明細書で第4ツールと呼ばれる別の構造化表面ツールを作製した。この第4ツールを作製するために、2種類のめっき溶液を調製した。第1めっき溶液は、60g/Lの硫酸(J.T.Baker Chemical Company,Philipsburg,NJ)と、217.5g/Lの硫酸銅(Univertical Chemical Company,Angola,IN)とからなるものであった。第2めっき溶液は、第1めっき溶液の内容物に、添加剤であるCUPRACID HTレベラー(0.05体積%)、CUPRACID HT細粒剤(0.1体積%)、及びCUPRACID HT湿潤剤(0.3体積%)(全てAtotech USAから入手可)を加えたものからなっていた。両方の溶液を脱イオン水から作製した。8インチ×8インチ(20センチメートル×20センチメートル)の銅板を、第1めっき溶液を入れたタンク内に設置した。タンクのサイズは、36インチ(長さ)×24インチ(幅)×36インチ(深さ)(91センチメートル(長さ)×61センチメートル(幅)×91センチメートル(深さ))であった。銅板を、1平方フィート当たり10アンペア(1平方センチメートル当たり0.01アンペア)の電流密度を使用して、循環ポンプを使用して生み出された毎秒8ガロン(毎分0.5リットル)の流量で、21℃にて24時間めっきした。この第1めっき工程では、比較的粗い構造化表面を有する第1電着銅層が生成された。この電着層の厚さは約330マイクロメートルであった。このプレートを第1めっき溶液から取り出し、すすいで、乾燥させた。次に、第1電気めっき層を有する銅板を、1.5インチ×8インチ(3.8センチメートル×20センチメートル)の断片に切断した。この断片の背面を粘着テープで遮蔽して、第2めっき溶液を入れた4リットルビーカー内に置き、1平方フィート当たり35アンペア(1平方センチメートル当たり0.038アンペア)の電流密度で、25℃において35分間めっきした。この第2めっき工程では、第1銅層を覆う第2電着銅層が生成された。この第2銅層は、平均粗さが第1銅層よりも小さい構造化表面を有していた。第2銅層の厚さは、約28マイクロメートルであった。第2めっき工程後、前記断片(第4ツールと呼ぶ)を、すすいで、乾燥させた。第1、第2及び第3ツールとは異なり、第4ツールの第2銅層はクロムでめっきしなかった。代わりに、第2銅層の露出した構造化表面を、光学フィルムの微細複製に直接に使用した。
本明細書で第4ツールと呼ばれる別の構造化表面ツールを作製した。この第4ツールを作製するために、2種類のめっき溶液を調製した。第1めっき溶液は、60g/Lの硫酸(J.T.Baker Chemical Company,Philipsburg,NJ)と、217.5g/Lの硫酸銅(Univertical Chemical Company,Angola,IN)とからなるものであった。第2めっき溶液は、第1めっき溶液の内容物に、添加剤であるCUPRACID HTレベラー(0.05体積%)、CUPRACID HT細粒剤(0.1体積%)、及びCUPRACID HT湿潤剤(0.3体積%)(全てAtotech USAから入手可)を加えたものからなっていた。両方の溶液を脱イオン水から作製した。8インチ×8インチ(20センチメートル×20センチメートル)の銅板を、第1めっき溶液を入れたタンク内に設置した。タンクのサイズは、36インチ(長さ)×24インチ(幅)×36インチ(深さ)(91センチメートル(長さ)×61センチメートル(幅)×91センチメートル(深さ))であった。銅板を、1平方フィート当たり10アンペア(1平方センチメートル当たり0.01アンペア)の電流密度を使用して、循環ポンプを使用して生み出された毎秒8ガロン(毎分0.5リットル)の流量で、21℃にて24時間めっきした。この第1めっき工程では、比較的粗い構造化表面を有する第1電着銅層が生成された。この電着層の厚さは約330マイクロメートルであった。このプレートを第1めっき溶液から取り出し、すすいで、乾燥させた。次に、第1電気めっき層を有する銅板を、1.5インチ×8インチ(3.8センチメートル×20センチメートル)の断片に切断した。この断片の背面を粘着テープで遮蔽して、第2めっき溶液を入れた4リットルビーカー内に置き、1平方フィート当たり35アンペア(1平方センチメートル当たり0.038アンペア)の電流密度で、25℃において35分間めっきした。この第2めっき工程では、第1銅層を覆う第2電着銅層が生成された。この第2銅層は、平均粗さが第1銅層よりも小さい構造化表面を有していた。第2銅層の厚さは、約28マイクロメートルであった。第2めっき工程後、前記断片(第4ツールと呼ぶ)を、すすいで、乾燥させた。第1、第2及び第3ツールとは異なり、第4ツールの第2銅層はクロムでめっきしなかった。代わりに、第2銅層の露出した構造化表面を、光学フィルムの微細複製に直接に使用した。
本明細書に開示の他の光拡散フィルム試料の作製に使用されたツールとは対照的に、第4ツールを作製するための出発材料として使用された銅板が、平坦からかなり外れたものであったことが判明した。詳細には、この銅板は、実質的に線状の周期的な起伏を含有していた。これらの起伏は、第1及び第2銅層の構造化表面に持ち越され、これにより第2銅層の構造化表面は、電気めっき工程に起因する粗さだけでなく、電着銅層が形成された基体銅板に由来する起伏も含有していた。
試料RA13a
次に、第4ツールを使用してハンドスプレッドによってフィルムを作製した。これは、紫外線硬化性アクリル樹脂を含むポリエステルフィルム基板を第4ツールに適用することによって行った。この樹脂を、RPC Industries(Plainfield,IL)製のuvプロセッサを使用して、毎分50フィート(毎分15メートル)のライン速度で硬化させた。次に、このフィルムを第4ツールの構造化表面から取り外した。このフィルムは、第2銅層の構造化表面に対応する(ただし、それに対して反転した)微細複製された構造化表面を、フィルムの硬化した樹脂層上に有する光拡散フィルムであった(本明細書では試料表示番号RA13aと呼ぶ)。このフィルムの構造化表面のSEM画像を図19に示す。図に見えるかすかな周期的な垂直線は、銅板出発材料における周期的な起伏に起因するものであり、2つの銅電気めっき工程によって導入されたものではない。この光拡散フィルム試料RA13aの光学ヘイズ及び透明度を、他の試料の場合と同様に測定し、それぞれ、25.9%及び19.4%であることがわかった。これらの値のそれぞれを下記の表2に列挙する。
次に、第4ツールを使用してハンドスプレッドによってフィルムを作製した。これは、紫外線硬化性アクリル樹脂を含むポリエステルフィルム基板を第4ツールに適用することによって行った。この樹脂を、RPC Industries(Plainfield,IL)製のuvプロセッサを使用して、毎分50フィート(毎分15メートル)のライン速度で硬化させた。次に、このフィルムを第4ツールの構造化表面から取り外した。このフィルムは、第2銅層の構造化表面に対応する(ただし、それに対して反転した)微細複製された構造化表面を、フィルムの硬化した樹脂層上に有する光拡散フィルムであった(本明細書では試料表示番号RA13aと呼ぶ)。このフィルムの構造化表面のSEM画像を図19に示す。図に見えるかすかな周期的な垂直線は、銅板出発材料における周期的な起伏に起因するものであり、2つの銅電気めっき工程によって導入されたものではない。この光拡散フィルム試料RA13aの光学ヘイズ及び透明度を、他の試料の場合と同様に測定し、それぞれ、25.9%及び19.4%であることがわかった。これらの値のそれぞれを下記の表2に列挙する。
試料507−1、600−1、554−1、597−1、551−1、及び599−1
これらの光拡散フィルム試料の作製に使用するツールを、使用する有機レベラーの量、電流密度及びめっき時間のうちの1つ以上を、第2電気めっき工程に対して変化させたこと以外は、前述の試料502−1及び594−1に対するツールと同じ方法で作製した。次に、試料を、試料502−1及び594−1と同じ方法でハンドスプレッドによってそれぞれのツールから作製し、ヘイズ及び透明度を、他の試料の場合と同様に測定した。測定値を下記の表2に列挙する。フィルム試料599−1の構造化表面のSEM画像を図16に示す。
これらの光拡散フィルム試料の作製に使用するツールを、使用する有機レベラーの量、電流密度及びめっき時間のうちの1つ以上を、第2電気めっき工程に対して変化させたこと以外は、前述の試料502−1及び594−1に対するツールと同じ方法で作製した。次に、試料を、試料502−1及び594−1と同じ方法でハンドスプレッドによってそれぞれのツールから作製し、ヘイズ及び透明度を、他の試料の場合と同様に測定した。測定値を下記の表2に列挙する。フィルム試料599−1の構造化表面のSEM画像を図16に示す。
試料502−2、554−2、551−2、597−2及び600−2
これらの光拡散フィルム試料の作製に使用するツールを、使用する有機レベラーの量、電流密度及びめっき時間のうちの1つ以上を、第2電気めっき工程に対して変化させたこと以外は、前述の試料593−2に対するツールと同じ方法で作製した。次に、試料を、試料593−2と同じ方法でハンドスプレッドによってそれぞれのツールから作製し、ヘイズ及び透明度を、他の試料の場合と同様に測定した。測定値を下記の表2に列挙する。フィルム試料502−2の構造化表面のSEM画像を図17に示す。フィルム試料597−2の構造化表面のSEM画像を図22に示す。
これらの光拡散フィルム試料の作製に使用するツールを、使用する有機レベラーの量、電流密度及びめっき時間のうちの1つ以上を、第2電気めっき工程に対して変化させたこと以外は、前述の試料593−2に対するツールと同じ方法で作製した。次に、試料を、試料593−2と同じ方法でハンドスプレッドによってそれぞれのツールから作製し、ヘイズ及び透明度を、他の試料の場合と同様に測定した。測定値を下記の表2に列挙する。フィルム試料502−2の構造化表面のSEM画像を図17に示す。フィルム試料597−2の構造化表面のSEM画像を図22に示す。
試料RA13c、RA13b、RA22a、L27B、RA14b、RA24a、RA24b、N3、及びN2
これらの光拡散フィルム試料の作製に使用されるツールを、(i)出発材料として使用される銅板が平坦かつ平滑であり、周期的な起伏を含有していなかったこと、及び(ii)電流密度及びめっき時間のうちの1つ以上を、第1又は第2電気めっき工程に対して変化させたこと以外は、前述の試料RA13aに対するツール(つまり、第4ツール)と同じ方法で作製した。次に、試料を、試料RA13aと同じ方法でハンドスプレッドによってそれぞれのツールから作製し、ヘイズ及び透明度を、他の試料の場合と同様に測定した。測定値を下記の表2に列挙する。フィルム試料RA22aの構造化表面のSEM画像を図18に示す。フィルム試料N3の構造化表面のSEM画像を図20に示す。
これらの光拡散フィルム試料の作製に使用されるツールを、(i)出発材料として使用される銅板が平坦かつ平滑であり、周期的な起伏を含有していなかったこと、及び(ii)電流密度及びめっき時間のうちの1つ以上を、第1又は第2電気めっき工程に対して変化させたこと以外は、前述の試料RA13aに対するツール(つまり、第4ツール)と同じ方法で作製した。次に、試料を、試料RA13aと同じ方法でハンドスプレッドによってそれぞれのツールから作製し、ヘイズ及び透明度を、他の試料の場合と同様に測定した。測定値を下記の表2に列挙する。フィルム試料RA22aの構造化表面のSEM画像を図18に示す。フィルム試料N3の構造化表面のSEM画像を図20に示す。
表2に列挙したそれぞれの光拡散フィルム試料は、図9に従うプロセスを使用して作製した。この表内の測定されたヘイズ及び測定された透明度の値は、図13の光学ヘイズ対光学透明度のグラフにプロットされている。グラフ上の各点は、表2の試料表示番号に従いラベル付けされている。表2に列挙した試料のうち、試料502−1(図14、図14A)、試料594−1(図15)、試料599−1(図16)、試料502−2(図17)、試料RA22a(図18)、試料RA13a(図19)、試料N3(図20)、試料593−2(図21)、及び試料597−2(図22)については、構造化表面のSEM画像が提供されている。これらの画像の観察から以下の1つ以上が明らかになる。
・構造化表面に見ることができる(例えば、明確な窪み部及び/又は突出部の形態の)識別可能な個々の構造、
・2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限された個々の構造、
・密集している個々の構造、
・丸い又は曲面状(曲面状の基礎表面を有する、クレーター状又は半球状)である個々の構造、
・ピラミッド形状であるか又は平坦なファセットを有する個々の構造、並びに
・不均一に配置された大型の構造と、大型の構造の間に不均一に分散され、密集した小型の構造との組み合わせ。
・構造化表面に見ることができる(例えば、明確な窪み部及び/又は突出部の形態の)識別可能な個々の構造、
・2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限された個々の構造、
・密集している個々の構造、
・丸い又は曲面状(曲面状の基礎表面を有する、クレーター状又は半球状)である個々の構造、
・ピラミッド形状であるか又は平坦なファセットを有する個々の構造、並びに
・不均一に配置された大型の構造と、大型の構造の間に不均一に分散され、密集した小型の構造との組み合わせ。
これらの試料のいくつかをディスプレイにおいて評価した。例えば、試料551−2及び593−2を、ディスプレイにおける背面ディフューザ(例えば、図8及び図12参照)として使用し、試料599−1、551−1、597−1、554−1、594−1、502−1、600−1、及び507−1を、ディスプレイにおける底部ディフューザ(例えば、図8及び図7参照)として使用した。モアレアーチファクトは観察されず、また、スパークル及び粒状性はごくわずかであった。(先に述べたように、粒状性及びスパークルは、液晶パネルの照明において好ましくない空間的変動を招くことがある。粒状性は、画像上に望ましくないノイズを生成することがあり、一方、スパークルは、視野角に応じて変化するそのようなノイズの更なるアーチファクトを有する。)
更なる考察−構造化表面の特徴づけ
各構造化表面の特性を、単独であるか他の特性と組み合わされているかにかかわらず、特定するため、更なる分析作業を行なった。これらの特性は、図9の方法によって作製された構造化表面の少なくとも一部を特徴づけるために、かつ/又は少なくともいくつかのそのような構造化表面を、SDBディフューザ、DPBディフューザ、CCSディフューザ、第1型微細複製拡散フィルム、及び第2型微細複製拡散フィルムなどの他の光拡散フィルムの構造化表面と区別するために使用し得る。この点に関して、調査されたいくつかの特徴化パラメータは以下のものを含む。
・空間的不規則性又はランダム性の測定値としての、直交する各面内方向に沿うトポグラフィーのパワースペクトル密度(PSD)、
・構造化表面を作り上げる個々の構造の(平面視における)特定、及びそのような構造の面内サイズ又は横断寸法(例えば、ECD)の測定、
・構造の面内サイズに対する深さ又は高さの比、並びに
・構造化表面におけるリッジの特定、及び単位面積当たりの(平面視における)リッジ長の測定。
各構造化表面の特性を、単独であるか他の特性と組み合わされているかにかかわらず、特定するため、更なる分析作業を行なった。これらの特性は、図9の方法によって作製された構造化表面の少なくとも一部を特徴づけるために、かつ/又は少なくともいくつかのそのような構造化表面を、SDBディフューザ、DPBディフューザ、CCSディフューザ、第1型微細複製拡散フィルム、及び第2型微細複製拡散フィルムなどの他の光拡散フィルムの構造化表面と区別するために使用し得る。この点に関して、調査されたいくつかの特徴化パラメータは以下のものを含む。
・空間的不規則性又はランダム性の測定値としての、直交する各面内方向に沿うトポグラフィーのパワースペクトル密度(PSD)、
・構造化表面を作り上げる個々の構造の(平面視における)特定、及びそのような構造の面内サイズ又は横断寸法(例えば、ECD)の測定、
・構造の面内サイズに対する深さ又は高さの比、並びに
・構造化表面におけるリッジの特定、及び単位面積当たりの(平面視における)リッジ長の測定。
この更なる分析作業について、以下に述べる。
パワースペクトル密度(PSD)分析
一部の分析作業では、構造化表面のトポグラフィーに焦点を合わせ、表面の空間的不規則性又はランダム性の程度を決定しようとした。トポグラフィーは、構造化表面が延びている基準面に対して規定することができる。例えば、フィルム720の構造化表面720a(図7参照)は、概ねx−y平面内に位置するか、又は概ねx−y平面に沿って延在する。基準面としてx−y平面を使用すると、構造化表面720aのトポグラフィーを、基準面に対する表面720aの高さとして、基準面における位置の関数(つまり、(x,y)位置の関数としての表面におけるz座標)として、表すことができる。この方法で構造化表面のトポグラフィーを測定する場合には、トポグラフィーの関数の空間周波数成分を分析して、表面の空間的不規則性又はランダム性の程度を決定できる(又は、構造化表面に存在する空間周期性を特定できる)。
一部の分析作業では、構造化表面のトポグラフィーに焦点を合わせ、表面の空間的不規則性又はランダム性の程度を決定しようとした。トポグラフィーは、構造化表面が延びている基準面に対して規定することができる。例えば、フィルム720の構造化表面720a(図7参照)は、概ねx−y平面内に位置するか、又は概ねx−y平面に沿って延在する。基準面としてx−y平面を使用すると、構造化表面720aのトポグラフィーを、基準面に対する表面720aの高さとして、基準面における位置の関数(つまり、(x,y)位置の関数としての表面におけるz座標)として、表すことができる。この方法で構造化表面のトポグラフィーを測定する場合には、トポグラフィーの関数の空間周波数成分を分析して、表面の空間的不規則性又はランダム性の程度を決定できる(又は、構造化表面に存在する空間周期性を特定できる)。
一般的な手法は、高速フーリエ変換(FFT)関数を使用して空間周波数成分を分析することであった。トポグラフィーが2つの直交する面内方向(x及びy)に沿う高さ情報を提供するため、表面の空間周波数成分は、面内方向のそれぞれに沿う空間周波数成分を分析することによって完全に特徴づけられる。十分に大きく、かつ代表的な構造化表面の一部にわたるトポグラフィーを測定し、それぞれの面内方向におけるフーリエ・パワー・スペクトルを計算することによって、空間周波数成分を決定した。次に、得られた2つのパワースペクトルを、パワースペクトル密度(PSD)対空間周波数のグラフにプロットできた。得られた曲線が(ゼロ周波数に相当しない)任意の局所的な周波数ピークを含有する限りにおいて、そのようなピークの大きさは、図23に関連して以下に更に記載する「ピーク率」によって表すことができる。
一般的手法について記載してきたが、次にPSD分析についての手法をより詳細に記載する。所与の光拡散フィルム試料について、約1×1cmの試料片を試料の中央部から切断した。この試料片を顕微鏡スライド上に乗せ、その構造化表面をAu−Pdスパッタコーティングした。共焦点レーザー走査顕微鏡(CSLM)を使用して構造化表面の2つの高さプロファイルを得た。可能な限り、トポグラフィー及び存在する任意の周期性の良好な抽出がもたらされるような視野を選んだ。それぞれの二次元(2D)高さプロファイルについて、2Dパワースペクトル密度(PSD)を計算した。この2D PSDは、2D高さプロファイルの2D空間フーリエ変換の大きさの二乗である。MATLABを使用して、MATALBの高速フーリエ変換(FFT)関数を用いてPSDを計算した。2D高さプロファイルの有限の空間次元に起因する、FFTにおけるリンギングの減少を助けるために、FFTを使用する前に、2D Hamming窓を2D高さプロファイルに適用した。2D PSDを、y方向(ダウンウェブ方向)において1次元(1D)PSDを与えるようにx方向において合計した。同様に、2D PSDを、x方向(クロスウェブ方向)において1D PSDを与えるようにy方向において合計した。
空間周波数ピークに関する1D PSDの分析を、ここで図23に関連して記載する。図では、説明のために、仮想のフーリエ・パワー・スペクトル曲線を示す。前述の1D PSD関数のいずれか(x又はy)を表すことができる曲線が、パワースペクトル密度(PSD)対空間周波数のグラフに表されている。縦軸(PSD)は、ゼロから始まる線形目盛にプロットされているものとする。曲線は、(a)ゼロ周波数に相当せず、かつ(b)基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる周波数ピークを有するものとして示されている。2つの隣接する谷は、空間周波数f1における点p1と、空間周波数f2におけるp2とによって特定されている。周波数f1は、ピークが始まる周波数であると考えることができ、f2は、ピークが終わる周波数であると考えることができる。基準線は、p1とp2とを接続する直線部分(破線)である。縦軸(PSD)がゼロから始まる線形目盛であり、ピークの大きさをグラフにおける面積A及びBによって表すことができることに留意されたい。面積Aは、周波数ピークと基準線との間の面積である。面積Bは、基準線の下又は下方の面積である。つまり、B=(PSD(f1)+PSD(f2))*(f2−f1)/2である。A+Bの合計は、周波数ピークの下又は下方の面積である。これらの定義によれば、次に、相対ピーク振幅又は次のような「ピーク率」に換算して、ピークの大きさを定義できる。
ピーク率=A/(A+B)
ピーク率=A/(A+B)
実際には、評価されるそれぞれの試料について、2つの1D PSD(2つのフーリエ・パワー・スペクトル−x方向に1つ、y方向に1つ)を評価した。そして、フーリエ・パワー・スペクトルが任意の周波数ピークを含む限りにおいて、それぞれの曲線について最も突出したピークを特定した。次に、それぞれの曲線における最も突出したピークについて前述のピーク率を計算した。最も突出したピークを測定したため、計算したピーク率は、所与のフーリエ・パワー・スペクトルに存在し得る全てのピークについての上限値である。
これらのPSD測定を、図9の方法に従い作製された光拡散フィルムだけでなく、2つの第1型微細複製拡散フィルム試料にも行なった。これら2つの第1型微細複製拡散フィルム試料は、‘622 Aronsonら、‘593 Yapelら、‘475 Barbie、及び‘261 Aronsonらの、前に引用した参考文献の教示に概ね従い作製された。これらの2つの試料を、本明細書では「第1型Micro−1」及び「第1型Micro−4」と呼ぶ。これらの試料は、異なる条件下で作製され、異なるヘイズ値を有していた。詳細には、第1型Micro−1試料は、91.3%のヘイズ及び1.9%の透明度を有していた。第1型Micro−4試料は、79.1%のヘイズ及び4.5%の透明度を有していた。図4におけるSEM画像は、第1型Micro−1試料の写真である。
図24A及び図24Bは、それぞれ、面内でのダウンウェブ方向及びクロスウェブ方向についての、第1型Micro−1試料のパワースペクトル密度対空間周波数のグラフである。それぞれのグラフにおいて、「f1」及び「f2」は、それぞれ、最も突出したピークが開始及び終了したと判定された箇所における周波数である。これらのグラフはパワースペクトル密度(PSD)について対数目盛を使用しているが、ピーク率の計算に使用されるA及びBの値は、先の説明と一貫して線形のPSD目盛に基づいて計算した。
図25A及び図25Bは、それぞれ、ダウンウェブ方向及びクロスウェブ方向についての、光拡散フィルム試料502−1のパワースペクトル密度対空間周波数のグラフである。これらの図におけるラベル「f1」及び「f2」は、図23、図24A及び図24Bの場合と同じ意味を有する。図25A及び図25Bでは対数目盛が使用されているが、ピーク率の計算に使用されるA及びBの値は、線形のPSD目盛に基づくものであった。
図9の方法に従い作製した7つの光拡散フィルム、及び2つの第1型微細複製拡散フィルム試料について計算したPSDピーク率を、表3に列挙する。
表3の結果を検討すると、図9に従い作製された光拡散フィルムのそれぞれについて、両方の面内方向(ダウンウェブ及びクロスウェブ)についてのピーク率が0.8未満であり、ほとんどの場合、0.8よりも遥かに小さいことがわかる。それらと比較して、第1型Micro−1試料は、クロスウェブ方向において0.19のピーク率を有していたが、他の全ての場合において、試験された第1型微細複製拡散フィルムは0.8より大きいピーク率を有していた。それ故に、試験された第1型微細複製拡散フィルムのいずれも、両方の面内方向におけるピーク率が0.8未満であるという条件を満たさない。
表3の結果を検討すると、図9に従い作製された試験フィルム試料のうち、1つを除く全てが、両方の面内方向におけるピーク率が0.5、0.4又は0.3未満であるという、より厳しい条件をも満たすことがわかる。両方の面内方向におけるピーク率が比較的小さい値であることから、構造化表面における非常に低い周期性が示唆されている。しかし、試料RA13aは、より厳しい条件を満たさない。図9に従い作製された全ての試験フィルム試料の中でも、RA13a試料は、群を抜いて最も高い測定ピーク率である、クロスウェブ方向における0.76のピーク率を有する。直交する面内方向においては、RA13a試料は、遥かに小さい0.14のピーク率を有する。RA13a試料が周期的な起伏を含有していた銅板の出発材料により作製されており、これらの周期的な起伏が、微細複製中にRA13a試料の構造化主表面に転写された、という前の記述を思い起して頂きたい。この点を考慮すれば、RA13aの基板が起伏のない実質的に平坦なものであった場合には、クロスウェブ方向におけるピーク率が、ダウンウェブのピーク率である0.14により近づくであろうことが妥当な推論である。別の言い方をすれば、図9に従い作製されたツールが内在構造を有さない平坦な基板を使用して作製される限りにおいて、そのようなツール(及び、そのツールから作製された任意の光学フィルム)は、両方の面内方向において、0.8、0.5、0.4又は0.3未満のPSDピーク率を有するであろう。
同様に、図9に従い作製されたツールが(周期的な起伏であるか、プリズムBEF構造化表面などのより明確な構造であるかにかかわらず)顕著な内在構造を有する基板を使用して作製される限りにおいては、そのようなツール(及び、そのツールから作製された任意の光学フィルム)は、少なくとも1つの面内方向におけるパワースペクトル密度曲線において顕著な又は大きいピークを示し、かつそのような面内方向において顕著な又は大きいPSDピーク率を有するであろう。そのような場合において、特に原型基板における内在構造についての情報を入手できる場合には、PSD測定のより徹底的な分析を行うことによって、ツールの形成に使用される基板の内在構造に起因する、パワースペクトル密度曲線におけるピークと、電気めっき工程(図9の工程903及び904参照)の結果として形成された構造に起因するピークとを区別できる。そのような区別をすることは複雑である場合がある。なぜならば、内在構造の空間周期性(複数可)を、電気めっきされた構造の任意の空間周期性(複数可)と顕著に異ならせる必要がないからである。実際に、これらの異なる構造タイプの空間周期性は、少なくともいくつかの場合において実質的に重複し得る。それにもかかわらず、そのような区別に成功した場合には、内在構造に起因するパワースペクトル密度曲線における任意のピークを無視すれば、顕著な内在構造を持つ基板を使用して図9に従い作製された構造化表面は、両方の面内方向におけるPSDピーク率が0.8(又は、0.5、0.4若しくは0.3)未満であるという構造化表面についての条件をなお満たし得る。
表3に与えられた結果は、パワースペクトル密度曲線における最も突出したピークが存在する場合に、そのピークを特定することによって得られた。そして、図24A〜図25Bから見てとれるように、パワースペクトル密度曲線についてのデータは、およそ1mm−1〜ほぼ2000mm−1の空間周波数範囲に及んだ。したがって、この範囲の至るところに存在し得る任意のピークは、どれが最も突出しているピークであるのかを決定するための候補であり、また、両方の面内方向におけるPSDピーク率が0.8(又は、0.5、0.4若しくは0.3)未満であるか、という判断基準に関する候補でもある。実際に、これらの分析において、パワースペクトル密度曲線におけるピークと考えられる空間周波数範囲を限定することが有利となる場合がある。例えば、両方の面内方向におけるPSDピーク率が0.8(又は、0.5、0.4若しくは0.3)未満に特定される空間周波数範囲を、上限値が1000、500又は100mm−1、かつ下限値が1、2又は5mm−1となるような周波数範囲に限定することが有利となる場合がある。
横断寸法又はサイズ(ECD)の分析
明確な個々の構造を特定できる構造化表面では、構造化表面を、横断寸法又は面内寸法などの、その構造の特徴的なサイズの観点から記載できる。それぞれの構造は、例えば、最も大きい横断寸法、最も小さい横断寸法、及び平均の横断寸法を有するものとして特徴づけることができる。個々の構造が2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される場合、例えば、任意の面内方向に沿って線状に無制限に延在するわけではない場合には、それぞれの構造は、等価円直径「ECD」を有するものとして特徴づけることができる。所与の構造のECDは、平面視における面積が、その構造の平面視における面積と同一である円の直径として定義することができる。例えば、図26を参照すると、仮想の構造化表面2620aの平面図が示されている。構造化表面は、突出部でも窪み部でもよい区別可能な構造2621a、2621b、2621c、2621dを含む。円2623aは、構造2621aと重ね合わさっており、この円は、この平面図において構造2621aの面積と等しい面積を有することになっている。円2623aの直径(ECD)は、構造2621aの等価円直径(ECD)である。構造化表面の代表的な部分における全ての構造についてのECD値の平均をとることによって、構造化表面又はその構造は、平均等価円直径ECDavgを有するということができる。
明確な個々の構造を特定できる構造化表面では、構造化表面を、横断寸法又は面内寸法などの、その構造の特徴的なサイズの観点から記載できる。それぞれの構造は、例えば、最も大きい横断寸法、最も小さい横断寸法、及び平均の横断寸法を有するものとして特徴づけることができる。個々の構造が2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される場合、例えば、任意の面内方向に沿って線状に無制限に延在するわけではない場合には、それぞれの構造は、等価円直径「ECD」を有するものとして特徴づけることができる。所与の構造のECDは、平面視における面積が、その構造の平面視における面積と同一である円の直径として定義することができる。例えば、図26を参照すると、仮想の構造化表面2620aの平面図が示されている。構造化表面は、突出部でも窪み部でもよい区別可能な構造2621a、2621b、2621c、2621dを含む。円2623aは、構造2621aと重ね合わさっており、この円は、この平面図において構造2621aの面積と等しい面積を有することになっている。円2623aの直径(ECD)は、構造2621aの等価円直径(ECD)である。構造化表面の代表的な部分における全ての構造についてのECD値の平均をとることによって、構造化表面又はその構造は、平均等価円直径ECDavgを有するということができる。
多くの光拡散フィルムについての構造サイズの組織分析に着手した。所与の光拡散フィルム試料について、約1×1cmの試料片を試料の中央部から切断した。この試料片を顕微鏡スライド上に乗せ、その構造化表面をAu−Pdスパッタコーティングした。共焦点レーザー走査顕微鏡(CSLM)を使用して構造化表面の2つの高さプロファイルを得た。可能な限り、トポグラフィーの良好な抽出がもたらされるような視野を選んだ。どの種類の構造が試料において優勢であるかに応じて、ピーク又は谷のいずれかのサイズを測定した(size)。構造化表面において特定された個々の構造のサイズ測定に関する一貫性かつ再現性のある手法を確立した。図27〜図30の合成画像は、この手法がどのように行われたかを示すものである。これらの合成画像では、共焦点顕微鏡を通して見た構造化表面の写真上に、暗い輪郭の形状が重ね合わせられている。暗い輪郭の形状は、構造化表面の個々の構造のコンピュータ処理された外側境界又は外縁である。図27は、CCSディフューザについてのそのような合成画像である。図28は、前述の第1型Micro−1試料についてのものである。図29は、光拡散フィルム試料594−1についてのものである。図30は、光拡散フィルム試料502−1についてのものである。そのような画像及び技術を使用して、典型的には数百、いくつかの場合において数千の構造のECDを、所与の構造化表面について計算した。ECD測定値及び測定統計値は、次にようにまとめられる。
第1型Micro−2、第1型Micro−3、第1型Micro−5、及び第1型Micro−6といった試料は、前に引用した参考文献である‘622 Aronsonら、‘593 Yapelら、‘475 Barbie、及び‘261 Aronsonらの教示に概ね従い作製した、更なる第1型微細複製拡散フィルム試料である。第1型Micro−2試料は、90.7%のヘイズ及び2.9%の透明度を有していた。第1型Micro−3試料は、84.8%のヘイズ及び4.7%の透明度を有していた。第1型Micro−5試料は、73.9%のヘイズ及び5.5%の透明度を有していた。第1型Micro−6試料は、68.2%のヘイズ及び4.9%の透明度を有していた。表4の第2型Micro試料は、図5に示す第2型微細複製拡散フィルムに類似する光拡散フィルムであったが、表4の第2型Micro試料は、91.1%のヘイズ及び9.8%の透明度を有していた。
表4の結果を検討すると、RA13a試料を除いた、図9に従い作製された光拡散フィルムのそれぞれが、15マイクロメートル未満の平均(平均値)ECD、及びほとんどは10マイクロメートル未満又は4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有していたことがわかる。これは、概ね少なくとも15マイクロメートル以上であった第2型微細複製拡散フィルム試料の平均ECDとは対照的であった。RA13a試料は、図9に従い作製された他のフィルムのどれよりも相当に高い平均ECDを有していた。前述のRA13a試料の周期的な起伏が、この大きな差異の原因であると考えられる。つまり、RA13aの基板が起伏のない実質的に平坦な形状であった場合には、平均ECDが、15未満、または10マイクロメートル未満などの、他の同様に製作されたフィルムに極めて近いものとなるであろうことが妥当な推論である。
図9の方法によって作製された試料の一部の構造化表面は、不規則に配置された大型のピラミッド構造と、その間に不規則に分散した小型の密集構造との組み合わせを含有しているように観察された。そのような試料の1つに502−1があった。構造化表面の分析を行った結果(図31のグラフに曲線3110として示す)、該表面が構造サイズの二峰性分布を有することが示された。図31のグラフは、マイクロメートルにおけるECDの関数として(値域当たり(per bin)のパーセントとして)正規化カウントをプロットする。曲線3110は、より大きいピーク3110a及びより小さいピーク3110bを有するように見られる。より大きいピーク3110aは、ECD=約8マイクロメートルに位置し、この構造化表面における小型の構造に対応する。より小さいピーク3110bは、ECD=約24マイクロメートルに位置し、より大きいピラミッド構造に対応する。それ故に、小型の構造の平均サイズは、15マイクロメートル未満、または10マイクロメートル未満であり、大型の構造の平均サイズは、15マイクロメートル超、または20マイクロメートル超である。大型の構造の母集団がより小さいことに起因して、この構造化表面における(大型及び小型の)全ての構造についての平均ECDは、表4に報告されているように10.3マイクロメートルである。
横断寸法(ECD)に対する高さのアスペクト比の分析
図9の方法によって作製されたフィルムの一部は、個々の構造が密集した構造化表面を有しており、また、いくつかの場合においては、これらの構造は曲面状であるか又は曲面状の基礎表面を有していた。これらの構造の面内又は横断寸法(例えば、ECD)と、これらの構造の平均高さとの間の関係を調査することが決定された。概して、「高さ」という語は、突出部の高さに加えて、窪み部の深さも指すのに十分に広範な意味を持つ。比較する目的のため、密集したビーズを有する面を有するDPBディフューザについても調査した。
図9の方法によって作製されたフィルムの一部は、個々の構造が密集した構造化表面を有しており、また、いくつかの場合においては、これらの構造は曲面状であるか又は曲面状の基礎表面を有していた。これらの構造の面内又は横断寸法(例えば、ECD)と、これらの構造の平均高さとの間の関係を調査することが決定された。概して、「高さ」という語は、突出部の高さに加えて、窪み部の深さも指すのに十分に広範な意味を持つ。比較する目的のため、密集したビーズを有する面を有するDPBディフューザについても調査した。
例示的な構造の高さを図32の仮想の構造化表面の図に示す。この図では、光拡散フィルム3220は、構造化主表面3220aを有する、パターン層3222を含む。構造化表面3220aは、識別可能な個々の構造3221a、3221bを含む。この構造化表面は、x−y平面に沿って延在するか、又はx−y平面を画定する。x−y平面と平行の3つの基準面、すなわちRP1、RP2及びRP3が示されている。基準面RP1、RP3は、(それぞれ)構造3221aの最高部及び最低部として定義できる。基準面RP2は、曲率がゼロ又はほぼゼロに相当する位置に位置付けできる。つまり、その位置における表面は、ピークの頂点のように内側に曲がっているわけでもなく、窪み部の底部のように外側に曲がっているわけでもない。これらの基準面が与えられれば、RP1とRP2との間の高さh1、及びRP2とRP3との間の高さh2を定義することができる。
所与の構造化表面における構造のアスペクト比を定める組織分析に着手した。ここで、アスペクト比とは、構造のECDで高さを割った値である。構造の高さについては、図32に示すh1に実質的に対応する値を使用することを決めた。所与の光拡散フィルム試料について、約1×1cmの試料片を試料の中央部から切断した。この試料片を顕微鏡スライド上に乗せ、その構造化表面をAu−Pdスパッタコーティングした。共焦点レーザー走査顕微鏡(CSLM)を使用して構造化表面の2つの高さプロファイルを得た。可能な限り、トポグラフィーの良好な抽出がもたらされるような視野を選んだ。構造化表面における谷(窪み部)のサイズを測定した。しかし、DPBディフューザの構造化表面を評価する際には、計算を容易にするために、サイズを測定する前に構造化表面の高さプロファイルを反転させてピークを谷に変換した。前述のECD測定で行ったような、構造化表面において特定された個々の構造のサイズ測定に関する一貫性かつ再現性のある手法を確立した。次に、高さから直径へのアスペクト比(Hmean/ECD)の測定値を加えるように、手法を修正した。この比をそれぞれの構造(谷領域)について計算した。高さHmeanは、構造(谷領域)における最小高さを引いた、構造(谷領域)の周囲(perimeter)における平均高さである。谷領域における高さマップは、高さを測定する前の周囲におけるデータ点を使用して、傾き補正した(tilt correct)。試験した試料についての平均アスペクト比を計算した。これを表5に示す。
表5の結果を検討すると、アスペクト比に基づいて、図9の方法によって作製された試料をDPBディフューザと容易に区別できることがわかる。例えば、前者の試料の平均アスペクト比は、0.15未満又は0.1未満である。
リッジ分析
先に述べたように、図9の方法によって作製されたフィルムの一部は、個々の構造が密集した構造化表面を有していた。リッジ状の形状は密集構造がなくても生じ得るが、密集構造ではリッジ状の特徴が生成される傾向がある。構造化表面におけるリッジの態様(aspect)を調査することを決定した。詳細には、構造化表面に存在したリッジの範囲を調査した。平面視における構造化表面の単位面積当たりの総リッジ長を計算することによってこれを定量化した。これは、図9の方法に従い作製された試料の多くについて行った。比較する目的のため、ビーズを有するいくつかのディフューザ、すなわち、SDBディフューザ、CCSディフューザ及びDPBディフューザについても調査した。
先に述べたように、図9の方法によって作製されたフィルムの一部は、個々の構造が密集した構造化表面を有していた。リッジ状の形状は密集構造がなくても生じ得るが、密集構造ではリッジ状の特徴が生成される傾向がある。構造化表面におけるリッジの態様(aspect)を調査することを決定した。詳細には、構造化表面に存在したリッジの範囲を調査した。平面視における構造化表面の単位面積当たりの総リッジ長を計算することによってこれを定量化した。これは、図9の方法に従い作製された試料の多くについて行った。比較する目的のため、ビーズを有するいくつかのディフューザ、すなわち、SDBディフューザ、CCSディフューザ及びDPBディフューザについても調査した。
リッジを図33の仮想の構造化表面の図に示す。この図では、光拡散フィルムは構造化主表面3320aを含む。構造化表面3320aは、識別可能な個々の構造3321a、3321b、3321cを含む。この構造化表面は、x−y平面に沿って延在するか、又はx−y平面を画定する。リッジは、長く、鋭い、ピークのある領域として描写でき、構造3321aの境界線と構造3321bの境界線とが一つになる所である、少なくとも短い線分に沿って形成される。リッジ又は線分は、点p1、p2、p3を含む。既知のトポグラフィーに基づくこれらの点のそれぞれにおける局所的な勾配及び曲率は、斜面と平行かつリッジと垂直である方向(中心線a1、a2、a3参照)に沿って、並びに斜面と垂直かつリッジと平行である方向(中心線b1、b2、b3参照)に沿って計算できる。そのような曲率及び勾配を使用して、長い、鋭い、ピークのある領域上に点があることを確かめることができる。例えば、リッジ上の点は、2つの垂直方向(例えば、a1、b1)に沿う十分に異なる曲率、リッジと垂直な(例えば、a1)鋭い曲率、平均勾配未満の、斜面方向(例えば、リッジに沿う、b1参照)における勾配、及び十分に長いセグメント長によって特定できる。
前述の原理を使用した、所与の構造化表面における単位面積当たりのリッジ長を定める組織分析に着手した。所与の光拡散フィルム試料について、約1×1cmの試料片を試料の中央部から切断した。この試料片を顕微鏡スライド上に乗せ、その構造化表面をAu−Pdスパッタコーティングした。共焦点レーザー走査顕微鏡(CSLM)を使用して構造化表面の2つの高さプロファイルを得た。可能な限り、トポグラフィーの良好な抽出がもたらされるような視野を選んだ。リッジ分析を使用して、前述の原理に従い高さプロファイルを分析した。
リッジ分析によって、2D高さマップにおけるリッジのピークを特定し、単位試料面積当たりのリッジの合計長さを計算した。斜面方向及び斜面方向を横断する方向に沿う曲率を、それぞれの画素について計算した。曲率及び勾配を閾値化してリッジを特定した。
以下は、リッジ分析に使用されたリッジの定義である。
1.曲率の定義。(a)g曲率は、斜面方向に沿う曲率である。(b)t曲率は、斜面方向を横断する(それと垂直の)方向に沿う曲率である。(c)g曲率は、斜面に沿う3つの点を使用し、これら3つの点を含む(circumscribe)円を計算することによって計算される。g曲率=1/Rであり、Rは、この円の半径である。(d)t曲率は、斜面を横断する方向に沿う3つの点を使用し、これら3つの点を含む円を計算することによって計算される。g曲率=1/Rであり、Rは、この円の半径である。(e)曲率は、これらの3つの点のうち、中心の点に割り当てられる。(f)3つの点の間隔は、対象とならない小さな形状による寄与を減らす程度には十分に大きいが、対象となる形状による寄与が維持される程度には十分に小さいように選ばれる。
2.リッジ上の点の曲率は、2つの垂直方向間において十分に異なる。(a)g曲率とt曲率とは、少なくとも2倍(若しくは、より大きくてもよい)異なる。
3.リッジは、ほとんどの谷よりも鋭い。(a)曲率は、g曲率分布の1パーセンタイル点の絶対値よりも大きい(g曲率の1%は、1パーセンタイル点よりも小さい)。
4.勾配は、平均勾配よりも小さい。(a)リッジにおけるg勾配(斜面に沿う勾配)は、表面の平均g勾配未満である。(b)リッジの頂点における勾配は、極めて勾配のある表面でない限り、典型的にはほぼゼロである。
5.リッジは十分に長い。(a)潜在的なリッジは、(分岐枝を含む)その合計長さが潜在的なリッジの頂点に沿う曲率の平均半径よりも短い場合には、リッジとはみなされない。(b)潜在的なリッジは、その合計長さが潜在的なリッジの平均幅の3倍よりも短い場合には、リッジとはみなされない。(c)これらの寸法は、おおよそ測定されたものであることに留意されたい。
6.分岐枝は十分に長い。(a)リッジの中央部からの分岐枝は、リッジの平均幅の1.5倍よりも長い場合に、リッジの延長部であるとみなされる。さもなければ、この分岐枝は取り除かれる。(b)これらの寸法は、おおよそ測定されたものであることに留意されたい。
1.曲率の定義。(a)g曲率は、斜面方向に沿う曲率である。(b)t曲率は、斜面方向を横断する(それと垂直の)方向に沿う曲率である。(c)g曲率は、斜面に沿う3つの点を使用し、これら3つの点を含む(circumscribe)円を計算することによって計算される。g曲率=1/Rであり、Rは、この円の半径である。(d)t曲率は、斜面を横断する方向に沿う3つの点を使用し、これら3つの点を含む円を計算することによって計算される。g曲率=1/Rであり、Rは、この円の半径である。(e)曲率は、これらの3つの点のうち、中心の点に割り当てられる。(f)3つの点の間隔は、対象とならない小さな形状による寄与を減らす程度には十分に大きいが、対象となる形状による寄与が維持される程度には十分に小さいように選ばれる。
2.リッジ上の点の曲率は、2つの垂直方向間において十分に異なる。(a)g曲率とt曲率とは、少なくとも2倍(若しくは、より大きくてもよい)異なる。
3.リッジは、ほとんどの谷よりも鋭い。(a)曲率は、g曲率分布の1パーセンタイル点の絶対値よりも大きい(g曲率の1%は、1パーセンタイル点よりも小さい)。
4.勾配は、平均勾配よりも小さい。(a)リッジにおけるg勾配(斜面に沿う勾配)は、表面の平均g勾配未満である。(b)リッジの頂点における勾配は、極めて勾配のある表面でない限り、典型的にはほぼゼロである。
5.リッジは十分に長い。(a)潜在的なリッジは、(分岐枝を含む)その合計長さが潜在的なリッジの頂点に沿う曲率の平均半径よりも短い場合には、リッジとはみなされない。(b)潜在的なリッジは、その合計長さが潜在的なリッジの平均幅の3倍よりも短い場合には、リッジとはみなされない。(c)これらの寸法は、おおよそ測定されたものであることに留意されたい。
6.分岐枝は十分に長い。(a)リッジの中央部からの分岐枝は、リッジの平均幅の1.5倍よりも長い場合に、リッジの延長部であるとみなされる。さもなければ、この分岐枝は取り除かれる。(b)これらの寸法は、おおよそ測定されたものであることに留意されたい。
図34A及び図35Aの合成画像は、この組織的なリッジの特定がどのように行われたかを示す。これらの合成画像では、共焦点顕微鏡を通して見た構造化表面の写真上に、暗線部分が重ね合わせられている。暗線部分は、構造化表面におけるリッジとして特定された領域である。図34Aは、594−1試料についてのそのような合成画像である。図35AはDPBディフューザについてのものである。図34Bは図34Aに対応するが、暗線部分(つまり、検出されたリッジ)のみを示す裏刷りである。このため、リッジをより容易に見ることができる。同様に、図35Bは図35Aに対応するが、暗線部分のみ及び裏刷りを示す。
リッジを特定した後、高さマップにおける全てのリッジの合計長さを計算し、高さマップの面積で割った。この分析は、分析を実施する前に高さマップを反転することによって、谷リッジを特定するようにも繰り返した。DPB試料を、まず最初に反転させたことに留意されたい。このような画像及び技術を使用して、試験した構造化表面についての領域ごとのリッジ長を計算した。これらの測定の結果は、次のようにまとめられる。
表6の結果を検討すると、図9の方法によって作製されたビーズのない試料の全て又はほとんどが、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であるか、または150mm/mm2未満であるか、または10〜150mm/mm2の範囲内にあることによって特徴づけられる、構造化表面を有することがわかる。
特に指定されない限り、本明細書及び特許請求の範囲において使用する、量、特性の測定値などを表す全ての数値は、「約」という語で修飾されるものとして理解されるべきである。したがって、そうではないことが示されていない限り、本明細書及び特許請求の範囲に記載される数値的パラメータは、本出願の教示を利用することで当業者が得ようとする所望の特性に応じて異なり得る近似的な値である。特許請求の範囲に対する均等論の適用を制限しようとするものではないが、各数値パラメータは、少なくとも記載される有効桁数を考慮し、更に一般的な四捨五入法を適用することによって解釈されるべきである。本発明の広範な範囲を説明する数値的範囲及びパラメータは近似値であるが、いずれかの数値が本明細書に記載される特定の実施例において説明される限りにおいて、これらは、合理的に可能であるかぎり正確に報告されている。しかしながら、いかなる数値も試験又は測定限界にともなう誤差を含み得るものである。
以下は、本開示による例示的な実施形態である。
項目1
構造化表面を作製する方法であって、
第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する該第1層の第1主表面を生じさせることと、
第2電気めっきプロセスを使用して該第1主表面上に該金属を電着させることによって、該第1層の該第1主表面上に該金属からなる第2層を形成し、該第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する該第2層の第2主表面を生じさせることと、を含む、方法。
項目2
前記第1電気めっきプロセスは、第1電気めっき溶液を使用し、前記第2電気めっきプロセスは、第2電気めっき溶液を使用し、該第2電気めっき溶液は、少なくとも有機レベラーの追加によって該第1電気めっき溶液とは異なる、項目1に記載の方法。
項目3
前記第2電気めっきプロセスは、シービングすることを含む、項目1に記載の方法。
項目4
前記第2電気めっきプロセスは、遮蔽することを含む、項目1に記載の方法。
項目5
前記第1電気めっきプロセスは、第1電気めっき溶液を使用し、前記第2電気めっきプロセスは、第2電気めっき溶液を使用し、該第2電気めっき溶液は、少なくとも有機結晶微細化剤の追加によって該第1電気めっき溶液とは異なる、項目1に記載の方法。
項目6
基体平均粗さを有する基体表面を提供することを更に含み、
前記第1層は、該基体表面上に形成され、前記第1平均粗さは、該基体平均粗さよりも大きい、項目1に記載の方法。
項目7
前記金属は、銅である、項目1に記載の方法。
項目8
前記第1電気めっきプロセスは、多くとも微量の有機レベラーを含有する第1電気めっき溶液を使用する、項目1に記載の方法。
項目9
前記第1電気めっき溶液は、有機炭素の総濃度が100、75又は50ppm未満である、項目8に記載の方法。
項目10
前記第1電気めっきプロセスは、第1電気めっき溶液を使用し、前記第2電気めっきプロセスは、第2電気めっき溶液を使用し、該第2電気めっき溶液内の有機レベラーの濃度の、該第1電気めっき溶液内の任意の有機レベラーの濃度に対する比は、少なくとも50、100、200又は500である、項目1に記載の方法。
項目11
前記第1層を形成することは、複数の不均一に配置された第1構造を含む前記第1主表面を生じさせる、項目1に記載の方法。
項目12
前記第1構造は、平坦なファセットを含む、項目11に記載の方法。
項目13
前記第2層を形成することは、複数の不均一に配置された第2構造を含む前記第2主表面を生じさせる、項目11に記載の方法。
項目14
第2金属の電気めっき溶液を使用して該第2金属を電着させることによって、前記第2主表面上に該第2金属からなる第3層を形成することを更に含む、項目13に記載の方法。
項目15
前記第2金属は、クロムを含む、項目14に記載の方法。
項目16
項目1に記載の方法を使用して、前記第2主表面に対応するツール構造化表面を有するように作製される、微細複製ツール。
項目17
前記ツール構造化表面は、前記第2主表面の反転形状又は前記第2主表面の非反転形状に対応する、項目16に記載の微細複製ツール。
項目18
前記微細複製ツールは、前記金属からなる前記第1層と、前記金属からなる前記第2層と、前記第2層上に形成された第2金属からなる第3層と、を含む、項目16に記載の微細複製ツール。
項目19
項目16の微細複製ツールを使用して、前記第2主表面に対応する構造化表面を有するように作製される、光学フィルム。
項目20
前記フィルムの前記構造化表面は、前記第2主表面の反転形状又は前記第2主表面の非反転形状に対応する、項目19に記載の光学フィルム。
項目21
光学フィルムであって、
隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含む構造化主表面であって、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される、構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、光学フィルム。
項目22
前記単位面積当たりの総リッジ長は、150mm/mm2未満である、項目21に記載のフィルム。
項目23
前記単位面積当たりの総リッジ長は、10〜150mm/mm2の範囲にある、項目22に記載のフィルム。
項目24
前記第1ピーク率は、0.5未満であり、前記第2ピーク率は、0.5未満である、項目21に記載のフィルム。
項目25
前記構造化主表面は、少なくとも5%及び95%未満の光学ヘイズを提供する、項目21に記載のフィルム。
項目26
前記密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられ、前記構造は、15マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目21に記載のフィルム。
項目27
前記構造は、10マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目26に記載のフィルム。
項目28
前記構造は、4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有する、項目26に記載のフィルム。
項目29
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目21に記載のフィルム。
項目30
前記密集構造の少なくとも一部は、曲面状の基礎表面を含む、項目21に記載のフィルム。
項目31
前記密集構造のほとんどは、曲面状の基礎表面を含む、項目30に記載のフィルム。
項目32
前記密集構造の実質的に全てが、曲面状の基礎表面を含む、項目31に記載のフィルム。
項目33
光学フィルムであって、
密集構造を含む構造化主表面であって、該構造化主表面は、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定する、構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該密集構造は、該基準面における等価円直径(ECD)、及び該厚さ方向に沿う平均高さによって特徴づけられ、それぞれの構造のアスペクト比は、該構造の該平均高さを該構造の該ECDで割った値に等しく、
該構造の平均アスペクト比は、0.15未満である、光学フィルム。
項目34
前記構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目33に記載のフィルム。
項目35
前記単位面積当たりの総リッジ長は、150mm/mm2未満である、項目34に記載のフィルム。
項目36
前記単位面積当たりの総リッジ長は、10〜150mm/mm2の範囲にある、項目35に記載のフィルム。
項目37
前記第1ピーク率は、0.5未満であり、前記第2ピーク率は、0.5未満である、項目33に記載のフィルム。
項目38
前記構造化主表面は、少なくとも5%及び95%未満の光学ヘイズを提供する、項目33に記載のフィルム。
項目39
前記密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられ、前記構造は、15マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目33に記載のフィルム。
項目40
前記構造は、10マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目39に記載のフィルム。
項目41
前記構造は、4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有する、項目39に記載のフィルム。
項目42
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目33に記載のフィルム。
項目43
前記密集構造の少なくとも一部は、曲面状の基礎表面を含む、項目33に記載のフィルム。
項目44
前記密集構造のほとんどは、曲面状の基礎表面を含む、項目43に記載のフィルム。
項目45
前記密集構造の実質的に全てが、曲面状の基礎表面を含む、項目44に記載のフィルム。
項目46
光学フィルムであって、
曲面状の基礎表面を有する密集構造を含む構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該構造化主表面は、95%未満の光学ヘイズを提供する、光学フィルム。
項目47
前記構造化主表面は、90%未満の光学ヘイズを提供する、項目46に記載のフィルム。
項目48
前記構造化主表面は、80%未満の光学ヘイズを提供する、項目47に記載のフィルム。
項目49
前記構造化主表面は、20〜80%の範囲の光学ヘイズを提供する、項目47に記載のフィルム。
項目50
前記構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目46に記載のフィルム。
項目51
前記第1ピーク率は、0.5未満であり、前記第2ピーク率は、0.5未満である、項目46に記載のフィルム。
項目52
前記密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられ、前記構造は、15マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目46に記載のフィルム。
項目53
前記構造は、10マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目52に記載のフィルム。
項目54
前記構造は、4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有する、項目52に記載のフィルム。
項目55
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目46に記載のフィルム。
項目56
光学フィルムであって、
密集構造を含む構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該構造化主表面は、10〜60%の範囲の光学ヘイズ及び10〜40%の範囲の光学透明度を提供する、光学フィルム。
項目57
前記構造化主表面は、20〜60%の範囲の光学ヘイズ及び10〜40%の範囲の光学透明度を提供する、項目56に記載のフィルム。
項目58
前記構造化主表面は、20〜30%の範囲の光学ヘイズ及び15〜40%の範囲の光学透明度を提供する、項目57に記載のフィルム。
項目59
前記構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目56に記載のフィルム。
項目60
前記第1ピーク率は、0.5未満であり、前記第2ピーク率は、0.5未満である、項目56に記載のフィルム。
項目61
前記密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられ、前記構造は、15マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目56に記載のフィルム。
項目62
前記構造は、10マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目61に記載のフィルム。
項目63
前記構造は、4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有する、項目62に記載のフィルム。
項目64
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目56に記載のフィルム。
項目65
光学フィルムであって、
大型の第1構造及び小型の第2構造を含む構造化主表面であって、該第1及び第2構造が、共に、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される、構造化主表面を含み、
該第1構造は、該主表面上に不均一に配置されており、
該第2構造は、密集し、かつ該第1構造間に不均一に分散されており、
該第1構造の平均サイズは、15マイクロメートル超であり、該第2構造の平均サイズは、15マイクロメートル未満である、光学フィルム。
項目66
前記第1構造の前記平均サイズは、前記第1構造の平均等価円直径(ECD)であり、前記第2構造の前記平均サイズは、前記第2構造の平均等価円直径(ECD)である、項目65に記載のフィルム。
項目67
前記第1構造の前記平均サイズは、20〜30マイクロメートルの範囲にある、項目65に記載のフィルム。
項目68
前記第2構造の前記平均サイズは、4〜10マイクロメートルの範囲にある、項目65に記載のフィルム。
項目69
前記構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい、項目65に記載のフィルム。
項目70
前記第1率は、0.5未満であり、前記第2率は、0.5未満である、項目69に記載のフィルム。
項目71
前記第1構造は、平坦なファセットを有する構造であり、前記第2構造は、曲面状構造である、項目65に記載のフィルム。
項目72
前記第1構造は、前記主表面における第1窪み部であり、前記第2構造は、前記主表面における第2窪み部である、項目65に記載のフィルム。
項目73
前記構造化主表面は、前記構造化表面の構造の等価円直径(ECD)の二峰性分布によって特徴づけられ、該二峰性分布は、第1及び第2ピークを有し、前記大型の第1構造は、該第1ピークに対応し、前記小型の第2構造は、該第2ピークに対応する、項目65に記載のフィルム。
項目74
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目65に記載のフィルム。
項目75
第2構造化主表面の反対側にある第1構造化主表面を含む光学フィルムであって、該第1構造化主表面は、第1ツール構造化表面から微細複製により作製され、該第1ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する該第1層の主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して該第1層上に該金属を電着させることによって、該第1層の該主表面上に該金属からなる第2層を形成し、該第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する該第2層の主表面を生じさせることと、によって作製され、該第2層の該主表面は、該ツール構造化表面に対応する、光学フィルム。
項目76
前記第2構造化主表面は、第2ツール構造化表面から微細複製により作製され、該第2ツール構造化表面は、第3電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第3層を形成し、第3平均粗さを有する該第3層の主表面を生じさせることと、第4電気めっきプロセスを使用して該第3層上に該金属を電着させることによって、該第3層の該主表面上に該金属からなる第4層を形成し、該第3平均粗さよりも小さい第4平均粗さを有する該第4層の主表面を生じさせることによって作製され、該第4層の該主表面は、該第2ツール構造化表面に対応する、項目75に記載のフィルム。
項目77
前記第1構造化主表面は、第1ヘイズに関連し、前記第2構造化主表面は、第2ヘイズに関連し、該第1ヘイズは、該第2ヘイズよりも大きい、項目76に記載のフィルム。
項目78
ディスプレイシステムであって、
ライトガイドと、
該ライトガイドからの光によって背後から光を当てられるように構成されたディスプレイパネルと、
該ライトガイドと該ディスプレイパネルとの間に配置された1つ以上のプリズム輝度向上フィルムと、
該ライトガイドと該1つ以上のプリズム輝度向上フィルムとの間に配置された光拡散フィルムと、を含み、
該光拡散フィルムは、少なくとも80%のヘイズを有し、
該光拡散フィルムは、ツール構造化表面から微細複製により作製された第1構造化主表面を有し、該ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する該第1層の主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して該第1層上に該金属を電着させることによって、該第1層の該主表面上に該金属からなる第2層を形成し、該第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する該第2層の主表面を生じさせることと、によって作製され、該第2層の該主表面は、該ツール構造化表面に対応する、ディスプレイシステム。
項目79
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい、項目78に記載のディスプレイシステム。
項目80
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含み、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限され、
前記第1構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目79に記載のディスプレイシステム。
項目81
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、密集構造を含み、前記構造化主表面は、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定し、
該密集構造は、該基準面における等価円直径(ECD)、及び該厚さ方向に沿う平均高さによって特徴づけられ、それぞれの構造のアスペクト比は、該構造の該平均高さを該構造の該ECDで割った値に等しく、
該構造の平均アスペクト比は、0.15未満である、項目79に記載のディスプレイシステム。
項目82
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、曲面状の基礎表面を有する密集構造を含み、
前記第1構造化主表面は、95%未満の光学ヘイズを提供する、項目79に記載のディスプレイシステム。
項目83
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、大型の第1構造及び小型の第2構造を含み、該第1及び第2構造が、共に、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限され、
該第1構造は、該第1構造化主表面上に不均一に配置されており、
該第2構造は、密集し、かつ該第1構造間に不均一に分散されており、
該第1構造の平均サイズは、15マイクロメートル超であり、該第2構造の平均サイズは、15マイクロメートル未満である、項目78に記載のディスプレイシステム。
項目84
前記光拡散フィルムは、前記第1構造化主表面の反対側にある第2構造化主表面を有し、該第2構造化主表面は、第2ツール構造化表面から微細複製により作製され、該第2ツール構造化表面は、第3電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第3層を形成し、第3平均粗さを有する該第3層の主表面を生じさせることと、第4電気めっきプロセスを使用して該第3層上に該金属を電着させることによって、該第3層の該主表面上に該金属からなる第4層を形成し、該第3平均粗さよりも小さい第4平均粗さを有する該第4層の主表面を生じさせることによって作製され、該第4層の該主表面は、該第2ツール構造化表面に対応する、項目78に記載のディスプレイシステム。
項目85
前記拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、前記ディスプレイパネルに面し、前記拡散フィルムの前記第2構造化主表面は、前記ライトガイドに面し、前記第1構造化主表面は、第1ヘイズに関連し、前記第2構造化主表面は、第2ヘイズに関連し、該第1ヘイズは、該第2ヘイズよりも大きい、項目84に記載のシステム。
項目86
ディスプレイシステムであって、
ライトガイドと、
該ライトガイドからの光によって背後から光を当てられるように構成されたディスプレイパネルと、
光拡散フィルムであって、該ライトガイドと該光拡散フィルムとの間に該ディスプレイパネルが位置するように該ディスプレイシステムの前に配置された、光拡散フィルムと、を含み、
該光拡散フィルムは、10〜30%の範囲のヘイズを有し、
該光拡散フィルムは、ツール構造化表面から微細複製により作製された第1構造化主表面を有し、該ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する該第1層の主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して該第1層上に該金属を電着させることによって、該第1層の該主表面上に該金属からなる第2層を形成し、該第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する該第2層の主表面を生じさせることと、によって作製され、該第2層の該主表面は、該ツール構造化表面に対応する、ディスプレイシステム。
項目87
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい、項目86に記載のディスプレイシステム。
項目88
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含み、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限され、
前記第1構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目87に記載のディスプレイシステム。
項目89
前記第1構造化主表面は、密集構造を含み、前記構造化主表面は、10〜40%の範囲の光学透明度を提供する、項目87に記載のディスプレイシステム。
項目90
前記第1構造化主表面は、前記ディスプレイシステムの前部に面する、項目86に記載のディスプレイシステム。
項目91
前記第1構造化主表面は、前記ディスプレイシステムの最前の表面である、項目90に記載のディスプレイシステム。
項目1
構造化表面を作製する方法であって、
第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する該第1層の第1主表面を生じさせることと、
第2電気めっきプロセスを使用して該第1主表面上に該金属を電着させることによって、該第1層の該第1主表面上に該金属からなる第2層を形成し、該第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する該第2層の第2主表面を生じさせることと、を含む、方法。
項目2
前記第1電気めっきプロセスは、第1電気めっき溶液を使用し、前記第2電気めっきプロセスは、第2電気めっき溶液を使用し、該第2電気めっき溶液は、少なくとも有機レベラーの追加によって該第1電気めっき溶液とは異なる、項目1に記載の方法。
項目3
前記第2電気めっきプロセスは、シービングすることを含む、項目1に記載の方法。
項目4
前記第2電気めっきプロセスは、遮蔽することを含む、項目1に記載の方法。
項目5
前記第1電気めっきプロセスは、第1電気めっき溶液を使用し、前記第2電気めっきプロセスは、第2電気めっき溶液を使用し、該第2電気めっき溶液は、少なくとも有機結晶微細化剤の追加によって該第1電気めっき溶液とは異なる、項目1に記載の方法。
項目6
基体平均粗さを有する基体表面を提供することを更に含み、
前記第1層は、該基体表面上に形成され、前記第1平均粗さは、該基体平均粗さよりも大きい、項目1に記載の方法。
項目7
前記金属は、銅である、項目1に記載の方法。
項目8
前記第1電気めっきプロセスは、多くとも微量の有機レベラーを含有する第1電気めっき溶液を使用する、項目1に記載の方法。
項目9
前記第1電気めっき溶液は、有機炭素の総濃度が100、75又は50ppm未満である、項目8に記載の方法。
項目10
前記第1電気めっきプロセスは、第1電気めっき溶液を使用し、前記第2電気めっきプロセスは、第2電気めっき溶液を使用し、該第2電気めっき溶液内の有機レベラーの濃度の、該第1電気めっき溶液内の任意の有機レベラーの濃度に対する比は、少なくとも50、100、200又は500である、項目1に記載の方法。
項目11
前記第1層を形成することは、複数の不均一に配置された第1構造を含む前記第1主表面を生じさせる、項目1に記載の方法。
項目12
前記第1構造は、平坦なファセットを含む、項目11に記載の方法。
項目13
前記第2層を形成することは、複数の不均一に配置された第2構造を含む前記第2主表面を生じさせる、項目11に記載の方法。
項目14
第2金属の電気めっき溶液を使用して該第2金属を電着させることによって、前記第2主表面上に該第2金属からなる第3層を形成することを更に含む、項目13に記載の方法。
項目15
前記第2金属は、クロムを含む、項目14に記載の方法。
項目16
項目1に記載の方法を使用して、前記第2主表面に対応するツール構造化表面を有するように作製される、微細複製ツール。
項目17
前記ツール構造化表面は、前記第2主表面の反転形状又は前記第2主表面の非反転形状に対応する、項目16に記載の微細複製ツール。
項目18
前記微細複製ツールは、前記金属からなる前記第1層と、前記金属からなる前記第2層と、前記第2層上に形成された第2金属からなる第3層と、を含む、項目16に記載の微細複製ツール。
項目19
項目16の微細複製ツールを使用して、前記第2主表面に対応する構造化表面を有するように作製される、光学フィルム。
項目20
前記フィルムの前記構造化表面は、前記第2主表面の反転形状又は前記第2主表面の非反転形状に対応する、項目19に記載の光学フィルム。
項目21
光学フィルムであって、
隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含む構造化主表面であって、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される、構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、光学フィルム。
項目22
前記単位面積当たりの総リッジ長は、150mm/mm2未満である、項目21に記載のフィルム。
項目23
前記単位面積当たりの総リッジ長は、10〜150mm/mm2の範囲にある、項目22に記載のフィルム。
項目24
前記第1ピーク率は、0.5未満であり、前記第2ピーク率は、0.5未満である、項目21に記載のフィルム。
項目25
前記構造化主表面は、少なくとも5%及び95%未満の光学ヘイズを提供する、項目21に記載のフィルム。
項目26
前記密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられ、前記構造は、15マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目21に記載のフィルム。
項目27
前記構造は、10マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目26に記載のフィルム。
項目28
前記構造は、4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有する、項目26に記載のフィルム。
項目29
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目21に記載のフィルム。
項目30
前記密集構造の少なくとも一部は、曲面状の基礎表面を含む、項目21に記載のフィルム。
項目31
前記密集構造のほとんどは、曲面状の基礎表面を含む、項目30に記載のフィルム。
項目32
前記密集構造の実質的に全てが、曲面状の基礎表面を含む、項目31に記載のフィルム。
項目33
光学フィルムであって、
密集構造を含む構造化主表面であって、該構造化主表面は、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定する、構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該密集構造は、該基準面における等価円直径(ECD)、及び該厚さ方向に沿う平均高さによって特徴づけられ、それぞれの構造のアスペクト比は、該構造の該平均高さを該構造の該ECDで割った値に等しく、
該構造の平均アスペクト比は、0.15未満である、光学フィルム。
項目34
前記構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目33に記載のフィルム。
項目35
前記単位面積当たりの総リッジ長は、150mm/mm2未満である、項目34に記載のフィルム。
項目36
前記単位面積当たりの総リッジ長は、10〜150mm/mm2の範囲にある、項目35に記載のフィルム。
項目37
前記第1ピーク率は、0.5未満であり、前記第2ピーク率は、0.5未満である、項目33に記載のフィルム。
項目38
前記構造化主表面は、少なくとも5%及び95%未満の光学ヘイズを提供する、項目33に記載のフィルム。
項目39
前記密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられ、前記構造は、15マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目33に記載のフィルム。
項目40
前記構造は、10マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目39に記載のフィルム。
項目41
前記構造は、4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有する、項目39に記載のフィルム。
項目42
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目33に記載のフィルム。
項目43
前記密集構造の少なくとも一部は、曲面状の基礎表面を含む、項目33に記載のフィルム。
項目44
前記密集構造のほとんどは、曲面状の基礎表面を含む、項目43に記載のフィルム。
項目45
前記密集構造の実質的に全てが、曲面状の基礎表面を含む、項目44に記載のフィルム。
項目46
光学フィルムであって、
曲面状の基礎表面を有する密集構造を含む構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該構造化主表面は、95%未満の光学ヘイズを提供する、光学フィルム。
項目47
前記構造化主表面は、90%未満の光学ヘイズを提供する、項目46に記載のフィルム。
項目48
前記構造化主表面は、80%未満の光学ヘイズを提供する、項目47に記載のフィルム。
項目49
前記構造化主表面は、20〜80%の範囲の光学ヘイズを提供する、項目47に記載のフィルム。
項目50
前記構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目46に記載のフィルム。
項目51
前記第1ピーク率は、0.5未満であり、前記第2ピーク率は、0.5未満である、項目46に記載のフィルム。
項目52
前記密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられ、前記構造は、15マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目46に記載のフィルム。
項目53
前記構造は、10マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目52に記載のフィルム。
項目54
前記構造は、4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有する、項目52に記載のフィルム。
項目55
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目46に記載のフィルム。
項目56
光学フィルムであって、
密集構造を含む構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該構造化主表面は、10〜60%の範囲の光学ヘイズ及び10〜40%の範囲の光学透明度を提供する、光学フィルム。
項目57
前記構造化主表面は、20〜60%の範囲の光学ヘイズ及び10〜40%の範囲の光学透明度を提供する、項目56に記載のフィルム。
項目58
前記構造化主表面は、20〜30%の範囲の光学ヘイズ及び15〜40%の範囲の光学透明度を提供する、項目57に記載のフィルム。
項目59
前記構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目56に記載のフィルム。
項目60
前記第1ピーク率は、0.5未満であり、前記第2ピーク率は、0.5未満である、項目56に記載のフィルム。
項目61
前記密集構造は、平面視における等価円直径(ECD)によって特徴づけられ、前記構造は、15マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目56に記載のフィルム。
項目62
前記構造は、10マイクロメートル未満の平均ECDを有する、項目61に記載のフィルム。
項目63
前記構造は、4〜10マイクロメートルの範囲の平均ECDを有する、項目62に記載のフィルム。
項目64
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目56に記載のフィルム。
項目65
光学フィルムであって、
大型の第1構造及び小型の第2構造を含む構造化主表面であって、該第1及び第2構造が、共に、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される、構造化主表面を含み、
該第1構造は、該主表面上に不均一に配置されており、
該第2構造は、密集し、かつ該第1構造間に不均一に分散されており、
該第1構造の平均サイズは、15マイクロメートル超であり、該第2構造の平均サイズは、15マイクロメートル未満である、光学フィルム。
項目66
前記第1構造の前記平均サイズは、前記第1構造の平均等価円直径(ECD)であり、前記第2構造の前記平均サイズは、前記第2構造の平均等価円直径(ECD)である、項目65に記載のフィルム。
項目67
前記第1構造の前記平均サイズは、20〜30マイクロメートルの範囲にある、項目65に記載のフィルム。
項目68
前記第2構造の前記平均サイズは、4〜10マイクロメートルの範囲にある、項目65に記載のフィルム。
項目69
前記構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい、項目65に記載のフィルム。
項目70
前記第1率は、0.5未満であり、前記第2率は、0.5未満である、項目69に記載のフィルム。
項目71
前記第1構造は、平坦なファセットを有する構造であり、前記第2構造は、曲面状構造である、項目65に記載のフィルム。
項目72
前記第1構造は、前記主表面における第1窪み部であり、前記第2構造は、前記主表面における第2窪み部である、項目65に記載のフィルム。
項目73
前記構造化主表面は、前記構造化表面の構造の等価円直径(ECD)の二峰性分布によって特徴づけられ、該二峰性分布は、第1及び第2ピークを有し、前記大型の第1構造は、該第1ピークに対応し、前記小型の第2構造は、該第2ピークに対応する、項目65に記載のフィルム。
項目74
前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、項目65に記載のフィルム。
項目75
第2構造化主表面の反対側にある第1構造化主表面を含む光学フィルムであって、該第1構造化主表面は、第1ツール構造化表面から微細複製により作製され、該第1ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する該第1層の主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して該第1層上に該金属を電着させることによって、該第1層の該主表面上に該金属からなる第2層を形成し、該第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する該第2層の主表面を生じさせることと、によって作製され、該第2層の該主表面は、該ツール構造化表面に対応する、光学フィルム。
項目76
前記第2構造化主表面は、第2ツール構造化表面から微細複製により作製され、該第2ツール構造化表面は、第3電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第3層を形成し、第3平均粗さを有する該第3層の主表面を生じさせることと、第4電気めっきプロセスを使用して該第3層上に該金属を電着させることによって、該第3層の該主表面上に該金属からなる第4層を形成し、該第3平均粗さよりも小さい第4平均粗さを有する該第4層の主表面を生じさせることによって作製され、該第4層の該主表面は、該第2ツール構造化表面に対応する、項目75に記載のフィルム。
項目77
前記第1構造化主表面は、第1ヘイズに関連し、前記第2構造化主表面は、第2ヘイズに関連し、該第1ヘイズは、該第2ヘイズよりも大きい、項目76に記載のフィルム。
項目78
ディスプレイシステムであって、
ライトガイドと、
該ライトガイドからの光によって背後から光を当てられるように構成されたディスプレイパネルと、
該ライトガイドと該ディスプレイパネルとの間に配置された1つ以上のプリズム輝度向上フィルムと、
該ライトガイドと該1つ以上のプリズム輝度向上フィルムとの間に配置された光拡散フィルムと、を含み、
該光拡散フィルムは、少なくとも80%のヘイズを有し、
該光拡散フィルムは、ツール構造化表面から微細複製により作製された第1構造化主表面を有し、該ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する該第1層の主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して該第1層上に該金属を電着させることによって、該第1層の該主表面上に該金属からなる第2層を形成し、該第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する該第2層の主表面を生じさせることと、によって作製され、該第2層の該主表面は、該ツール構造化表面に対応する、ディスプレイシステム。
項目79
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい、項目78に記載のディスプレイシステム。
項目80
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含み、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限され、
前記第1構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目79に記載のディスプレイシステム。
項目81
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、密集構造を含み、前記構造化主表面は、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定し、
該密集構造は、該基準面における等価円直径(ECD)、及び該厚さ方向に沿う平均高さによって特徴づけられ、それぞれの構造のアスペクト比は、該構造の該平均高さを該構造の該ECDで割った値に等しく、
該構造の平均アスペクト比は、0.15未満である、項目79に記載のディスプレイシステム。
項目82
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、曲面状の基礎表面を有する密集構造を含み、
前記第1構造化主表面は、95%未満の光学ヘイズを提供する、項目79に記載のディスプレイシステム。
項目83
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、大型の第1構造及び小型の第2構造を含み、該第1及び第2構造が、共に、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限され、
該第1構造は、該第1構造化主表面上に不均一に配置されており、
該第2構造は、密集し、かつ該第1構造間に不均一に分散されており、
該第1構造の平均サイズは、15マイクロメートル超であり、該第2構造の平均サイズは、15マイクロメートル未満である、項目78に記載のディスプレイシステム。
項目84
前記光拡散フィルムは、前記第1構造化主表面の反対側にある第2構造化主表面を有し、該第2構造化主表面は、第2ツール構造化表面から微細複製により作製され、該第2ツール構造化表面は、第3電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第3層を形成し、第3平均粗さを有する該第3層の主表面を生じさせることと、第4電気めっきプロセスを使用して該第3層上に該金属を電着させることによって、該第3層の該主表面上に該金属からなる第4層を形成し、該第3平均粗さよりも小さい第4平均粗さを有する該第4層の主表面を生じさせることによって作製され、該第4層の該主表面は、該第2ツール構造化表面に対応する、項目78に記載のディスプレイシステム。
項目85
前記拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、前記ディスプレイパネルに面し、前記拡散フィルムの前記第2構造化主表面は、前記ライトガイドに面し、前記第1構造化主表面は、第1ヘイズに関連し、前記第2構造化主表面は、第2ヘイズに関連し、該第1ヘイズは、該第2ヘイズよりも大きい、項目84に記載のシステム。
項目86
ディスプレイシステムであって、
ライトガイドと、
該ライトガイドからの光によって背後から光を当てられるように構成されたディスプレイパネルと、
光拡散フィルムであって、該ライトガイドと該光拡散フィルムとの間に該ディスプレイパネルが位置するように該ディスプレイシステムの前に配置された、光拡散フィルムと、を含み、
該光拡散フィルムは、10〜30%の範囲のヘイズを有し、
該光拡散フィルムは、ツール構造化表面から微細複製により作製された第1構造化主表面を有し、該ツール構造化表面は、第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する該第1層の主表面を生じさせることと、第2電気めっきプロセスを使用して該第1層上に該金属を電着させることによって、該第1層の該主表面上に該金属からなる第2層を形成し、該第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する該第2層の主表面を生じさせることと、によって作製され、該第2層の該主表面は、該ツール構造化表面に対応する、ディスプレイシステム。
項目87
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい、項目86に記載のディスプレイシステム。
項目88
前記光拡散フィルムの前記第1構造化主表面は、隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含み、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限され、
前記第1構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、項目87に記載のディスプレイシステム。
項目89
前記第1構造化主表面は、密集構造を含み、前記構造化主表面は、10〜40%の範囲の光学透明度を提供する、項目87に記載のディスプレイシステム。
項目90
前記第1構造化主表面は、前記ディスプレイシステムの前部に面する、項目86に記載のディスプレイシステム。
項目91
前記第1構造化主表面は、前記ディスプレイシステムの最前の表面である、項目90に記載のディスプレイシステム。
本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく本発明の様々な修正及び変更を行えることが当業者には明白であろう。本発明が本明細書に説明する例示的な実施形態に限定されないことが理解されるべきである。例えば、本開示の透明導電性物品は、反射防止コーティング及び/又は保護用のハードコートも含んでもよい。また、特に指示がない限り、ある開示された実施形態の特徴を、他に開示された実施形態のいずれにも適用できることを想定するべきである。本明細書で参照される全ての米国特許、特許出願公開、並びに他の特許及び非特許文献が、前述の開示内容と相反しない限りにおいて、参照により組み込まれることが理解されるべきである。
Claims (17)
- 構造化表面を作製する方法であって、
第1電気めっきプロセスを使用して金属を電着させることによって、該金属からなる第1層を形成し、第1平均粗さを有する該第1層の第1主表面を生じさせることと、
第2電気めっきプロセスを使用して該第1主表面上に該金属を電着させることによって、該第1層の該第1主表面上に該金属からなる第2層を形成し、該第1平均粗さよりも小さい第2平均粗さを有する該第2層の第2主表面を生じさせることと、を含む、方法。 - 基体平均粗さを有する基体表面を提供することを更に含み、
前記第1層は、該基体表面上に形成され、前記第1平均粗さは、該基体平均粗さよりも大きい、請求項1に記載の方法。 - 前記金属は、銅である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1電気めっきプロセスは、多くとも微量の有機レベラーを含有する第1電気めっき溶液を使用する、請求項1に記載の方法。
- 前記第1層を形成することは、複数の不均一に配置された第1構造を含む前記第1主表面を生じさせる、請求項1に記載の方法。
- 前記第2層を形成することは、複数の不均一に配置された第2構造を含む前記第2主表面を生じさせる、請求項5に記載の方法。
- 第2金属の電気めっき溶液を使用して該第2金属を電着させることによって、前記第2主表面上に該第2金属からなる第3層を形成することを更に含む、請求項6に記載の方法。
- 前記第2金属は、クロムを含む、請求項7に記載の方法。
- 請求項1に記載の方法を使用して、前記第2主表面に対応するツール構造化表面を有するように作製される、微細複製ツール。
- 前記ツール構造化表面は、前記第2主表面の反転形状又は前記第2主表面の非反転形状に対応する、請求項9に記載の微細複製ツール。
- 光学フィルムであって、
隣接する構造間にリッジが形成されるように配置された密集構造を含む構造化主表面であって、該構造は、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される、構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該構造化主表面は、平面視における単位面積当たりの総リッジ長が200mm/mm2未満であることによって特徴づけられる、光学フィルム。 - 前記構造化主表面は、実質的にビーズを含まない、請求項11に記載のフィルム。
- 光学フィルムであって、
密集構造を含む構造化主表面であって、該構造化主表面は、基準面及び該基準面に垂直な厚さ方向を画定する、構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該密集構造は、該基準面における等価円直径(ECD)、及び該厚さ方向に沿う平均高さによって特徴づけられ、それぞれの構造のアスペクト比は、該構造の該平均高さを該構造の該ECDで割った値に等しく、
該構造の平均アスペクト比は、0.15未満である、光学フィルム。 - 光学フィルムであって、
曲面状の基礎表面を有する密集構造を含む構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該構造化主表面は、95%未満の光学ヘイズを提供する、光学フィルム。 - 光学フィルムであって、
密集構造を含む構造化主表面を含み、
該構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、
該構造化主表面は、10〜60%の範囲の光学ヘイズ及び10〜40%の範囲の光学透明度を提供する、光学フィルム。 - 光学フィルムであって、
大型の第1構造及び小型の第2構造を含む構造化主表面であって、該第1及び第2構造が、共に、2つの直交する面内方向に沿うサイズにおいて制限される、構造化主表面を含み、
該第1構造は、該主表面上に不均一に配置されており、
該第2構造は、密集し、かつ該第1構造間に不均一に分散されており、
該第1構造の平均サイズは、15マイクロメートル超であり、該第2構造の平均サイズは、15マイクロメートル未満である、光学フィルム。 - 前記構造化主表面は、直交する第1及び第2面内方向のそれぞれに関連する第1及び第2フーリエ・パワー・スペクトルによって特徴づけ得るトポグラフィーを有し、
該第1フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第1基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第1周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第1周波数ピークは、0.8未満の第1ピーク率を有し、該第1ピーク率は、該第1周波数ピークと該第1基準線との間の面積を、該第1周波数ピークの下方の面積で割った値に等しく、かつ
該第2フーリエ・パワー・スペクトルが、ゼロ周波数に相当せず、かつ第2基準線を画定する2つの隣接する谷によって境界づけられる1つ以上の第2周波数ピークを含む限りにおいて、任意のそのような第2周波数ピークは、0.8未満の第2ピーク率を有し、該第2ピーク率は、該第2周波数ピークと該第2基準線との間の面積を、該第2周波数ピークの下方の面積で割った値に等しい、請求項16に記載のフィルム。
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JP2022547457A (ja) * | 2019-09-03 | 2022-11-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光学フィルム及びそのような光学フィルムの製造方法 |
WO2022137063A1 (en) | 2020-12-21 | 2022-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Superhydrophobic films |
WO2022238781A1 (en) * | 2021-05-10 | 2022-11-17 | 3M Innovative Properties Company | Optical system including light control film and fresnel lens |
CN116931160A (zh) * | 2022-04-01 | 2023-10-24 | 瑞仪光电(南京)有限公司 | 于光学膜片上设计多个锥状结构的背光模组及显示装置 |
WO2023224104A1 (ja) * | 2022-05-20 | 2023-11-23 | 凸版印刷株式会社 | 光学積層体及びこれを用いた画像表示装置 |
JP2023170856A (ja) * | 2022-05-20 | 2023-12-01 | Toppanホールディングス株式会社 | 光学積層体及びこれを用いた画像表示装置 |
Family Cites Families (54)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3245882B2 (ja) * | 1990-10-24 | 2002-01-15 | 株式会社日立製作所 | パターン形成方法、および投影露光装置 |
WO1994006037A1 (en) * | 1992-09-08 | 1994-03-17 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Color filter and production method therefor |
CA2218392A1 (en) * | 1995-04-17 | 1996-10-24 | John H. Glezen | Method of electroplating a substrate, and products made thereby |
US20100302479A1 (en) | 1996-03-21 | 2010-12-02 | Aronson Joseph T | Optical article |
JPH1069866A (ja) * | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Hitachi Ltd | 陰極線管 |
JP4756755B2 (ja) * | 2000-03-23 | 2011-08-24 | ダイセル化学工業株式会社 | 透過型光散乱シートおよび液晶表示装置 |
KR20050044695A (ko) * | 2001-12-05 | 2005-05-12 | 솔리드 스테이트 옵토 리미티드 | 트랜스리플렉터, 트랜스리플렉터 시스템 및 디스플레이,및 트랜스리플렉터 제조 방법 |
US6583936B1 (en) | 2002-03-11 | 2003-06-24 | Eastman Kodak Company | Patterned roller for the micro-replication of complex lenses |
US6813094B2 (en) * | 2002-03-11 | 2004-11-02 | Eastman Kodak Company | Surface formed complex polymer lenses diffuse reflector |
EP1363143A1 (en) * | 2002-05-17 | 2003-11-19 | Rolic AG | Bright and white optical diffusing film |
JP2004045471A (ja) | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルム及びその製造方法、面光源装置、並びに液晶表示装置 |
JP2004045472A (ja) | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルム及びその製造方法、面光源装置、並びに液晶表示装置 |
JP4791354B2 (ja) * | 2003-03-06 | 2011-10-12 | ザイゴ コーポレーション | 走査干渉分光を用いた複雑な表面構造のプロファイリング |
JP4238792B2 (ja) | 2004-08-04 | 2009-03-18 | ソニー株式会社 | 光拡散シート及びその製造方法、並びにスクリーン |
JP4676190B2 (ja) * | 2004-11-25 | 2011-04-27 | 大日本印刷株式会社 | 光拡散シート及び透過型スクリーン |
JP2006352073A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-12-28 | Fujifilm Holdings Corp | 導電性パターン材料、透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、透明導電性シート、エレクトロルミネッセンス素子、及び平面光源システム |
JP2007187952A (ja) | 2006-01-16 | 2007-07-26 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム、その製造方法、そのための金型の製造方法、及び表示装置 |
JP5076334B2 (ja) * | 2006-03-08 | 2012-11-21 | 住友化学株式会社 | 表面に微細な凹凸形状を有する金型、その金型の製造方法及びその金型を用いた防眩フィルムの製造方法 |
JP2008163382A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Fujifilm Corp | アルミニウム合金の表面処理方法及び平版印刷版用支持体の製造方法 |
US7543974B2 (en) * | 2007-03-06 | 2009-06-09 | Skc Haas Display Films Co., Ltd. | Light redirecting film having variable thickness |
WO2009075702A2 (en) * | 2007-09-07 | 2009-06-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Two-dimensional fourier transform spectrometer |
US7998587B2 (en) * | 2007-10-31 | 2011-08-16 | 3M Innovative Properties Company | Method of modifying light with silicone (meth)acrylate copolymers |
JP2009175380A (ja) * | 2008-01-24 | 2009-08-06 | Nippon Shokubai Co Ltd | 防眩性積層体 |
JP5163943B2 (ja) * | 2008-02-26 | 2013-03-13 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置 |
CN101315160B (zh) * | 2008-07-04 | 2011-01-12 | 长兴化学工业股份有限公司 | 具有非球形粒子的光学薄膜 |
US8462292B2 (en) * | 2008-07-31 | 2013-06-11 | Rambus Delaware Llc | Optically transmissive substrates and light emitting assemblies and methods of making same, and methods of displaying images using the optically transmissive substrates and light emitting assemblies |
JP5260237B2 (ja) | 2008-11-14 | 2013-08-14 | 株式会社岡本工作機械製作所 | 精密研削装置 |
JP5724171B2 (ja) * | 2009-01-09 | 2015-05-27 | ソニー株式会社 | 光学素子およびその製造方法、原盤およびその製造方法、ならびに表示装置 |
TWM364862U (en) | 2009-03-23 | 2009-09-11 | Iteq Corp | Light diffuser |
JP5510865B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2014-06-04 | 住友化学株式会社 | 防眩処理方法、防眩フィルムの製造方法および金型の製造方法 |
JP5158443B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2013-03-06 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルムおよびその製造方法、ならびに金型の製造方法 |
US8771532B2 (en) | 2009-03-31 | 2014-07-08 | Corning Incorporated | Glass having anti-glare surface and method of making |
CN104195602B (zh) | 2009-04-07 | 2017-05-31 | 巴斯夫欧洲公司 | 包含抑制剂的无空隙亚微米结构填充用金属电镀组合物 |
US10539722B2 (en) | 2009-04-15 | 2020-01-21 | 3M Innovative Properties Company | Optical film |
KR101683938B1 (ko) | 2009-06-02 | 2016-12-07 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광 방향 전환 필름 및 이 필름을 사용한 디스플레이 |
JP2011017829A (ja) * | 2009-07-08 | 2011-01-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルムおよびその製造方法 |
JP5493096B2 (ja) * | 2009-08-06 | 2014-05-14 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
CN102483473B (zh) | 2009-08-25 | 2014-11-05 | 3M创新有限公司 | 光重新定向膜和包括所述光重新定向膜的显示系统 |
KR20120085755A (ko) * | 2009-09-04 | 2012-08-01 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 광확산 필름과 그 제조 방법, 광확산성 편광판, 및 액정 표시 장치 |
JP5908842B2 (ja) | 2009-10-27 | 2016-04-26 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 抗歪み表面を有する光学フィルム |
JP2011118328A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-06-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ランダムパターンの作成方法 |
JP2011107297A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-02 | Sony Corp | 防眩性フィルムおよび表示装置 |
US8228463B2 (en) | 2009-11-18 | 2012-07-24 | 3M Innovative Properties Company | Passive daylight-coupled backlight with turning film having prisms with chaos for sunlight viewable displays |
CN102712140B (zh) | 2010-01-13 | 2015-06-03 | 3M创新有限公司 | 具有微结构化低折射率纳米空隙层的光学膜及其方法 |
JP5801062B2 (ja) * | 2010-03-11 | 2015-10-28 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルムおよび防眩性偏光板 |
US10156661B2 (en) * | 2010-05-28 | 2018-12-18 | 3M Innovative Properties Company | Light redirecting film and display system incorporating same |
US10550836B2 (en) | 2010-07-26 | 2020-02-04 | Schlumberger Technology Corproation | Frequency sweeping tubewave sources for liquid filled boreholes |
CN102401915B (zh) * | 2010-09-16 | 2016-04-06 | 住友化学株式会社 | 防眩薄膜及液晶显示装置 |
TWI580071B (zh) * | 2010-09-30 | 2017-04-21 | 三菱麗陽股份有限公司 | 表面具有細微凹凸結構的模具、表面具有細微凹凸結構的物品的製造方法、物品的用途、可顯影虹彩色的層疊體以及面發光體 |
TWI435121B (zh) * | 2010-12-28 | 2014-04-21 | Au Optronics Corp | 擴散片及背光模組 |
KR101802850B1 (ko) * | 2011-01-11 | 2017-11-29 | 해성디에스 주식회사 | 반도체 패키지 |
EP2691798B1 (en) * | 2011-03-30 | 2018-04-25 | 3M Innovative Properties Company | Hybrid light redirecting and light diffusing constructions |
JP6293114B2 (ja) | 2012-03-20 | 2018-03-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 構造化光学フィルム |
WO2013158475A1 (en) | 2012-04-20 | 2013-10-24 | 3M Innovative Properties Company | Brightness enhancement film with substantially non-imaging embedded diffuser |
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